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JPH022238B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH022238B2
JPH022238B2 JP57024686A JP2468682A JPH022238B2 JP H022238 B2 JPH022238 B2 JP H022238B2 JP 57024686 A JP57024686 A JP 57024686A JP 2468682 A JP2468682 A JP 2468682A JP H022238 B2 JPH022238 B2 JP H022238B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
fet
field effect
effect transistor
gate
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57024686A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS57191891A (en
Inventor
Hooku Uerunaa
Kuremen Raineru
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of JPS57191891A publication Critical patent/JPS57191891A/en
Publication of JPH022238B2 publication Critical patent/JPH022238B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、既知のブートストラツプ効果を強調
するための回路に動的チヤージアツプ回路を含
む、電界効果トランジスタによるモノリシツク集
積半導体記憶装置の入力回路に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an input circuit for a monolithic integrated semiconductor memory device using field effect transistors, which includes a dynamic charge up circuit in a circuit for enhancing the known bootstrap effect.

二極トランジスタのモノリシツク集積記憶回路
に比べて、そのサイズが小さく電力消費量が少な
いために、電界効果トランジスタのそれは、現代
のプログラム制御式データ処理システムの主記憶
装置として、広く使用されている。
Due to their small size and low power consumption compared to bipolar transistor monolithic integrated storage circuits, field effect transistors are widely used as the main memory in modern program-controlled data processing systems.

電界効果トランジスタ(以下ではFETと呼ぶ)
で設計されたモノリシツク集積半導体記憶装置用
入力回路としては、ドイツ公開特許明細書第2243
671号から知られるように、いわゆるブートスト
ラツプ効果を利用した回路がしばしば使用されて
いる。第1A図にその回路図を示した、インバー
ターとして働くかかる回路は、入力レベルを低下
させるとき、動作電圧VHの値へと急速に上昇す
る出力レベルをもたらす。
Field effect transistor (hereinafter referred to as FET)
As an input circuit for a monolithic integrated semiconductor memory device designed in
As known from No. 671, circuits utilizing the so-called bootstrap effect are often used. Such a circuit, the circuit diagram of which is shown in FIG. 1A, acting as an inverter, provides an output level that rises rapidly to the value of the operating voltage VH when reducing the input level.

FET記憶装置は、二極トランジスタの方が電
界効果トランジスタよりも切換え速度が速いた
め、二極トランジスタで設計されるデジタル回路
によつて制御されることがしばしばである。いわ
ゆるTTLレベル体系は、二極トランジスタによ
る典型的なデジタル回路用電圧レベル体系であ
る。従つて、1つの2進状態、例えば論理「0」
が0〜0.8ボルトの範囲の電圧で表わされ、もう
1つの2進状態、例えば論理「1」が2.0ボルト
から例えば5.5ボルトの最大作動電圧までの範囲
の電圧で表わされるものと仮定する。ただし、
FET回路にとつて典型的な上限制御レベル並び
に動作電圧はずつと高く、例えばVH=8.5ボルト
である。すなわち、1.5ボルトの典型的な閾値電
圧をもち、最悪の場合でも2ボルトの上限入力レ
ベルで制御されるMOS電界効果トランジスタは、
比較的低い範囲でしか導電しないことになる。こ
うして制御されたFETは、その導電状態でもな
お比較的高いインピーダンスを持つ。従つて、要
求される他の回路ノードや容量などの充電または
放電を実施する際にはかなり遅い。そのため、別
個のレベル変換器が二極成分とFET成分の間の
インターフエイスにしばしば使用される。
FET storage devices are often controlled by digital circuits designed with bipolar transistors because bipolar transistors have faster switching speeds than field effect transistors. The so-called TTL level system is a typical voltage level system for digital circuits using bipolar transistors. Therefore, one binary state, e.g. logical "0"
Suppose that is represented by a voltage in the range 0 to 0.8 volts, and another binary state, e.g., a logic "1", is represented by a voltage in the range from 2.0 volts to a maximum operating voltage of, e.g., 5.5 volts. however,
Typical upper control levels and operating voltages for FET circuits are relatively high, for example VH = 8.5 volts. That is, a MOS field effect transistor with a typical threshold voltage of 1.5 volts and controlled with an upper input level of 2 volts in the worst case,
It will conduct only in a relatively low range. A FET controlled in this way still has a relatively high impedance even in its conducting state. Therefore, it is quite slow in performing the required charging or discharging of other circuit nodes, capacitances, etc. Therefore, separate level converters are often used to interface between the bipolar and FET components.

第1A図に基づく回路は、できればFETレベ
ルで、またFET2及び3がそれに応じて大きな
デイメンジヨンのものである場合にはTTLレベ
ルによつても制御するのが望ましい。ブートスト
ラツプ・インバータはFET2〜7及びブートス
トラツプ・コンデンサ6で形成されている。相互
接続されているFET4及び5のゲート電極は、
二極回路電子を形成するように配線されたFET
7を介して、動作電圧VHマイナスFET閾値電圧
VTにチヤージアツプされている。2つの入力
FET2及び3を非伝導状態にすると、インバー
タの出力8に接続されている回路の入力容量9は
コンデンサ6に対して平行になつていないので、
コンデンサ6の両電極の電位が、FET5を介し
て急速に上昇(ブートストラツプ)する。
The circuit according to FIG. 1A is preferably controlled at the FET level, and also by the TTL level if FETs 2 and 3 are of correspondingly large dimension. The bootstrap inverter is formed by FETs 2-7 and bootstrap capacitor 6. The gate electrodes of FETs 4 and 5 which are interconnected are
FET wired to form a bipolar circuit electronic
Through 7, operating voltage VH minus FET threshold voltage
Charged up by VT. two inputs
When FETs 2 and 3 are made non-conductive, the input capacitance 9 of the circuit connected to the output 8 of the inverter is not parallel to the capacitor 6, so
The potential at both electrodes of the capacitor 6 rapidly rises (bootstraps) via the FET 5.

本発明を更に理解し易くするため、次に第1B
図に基づく構造及び操作について簡単に説明す
る。この回路は、ドイツ公開特許明細書22 43671
号から知られるように、第1A図のブートストラ
ツプ・インバータ及びそれに追加された負荷容量
9を急速に充電させる為の動的チヤージアツプ回
路から構成されている。ブートストラツプ・イン
バータは、FET2〜7及びブートストラツプ・
コンデンサ6によつて形成されているが、動的チ
ヤージアツプ回路は、FET10及び11並びに
コンデンサ12から構成されている。
In order to make the present invention easier to understand, the following section 1B
The structure and operation will be briefly explained based on the diagram. This circuit is described in German published patent specification 22 43671
As is known from the above publication, it consists of the bootstrap inverter shown in FIG. 1A and a dynamic charge-up circuit for rapidly charging the load capacitance 9 added thereto. The bootstrap inverter consists of FETs 2 to 7 and the bootstrap inverter.
Although formed by capacitor 6, the dynamic charge up circuit is composed of FETs 10 and 11 and capacitor 12.

動的チヤージアツプ回路がFET10及び11
並びにコンデンサ12から構成されているため
に、相互接続されているFET4及び5のゲート
電極は、FET7を介して、動作電圧VHマイナス
FET閾値電圧VTにチヤージアツプされるのみな
らず、入力信号の前縁が到着すると、動作電圧
VHの完全値にまでチヤージアツプされる。入力
信号の前縁が到着し、コンデンサ12を介して、
FET10の電圧VH−VTにまでチヤージアツプ
されたゲートに転送されると、そのゲート電位は
ほぼ2VH−VTの値に上昇し、その結果そのソー
ス電位23及び相互接続されたFET4,5のゲ
ート電極の電位はVHの値を取るようになる。こ
うしてゲート電極を動作電圧の完全値VHにまで
チヤージアツプすることにより、2つの負荷
FET4及び5のゲート電位は入力信号が低下す
るとき、かかる大きさまで増大し、従つて切換え
FET2及び3は非伝導状態となり、ブートスト
ラツプ・コンデンサ6の電位はFET5を介して
上昇し、その結果として負荷容量9は、動的チヤ
ージアツプ回路を使用しない場合よりも速く、完
全動作電圧VHまで上昇する。
Dynamic charge up circuit is FET10 and 11
and a capacitor 12, the gate electrodes of the interconnected FETs 4 and 5 are connected to the operating voltage VH minus through the FET 7.
In addition to being charged up to the FET threshold voltage VT, when the leading edge of the input signal arrives, the operating voltage
Charged up to full VH value. The leading edge of the input signal arrives, via capacitor 12,
When transferred to the gate charged up to the voltage VH-VT of FET 10, its gate potential rises to a value of approximately 2VH-VT, resulting in its source potential 23 and the gate electrodes of interconnected FETs 4, 5. The potential comes to take the value of VH. In this way, by charging up the gate electrode to the full operating voltage VH, the two loads are
When the input signal falls, the gate potential of FETs 4 and 5 increases to such an extent that they are switched
FETs 2 and 3 become non-conducting and the potential of bootstrap capacitor 6 rises through FET 5, so that the load capacitance 9 rises to the full operating voltage VH faster than without the dynamic charge-up circuit. do.

しかし、第1B図に基づく有利な回路は、
FETレベルを要求するという欠点をもつている。
低いTTLレベルで制御を実施すると、TTL電位
のスイングが2−0.8=1.2ボルトと小さいため
に、ノード23がチヤージアツプ回路によつて
VHにまでチヤージアツプされず、従つて価値が
ない。従つて第1A図の回路の場合のように、チ
ヤージアツプ・トランジスタT7のみがノード2
3をVH−VTの最大値に充電させる。
However, an advantageous circuit based on FIG.
It has the disadvantage of requiring FET level.
When control is implemented at low TTL levels, the TTL potential swing is as small as 2 - 0.8 = 1.2 volts, causing node 23 to be overloaded by the charge-up circuit.
It is not charged up to VH and therefore has no value. Therefore, as in the circuit of FIG. 1A, only charge-up transistor T7 is connected to node 2.
3 to the maximum value of VH-VT.

第1B図に基づく回路はTTLレベルで制御す
べきFET記憶装置用の入力回路としては使用で
きないので、本発明はその救済策をもたらすもの
である。特許請求の範囲で特徴付けられる本発明
は、TTLレベルによる制御にもかかわらず、
FET4並び5のゲートのチヤージアツプを通じ
て出力ノード8を、急速に動作電圧VHにまで帯
電させることができる。FET記憶装置に対する
入力回路をもたらすという目的を実現するもので
ある。
Since the circuit according to FIG. 1B cannot be used as an input circuit for FET storage devices to be controlled at TTL level, the present invention provides a remedy. The invention characterized in the claims provides that, despite the control by the TTL level,
Through the charge up of the gates of the FETs 4 and 5, the output node 8 can be rapidly charged to the operating voltage VH. It fulfills the purpose of providing an input circuit for a FET storage device.

本発明の主たる利点は、VHレベルを、FET記
憶装置を制御するために必要なレベルに変換する
ための二極レベル変換器がもはや必要でないこと
である。
The main advantage of the present invention is that a bipolar level converter is no longer needed to convert the VH level to the level required to control the FET storage device.

次に、図面を参照しながら、本発明をくわしく
説明する。
Next, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

第1A図、第1B図、第2図及び第4図の回路
図においては、典型的動作電圧が約8.5ボルトの
通常のN−チヤネル−MOS−FETを仮定してあ
る。しかし本発明は、他の導電型のFET並びに
それに応じて修正された動作電圧でも同等に実現
できる。
The circuit diagrams of FIGS. 1A, 1B, 2, and 4 assume a conventional N-channel MOS-FET with a typical operating voltage of about 8.5 volts. However, the invention can equally be implemented with FETs of other conductivity types and operating voltages modified accordingly.

第2図は、本発明の第一の実施例の回路図を示
したものである。このTTLレベルで制御可能な
記憶装置入力回路は、第1B図に基づく回路の一
変形である。第1B図の回路の構成要素と対応す
る、第2図の回路の構成要素には、同じ参照番号
をつけてある。FET10及び11ならびにコン
デンサ12から構成され、相互接続されたFET
4及び5のゲート電極を備えている動的チヤージ
アツプ回路は、FETレベルによる操作制御を必
要とするので、第2図の回路中のコンデンサ12
の第1の電極は、入力端子1にではなく、FET
記憶装置に対する入力回路に続く、ブロツク形で
表わしたインバータ16の出力17に接続されて
いる。その上、第2図のチヤージアツプFET1
1のゲートは電源電圧の陽極VHにではなく、イ
ンバータ16に続くやはりブロツク形で表わした
インバータ18の出力19に接続されている。更
に、コンデンサ12の第2の電極の、チヤージア
ツプFET11のソース並びに負荷FET10のゲ
ートとの共通接点20は、3個の直列配置の放電
FET13,14,15を介してFET11のゲー
トに接続されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of a first embodiment of the present invention. This TTL level controllable storage input circuit is a variation of the circuit based on FIG. 1B. Components of the circuit of FIG. 2 that correspond to components of the circuit of FIG. 1B are given the same reference numerals. Consisting of FETs 10 and 11 and capacitor 12, interconnected FETs
Since the dynamic charge up circuit with gate electrodes 4 and 5 requires FET level operational control, capacitor 12 in the circuit of FIG.
The first electrode of the FET is not connected to input terminal 1.
It is connected to the output 17 of an inverter 16, represented in block form, which follows the input circuit for the storage device. In addition, charge up FET1 in Figure 2
1 is connected not to the anode VH of the supply voltage, but to the output 19 of an inverter 18 following the inverter 16, also represented in block form. Furthermore, a common contact 20 of the second electrode of the capacitor 12 with the source of the charge-up FET 11 and the gate of the load FET 10 connects three series-arranged discharges.
It is connected to the gate of FET11 via FET13,14,15.

第2図の入力回路の操作を、第3図に基づくパ
ルス図に則して説明する。入力回路の入力端子1
に印加される、TTL信号(第3図)は最初オフ
状態で高いTTLレベルを示していたが、今は信
号ダウン・レベルをとつているものと仮定する。
今まで導通状態であつたスイツチングFET2及
び3は、こうして非導電性となり、その結果、前
にはFET信号ダウン・レベルを示していた入力
ステージの出力8は、今やブートストラツプ・コ
ンデンサ6の既知の効果のために、急速に高
FET出力レベルをとるノード23の電位がコン
デンサ6のブートストラツプ効果のために、値
VH以上に上昇すると、ード24の電位が上昇す
る際にブートストラツプ・コンデンサ6によつて
起こるノード23での電圧増加が妨げられるため
にFET10を通つて動作電流電源の陽極VHに電
流は流れない。出力8の出力電位はよりゆつくり
と上昇し、動作電圧ソースVHの完全値に達しな
いことになる。FET13,14,15並びに入
力信号と位相が逆のその制御パルス19によつ
て、FET10のゲート20は、入力信号1がVH
−VTより低い電位に低下する前に放電され、電
位23が値VH以上に上昇したとき、FET10は
確実に非導電性となる。FET13のゲートが動
作電圧電源の陽極VHに接続されているため、こ
のFETは常に導電状態である。ドレインとゲー
トを接続することにより、FET14及び15は、
二極回路要素を形成するように配線されている。
The operation of the input circuit shown in FIG. 2 will be explained with reference to the pulse diagram shown in FIG. Input terminal 1 of input circuit
Assume that the TTL signal (FIG. 3) applied to the OFF state is initially at a high TTL level, but is now at a signal down level.
Switching FETs 2 and 3, which were previously conducting, are now non-conducting, so that the output 8 of the input stage, which previously indicated the FET signal down level, is now at the known level of the bootstrap capacitor 6. Rapidly high for effect
Due to the bootstrap effect of capacitor 6, the potential of node 23, which takes the FET output level, becomes
When the voltage rises above VH, current flows through FET 10 to the anode VH of the operating current supply because the voltage increase at node 23 caused by bootstrap capacitor 6 is prevented as the potential at node 24 rises. do not have. The output potential at output 8 will rise more slowly and will not reach the full value of the operating voltage source VH. FETs 13, 14, 15 and their control pulses 19, which are opposite in phase to the input signal, cause the gate 20 of FET 10 to
When the potential 23 rises above the value VH, being discharged before dropping to a potential below -VT, the FET 10 becomes positively non-conductive. Since the gate of FET 13 is connected to the anode VH of the operating voltage supply, this FET is always in a conductive state. By connecting the drain and gate, FETs 14 and 15
Wired to form a bipolar circuit element.

第2図の入力回路は、できれば動的FET記憶
チツプ中のレベル変換器として実現するのが望ま
しい。TTLチツプ選択信号CSを、例えば入力1
に印加することができる。動的記憶セルを再生す
るために、チツプを連続的に選択しなければなら
ないので、最長CSサイクルは、100マイクロ秒の
範囲にある。入力回路自体もこうして再生され
る。例えば、ノード23は漏れ電流によつて100
マイクロ秒で値VHよりも僅かに低い値にまで放
電される。しかし記憶を開始するとき、チヤージ
アツプ回路はなお無効であり、ノード23は
FET7のみによつて値VH−VTよりも僅かに低
い値で維持される。従つて最初のサイクルの初め
には、入力回路の出力8の電圧は、ノード23の
電位VH−VTが低いために、遅延してしかもゆ
つくりとしか上昇しない。最初のサイクルの終り
に、ノード23は、チヤージアツプ回路を介して
すなわちFET10を介して電位VHにまで充電さ
れる。第2サイクル及びそれ以後のサイクルで
は、出力電圧は実際上遅延なしに非常に急速に上
昇する。
The input circuit of FIG. 2 is preferably implemented as a level converter in a dynamic FET storage chip. TTL chip selection signal CS, for example input 1
can be applied to The longest CS cycle is in the range of 100 microseconds since chips must be selected continuously to regenerate dynamic storage cells. The input circuit itself is also regenerated in this way. For example, node 23 will have a leakage current of 100
It is discharged to a value slightly lower than the value VH in microseconds. However, when starting storage, the charge up circuit is still disabled and node 23 is
It is maintained at a value slightly lower than the value VH-VT by FET7 alone. Therefore, at the beginning of the first cycle, the voltage at the output 8 of the input circuit increases only slowly and with a delay because the potential VH-VT at node 23 is low. At the end of the first cycle, node 23 is charged to potential VH via the charge-up circuit, ie via FET 10. In the second and subsequent cycles, the output voltage rises very quickly with virtually no delay.

第3図は、本発明によつて記述された入力回路
の、回路の各ノードでの電位変化を表わすパルス
図を示したものである。このパルス図から、最初
のサイクルより後では、出力8の電位の上昇時間
が最初のサイクルの場合の約半分の値であること
がわかる。サイクル時間は360ナノ秒と仮定して
ある。
FIG. 3 shows a pulse diagram of the input circuit described according to the invention, representing the potential changes at each node of the circuit. From this pulse diagram, it can be seen that after the first cycle, the rise time of the potential of the output 8 is about half of the value in the first cycle. The cycle time is assumed to be 360 nanoseconds.

第4図は、本発明のもう1つの実施例の回路図
である。第2図とは、スイツチング・トランジス
タ2及び3が相互接続されたソース電極で制御さ
れ、固定バイアス電位VBがそれらの相互接続さ
れたゲート電極に印加される点だけが違つてい
る。この回路機能の特徴のために入力信号は、出
力8に現われる出力信号と同位相である。第2図
の回路図に対してそれ以外の違いはない。第4図
の回路の操作も、第2図に関して説明したものと
一致している。このことは、第5図のパルス図か
ら立証される。第5図では、端子1に印加される
TTL入力信号のみが、第3図のパルス図と比較
して逆の位相を示している。
FIG. 4 is a circuit diagram of another embodiment of the invention. The only difference from FIG. 2 is that the switching transistors 2 and 3 are controlled with interconnected source electrodes and a fixed bias potential VB is applied to their interconnected gate electrodes. Due to this feature of circuit functioning, the input signal is in phase with the output signal appearing at output 8. There are no other differences to the circuit diagram of FIG. The operation of the circuit of FIG. 4 is also consistent with that described with respect to FIG. This is proven from the pulse diagram in FIG. In Figure 5, the voltage applied to terminal 1 is
Only the TTL input signal shows an opposite phase compared to the pulse diagram of FIG.

上述のように、第2図及び第4図の回路は、チ
ツプ選択信号用のベル変換器及び信号増幅器に、
特に適している。チツプ選択信号は、記憶チツプ
中で非常に高い容量性負荷を励振しなければなら
ないので、本発明ではインバータ16及び18を
追加的に必要とはしないが、増幅用に設けられて
いる。
As mentioned above, the circuits of FIGS. 2 and 4 include a Bell converter for the chip select signal and a signal amplifier.
Particularly suitable. Since the chip select signal must drive a very high capacitive load in the storage chip, inverters 16 and 18 are not additionally required in the present invention, but are provided for amplification.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1A図は既知のインバータ回路から構成され
る、FETまたはTTLレベルによるFET記憶装置
用入力回路の回路図。第1B図は、動的チヤージ
アツプ回路を補完した既知のインバータから構成
される、FETレベルによつて動作するFET記憶
装置用入力回路の回路図。第2図は、本発明に基
づく第1の実施例の回路図。第3図は第2図に基
づく入力回路のパルス図。第4図は本発明に基づ
く第2の実施例の回路図。第5図は第4図に基づ
く入力回路のパルス図。
FIG. 1A is a circuit diagram of an input circuit for a FET storage device with FET or TTL levels, constructed from a known inverter circuit. FIG. 1B is a circuit diagram of an input circuit for a FET storage device operated by FET levels, consisting of a known inverter supplemented with a dynamic charge-up circuit. FIG. 2 is a circuit diagram of a first embodiment based on the present invention. FIG. 3 is a pulse diagram of the input circuit based on FIG. 2; FIG. 4 is a circuit diagram of a second embodiment based on the present invention. FIG. 5 is a pulse diagram of the input circuit based on FIG. 4.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 入力信号に応答して動作するブートストラツ
プ回路と、前記ブートストラツプ回路に結合され
たチヤージ・アツプ回路とを有する電界効果トラ
ンジスタ記憶装置のための入力回路であつて、前
記チヤージ・アツプ回路は前記ブートストラツプ
回路のブートストラツプ・ノードに結合された第
1電界効果トランジスタ、前記第1電界効果トラ
ンジスタのゲートにソースを接続された第2電界
効果トランジスタ、及び前記第1電界効果トラン
ジスタのゲートに一方の電極を接続されたコンデ
ンサを有し、前記コンデンサの他方の電極は前記
ブートストラツプ回路に続くインバータの出力に
接続され、前記第1電界効果トランジスタのゲー
トは放電路を介して前記第2電界効果トランジス
タのゲート及び前記インバータに続くインバータ
の出力に接続されている電界効果トランジスタ記
憶装置のための入力回路。
1. An input circuit for a field effect transistor memory device having a bootstrap circuit operable in response to an input signal and a charge up circuit coupled to the bootstrap circuit, the charge up circuit comprising: a first field effect transistor coupled to a bootstrap node of the bootstrap circuit; a second field effect transistor having a source connected to the gate of the first field effect transistor; and one field effect transistor connected to the gate of the first field effect transistor. a capacitor having electrodes connected thereto, the other electrode of the capacitor being connected to the output of an inverter following the bootstrap circuit, and the gate of the first field effect transistor connected to the second field effect transistor via a discharge path. an input circuit for a field effect transistor memory device connected to the gate of and the output of an inverter following said inverter.
JP57024686A 1981-05-13 1982-02-19 Input circuit for field effect transistor memory device Granted JPS57191891A (en)

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