JPH02229154A - シクロヘキサンアセトアミド誘導体 - Google Patents
シクロヘキサンアセトアミド誘導体Info
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式
R1
式中、R1は水素、低級アルキルまたはアリル−低級ア
ルキルであり;R2は水素、低級アルキル、アリール、
アリール−低級アル、キル、 である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩に関す
る。
ルキルであり;R2は水素、低級アルキル、アリール、
アリール−低級アル、キル、 である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩に関す
る。
本発明を要約すれば、式
であり、ここで、R5及びR6は水素、低級アルキルま
たはアリール−低級アルキルであり;R3及びR1は独
立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級アルキ
ルである、の[(5−オキソ−2−ピロリジニル)メチ
ルコシクロヘキサンアセトアミド並びにそのエナンチオ
マー、ジアステレオマー及びラセミ体、そして、R2が 式中、R1は水素、低級アルキルまたはアリル−低級ア
ルキルであり;R2は水素、低級アルキル、アリール、
アリール−低級アルキル、 であり、ここで、R6及びR5は水素、低級アルキシま
たはアリール−低級アルキルであり;R3及びR4は独
立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級アルキ
ルである、の[(5−オキソ−2−ピロリジニル)メチ
ル1シクロヘキサンアセトアミド並びにそのエナンチオ
マー、ジアステレオマー及びラセミ体、そして、R2が R8 である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩は認識
強化及び抗健忘症活性を示し、従って、例えばアルツハ
イマー病に伴うお憶欠損または年齢に伴う記憶減退を処
置するために有用であることである。
たはアリール−低級アルキルであり;R3及びR1は独
立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級アルキ
ルである、の[(5−オキソ−2−ピロリジニル)メチ
ルコシクロヘキサンアセトアミド並びにそのエナンチオ
マー、ジアステレオマー及びラセミ体、そして、R2が 式中、R1は水素、低級アルキルまたはアリル−低級ア
ルキルであり;R2は水素、低級アルキル、アリール、
アリール−低級アルキル、 であり、ここで、R6及びR5は水素、低級アルキシま
たはアリール−低級アルキルであり;R3及びR4は独
立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級アルキ
ルである、の[(5−オキソ−2−ピロリジニル)メチ
ル1シクロヘキサンアセトアミド並びにそのエナンチオ
マー、ジアステレオマー及びラセミ体、そして、R2が R8 である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩は認識
強化及び抗健忘症活性を示し、従って、例えばアルツハ
イマー病に伴うお憶欠損または年齢に伴う記憶減退を処
置するために有用であることである。
式Iの化合物は認識強化及び抗健忘症活性を示し、従っ
て、例えばアルツハイマー病に伴う記憶欠損または年齢
に伴う記憶減退を処置するために有用である。
て、例えばアルツハイマー病に伴う記憶欠損または年齢
に伴う記憶減退を処置するために有用である。
本明細書に用いた如き「低級アルキルjなる用語は、好
ましくは炭素原子1〜7個を含む直鎖状または分枝鎖状
の飽和炭化水素、例えばメチル、エチル、プロピル、イ
ンプロピAy、ブチル、tart。
ましくは炭素原子1〜7個を含む直鎖状または分枝鎖状
の飽和炭化水素、例えばメチル、エチル、プロピル、イ
ンプロピAy、ブチル、tart。
ブチル、ネオペンチル、ペンチル、ヘプチル等を表わす
。「低級アルコキシ」なる用語は、好ましくは低級アル
キル基が上に定義したとおりであるアルキルエーテル基
、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ペンチルオ
キシ、インブトキシ、ヘプトキシ等を表わす。「アリー
ル−低級アルキル」なる用語は、好ましくはアリールが
次のとおりであるアリールで置換された低級アルキルを
表わし、殊にフェニル、またはハロゲン、トリフルオロ
メチル及び低級アルキルからなる群より独立に選ばれる
1個または2個の置換基をもつフェニルである。アリー
ル−低級アルキルの例はベンジル、2−フェニルエチル
、2−クロロベンジル等である。「ハロゲン」なる用語
は臭素、塩素、フッ素またはヨウ素を表わす。「アリー
ル」なる用語は環式芳香族炭化水素基、例えはフェニル
またはナフチル、或いはハロゲン、トリフルオロメチル
、低級アルキル及び低級アルコキシからなる群より独立
に選ばれる1個または2個の置換基をもつフェニルまた
はす7チルを表わす。
。「低級アルコキシ」なる用語は、好ましくは低級アル
キル基が上に定義したとおりであるアルキルエーテル基
、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ペンチルオ
キシ、インブトキシ、ヘプトキシ等を表わす。「アリー
ル−低級アルキル」なる用語は、好ましくはアリールが
次のとおりであるアリールで置換された低級アルキルを
表わし、殊にフェニル、またはハロゲン、トリフルオロ
メチル及び低級アルキルからなる群より独立に選ばれる
1個または2個の置換基をもつフェニルである。アリー
ル−低級アルキルの例はベンジル、2−フェニルエチル
、2−クロロベンジル等である。「ハロゲン」なる用語
は臭素、塩素、フッ素またはヨウ素を表わす。「アリー
ル」なる用語は環式芳香族炭化水素基、例えはフェニル
またはナフチル、或いはハロゲン、トリフルオロメチル
、低級アルキル及び低級アルコキシからなる群より独立
に選ばれる1個または2個の置換基をもつフェニルまた
はす7チルを表わす。
本発明の化合物の好ましい群は、R1か水素、低級アル
キルまたはアリール−低級アルキルであり:R2が水素
、低級アルキルまたは 低級アルキルまたは であり、ここで、R6は水素またはアリール−低級アル
キルであり:R3及びR2が水素である式■の化合物及
び、R2が Rも であり、ここで、R6は水素またはアリール−低級アル
キルであり:R3及びR6が独立に水素または低級アル
キルである式■の化合物及びエナンチオマー、並びにR
2が である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩からな
る。
キルまたはアリール−低級アルキルであり:R2が水素
、低級アルキルまたは 低級アルキルまたは であり、ここで、R6は水素またはアリール−低級アル
キルであり:R3及びR2が水素である式■の化合物及
び、R2が Rも であり、ここで、R6は水素またはアリール−低級アル
キルであり:R3及びR6が独立に水素または低級アル
キルである式■の化合物及びエナンチオマー、並びにR
2が である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩からな
る。
本発明の化合物のまた更に好ましい群は式である場合、
その製薬学的に許容し得る酸付加塩からなる。
その製薬学的に許容し得る酸付加塩からなる。
本発明の化合物の更に好ましい群は、R1が水素または
アリール−低級アルキルであり;R2がR工 式中、R2′は水素、低級アルキルまたはアリール−低
級アルキルであり:そしてR1、R3及びR1はすでに
述べたとおりである、の化合物並びにそのエナンチオマ
ー及びラセミ体からなる。
アリール−低級アルキルであり;R2がR工 式中、R2′は水素、低級アルキルまたはアリール−低
級アルキルであり:そしてR1、R3及びR1はすでに
述べたとおりである、の化合物並びにそのエナンチオマ
ー及びラセミ体からなる。
式I−A、但し、R□は水素またはアリール低級アルキ
ルであり;R2′は水素または低級アルキルであり;R
3及びR4が独立に水素である、の化合物及びそのエナ
ンチオマーが殊に好ましい。
ルであり;R2′は水素または低級アルキルであり;R
3及びR4が独立に水素である、の化合物及びそのエナ
ンチオマーが殊に好ましい。
また式
R1、R3、RいR5及びR6はすでに述べたとおりで
ある、 の化合物、そのエナンチオマー及びラセミ体並びにその
製薬学的に許容し得る酸付加塩が好ましい。
ある、 の化合物、そのエナンチオマー及びラセミ体並びにその
製薬学的に許容し得る酸付加塩が好ましい。
式I−B、但し、R1は水素またはアリール−低級アル
キルであり:R2′は であり、ここで、R6は水素またはアリール−低級アル
キルであり、そしてR3及びR,は水素である、の化合
物及びエナンチオマー、並びにその製薬学的に許容し得
る酸付加塩が殊に好ましい。
キルであり:R2′は であり、ここで、R6は水素またはアリール−低級アル
キルであり、そしてR3及びR,は水素である、の化合
物及びエナンチオマー、並びにその製薬学的に許容し得
る酸付加塩が殊に好ましい。
本発明の式1の最も好ましい化合物は次のものである:
[IR,3R,5S、5(2S)]−]3−メチルー5
[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニ
ル]エチル] シクロヘキサンアセトアミド; [I R,3R,5S、5(2S)L−3−メチル−5
[[5−オキソ−2−ピロリジニルコメチルコシクロヘ
キサンアセトアミド; [1,R,,3R,5S、5(2S)]−]3−メチル
ー5[5−オキソ−1((4−メ1−キシフェル)メチ
ル]−2−ピロリジニル1 メチルコ シクロヘキサン
アセトアミド。
[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニ
ル]エチル] シクロヘキサンアセトアミド; [I R,3R,5S、5(2S)L−3−メチル−5
[[5−オキソ−2−ピロリジニルコメチルコシクロヘ
キサンアセトアミド; [1,R,,3R,5S、5(2S)]−]3−メチル
ー5[5−オキソ−1((4−メ1−キシフェル)メチ
ル]−2−ピロリジニル1 メチルコ シクロヘキサン
アセトアミド。
[IR,3R,55,5(2S)]−]3〜メチルー5
=[5−オーキソー1−[(4−タロロフェニル)メチ
ル]−2−ピロリジニル] メチル] シクロヘキサン
アセトアミド: [I S、3 R,5(2S)、5 Sl −3−[
[1−(フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イ
ル1メチル>5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセ
トアミド・ [IS、3R,5(2S)、53] −3−[(11(
イミダゾルー5−イル)メチル]−5−[[5オキソ−
1(フェニルメチル)−2−ピロリジニル] メチル]
シクロヘキサンアセトアミド:[IS、3R,5(2
S)、531−3− (LH−イミダゾルー5−イルメ
チル)−5−J(5−オキソ−2−ピロリジニル] メ
チル] シクロヘキサンアセトアミド; [I S、33,3(2S)] −3−[[5−オキソ
]−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル1
シクロヘキサンアセトアミド:[I S、3R,5(
2S)、5S] −3−[(IH−イミダツルー5−イ
ル] メチル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニル
メチル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサン
−N−メチルアセトアミド;及び [IS、3R,5(2S)、551 −3− [[1−
(フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル1メ
チルコ−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジニルコメチル1シクロへギザンーN−メ
チルアセトアミド。
=[5−オーキソー1−[(4−タロロフェニル)メチ
ル]−2−ピロリジニル] メチル] シクロヘキサン
アセトアミド: [I S、3 R,5(2S)、5 Sl −3−[
[1−(フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イ
ル1メチル>5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセ
トアミド・ [IS、3R,5(2S)、53] −3−[(11(
イミダゾルー5−イル)メチル]−5−[[5オキソ−
1(フェニルメチル)−2−ピロリジニル] メチル]
シクロヘキサンアセトアミド:[IS、3R,5(2
S)、531−3− (LH−イミダゾルー5−イルメ
チル)−5−J(5−オキソ−2−ピロリジニル] メ
チル] シクロヘキサンアセトアミド; [I S、33,3(2S)] −3−[[5−オキソ
]−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル1
シクロヘキサンアセトアミド:[I S、3R,5(
2S)、5S] −3−[(IH−イミダツルー5−イ
ル] メチル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニル
メチル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサン
−N−メチルアセトアミド;及び [IS、3R,5(2S)、551 −3− [[1−
(フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル1メ
チルコ−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジニルコメチル1シクロへギザンーN−メ
チルアセトアミド。
式1の好ましい化合物は次のものである;[I R3R
,5S、5(23)] −]3−メチルー5[5−オキ
ソ−1−[(3−メチルフェニル)メチル]−2−ピロ
リジニル] メチル] シクロヘキサンアセトアミド; [I R,3R,5S、5(2S)] −]3−メチル
ー−[[5−オキソ−1−メチル−2−ピロリジニル1
メチルJシクロヘキザンアセトアミド:UI R,3R
,5S、5C2S)] −]3−フユニルメチルー5−
[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミド: [I R,3R,53,5(2S)] −]3−メチル
ー5[5−オキソ−1[2−(フェニルエチル)1−2
−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド
; [15,3R,5S、5(2R)] −]3−メチルー
5−C5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロ
リジニルコメチル] シクロヘキサンアセトアミド: [IS、3S、5R,5(2S)] −]3−メチルー
5=[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリ
ジニル]メチル]シクロヘキザンアセトアミド; [I S、3R,5S、5(2S)コ −3−メチル−
5[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリ
ジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド: [I R,3S、5S、5(25)] −]3−メチル
ー5[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリ
ジニル〕メチル]シクロヘキザンアセトアミド; [I S、3 S、5 S、5(2S)] −]3−メ
チルー5[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピ
ロリジニル]メチル1シクロヘキサンアセトアミド: Rac、−3−メチル−5−[[5−オキソ−1(フェ
ニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキ
サンアセトアミド; [IR,3S、3(2R)]−3−[[5−オキソ2−
ピロリジニルコメチル] シクロヘキサンアセトアミド
: tl S、3R,3(2S)] −3−[[5−オキソ
2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド。
,5S、5(23)] −]3−メチルー5[5−オキ
ソ−1−[(3−メチルフェニル)メチル]−2−ピロ
リジニル] メチル] シクロヘキサンアセトアミド; [I R,3R,5S、5(2S)] −]3−メチル
ー−[[5−オキソ−1−メチル−2−ピロリジニル1
メチルJシクロヘキザンアセトアミド:UI R,3R
,5S、5C2S)] −]3−フユニルメチルー5−
[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミド: [I R,3R,53,5(2S)] −]3−メチル
ー5[5−オキソ−1[2−(フェニルエチル)1−2
−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド
; [15,3R,5S、5(2R)] −]3−メチルー
5−C5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロ
リジニルコメチル] シクロヘキサンアセトアミド: [IS、3S、5R,5(2S)] −]3−メチルー
5=[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリ
ジニル]メチル]シクロヘキザンアセトアミド; [I S、3R,5S、5(2S)コ −3−メチル−
5[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリ
ジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド: [I R,3S、5S、5(25)] −]3−メチル
ー5[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリ
ジニル〕メチル]シクロヘキザンアセトアミド; [I S、3 S、5 S、5(2S)] −]3−メ
チルー5[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピ
ロリジニル]メチル1シクロヘキサンアセトアミド: Rac、−3−メチル−5−[[5−オキソ−1(フェ
ニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキ
サンアセトアミド; [IR,3S、3(2R)]−3−[[5−オキソ2−
ピロリジニルコメチル] シクロヘキサンアセトアミド
: tl S、3R,3(2S)] −3−[[5−オキソ
2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド。
N、S、3S、3(2S)] −3−[[5−オキソ2
−ピロリジニルコメチル] シクロヘキサンアセトアミ
ド及び [IR,3R,3(2S)] −3−[[5−オキソ2
−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド
。
−ピロリジニルコメチル] シクロヘキサンアセトアミ
ド及び [IR,3R,3(2S)] −3−[[5−オキソ2
−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド
。
式lの他の典型的な化合物は次のものである;[IR,
3S、3(2S)] −3−[[5−オキソl−メチル
−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトア
ミド; [IR,3S、3(23)] −3’−[[5−オキソ
−1−[2−(フェニルエチル)−2−ピロリジニル]
メチル]シクロヘキサンアセトアミド;[IR,3S、
3(23)] −3−[[5−オキソ1−(フェニルメ
チル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンア
セトアミド:[IR,3S、3(2S)] −3−[[
5−オキソ−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサ
ンアセトアミド; [I S、3R,5(2R)、5S]−3−[(IHイ
ミダゾルー5−イル)メチル]−5−[[5オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シ
クロヘキサンアセトアミド;[I R,3S、5(23
)、5R] −3−[(IHイミダゾルー5−イル)メ
チル−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド:Rac、−3[(IH−イミダゾルー5−イル)メ
チル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトア
ミド; [IR,3S、5(2S)、5S] −3−[(IHイ
ミダゾルー5−イル)メチル] −5−[[5−オキソ
−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル
]シクロヘキサンアセトアミド:[IS、3S、5(2
S)、5S] −3−[(IHイミダゾルー5−イル)
メチル]−5−[[5オキソ−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジニルコメチル] シクロヘキサンアセト
アミド:[IR,3S、5(2S)、5S] −3−[
(IHイミダゾルー5−イル)メチル]−5−[[5オ
キソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メ
チル]シクロヘキサンアセトアミド;[I S、3R
,5(2R) 、5S コ − 3−[[1(フェニ
ルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル)メチル]−
5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド; [JR,3S、5(23)、5R] −3−[[1−(
フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル)メチ
ル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド; Rac、−3([1(フェニルメチル)−1Hイミダゾ
ルー5−イル)メチル] −5−[[5−オキソ−1−
(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シク
ロヘキサンアセトアミド;[IR,3S、5(2S)
、5S コ − :3−[[1(フェニルメチル)−
1H−イミダゾルー5−イル)メチル] −5’ [[
5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニ
ル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド; [IS、3S、5(23)、5S] −3−[[1−(
フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル)メチ
ル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド; [IR,:3S、5(2S) 、5S コ −3−[
[1−(フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イ
ル)メチル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメ
チル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンア
セトアミド; [IS、3R,5(2S)、5S] −3−[(1−メ
チル−IH−イミダゾルー4−イル)メチル]5−[[
5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニ
ル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド; [I S、3R,5(2S)、5S] −3−[(1−
メチル−IH−イミダゾルー5−イル)メチル15−[
[5−オキソ−1−(フェニルメチル)2−ピロリジニ
ル1メチル]シクロヘキサンアセドアミド; [I S、3R,5(2S)、5S] −3−((1−
メチル−IH〜イミダゾルー4−イル)メチル]5−[
[5−オキソ−2−ピロリジニル] メチル1シクロヘ
キサンアセトアミド; [IS、3R,5(2S)、5S] −i [(1−メ
チル−IH−イミダゾルー5−イル)メチル]5−[[
5−オキソ−2−ピロリジニル1メヂル1シクロヘキサ
ンアセトアミド; [I R,3R,5S、5(2S)]−]3−フェニル
5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)2−ピロリ
ジニル] メチル1シクロヘキサンアセトアミド;及び ELS、3R,5(2S)、5S] −3−[(IHイ
ミダゾルー5−イル)メチル]−5−[[5オキソ−1
−[(1−ナフチル)メチル]−2ピロリジニル]メチ
ル] シクロヘキサンアセトアミド。
3S、3(2S)] −3−[[5−オキソl−メチル
−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトア
ミド; [IR,3S、3(23)] −3’−[[5−オキソ
−1−[2−(フェニルエチル)−2−ピロリジニル]
メチル]シクロヘキサンアセトアミド;[IR,3S、
3(23)] −3−[[5−オキソ1−(フェニルメ
チル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンア
セトアミド:[IR,3S、3(2S)] −3−[[
5−オキソ−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサ
ンアセトアミド; [I S、3R,5(2R)、5S]−3−[(IHイ
ミダゾルー5−イル)メチル]−5−[[5オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シ
クロヘキサンアセトアミド;[I R,3S、5(23
)、5R] −3−[(IHイミダゾルー5−イル)メ
チル−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド:Rac、−3[(IH−イミダゾルー5−イル)メ
チル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトア
ミド; [IR,3S、5(2S)、5S] −3−[(IHイ
ミダゾルー5−イル)メチル] −5−[[5−オキソ
−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル
]シクロヘキサンアセトアミド:[IS、3S、5(2
S)、5S] −3−[(IHイミダゾルー5−イル)
メチル]−5−[[5オキソ−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジニルコメチル] シクロヘキサンアセト
アミド:[IR,3S、5(2S)、5S] −3−[
(IHイミダゾルー5−イル)メチル]−5−[[5オ
キソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メ
チル]シクロヘキサンアセトアミド;[I S、3R
,5(2R) 、5S コ − 3−[[1(フェニ
ルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル)メチル]−
5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド; [JR,3S、5(23)、5R] −3−[[1−(
フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル)メチ
ル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド; Rac、−3([1(フェニルメチル)−1Hイミダゾ
ルー5−イル)メチル] −5−[[5−オキソ−1−
(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シク
ロヘキサンアセトアミド;[IR,3S、5(2S)
、5S コ − :3−[[1(フェニルメチル)−
1H−イミダゾルー5−イル)メチル] −5’ [[
5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニ
ル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド; [IS、3S、5(23)、5S] −3−[[1−(
フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル)メチ
ル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド; [IR,:3S、5(2S) 、5S コ −3−[
[1−(フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イ
ル)メチル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメ
チル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンア
セトアミド; [IS、3R,5(2S)、5S] −3−[(1−メ
チル−IH−イミダゾルー4−イル)メチル]5−[[
5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニ
ル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド; [I S、3R,5(2S)、5S] −3−[(1−
メチル−IH−イミダゾルー5−イル)メチル15−[
[5−オキソ−1−(フェニルメチル)2−ピロリジニ
ル1メチル]シクロヘキサンアセドアミド; [I S、3R,5(2S)、5S] −3−((1−
メチル−IH〜イミダゾルー4−イル)メチル]5−[
[5−オキソ−2−ピロリジニル] メチル1シクロヘ
キサンアセトアミド; [IS、3R,5(2S)、5S] −i [(1−メ
チル−IH−イミダゾルー5−イル)メチル]5−[[
5−オキソ−2−ピロリジニル1メヂル1シクロヘキサ
ンアセトアミド; [I R,3R,5S、5(2S)]−]3−フェニル
5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)2−ピロリ
ジニル] メチル1シクロヘキサンアセトアミド;及び ELS、3R,5(2S)、5S] −3−[(IHイ
ミダゾルー5−イル)メチル]−5−[[5オキソ−1
−[(1−ナフチル)メチル]−2ピロリジニル]メチ
ル] シクロヘキサンアセトアミド。
本発明の式1の化合物は、
a)式
式中、R1及びR2はすでに述べたとおりである、
の化合物またはその活性化された誘導体を式R3R4N
H,但し、R3及びR4はすでに述べたとおりである、
のアミンと反応させるか;b)式 R1′は低級アルキルまたはアリール−低級アルキルで
あり、R6′は低級アルキルまたはアリール−低級アル
キルであり、そしてR3及びR4はすでに述べたとおり
である、の化合物を水素添加するか: C)式■、但し、R1及び/またはR5またはR6はベ
ンジルである、の化合物を脱ベンジル化するか;或いは d)弐丁、但し、R2は(IT(−イミダゾルー5イル
)メチルである、の化合物のイミダゾイル部分の1個の
窒素原子を低級アルキルまたはアリル−低級アルキル基
で置換し;そして e)単一エナンチオマー、そのラセミ体或いはジアステ
レオマーまたはラセミ体の混合物の型において式1の化
合物を単離し;そして f)必要に応じて、式11但し、R2は量体を反応式■
〜xVに示した如くして製造することができ、これを更
に述べる。
H,但し、R3及びR4はすでに述べたとおりである、
のアミンと反応させるか;b)式 R1′は低級アルキルまたはアリール−低級アルキルで
あり、R6′は低級アルキルまたはアリール−低級アル
キルであり、そしてR3及びR4はすでに述べたとおり
である、の化合物を水素添加するか: C)式■、但し、R1及び/またはR5またはR6はベ
ンジルである、の化合物を脱ベンジル化するか;或いは d)弐丁、但し、R2は(IT(−イミダゾルー5イル
)メチルである、の化合物のイミダゾイル部分の1個の
窒素原子を低級アルキルまたはアリル−低級アルキル基
で置換し;そして e)単一エナンチオマー、そのラセミ体或いはジアステ
レオマーまたはラセミ体の混合物の型において式1の化
合物を単離し;そして f)必要に応じて、式11但し、R2は量体を反応式■
〜xVに示した如くして製造することができ、これを更
に述べる。
反応式■
である、の化合物を製薬学的に許容し得る酸付加塩に転
化することによって製造することができる。
化することによって製造することができる。
更に詳細には、式Iの化合物、並びに種々な中(10a
) 反応式Iに示した方法は中間体、(S)−5オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジンアセトアルデヒ
ド(10a)の製造を包含する。
) 反応式Iに示した方法は中間体、(S)−5オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジンアセトアルデヒ
ド(10a)の製造を包含する。
かくして、L−グルタミン酸(3)をベンズアルデヒド
及び水素化ホウ素ナトリウムで還元的にアルキル化し、
N−(1−フェニルメチル)−Lグルタミン酸(4a)
を生成させることができる。
及び水素化ホウ素ナトリウムで還元的にアルキル化し、
N−(1−フェニルメチル)−Lグルタミン酸(4a)
を生成させることができる。
溶液を塩酸でpH3の酸性にし、続いて還流下で加熱し
、次に粗製の生成物をトルエン中にてメタツル及び硫酸
でエステル化し、(S)−5−オキソ−■−(フェニル
メチル)−2−ピロリジンカルボン酸メチルエステル(
5)を生成させる。メタノール及びt−ブタノール中で
水素化ホウ素による(5)の還元で、式(6)に特徴ず
けられるヒドロキシメチル化合物を生成する。(S)−
5(ヒドロキシメチル)−1−(フェニルメチル)2−
ピロリジノン(6)の光学的純度は、モツシャー(Mo
5ber)等[ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリイ(J、Org、Chem、) 34.2543
(1969)]の方法に従って、(S)(−)−α−
メトキシ−α−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸[
(−) −MTPA]から誘導されたエステルの生成に
よって立証される。
、次に粗製の生成物をトルエン中にてメタツル及び硫酸
でエステル化し、(S)−5−オキソ−■−(フェニル
メチル)−2−ピロリジンカルボン酸メチルエステル(
5)を生成させる。メタノール及びt−ブタノール中で
水素化ホウ素による(5)の還元で、式(6)に特徴ず
けられるヒドロキシメチル化合物を生成する。(S)−
5(ヒドロキシメチル)−1−(フェニルメチル)2−
ピロリジノン(6)の光学的純度は、モツシャー(Mo
5ber)等[ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリイ(J、Org、Chem、) 34.2543
(1969)]の方法に従って、(S)(−)−α−
メトキシ−α−(トリフルオロメチル)フェニル酢酸[
(−) −MTPA]から誘導されたエステルの生成に
よって立証される。
(6)の1ヘシレート(7)への転化はp−トルエンス
ルホニルクロライド及び4−ジメチルアミノピリジンで
処理して行われる。トシレート(7)をアセトン中にて
還流下でヨウ化ナトリウムで処理して、アイオダイド(
8)を生成させる。ジリチウムテトラクロロクプレート
で触媒して、(8)をビニルマグネシウムクロライドと
カップリングさせ、プロペニル化合物(9)を誘導し、
このものをメタノール中にて亜硫酸メチルでオゾン化し
、アルデヒド、(S)−5−オキソ−1−(フェニルメ
チル)−2−ピロジンアセトアルデヒド(10a)が得
られる。反応式■に述べた全ての工程を、エナンチオマ
ーまたはラセミ体(10a)を製造したい場合、出発物
質としてDL−グルタミン酸またはD−グルタミン酸を
用いて行うことができる。
ルホニルクロライド及び4−ジメチルアミノピリジンで
処理して行われる。トシレート(7)をアセトン中にて
還流下でヨウ化ナトリウムで処理して、アイオダイド(
8)を生成させる。ジリチウムテトラクロロクプレート
で触媒して、(8)をビニルマグネシウムクロライドと
カップリングさせ、プロペニル化合物(9)を誘導し、
このものをメタノール中にて亜硫酸メチルでオゾン化し
、アルデヒド、(S)−5−オキソ−1−(フェニルメ
チル)−2−ピロジンアセトアルデヒド(10a)が得
られる。反応式■に述べた全ての工程を、エナンチオマ
ーまたはラセミ体(10a)を製造したい場合、出発物
質としてDL−グルタミン酸またはD−グルタミン酸を
用いて行うことができる。
反応式■
(13a)
(13b)
高有極性異性体
低有極性異性体
反応式■に示した方法は(S)−5−オキソ1−(フェ
ニルメチル)−2−ピロリジンアセトアルデヒド(1,
0a)から出発して、中間体、(5SIR) −5−[
(3−工トキン−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1
−イル)メチル11−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジノン(13a)及び(5s、1s)−5−[(3−エ
トキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1イル)メ
チル]−1−(フェニルメチル)−2ピロリジノン(1
3b)の製造を包含する。かくして、アルデヒド、(S
)−5−オキソ−1(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ンアセトアルデヒド(1,0a)をトルエン中にて90
°Cでトリフェニルホスホラニリデン酢酸エチルで処理
し、不飽和エステル(11)を生成させる。(11)を
アセj−酢酸エチル及びナトリウムユチレートで処理し
、次に加水分解及び脱カルボキシル化によってジケトン
(12)か得られる。この化合物は、アルデヒド(10
a)の単一エナンチオマーから誘導した場合、単一エナ
ンチオマーとして存在する。ジケトン(12)をエタノ
ール及びp−トルエンスルホン酸で処理し、2種のジア
ステレオマ性ケトエノールエーテル(1,3a)及ヒ(
13b)の等混合物を生じ、このものはクロマトグラフ
ィーによって分離可能である。高有極性異性体(13a
)は5S、]−R立体化学を有することを示し、低有極
性異性体(1,3b)は5S、Is立体化学を有するこ
とを示した。この指示は、ラセミ物質から出発して反応
式■及び■に示した同一方法によってラセミ体として製
造した低有極性ジアステレオマー(5S*、IS*)の
X−線結晶構造と比較して行った。反応式■及び■(以
下)に述へた方法に対しては、それぞれ式I−Aの化合
物または式1−Bの化合物を製造するために、ジアステ
レオマーの1つ(13aまたは13b)のみを用いた。
ニルメチル)−2−ピロリジンアセトアルデヒド(1,
0a)から出発して、中間体、(5SIR) −5−[
(3−工トキン−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1
−イル)メチル11−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジノン(13a)及び(5s、1s)−5−[(3−エ
トキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1イル)メ
チル]−1−(フェニルメチル)−2ピロリジノン(1
3b)の製造を包含する。かくして、アルデヒド、(S
)−5−オキソ−1(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ンアセトアルデヒド(1,0a)をトルエン中にて90
°Cでトリフェニルホスホラニリデン酢酸エチルで処理
し、不飽和エステル(11)を生成させる。(11)を
アセj−酢酸エチル及びナトリウムユチレートで処理し
、次に加水分解及び脱カルボキシル化によってジケトン
(12)か得られる。この化合物は、アルデヒド(10
a)の単一エナンチオマーから誘導した場合、単一エナ
ンチオマーとして存在する。ジケトン(12)をエタノ
ール及びp−トルエンスルホン酸で処理し、2種のジア
ステレオマ性ケトエノールエーテル(1,3a)及ヒ(
13b)の等混合物を生じ、このものはクロマトグラフ
ィーによって分離可能である。高有極性異性体(13a
)は5S、]−R立体化学を有することを示し、低有極
性異性体(1,3b)は5S、Is立体化学を有するこ
とを示した。この指示は、ラセミ物質から出発して反応
式■及び■に示した同一方法によってラセミ体として製
造した低有極性ジアステレオマー(5S*、IS*)の
X−線結晶構造と比較して行った。反応式■及び■(以
下)に述へた方法に対しては、それぞれ式I−Aの化合
物または式1−Bの化合物を製造するために、ジアステ
レオマーの1つ(13aまたは13b)のみを用いた。
しかしながら、必要に応じて、(13a)または(13
b)の同等でない量を製造する目的のために、異性体(
13a)または(13b)のいずれかをジケトン(12
)にリザイクルさせることができる。式(12)のジケ
トンを同:31 様の方法で他のアルキルまたはアラルキルヒドロキシ化
合物と反応させ、式13a−1及び13b1(7)ケト
エノールエーテルを生成させることができる。
b)の同等でない量を製造する目的のために、異性体(
13a)または(13b)のいずれかをジケトン(12
)にリザイクルさせることができる。式(12)のジケ
トンを同:31 様の方法で他のアルキルまたはアラルキルヒドロキシ化
合物と反応させ、式13a−1及び13b1(7)ケト
エノールエーテルを生成させることができる。
3a−1
3b−1
式中、R1′は低級アルキルまたはアリール低級アルキ
ルである。
ルである。
反
応
式
1.0)1−
式中、
R3及びR4はすでに述べたとおりである。
反応式■に示した方法は(55,1,R)−5[(3−
工トギシー5−オキソー3−シクロヘキセン−1−イル
)メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノ
ン(13a)から出発して、式I−A−1及びI−A−
2の化合物の製造を包含する。かくして、ケトエノール
エーテル(13a)をメチルリチウムと反応させ、次い
で酸加水分解し、エノン(14a)が得られる。(14
)をトリメチルシリル酢酸エチル及びリチウムジイソプ
ロピルアミドで処理し、ジノエイツクエステル(15)
を生成させる。(15)を例えば炭素に担持させたパラ
ジウム上で水素添加し、主に[[I R,3R,’5
S、5(2S)]−]3−メチル5−[5−オキソ−1
−(フェニルメチル)2−ピロリジニル]メチル]シク
ロヘキサン酢酸エチルエステルとして飽和エステル(1
6)を生成させる。他のジアステレオマーの少量(合計
的15%)がNMRによって粗製の生成物に検出された
。エチルエステル(16)のケン化及びクロロギ酸エチ
ルによる活性エステルの生成、次にアンモニア、式R3
R* N Hの第一または第二アミンで処理して、対応
する式I−A−1の5−(1フエニルメチル)−置換さ
れたシクロヘキサンアセトアミド化合物を生成させる。
工トギシー5−オキソー3−シクロヘキセン−1−イル
)メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノ
ン(13a)から出発して、式I−A−1及びI−A−
2の化合物の製造を包含する。かくして、ケトエノール
エーテル(13a)をメチルリチウムと反応させ、次い
で酸加水分解し、エノン(14a)が得られる。(14
)をトリメチルシリル酢酸エチル及びリチウムジイソプ
ロピルアミドで処理し、ジノエイツクエステル(15)
を生成させる。(15)を例えば炭素に担持させたパラ
ジウム上で水素添加し、主に[[I R,3R,’5
S、5(2S)]−]3−メチル5−[5−オキソ−1
−(フェニルメチル)2−ピロリジニル]メチル]シク
ロヘキサン酢酸エチルエステルとして飽和エステル(1
6)を生成させる。他のジアステレオマーの少量(合計
的15%)がNMRによって粗製の生成物に検出された
。エチルエステル(16)のケン化及びクロロギ酸エチ
ルによる活性エステルの生成、次にアンモニア、式R3
R* N Hの第一または第二アミンで処理して、対応
する式I−A−1の5−(1フエニルメチル)−置換さ
れたシクロヘキサンアセトアミド化合物を生成させる。
例えば液体アンモニア中にてナトリウムで還元してI−
A−1を脱ベンジル化し、対応する置換されたシクロヘ
キサンアセトアミド化合物I−A−2が得られる。
A−1を脱ベンジル化し、対応する置換されたシクロヘ
キサンアセトアミド化合物I−A−2が得られる。
反応式■
Et
(18a)
反応式■は[55,(Is)コー5−E(3エトキシ−
5−オキソ−3−シクロヘキセン−1イル)メチル]
−i (フェニルメチル)−2ピロリジノン(13b)
から出発して、中間体、[I S、5S、5(2S)]
−]3−オキンー5−[5−オキソ−1−(フェニル
メチル〕−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサン
酢酸エチルエステル(18a)の製造を包含する。かく
して、式(13b)のケトエノールエーテルをリチオエ
チルトリメチルシリルアセテート(トリメチルシリル酢
酸エチル及びリチウムジイソプロピルアミドから製造し
たもの)で処理し、次に水性酸で加水分解し、エノンエ
ステル(17)が得られる。
5−オキソ−3−シクロヘキセン−1イル)メチル]
−i (フェニルメチル)−2ピロリジノン(13b)
から出発して、中間体、[I S、5S、5(2S)]
−]3−オキンー5−[5−オキソ−1−(フェニル
メチル〕−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサン
酢酸エチルエステル(18a)の製造を包含する。かく
して、式(13b)のケトエノールエーテルをリチオエ
チルトリメチルシリルアセテート(トリメチルシリル酢
酸エチル及びリチウムジイソプロピルアミドから製造し
たもの)で処理し、次に水性酸で加水分解し、エノンエ
ステル(17)が得られる。
(17)を例えば炭素に担持させたパラジウム上で水素
添加し、オキソピロリジニルメチル鎖に対して酢酸エス
テル鎖が主にンスを有する飽和ケトエステル(18a)
を生成する。式(13b)の化合物をL−グルタミン酸
から誘導した場合、式(18a)の化合物はS 、S
、S−立体配置を有する。
添加し、オキソピロリジニルメチル鎖に対して酢酸エス
テル鎖が主にンスを有する飽和ケトエステル(18a)
を生成する。式(13b)の化合物をL−グルタミン酸
から誘導した場合、式(18a)の化合物はS 、S
、S−立体配置を有する。
■
B
式中、
R3及びR1はすでに述べたとおりである。
式11但し、R2は
R6
であり、モしてR5及びR6はすでに述へたとおりであ
る、の化合物の製造において重要な中間体は式 在し、反応式■の方法と同様にして製造することができ
る。更に詳細には、式I−Bの化合物を製造する際に有
用なものとして、式I>Bの中間体を述べる。
る、の化合物の製造において重要な中間体は式 在し、反応式■の方法と同様にして製造することができ
る。更に詳細には、式I−Bの化合物を製造する際に有
用なものとして、式I>Bの中間体を述べる。
反応式■に示した方法は[I S、5S、5(2S)1
3−オキソ−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジニルコメチル] シクロヘキサン酢
酸エチルエステル(18a、)及び[2−[(フェニル
メチル)アミノコエチニル1ホスホン酸ジエヂルエステ
ル(19a)から出発して式 式中、R1′は低級アルキルまたはアリール低級アルキ
ルであり、R6′は低級アルキルまたはアリール−低級
アルキルであり、そしてR3及びR6はすでに述べたと
おりである、の化合物である。式■の化合物は単一エナ
ンチオマー、ラセミ体またはジアステレオマーの混合物
、並びにE及びZ異性体またはその混合物として存式中
、R3及びR3はすでに述べたとおりである。
3−オキソ−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジニルコメチル] シクロヘキサン酢
酸エチルエステル(18a、)及び[2−[(フェニル
メチル)アミノコエチニル1ホスホン酸ジエヂルエステ
ル(19a)から出発して式 式中、R1′は低級アルキルまたはアリール低級アルキ
ルであり、R6′は低級アルキルまたはアリール−低級
アルキルであり、そしてR3及びR6はすでに述べたと
おりである、の化合物である。式■の化合物は単一エナ
ンチオマー、ラセミ体またはジアステレオマーの混合物
、並びにE及びZ異性体またはその混合物として存式中
、R3及びR3はすでに述べたとおりである。
の中間体の製造を包含する。更に詳細には、反応式■に
おいて、ケトエステル(18a)から出発して側鎖をつ
くるために、直接アルドール縮合[ナガタ(W、Mag
ata)等、オーガニック・シンセシス(Organi
c 5yntheses) 、53.44(1973)
]を用いる。かくして、ジエチルホスホノアセトアルデ
ヒドをベンジルアミンとの反応によってエナミノホスホ
不一ト(19a)に転化する。
おいて、ケトエステル(18a)から出発して側鎖をつ
くるために、直接アルドール縮合[ナガタ(W、Mag
ata)等、オーガニック・シンセシス(Organi
c 5yntheses) 、53.44(1973)
]を用いる。かくして、ジエチルホスホノアセトアルデ
ヒドをベンジルアミンとの反応によってエナミノホスホ
不一ト(19a)に転化する。
般に過剰量で用いられるホスホネ−1(19a)をリチ
ウムジイソプロピルアミドでそのアニオンに転化、テ1
〜ラヒドロフラン中にて一40°C乃至0°Cでケトエ
ステル(18a)と縮合させ、対応する不飽和アルデヒ
ド(21)と共に不飽和イミン(20)か得られ、この
ものは和製の生成物の単11びクロマトグラフィーにか
ける間に生成する。ファン・ロイセン(van Leu
sen)等[J、Org。
ウムジイソプロピルアミドでそのアニオンに転化、テ1
〜ラヒドロフラン中にて一40°C乃至0°Cでケトエ
ステル(18a)と縮合させ、対応する不飽和アルデヒ
ド(21)と共に不飽和イミン(20)か得られ、この
ものは和製の生成物の単11びクロマトグラフィーにか
ける間に生成する。ファン・ロイセン(van Leu
sen)等[J、Org。
Chem、、 42.1153−1159 (1977
)]の一般的な方法に従い、イミン−アルデヒド混合物
をメタノール中にて室温でベンジルアミン及びp−トル
エンスルホニルメチルイソシアニドで処理し、不飽和イ
ミダゾールエステル(22)が得られる。エステル基の
エタノール性水酸化カリウムによるケン化、混成カルボ
ネ−1・を介してアンモニア、式R3R、N Hの第一
または第二アミンで、約0°C乃至室温の温度範囲で、
或いはクロロホルム中にて約O0Cでアンモニアでアミ
ン化し、対応する式■−Bの不飽和イミダゾールアミド
を生成させる。
)]の一般的な方法に従い、イミン−アルデヒド混合物
をメタノール中にて室温でベンジルアミン及びp−トル
エンスルホニルメチルイソシアニドで処理し、不飽和イ
ミダゾールエステル(22)が得られる。エステル基の
エタノール性水酸化カリウムによるケン化、混成カルボ
ネ−1・を介してアンモニア、式R3R、N Hの第一
または第二アミンで、約0°C乃至室温の温度範囲で、
或いはクロロホルム中にて約O0Cでアンモニアでアミ
ン化し、対応する式■−Bの不飽和イミダゾールアミド
を生成させる。
■
B−3
R4
式中、
R5及びR1はすでに述べたとおりである。
反応式■に示した方法は上記の如き式
の化合物から出発して、式I−B−]、l−B2及びI
−B−3の化合物の製造を包含する。更に詳細には、反
応式■において、式11−Hの不飽和イミダゾールアミ
ドを各段階で還元して二重結合を飽和し、それぞれイミ
ダゾール及びピロリジノン環における1−(フェニルメ
チル)基を除去する。例えば式IT−Bの化合物をエタ
ノール中にて炭素に担持させた10%パラジウム上で室
温及び1気圧で水素添加し、対応する式1−B−1のイ
ミダゾールアミドが得られる。式■−B−1のイミダゾ
ールアミドを例えばメタノール中にて炭素に担持させた
10%パラジウム上で50°C及び10気圧下で水素添
加し、イミダゾール環から1(フェニルメチル)基を除
去し、対応する式■B−2の化合物が得られる。式I−
B−2の化合物のオキソピロリジニルメチル基から1−
(フェニルメチル)基を除去するために、例えばテトラ
ヒドロフラン中の還流液体アンモニア中のす1〜リウム
金属による還元を用い、対応する式l−B5の化合物を
製造する。化合物m−B、(18b)及び最初にL−グ
ルタミン酸から誘導する場合、式I−B−1、I−B−
2及びI−B−3の化合物が主に単一エナンチオマーと
して生成する。
−B−3の化合物の製造を包含する。更に詳細には、反
応式■において、式11−Hの不飽和イミダゾールアミ
ドを各段階で還元して二重結合を飽和し、それぞれイミ
ダゾール及びピロリジノン環における1−(フェニルメ
チル)基を除去する。例えば式IT−Bの化合物をエタ
ノール中にて炭素に担持させた10%パラジウム上で室
温及び1気圧で水素添加し、対応する式1−B−1のイ
ミダゾールアミドが得られる。式■−B−1のイミダゾ
ールアミドを例えばメタノール中にて炭素に担持させた
10%パラジウム上で50°C及び10気圧下で水素添
加し、イミダゾール環から1(フェニルメチル)基を除
去し、対応する式■B−2の化合物が得られる。式I−
B−2の化合物のオキソピロリジニルメチル基から1−
(フェニルメチル)基を除去するために、例えばテトラ
ヒドロフラン中の還流液体アンモニア中のす1〜リウム
金属による還元を用い、対応する式l−B5の化合物を
製造する。化合物m−B、(18b)及び最初にL−グ
ルタミン酸から誘導する場合、式I−B−1、I−B−
2及びI−B−3の化合物が主に単一エナンチオマーと
して生成する。
また、望ましいならば、ラセミ性出発物質、例えばり、
L−グルタミン酸並びにジアステレオマ性ケトニーノー
ルエーテルラセミ−13a及びラセミ−1,3bの使用
により、ジアステレオマーのラセミ混合物として式■の
生成物が誘導される。
L−グルタミン酸並びにジアステレオマ性ケトニーノー
ルエーテルラセミ−13a及びラセミ−1,3bの使用
により、ジアステレオマーのラセミ混合物として式■の
生成物が誘導される。
反
応
式
(23b)
CH3
(23c)
(14b)
CH。
述べたとおりである。
反応式■に示した方法は(5S、]、R)−5[(3−
メチル−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)
メチル]−1−(フェニルメチル)2−ピロリジノンか
ら出発して、式■−A−3の化合物の製造を包含する。
メチル−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)
メチル]−1−(フェニルメチル)2−ピロリジノンか
ら出発して、式■−A−3の化合物の製造を包含する。
更に詳細には、反応式■において、エノン(14a)を
エチレングリコール及びp−トルエンスルホン酸触媒を
用いて、対応するケタール(23a)に転化する。N−
1(フェニルメチル)ケタール(23a)のナトリウム
−アンモニウム還元はl−(フェニルメチル)基を除去
し、ラクタムケタール(23b)を生成する。(23b
)を塩基、例えば水素化ナトリウムで処理し、アルキル
化剤、例えばR,Xで処理し、対応する式(23c)の
化合物が得られる。この反応に用いるアルキル化剤はハ
ロゲン化アルキル、例えばヨウ化メチル、臭化エチル、
臭化ブチル等:或いはハロゲン化アリール−低級アルキ
ル、例えば臭化2−(フェニルエチル)、塩化4−、’
l−キシー1−(フェニルメチル)、臭化1−(フェニ
ルメチル)等であることかできる。
エチレングリコール及びp−トルエンスルホン酸触媒を
用いて、対応するケタール(23a)に転化する。N−
1(フェニルメチル)ケタール(23a)のナトリウム
−アンモニウム還元はl−(フェニルメチル)基を除去
し、ラクタムケタール(23b)を生成する。(23b
)を塩基、例えば水素化ナトリウムで処理し、アルキル
化剤、例えばR,Xで処理し、対応する式(23c)の
化合物が得られる。この反応に用いるアルキル化剤はハ
ロゲン化アルキル、例えばヨウ化メチル、臭化エチル、
臭化ブチル等:或いはハロゲン化アリール−低級アルキ
ル、例えば臭化2−(フェニルエチル)、塩化4−、’
l−キシー1−(フェニルメチル)、臭化1−(フェニ
ルメチル)等であることかできる。
(23c)におけるケタール基の加水分解は水性アセ[
−ン中の酸性イオン交換樹脂、例えはアンバリスト−1
5(Amberlyst−15)と共に撹拌して行い、
対応する置換されたエノン(14b)を生成させる。式
(14b)の化合物の対応する式IA−3の化合物への
転化は反応式■にすでに述べた如くして行われる。
−ン中の酸性イオン交換樹脂、例えはアンバリスト−1
5(Amberlyst−15)と共に撹拌して行い、
対応する置換されたエノン(14b)を生成させる。式
(14b)の化合物の対応する式IA−3の化合物への
転化は反応式■にすでに述べた如くして行われる。
反応式■
(13a)
(14c)
■
■
R真
(14d)
反応式■に示した方法は(5S、IR)−5[(3−エ
トキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)
メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン
(13a)から出発して、式I−A−4の化合物の製造
を包含する。更に詳細には、反応式■において、ケトエ
ノールエーテル(13a)をアルキルリチウム試薬、例
えばメチルリチウム、フェニルリチウム、n−ブチルリ
チウム等、またはグリニアール試薬、例えはメチルマグ
ネシウムブロマイド等で処理し、次に水性酸で加水分解
し、式(14c)のエノンが得られる。反応式■及び■
に示した方法に従い、14aの代りに14cから出発し
て、この方法により式I−A−4の化合物が誘導される
。
トキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)
メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン
(13a)から出発して、式I−A−4の化合物の製造
を包含する。更に詳細には、反応式■において、ケトエ
ノールエーテル(13a)をアルキルリチウム試薬、例
えばメチルリチウム、フェニルリチウム、n−ブチルリ
チウム等、またはグリニアール試薬、例えはメチルマグ
ネシウムブロマイド等で処理し、次に水性酸で加水分解
し、式(14c)のエノンが得られる。反応式■及び■
に示した方法に従い、14aの代りに14cから出発し
て、この方法により式I−A−4の化合物が誘導される
。
式中、RいR3及びR3はすでに述べたとおってあり、
そしてR2″はアルキル、アリルまたはアリール−低級
アルキルである。
そしてR2″はアルキル、アリルまたはアリール−低級
アルキルである。
反応式■に示した方法はL−グルタミン酸(3)から出
発して、式I−A−5及びI−B−4の化合物の製造を
包含する。更に詳細には、反応式■において、L−グル
タミン酸をアルデヒドで還元的にアルキル化し、式(4
b)のN−置換されたグルタミン酸誘導体を得ることか
できる。この還元的アルキル化を標準条件下で行うこと
ができる[例えばクイツト(P、Quitt)等、ヘル
ベテイ力・ヒミカ・アクタ(l(elv、chim、A
cta) 、46.327〜333 (1963)参照
]。残りの転化は反応式■、■、■及び■〜■に述べた
如くして行われる。
発して、式I−A−5及びI−B−4の化合物の製造を
包含する。更に詳細には、反応式■において、L−グル
タミン酸をアルデヒドで還元的にアルキル化し、式(4
b)のN−置換されたグルタミン酸誘導体を得ることか
できる。この還元的アルキル化を標準条件下で行うこと
ができる[例えばクイツト(P、Quitt)等、ヘル
ベテイ力・ヒミカ・アクタ(l(elv、chim、A
cta) 、46.327〜333 (1963)参照
]。残りの転化は反応式■、■、■及び■〜■に述べた
如くして行われる。
式中、
R5′はアルキルまたはアリ
ル
低級アルキルであり、
そしてR1
R6を及びR4はすでに述べたとおりである。
反応式Xに示した方法は式I−B−4の化合物から出発
して、式I−B−5及びT−B−7の化合物の製造並び
に更に式I−B−5の化合物の式1−B−6の化合物へ
の転化を包含する。更に詳細には、反応式Xにおいて、
式I−B−4のイミダゾールアミドを塩基、例えば4−
ジメチル−アミノピリジン等の存在下において、室温乃
至約50°Cの温度範囲lこて塩化アセチルで処理し、
対応する式24a及び24bのアセテートの混合物が得
られる。次にこの混合物をアルキルまたはアリル−低級
アルキルハライド、例えばヨウ化メチルで処理し、次に
アルカリ加水分解によって、対応する化合物I ’−B
−5またはI−El−7が得られる。必要に応して、
式l−13−5及び■−B7の化合物の混合物を例えば
クロマトグラフィによって分離し、個の化合物を得るか
、或いはアセテート24a及び24bをハライドで処理
する前に分離し、式I−B−5及びI−B−7の個々の
化合物を得ることができる。R3′がベンジルである式
I−B−5の化合物の転化を液体アンモニア中にてナト
リウムで行い、 式■ 6の化 金物を得ることができる。
して、式I−B−5及びT−B−7の化合物の製造並び
に更に式I−B−5の化合物の式1−B−6の化合物へ
の転化を包含する。更に詳細には、反応式Xにおいて、
式I−B−4のイミダゾールアミドを塩基、例えば4−
ジメチル−アミノピリジン等の存在下において、室温乃
至約50°Cの温度範囲lこて塩化アセチルで処理し、
対応する式24a及び24bのアセテートの混合物が得
られる。次にこの混合物をアルキルまたはアリル−低級
アルキルハライド、例えばヨウ化メチルで処理し、次に
アルカリ加水分解によって、対応する化合物I ’−B
−5またはI−El−7が得られる。必要に応して、
式l−13−5及び■−B7の化合物の混合物を例えば
クロマトグラフィによって分離し、個の化合物を得るか
、或いはアセテート24a及び24bをハライドで処理
する前に分離し、式I−B−5及びI−B−7の個々の
化合物を得ることができる。R3′がベンジルである式
I−B−5の化合物の転化を液体アンモニア中にてナト
リウムで行い、 式■ 6の化 金物を得ることができる。
反応式
式中、R1′、R3、
R4及びR6′はすでに述
べたとおりである。
反応式℃に示した方法はジエチルホスボッアセトアルデ
ヒド及び第一アミンから出発して、弐■B−7の化合物
の製造を包含する。更に詳細には、反応式■において、
ジエチルホスボッアセトアルデヒドを弐Hx N R
6’の第一アミンと縮合させ、式(19b)のホスホノ
エナミンを生成させる。これらの化合物の多くのものは
互変型で平衡して存在することがわかり、この場合、エ
ナミン型よりもむしろ、イミン型が主である[例えばW
、NagaLa等、Organic 5ynthese
s、 53.44 (1973)参照1゜これらの置
換されたホスホノエナミン/ホスホノイミンは、反応式
Vに述べた如く、トシルメチルイソシアニドの付加に用
いる塩基としてベンジルアミンの代りに、式R,’ N
l2のアミンを用いて、式(18a、 )のケトエステ
ルによって直接アルドール縮合する。生成物を反応式■
及び■に示した如くして対応する式l−87の化合物に
転化する。
ヒド及び第一アミンから出発して、弐■B−7の化合物
の製造を包含する。更に詳細には、反応式■において、
ジエチルホスボッアセトアルデヒドを弐Hx N R
6’の第一アミンと縮合させ、式(19b)のホスホノ
エナミンを生成させる。これらの化合物の多くのものは
互変型で平衡して存在することがわかり、この場合、エ
ナミン型よりもむしろ、イミン型が主である[例えばW
、NagaLa等、Organic 5ynthese
s、 53.44 (1973)参照1゜これらの置
換されたホスホノエナミン/ホスホノイミンは、反応式
Vに述べた如く、トシルメチルイソシアニドの付加に用
いる塩基としてベンジルアミンの代りに、式R,’ N
l2のアミンを用いて、式(18a、 )のケトエステ
ルによって直接アルドール縮合する。生成物を反応式■
及び■に示した如くして対応する式l−87の化合物に
転化する。
(13a)
(14e)
(14f)
式中、R
R3及びR6はすでに述べたとお
っである。
反応式■に示した方法は(5S、IR)−5[(3−エ
トキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)
メチル] −1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノ
ン(13a)から出発して、式I−A−6の化合物の製
造を包含する。更に詳細には、反応式■において、ケト
エノールエーテル13aの選択的水素化物、例えば水素
化ホウ素ナトリウム−塩化セリウム[ルーチエ(Luc
he 、 J 。
トキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)
メチル] −1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノ
ン(13a)から出発して、式I−A−6の化合物の製
造を包含する。更に詳細には、反応式■において、ケト
エノールエーテル13aの選択的水素化物、例えば水素
化ホウ素ナトリウム−塩化セリウム[ルーチエ(Luc
he 、 J 。
L、);ロトリゲスーハーン(Rodriguez−H
ahn、L、)Hクラツベ(Crabbe 、 P −
)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ・ケミカ
ル・コムニケーションズ(J、9ham、Soc、Ch
em、Commun、、 l 978.601〜602
]で水禽化物還元、次に酸加水分解によって式14 e
のエノンを生成する。更に14eの対応する式I−A−
6の化合物への転換は反応式■及び■に述べである。
ahn、L、)Hクラツベ(Crabbe 、 P −
)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ・ケミカ
ル・コムニケーションズ(J、9ham、Soc、Ch
em、Commun、、 l 978.601〜602
]で水禽化物還元、次に酸加水分解によって式14 e
のエノンを生成する。更に14eの対応する式I−A−
6の化合物への転換は反応式■及び■に述べである。
反応式X■に示した方法は式I−A−4の化合物の製造
の別法を包含する。更に詳細には、反応式X■において
、式18bの化合物を不活性有機溶媒、例えばトルエン
またはテトラヒドロフラン中にて、アリール−メチルハ
ライド、例えばベンジルトリフェニルホスホランから誘
導したビツテイヒ(Wittig)試薬、或いはピータ
ーラン(Peterson)試薬と約25°C乃至還流
温度(ピッティ試薬に対して)または約−70℃乃至は
ぼ室温(ビターラン試薬に対して)で反応させ、式I[
[−Alのアルキリデン化合物が得られる。この生成物
はE−及びZ−異性体の混合物として生成する。
の別法を包含する。更に詳細には、反応式X■において
、式18bの化合物を不活性有機溶媒、例えばトルエン
またはテトラヒドロフラン中にて、アリール−メチルハ
ライド、例えばベンジルトリフェニルホスホランから誘
導したビツテイヒ(Wittig)試薬、或いはピータ
ーラン(Peterson)試薬と約25°C乃至還流
温度(ピッティ試薬に対して)または約−70℃乃至は
ぼ室温(ビターラン試薬に対して)で反応させ、式I[
[−Alのアルキリデン化合物が得られる。この生成物
はE−及びZ−異性体の混合物として生成する。
弐m−A−1のエステル化合物を、(22)の■Bへの
転化に対して反応式■に述べた方法に従って、アミド化
合物111−A−2に転化し、この転化はエチルエステ
ルIII−A−1のケン化及び、例えばクロロギ酸エチ
ルによる活性エステルの生成、次いでアンモニア、式R
3R、N Hの第一または第二アミンで処理して、対応
する式111−A−2の化合物を生成させる。例えば酢
酸エチル中にて炭素に担持させた10%パラジウム上で
触媒的水素添加によって、式111−A−2の化合物に
おける二重結合を還元し、式I−A−4の化合物が得ら
れる。
転化に対して反応式■に述べた方法に従って、アミド化
合物111−A−2に転化し、この転化はエチルエステ
ルIII−A−1のケン化及び、例えばクロロギ酸エチ
ルによる活性エステルの生成、次いでアンモニア、式R
3R、N Hの第一または第二アミンで処理して、対応
する式111−A−2の化合物を生成させる。例えば酢
酸エチル中にて炭素に担持させた10%パラジウム上で
触媒的水素添加によって、式111−A−2の化合物に
おける二重結合を還元し、式I−A−4の化合物が得ら
れる。
反応式XIV
R7
R+ A
R。
−A
式中、R1、R2、R3及びR4はすでに述べたとおり
である。
である。
反応式XIVは式I−Aの化合物の製造に対する船釣な
方法を示している。反応式XIVにおいて、式Aの化合
物またはその活性化された誘導体(例えばアシルハライ
ド、混成無水物または活性エステル)を式R3R、N
R1但し、R3及びR6はすでに述べたとおりである、
のアミンで処理し、式IAの化合物を生成させる。この
反応は反応式■において述べ且つ例示しである。
方法を示している。反応式XIVにおいて、式Aの化合
物またはその活性化された誘導体(例えばアシルハライ
ド、混成無水物または活性エステル)を式R3R、N
R1但し、R3及びR6はすでに述べたとおりである、
のアミンで処理し、式IAの化合物を生成させる。この
反応は反応式■において述べ且つ例示しである。
■
R1′
■
式中、R,、R3、R4、R6′及びR%はすでに述べ
た通りであり、そしてZはアリR6/ 反応式XVは式1、更に、式C,D、E、F。
た通りであり、そしてZはアリR6/ 反応式XVは式1、更に、式C,D、E、F。
G、H及びJに特徴ずけられる化合物の製造の船釣な方
法を示している。この方法において、弐Bの不飽和化合
物をまず、例えば室温にてパラジウム触媒上で、水素圧
1気圧で触媒的に水素添加し、弐Cの飽和化合物を生成
させる。式Cの化合物におけるZがアリール基である場
合、式りの化合物は、置換基R1’の除去によって、基
がベンジルである場合、例えば液体アンモニア中にてナ
トリウムで還元することによって製造することが場合、
式Eの化合物は基R6/の除去によって製造することが
でき、例えばR6′がベンジルである場合、該基を、弐
Bの化合物の水素添力Hに用いたよりも高い温度及び圧
力下にてパラジウム触媒上で触媒的水素添加によって除
去することができる。別法として、R6′がアルキル基
であり、そしてR□′がベンジル基である場合、例えば
液体アンモニア中のナトリウムによる式Cの化合物の還
元により弐Fの化合物が得られる。弐Gの化合物は式E
の化合物から、R1′がベンジルである場合、例えば液
体アンモニア中のナトリウムで還元して製造することが
できる。加えて、式Hの化合物は弐Eの化合物のイミダ
ゾール環のアルキル化によって製造することができる。
法を示している。この方法において、弐Bの不飽和化合
物をまず、例えば室温にてパラジウム触媒上で、水素圧
1気圧で触媒的に水素添加し、弐Cの飽和化合物を生成
させる。式Cの化合物におけるZがアリール基である場
合、式りの化合物は、置換基R1’の除去によって、基
がベンジルである場合、例えば液体アンモニア中にてナ
トリウムで還元することによって製造することが場合、
式Eの化合物は基R6/の除去によって製造することが
でき、例えばR6′がベンジルである場合、該基を、弐
Bの化合物の水素添力Hに用いたよりも高い温度及び圧
力下にてパラジウム触媒上で触媒的水素添加によって除
去することができる。別法として、R6′がアルキル基
であり、そしてR□′がベンジル基である場合、例えば
液体アンモニア中のナトリウムによる式Cの化合物の還
元により弐Fの化合物が得られる。弐Gの化合物は式E
の化合物から、R1′がベンジルである場合、例えば液
体アンモニア中のナトリウムで還元して製造することが
できる。加えて、式Hの化合物は弐Eの化合物のイミダ
ゾール環のアルキル化によって製造することができる。
式Jの化合物は式Hの化合物から、R1′基の除去によ
って、例えばR1’がベンジル基である場合、式Hの化
合物を例えば液体アンモニア中のナトリウムで還元して
製造することができる。反応式XVに述べた反応及び方
法は更に反応式■、■、■、X1■及び■に述べ且つ例
示されており、そして本発明の一面を構成するものであ
る。
って、例えばR1’がベンジル基である場合、式Hの化
合物を例えば液体アンモニア中のナトリウムで還元して
製造することができる。反応式XVに述べた反応及び方
法は更に反応式■、■、■、X1■及び■に述べ且つ例
示されており、そして本発明の一面を構成するものであ
る。
好ましくは、しかし、必要ではないが、反応式1−XV
において製造したあらゆる中間体を、次の反応工程に用
いる前に、公知の方法、例えば沈殿、結晶化、クロマト
グラフィー等を利用して単離することができる。式■の
目的生成物を同様な公知の方法によって単離す。
において製造したあらゆる中間体を、次の反応工程に用
いる前に、公知の方法、例えば沈殿、結晶化、クロマト
グラフィー等を利用して単離することができる。式■の
目的生成物を同様な公知の方法によって単離す。
式Iの化合物は4つの不斉中心(R2がHである場合、
3つ)をもつために、理論的に24−16個の可能な異
性体がある。本明細書に述べた方法は、出発物質がL−
グルタミン酸、D−グルタミン酸またはDL−グルタミ
ン酸であるかによって、単一エナンチオマー、ジアステ
レオマーまたはそのラセミ体を製造し得る。同様に、本
明細書に述べた方法は、他のジアステレオマーを製造す
るように、種々な不斉中心間の関係を調節することがで
きる。加えて、少ないジアステレオマーを工程において
製造し、その際、多い方のジアステレオマーを分離し、
そして次の工程に用いることができる。一般に、ジアス
テレオマーはその物理特性が異なり、ジアステレオマー
の混合物を例えばクロマトグラフィーまたは結晶化によ
って分離=66 することができる。本明細書に述べた如き式■は全ての
かかる異性体型を包含する。
3つ)をもつために、理論的に24−16個の可能な異
性体がある。本明細書に述べた方法は、出発物質がL−
グルタミン酸、D−グルタミン酸またはDL−グルタミ
ン酸であるかによって、単一エナンチオマー、ジアステ
レオマーまたはそのラセミ体を製造し得る。同様に、本
明細書に述べた方法は、他のジアステレオマーを製造す
るように、種々な不斉中心間の関係を調節することがで
きる。加えて、少ないジアステレオマーを工程において
製造し、その際、多い方のジアステレオマーを分離し、
そして次の工程に用いることができる。一般に、ジアス
テレオマーはその物理特性が異なり、ジアステレオマー
の混合物を例えばクロマトグラフィーまたは結晶化によ
って分離=66 することができる。本明細書に述べた如き式■は全ての
かかる異性体型を包含する。
反応式I−XVに述べた方法に用いた種々な中間体を次
の式によって更に特徴ずけることができ、そしてまた、
本発明の一部を構成するものである: 及び式 の化合物及び式 R。
の式によって更に特徴ずけることができ、そしてまた、
本発明の一部を構成するものである: 及び式 の化合物及び式 R。
の化合物及びその活性化された誘導体、並びに式18b
のオキン化合物 R1′ 式Iの化合物は、そのエナンチオマー、ジアステレオマ
ー及びラセミ体も含めて、R2がである場合、酸付加塩
を形成し、またかかる塩も本発明の範囲内である。かく
して、式■の化合物は、そのエナンチオマー、ジアステ
レオマー及びラセミ体も含めて、例えば製薬学的に許容
し得る有機酸及び無機酸の双方、例えば酢酸、コハク酸
、ギ酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、
塩酸、硝酸、リン酸、硫酸等によって製薬学的に許容し
得る酸付加塩を形成する。
のオキン化合物 R1′ 式Iの化合物は、そのエナンチオマー、ジアステレオマ
ー及びラセミ体も含めて、R2がである場合、酸付加塩
を形成し、またかかる塩も本発明の範囲内である。かく
して、式■の化合物は、そのエナンチオマー、ジアステ
レオマー及びラセミ体も含めて、例えば製薬学的に許容
し得る有機酸及び無機酸の双方、例えば酢酸、コハク酸
、ギ酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、
塩酸、硝酸、リン酸、硫酸等によって製薬学的に許容し
得る酸付加塩を形成する。
弐■の化合物は中枢神経系に対する活性を示す。
殊に、式■の化合物は定温動物において認識強化及び抗
健忘症活性を示す。従って、式■の化合物は精神老人病
学的(psychogeriaLric)障害の処置、
例えば年齢に伴う記憶減退またはアルツハイマー病に伴
う記憶欠損の処置に有用である。精神老人病学的障害の
処置に有用な式Iの化合物の活性を以下の如く公知の方
法に従って、定温動物において立証することができる。
健忘症活性を示す。従って、式■の化合物は精神老人病
学的(psychogeriaLric)障害の処置、
例えば年齢に伴う記憶減退またはアルツハイマー病に伴
う記憶欠損の処置に有用である。精神老人病学的障害の
処置に有用な式Iの化合物の活性を以下の如く公知の方
法に従って、定温動物において立証することができる。
裏込
試験動物は試験時に体重17〜21gの雄C57Bl/
10マウスであった。マウスを10匹の群でかごに入れ
、食物及び水を自由に与えた。この系統のマウスは水迷
路タスク(water maze task)の習得に
欠けていると思われ、従って、薬剤評価に用いるために
適当である[シモンズ(Symons。
10マウスであった。マウスを10匹の群でかごに入れ
、食物及び水を自由に与えた。この系統のマウスは水迷
路タスク(water maze task)の習得に
欠けていると思われ、従って、薬剤評価に用いるために
適当である[シモンズ(Symons。
J、P、)、デービス(Davis、 R,E、)及び
マリオツド(MarrioLt J、G、) 、ライ
フ・サイエンスイズ(Life 5ciences)
、42.375−383 (1988)]0 モリス(Morris)水迷路タスクは、水中に沈んだ
隠れたプラットフォームの場所を見つけるために、場所
の手掛りに注意する動物を必要とする[モリス(Mor
ris、 B、G、) 、ラーニング・アンド・モテイ
ベイション(Learning and Motiva
tion)12.239〜:260 (1981)並び
にSymons。
マリオツド(MarrioLt J、G、) 、ライ
フ・サイエンスイズ(Life 5ciences)
、42.375−383 (1988)]0 モリス(Morris)水迷路タスクは、水中に沈んだ
隠れたプラットフォームの場所を見つけるために、場所
の手掛りに注意する動物を必要とする[モリス(Mor
ris、 B、G、) 、ラーニング・アンド・モテイ
ベイション(Learning and Motiva
tion)12.239〜:260 (1981)並び
にSymons。
J、P、、DavisXR,E、及びMarriotL
J、G、Life 5cienc63% 42.37
5〜383]o迷路は60cmX60cn+X60cn
+の透明なプレキシガラス製室からなり、これに水面か
ら伸びた壁から30c「Ω残して、深さ30cmに水を
入れた。粉末ミルクの添加によって、水を不透明にした
。水温を2000に保持した。双方の中心から離れた手
掛り(即ち、標準室の目的)及び中心に近い手掛り(即
ち、迷路の4方の壁の各々の中心に張り付けた20cm
X22cmのユニークな黒色及び白色模様)を用いた。
J、G、Life 5cienc63% 42.37
5〜383]o迷路は60cmX60cn+X60cn
+の透明なプレキシガラス製室からなり、これに水面か
ら伸びた壁から30c「Ω残して、深さ30cmに水を
入れた。粉末ミルクの添加によって、水を不透明にした
。水温を2000に保持した。双方の中心から離れた手
掛り(即ち、標準室の目的)及び中心に近い手掛り(即
ち、迷路の4方の壁の各々の中心に張り付けた20cm
X22cmのユニークな黒色及び白色模様)を用いた。
水面下1cm沈んだプラットフォーム、8X8(!11
11を迷路の4角の1つの近くに置いた。
11を迷路の4角の1つの近くに置いた。
隠れたプラットフォームの場所を見つけるために、各動
物に4回の連続的な試みを与えた(最大2分/試み、そ
して10秒間の試み間の間隔)。
物に4回の連続的な試みを与えた(最大2分/試み、そ
して10秒間の試み間の間隔)。
各試みにおいて、沈んだプラットフォームの反対側に動
物を入れた。試みと試みの間、動物を水から取り出し、
次の試みを開始する前に、加熱ランプの乾燥した表面に
置いた。各4回の試みにおいてプラットフォームの場所
を見つけるために各動物の要した時間を記録した(潜伏
期)。4回の試みの合計平均潜伏期を、与えた動物に対
する評点として用いた。
物を入れた。試みと試みの間、動物を水から取り出し、
次の試みを開始する前に、加熱ランプの乾燥した表面に
置いた。各4回の試みにおいてプラットフォームの場所
を見つけるために各動物の要した時間を記録した(潜伏
期)。4回の試みの合計平均潜伏期を、与えた動物に対
する評点として用いた。
薬剤調製物
試験化合物及びTRH(、チロi・ロピン放出ホルモン
、pGIu−His−ProNH2)を塩水に溶解し、
試験の30分前に腹腔内または経口径路によって投与し
た。マウスに10mg/kg体重を与えた。試験化合物
による実験の各々におけるマウス群にTRH0.2mg
、/kg投薬量を与え、かくして、正の調節処置条件と
して利用した。
、pGIu−His−ProNH2)を塩水に溶解し、
試験の30分前に腹腔内または経口径路によって投与し
た。マウスに10mg/kg体重を与えた。試験化合物
による実験の各々におけるマウス群にTRH0.2mg
、/kg投薬量を与え、かくして、正の調節処置条件と
して利用した。
第■表:モリス水迷路における典型的な化合物の活性
試験化合物
TH
化合物A
化合物B
化合物C
化合物り
化合物E
化合物B
化合物E
化合物B
化合物E
活性期間
0.1〜0.3
0.1
0.003〜0.1
0.3〜1.0
0.3〜1.0
0.01〜0.3
0.03〜0.1
0.003〜0,3
30〜60分
30〜60分
方法/径路
投薬量一応答(IP)
投薬量一応答(IP)
投薬量一応答(IP)
投薬量一応答(IP)
投薬量一応答(IP)
投薬量一応答(IP)
投薬量一応答(PO)
投薬量一応答(po)
時間一応答(po)
時間一応答(po)
化合物A−[IR,3R,5S、5(2S)] −]3
メチルー5−[5−オキソ−2−ピロリジニル1メチル
]シクロヘキサンアセトアミド 化合物B−[IR,3R,5S、5(2S)] −]3
メチルー5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド 化合物c−[I S、3R,5(2S)、531−3[
[1−(フェニルメチル)−1H−イミダシル5−イル
−メチル−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトア
ミド 化合物D−[I S、3R,5(2S)、5S] −3
(IH−イミダゾルー5−イル−メチル)−5[(5−
オキソ−2−ピロリジニル)メチル1シクロヘキサンア
セトアミド 化合物E−[15,3R,5(2S)、5S] −3[
(IH−イミダゾルー5−イル)メチル]−5[[5−
オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニル]メ
チル]シクロヘキサンアセトアミド 式■の化合物、そのエナンチオマー、ジアステレオマー
またはラセミ体或いはその塩の治療的に有効量を含む組
成物を当該分野においてよく知られた方法によって投与
することができる。かくして、式■の化合物またはその
塩を単独でまたは他の治療剤と共に投与することができ
る。経口投与に対して、本化合物を、例えばタルク、殿
粉、乳糖または他の不活性成分、即ち、製薬学的に許容
し得る担体との混合物として錠剤、カプセル剤の形態で
、或いは例えば糖または他の甘味剤、風味剤、着色剤、
シックナー及び他の普通の製薬学的賦形剤との混合物と
して水性溶液、懸濁液、エリキシル、またはアルコール
性溶液の形態で投与することができる。非経腸投与に対
して、本化合物を溶液または懸濁液において、例えば水
性または落花油溶液或いはこの投与方法に対して普通の
賦形剤及び担体を用いた懸濁液として投与することがで
きる。
メチルー5−[5−オキソ−2−ピロリジニル1メチル
]シクロヘキサンアセトアミド 化合物B−[IR,3R,5S、5(2S)] −]3
メチルー5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ド 化合物c−[I S、3R,5(2S)、531−3[
[1−(フェニルメチル)−1H−イミダシル5−イル
−メチル−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトア
ミド 化合物D−[I S、3R,5(2S)、5S] −3
(IH−イミダゾルー5−イル−メチル)−5[(5−
オキソ−2−ピロリジニル)メチル1シクロヘキサンア
セトアミド 化合物E−[15,3R,5(2S)、5S] −3[
(IH−イミダゾルー5−イル)メチル]−5[[5−
オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニル]メ
チル]シクロヘキサンアセトアミド 式■の化合物、そのエナンチオマー、ジアステレオマー
またはラセミ体或いはその塩の治療的に有効量を含む組
成物を当該分野においてよく知られた方法によって投与
することができる。かくして、式■の化合物またはその
塩を単独でまたは他の治療剤と共に投与することができ
る。経口投与に対して、本化合物を、例えばタルク、殿
粉、乳糖または他の不活性成分、即ち、製薬学的に許容
し得る担体との混合物として錠剤、カプセル剤の形態で
、或いは例えば糖または他の甘味剤、風味剤、着色剤、
シックナー及び他の普通の製薬学的賦形剤との混合物と
して水性溶液、懸濁液、エリキシル、またはアルコール
性溶液の形態で投与することができる。非経腸投与に対
して、本化合物を溶液または懸濁液において、例えば水
性または落花油溶液或いはこの投与方法に対して普通の
賦形剤及び担体を用いた懸濁液として投与することがで
きる。
本発明の実施にあたって、投与する式Iの化合物または
その塩の投薬量及び投与回数は、投与する特定の式■の
化合物またはその塩の効力及び活性の持続期間及び投与
径路、並びに症状の重さ、処置する哺乳動物の年齢等に
依存するであろう。
その塩の投薬量及び投与回数は、投与する特定の式■の
化合物またはその塩の効力及び活性の持続期間及び投与
径路、並びに症状の重さ、処置する哺乳動物の年齢等に
依存するであろう。
本発明を実施する際に用いるために考えられる式1の化
合物またはその塩の経口投薬量は、1回の投薬量または
分割した投薬量として、約0.05〜200mg/日、
好ましくは約0゜5〜20■/日の範囲である。
合物またはその塩の経口投薬量は、1回の投薬量または
分割した投薬量として、約0.05〜200mg/日、
好ましくは約0゜5〜20■/日の範囲である。
以下の実施例は本発明を更に説明するものである。特記
せぬ限り、全ての温度は°Cである。
せぬ限り、全ての温度は°Cである。
実施例1
(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチル)2−ピロ
リジンカルボン酸メチルエステルグルタミン酸、−ナト
リウム塩(250g。
リジンカルボン酸メチルエステルグルタミン酸、−ナト
リウム塩(250g。
1.33モル)を水50〇−中の水酸化ナトリウム(5
3,6g、1.34モル)の溶液に室温で加えた。生じ
た溶液にベンズアルデヒド(142゜3 g、 1.
34モル)を加えた。混合物を撹拌し、10℃に冷却し
、温度を10〜15℃に保持しなから、水素化ホウ素ナ
トリウム(15,2g、0゜409モル)を一部づつ加
えた。混合物を30分間撹拌し、更にベンズアルデヒド
(7,5g、0゜07モル)を加えた。10分後、前の
如く水素化ホウ素ナトリウム(3,7g、0.10モル
)の第二の部分を加えた。次の混合物を室温で一夜撹拌
した。この溶液を塩化メチレンで洗浄しく250口1忍
、ずてた)、6N HCIでpH値3の酸性にした。
3,6g、1.34モル)の溶液に室温で加えた。生じ
た溶液にベンズアルデヒド(142゜3 g、 1.
34モル)を加えた。混合物を撹拌し、10℃に冷却し
、温度を10〜15℃に保持しなから、水素化ホウ素ナ
トリウム(15,2g、0゜409モル)を一部づつ加
えた。混合物を30分間撹拌し、更にベンズアルデヒド
(7,5g、0゜07モル)を加えた。10分後、前の
如く水素化ホウ素ナトリウム(3,7g、0.10モル
)の第二の部分を加えた。次の混合物を室温で一夜撹拌
した。この溶液を塩化メチレンで洗浄しく250口1忍
、ずてた)、6N HCIでpH値3の酸性にした。
N−(フェニルメチル)−L−グルタミン酸を含むペー
ス1−をHz0500mAで希釈し、還流下で一夜加熱
した。得られた溶液を室温に冷却し、クロロホルムで抽
出した。合液した抽出液を塩水で洗浄しNa25O,上
で乾燥し、回転蒸発機で濃縮し、白色固体として、(S
)−5−オキソ−■(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ンカルボン酸160g (収率55%)を得た。
ス1−をHz0500mAで希釈し、還流下で一夜加熱
した。得られた溶液を室温に冷却し、クロロホルムで抽
出した。合液した抽出液を塩水で洗浄しNa25O,上
で乾燥し、回転蒸発機で濃縮し、白色固体として、(S
)−5−オキソ−■(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ンカルボン酸160g (収率55%)を得た。
粗製の(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジンカルボン酸(160g。
2−ピロリジンカルボン酸(160g。
0.73)をトルエン30〇−及びメタノール550m
2に溶解した。この溶液に濃H2S Oi 9 Jを加
え、溶液を還流下で一夜加熱した。溶液を氷浴中で冷却
し、25%NaOHでpH値5に中和し、次に飽和重炭
酸ナトリウム50mAを加えて溶液のpH値を7にした
。メタノールを回転蒸発機で除去し、残渣荀水500−
で希釈し、塩化メチレンで抽出した。合液した抽出液を
塩水で洗浄し、Mg5O,上で乾燥した。溶媒を蒸発さ
せ、油として(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)2−ピロリジンカルボン酸メチルエステル132g
が得られ、このものはNMRにより純度〉95%であっ
た。
2に溶解した。この溶液に濃H2S Oi 9 Jを加
え、溶液を還流下で一夜加熱した。溶液を氷浴中で冷却
し、25%NaOHでpH値5に中和し、次に飽和重炭
酸ナトリウム50mAを加えて溶液のpH値を7にした
。メタノールを回転蒸発機で除去し、残渣荀水500−
で希釈し、塩化メチレンで抽出した。合液した抽出液を
塩水で洗浄し、Mg5O,上で乾燥した。溶媒を蒸発さ
せ、油として(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)2−ピロリジンカルボン酸メチルエステル132g
が得られ、このものはNMRにより純度〉95%であっ
た。
’HNMR(CDC+3) δ2.0 2.6
(m。
(m。
4H,CI(2′S) 、3.68 (s、3H,C
H3)、3.95 (dd、LH,J=4.9Hz、H
−4)、4.02及び5.03 (AB、 2H,Jg
em= 1.6Hz、CH2Ph) 、7.2−7.4
(m、5H。
H3)、3.95 (dd、LH,J=4.9Hz、H
−4)、4.02及び5.03 (AB、 2H,Jg
em= 1.6Hz、CH2Ph) 、7.2−7.4
(m、5H。
芳香族)。
実施例2
(S )−5−(ヒドロキシメチル)−1−(フェニル
メチル)−2−ピロリジノン t−ブタノール600m12中の(S)−5−オキソ−
1(フェニルメチル)−2−ピロリジンカルボン酸メチ
ルエステル(132g、 0.556モル)の溶液を約
18°Cに冷却した。水素化ホウ素すトリウム(41g
、1.12モル)を−度に加えた。この懸濁液に45分
間にわたってメタノール425n++2を加えた。添加
中、反応混合物を15°Cに保存し、この間、水素ガス
が発生した。添加終了後、混合物を、水素の発生が終る
まで20°Cに保持し、そして室温で一夜撹拌した。溶
媒を回転蒸発機で除去し、残渣を水laに溶解し、2N
H(ltでpH値7゜5にした。混合物を塩化メチ
レンで抽出し、合液した抽出液を2N HC4及び塩
水で洗浄し、Na2SO4上で乾燥した。溶媒を蒸発さ
せ、粗製の生成物96.3gが得られ、このものをトル
エンから1回再結晶させ、融点82〜84°C(トルエ
ン)の白色固体として、(S)−5−(ヒドロキシメチ
ル)−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン89
゜5g(収率77%)を得た。’HNMR(CDCQ3
)δ1,92及び1.94(dd、J=6.5Hz、I
HloH)、1.96−2.1.1.(m、2H,CH
2)、2.36 2.61(ml 2H1COCH2)
、3.48 3−78 (m、 3 H,CH2O及び
CH)、429及び4.81(AB、J、、−15Hz
、2H。
メチル)−2−ピロリジノン t−ブタノール600m12中の(S)−5−オキソ−
1(フェニルメチル)−2−ピロリジンカルボン酸メチ
ルエステル(132g、 0.556モル)の溶液を約
18°Cに冷却した。水素化ホウ素すトリウム(41g
、1.12モル)を−度に加えた。この懸濁液に45分
間にわたってメタノール425n++2を加えた。添加
中、反応混合物を15°Cに保存し、この間、水素ガス
が発生した。添加終了後、混合物を、水素の発生が終る
まで20°Cに保持し、そして室温で一夜撹拌した。溶
媒を回転蒸発機で除去し、残渣を水laに溶解し、2N
H(ltでpH値7゜5にした。混合物を塩化メチ
レンで抽出し、合液した抽出液を2N HC4及び塩
水で洗浄し、Na2SO4上で乾燥した。溶媒を蒸発さ
せ、粗製の生成物96.3gが得られ、このものをトル
エンから1回再結晶させ、融点82〜84°C(トルエ
ン)の白色固体として、(S)−5−(ヒドロキシメチ
ル)−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン89
゜5g(収率77%)を得た。’HNMR(CDCQ3
)δ1,92及び1.94(dd、J=6.5Hz、I
HloH)、1.96−2.1.1.(m、2H,CH
2)、2.36 2.61(ml 2H1COCH2)
、3.48 3−78 (m、 3 H,CH2O及び
CH)、429及び4.81(AB、J、、−15Hz
、2H。
CH2Ph)、7.26−7.35(m、5H,フエニ
Jし)。[a] ”o−+1 ]、 6°(c 1.0
7、メタノール)。元素分析: C12H+、N 02
に対する計算値:C,70,22,H,7,37,N、
6.75゜実測値:c、70.06 ;H,7,41
;N6.75゜ モツシャ−(Mosher)等[J、Org、Chem
、34.2543(1969)]の方法に従って、(S
)−(、−)−α−メトキシ−α−(トリフルオロメチ
ル)フェニル酢酸[(−)−MTPAl からF[され
たエステルの生成によって、(S)−5−(ヒドロキシ
メチル)−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン
の光学的純度を立証した。’HNMR及びTLCによっ
て判定した際に単一ジアステレオマーエステルが得られ
、(−)−MTPAを生成させるためにラセミ性5−(
ヒドロキシメチル)−>(フェニルメチル)−2−ピロ
リジノンを用いて生成したジアステレオマー混合物から
容易に区別することができた(’HNMRにおいてCH
2N及びCH,Oシグナルの二重による)。
Jし)。[a] ”o−+1 ]、 6°(c 1.0
7、メタノール)。元素分析: C12H+、N 02
に対する計算値:C,70,22,H,7,37,N、
6.75゜実測値:c、70.06 ;H,7,41
;N6.75゜ モツシャ−(Mosher)等[J、Org、Chem
、34.2543(1969)]の方法に従って、(S
)−(、−)−α−メトキシ−α−(トリフルオロメチ
ル)フェニル酢酸[(−)−MTPAl からF[され
たエステルの生成によって、(S)−5−(ヒドロキシ
メチル)−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン
の光学的純度を立証した。’HNMR及びTLCによっ
て判定した際に単一ジアステレオマーエステルが得られ
、(−)−MTPAを生成させるためにラセミ性5−(
ヒドロキシメチル)−>(フェニルメチル)−2−ピロ
リジノンを用いて生成したジアステレオマー混合物から
容易に区別することができた(’HNMRにおいてCH
2N及びCH,Oシグナルの二重による)。
実施例3
(S)−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニルコ
メチル]−1(フェニルエチル)−2−ピロリジノン塩
化メチレン3.5gの(S)−5−(ヒドロキシメチル
)−1−(フェニル)−2−ピロリジノン(143゜7
g、0.70モル)の溶液に、4−ジメチルアミノピリ
ジン(94,1g、0.77モル)及びp−トルエンス
ルホニルクロライド(133,5g10.70モル)を
加えた。この溶液を室温で一夜撹拌し、次に冷I N
HCQ(600mQ)、飽和重炭酸ナトリウム(50
0m(2)及び塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。溶媒を蒸発させ、融点79〜80°C(エーテル
)の白色固体として、(S)−5[[(4−メチルフェ
ニル)スルホニルコメチル]l−(フェニルメチル)−
2−ピロリジノン(244。
メチル]−1(フェニルエチル)−2−ピロリジノン塩
化メチレン3.5gの(S)−5−(ヒドロキシメチル
)−1−(フェニル)−2−ピロリジノン(143゜7
g、0.70モル)の溶液に、4−ジメチルアミノピリ
ジン(94,1g、0.77モル)及びp−トルエンス
ルホニルクロライド(133,5g10.70モル)を
加えた。この溶液を室温で一夜撹拌し、次に冷I N
HCQ(600mQ)、飽和重炭酸ナトリウム(50
0m(2)及び塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。溶媒を蒸発させ、融点79〜80°C(エーテル
)の白色固体として、(S)−5[[(4−メチルフェ
ニル)スルホニルコメチル]l−(フェニルメチル)−
2−ピロリジノン(244。
6g、収率97.2%)を得た。’HNMR(CDCQ
3)al 、86 (m11 H−CN2のCH)、2
.08(mX I HX CHxのCH)、2.37(
m、 L H。
3)al 、86 (m11 H−CN2のCH)、2
.08(mX I HX CHxのCH)、2.37(
m、 L H。
CH2のCH)、2−.47 (s 13 H,CHa
)、2゜49 (m−L H,CN2のCH)、3.6
1(m、LH,NCH)、3.79及び4.91(AB
、2H。
)、2゜49 (m−L H,CN2のCH)、3.6
1(m、LH,NCH)、3.79及び4.91(AB
、2H。
J 、、、= l 5 HZ % N C: H2)、
3.95及び4.02 (A B XのAB、’2H,
J、I。=4及び4Hz。
3.95及び4.02 (A B XのAB、’2H,
J、I。=4及び4Hz。
J 、、、、== 10.5 Hz 、 CHxO
)、7.137.27(m、5H,フェニル)、7.3
7.7.73(AA’BB’、4 H% J 、、、h
、−8HZ %芳香族)。
)、7.137.27(m、5H,フェニル)、7.3
7.7.73(AA’BB’、4 H% J 、、、h
、−8HZ %芳香族)。
I R(CHCI23)16801136 B、117
2.700cm−’。M S (E I )m/e35
9 (Mつ。元素分析: C+sH21N O43ニ対
する計算値:C163,49; N15.89 ; N
、3.90゜実測値・C163,52;H,5,95;
N3.72゜実施例4 (S)−5−ヨードメチル−1−(フェニルメチル)−
2ピロリジノン (S)−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル1
メチル]−1(フェニルメチル)−2−ピロリジノン(
244,5g、 0.68モル)、ヨウ化ナトリウム
(305g、2−03モル)及びアセトン3Qの混合物
を一夜還流させ、そして撹拌した。懸濁液を10℃に冷
却し、そして濾過した。この塩をアセトン各250mg
ですすぎ、アセトン洗液及び濾液を回転蒸発機で濃縮し
、濃いスラリを得た。塩化メチレン(1、EMl )を
加え、白色沈澱物を濾別し、塩化メチレンで洗浄した。
2.700cm−’。M S (E I )m/e35
9 (Mつ。元素分析: C+sH21N O43ニ対
する計算値:C163,49; N15.89 ; N
、3.90゜実測値・C163,52;H,5,95;
N3.72゜実施例4 (S)−5−ヨードメチル−1−(フェニルメチル)−
2ピロリジノン (S)−5−[[(4−メチルフェニル)スルホニル1
メチル]−1(フェニルメチル)−2−ピロリジノン(
244,5g、 0.68モル)、ヨウ化ナトリウム
(305g、2−03モル)及びアセトン3Qの混合物
を一夜還流させ、そして撹拌した。懸濁液を10℃に冷
却し、そして濾過した。この塩をアセトン各250mg
ですすぎ、アセトン洗液及び濾液を回転蒸発機で濃縮し
、濃いスラリを得た。塩化メチレン(1、EMl )を
加え、白色沈澱物を濾別し、塩化メチレンで洗浄した。
濾液を硫酸マグネシウム(M g S 04)上で乾燥
し、シリカゲルのパッドを通して濾過し、回転蒸発機で
濃縮し、融点92〜94°C(シクロヘキサン)の灰色
がかった白色固体として、(S)−5−ヨードメチル−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン196.8
g(収率92%)を得た。’HNMR(CDCQ3)δ
1.7−2.75 (m14 HXCH2)、3.18
−3.28(m、2H,CN2I)、3.42(m、L
H,、NCR)、3゜98及び4−05(AB−2H
1Jt−=15Hz。
し、シリカゲルのパッドを通して濾過し、回転蒸発機で
濃縮し、融点92〜94°C(シクロヘキサン)の灰色
がかった白色固体として、(S)−5−ヨードメチル−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン196.8
g(収率92%)を得た。’HNMR(CDCQ3)δ
1.7−2.75 (m14 HXCH2)、3.18
−3.28(m、2H,CN2I)、3.42(m、L
H,、NCR)、3゜98及び4−05(AB−2H
1Jt−=15Hz。
CH2Ph)、7.20(m、5H1フエニル)。
[al ”n=+12.11(co−35、メタツル)
。元素分析” 12H14N OIに対する計算値:C
,45,73;H,4,48;N、 4.44゜実測値
:C,45,5B、H,4,35;N4.22゜実施例
5 (S)−1−(フェニルメチル)−5−(2−プロペニ
ル)2−ピロリジノン 無水テトラヒドロ7ラン250m12中の(S)−5ヨ
ードメチル−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノ
ン(31,5g、0.1モル)の溶液にLi2C:uC
α、の溶液[テトラヒドロフラン中のO,1M溶液7.
5m12;テトラヒドロフランlQmff中の無水塩化
リチウム(85mg)及び無水塩化第二銅(134、5
mg)から製造したもの]を加えた。この溶液を一78
°Cに冷却し、ビニルマグネシウムクロライド(テトラ
ヒドロフラン中の1M溶液200 mff)を25分間
にわたって加えた。−78°Cで1時間撹拌した後、前
の如く、ビニルマグネシウムクロライドの第二の部分(
1M溶液200 m12)を加えた。
。元素分析” 12H14N OIに対する計算値:C
,45,73;H,4,48;N、 4.44゜実測値
:C,45,5B、H,4,35;N4.22゜実施例
5 (S)−1−(フェニルメチル)−5−(2−プロペニ
ル)2−ピロリジノン 無水テトラヒドロ7ラン250m12中の(S)−5ヨ
ードメチル−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノ
ン(31,5g、0.1モル)の溶液にLi2C:uC
α、の溶液[テトラヒドロフラン中のO,1M溶液7.
5m12;テトラヒドロフランlQmff中の無水塩化
リチウム(85mg)及び無水塩化第二銅(134、5
mg)から製造したもの]を加えた。この溶液を一78
°Cに冷却し、ビニルマグネシウムクロライド(テトラ
ヒドロフラン中の1M溶液200 mff)を25分間
にわたって加えた。−78°Cで1時間撹拌した後、前
の如く、ビニルマグネシウムクロライドの第二の部分(
1M溶液200 m12)を加えた。
更に1時間撹拌した後、前の如く、第三の部分(1M溶
液200 m4)を加え、化合物を一78°Cで一夜撹
拌した。次に冷溶液を氷1.5kg上に注ぎ6N塩酸(
HCQ )100mβで酸性にした。混合物を塩化メチ
レンで抽出し、飽和重炭酸ナトリウム及び塩水で洗浄し
、モしてMgS○、上で乾燥した。
液200 m4)を加え、化合物を一78°Cで一夜撹
拌した。次に冷溶液を氷1.5kg上に注ぎ6N塩酸(
HCQ )100mβで酸性にした。混合物を塩化メチ
レンで抽出し、飽和重炭酸ナトリウム及び塩水で洗浄し
、モしてMgS○、上で乾燥した。
この溶液を回転蒸発機で濃縮し、褐色油として、粗製の
(S)−1(フェニルメチル)−5−(2−プロペニル
)−2−ピロリジノン23.8gを得た。粗製の生成物
をシリカゲル700g上で、溶離剤としてヘキサン中の
50%酢酸エチルを用いてクロマトグラフィーにかけ、
無色の油として、純粋な(S)1−(フェニルメチル)
−5−(2−プロペニル)−2ピロリジノン14.2g
(収率66%)を得た。
(S)−1(フェニルメチル)−5−(2−プロペニル
)−2−ピロリジノン23.8gを得た。粗製の生成物
をシリカゲル700g上で、溶離剤としてヘキサン中の
50%酢酸エチルを用いてクロマトグラフィーにかけ、
無色の油として、純粋な(S)1−(フェニルメチル)
−5−(2−プロペニル)−2ピロリジノン14.2g
(収率66%)を得た。
’HNMR(CD(13)δ1.7−2.75(m、6
H,、CH,+’s)、3.51.(m、l H,NC
H)、499及び5.02(AB、J、、、=15Hz
、2H1CH2P h )、5.0−5.2(m、2H
,ビニルH)、5.4−5.9(m、LH,ビニルH)
、7.257.40(m、5H,フェニル)。
H,、CH,+’s)、3.51.(m、l H,NC
H)、499及び5.02(AB、J、、、=15Hz
、2H1CH2P h )、5.0−5.2(m、2H
,ビニルH)、5.4−5.9(m、LH,ビニルH)
、7.257.40(m、5H,フェニル)。
実施例6
(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジンアセトアルデヒド 1:Jメタノール:塩化メチレン800mQ、中の(S
)−■−(フェニルメチル)−5−(2−プロペニル)
2−ピロリジノン(44,8g、 0.208モル)
の溶液を一78°Cに冷却し、ペルスバッハ・オゾナイ
ザ−(Welsbach ozonizer)を用い
て、溶液中のオゾンの淡青色を求められるために必要な
時間よりもほぼ1時間長い6.5時間オゾン化した。過
剰量のオゾンを、酸素を吹き込んで系から追い出し、溶
液を硫化メチル(80mi2)で処理した。次に溶液を
室温にし、そして−夜装置した。溶媒を回転蒸発機で除
去し、残った液体を塩化メチレン70mQに溶解し、水
で洗浄し、N a 2S O,上で乾燥した。溶媒を蒸
発させ、粗製の(S)−5−オキソ−i(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジンアセトアルデヒド43.0gを得
た。シリカゲル(1kg)上で、溶離剤として塩化メチ
レン中の4%メタノールを用いてクロマトグラフィーに
かケ、純粋な(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)2−ピロリジンアセトアミド38g(収率844%
)を省41こ。’HNMR(CDCf23)δ160−
2.60(m、4H,CH2)、2.77(ABXの半
分、Jg−−−18、Jv、c−4H2,CH2CHO
)、3.98(m、l H,NCR)、4.10及び4
.82(AB、2H,J’、、、=15Hz、CH2P
h)、7.15−7.40(ml 5H、フェニル)、
9.65(s、LH,CH○)。
ロリジンアセトアルデヒド 1:Jメタノール:塩化メチレン800mQ、中の(S
)−■−(フェニルメチル)−5−(2−プロペニル)
2−ピロリジノン(44,8g、 0.208モル)
の溶液を一78°Cに冷却し、ペルスバッハ・オゾナイ
ザ−(Welsbach ozonizer)を用い
て、溶液中のオゾンの淡青色を求められるために必要な
時間よりもほぼ1時間長い6.5時間オゾン化した。過
剰量のオゾンを、酸素を吹き込んで系から追い出し、溶
液を硫化メチル(80mi2)で処理した。次に溶液を
室温にし、そして−夜装置した。溶媒を回転蒸発機で除
去し、残った液体を塩化メチレン70mQに溶解し、水
で洗浄し、N a 2S O,上で乾燥した。溶媒を蒸
発させ、粗製の(S)−5−オキソ−i(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジンアセトアルデヒド43.0gを得
た。シリカゲル(1kg)上で、溶離剤として塩化メチ
レン中の4%メタノールを用いてクロマトグラフィーに
かケ、純粋な(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)2−ピロリジンアセトアミド38g(収率844%
)を省41こ。’HNMR(CDCf23)δ160−
2.60(m、4H,CH2)、2.77(ABXの半
分、Jg−−−18、Jv、c−4H2,CH2CHO
)、3.98(m、l H,NCR)、4.10及び4
.82(AB、2H,J’、、、=15Hz、CH2P
h)、7.15−7.40(ml 5H、フェニル)、
9.65(s、LH,CH○)。
実施例7
(E)−4−[2(R)−5−オキソ−1−(フェニル
メチル)−2−ピロリジニル1−2−クロトン酸、エチ
ルニスアル トルエン700mQ中の(S)−5−オキソ−1−(フ
ェニルメチル)−2〜ピロリジンアセトアルデヒド(3
8g、0.175モル)の溶液にトリフェニルホスホラ
ニリデン酢酸エチル(73,0g、0.21モル)を加
え、混合物を90°Cに5.5時間加熱した。
メチル)−2−ピロリジニル1−2−クロトン酸、エチ
ルニスアル トルエン700mQ中の(S)−5−オキソ−1−(フ
ェニルメチル)−2〜ピロリジンアセトアルデヒド(3
8g、0.175モル)の溶液にトリフェニルホスホラ
ニリデン酢酸エチル(73,0g、0.21モル)を加
え、混合物を90°Cに5.5時間加熱した。
溶媒を回転蒸発機で除去し、残渣を酢酸エチル5Qno
2でスラリにした。トvフェニルホスフィンオキシトの
沈澱物を濾過によって除去し、フィルタケーギを1.1
酢酸エチル ヘキサン150mQで洗浄した。溶液を回
転蒸発機で濃縮し、3:lヘキサン:酢酸エチルmQと
混合し、室温で72時間放置した。結晶性トリフェニル
ホスフィンオキンドを濾別し、残った油(63g)をシ
リカゲル2kg上で、溶離剤として酢酸エチルを用いて
クロマトグラフィーにかけ、油として(E)−4−[2
(15−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル]−2−クロトン酸、エチルエステル48g(収
率95.6%)を得た。’HNMR(CDC13)δ1
。
2でスラリにした。トvフェニルホスフィンオキシトの
沈澱物を濾過によって除去し、フィルタケーギを1.1
酢酸エチル ヘキサン150mQで洗浄した。溶液を回
転蒸発機で濃縮し、3:lヘキサン:酢酸エチルmQと
混合し、室温で72時間放置した。結晶性トリフェニル
ホスフィンオキンドを濾別し、残った油(63g)をシ
リカゲル2kg上で、溶離剤として酢酸エチルを用いて
クロマトグラフィーにかけ、油として(E)−4−[2
(15−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル]−2−クロトン酸、エチルエステル48g(収
率95.6%)を得た。’HNMR(CDC13)δ1
。
30(t、J =5.5Hzs CHs)、1.60−
2゜50 (m16 HSCH2’s )、3.60(
m、I H。
2゜50 (m16 HSCH2’s )、3.60(
m、I H。
NCR)、3.96及び4.99(AB、 J 、e、
= 15Hz、CH2Ph)、4.15(q、J=5.
5Hz 、 2 H、OCH2)、5.85(d、J=
16Hz、 lH,C−2ビニルH)、6.74及び
6゜80(dt、J=8.16Hz、IH,C−3ビニ
ルH)、7.20−7.40(m、5H,フェニル)。
= 15Hz、CH2Ph)、4.15(q、J=5.
5Hz 、 2 H、OCH2)、5.85(d、J=
16Hz、 lH,C−2ビニルH)、6.74及び
6゜80(dt、J=8.16Hz、IH,C−3ビニ
ルH)、7.20−7.40(m、5H,フェニル)。
実施fi18
(S、)−5−[[(オキンー1−(フェニルメチル)
−2ピロリジニル]メチル]−1,3−シクロヘキサン
ジオン ナトリウム金属(7,82g、0.34グラム原子)を
エタノール1.IQに溶解した。アセト酢酸エチル(4
4,2g、0.34モル)及び(E)−4−[2(R)
5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニ
ル]−2−クロトン酸、エチルエステル(66,0g。
−2ピロリジニル]メチル]−1,3−シクロヘキサン
ジオン ナトリウム金属(7,82g、0.34グラム原子)を
エタノール1.IQに溶解した。アセト酢酸エチル(4
4,2g、0.34モル)及び(E)−4−[2(R)
5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニ
ル]−2−クロトン酸、エチルエステル(66,0g。
0.23モル)を加え、この溶液を一夜還流させ、そし
て撹拌した。溶媒を回転蒸発機で除去し、残渣を水5Q
Qm12に溶解した。この溶液を塩化メチレンで洗浄し
くすてた)、6N HCl2でpH値lの酸性にし、
塩化メチレンで抽出した。合液した抽出液を水で洗浄し
、そしてNa25Ot上で乾燥した。溶媒を回転蒸発機
で除去し、融点159〜161’0(酢酸エチル)の白
色固体として、(S)5−[[(オキソ−1−(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]−1,3−シ
クロヘキサンジオン60.0g(収率87%)を得た。
て撹拌した。溶媒を回転蒸発機で除去し、残渣を水5Q
Qm12に溶解した。この溶液を塩化メチレンで洗浄し
くすてた)、6N HCl2でpH値lの酸性にし、
塩化メチレンで抽出した。合液した抽出液を水で洗浄し
、そしてNa25Ot上で乾燥した。溶媒を回転蒸発機
で除去し、融点159〜161’0(酢酸エチル)の白
色固体として、(S)5−[[(オキソ−1−(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]−1,3−シ
クロヘキサンジオン60.0g(収率87%)を得た。
’HNMR(CDCa3)(9:1ケト: 工/ −ル
型)81.38(d dd、IH,Jv、c−4及び1
.lHz、J=14H2,CH2のCH)、1.60−
2.71(mS 10H,4CH2、CH,のCH,C
H)、3.37(S、10/9H,ケトのCH2)、3
.46(m。
型)81.38(d dd、IH,Jv、c−4及び1
.lHz、J=14H2,CH2のCH)、1.60−
2.71(mS 10H,4CH2、CH,のCH,C
H)、3.37(S、10/9H,ケトのCH2)、3
.46(m。
IH,NCH)、3.94及び4.96(AB、8/9
H,J、、、、= 15Hz、エノールのc Hx )
、3゜95及び4.99(AB、10/9H,J、、、
□−15Hz、ケトのCH2)、5.45(s、4/9
H。
H,J、、、、= 15Hz、エノールのc Hx )
、3゜95及び4.99(AB、10/9H,J、、、
□−15Hz、ケトのCH2)、5.45(s、4/9
H。
−エノールのCH)、7.19(b r d、2H1
J。73、。−7Hz、芳香族)、7.30(t、IH
lJ 、、、、、= 7 HZ %芳香族)、7.32
(t、2H1J。17.。−7Hz、芳香族)。IR(
CHCΩ3)1730.1710、1600.702c
m−’。MS(EI)m/e 299(Mつ。[a]
26n=+44.97゜(cl、04、メタノール)。
J。73、。−7Hz、芳香族)、7.30(t、IH
lJ 、、、、、= 7 HZ %芳香族)、7.32
(t、2H1J。17.。−7Hz、芳香族)。IR(
CHCΩ3)1730.1710、1600.702c
m−’。MS(EI)m/e 299(Mつ。[a]
26n=+44.97゜(cl、04、メタノール)。
元素分析:C,8H,。
No、Sに対する計算値: C,72,22、H,7゜
07 ; N、4.68゜実測値:C,72,39;H
。
07 ; N、4.68゜実測値:C,72,39;H
。
7.39;N4.72゜
実施例9
(5S、l R)−5−[(3−エトキシ−5−オキソ
−3シクロヘキセン−1−イル)メチル]−i(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジノン及び(5S、1s)−5
[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−
1−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジノン エタノール600mR及びトルエン1200mQ中の(
S)−5−[[オキソ−1(フェニルメチル)−2ピロ
リジニル]メチル]−1,3−シクロヘキサンジオン(
60g、0.20モル)及びp−トルエンスルホン酸−
水和物(3,8g、0.02モル)の溶液を1.5時間
撹拌し且つ還流させた。溶媒を回転蒸発機で除去し、残
液を塩化メチレンに溶解した。
−3シクロヘキセン−1−イル)メチル]−i(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジノン及び(5S、1s)−5
[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−
1−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジノン エタノール600mR及びトルエン1200mQ中の(
S)−5−[[オキソ−1(フェニルメチル)−2ピロ
リジニル]メチル]−1,3−シクロヘキサンジオン(
60g、0.20モル)及びp−トルエンスルホン酸−
水和物(3,8g、0.02モル)の溶液を1.5時間
撹拌し且つ還流させた。溶媒を回転蒸発機で除去し、残
液を塩化メチレンに溶解した。
塩化メチレン溶液を飽和重炭酸ナトリウム溶液及び塩水
で洗浄し、NazSOa上で乾燥した。溶媒を回転蒸発
機で除去し、粗製の油57.68を得た。
で洗浄し、NazSOa上で乾燥した。溶媒を回転蒸発
機で除去し、粗製の油57.68を得た。
粗製の生成物をシリカゲル(800g)上で、溶離剤と
して酢酸エチル中の2〜4%メタノールを用いてクロマ
トグラフィーにかけ、ジアステレオマー生成物の1=1
混合物:(5S、IR)−5−[(3エトキシ−5−オ
キソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1(
フェニルメチル)−2−ピロリジノン及び(5S、l
5)−5−[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロ
ヘキセン−1−イル)メチル]−1(フェニルメチル)
−2−ピロリジノン(37,5g、収率57%)を得た
。混合物の合計52.5g(上記生成物及び同様にして
製造したもの)をウォーターズ・プレグ(Waters
Prep)500高速液体クロマトグラフィーを用
いて、溶離剤として1:24 : 25メタノール:酢
酸エチル:ヘキサンを用いてクロマトグラフィーにかけ
、混成フラクションを回収し、そして再びクロマトグラ
フィーにかけた。高い極性のジアステレオマー、(5S
、IR)−5−[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シ
クロヘキセン−1−イル)メチル]−L−(フェニルメ
チル)2−ピロリジノン合計24.3g(収率25.0
%)及び低い極性のジアステレオマー、(5S、I 5
)−5[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキ
セン−1−イル)メチル]−1(フェニルメチル)−2
−ピロリジノン合計23.9g(収率24.6%)が得
られた。
して酢酸エチル中の2〜4%メタノールを用いてクロマ
トグラフィーにかけ、ジアステレオマー生成物の1=1
混合物:(5S、IR)−5−[(3エトキシ−5−オ
キソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1(
フェニルメチル)−2−ピロリジノン及び(5S、l
5)−5−[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロ
ヘキセン−1−イル)メチル]−1(フェニルメチル)
−2−ピロリジノン(37,5g、収率57%)を得た
。混合物の合計52.5g(上記生成物及び同様にして
製造したもの)をウォーターズ・プレグ(Waters
Prep)500高速液体クロマトグラフィーを用
いて、溶離剤として1:24 : 25メタノール:酢
酸エチル:ヘキサンを用いてクロマトグラフィーにかけ
、混成フラクションを回収し、そして再びクロマトグラ
フィーにかけた。高い極性のジアステレオマー、(5S
、IR)−5−[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シ
クロヘキセン−1−イル)メチル]−L−(フェニルメ
チル)2−ピロリジノン合計24.3g(収率25.0
%)及び低い極性のジアステレオマー、(5S、I 5
)−5[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキ
セン−1−イル)メチル]−1(フェニルメチル)−2
−ピロリジノン合計23.9g(収率24.6%)が得
られた。
(5S 、 I R)−5−[(3−エトキシ−5−オ
キソ−3シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1−(
フェニルメチル)−2−ピロリジノンに対して 融点9
9〜102°C,、TLC(酢酸エヂル:メタノール9
5 : 5)Rf =0.4゜ [a] 25.
1=+3.08(メタノール、C=1.0)。’HNM
R(CDC4K)δ1.35(t、J=6Hz、3H,
CH3)、■。
キソ−3シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1−(
フェニルメチル)−2−ピロリジノンに対して 融点9
9〜102°C,、TLC(酢酸エヂル:メタノール9
5 : 5)Rf =0.4゜ [a] 25.
1=+3.08(メタノール、C=1.0)。’HNM
R(CDC4K)δ1.35(t、J=6Hz、3H,
CH3)、■。
50−2.50(ml 11H,CH2及びCH)、3
46(m、I H,CHN)、3.90(q、J=6H
z、2H,CH2CH3)、395及び5.05(A、
B、 J Jc−= 15 Hz 12 HlCH
IP h )、5゜35(s、IH、ビニルH)、7.
24−7.34(m、5H,フェニル)。MS(E I
)m/ e 327(M+)。I R(CHCQs)1
672cm−’ (C=O)。
46(m、I H,CHN)、3.90(q、J=6H
z、2H,CH2CH3)、395及び5.05(A、
B、 J Jc−= 15 Hz 12 HlCH
IP h )、5゜35(s、IH、ビニルH)、7.
24−7.34(m、5H,フェニル)。MS(E I
)m/ e 327(M+)。I R(CHCQs)1
672cm−’ (C=O)。
元素分析: C2oH25N O3に対する計算値:C
173,37; H,7,70; N、4.28゜実測
値:C,73,18; H7,59、N、4.24゜(
5S、I 5)−5−[(3−エトキシ−5−オキソ−
3シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1,−(フェ
ニルメチル)−2−ピロリンノンに対して:融点108
〜110°O,,TLC(酢酸エチル:メタノール95
:5)Rf=0.5゜[a、 ] ”n= +1.5.
85(メタノール、C=1.c+)。’HNMR(CD
C(23)δ1.35(tl J =5Hz、3H1C
H3)、1.50 2.50(m、11H,CH2及び
CH)、3.46(m、l HlCHN)、3.90(
q、J=6Hz、2HXCH2CH3)、3.96及び
5.00(AB、J、、、、= 15Hz、2H,CH
2Ph)、5.35(s、L H,ビニルH)、7.2
4−7.34(m、5H,フェニル)。MS(E I
)m/ e 327(Mつ。I R(CHCL)167
2cm−’(C=O)。
173,37; H,7,70; N、4.28゜実測
値:C,73,18; H7,59、N、4.24゜(
5S、I 5)−5−[(3−エトキシ−5−オキソ−
3シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1,−(フェ
ニルメチル)−2−ピロリンノンに対して:融点108
〜110°O,,TLC(酢酸エチル:メタノール95
:5)Rf=0.5゜[a、 ] ”n= +1.5.
85(メタノール、C=1.c+)。’HNMR(CD
C(23)δ1.35(tl J =5Hz、3H1C
H3)、1.50 2.50(m、11H,CH2及び
CH)、3.46(m、l HlCHN)、3.90(
q、J=6Hz、2HXCH2CH3)、3.96及び
5.00(AB、J、、、、= 15Hz、2H,CH
2Ph)、5.35(s、L H,ビニルH)、7.2
4−7.34(m、5H,フェニル)。MS(E I
)m/ e 327(Mつ。I R(CHCL)167
2cm−’(C=O)。
元素分析 C2,H25N○3に対する計算値:C17
3,37; H,7,70; N、4.28o実測値:
C,73,02; H7,72、N、4.4.0゜同様
の順序で、ラセミ性■−(フェニルメチル)5−(2−
プロペニル)−2−ピロリジノンから出発して、ラセミ
体としてジアステレオマー混合物を製造した。低い極性
のジアステレオマーを酢酸エチル−ヘキサンから再結晶
させ、X−線分析に適する結晶を得た、融点112〜1
13°C0単結晶分折により、低い極性のジアステレオ
マーは(55木、 1. S*)−5−[(3−ニドキ
シ−5−オキソ−3シクロヘキセン−1−イル)メチル
]4−(フェルメチル)−2−ピロリジノン(Rファク
ター0.055、wR=0.050)であることが立証
された。
3,37; H,7,70; N、4.28o実測値:
C,73,02; H7,72、N、4.4.0゜同様
の順序で、ラセミ性■−(フェニルメチル)5−(2−
プロペニル)−2−ピロリジノンから出発して、ラセミ
体としてジアステレオマー混合物を製造した。低い極性
のジアステレオマーを酢酸エチル−ヘキサンから再結晶
させ、X−線分析に適する結晶を得た、融点112〜1
13°C0単結晶分折により、低い極性のジアステレオ
マーは(55木、 1. S*)−5−[(3−ニドキ
シ−5−オキソ−3シクロヘキセン−1−イル)メチル
]4−(フェルメチル)−2−ピロリジノン(Rファク
ター0.055、wR=0.050)であることが立証
された。
実施例10
(5s 、 I R)−5−[(3−エトキシ−5−オ
キソ−3シクロヘキセン−1−イル)メチル]−i(フ
ェニルメチル)−2−ピロリジノン及び(5S、l5)
−5[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセ
ン1−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)−2−
ピロリジノンのリサイクリング テトラヒドロフラン10mff中の(5S 、 I R
)−5[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキ
センl−イル)メチル]−1(フェニルメチル)−2−
ピロリジノン及び(5S、]、5)−5−[(3−エト
キシ−5オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチ
ル11(フェニルメチル)−2−ピロリジノンの混合物
(150mg、0.46ミリモル)を2N HCP2
mffで処理し、室温で2時間撹拌し、次に1時間還流
させだ。溶媒を回転蒸発機で除去し、残渣を塩化メチレ
ンで抽出した。合液した抽出液をNa2SO4上で乾燥
し、蒸発させ、融点159〜161’C!(酢酸エチル
)の(S)−5−[[オキソ−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル] メチル]−1,3−シクロヘキ
ザンジオン130mgが得られ、このものは(E)−4
−[2(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]−2−クロトン酸、エチルエステル
からの合成で得られたものと全ての点で同一であった。
キソ−3シクロヘキセン−1−イル)メチル]−i(フ
ェニルメチル)−2−ピロリジノン及び(5S、l5)
−5[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセ
ン1−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)−2−
ピロリジノンのリサイクリング テトラヒドロフラン10mff中の(5S 、 I R
)−5[(3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキ
センl−イル)メチル]−1(フェニルメチル)−2−
ピロリジノン及び(5S、]、5)−5−[(3−エト
キシ−5オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチ
ル11(フェニルメチル)−2−ピロリジノンの混合物
(150mg、0.46ミリモル)を2N HCP2
mffで処理し、室温で2時間撹拌し、次に1時間還流
させだ。溶媒を回転蒸発機で除去し、残渣を塩化メチレ
ンで抽出した。合液した抽出液をNa2SO4上で乾燥
し、蒸発させ、融点159〜161’C!(酢酸エチル
)の(S)−5−[[オキソ−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル] メチル]−1,3−シクロヘキ
ザンジオン130mgが得られ、このものは(E)−4
−[2(S)−5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]−2−クロトン酸、エチルエステル
からの合成で得られたものと全ての点で同一であった。
実施例11
(5S、l R)−5−[(3−メチル−5−オキソ−
3−シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジノン ト1テトラヒドロフラン:エーテル150mQ中の(5
S 、 I R)−5−[(3−工l・キシ−5−オキ
ソ−3−シクロヘキセン−1=イル)メチル:1−1(
フェニルメチル)−2−ピロリジノン(3,94g、1
2゜0ミリモル)の溶液に一78°Cで10分間にわた
りメチルリチウム溶液(14m(2,エーテル中1.4
M、57.4ミリモル)を加えた。混合物を一78°C
で30分間撹拌し、50%水性酢酸50m12の添加に
よって反応を止めた。混合物を室温にし、塩化メチレン
で抽出した。合液した抽出液を飽和重炭酸ナトリウム溶
液で洗浄し、Na25O,上で乾燥し、回転蒸発機で濃
縮し、粗製の油4.05gを得た。粗製の生成物をシリ
カゲル(long)上で、溶離剤として酢酸エチル中の
1%メタノールを用いてクロマトグラフィーにかけ、油
として、(5S、I R)−5−[(3−メチル−5−
オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1
(フェニルメチル)2−ピロリジノン1.85g(収率
52%)が得られた。分析するために、試料を200〜
210°C10,05torrで蒸発的に蒸留した。’
HNMR(CDC0,3)δ1.94(s、3H,CH
3)、1゜35−2.55(mS l IH及びCH)
、3.45(m、LH,NCH)、3.95及び4.9
8(AB。
3−シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジノン ト1テトラヒドロフラン:エーテル150mQ中の(5
S 、 I R)−5−[(3−工l・キシ−5−オキ
ソ−3−シクロヘキセン−1=イル)メチル:1−1(
フェニルメチル)−2−ピロリジノン(3,94g、1
2゜0ミリモル)の溶液に一78°Cで10分間にわた
りメチルリチウム溶液(14m(2,エーテル中1.4
M、57.4ミリモル)を加えた。混合物を一78°C
で30分間撹拌し、50%水性酢酸50m12の添加に
よって反応を止めた。混合物を室温にし、塩化メチレン
で抽出した。合液した抽出液を飽和重炭酸ナトリウム溶
液で洗浄し、Na25O,上で乾燥し、回転蒸発機で濃
縮し、粗製の油4.05gを得た。粗製の生成物をシリ
カゲル(long)上で、溶離剤として酢酸エチル中の
1%メタノールを用いてクロマトグラフィーにかけ、油
として、(5S、I R)−5−[(3−メチル−5−
オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチル]−1
(フェニルメチル)2−ピロリジノン1.85g(収率
52%)が得られた。分析するために、試料を200〜
210°C10,05torrで蒸発的に蒸留した。’
HNMR(CDC0,3)δ1.94(s、3H,CH
3)、1゜35−2.55(mS l IH及びCH)
、3.45(m、LH,NCH)、3.95及び4.9
8(AB。
J ge−=15 Hz 1’2 HlCH4F h)
、3.87(S、IH,ビニルH)、7.50(m、5
H,フェニル)。MS(E I)m/e 297(Mつ
。[&]25−+59.86°(cO,2155、メタ
ノール)。
、3.87(S、IH,ビニルH)、7.50(m、5
H,フェニル)。MS(E I)m/e 297(Mつ
。[&]25−+59.86°(cO,2155、メタ
ノール)。
CD(エタノール)326([Q] =+1425、m
a x )、283([Q] =−42、m1n)
、238([Q] =+13.620.inf l)
、218([Q] =+50.100、max)、21
2nm([Q] =+39,820°、m1n)。元素
分析:C+sH23N O2ニ対する計算値:C,76
,74;H,7,80; N、4.710実測値:C1
74゜55 :H,7,53、N、7.41゜実施例
12 [55−(5s)] −]3−メチルー5−[[5−オ
キソl−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチ
ル12−シクロヘキセン−1−イリデン酢酸エチルエス
テル テトラヒドロフラン20mff中のジイソプロピルアミ
ン(1,50g、14.8ミリモル)の溶液に30°C
でn−ブチルリチウム(6,0mf2.2.5M。
a x )、283([Q] =−42、m1n)
、238([Q] =+13.620.inf l)
、218([Q] =+50.100、max)、21
2nm([Q] =+39,820°、m1n)。元素
分析:C+sH23N O2ニ対する計算値:C,76
,74;H,7,80; N、4.710実測値:C1
74゜55 :H,7,53、N、7.41゜実施例
12 [55−(5s)] −]3−メチルー5−[[5−オ
キソl−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチ
ル12−シクロヘキセン−1−イリデン酢酸エチルエス
テル テトラヒドロフラン20mff中のジイソプロピルアミ
ン(1,50g、14.8ミリモル)の溶液に30°C
でn−ブチルリチウム(6,0mf2.2.5M。
15.0ミリモル)を加え、溶液を一30°Cで30分
間撹拌し、次に一50℃に冷却した。テトラヒドロ7ラ
ン20InQ中のトリメチルシリル酢酸エチ9フ ル(2,40g、15.0ミリモル)の溶液を10分間
にわたって加え、この溶液を−40乃至−50℃で1時
間撹拌した。テトラヒドロフラン20mff中の(5S
、I R)−5−[(3−メチル−5−オキソ−3シク
ロヘキセン−1−イル)メチル]−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジノン(1,85g、 6.23ミ
リモル)の溶液を一50°Cで10分間にわたって加え
、溶液を30分間にわたって一20°Cに加温した。冷
溶液を氷水に注ぎ、混合物を塩化メチレンで抽出した。
間撹拌し、次に一50℃に冷却した。テトラヒドロ7ラ
ン20InQ中のトリメチルシリル酢酸エチ9フ ル(2,40g、15.0ミリモル)の溶液を10分間
にわたって加え、この溶液を−40乃至−50℃で1時
間撹拌した。テトラヒドロフラン20mff中の(5S
、I R)−5−[(3−メチル−5−オキソ−3シク
ロヘキセン−1−イル)メチル]−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジノン(1,85g、 6.23ミ
リモル)の溶液を一50°Cで10分間にわたって加え
、溶液を30分間にわたって一20°Cに加温した。冷
溶液を氷水に注ぎ、混合物を塩化メチレンで抽出した。
合液した抽出液を塩水で洗浄し、MgSO4上で乾燥し
、溶媒を回転蒸発機で除去し、油として粗製の生成物2
.55gを得た。シリカゲル(long)上で、溶離剤
として酢酸エチル中の1%メタノールを用いてクロマト
グラフィーにかけ、油として、 [55−(5S)]
−]3−メチル5−[[5−オキソ−1−(フェニルメ
チル)−2−ピロリジニル]メチル1−2−シクロヘキ
セン−1−イリデン酢酸エチルエステル(Z/E異性体
の3=2混合物)1.78gを得た。分析するために、
試料を200−210°010.05 t o r r
で蒸発的に蒸留した。’HNMR(CD CQs)δI
、25(2t(Z/E)、3H,0CH2CH3)、
1.60及び1.70(2s(Z/E)、CH3)、
1.20−2.50 (m、 l 2 H,CH2及
びCH)、3.45及び3゜58(2m、(Z/E)、
NCH)、3.90.5.00及び3.99.4.90
(2AB、(Z/E)、Jrem= l 5 H2%
2 H% CH2F h)、4.08及び4−15(2
qSJ=6Hz、2H,0CH2CH3)、5.30及
び5.50 (2S (Z/E)、IH。
、溶媒を回転蒸発機で除去し、油として粗製の生成物2
.55gを得た。シリカゲル(long)上で、溶離剤
として酢酸エチル中の1%メタノールを用いてクロマト
グラフィーにかけ、油として、 [55−(5S)]
−]3−メチル5−[[5−オキソ−1−(フェニルメ
チル)−2−ピロリジニル]メチル1−2−シクロヘキ
セン−1−イリデン酢酸エチルエステル(Z/E異性体
の3=2混合物)1.78gを得た。分析するために、
試料を200−210°010.05 t o r r
で蒸発的に蒸留した。’HNMR(CD CQs)δI
、25(2t(Z/E)、3H,0CH2CH3)、
1.60及び1.70(2s(Z/E)、CH3)、
1.20−2.50 (m、 l 2 H,CH2及
びCH)、3.45及び3゜58(2m、(Z/E)、
NCH)、3.90.5.00及び3.99.4.90
(2AB、(Z/E)、Jrem= l 5 H2%
2 H% CH2F h)、4.08及び4−15(2
qSJ=6Hz、2H,0CH2CH3)、5.30及
び5.50 (2S (Z/E)、IH。
環ビニルH)、5.90及び7.25(2s、(Z/E
)、IH,鎖ビニルH)、7.20−7.4(m。
)、IH,鎖ビニルH)、7.20−7.4(m。
5H1フエニル)。MS(EI)m/e367(Mつ。
CD(エタノール)276([Q] =+13.125
、max)、232([Q] =+1.495、ma
x)、217([Q]=+33,643、max)、2
13([Q] =+30.321、m1n)、198
nm([Q] −+45,690°、max)。元素分
析: C23H29N Osに対する計算値:C,75
,17、H,7,95;N、3.81゜実測値:C17
5,17;H,7,99;N、3.66゜実施例13 [I R,3R,5S(2S)] −]3−メチルー5
−[[5オキソ−i(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ニル]メチルコ シクロヘキザン酢酸エチルニスチル[
5s−(5s)]−]3−メチルー5−[5オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル]
−2−フクロヘキセン−1−イリデン酢酸エチルエステ
ル(1,72g14.ロアミリモル)をエタノール80
mff中にて炭素に担持させた10%パラジウム上で、
50psiで5時間水素添加した。触媒を濾別し、溶媒
を回転蒸発機で除去し、NMRによれば、2種の他のジ
アステレオマー約15%を含む[[1,R,3R,5S
、5 (2S)]−]3−メチルー5−[5−オキソ−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]
シクロヘキサン酢酸エチルエステル1.47gを得た。
、max)、232([Q] =+1.495、ma
x)、217([Q]=+33,643、max)、2
13([Q] =+30.321、m1n)、198
nm([Q] −+45,690°、max)。元素分
析: C23H29N Osに対する計算値:C,75
,17、H,7,95;N、3.81゜実測値:C17
5,17;H,7,99;N、3.66゜実施例13 [I R,3R,5S(2S)] −]3−メチルー5
−[[5オキソ−i(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ニル]メチルコ シクロヘキザン酢酸エチルニスチル[
5s−(5s)]−]3−メチルー5−[5オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル]
−2−フクロヘキセン−1−イリデン酢酸エチルエステ
ル(1,72g14.ロアミリモル)をエタノール80
mff中にて炭素に担持させた10%パラジウム上で、
50psiで5時間水素添加した。触媒を濾別し、溶媒
を回転蒸発機で除去し、NMRによれば、2種の他のジ
アステレオマー約15%を含む[[1,R,3R,5S
、5 (2S)]−]3−メチルー5−[5−オキソ−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]
シクロヘキサン酢酸エチルエステル1.47gを得た。
分析するために、試料を200〜210°C/Q 、2
5 torrで蒸発的に蒸留した。’HNMR(CDC
123) 80.4 (Q、 J=10Hz、 IH1
軸CH) 、0.55 (m、2H,2軸CH)、0.
84(d、J =6.6Hz、0.45H少ない方のジ
アステレオマーのCH3) 、0.86 (d、J−6
,6Hz、2.1.H,多い方のジアステレオマーのc
ps)、0.96 (d、J=8.6Hz、0.45H
,少い方のジアステレオマーのCH3)、1.20 (
5J−6Hz、 3 H,OCH2CH3)、1.20
−2゜50 (m、14H,CH2及びCH) 、3.
45 (m。
5 torrで蒸発的に蒸留した。’HNMR(CDC
123) 80.4 (Q、 J=10Hz、 IH1
軸CH) 、0.55 (m、2H,2軸CH)、0.
84(d、J =6.6Hz、0.45H少ない方のジ
アステレオマーのCH3) 、0.86 (d、J−6
,6Hz、2.1.H,多い方のジアステレオマーのc
ps)、0.96 (d、J=8.6Hz、0.45H
,少い方のジアステレオマーのCH3)、1.20 (
5J−6Hz、 3 H,OCH2CH3)、1.20
−2゜50 (m、14H,CH2及びCH) 、3.
45 (m。
I H,CHN) 、4.10 (q、J−6Hz、Q
CH2CH3) 、3.95及び4.96 (AB、J
gem−15Hz、2HXCH2Ph) 、7.20
7−35 (m、 5H,フェニル) 。MS (E
I ) m/e371(M+)。CD(エタノール)2
64([Q]=+118、max)、26]、([Q]
=+65、m1n)、258([Q]=+I91、m
ax)、254 ([Q] −+12L m1n)、2
33 ([Q]−−1032、max) 、 217
([Q] =+32゜475、may)、211 (
[Q] =+28,070゜m1n)、195nm([
Q]−+46,787°、max)。
CH2CH3) 、3.95及び4.96 (AB、J
gem−15Hz、2HXCH2Ph) 、7.20
7−35 (m、 5H,フェニル) 。MS (E
I ) m/e371(M+)。CD(エタノール)2
64([Q]=+118、max)、26]、([Q]
=+65、m1n)、258([Q]=+I91、m
ax)、254 ([Q] −+12L m1n)、2
33 ([Q]−−1032、max) 、 217
([Q] =+32゜475、may)、211 (
[Q] =+28,070゜m1n)、195nm([
Q]−+46,787°、max)。
元素分析: C23H29N Osに対する計算値:C
175,17、H7,95;N、3.81.実測値:C
,75,17;H,7,99、N、 3.66゜実施
例14 N R,3R,5S、5 (2S)−3−メチル−5[
[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ニル]メチルコシクロヘキサンアセトアミド エタノール4OmQ中の[[I R,3R,5S、5(
2S)] −3−)fルー5− E C5−オキソ−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]
シクロヘキサン酢酸エチルエステル(1゜4g、3.7
7ミリモル)及び水酸化カリウム(20g、35ミリモ
ル)の混合物を還流下で30分間加熱し、冷却し、溶媒
を回転蒸発機で除去した。
175,17、H7,95;N、3.81.実測値:C
,75,17;H,7,99、N、 3.66゜実施
例14 N R,3R,5S、5 (2S)−3−メチル−5[
[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジ
ニル]メチルコシクロヘキサンアセトアミド エタノール4OmQ中の[[I R,3R,5S、5(
2S)] −3−)fルー5− E C5−オキソ−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]
シクロヘキサン酢酸エチルエステル(1゜4g、3.7
7ミリモル)及び水酸化カリウム(20g、35ミリモ
ル)の混合物を還流下で30分間加熱し、冷却し、溶媒
を回転蒸発機で除去した。
残渣を水に溶解し、2NHCQでpHHI3酸性にし、
塩化メチレンで抽出した。合液しj−抽出液を塩水で洗
浄し、Na2SO4上で乾燥し、蒸発させ、[[I R
,3R,5S、5 (2S) ] −]3−メチルー5
−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル]メチルJシクロヘキサン酢酸1.31gを得た
。粗製の酸(1,31g、3.82)をクロロホルム1
5mf2に溶解し、−30°Cに冷却した。この溶液に
クロロホルム15mQ中のクロロギ酸エチル(2,06
g、19.1ミリモル)、次いでクロロホルムlOn+
+2中のトリエチルアミン(1,93g、19.1ミリ
モル)を滴下した。添加終了後、混合物を1時間にわた
って0°Cに加温した。
塩化メチレンで抽出した。合液しj−抽出液を塩水で洗
浄し、Na2SO4上で乾燥し、蒸発させ、[[I R
,3R,5S、5 (2S) ] −]3−メチルー5
−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル]メチルJシクロヘキサン酢酸1.31gを得た
。粗製の酸(1,31g、3.82)をクロロホルム1
5mf2に溶解し、−30°Cに冷却した。この溶液に
クロロホルム15mQ中のクロロギ酸エチル(2,06
g、19.1ミリモル)、次いでクロロホルムlOn+
+2中のトリエチルアミン(1,93g、19.1ミリ
モル)を滴下した。添加終了後、混合物を1時間にわた
って0°Cに加温した。
次いで溶液中にアンモニアを20分間吹き込んだ。
混合物を0°Cで1時間撹拌し、次に室温に加温した。
沈澱物(NH4C4)を吸引濾別し、濾液を2N HC
Q、飽和重炭酸ナトリウム溶液及び塩水で洗浄し、Na
2SO4上で乾燥した。溶媒を回転蒸発機で除去し、粗
製(7)[IR,3R,5S、5 (2S)]−]3−
メチルー5−[5−オキソ−I−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル1 メチル]シクロヘキザンアセトア
ミド2.05gが得られ、このものをシリカゲル(80
g)上で、溶離剤として酢酸エチル中の5%メタノール
を用いてクロマトグラフィーにかけ、クロマトグラフィ
ーにかけたアセトアミド105gを得た。−20℃でテ
トラヒドロフラン:エーテル1:3から、次に室温でテ
トラヒドロフラン:エーテル1:2から再結晶させ、融
点90〜92°Cの単一ジアステレオマーとして、 [
I R,3R,5S 、5 (2S) ]]3−メチル
ー5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル] メチル]シクロヘキサンアセトアミド0
.23gを得た。母液からHPLC,(Waters
Prep 500.4%メタノール、48%酢酸エ
チル、48%ヘキサン)によって、更に0.35gが得
られた。
Q、飽和重炭酸ナトリウム溶液及び塩水で洗浄し、Na
2SO4上で乾燥した。溶媒を回転蒸発機で除去し、粗
製(7)[IR,3R,5S、5 (2S)]−]3−
メチルー5−[5−オキソ−I−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル1 メチル]シクロヘキザンアセトア
ミド2.05gが得られ、このものをシリカゲル(80
g)上で、溶離剤として酢酸エチル中の5%メタノール
を用いてクロマトグラフィーにかけ、クロマトグラフィ
ーにかけたアセトアミド105gを得た。−20℃でテ
トラヒドロフラン:エーテル1:3から、次に室温でテ
トラヒドロフラン:エーテル1:2から再結晶させ、融
点90〜92°Cの単一ジアステレオマーとして、 [
I R,3R,5S 、5 (2S) ]]3−メチル
ー5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル] メチル]シクロヘキサンアセトアミド0
.23gを得た。母液からHPLC,(Waters
Prep 500.4%メタノール、48%酢酸エ
チル、48%ヘキサン)によって、更に0.35gが得
られた。
’HNMR(CDCI2s) 80.4 (q、 J
= l OHz。
= l OHz。
LH,輪環CH) 、0.5−0.62 (m、2H。
輪環、CH) 、0.86 (dS J=6−5Hzs
3H。
3H。
CH3)、1.15 2.55 (m、 l 4H,
CH2及びCH) 、3.47 (m、L H,NCR
) 、3゜94及び4.97 (AB、 J’gem=
15Hz、 CH2Ph) 、5.30 (brd、
J−15Hz、2H1CONH2) 、7.20 7−
35 (m、5H,フェニル) 、 MS (E I)
:m/e342 (M”) 、 HRMS (FAB
):計算値C2、H3゜Nff02(M+H)34’2
.2307゜実測値(M+H) 342.2297oC
D(エタノール’)264 ([Q] =+115、m
ax) 、261 ([Q]−+52、m1n)、25
8 ([Q] =1 90、 max) 、 2
55 ([Qコー+1.07、m1n)、252 (
IQ) −+164、max) 、 233 ([
Q] = −1,850、max) 、216
([Q] =41.667、max) 、21 1
([Q] −+36,980、m1n) 、 19
6nm([Q] =+57812°、max)。
CH2及びCH) 、3.47 (m、L H,NCR
) 、3゜94及び4.97 (AB、 J’gem=
15Hz、 CH2Ph) 、5.30 (brd、
J−15Hz、2H1CONH2) 、7.20 7−
35 (m、5H,フェニル) 、 MS (E I)
:m/e342 (M”) 、 HRMS (FAB
):計算値C2、H3゜Nff02(M+H)34’2
.2307゜実測値(M+H) 342.2297oC
D(エタノール’)264 ([Q] =+115、m
ax) 、261 ([Q]−+52、m1n)、25
8 ([Q] =1 90、 max) 、 2
55 ([Qコー+1.07、m1n)、252 (
IQ) −+164、max) 、 233 ([
Q] = −1,850、max) 、216
([Q] =41.667、max) 、21 1
([Q] −+36,980、m1n) 、 19
6nm([Q] =+57812°、max)。
元素分析:C2□H3゜N2O2に対する計算値C,7
2,50:)(,8,69;N、8.05゜実測値:C
,72,27;H,8,91;N、8.06゜実施例1
5 [IR,3R,5S、5 (2S)] −]3−メチル
ー5−[5−オキソ−2−ピロリジニル]メチル1シク
ロヘキサンアセトアミド テトラヒドロフラン10mf2中の[I R,3R,5
S、5 (2S)]−]3−メチルー5−[5−オキソ
−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル
]シクロヘキサンアセトアミド(0゜58g、1.70
ミリモル)の溶液をドライアイス・コンデンサーを備え
たフラスコに入れ、この溶液中にアンモニアを凝縮させ
た。この溶液に還流下で、ナトリウム金属(0,39g
、17.0グラム原子)を小片づつ加えた。生した青色
の溶液を30分間撹拌し、固体の塩化アンモニウムの添
加によって反応を止めた。次に混合物を塩化メチレンで
希釈し、そして濾過した。濾液を回転蒸発機で濃縮し、
残渣をシリカゲル(15g)上で、溶離剤として酢酸エ
チルの5〜10%メタノールを用いてクロマトグラフィ
ーにかけ、融点190〜192℃(エタノール)の白色
固体として、[[lR,3R,5S、5 (2S)]
−]3−メチルー5−[5−オキソ−2−ピロリジニル
] メチル]シクロヘキサンアセトアミド0.275g
を得た。
2,50:)(,8,69;N、8.05゜実測値:C
,72,27;H,8,91;N、8.06゜実施例1
5 [IR,3R,5S、5 (2S)] −]3−メチル
ー5−[5−オキソ−2−ピロリジニル]メチル1シク
ロヘキサンアセトアミド テトラヒドロフラン10mf2中の[I R,3R,5
S、5 (2S)]−]3−メチルー5−[5−オキソ
−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル
]シクロヘキサンアセトアミド(0゜58g、1.70
ミリモル)の溶液をドライアイス・コンデンサーを備え
たフラスコに入れ、この溶液中にアンモニアを凝縮させ
た。この溶液に還流下で、ナトリウム金属(0,39g
、17.0グラム原子)を小片づつ加えた。生した青色
の溶液を30分間撹拌し、固体の塩化アンモニウムの添
加によって反応を止めた。次に混合物を塩化メチレンで
希釈し、そして濾過した。濾液を回転蒸発機で濃縮し、
残渣をシリカゲル(15g)上で、溶離剤として酢酸エ
チルの5〜10%メタノールを用いてクロマトグラフィ
ーにかけ、融点190〜192℃(エタノール)の白色
固体として、[[lR,3R,5S、5 (2S)]
−]3−メチルー5−[5−オキソ−2−ピロリジニル
] メチル]シクロヘキサンアセトアミド0.275g
を得た。
’ HN M R(CD CQs)δ0.4−0.6
(m、3H。
(m、3H。
輪環H) 、0.90(d、J =6Hz、3HJ C
Hs’)、1.3 2.20 (m、 l 4 H,
CH2及びCH)、3.77 (m、IH,CHN)
、5.45及び5.80 (2s、 2 H,C0NH
z) 、6.40 (s、 I H。
Hs’)、1.3 2.20 (m、 l 4 H,
CH2及びCH)、3.77 (m、IH,CHN)
、5.45及び5.80 (2s、 2 H,C0NH
z) 、6.40 (s、 I H。
NH) 。I R(CHCI2s) 1688cm−’
。MS (EI ) m/e252 (M”) 。CD
(エタ/−ル)21 5 ([Q] −−11,
120、max) 、 195([Q] −+21.
685、max) o元素分析C14H24N20□に
対する計算値:C,66,63;H。
。MS (EI ) m/e252 (M”) 。CD
(エタ/−ル)21 5 ([Q] −−11,
120、max) 、 195([Q] −+21.
685、max) o元素分析C14H24N20□に
対する計算値:C,66,63;H。
9.59 、N、11.10゜実測値:C,66,31
、H,9,56;NS 11.06゜[IR,3R,5
S、5 (2S)] −]3−メチルー5−[5−オキ
ソ−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセト
アミドの結晶構造決定強度データをヒルガーワッツ(H
ilger −WattS)回折計[Ni−フィルター
ト、Cu Ka照射、q−2qスキヤン、パルス−高
さ識別]。データ収集に用いた結晶の大きさは約0.1
2X0.15XO,85mmであった:データを吸収に
対して補正しなかった。q<576に対する1106非
依存性反射について、1063が認められるものとみな
した[I>2.5s(I)]。
、H,9,56;NS 11.06゜[IR,3R,5
S、5 (2S)] −]3−メチルー5−[5−オキ
ソ−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセト
アミドの結晶構造決定強度データをヒルガーワッツ(H
ilger −WattS)回折計[Ni−フィルター
ト、Cu Ka照射、q−2qスキヤン、パルス−高
さ識別]。データ収集に用いた結晶の大きさは約0.1
2X0.15XO,85mmであった:データを吸収に
対して補正しなかった。q<576に対する1106非
依存性反射について、1063が認められるものとみな
した[I>2.5s(I)]。
構造を多重−解明法によって解明し[ゲルメイン(G、
Germain) 、メイン(P、Main)及びウー
ルフラン(M、M、WOOlfSOn) 、アクタ・ク
リスタログラフイカ(Acta Cryst、) 、
A 27.368 (1971)]、全7トリツクスの
最少正方形によって精製した。最終精製において、非水
素原子に対して異方性熱パラメータを用い、構造因子計
算に対して等方性温度因子を用いたが、しかし、そのパ
ラメータは精製しなかった。最終不敵指数は監察された
反射1063に対してR=0.038及びWR=0.0
43である。最終相違マンノは±0.2eA−3より大
きなピークをもっていなかった。結晶データは次のとお
りである:結晶系 単斜晶 スペース・グループ P2、 (Space group) dell。
Germain) 、メイン(P、Main)及びウー
ルフラン(M、M、WOOlfSOn) 、アクタ・ク
リスタログラフイカ(Acta Cryst、) 、
A 27.368 (1971)]、全7トリツクスの
最少正方形によって精製した。最終精製において、非水
素原子に対して異方性熱パラメータを用い、構造因子計
算に対して等方性温度因子を用いたが、しかし、そのパ
ラメータは精製しなかった。最終不敵指数は監察された
反射1063に対してR=0.038及びWR=0.0
43である。最終相違マンノは±0.2eA−3より大
きなピークをもっていなかった。結晶データは次のとお
りである:結晶系 単斜晶 スペース・グループ P2、 (Space group) dell。
m(Cu Ka)
8.620(1)A
8.229(2)A
Il、424(2)A
111.50(1)0
1.111gcm−3
6,0cm−’
実施例16
[5s−5(2s)] −]3−オキソー5−[5−オ
キソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メ
ヂル] −1−シクロヘキセン−1,−酢酸エチルエス
テル エーテル15mα中のジイソプロピルアミン(0゜75
g、7.5ミリモル)の溶液に一50°Cでn−ブチル
リチウムの溶液(3,0mQ、ヘキサン中2゜5M、7
.5m4)を加え、混合物を−20乃至30°Cで30
分間撹拌した。エーテル15mα中のトリメチルシリル
酢酸エチル(1,20g、7.5ミリモル)の溶液を一
50°Cで加え、混合物を30乃至−4000で1時間
撹拌した。この溶液に50°Cで乾燥テトラヒドロフラ
ン15m+2中の(5S、1s)−5−[(3−エトキ
シ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチ
ル] −1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニン(
1,0g。
キソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メ
ヂル] −1−シクロヘキセン−1,−酢酸エチルエス
テル エーテル15mα中のジイソプロピルアミン(0゜75
g、7.5ミリモル)の溶液に一50°Cでn−ブチル
リチウムの溶液(3,0mQ、ヘキサン中2゜5M、7
.5m4)を加え、混合物を−20乃至30°Cで30
分間撹拌した。エーテル15mα中のトリメチルシリル
酢酸エチル(1,20g、7.5ミリモル)の溶液を一
50°Cで加え、混合物を30乃至−4000で1時間
撹拌した。この溶液に50°Cで乾燥テトラヒドロフラ
ン15m+2中の(5S、1s)−5−[(3−エトキ
シ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチ
ル] −1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニン(
1,0g。
3.06ミリモル)を加えた。添加に統いて、混合物を
0°Cに1時間にわたって徐々に加温し、氷水上に注い
だ。混合物を塩化メチレンで抽出し、月0 溶媒を回転蒸発機で除去した。残った物質をテトラヒト
o7ラン15m12に溶解し、12NHCQ15mff
を加え、混合物を室温で30分間撹拌した。
0°Cに1時間にわたって徐々に加温し、氷水上に注い
だ。混合物を塩化メチレンで抽出し、月0 溶媒を回転蒸発機で除去した。残った物質をテトラヒト
o7ラン15m12に溶解し、12NHCQ15mff
を加え、混合物を室温で30分間撹拌した。
混合物を塩化メチレンで抽出し、抽出液を飽和重炭酸ナ
トリウム溶液、塩水で洗浄し、Na25O。
トリウム溶液、塩水で洗浄し、Na25O。
上で乾燥した。溶媒を回転蒸発機で除去し、粗製の[5
S−5(S)]−]3−オキソー5−[5オキソ−1−
(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]−1
−シクロヘキセン−■−酢酸エチルエステル1.1gが
得られ、このものをシリカゲル(30g)上で、溶離剤
として酢酸エチル中の1%メタノールを用いてクロマト
グラフィにかけ、 [5s−5(s)] −]3−オキ
ソー5[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル1メチル]−1−シクロヘキセン−1−酢酸
エチルエステル0.8gを得た。分析するために、試料
を230−240°C/ 0.25 torrで蒸発的
に蒸留した。
S−5(S)]−]3−オキソー5−[5オキソ−1−
(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]−1
−シクロヘキセン−■−酢酸エチルエステル1.1gが
得られ、このものをシリカゲル(30g)上で、溶離剤
として酢酸エチル中の1%メタノールを用いてクロマト
グラフィにかけ、 [5s−5(s)] −]3−オキ
ソー5[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル1メチル]−1−シクロヘキセン−1−酢酸
エチルエステル0.8gを得た。分析するために、試料
を230−240°C/ 0.25 torrで蒸発的
に蒸留した。
l HN M R(CD Cl2s) δ1.26 C
t、 J=7HzXCH3)、1.25−2.60
(m、l IHXCH2及びCH)、3.14及び3.
15 (AB、Jgem= l 5H7,2H,CH
2C0) 、 3.47(m。
t、 J=7HzXCH3)、1.25−2.60
(m、l IHXCH2及びCH)、3.14及び3.
15 (AB、Jgem= l 5H7,2H,CH
2C0) 、 3.47(m。
] HSNCH) 、3.97及び5.00 (AB、
Jgem= 1 5 Hz、 2H,CH2Ph)
、 4.1 5 (q。
Jgem= 1 5 Hz、 2H,CH2Ph)
、 4.1 5 (q。
J =7Hz、 2H,0CH2) 、 7.20
7.40(m、5H,)x=ル) 。MS (E
I ) m/e369 (Mつ。元素分析二C2□H、
、N O、に対する計算値:C,71,52;H,7,
37;N、3.79゜実測値:C,70,75;H,7
,42;N。
7.40(m、5H,)x=ル) 。MS (E
I ) m/e369 (Mつ。元素分析二C2□H、
、N O、に対する計算値:C,71,52;H,7,
37;N、3.79゜実測値:C,70,75;H,7
,42;N。
3.62゜
実施例17
[I S、53,5 (2S)] −]3−オキソー5
−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル]メチルJ−シクロヘキサン酢酸エチルエステル エーテル30mα中の[5s−5(2s)] −]3−
オキソー5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]−1−シクロヘキセン−1
−酢酸エチルエステル(0,75g。
−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル]メチルJ−シクロヘキサン酢酸エチルエステル エーテル30mα中の[5s−5(2s)] −]3−
オキソー5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]−1−シクロヘキセン−1
−酢酸エチルエステル(0,75g。
2.03ミリモル)の溶液を炭素に担持させた10%パ
ラジウム(0,25g)上で50psiにて3時間水素
添加した。混合物を濾過して触媒を除去し、溶液を回転
蒸発機で除去した。粗製の生成物をシリカゲル上で、溶
離剤として酢酸エチル中の1%メタノールを用いクロマ
トグラフィーにかけ、[I S、5 S、5 (2S)
] −]3−オキソー5−[5−オキソ−1−(フェ
ニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル] シクロヘ
キサン酢酸エチル0.6gを得た。分析するために、試
料を220〜240℃10.25torrで蒸発的に蒸
留した。
ラジウム(0,25g)上で50psiにて3時間水素
添加した。混合物を濾過して触媒を除去し、溶液を回転
蒸発機で除去した。粗製の生成物をシリカゲル上で、溶
離剤として酢酸エチル中の1%メタノールを用いクロマ
トグラフィーにかけ、[I S、5 S、5 (2S)
] −]3−オキソー5−[5−オキソ−1−(フェ
ニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル] シクロヘ
キサン酢酸エチル0.6gを得た。分析するために、試
料を220〜240℃10.25torrで蒸発的に蒸
留した。
’ HN M R(CD C(23)δ0.95 (m
SI H,動源H)、1−25 (5J=7Hz、3H
,CH3)、1−6 2.6 (ml 13H1CH2
及びCH)、345 (m、I H,NCR) 、3.
97及び4.98(AB、Jgem=45Hz、2H,
CH2Ph) 、4゜12 (qS J=7Hz、2H
,0CH2) 、7.207.40 (m、 5H,
フェニル)。MS(El)m/e371 (M”)。[
a] B−+16.8 a。
SI H,動源H)、1−25 (5J=7Hz、3H
,CH3)、1−6 2.6 (ml 13H1CH2
及びCH)、345 (m、I H,NCR) 、3.
97及び4.98(AB、Jgem=45Hz、2H,
CH2Ph) 、4゜12 (qS J=7Hz、2H
,0CH2) 、7.207.40 (m、 5H,
フェニル)。MS(El)m/e371 (M”)。[
a] B−+16.8 a。
(co、9359、メタノール)。元素分析:C22H
2,N O、に対する計算値:C,71,13;H。
2,N O、に対する計算値:C,71,13;H。
7.87 、N、3.77゜実測値:C,71,08;
H,7,72;N、 3.75゜実施例18 [2−[(フェニルメチル)アミノコエチル1ホスホン
酸ジエチルエステル 水中の2.5%HCff50mff中のジエチルホスホ
ノアセトアルデヒドジエチルアセタール(12゜Og、
0.047モル)を還流下で30分間加熱した。溶液を
室温に冷却し、塩化ナリトウムで飽和させ、塩化メチレ
ンで抽出した。合液した抽出液を塩水及び飽和重炭酸ナ
トリウム溶液の1=1混合物で洗浄し、そして酢酸ナト
リウム上で乾燥した。溶媒を回転蒸発機で除去し、ジエ
チルホスホノアセテアルデヒドの残渣(8,0g)を精
製せずに用いた。粗製のジエチルホスホノアセトアルデ
ヒドをメタノール25m(2に溶解し、ベンジルアミン
(5,4g、0.05モル)を加えた。混合物を1時間
撹拌し、溶媒を回転蒸発機で除去し、残渣を90〜b 油として、 [2−[(フェニルメチル)アミノ]エチ
ル]ホスホン酸ジエチルエステル(6,60g)を得た
。’HNMR(CDCI2.)δ1.28(t。
H,7,72;N、 3.75゜実施例18 [2−[(フェニルメチル)アミノコエチル1ホスホン
酸ジエチルエステル 水中の2.5%HCff50mff中のジエチルホスホ
ノアセトアルデヒドジエチルアセタール(12゜Og、
0.047モル)を還流下で30分間加熱した。溶液を
室温に冷却し、塩化ナリトウムで飽和させ、塩化メチレ
ンで抽出した。合液した抽出液を塩水及び飽和重炭酸ナ
トリウム溶液の1=1混合物で洗浄し、そして酢酸ナト
リウム上で乾燥した。溶媒を回転蒸発機で除去し、ジエ
チルホスホノアセテアルデヒドの残渣(8,0g)を精
製せずに用いた。粗製のジエチルホスホノアセトアルデ
ヒドをメタノール25m(2に溶解し、ベンジルアミン
(5,4g、0.05モル)を加えた。混合物を1時間
撹拌し、溶媒を回転蒸発機で除去し、残渣を90〜b 油として、 [2−[(フェニルメチル)アミノ]エチ
ル]ホスホン酸ジエチルエステル(6,60g)を得た
。’HNMR(CDCI2.)δ1.28(t。
J=7Hz、6H,CHs’s) 、3.95 4.3
0(m、 7 H、CH2’S及びビニルH) 、4
.8 (brsS I H,NH) 、7.20 7.
42 (m16H。
0(m、 7 H、CH2’S及びビニルH) 、4
.8 (brsS I H,NH) 、7.20 7.
42 (m16H。
フェニル及びビニルH)。
実施例19
[I S、5R,5(2S)] −5−[[5−オキソ
−2−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル] メチ
ル]−3−[[(フェニルメチル)イミノ1エチリデン
] シクロヘキサン酢酸エチルエステルエーテル15m
Q中のジイソプロピルアミン(1゜40g、14.0ミ
リモル)の溶液に一30°Cでヘキサン中のn−ブチル
リチウムの溶液(5、6mQ。
−2−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル] メチ
ル]−3−[[(フェニルメチル)イミノ1エチリデン
] シクロヘキサン酢酸エチルエステルエーテル15m
Q中のジイソプロピルアミン(1゜40g、14.0ミ
リモル)の溶液に一30°Cでヘキサン中のn−ブチル
リチウムの溶液(5、6mQ。
2.5M、14.0ミリモル)を加えた。混合物を30
°Cで30分間撹拌し、テトラヒドロフラン10mff
中の[2−[(フェニルメチル)アミノ]エチル] −
ホスホン酸ジエチルエステル(3,76g、14.0ミ
リモル)を−40℃で加えた。この溶液を−15乃至−
20°Cで1時間撹拌し、次に−40°Cに冷却した。
°Cで30分間撹拌し、テトラヒドロフラン10mff
中の[2−[(フェニルメチル)アミノ]エチル] −
ホスホン酸ジエチルエステル(3,76g、14.0ミ
リモル)を−40℃で加えた。この溶液を−15乃至−
20°Cで1時間撹拌し、次に−40°Cに冷却した。
この溶液を一40’OでテトラヒドロフランlOm(l
中の[I S、5S、5 (2S)] −]オキソー5
−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル]メチル1シクロヘキサン酢酸エチルエステル(
1,30g、3゜80ミリモル)の溶液を加えた。混合
物を撹拌し、徐々ζこ0°Cに加温し、次に氷水中に注
ぎ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を塩水で洗浄し、
Na2SO4上で乾燥し、溶媒を回転蒸発機で除去した
。
中の[I S、5S、5 (2S)] −]オキソー5
−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル]メチル1シクロヘキサン酢酸エチルエステル(
1,30g、3゜80ミリモル)の溶液を加えた。混合
物を撹拌し、徐々ζこ0°Cに加温し、次に氷水中に注
ぎ、塩化メチレンで抽出した。抽出液を塩水で洗浄し、
Na2SO4上で乾燥し、溶媒を回転蒸発機で除去した
。
粗製の生成物をシリカゲル上で、溶離剤として酢酸エチ
ル中の1%エタノールを用いてクロマトグラフィーに□
かけ、 [FS、5R,5(2S)] −5−[[5
−オキソ−1−(フェニル)−2−ピロリジニルコメチ
ル]−3−[[(フェニルメチル)イミノ]エチリデン
]シクロヘキサン酢酸エチルエステル0.72gが得ら
れ、このものはまた約30〜50%の対応するアルデヒ
ド、 [lS、5R。
ル中の1%エタノールを用いてクロマトグラフィーに□
かけ、 [FS、5R,5(2S)] −5−[[5
−オキソ−1−(フェニル)−2−ピロリジニルコメチ
ル]−3−[[(フェニルメチル)イミノ]エチリデン
]シクロヘキサン酢酸エチルエステル0.72gが得ら
れ、このものはまた約30〜50%の対応するアルデヒ
ド、 [lS、5R。
5(2S)コ −3−オキソエチリデン−5−[[オキ
ソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチ
ル]シクロヘキサン酢酸エチルエステルを含んでいた。
ソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチ
ル]シクロヘキサン酢酸エチルエステルを含んでいた。
’ HN M R(CD C63)δ0.65−1.c
lO(m。
lO(m。
2H,輪環H)、1.15−1.35 (253H1C
H3)、3.50 (m、 l 1(、NCH)、3
,954.20(m、4、CH3CO)、4.00、及
び5.00 (ABXJ gern= 15 Hz、
2 H,CH,Ph)、5.87及び6.05 (2
br d、 l H,ビニルH)、7.20−7.4
0 (m、6H17ff−、:、 L及びイミンJi)
、8.34 (br d、約0 、5 H、アルデヒ
1!ヒニルH)、9.96 (2a、、r=7.5Hz
、CHO(E/Z)) 。クロマトグラフィにかけたイ
ミン/アルデヒド混合物を次の工程に直接用いた。
H3)、3.50 (m、 l 1(、NCH)、3
,954.20(m、4、CH3CO)、4.00、及
び5.00 (ABXJ gern= 15 Hz、
2 H,CH,Ph)、5.87及び6.05 (2
br d、 l H,ビニルH)、7.20−7.4
0 (m、6H17ff−、:、 L及びイミンJi)
、8.34 (br d、約0 、5 H、アルデヒ
1!ヒニルH)、9.96 (2a、、r=7.5Hz
、CHO(E/Z)) 。クロマトグラフィにかけたイ
ミン/アルデヒド混合物を次の工程に直接用いた。
実施例20
[I S、5R,5(2S)]−5−[[5−オキソ−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]
−3−[[1−(フェニルメチル)IH−イミダゾル
ー5−イル]メチレン] シクロヘキザン酢酸エチルエ
ステル メタノール40m(l中の実施例19によるイミン/ア
ルデヒド混合物(1,315g、 2.70ミリモル
)の溶液にベンジルアミン(2,75g。
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]
−3−[[1−(フェニルメチル)IH−イミダゾル
ー5−イル]メチレン] シクロヘキザン酢酸エチルエ
ステル メタノール40m(l中の実施例19によるイミン/ア
ルデヒド混合物(1,315g、 2.70ミリモル
)の溶液にベンジルアミン(2,75g。
25.7ミリモル)を加え、混合物を4八分子ふるい上
にて室温で1時間撹拌した。混合物を濾過し、はとんど
のメタノールを回転蒸発機で除去し、次に塩化メチレン
で希釈した。この溶液を無水Mg5O,上で乾燥し、メ
タノール溶媒を回転蒸発機で除去した。イミン及びベン
ジルアミンからなる残渣をメタノール45m+2に再溶
解し、4トルエンスルホニルメチル−インシアニド(T
。
にて室温で1時間撹拌した。混合物を濾過し、はとんど
のメタノールを回転蒸発機で除去し、次に塩化メチレン
で希釈した。この溶液を無水Mg5O,上で乾燥し、メ
タノール溶媒を回転蒸発機で除去した。イミン及びベン
ジルアミンからなる残渣をメタノール45m+2に再溶
解し、4トルエンスルホニルメチル−インシアニド(T
。
SMIC)(2,65g、13.6ミリモル)を加えた
。この溶液を室温で一夜撹拌し、回転蒸発機で、次に3
5℃/ 1 、0 t o r rで濃縮した。残渣を
シリカゲル上で、溶離剤として塩化メチレン中の2%メ
タノールを用いてクロマトグラフィtこ か 1す、
「 LS、 5R,5(2S) コ −
5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル1メチル] −3−[N−(フェニルメチル
)−1H−イミダゾルー5−イル]メチレン1シクロヘ
キザン酢酸エチルエステル0.98gを得tこ。 ’
HNMR(CDC1,) δ 0.6−0.7(m
、LH,輪環H)、1.23 (t、J−6Hz3H,
0CR3) 、 3.42 (b r s、
l HN CR) 、 5 、07 (s 、 2 H
、イミダゾールNCH2P h) 、5 78 (s
、 1. H,ビニルIH)、6.92及び7.54
(2s 2Hイミダゾール−H’s)、7.0−7.
4 (m、IOH。
。この溶液を室温で一夜撹拌し、回転蒸発機で、次に3
5℃/ 1 、0 t o r rで濃縮した。残渣を
シリカゲル上で、溶離剤として塩化メチレン中の2%メ
タノールを用いてクロマトグラフィtこ か 1す、
「 LS、 5R,5(2S) コ −
5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル1メチル] −3−[N−(フェニルメチル
)−1H−イミダゾルー5−イル]メチレン1シクロヘ
キザン酢酸エチルエステル0.98gを得tこ。 ’
HNMR(CDC1,) δ 0.6−0.7(m
、LH,輪環H)、1.23 (t、J−6Hz3H,
0CR3) 、 3.42 (b r s、
l HN CR) 、 5 、07 (s 、 2 H
、イミダゾールNCH2P h) 、5 78 (s
、 1. H,ビニルIH)、6.92及び7.54
(2s 2Hイミダゾール−H’s)、7.0−7.
4 (m、IOH。
フェニル)
実施例21
[13,5R,5(2S)] −5−[[5−オキソ−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル]
−3−[[1−(フェニルメチル)LH−イミダゾル
ー5−イル1メチレン]シクロヘキザンアセトアミド [is、5R,5(2s)]−5−[[5−オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]
−3−[[1−(フェニルメチル)IH−イミダゾルー
5−イル] メチレン1シクロヘキサン酢酸エチルエス
テル(0,98g、186ミリモル)をエタノールIB
mQ中にて水酸−1]8 化カリウム(0,56g、10.0ミリモル)と共に7
5°Cに加熱した。混合物を回転蒸発機で濃縮し、水1
5rnQで希釈し、2N HCIでpH値3.5の酸
性にした。混合物を塩化メチレンで抽出し、合液した抽
出液をNa25O,上で乾燥し、溶媒を回転蒸発機で除
去し、[15,5R,5(2S)] −5−[[5−[
[5−オキソ−1(フェニルメチル)−2−ピロリジニ
ル1メチル]3−[[1−(フェニルメチル)−1H−
イミダゾルー5−イル]メチレン]シクロヘキサン酢酸
を得た。粗製の酸をクロロホルム50rnQに溶解し、
−30°Cに冷却し、クロロギ酸エチル(0゜85g、
10.0ミリモル)、次にトリエチルアミン(1,Og
、10.0ミリモル)で処理した。
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル]
−3−[[1−(フェニルメチル)LH−イミダゾル
ー5−イル1メチレン]シクロヘキザンアセトアミド [is、5R,5(2s)]−5−[[5−オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]
−3−[[1−(フェニルメチル)IH−イミダゾルー
5−イル] メチレン1シクロヘキサン酢酸エチルエス
テル(0,98g、186ミリモル)をエタノールIB
mQ中にて水酸−1]8 化カリウム(0,56g、10.0ミリモル)と共に7
5°Cに加熱した。混合物を回転蒸発機で濃縮し、水1
5rnQで希釈し、2N HCIでpH値3.5の酸
性にした。混合物を塩化メチレンで抽出し、合液した抽
出液をNa25O,上で乾燥し、溶媒を回転蒸発機で除
去し、[15,5R,5(2S)] −5−[[5−[
[5−オキソ−1(フェニルメチル)−2−ピロリジニ
ル1メチル]3−[[1−(フェニルメチル)−1H−
イミダゾルー5−イル]メチレン]シクロヘキサン酢酸
を得た。粗製の酸をクロロホルム50rnQに溶解し、
−30°Cに冷却し、クロロギ酸エチル(0゜85g、
10.0ミリモル)、次にトリエチルアミン(1,Og
、10.0ミリモル)で処理した。
混合物を撹拌し、0°Cに徐々に加温し、溶液にアンモ
ニアを吹き込みなから0℃に20分間保持した。白色懸
濁液を0°Cで1時間撹拌し、次に室温に加温した。混
合物を濾過して塩化アンモニウム沈殿物を除去し、回転
蒸発機で濃縮した。残渣をシリカゲル(乾燥カラム)上
で、溶離剤としてりロロホルム、メタノール、水及ヒ酢
酸の9=3:3:0.6比で振盪して調製した混合物の
低相を用いてクロマトグラフィーにかけた。クロマトグ
ラフィーフラクションを飽和重炭酸ナトリウムで洗浄し
、蒸発前にNa25O,上で乾燥し、 [IS。
ニアを吹き込みなから0℃に20分間保持した。白色懸
濁液を0°Cで1時間撹拌し、次に室温に加温した。混
合物を濾過して塩化アンモニウム沈殿物を除去し、回転
蒸発機で濃縮した。残渣をシリカゲル(乾燥カラム)上
で、溶離剤としてりロロホルム、メタノール、水及ヒ酢
酸の9=3:3:0.6比で振盪して調製した混合物の
低相を用いてクロマトグラフィーにかけた。クロマトグ
ラフィーフラクションを飽和重炭酸ナトリウムで洗浄し
、蒸発前にNa25O,上で乾燥し、 [IS。
5R,5(2s)] −5−[[5−[[5−オキソ−
1(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル]
−5−[[1−(フェニルメチル)−1H−イミダゾル
ー5−イル1メチレン1シクロヘキサンアセトアミド0
.7gを得た。’HNMR(CDC13)δ0.58−
0.80 (m、IH。
1(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル]
−5−[[1−(フェニルメチル)−1H−イミダゾル
ー5−イル1メチレン1シクロヘキサンアセトアミド0
.7gを得た。’HNMR(CDC13)δ0.58−
0.80 (m、IH。
輪環H)、2.74 (brd、J=l IHz。
CH,のCH)、3.42 (brs、IH。
NCH)、3.96及び4.96 (AB、Jgem=
15Hz、2H,ラクタムにおけるCH,Ph)。
15Hz、2H,ラクタムにおけるCH,Ph)。
5.04(s、2H,イミダゾールにおけるNCH2P
h)、5.37 (brd、J−8Hz、2H。
h)、5.37 (brd、J−8Hz、2H。
C0NH2)、5.78 (S、IH,ビニルH)。
6.91及び7.46 (2s、2H,イミダゾールH
’s) 、 6.99−7.’40 (m、 IOHフ
ェニル)。
’s) 、 6.99−7.’40 (m、 IOHフ
ェニル)。
実施例22
[IS、3R,5(2S)、5S]−5−[[5オキソ
−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル
] −3−[[1−(フェニルメチル)−1H−イミダ
ゾルー5−イル1メチル]シクロヘキサンアセトアミド エタノール30m12中の[IS、 5R5(2s)]
−5−[[5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジニルコメチル13−[[1−(フェ
ニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル1メチレン
1シクロヘキサンアセトアミド(0,67g、1.35
ミリモル)の溶液を炭素に担持させた10%パラジウム
(0,15g)上にて1気圧で一夜水素添加した。混合
物を濾過し、溶媒を回転蒸発機で除去した。粗製の生成
物をシリカゲル上で(乾燥カラム)、溶離剤としてクロ
ロホルム、メタノール、水及び酢酸の9:3:l:0.
6の比と共に振盪して調製した混合物の低相を用いてク
ロマトグラフィーにかけた。
−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル
] −3−[[1−(フェニルメチル)−1H−イミダ
ゾルー5−イル1メチル]シクロヘキサンアセトアミド エタノール30m12中の[IS、 5R5(2s)]
−5−[[5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジニルコメチル13−[[1−(フェ
ニルメチル)−1H−イミダゾルー5−イル1メチレン
1シクロヘキサンアセトアミド(0,67g、1.35
ミリモル)の溶液を炭素に担持させた10%パラジウム
(0,15g)上にて1気圧で一夜水素添加した。混合
物を濾過し、溶媒を回転蒸発機で除去した。粗製の生成
物をシリカゲル上で(乾燥カラム)、溶離剤としてクロ
ロホルム、メタノール、水及び酢酸の9:3:l:0.
6の比と共に振盪して調製した混合物の低相を用いてク
ロマトグラフィーにかけた。
クロマトグラフィーフラクションを飽和重炭酸ナトリウ
ム溶液で洗浄し、Na25O,上で乾燥し、蒸発させ、
回収した出発物質0.21gと共に、[IS、3R,5
(2S)、53]−5−[[5[[5−オキソ−1−(
フェニルメチル)−2−ビロリジニル]メチル]−3−
、[[l−(フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5
−イル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド0.31
gを得た。回収した物質を再水素添加し、追加の[ls
、3R,5(23)、5s] −5−[[5−[[5−
オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコ
メチル] −3−[[1−(フェニルメチル)−1H−
イミダゾルー5−イル]メチル]シクロヘキサンアセト
アミド0.124g(収率70%)を得た。’HNMR
(CD30D)δ0゜15 0.32(m、LH,輪環
H)、3.42(br、s、IH,NCR)、3.92
及び4.92(AB、Jgem=15Hz、2H,ラク
トンにおけるCH2Ph)、5.05 (s、2H,イ
ミダゾールにおけるCH2Ph)、、5.40 (a、
J=12Hz、2H,C0NH2)、6.80及び7.
48 (2s、2H,イミダゾールのH’s)、7.0
0−7.40 (m、 l OH,フェニル)、MS
(E I) 499(Mつ。HRMS (FAB):C
3□H38N 402(M+H)に対する計算値=49
9.3073゜実測値: (M+H) 499.31
03、CD (e thano I)264
([Q] −89、m1n)、 261 ([Q
] −232゜m1n)、258 ([Q] =
−89,m1n)。
ム溶液で洗浄し、Na25O,上で乾燥し、蒸発させ、
回収した出発物質0.21gと共に、[IS、3R,5
(2S)、53]−5−[[5[[5−オキソ−1−(
フェニルメチル)−2−ビロリジニル]メチル]−3−
、[[l−(フェニルメチル)−1H−イミダゾルー5
−イル]メチル]シクロヘキサンアセトアミド0.31
gを得た。回収した物質を再水素添加し、追加の[ls
、3R,5(23)、5s] −5−[[5−[[5−
オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコ
メチル] −3−[[1−(フェニルメチル)−1H−
イミダゾルー5−イル]メチル]シクロヘキサンアセト
アミド0.124g(収率70%)を得た。’HNMR
(CD30D)δ0゜15 0.32(m、LH,輪環
H)、3.42(br、s、IH,NCR)、3.92
及び4.92(AB、Jgem=15Hz、2H,ラク
トンにおけるCH2Ph)、5.05 (s、2H,イ
ミダゾールにおけるCH2Ph)、、5.40 (a、
J=12Hz、2H,C0NH2)、6.80及び7.
48 (2s、2H,イミダゾールのH’s)、7.0
0−7.40 (m、 l OH,フェニル)、MS
(E I) 499(Mつ。HRMS (FAB):C
3□H38N 402(M+H)に対する計算値=49
9.3073゜実測値: (M+H) 499.31
03、CD (e thano I)264
([Q] −89、m1n)、 261 ([Q
] −232゜m1n)、258 ([Q] =
−89,m1n)。
254 ([Q] =−232,max)、252
([Q]= 149.m1n)、241([Q]=
−1,429,max)、 240 ([Q]
=1.190.m1n)、233 ([Q] −−
2゜619、max)、21 9 ([Q] −+
33,930° 、max)、210 ([Q]
−+28,570° 、m1n)、200nm ([
Q] =+50゜000° 、max) 。
([Q]= 149.m1n)、241([Q]=
−1,429,max)、 240 ([Q]
=1.190.m1n)、233 ([Q] −−
2゜619、max)、21 9 ([Q] −+
33,930° 、max)、210 ([Q]
−+28,570° 、m1n)、200nm ([
Q] =+50゜000° 、max) 。
実施例23
[I S、3R,5(2S)、5S]−5−[[5−オ
キソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メ
チル]−3−[(]、]H−イミダゾールー5−イルメ
チル]シクロヘキザンアセタミド メタノール50mQ中の[I S 、3 R,5(2S
)。
キソ−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メ
チル]−3−[(]、]H−イミダゾールー5−イルメ
チル]シクロヘキザンアセタミド メタノール50mQ中の[I S 、3 R,5(2S
)。
5S]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)
2−ピロリジニルコメチル]−3−[[1−フェニルメ
チル)−1H−イミダゾール−5−イル]メチル]シク
ロヘキザンアセタミト(loOmg、02ミリモル)の
溶液を、炭素上の10%パラジウムの上で50°Cで1
0気圧の水素によ+1119時間還元した。混合物をン
濾過し、溶媒を回転蒸発器で除去した。残留物を、クロ
ロホルム、メタノール、水及び酢酸を9:3:1.:0
.6の割合で振とうさせることにより調製した混合物の
下相で溶離するシリカゲル(5g)でのクロマトグラフ
ィーにかけて、[I S、3R,5(2S)、5S]
−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−
ピロリジニル]メチル]−3−[(IH−イミダゾール
−5−イル)メチル]シクロヘキザンアセタミド0.0
43gが融点94.−100℃の固体として得られた。
2−ピロリジニルコメチル]−3−[[1−フェニルメ
チル)−1H−イミダゾール−5−イル]メチル]シク
ロヘキザンアセタミト(loOmg、02ミリモル)の
溶液を、炭素上の10%パラジウムの上で50°Cで1
0気圧の水素によ+1119時間還元した。混合物をン
濾過し、溶媒を回転蒸発器で除去した。残留物を、クロ
ロホルム、メタノール、水及び酢酸を9:3:1.:0
.6の割合で振とうさせることにより調製した混合物の
下相で溶離するシリカゲル(5g)でのクロマトグラフ
ィーにかけて、[I S、3R,5(2S)、5S]
−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−
ピロリジニル]メチル]−3−[(IH−イミダゾール
−5−イル)メチル]シクロヘキザンアセタミド0.0
43gが融点94.−100℃の固体として得られた。
′HNMR(CD、OD)δ0.40−2.60(m、
19H,CH及びCH2’s)、3.55 (m、IH
。
19H,CH及びCH2’s)、3.55 (m、IH
。
N CH)、4.08及び4.80(AB、Jgem−
15Hz、CH2P h)、6.80(s、LH,、イ
ミダシル環H)、7.55(s、IH,イミダゾール環
H)、7.20−7.40(m、5H,フェニル)。M
S(E I) m/e 409 (Mつ。HRMS (
FAB ) : C21H3□N402に対する計算
値(M十H)409.2603゜実測値・ (M+H)
409.2623、CD (エタノール)264 (
[Ql =→−112,max)、 262 ([
Ql −+64゜m1n)、 258 ([Ql
−+168.max)。
15Hz、CH2P h)、6.80(s、LH,、イ
ミダシル環H)、7.55(s、IH,イミダゾール環
H)、7.20−7.40(m、5H,フェニル)。M
S(E I) m/e 409 (Mつ。HRMS (
FAB ) : C21H3□N402に対する計算
値(M十H)409.2603゜実測値・ (M+H)
409.2623、CD (エタノール)264 (
[Ql =→−112,max)、 262 ([
Ql −+64゜m1n)、 258 ([Ql
−+168.max)。
254 ([Ql −+104.m1n)、251
([Ql −+160.max)、 232 (
[Q]=−1,440,max)、 216 ([
Ql −+34,000.max)、212 ([
Ql −+30.000.m1n)、199nm
([Ql −+49000°、max)。
([Ql −+160.max)、 232 (
[Q]=−1,440,max)、 216 ([
Ql −+34,000.max)、212 ([
Ql −+30.000.m1n)、199nm
([Ql −+49000°、max)。
実施例24
[]、S、3 R,5(2S)、53F−3−(I H
−イミダゾール−5−イル−メチル)−5−[(5−オ
キソー2−ピロリジニル)−メチル〕シクロヘキザンア
セタミド テトラヒドロ7ラン3m4中の[I S、3 R,5(
:2S)、55l−5−[[5−オキソ−1−(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジニルコメチル]−3−[IH
−イミダゾール−5−イル)メチル〕シクロヘキザンア
セタミド(42mg、 0. 103ミリモル)の溶
液に、液体アンモニア(3mUを加えた。この溶液にナ
トリウム金属(23mg、 l 、 0mg原子)を
加えた。青色溶液を一33°Cで還流下に30分間撹拌
しそして固体塩化アンモニウムでクエンチングした。ア
ンモニアを蒸発させ、残留ペーストをメタノールでスラ
リーとしそしてi濾過した。メタノールを回転蒸発器で
除去し、残留物(22mg)を、水に続いて3%水酸化
アンモニウムで溶離するAG50WX4イオン交換樹脂
でのクロマトグラフィにかけて、塩を含まないN S、
3R,5(2S)腎S]−5−(IH−イミダゾール−
5−イル−メチル)−3−[5−オキソ−2−ピロリジ
ニル)−メチルJシクロヘキザンアセタミド20Bを得
た。
−イミダゾール−5−イル−メチル)−5−[(5−オ
キソー2−ピロリジニル)−メチル〕シクロヘキザンア
セタミド テトラヒドロ7ラン3m4中の[I S、3 R,5(
:2S)、55l−5−[[5−オキソ−1−(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジニルコメチル]−3−[IH
−イミダゾール−5−イル)メチル〕シクロヘキザンア
セタミド(42mg、 0. 103ミリモル)の溶
液に、液体アンモニア(3mUを加えた。この溶液にナ
トリウム金属(23mg、 l 、 0mg原子)を
加えた。青色溶液を一33°Cで還流下に30分間撹拌
しそして固体塩化アンモニウムでクエンチングした。ア
ンモニアを蒸発させ、残留ペーストをメタノールでスラ
リーとしそしてi濾過した。メタノールを回転蒸発器で
除去し、残留物(22mg)を、水に続いて3%水酸化
アンモニウムで溶離するAG50WX4イオン交換樹脂
でのクロマトグラフィにかけて、塩を含まないN S、
3R,5(2S)腎S]−5−(IH−イミダゾール−
5−イル−メチル)−3−[5−オキソ−2−ピロリジ
ニル)−メチルJシクロヘキザンアセタミド20Bを得
た。
みず−メタノール勾配液で溶離して更に精製し[ウォー
ターズデルタプレパラティブHP L C(Water
s Delta Prep HPLC,逆相、デルタ−
バク(DeltaPak)C−18/15m、 7.
8mmX30cn+)、続いて画分を凍結乾燥して、純
粋な[13,3R,5(2S)、5 S]−3−(I
H−イミダゾール−5−イル−メチル)−5−[(5−
オキソ−2−ピロリジニル)−メチル]シクロヘキサン
アセタミド7.5mgが白色の固体、融点105−11
0°C1として得られた。’HNMR(CD30D)
δ0.6−0゜75 (m、LH,アキシャル環H)、
2.70(b r s、2H,CH2−イミダゾール)
、3.72 (m、IH,NCR)、6.81及び7.
56(2s、2H,イミダゾールH’s、)。MS(F
AB)m/e 319 (M+H) 。HRMS(FA
B):C,アH26N402に対する計算値(M+H)
319.2134゜実測値: (M+H)319.21
22゜ 実施例25 f9R,9(5S))−5−[(7−メチル−1,4−
ジオキサスピロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)
メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン エチレングリコール1.5m12とp−トルエンスルホ
ン酸(約10mg)を含むトルエン2QmQ中の(5S
、1R)−5−[(3−メチル−5−オキソ−3−シク
ロヘキセン−1−イル)メチル]−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジノン(0,63g、2゜12ミリモ
ル)の溶液を、水分離器の下で6時間加熱還流した。こ
の溶液を10%の炭酸カリウム及び水でで洗浄し、Na
2SO4で乾燥した。溶媒を回転蒸発器で除去し、粗製
生成物を酢酸エチルで溶離するシリカゲルでのクロマト
グラフィーにかけて、[9R,9’(5S)]−5−[
7−メチル−14−ジオキサスピロ[4,51デカ−6
−エン−9−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジノン0.47g(収率65%)が得られ
た。
ターズデルタプレパラティブHP L C(Water
s Delta Prep HPLC,逆相、デルタ−
バク(DeltaPak)C−18/15m、 7.
8mmX30cn+)、続いて画分を凍結乾燥して、純
粋な[13,3R,5(2S)、5 S]−3−(I
H−イミダゾール−5−イル−メチル)−5−[(5−
オキソ−2−ピロリジニル)−メチル]シクロヘキサン
アセタミド7.5mgが白色の固体、融点105−11
0°C1として得られた。’HNMR(CD30D)
δ0.6−0゜75 (m、LH,アキシャル環H)、
2.70(b r s、2H,CH2−イミダゾール)
、3.72 (m、IH,NCR)、6.81及び7.
56(2s、2H,イミダゾールH’s、)。MS(F
AB)m/e 319 (M+H) 。HRMS(FA
B):C,アH26N402に対する計算値(M+H)
319.2134゜実測値: (M+H)319.21
22゜ 実施例25 f9R,9(5S))−5−[(7−メチル−1,4−
ジオキサスピロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)
メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン エチレングリコール1.5m12とp−トルエンスルホ
ン酸(約10mg)を含むトルエン2QmQ中の(5S
、1R)−5−[(3−メチル−5−オキソ−3−シク
ロヘキセン−1−イル)メチル]−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジノン(0,63g、2゜12ミリモ
ル)の溶液を、水分離器の下で6時間加熱還流した。こ
の溶液を10%の炭酸カリウム及び水でで洗浄し、Na
2SO4で乾燥した。溶媒を回転蒸発器で除去し、粗製
生成物を酢酸エチルで溶離するシリカゲルでのクロマト
グラフィーにかけて、[9R,9’(5S)]−5−[
7−メチル−14−ジオキサスピロ[4,51デカ−6
−エン−9−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)
−2−ピロリジノン0.47g(収率65%)が得られ
た。
’HNMR(CD Cl 3)δ0.95−2.6 (
m。
m。
11H,cH及びCH2)、3.45 (brs、LH
,NCR)、3.8−4.1 (m、3H,ケタール
CH2’s及びCH2Phの半分) 、 5.03 (
ABの半分、J−15Hz、2H,CHgPh)。
,NCR)、3.8−4.1 (m、3H,ケタール
CH2’s及びCH2Phの半分) 、 5.03 (
ABの半分、J−15Hz、2H,CHgPh)。
5.08 (s、IH,ビニルH)、7.15−7゜4
(m、5H,フェニル)。
(m、5H,フェニル)。
実施例26
[9R,9(5S)]−5−[7−メチル−14−ジオ
キサスピロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)メチ
ル]−2−ピロリジノン 還流下のテトラヒドロフラン14mQ、及び液体アンモ
ニア2amff中の[9R,9(5S)]−5−[7−
メチル−1,4−ジオキサスピロ[4,5]デカ−6−
エン−9−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジノン(0,745g、2゜2ミリモル)の
溶液に、ナトリウム金属片(0,25g5 l 1.
0mg原子)を青色溶液が形成されるまで加えた。この
混合物を還流して20分間撹拌し、固体塩化アンモニウ
ムの添加によりクエンチングした。アンモニアを蒸発さ
せ、混合物を塩化メチレンで希釈し、濾過し、濃縮して
、粗製生成物0゜553gを得た。この内0.275g
を酢酸エチル中4%メタノールで溶離するシリカゲル(
Log)でのクロマトグラフィーにかけて、[9R,9
(5S)]−5−[7−メチル−1,4−ジオキサスピ
ロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)メチル]−2
−ピロリジノン0.15gが回収された[9R,9(2
S)]−5−[7−メチル−1,4−ジオキサスピロ[
4,5コデカ−6−エンー9−イル)メチル]−1−(
フェニルメチル)−2−ピロリジノン0.044gと共
に得られた。’HNMR(CDCl2)δ0.9−2.
6 (m、l 4H,CH及びCH、’s)。
キサスピロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)メチ
ル]−2−ピロリジノン 還流下のテトラヒドロフラン14mQ、及び液体アンモ
ニア2amff中の[9R,9(5S)]−5−[7−
メチル−1,4−ジオキサスピロ[4,5]デカ−6−
エン−9−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジノン(0,745g、2゜2ミリモル)の
溶液に、ナトリウム金属片(0,25g5 l 1.
0mg原子)を青色溶液が形成されるまで加えた。この
混合物を還流して20分間撹拌し、固体塩化アンモニウ
ムの添加によりクエンチングした。アンモニアを蒸発さ
せ、混合物を塩化メチレンで希釈し、濾過し、濃縮して
、粗製生成物0゜553gを得た。この内0.275g
を酢酸エチル中4%メタノールで溶離するシリカゲル(
Log)でのクロマトグラフィーにかけて、[9R,9
(5S)]−5−[7−メチル−1,4−ジオキサスピ
ロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)メチル]−2
−ピロリジノン0.15gが回収された[9R,9(2
S)]−5−[7−メチル−1,4−ジオキサスピロ[
4,5コデカ−6−エンー9−イル)メチル]−1−(
フェニルメチル)−2−ピロリジノン0.044gと共
に得られた。’HNMR(CDCl2)δ0.9−2.
6 (m、l 4H,CH及びCH、’s)。
3.6−4.05 (m、5H,NCH及びケタールC
Hz’s)、5.32 (s、IH,ビニルH)。
Hz’s)、5.32 (s、IH,ビニルH)。
5.94 (s、IH,NH)。
実施例27
[9R,9(5S)]−1−[(4−メトキシフェニル
)メチル]−5−[7−メチル−1,4−ジオキサスピ
ロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)メチル]−2
−ピロリジノン トルエンlOm+2中の水素化ナトリウム(60%分散
液80mg、2.0ミリモル)の懸濁液に、[9+30 R,9(53)コー5−[7−メチル−1,4−ジオキ
サスピロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)メチル
]−2−ピロリジノン(210mg、 84ミリモル
)及び4−メトキシベンジルクロライド(300mg、
1.92ミリモル)を加え、この混合物を100°Cに
1時間加熱した。混合物を冷却し、水に注ぎ、塩化メチ
レンで抽出した。−緒にした抽出物をブラインで洗浄し
、Na25Oaで乾燥し、溶媒を回転蒸発器で除去した
。残留物を、酢酸エチルで溶離するシリカゲル(15g
)でのクロマトグラフィーにかけて、[9R,9(5S
)] −1−[4−メトキシフェニル)メチル]−5−
[7−メチル−1,4−ジオキサスピロ[4,5]デカ
−6−エン−9−イル)メチルコー2−ピロリジノン1
50mgを得た。’H’ NMR(CDCl3)81
.1−2゜6 (m、14H,CH及びCH2’S)、
3 、44(m、LH,NCR)、3.82 (s、3
H。
)メチル]−5−[7−メチル−1,4−ジオキサスピ
ロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)メチル]−2
−ピロリジノン トルエンlOm+2中の水素化ナトリウム(60%分散
液80mg、2.0ミリモル)の懸濁液に、[9+30 R,9(53)コー5−[7−メチル−1,4−ジオキ
サスピロ[4,5]デカ−6−エン−9−イル)メチル
]−2−ピロリジノン(210mg、 84ミリモル
)及び4−メトキシベンジルクロライド(300mg、
1.92ミリモル)を加え、この混合物を100°Cに
1時間加熱した。混合物を冷却し、水に注ぎ、塩化メチ
レンで抽出した。−緒にした抽出物をブラインで洗浄し
、Na25Oaで乾燥し、溶媒を回転蒸発器で除去した
。残留物を、酢酸エチルで溶離するシリカゲル(15g
)でのクロマトグラフィーにかけて、[9R,9(5S
)] −1−[4−メトキシフェニル)メチル]−5−
[7−メチル−1,4−ジオキサスピロ[4,5]デカ
−6−エン−9−イル)メチルコー2−ピロリジノン1
50mgを得た。’H’ NMR(CDCl3)81
.1−2゜6 (m、14H,CH及びCH2’S)、
3 、44(m、LH,NCR)、3.82 (s、3
H。
0CHs)、3.8 4−02 (m、5H,ケタール
CH2’s及びCH,Arの部分) 、 4.97 (
AB 、 J −15Hz 、 I H、CH2A
rの部分)。
CH2’s及びCH,Arの部分) 、 4.97 (
AB 、 J −15Hz 、 I H、CH2A
rの部分)。
5.19 (s、iH,ビニルH)、6.86及び7゜
18 (AB、J=8−5Hz、4H芳香族H)。
18 (AB、J=8−5Hz、4H芳香族H)。
実施例28
[5S、IR]−1−[4−71へキシフェニル)メチ
ル]−5−[3−メチル−5−オキソ−3−シクロヘキ
セン−1−イル)メチルコーン−ピロリジノン 2%水性アセトン中の[9R,9(5S)]−1−14
−メトキシフェニル)メチル]−5−[7−メチル−1
,4−ジオキサスピロ「45コデカー6−エンー9−イ
ル)メチル]−2−ピロリジノン(260mgsO−7
ミリモル)及びアンバーリスh(Amberlyst)
−15イオン交換樹脂(180mg)の混合物を、室
温で一夜撹拌した。この混合物を濾過し、溶媒を回転蒸
発器で除去して、粗製生成物210mgを得た。この物
質を酢酸エチルで溶離するシリカゲル(7g)でのクロ
マトグラフィーにかけて、[5S、lR]−1−[4−
メトキシフェニル)メチル]−5−[3−メチル−5−
オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチル]−2
−ピロリジノン190mgを得た。’HNMR(CDC
l2)δl。
ル]−5−[3−メチル−5−オキソ−3−シクロヘキ
セン−1−イル)メチルコーン−ピロリジノン 2%水性アセトン中の[9R,9(5S)]−1−14
−メトキシフェニル)メチル]−5−[7−メチル−1
,4−ジオキサスピロ「45コデカー6−エンー9−イ
ル)メチル]−2−ピロリジノン(260mgsO−7
ミリモル)及びアンバーリスh(Amberlyst)
−15イオン交換樹脂(180mg)の混合物を、室
温で一夜撹拌した。この混合物を濾過し、溶媒を回転蒸
発器で除去して、粗製生成物210mgを得た。この物
質を酢酸エチルで溶離するシリカゲル(7g)でのクロ
マトグラフィーにかけて、[5S、lR]−1−[4−
メトキシフェニル)メチル]−5−[3−メチル−5−
オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチル]−2
−ピロリジノン190mgを得た。’HNMR(CDC
l2)δl。
23−2.55 (m、1 ]、H,CH及びCH2’
s)1.96 (s、3H,ビニルCH3) 、 3
.45(m、L H,NCR)、3.85及び4,94
(AB、J=15Hz、2H,CH2Ph)、5゜89
(s、LH,ビニルH)、6.85及び7.16 (
AB、J=E15Hz、4H,芳香族H)。
s)1.96 (s、3H,ビニルCH3) 、 3
.45(m、L H,NCR)、3.85及び4,94
(AB、J=15Hz、2H,CH2Ph)、5゜89
(s、LH,ビニルH)、6.85及び7.16 (
AB、J=E15Hz、4H,芳香族H)。
上記の[9R,9(5S)]−1−[4−メトキシフェ
ニル)メチル]−5−[3−メチル−5−オキソ−3−
シクロヘキセン−1−イル)メチル〕−2−ピロリジノ
ンを、実施例12−14に記載の方法に従って転化して
、[I R,3R,5S、5(2S)]−]3−メチル
ー5−[オキソ−1−[(4−メトキシフェニル)メチ
ル1−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセ
タミドを得た。’HNMR(CDC13)δ0.3−2
.5 (m、CH及びCHz’s)、0.87 (d、
J=6Hz、3H環CH3)、3.44 (m、l H
,NCR)、3.80 (s、3H,0CH3)、3.
87及び4.94(AB、J ”” 15Hz、2H,
CH2Ph)、5゜1−5−35 (m、2H,NH2
)、6.84及び7.14 (AB J=9Hz、4
H,芳香族H)。
ニル)メチル]−5−[3−メチル−5−オキソ−3−
シクロヘキセン−1−イル)メチル〕−2−ピロリジノ
ンを、実施例12−14に記載の方法に従って転化して
、[I R,3R,5S、5(2S)]−]3−メチル
ー5−[オキソ−1−[(4−メトキシフェニル)メチ
ル1−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセ
タミドを得た。’HNMR(CDC13)δ0.3−2
.5 (m、CH及びCHz’s)、0.87 (d、
J=6Hz、3H環CH3)、3.44 (m、l H
,NCR)、3.80 (s、3H,0CH3)、3.
87及び4.94(AB、J ”” 15Hz、2H,
CH2Ph)、5゜1−5−35 (m、2H,NH2
)、6.84及び7.14 (AB J=9Hz、4
H,芳香族H)。
同様にして、[9R,9(5S)]−5−[(7−メチ
ル−1,4−ジオキサスピロ[4,5]デカ−6−エン
−9−イル)メチル]−2−ピロリジノンを、他のアル
キルハライド及びアラルキルハライドと実施例27.2
8及び12−14に記載の方法に従って反応させて、表
■に記載の生成物を得た。
ル−1,4−ジオキサスピロ[4,5]デカ−6−エン
−9−イル)メチル]−2−ピロリジノンを、他のアル
キルハライド及びアラルキルハライドと実施例27.2
8及び12−14に記載の方法に従って反応させて、表
■に記載の生成物を得た。
表1.l−置換−[I R,3R,5S、5(2S)]
−]3−メチルー5−5−オキソ−2−ピロリジニル1
メチル]シクロヘキサンアセタミド類ヨウ化メチル H3 実施例31 (5S、1. R)−5−[(5−オキソ−3−シクロ
ヘキセン−1−イル)メチル]−1−(フェニルメチル
)−2−ピロリジノン 0°Cのメタノール15m12中の(5S、IR)−5
[3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1
−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロ
リジノン)0.51g、1.56m+2)の溶液に、塩
化セリウム(0,745g、3.0ミリモル)を加えた
。この混合物に、水素化ホウ素ナトリウム(0,115
g、:3.0ミリモル)を分量して加え、混合物を0℃
で30分間撹拌した。水(15mQ)を加え、この溶液
を塩化メチレンで抽出した。−緒にした抽出物をブライ
ンで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、回転蒸発器で濃
縮して、還元生成物0.47gを得た。この物質をテト
ラヒドロフラン(10mQ)に溶解し、3NHC1(I
Qm(2)を加えた。溶液を50°Cに5時間加熱し、
室温に冷却し、塩化メチルで抽出した。−緒にした抽出
物をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発
させて、(5S、IR)−5−[(5−オキソ−3−シ
クロヘキセン−1−イル)メチル]−1−(フェニルメ
チル)−2−ピロリジノン0゜44gがガム状の油とし
て得られた。
−]3−メチルー5−5−オキソ−2−ピロリジニル1
メチル]シクロヘキサンアセタミド類ヨウ化メチル H3 実施例31 (5S、1. R)−5−[(5−オキソ−3−シクロ
ヘキセン−1−イル)メチル]−1−(フェニルメチル
)−2−ピロリジノン 0°Cのメタノール15m12中の(5S、IR)−5
[3−エトキシ−5−オキソ−3−シクロヘキセン−1
−イル)メチル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロ
リジノン)0.51g、1.56m+2)の溶液に、塩
化セリウム(0,745g、3.0ミリモル)を加えた
。この混合物に、水素化ホウ素ナトリウム(0,115
g、:3.0ミリモル)を分量して加え、混合物を0℃
で30分間撹拌した。水(15mQ)を加え、この溶液
を塩化メチレンで抽出した。−緒にした抽出物をブライ
ンで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、回転蒸発器で濃
縮して、還元生成物0.47gを得た。この物質をテト
ラヒドロフラン(10mQ)に溶解し、3NHC1(I
Qm(2)を加えた。溶液を50°Cに5時間加熱し、
室温に冷却し、塩化メチルで抽出した。−緒にした抽出
物をブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発
させて、(5S、IR)−5−[(5−オキソ−3−シ
クロヘキセン−1−イル)メチル]−1−(フェニルメ
チル)−2−ピロリジノン0゜44gがガム状の油とし
て得られた。
実施例32
[IR,3S、3(2S)]−3−[[5−オキソ−1
−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチルコシ
クロヘキサンアセタミド 実施例12−14の方法に従って、(5S、IR)−5
−[5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチ
ル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン0.
44gを、エチルトリメチルシリルアセテートとの反応
、続いて接触水素化、けん化及びアミド、[I R,3
3,3(2S)]−3−[[5−才キソー1−(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサ
ンアセタミドへの転化を介して、[IR,3S、3(2
S)]−3−[5−才キソー1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセタミド
に転化した。
−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチルコシ
クロヘキサンアセタミド 実施例12−14の方法に従って、(5S、IR)−5
−[5−オキソ−3−シクロヘキセン−1−イル)メチ
ル]−1−(フェニルメチル)−2−ピロリジノン0.
44gを、エチルトリメチルシリルアセテートとの反応
、続いて接触水素化、けん化及びアミド、[I R,3
3,3(2S)]−3−[[5−才キソー1−(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサ
ンアセタミドへの転化を介して、[IR,3S、3(2
S)]−3−[5−才キソー1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセタミド
に転化した。
クロロホルム中の2−4%のメタノールで溶離するシリ
カゲルでのクロマトグラフィーにかけた後、0.26g
の[I R,3S、3(2S)]−3−[5−オキソ−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]
シクロヘキサンアセタミドが得られた。
カゲルでのクロマトグラフィーにかけた後、0.26g
の[I R,3S、3(2S)]−3−[5−オキソ−
1−(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]
シクロヘキサンアセタミドが得られた。
この生成物はNMRによるとlSジアステレオマーのい
くらかも含んでいた。
くらかも含んでいた。
実施例33
[I S、5R,5(2S)]−3−(フェニルメチレ
ン)−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]ジシクロヘキサン酢酸エス
テル 0°Cのトルエン15mQ中の臭化へンジルトリフェニ
ルホスホニウム(0,43g、1.0ミリモル)の懸濁
液に、n−ブチルリチウム(ヘキサン中の2.5M溶液
0.4mQ)を加えた。この混合物を水浴温度で1時間
撹拌し、ケトエステル、[1s 、5 s 、5 (2
S)]−]3−オキソー5−[5−オキソ−1−(フェ
ニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]ジシクロヘ
キサン酢酸エステル(0,18g、0.5ミリモル)を
加えた。次いでこの混合物を−夜加熱還流し、冷却し、
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。−緒にした抽出物を
ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
除去し、残留物を塩化メチレン、続いて酢酸エチルテ溶
離するシリカゲルでのクロマトグラフィーにかけて、ベ
ンジリデン化合物、[I S、5R,5(2S)]−3
−(フェニルメチレン)−5−[[5−オキソ−1−(
フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロ
ヘキサン酢酸エステル0.02gを得た。
ン)−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル]メチル]ジシクロヘキサン酢酸エス
テル 0°Cのトルエン15mQ中の臭化へンジルトリフェニ
ルホスホニウム(0,43g、1.0ミリモル)の懸濁
液に、n−ブチルリチウム(ヘキサン中の2.5M溶液
0.4mQ)を加えた。この混合物を水浴温度で1時間
撹拌し、ケトエステル、[1s 、5 s 、5 (2
S)]−]3−オキソー5−[5−オキソ−1−(フェ
ニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]ジシクロヘ
キサン酢酸エステル(0,18g、0.5ミリモル)を
加えた。次いでこの混合物を−夜加熱還流し、冷却し、
水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。−緒にした抽出物を
ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
除去し、残留物を塩化メチレン、続いて酢酸エチルテ溶
離するシリカゲルでのクロマトグラフィーにかけて、ベ
ンジリデン化合物、[I S、5R,5(2S)]−3
−(フェニルメチレン)−5−[[5−オキソ−1−(
フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シクロ
ヘキサン酢酸エステル0.02gを得た。
’ HNM R(CD Cl s)δ0.8−0.95
(m。
(m。
3H,CH3)、3.9 4.2 (m、2H,CH2
C0及びI H,CH2F h) 、 4 、’92及
び5,00 (2d、J−12Hz、I H9CHxP
h) 。
C0及びI H,CH2F h) 、 4 、’92及
び5,00 (2d、J−12Hz、I H9CHxP
h) 。
6.29 (s、1’H,ビニルH)、’7.1−7.
4(5H1芳香族H) 。MS(E I ) m/ e
445(Mつ。
4(5H1芳香族H) 。MS(E I ) m/ e
445(Mつ。
実施例34
[I S、3R,5(2S)、5S]−5−[[5−オ
キソ−1’−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコ
メチル]−3−[[1−(フェニルメチル)−1Hイミ
ダゾール−5−イル]メチル]シクロヘキサンN−メチ
ルアセタミド及び[I S、3 R,5(2S)、55
l−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2
−ピロリジニルコメチル]−3−[(LHイミダゾール
−5−イル)メチル]シクロヘキサンーN−メチルアセ
タミド 実施例21の方法に従い、[I S、5R,5(23)
−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピ
ロリジニル]メチル]−3−[[1−(フェニルメチル
)−1H−イミダゾール−5−イル]メチレン]シクロ
ヘキサン酢酸エステル(0,69g51゜31ミリモル
)から出発して、このエステルのけん化を行いそして説
明したようにエチルクロロホルメート及びトリエチルア
ミンとの活性エステルを形成させる。前記活性エステル
を含む溶液に、無水メチルアミン(実施例21の場合の
アンモニアの代わりに)15mffを加えた。溶液を室
温で30分間撹拌し、濃縮した。残留物をクロマトグラ
フィーにかけて、クロマトグラフィーの後に中間体[I
S、5R,5(2S)]−]5−[5−オキソ−1(
フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]−3−
[N−(フェニルメチル)−1H−イミダゾール−5−
イル]メヂレン1ンクロヘキザンーN−メチルアセタミ
ド80mgか得られた。この化合物を実施例22のよう
にして1気圧の水素で炭素上の10%パラジウムの上で
接触水素化させて、[IS、3R,5(23)、5S]
−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル]メチル]3−[[1−(フェニルメチル)
−1H−イミダゾルー5−イル]メチル]ンクロヘキサ
ンーN−メチルアセタミド60mgを得た。実施例23
のようにして50°C及び150psiの水素で24時
間還元して、CHCl、9部部、CH30H30部、水
10部及び酢酸6部を振とうさせることにより調製した
混合物の下相で溶離するシリカゲルでのクロマトグラフ
ィーの後、所望の[S、3R,5(2S)、5S]−5
+−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル]メチル]−3−[IH−イミダゾール−5
−イル)メチル1シクロヘキサンN−メチルアセタミド
30mgが固体として得られた。この生成物は融点−9
0−93°Cを有していた。HRMS(FAB)・C2
s H34N 402についての計算値(M十H)42
2.2682゜実測値(M+H)422.2656゜ 実施例35 [I R,3R,5(2S)]−3−[1−(フェニル
メチル)]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジニル1メチル1シクロヘキサンアセ
タミド ベンジリデン誘導体、[I S、5R,5(2S)]−
3−(フェニルメチレン)−5−[[5−オキソ−1=
(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シク
ロヘキサン酢酸エステル(0,02g)をけん化させ、
実施例14の方法に従ってアミドに転化させて、シリカ
ゲルでのクロマトグラフィーの後、「IS 、5 R,
5(2s)]−3−(フェニルメチレン)5− [[5
−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニル]
メチル]シクロヘキサンアセタミド8.0mgが得られ
た。メタノール溶液中炭素上の10%パラジウムの上で
接触水素化して、所望のベンジル誘導体、[I R,3
R,5(2S)]−]3−−(フェニルメチル)]−]
5−[5−オキンーl(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル1メチル1シクロヘキサンアセタミド4mgが得
られた。1HNMR(CD(13)δ0.4−0.65
(m、2H。
キソ−1’−(フェニルメチル)−2−ピロリジニルコ
メチル]−3−[[1−(フェニルメチル)−1Hイミ
ダゾール−5−イル]メチル]シクロヘキサンN−メチ
ルアセタミド及び[I S、3 R,5(2S)、55
l−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2
−ピロリジニルコメチル]−3−[(LHイミダゾール
−5−イル)メチル]シクロヘキサンーN−メチルアセ
タミド 実施例21の方法に従い、[I S、5R,5(23)
−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピ
ロリジニル]メチル]−3−[[1−(フェニルメチル
)−1H−イミダゾール−5−イル]メチレン]シクロ
ヘキサン酢酸エステル(0,69g51゜31ミリモル
)から出発して、このエステルのけん化を行いそして説
明したようにエチルクロロホルメート及びトリエチルア
ミンとの活性エステルを形成させる。前記活性エステル
を含む溶液に、無水メチルアミン(実施例21の場合の
アンモニアの代わりに)15mffを加えた。溶液を室
温で30分間撹拌し、濃縮した。残留物をクロマトグラ
フィーにかけて、クロマトグラフィーの後に中間体[I
S、5R,5(2S)]−]5−[5−オキソ−1(
フェニルメチル)−2−ピロリジニル1メチル]−3−
[N−(フェニルメチル)−1H−イミダゾール−5−
イル]メヂレン1ンクロヘキザンーN−メチルアセタミ
ド80mgか得られた。この化合物を実施例22のよう
にして1気圧の水素で炭素上の10%パラジウムの上で
接触水素化させて、[IS、3R,5(23)、5S]
−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル]メチル]3−[[1−(フェニルメチル)
−1H−イミダゾルー5−イル]メチル]ンクロヘキサ
ンーN−メチルアセタミド60mgを得た。実施例23
のようにして50°C及び150psiの水素で24時
間還元して、CHCl、9部部、CH30H30部、水
10部及び酢酸6部を振とうさせることにより調製した
混合物の下相で溶離するシリカゲルでのクロマトグラフ
ィーの後、所望の[S、3R,5(2S)、5S]−5
+−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−ピ
ロリジニル]メチル]−3−[IH−イミダゾール−5
−イル)メチル1シクロヘキサンN−メチルアセタミド
30mgが固体として得られた。この生成物は融点−9
0−93°Cを有していた。HRMS(FAB)・C2
s H34N 402についての計算値(M十H)42
2.2682゜実測値(M+H)422.2656゜ 実施例35 [I R,3R,5(2S)]−3−[1−(フェニル
メチル)]−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチ
ル)−2−ピロリジニル1メチル1シクロヘキサンアセ
タミド ベンジリデン誘導体、[I S、5R,5(2S)]−
3−(フェニルメチレン)−5−[[5−オキソ−1=
(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]メチル]シク
ロヘキサン酢酸エステル(0,02g)をけん化させ、
実施例14の方法に従ってアミドに転化させて、シリカ
ゲルでのクロマトグラフィーの後、「IS 、5 R,
5(2s)]−3−(フェニルメチレン)5− [[5
−オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニル]
メチル]シクロヘキサンアセタミド8.0mgが得られ
た。メタノール溶液中炭素上の10%パラジウムの上で
接触水素化して、所望のベンジル誘導体、[I R,3
R,5(2S)]−]3−−(フェニルメチル)]−]
5−[5−オキンーl(フェニルメチル)−2−ピロリ
ジニル1メチル1シクロヘキサンアセタミド4mgが得
られた。1HNMR(CD(13)δ0.4−0.65
(m、2H。
アキシャルH)、2.3−2.6(m、2H,CH2C
o)、3.4−3.5(m、IH,CHN)、3.94
及び4.95(ad、2H,PhCH2)、5.25(
br d、J−15Hz、C0NH2)、7.05−
7.35(m、10H,芳香族)。MS(El)m/
e 447 (M+)。
o)、3.4−3.5(m、IH,CHN)、3.94
及び4.95(ad、2H,PhCH2)、5.25(
br d、J−15Hz、C0NH2)、7.05−
7.35(m、10H,芳香族)。MS(El)m/
e 447 (M+)。
実施例 36
[I S、3R,5(2S)]−3−4(1−メチル−
LHイミダゾール−5−イル)メチル]−5−[[5オ
キソ−1−フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチ
ル1シクロヘキサンアセトアミド及び[IS、3R,5
(2S)、5S]−3−[(1−メチル−IH−イミダ
ゾール−4−イル)メチル]−5−([5オキソ−1−
(フェニルメチル)−2−ピロリジニル)メチル1シク
ロヘキサンアセi・アミド1、mQの塩化メチレンに溶
解した[I S、3 R,5(2S)]−3−[(LH
−イミダゾール−5−イル)メチル]−5−[[5−オ
キソ−1−フェニルメチル)2−ピロリジニル1メチル
]−5−シクロヘキサンアセトアミド(0,04,49
)の溶液を氷浴中で撹拌しながら過剰の4−ジメチルア
ミノピリジン及びピリジンを添加した。塩化アセチル(
17m9.2.0当量)を添加し、混合物を徐々に室温
に上昇させ、次いで水中に注加し、塩化メチレンで抽出
した。抽出物を一緒にし、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、蒸発すると粗製のアセテートが0.0
55g得られた。粗製生成物をシリカゲル上でクロマト
グラフにかけ、90部のクロロホルム、15−30部の
メタノール、10部の水及び6部の酢酸を振盪すること
により製造された混合物の他相で溶離すると、アセチル
化されたイミダゾール化合物が得られた。混合物(5m
9)をアセトニトリル中で2時間還流しなから過剰の沃
化メチルで処理し、次いで溶剤を蒸発し、残渣を2.5
Nの水酸化すl・リウムと共に加温し30分間還流した
。中和後、溶液を塩化メチレンで抽出し、抽出液を一緒
にして硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発すると、二種の
メチル化されたイミダゾール化合物、即ち、[I S、
3R,5(2S)]3− [(1−メチル−IH−イミ
ダゾール−5イル)メチル]−5−[[5−オキソ−1
−フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル1シク
ロヘキサンアセトアミド及び[I S、3R,5(2S
)、5S]3−[(1−メチル−IH−イミダゾール−
4イル)メチル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジニル)メチル]シクロヘキサ
ンアセトアミドの11..5混合物が得られた。’ H
N M R(’CD Cl s)δ 3.50及び3゜
60 (2s、3HSCH3−イミダゾール−N)、3
.90及び4.95 (dd、J、、、−12Hz。
LHイミダゾール−5−イル)メチル]−5−[[5オ
キソ−1−フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチ
ル1シクロヘキサンアセトアミド及び[IS、3R,5
(2S)、5S]−3−[(1−メチル−IH−イミダ
ゾール−4−イル)メチル]−5−([5オキソ−1−
(フェニルメチル)−2−ピロリジニル)メチル1シク
ロヘキサンアセi・アミド1、mQの塩化メチレンに溶
解した[I S、3 R,5(2S)]−3−[(LH
−イミダゾール−5−イル)メチル]−5−[[5−オ
キソ−1−フェニルメチル)2−ピロリジニル1メチル
]−5−シクロヘキサンアセトアミド(0,04,49
)の溶液を氷浴中で撹拌しながら過剰の4−ジメチルア
ミノピリジン及びピリジンを添加した。塩化アセチル(
17m9.2.0当量)を添加し、混合物を徐々に室温
に上昇させ、次いで水中に注加し、塩化メチレンで抽出
した。抽出物を一緒にし、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、蒸発すると粗製のアセテートが0.0
55g得られた。粗製生成物をシリカゲル上でクロマト
グラフにかけ、90部のクロロホルム、15−30部の
メタノール、10部の水及び6部の酢酸を振盪すること
により製造された混合物の他相で溶離すると、アセチル
化されたイミダゾール化合物が得られた。混合物(5m
9)をアセトニトリル中で2時間還流しなから過剰の沃
化メチルで処理し、次いで溶剤を蒸発し、残渣を2.5
Nの水酸化すl・リウムと共に加温し30分間還流した
。中和後、溶液を塩化メチレンで抽出し、抽出液を一緒
にして硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発すると、二種の
メチル化されたイミダゾール化合物、即ち、[I S、
3R,5(2S)]3− [(1−メチル−IH−イミ
ダゾール−5イル)メチル]−5−[[5−オキソ−1
−フェニルメチル)−2−ピロリジニルコメチル1シク
ロヘキサンアセトアミド及び[I S、3R,5(2S
)、5S]3−[(1−メチル−IH−イミダゾール−
4イル)メチル]−5−[[5−オキソ−1−(フェニ
ルメチル)−2−ピロリジニル)メチル]シクロヘキサ
ンアセトアミドの11..5混合物が得られた。’ H
N M R(’CD Cl s)δ 3.50及び3゜
60 (2s、3HSCH3−イミダゾール−N)、3
.90及び4.95 (dd、J、、、−12Hz。
2H,CH2Ph) 、6.55及び6.72(2br
s s 2 Hs ビニルH)7.15−7.35
(M。
s s 2 Hs ビニルH)7.15−7.35
(M。
5H,芳香族)。MS (El)m/e 422(m
つ。
つ。
実施例37
湿式粒状化配合
TG
106.99 106.5 102.0 118.
03、アビセル(Avicel) PH10215,015,015,025,04、変性
デンプン 7.0 7.0 7.0 10.
05、マグネシウム デンプン 1.0 1.0 1.0
2.0総計 130.0 130.0
13(LO180,0製造方法: ■、アルコールなどの適当な溶媒に成分1を溶解する。
03、アビセル(Avicel) PH10215,015,015,025,04、変性
デンプン 7.0 7.0 7.0 10.
05、マグネシウム デンプン 1.0 1.0 1.0
2.0総計 130.0 130.0
13(LO180,0製造方法: ■、アルコールなどの適当な溶媒に成分1を溶解する。
2、工程1の溶液を成分2の上に広げ、乾燥する。
3、成分3及び4を加えそしてlO0分間混する。
4、ステアリン酸マグネシウムを加えそして3分間混合
し、そして圧密化する。
し、そして圧密化する。
実施例38
カプセル配合
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
11式
%式%
式中、RIは水素、低級アルキルまたはアリル−低級ア
ルキルであり;R2は水素、低級アルキル、アリール、
アリール−低級アルキル、 総計 200.0 200.0 200
.0 200.0製造方法: 1、成分1,2及び3を適当なミキサーで300分間混
する。
ルキルであり;R2は水素、低級アルキル、アリール、
アリール−低級アルキル、 総計 200.0 200.0 200
.0 200.0製造方法: 1、成分1,2及び3を適当なミキサーで300分間混
する。
2、成分4及び5を加え、そして3分間混合する。
3、適当なカプセルに充填する。
R5
であり、ここで、R6及びR6は水素、低級アルキルま
たはアリール−低級アルキルであり;R4及びR4は独
立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級アルキ
ルである、の化合物或いはそのエナンチオマー、ジアス
テレオマーまたはラセミ体、及びR2か 低級アルキルであり R2が水素、低級アルキル または である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩。
たはアリール−低級アルキルであり;R4及びR4は独
立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級アルキ
ルである、の化合物或いはそのエナンチオマー、ジアス
テレオマーまたはラセミ体、及びR2か 低級アルキルであり R2が水素、低級アルキル または である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩。
2、「アリール」が単独、または「アリール低級アルキ
ル」においてもフェニルまたはす7チルであるか、或い
はフェニルまたはナフチルはハロゲン、トリフルオロメ
チル、低級アルキル及び低級アルコキシからなる群より
独立に選ばれる1個または2個の置換基をもつ上記1に
記載の化合物。
ル」においてもフェニルまたはす7チルであるか、或い
はフェニルまたはナフチルはハロゲン、トリフルオロメ
チル、低級アルキル及び低級アルコキシからなる群より
独立に選ばれる1個または2個の置換基をもつ上記1に
記載の化合物。
3、R2がアリール以外のものであり、そして「アリー
ル−低級アルキル」における「アリール」がフェニルま
たはハロゲントリフルオロメチル及び低級アルキルから
なる群より独立に選ばれる1個または2個の置換基をも
つフェニルである上記1に記載の化合物。
ル−低級アルキル」における「アリール」がフェニルま
たはハロゲントリフルオロメチル及び低級アルキルから
なる群より独立に選ばれる1個または2個の置換基をも
つフェニルである上記1に記載の化合物。
4、R1か水素、低級アルキルまたはアリールであり、
ここで、R6は水素またはアリール−低級アルキルであ
り;そしてR3及びR4が独立に、水素または低級アル
キルである上記1〜3のいずれかに記載の化合物。
ここで、R6は水素またはアリール−低級アルキルであ
り;そしてR3及びR4が独立に、水素または低級アル
キルである上記1〜3のいずれかに記載の化合物。
5、R1が水素またはアリール−低級アルキルであり、
R2が低級アルキルまたは であり、ここでR5は水素またはアリール−低級アルキ
ルであり;そしてR3及びR4が水素である上記4に記
載の化合物。
R2が低級アルキルまたは であり、ここでR5は水素またはアリール−低級アルキ
ルであり;そしてR3及びR4が水素である上記4に記
載の化合物。
6、式
式中、R1は水素、低級アルキルまたはアリール−低級
アルキルであり:R2′は水素、低級アルキルまたはア
リール−低級アルキルであり;そしてR3及びR6は独
立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級アルキ
ルである、 の上記1〜3のいずれかに記載の化合物。
アルキルであり:R2′は水素、低級アルキルまたはア
リール−低級アルキルであり;そしてR3及びR6は独
立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級アルキ
ルである、 の上記1〜3のいずれかに記載の化合物。
7、R1が水素またはアリール−低級アルキルであり:
R2が水素または低級アルキルであり:そしてR3及び
R6が水素である上記6に記載の化合物或いはそのエナ
ンチオマ 8、式 式中、R1は水素、低級アルキルまたはアリル−低級ア
ルキルであり;R2〃は であり、ここで、R5及びR6は水素、低級アルキルま
たはアリール−低級アルキルであり;そしてR8及びR
1は独立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級
アルキルである、上記4に記載の化合物或いはそのエナ
ンチオマーまたはそのラセミ体。
R2が水素または低級アルキルであり:そしてR3及び
R6が水素である上記6に記載の化合物或いはそのエナ
ンチオマ 8、式 式中、R1は水素、低級アルキルまたはアリル−低級ア
ルキルであり;R2〃は であり、ここで、R5及びR6は水素、低級アルキルま
たはアリール−低級アルキルであり;そしてR8及びR
1は独立に、水素、低級アルキルまたはアリール−低級
アルキルである、上記4に記載の化合物或いはそのエナ
ンチオマーまたはそのラセミ体。
9、R3が水素またはアリール−低級アルキルであり;
R2が R6 であり、ここで、R6は水素またはアリール−低級アル
キルであり:そしてR3及びR2が水素である上記8に
記載の化合物。
R2が R6 であり、ここで、R6は水素またはアリール−低級アル
キルであり:そしてR3及びR2が水素である上記8に
記載の化合物。
10、[lR,3R,5S、5(2S)]−]3−メチ
ルー5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−
ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミドで
ある上記1に記載の化合物。
ルー5−[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−
ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミドで
ある上記1に記載の化合物。
11、 [IR,3R,5S、5(2S)]−]3−
メチルー5−[5−オキソ−2−ピロリジニル]メチル
]シクロヘキサンアセトアミドである上記lに記載の化
合物。
メチルー5−[5−オキソ−2−ピロリジニル]メチル
]シクロヘキサンアセトアミドである上記lに記載の化
合物。
12、 [lR,3R,5S、5(2S)]−]3−
メチルー5−[5−オキソ−1[(4−メトキシフェニ
ル)メチル]−2−ピロリジニル] メチル]シクロヘ
キサンアセトアミドである上記1に記載の化合物。
メチルー5−[5−オキソ−1[(4−メトキシフェニ
ル)メチル]−2−ピロリジニル] メチル]シクロヘ
キサンアセトアミドである上記1に記載の化合物。
1:3.[lR,3R,5S、5(2S)]−]3−メ
チルー5−[5−オキソ−1[(4−クロロフェニル)
メチル]−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサン
アセトアミドである上記1に記載の化合物。
チルー5−[5−オキソ−1[(4−クロロフェニル)
メチル]−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサン
アセトアミドである上記1に記載の化合物。
14、[lS、3R,5(2S)、5S] −3−[[
1−(フェニルメチル)−1H−イミダシル5−イル]
メチル]−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトア
ミドである上記lに記載の化合物。
1−(フェニルメチル)−1H−イミダシル5−イル]
メチル]−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンアセトア
ミドである上記lに記載の化合物。
15、[I S、3R,5(2S);531−3[(I
H−イミダゾルー5−イル)メチル]−5[[5−オキ
ソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニル]メチル
]シクロヘキサンアセトアミドである上記1に記載の化
合物。
H−イミダゾルー5−イル)メチル]−5[[5−オキ
ソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニル]メチル
]シクロヘキサンアセトアミドである上記1に記載の化
合物。
16、[lS、3R,5(2S)、5S’l −3−(
LH−イミダゾルー5−イルメチル’) −5−[(5
オキソ−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンア
セトアミドである上記1に記載の化合物。
LH−イミダゾルー5−イルメチル’) −5−[(5
オキソ−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサンア
セトアミドである上記1に記載の化合物。
17、 [Is、3s、3(2S)l −3−[[
5オキソ−1(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]
メチル]シクロヘキサンアセトアミドである上記lに記
載の化合物。
5オキソ−1(フェニルメチル)−2−ピロリジニル]
メチル]シクロヘキサンアセトアミドである上記lに記
載の化合物。
1g、ELS、3R,5(2S)、5S] −3−[(
IH−イミダゾルー5−イル] メチル1−5[[5−
オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニル1メ
チル1シクロヘキサン−N−メチルアセトアミドである
上記lに記載の化合物。
IH−イミダゾルー5−イル] メチル1−5[[5−
オキソ−1−(フェニルメチル)−2ピロリジニル1メ
チル1シクロヘキサン−N−メチルアセトアミドである
上記lに記載の化合物。
19、[I S、3R,5(2S)、5S] −3[[
1−(フェニルメチル)−1H−イミダシル5−イル]
メチル]−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサン−N−メ
チルアセトアミドである上記lに記載の化合物。
1−(フェニルメチル)−1H−イミダシル5−イル]
メチル]−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)
−2−ピロリジニル]メチル]シクロヘキサン−N−メ
チルアセトアミドである上記lに記載の化合物。
20、[lS、3R,5(2S)、5S] −3[[1
−(フェニルメチル)−1H−イミダシル5−イル]メ
チル]−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ドである上記1に記載のイlヒ金物。
−(フェニルメチル)−1H−イミダシル5−イル]メ
チル]−5−[[5−オキソ−1(フェニルメチル)−
2−ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミ
ドである上記1に記載のイlヒ金物。
21、 [lS、3R,5(2S)、5S]−3[[
1−(メチル−IH−イミダゾルー4−イル)メチル]
−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−
ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミドで
ある上記1に記載の化合物。
1−(メチル−IH−イミダゾルー4−イル)メチル]
−5−[[5−オキソ−1−(フェニルメチル)−2−
ピロリジニル1メチル]シクロヘキサンアセトアミドで
ある上記1に記載の化合物。
224式
%式%)
式中、R1′は低級アルキルまたはアリー低級アルキル
である、 の化合物。
である、 の化合物。
23、式
25、式
R1′は低級アルキルまたはアリール−低級アルキルで
あり、R3及びR2は上記lに定義したとおりであり、
そしてR6′は低級アルキルまたはアリール−低級アル
キルである、の化合物。
あり、R3及びR2は上記lに定義したとおりであり、
そしてR6′は低級アルキルまたはアリール−低級アル
キルである、の化合物。
24、式
%式%
式中、R1、R2、R1及びR1は上記Iに定義したと
おりである、 の化合物及びその活性化された誘導体。
おりである、 の化合物及びその活性化された誘導体。
2” (18b)
式中、Rl’は低級アルキルまたはアリール低級アルキ
ルである、 の化合物。
ルである、 の化合物。
26、治療的活性物質として使用するための上記1〜2
1のいずれかに記載の化合物。
1のいずれかに記載の化合物。
27、アルツハイマー病に伴う記憶欠損ま、たは年齢に
伴う記憶後退を装置するための治療的活性物質として使
用する上記1〜21のいずれかに記載の化合物。
伴う記憶後退を装置するための治療的活性物質として使
用する上記1〜21のいずれかに記載の化合物。
28、8)式
式中、R1及びR2は上記1に定義したとおりである、
の化合物またはその活性化された誘導体を式R3R,N
H,但し、R3及びR4は上記1に定義したとおりであ
る、のアミンと反応させるか;b)式 d)式■、但し、R2は(ly−i−イミダゾルー5イ
ル)メチルである、の化合物のイミタゾイル部分の1個
の窒素原子を低級アルキルまたはアリル−低級アルキル
基で置換し、そして e)単一エナンチオマー、そのラセミ体或いはジアステ
レオマーまたはラセミ体の混合物の型において式Iの化
合物を単離し;そして f)必要に応じて、式■、但し、R2はR6′ R3′は低級アルキルまたはアリール−低級アルキルで
あり、R6′は低級アルキルまたはアリール−低級アル
キルであり、そしてR3及びR4は上記lに定義したと
おりである、の化合物を水素添加するか。
H,但し、R3及びR4は上記1に定義したとおりであ
る、のアミンと反応させるか;b)式 d)式■、但し、R2は(ly−i−イミダゾルー5イ
ル)メチルである、の化合物のイミタゾイル部分の1個
の窒素原子を低級アルキルまたはアリル−低級アルキル
基で置換し、そして e)単一エナンチオマー、そのラセミ体或いはジアステ
レオマーまたはラセミ体の混合物の型において式Iの化
合物を単離し;そして f)必要に応じて、式■、但し、R2はR6′ R3′は低級アルキルまたはアリール−低級アルキルで
あり、R6′は低級アルキルまたはアリール−低級アル
キルであり、そしてR3及びR4は上記lに定義したと
おりである、の化合物を水素添加するか。
C)式■、但し、R1及び/またはR5またはR6はベ
ンジルである、の化合物を脱ベンジル化するである、の
化合物を製薬学的に許容し得る酸付加塩に転化する ことをかもなる上記1〜21のいずれかに記載の化合物
の製造方法。
ンジルである、の化合物を脱ベンジル化するである、の
化合物を製薬学的に許容し得る酸付加塩に転化する ことをかもなる上記1〜21のいずれかに記載の化合物
の製造方法。
29、上記1〜21のいずれかに記載の化合物及び治療
的に不活性な賦形剤を含有する薬剤。
的に不活性な賦形剤を含有する薬剤。
30、上記1〜20のいずれかに記載の化合物及び治療
的に不活性な賦形剤からなるアルツハイマ病に伴う記憶
欠損または年齢に伴う記憶減退を処置するための薬剤。
的に不活性な賦形剤からなるアルツハイマ病に伴う記憶
欠損または年齢に伴う記憶減退を処置するための薬剤。
31、アルツハイマー病に伴う記憶欠損または年齢に伴
う記憶減退を処置するための上記1〜21のいずれかに
記載の化合物の使用。
う記憶減退を処置するための上記1〜21のいずれかに
記載の化合物の使用。
32、アルツハイマー病に伴う記憶欠損または年齢に伴
う記憶減退を処置するための薬剤の製造における上記1
〜21のいずれかに記載の化合物の使用。
う記憶減退を処置するための薬剤の製造における上記1
〜21のいずれかに記載の化合物の使用。
33、上記28に記載の方法或いは明らかにその化学的
に同等の方法で製造した上記1〜21の・いずれかに記
載した化合物。
に同等の方法で製造した上記1〜21の・いずれかに記
載した化合物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、R_1は水素、低級アルキルまたはアリール−低
級アルキルであり;R_2は水素、低級アルキル、アリ
ール、アリール−低級アルキル、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ であり、ここで、R_5及びR_6は水素、低級アルキ
ルまたはアリール−低級アルキルであ り;R_3及びR_4は独立に、水素、低級アルキルま
たはアリール−低級アルキルである、 の化合物或いはそのエナンチオマー、ジアステレオマー
またはラセミ体、及びR_2が ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ である場合、その製薬学的に許容し得る酸付加塩。 2、式 ▲数式、化学式、表等があります▼及び▲数式、化学式
、表等があります▼ (13a−2)(13b−2) 式中、R_1′は低級アルキルまたはアリール−低級ア
ルキルである、 の化合物。 3、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Zはアリールまたは▲数式、化学式、表等があり
ます▼であり、 R_1′は低級アルキルまたはアリール−低級アルキル
であり、R_3及びR_4は特許請求の範囲第1項に定
義したとおりであり、そして R_6′は低級アルキルまたはアリール−低級アルキル
である、 の化合物。 4、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1、R_2、R_3及びR_4は特許請求の
範囲第1項に定義したとおりである、 5、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (18b) 式中、R_1′は低級アルキルまたはアリール−低級ア
ルキルである、 の化合物。 6、a)式 ▲数式、化学式、表等があります▼A 式中、R_1及びR_2は特許請求の範囲第1項に定義
したとおりである、 の化合物またはその活性化された誘導体を式R_3R_
4NH、但し、R_3及びR_4は特許請求の範囲第1
項に定義したとおりである、のアミンと反応させるか; b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼B 式中、Zはアリールまたは▲数式、化学式、表等があり
ます▼であり、 R_1′は低級アルキルまたはアリール−低級アルキル
であり、R_6′は低級アルキルまたはアリール−低級
アルキルであり、そして R_3及びR_4は特許請求の範囲第1項に定義したと
おりである、 の化合物を水素添加するか; c)式 I 、但し、R_1及び/またはR_5またはR
_6はベンジルである、の化合物を脱ベンジル化するか
;或いは d)式 I 、但し、R_2は(1H−イミダゾル−5−
イル)メチルである、の化合物のイミダゾイル部分の1
個の窒素原子を低級アルキルまたはアリール−低級アル
キル基で置換し;そして e)単一エナンチオマー、そのラセミ体或いはジアステ
レオマーまたはラセミ体の混合物の型において式 I の
化合物を単離し;そして f)必要に応じて、式 I 、但し、R_2は ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ である、の化合物を製薬学的に許容し得る酸付加塩に転
化する ごとを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の化合物の
製造方法。 7、特許請求の範囲第1項記載の化合物及び治療的に不
活性な賦形剤からなるアルハルツマー病(Alzhei
mer’sdisease)に伴う記憶欠損または年齢
に伴う記憶減退を処置するための薬剤。
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