JPH02297445A - インクジェットプリンタのインク吐出装置 - Google Patents
インクジェットプリンタのインク吐出装置Info
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- JPH02297445A JPH02297445A JP11843289A JP11843289A JPH02297445A JP H02297445 A JPH02297445 A JP H02297445A JP 11843289 A JP11843289 A JP 11843289A JP 11843289 A JP11843289 A JP 11843289A JP H02297445 A JPH02297445 A JP H02297445A
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/10—Finger type piezoelectric elements
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はインクジェットプリンタのインク吐出装置に関
し、特に、インク室およびオリフィスの微細化により記
録の高密度化を図るインクジエ・ソトプリンタのインク
吐出装置に関するものである。
し、特に、インク室およびオリフィスの微細化により記
録の高密度化を図るインクジエ・ソトプリンタのインク
吐出装置に関するものである。
[従来の技術]
インクジェットプリンタは、高速記録が可能でしかも普
通紙に特別な定着処理をせずに記録できるため、有力な
記録装置として活用されている。
通紙に特別な定着処理をせずに記録できるため、有力な
記録装置として活用されている。
インクジ2エツトプリンタの記録画像の画質を向上する
ためには、記録の高密度化が要求される。
ためには、記録の高密度化が要求される。
記録密度を高めるための重要な要素として、まず第1に
記録のドツト形状が小さいことが要求される。また、記
録のドツト形状が小さくなると、所望の記録速度を得る
ために、インクを突出するノズル自体の高集積化が容易
でなければならない。
記録のドツト形状が小さいことが要求される。また、記
録のドツト形状が小さくなると、所望の記録速度を得る
ために、インクを突出するノズル自体の高集積化が容易
でなければならない。
記録の高専密度化を図るための従来のインクジェットプ
リンタのインク吐出装置として、第5図〜第7図に示す
ようなものがある。
リンタのインク吐出装置として、第5図〜第7図に示す
ようなものがある。
第5図に示す従来のインク吐出装置は、圧電セラミクス
からなりノズル1が形成された圧電アクチュエータ2を
その本体とする。圧電アクチュエータ2は、接合層3で
重ね合わせた上下の圧電体ブロック2a、2.bからな
り、ノズル1は接合層3の上下にまたがって、横に複数
個並んで形成されている。インク室1の内壁には、第6
図に示すように薄膜の電極4が形成されている。また、
下の圧電体ブロック2bの後部上面には、薄膜電極パタ
ーン4が形成され、その上に圧電アクチュエータの駆動
用IC5がボンディングされている。
からなりノズル1が形成された圧電アクチュエータ2を
その本体とする。圧電アクチュエータ2は、接合層3で
重ね合わせた上下の圧電体ブロック2a、2.bからな
り、ノズル1は接合層3の上下にまたがって、横に複数
個並んで形成されている。インク室1の内壁には、第6
図に示すように薄膜の電極4が形成されている。また、
下の圧電体ブロック2bの後部上面には、薄膜電極パタ
ーン4が形成され、その上に圧電アクチュエータの駆動
用IC5がボンディングされている。
このように形成された従来のインク吐出装置の動作につ
いて、以下に説明する。圧電アクチュエータ2の駆動は
、第6図に示す圧電ぜん断モードを利用したものである
。同図を参照して、矢印A方向に分極した圧電体6の左
右側壁7,8間に電圧を印加すると、図に2点鎖線で示
すモードの変形が生じる。圧電アクチュエータ2のイン
ク室]においては、電極間に電圧が印加されることによ
って、この圧電せん断モードによる変形が第7図に示す
ように接合層3の上下対称に生じる。その結果インク室
1の側壁がくの字状に変形し、第7図の中央のインク室
1aのように側壁が内側に変形したインク室1からイン
クが押出されることになる。押出されるインクは、圧電
アクチュエータ2の前端面を覆うオリフィスプレート(
図示せず)に形成された、各インク室]に対応するオリ
フィスを通って外部に吐出される。このような動作が、
記録信号に応じて駆動回路5によって各インク室1にお
いて選択的に起こり、インク室1の出口に対向する記録
紙(図示せず)上に記録画像が形成される。
いて、以下に説明する。圧電アクチュエータ2の駆動は
、第6図に示す圧電ぜん断モードを利用したものである
。同図を参照して、矢印A方向に分極した圧電体6の左
右側壁7,8間に電圧を印加すると、図に2点鎖線で示
すモードの変形が生じる。圧電アクチュエータ2のイン
ク室]においては、電極間に電圧が印加されることによ
って、この圧電せん断モードによる変形が第7図に示す
ように接合層3の上下対称に生じる。その結果インク室
1の側壁がくの字状に変形し、第7図の中央のインク室
1aのように側壁が内側に変形したインク室1からイン
クが押出されることになる。押出されるインクは、圧電
アクチュエータ2の前端面を覆うオリフィスプレート(
図示せず)に形成された、各インク室]に対応するオリ
フィスを通って外部に吐出される。このような動作が、
記録信号に応じて駆動回路5によって各インク室1にお
いて選択的に起こり、インク室1の出口に対向する記録
紙(図示せず)上に記録画像が形成される。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記従来のインク吐出装置には次のよう
な問題がある。
な問題がある。
圧電体ブロック2a、2bにインク室]を形成する方法
として、ダイシングソーによる切削加工、エレクトロフ
ォーミングによる金属膜形成、レーザ加工、ウェットエ
ツチングなどがある。しかしながら、これらのいずれの
加工方法を用いても、加工精度と量産性の点から見て、
30ミクロン程度の幅の溝加工が実用上の限界である。
として、ダイシングソーによる切削加工、エレクトロフ
ォーミングによる金属膜形成、レーザ加工、ウェットエ
ツチングなどがある。しかしながら、これらのいずれの
加工方法を用いても、加工精度と量産性の点から見て、
30ミクロン程度の幅の溝加工が実用上の限界である。
したがってインク吐出装置に適用した場合、記録密度と
しては400dpi (dots per 1n
ch)が限度であり、良好な画質を得ることができない
。
しては400dpi (dots per 1n
ch)が限度であり、良好な画質を得ることができない
。
また、インク室の側壁に電極を形成し、それにパルス電
圧を印加してクーロン力によってインク室の体積を収縮
させ、インクを吐出させるという考え方は従来から存在
した。この方法は、圧電素子を用いることなくしかも比
較、的低いエネルギで応答性良く駆動できるというメリ
ットがある。しかし、クーロン力を適用して所定の記録
密度を得るためには、極めて細長い断面形状でかつ微細
なインク室を形成することが要求されるため、従来の加
工方法では実現が困難であるという問題がある。
圧を印加してクーロン力によってインク室の体積を収縮
させ、インクを吐出させるという考え方は従来から存在
した。この方法は、圧電素子を用いることなくしかも比
較、的低いエネルギで応答性良く駆動できるというメリ
ットがある。しかし、クーロン力を適用して所定の記録
密度を得るためには、極めて細長い断面形状でかつ微細
なインク室を形成することが要求されるため、従来の加
工方法では実現が困難であるという問題がある。
本発明は上記従来の問題点を解消するため、クーロン力
を適用しかつ高い記録密度を得るための微細構造を有す
るインクジェットプリンタのインク吐出装置を提供する
ことを目的とする。
を適用しかつ高い記録密度を得るための微細構造を有す
るインクジェットプリンタのインク吐出装置を提供する
ことを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明のインクジェットプリンタのインク吐出装置は、
共に(111)結晶面の方向に左右両側の側壁を有する
インク室およびオリフィスを設はたシリコン単結晶のブ
ロックからなるものである。
共に(111)結晶面の方向に左右両側の側壁を有する
インク室およびオリフィスを設はたシリコン単結晶のブ
ロックからなるものである。
インク室には、その左右両側壁にそれぞれ薄膜電極が形
成されている。
成されている。
また本発明のインクジェットプリンタのインク吐出装置
には、シリコン単結晶のブロックのいずれかの端面に、
インク室の駆動を制御するための駆動回路を直接形成し
たものが含まれる。
には、シリコン単結晶のブロックのいずれかの端面に、
インク室の駆動を制御するための駆動回路を直接形成し
たものが含まれる。
[作用]
本発明によれば、シリコン単結晶のブロックの(111
)結晶面方向に側壁を有するようにインク室およびオリ
フィスを設けた構成とすることにより、インク室および
オリフィスの形成にいわゆる異方性エツチングを適用す
ることができる。すなわち、シリコン単結晶の(111
/)結晶面方向のエツチング速度が他の結晶面方向の数
10倍以上であることを利用して、(111)結晶面方
向に深くかつ微細な溝加工を施すことによってインク室
およびオリフィスが形成される。その結果、インク室側
壁に形成した薄膜電極にパルス電圧を印加したときのク
ーロン力によって、インクを吐出するに必要な結晶室の
収縮が生じる程度の、深く細長い断面形状のインク室の
加工が可能になる。
)結晶面方向に側壁を有するようにインク室およびオリ
フィスを設けた構成とすることにより、インク室および
オリフィスの形成にいわゆる異方性エツチングを適用す
ることができる。すなわち、シリコン単結晶の(111
/)結晶面方向のエツチング速度が他の結晶面方向の数
10倍以上であることを利用して、(111)結晶面方
向に深くかつ微細な溝加工を施すことによってインク室
およびオリフィスが形成される。その結果、インク室側
壁に形成した薄膜電極にパルス電圧を印加したときのク
ーロン力によって、インクを吐出するに必要な結晶室の
収縮が生じる程度の、深く細長い断面形状のインク室の
加工が可能になる。
また、シリコン単結晶のブロックにインク室およびオリ
フィスを形成するため、ブロックそのものの端面に、イ
ンク室の駆動を制御する駆動回路を直接形成することが
可能となる。
フィスを形成するため、ブロックそのものの端面に、イ
ンク室の駆動を制御する駆動回路を直接形成することが
可能となる。
[実施例]
以下本発明の一実施例について、第1図〜第4図に基づ
いて説明する。
いて説明する。
本実施例のインク吐出装置の本体は、第1図に示すよう
になっている。同図を参照して、シリコン単結晶のウェ
ハを直方体に切出したシリコンブロック11に複数のイ
ンク室12とオリフィス13が並列に形成されている。
になっている。同図を参照して、シリコン単結晶のウェ
ハを直方体に切出したシリコンブロック11に複数のイ
ンク室12とオリフィス13が並列に形成されている。
シリコンブロック11は、その上端面1.1 aが(1
10)結晶面、インク室12の側壁に平行な側面1 l
bが(1,:1.:l−)結晶面となるように、(1
1,0)ウェハから切出したものを用いる。このように
シリコンブロック11の結晶方位を選ぶのは、インク室
12およびオリフィス13を形成するための溝加工を、
シリコンの結晶方位によるエツチング特性の相違を利用
したいわゆる異方性エツチングによって行なうためであ
る。すなわち、(111)結晶面方向のエツチング速度
が、(110)面方向のエツチング速度に比べて数10
倍も速いことを利用するものである。インク室12およ
びオリフィス13の溝加工は、インク室12およびオリ
フィス13の溝加工は、その水平断面形状に対応したマ
スクをシリコンブロック11の上端面1 ]、 a上に
形成し、ウェットエツチングなどによって行なうことが
できる。
10)結晶面、インク室12の側壁に平行な側面1 l
bが(1,:1.:l−)結晶面となるように、(1
1,0)ウェハから切出したものを用いる。このように
シリコンブロック11の結晶方位を選ぶのは、インク室
12およびオリフィス13を形成するための溝加工を、
シリコンの結晶方位によるエツチング特性の相違を利用
したいわゆる異方性エツチングによって行なうためであ
る。すなわち、(111)結晶面方向のエツチング速度
が、(110)面方向のエツチング速度に比べて数10
倍も速いことを利用するものである。インク室12およ
びオリフィス13の溝加工は、インク室12およびオリ
フィス13の溝加工は、その水平断面形状に対応したマ
スクをシリコンブロック11の上端面1 ]、 a上に
形成し、ウェットエツチングなどによって行なうことが
できる。
このような異方性エツチングを用いることにより、幅1
0ミクロン、深さ100ミクロン、ピッチ40ミクロン
程度の溝加工が可能である。これにより、オリフィスの
集積度を600dp i程度まで高めることができる。
0ミクロン、深さ100ミクロン、ピッチ40ミクロン
程度の溝加工が可能である。これにより、オリフィスの
集積度を600dp i程度まで高めることができる。
インク室12の側壁と、上端面11a上の隣り合うイン
ク室12間には、第2図にその断面を示すように、厚さ
数ミクロンメータの薄膜電極14が蒸着によって形成さ
れている。インク室12の左右両側壁の薄膜電極14間
に、第2図のような曲成で電圧を印加すると、薄膜電極
14間にC方向のクーロン力か働き、側壁が変形してそ
の断面積か小さくなる。その結果インク室12内のイン
クが押し出され、オリフィス13から吐出される。この
電圧印加を記録信号に対応して行なわせることにより、
所望の記録画像が得られることになる。
ク室12間には、第2図にその断面を示すように、厚さ
数ミクロンメータの薄膜電極14が蒸着によって形成さ
れている。インク室12の左右両側壁の薄膜電極14間
に、第2図のような曲成で電圧を印加すると、薄膜電極
14間にC方向のクーロン力か働き、側壁が変形してそ
の断面積か小さくなる。その結果インク室12内のイン
クが押し出され、オリフィス13から吐出される。この
電圧印加を記録信号に対応して行なわせることにより、
所望の記録画像が得られることになる。
本実施例のインク吐出装置の記録方式では、その記録に
必要なエネルギは、従来の圧電体を用いた方式に比べて
大幅に低減される。具体的には、従来方式の記録エネル
ギが1O−5Joule/dot以上必要であるのに対
し、本実施例では、10”−8〜10−’ Joule
/dot程度である。
必要なエネルギは、従来の圧電体を用いた方式に比べて
大幅に低減される。具体的には、従来方式の記録エネル
ギが1O−5Joule/dot以上必要であるのに対
し、本実施例では、10”−8〜10−’ Joule
/dot程度である。
本実施例においては、記録信号を受けて各インク室12
の駆動を制御する駆動回路15が、シリコンブロック1
1の上端面11aに直接形成されている。このように駆
動回路15を直接形成できるのは、インク室12および
オリフィス13を有するインク吐出装置のアクチュエー
タ部をシリコンの結晶体で形成したことによるものであ
る。その結果、従来のように駆動回路ICをボンディン
グする必要もなくなり、コンパクト化およびアクチュエ
ータ部のユニット化を図ることができる。
の駆動を制御する駆動回路15が、シリコンブロック1
1の上端面11aに直接形成されている。このように駆
動回路15を直接形成できるのは、インク室12および
オリフィス13を有するインク吐出装置のアクチュエー
タ部をシリコンの結晶体で形成したことによるものであ
る。その結果、従来のように駆動回路ICをボンディン
グする必要もなくなり、コンパクト化およびアクチュエ
ータ部のユニット化を図ることができる。
本実施例のインク吐出装置は、その使用状態においては
、第3図に示すようにシリンダブロック11の上端面]
]−aをカバープレート]6で密着して覆われている
。またオリフィス13が開口する前面の一部をマスクプ
レート17で覆い、オリフィスの下方部分のみが開口し
て適切な大きさのインク滴を吐出できるようになってい
る。
、第3図に示すようにシリンダブロック11の上端面]
]−aをカバープレート]6で密着して覆われている
。またオリフィス13が開口する前面の一部をマスクプ
レート17で覆い、オリフィスの下方部分のみが開口し
て適切な大きさのインク滴を吐出できるようになってい
る。
本実施例のインク吐出装置をインクジェットプリンタに
組込んだ状態では、その概略を第4図に示すように配置
されている。同図を参照して、まずインクカートリッジ
18からインクフィルタ19を介してインク室内にイン
ク20が供給される。
組込んだ状態では、その概略を第4図に示すように配置
されている。同図を参照して、まずインクカートリッジ
18からインクフィルタ19を介してインク室内にイン
ク20が供給される。
信号端子21に記録信号が入力されると、それに応じて
駆動回路15か動作し、記録信号に対応してインク室1
2が駆動される。その結果オリフィス13から吐出した
インク滴がプラテン22に沿って走行する記録紙23上
に付着し、記録画像が形成される。
駆動回路15か動作し、記録信号に対応してインク室1
2が駆動される。その結果オリフィス13から吐出した
インク滴がプラテン22に沿って走行する記録紙23上
に付着し、記録画像が形成される。
なお、本実施例において駆動回路15はシリコンブロッ
ク11の上端面11aに設けたが、必要に応じ側面等の
他の端面に形成することも可能である。
ク11の上端面11aに設けたが、必要に応じ側面等の
他の端面に形成することも可能である。
[発明の効果]
以上述べたように本発明によれば、シリコン単結晶から
なるブロックの(111)結晶面方向に側壁を有するイ
ンク室およびオリフィスを設けた構成とすることにより
、インク室およびオリフィスの形成に異方性エツチング
による微細加工を適用することができる。これにより、
インク室の側壁に形成した薄膜電極間にパルス電圧を印
加して、クーロン力によりインク室を収縮させてインク
を吐出させる方式を、インクジェットプリンタのインク
吐出装置として適用することが可能となる。
なるブロックの(111)結晶面方向に側壁を有するイ
ンク室およびオリフィスを設けた構成とすることにより
、インク室およびオリフィスの形成に異方性エツチング
による微細加工を適用することができる。これにより、
インク室の側壁に形成した薄膜電極間にパルス電圧を印
加して、クーロン力によりインク室を収縮させてインク
を吐出させる方式を、インクジェットプリンタのインク
吐出装置として適用することが可能となる。
したがって比較的低いエネルギで応答性良くインク吐出
制御ができるとともに、高密度かつ高速な記録が実現さ
れる。
制御ができるとともに、高密度かつ高速な記録が実現さ
れる。
また、シリコン単結晶からなるブロックのいずれかの端
面に、インク室の駆動を制御するための駆動回路を直接
形成することにより、従来のようにアクチュエータ部に
駆動回路ICを別途ボンディングする必要もなくなる。
面に、インク室の駆動を制御するための駆動回路を直接
形成することにより、従来のようにアクチュエータ部に
駆動回路ICを別途ボンディングする必要もなくなる。
その結果、コンパクト化が図れるとともに、高集積化が
容易となり、記録の高密度化に伴なう画質の向上を図る
ことができる。
容易となり、記録の高密度化に伴なう画質の向上を図る
ことができる。
第1図は本発明の一実施例におけるインクジェットプリ
ンタのインク吐出装置の構造を示す斜視図、第2図は第
1図のB−B断面図、第3図は同装置の使用状態での斜
視図、第4図は同装置をインクジェットプリンタに組込
んだ場合の概略構成を示す図である。 第5図は従来のインクジェットプリンタのインク吐出装
置の一例を示す斜視図、第6図および第7図は同装置の
動作原理を説明するための要部拡大断面図である。 図において、11はシリコンブロック、12はインク室
、13はオリフィス、14は薄膜電極、15は駆動回路
である。 = 13−
ンタのインク吐出装置の構造を示す斜視図、第2図は第
1図のB−B断面図、第3図は同装置の使用状態での斜
視図、第4図は同装置をインクジェットプリンタに組込
んだ場合の概略構成を示す図である。 第5図は従来のインクジェットプリンタのインク吐出装
置の一例を示す斜視図、第6図および第7図は同装置の
動作原理を説明するための要部拡大断面図である。 図において、11はシリコンブロック、12はインク室
、13はオリフィス、14は薄膜電極、15は駆動回路
である。 = 13−
Claims (2)
- (1)共に(111)結晶面の方向に左右両側の側壁を
有するインク室およびオリフィスを設けたシリコン単結
晶のブロックからなり、 前記インク室の左右両側の側壁にそれぞれ薄膜電極を形
成したこと を特徴とするインクジェットプリンタのインク吐出装置
。 - (2)前記ブロックのいずれかの端面に、前記薄膜電極
にパルス電圧を印加して前記インク室の駆動を制御する
駆動回路を直接形成したことを特徴とする請求項1記載
のインクジェットプリンタのインク吐出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11843289A JPH02297445A (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | インクジェットプリンタのインク吐出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11843289A JPH02297445A (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | インクジェットプリンタのインク吐出装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02297445A true JPH02297445A (ja) | 1990-12-07 |
Family
ID=14736500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11843289A Pending JPH02297445A (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | インクジェットプリンタのインク吐出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02297445A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5311219A (en) * | 1991-10-04 | 1994-05-10 | Tokyo Electric Co., Ltd. | Ink jet print head |
EP0757940A2 (en) * | 1995-08-09 | 1997-02-12 | Canon Kabushiki Kaisha | A liquid jet recording head, and a manufacturing method thereof, as well as a liquid jet recording apparatus with said liquid jet recording head mounted thereon |
WO2000050198A1 (fr) * | 1999-02-25 | 2000-08-31 | Seiko Epson Corporation | Procede d'usinage de pieces par faisceau laser |
-
1989
- 1989-05-11 JP JP11843289A patent/JPH02297445A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5311219A (en) * | 1991-10-04 | 1994-05-10 | Tokyo Electric Co., Ltd. | Ink jet print head |
EP0757940A2 (en) * | 1995-08-09 | 1997-02-12 | Canon Kabushiki Kaisha | A liquid jet recording head, and a manufacturing method thereof, as well as a liquid jet recording apparatus with said liquid jet recording head mounted thereon |
EP0757940A3 (en) * | 1995-08-09 | 1997-08-13 | Canon Kk | Liquid jet recording head and its manufacturing method as well as a liquid jet recording apparatus in which said liquid jet recording head is mounted |
US5902492A (en) * | 1995-08-09 | 1999-05-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head manufacturing method by anisotropic etching |
WO2000050198A1 (fr) * | 1999-02-25 | 2000-08-31 | Seiko Epson Corporation | Procede d'usinage de pieces par faisceau laser |
US6563079B1 (en) | 1999-02-25 | 2003-05-13 | Seiko Epson Corporation | Method for machining work by laser beam |
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