JPH02228632A - 電気光学装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶テレビ等の薄膜トランジスタを用いた電
気光学装置に関する。

〔発明の概要〕

本発明は、ゲートが２層で、画素電極が絶縁基板上に設
けられ、この画素電極と接続する薄膜トランジスタを用
いた電気光学装置において、前段ゲートラインとの間に
コンデンサを設けることにより、画素部に従来よりもは
るかに多い電荷を保持することが可能となり、高コント
ラストな映像を得られ、より高品位な画像表示が可能と
なる。

〔従来の技術〕

従来から、第５図に示すような構造の３枚マスクを用い
た液晶パネル等の電気光学装置が知られている。以下、
この図のもとに説明する。

絶縁基板ｌ上に、ＩＴＯ（インジウム、錫酸化物）等の
透明導電材料２と、クロム等の金属材料Ａ３とを連続し
て積層し、先ず１番目のマスクで図のようにゲートライ
ン４と画素部５とを残してパターニングするが、この時
点ではまだ画素部５の上には金属材料３が残っている。

次に窒素化シリコン等の絶縁材料６とアモルファスンリ
コン等の半導体７とを連続して積層し、２番目のマスク
でパターニングする。その上からアルミニウム等の金属
材料Ｂ８を積層し、３番めのマスクでパターニングする
方式で作られる。このような構造を持つ従来技術による
ＴＰＴを用いた電気光学％ｌｉ’ｌｌにおいては、製造
工程が簡略化されるため、歩留り向上に寄与するが、第
１図によるところのコンデンサ９を画素部５と前段ゲー
トライン１０との間に有しない構造のものが知られてい
た。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記のようなコンデンサ９を有しない構造でのＴＰＴを
用いた電気光学装置においては、画素部５に書き込まれ
た電荷の保持を例えば、液晶表示装置ならば液晶にのみ
顧ることとなるため、前記画素部５に書き込まれた電荷
を十分に保持することができず液晶にかかる電圧が次の
書き込みが開始されるまでの間に低下してしまい、コン
トラストの低下、フリッカ等の原因となり、表示品質の
低下を招いていた。また、従来の装置でコンデンサを形
成するものでは多数のマスクが必要で工程が複雑になっ
Ｃいた。

〔課題を解決するための手段〕

上記問題点を解決するために、本発明では画素部に隣接
するゲートラインのうち、該画素部に関するトランジス
タが接続されていない側のゲートライン、すなわち前段
ゲートラインと、該画素部との間にコンデンサを設けた
。

〔作用〕

上記のような構成によれば、コンテンツを有することに
より、より長時間、画素に古き込まれた電荷を保持する
ことができるようになり、しかも工程を複雑にすること
なく、コンデンサを形成することができる。

〔実施例〕

以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は本発明に係るＴＰＴの一実施例の等価回路図を
示す、この図において書き込みのスキャンの方向は下か
ら上向き（図示矢印イ方向）にスキャンされることとな
り、現役にあるゲートライン４に対し、前段ゲートライ
ン１θは図面の下側にある。この図において、現役であ
るゲートライン４は、横一列に並ぶＴＦＴＩＩの各々の
ゲートに接続され、かつＴＦＴＩＩの各々のドレインは
ドレインライン１２に接続され、かつまたＴＦＴＩＩの
各々のソースは各々の画素部５に接続されている。

そして、該各々の画素部５はコンデンサ９を通して前段
ゲートラインＩＯへと接続されている。

第２図は、本発明にかかるＴＦＴの一実施例の断面図で
ある。この図においてガラス等の絶縁基板ｌ上に透明導
電材料２．金属材料Ａ３とを連続して積層し、先ず１番
目のマスクで図のようにゲートライン４、画素部５とを
残して従来のようにパターニングする。次に絶縁材料６
と半導体７とを連続して積層し、２番目のマスクでパタ
ーニングする。その際、コンデンサ９の部分を残すよう
にする。その上から金属＋４料Ｂ８を積層し、３番目の
マスクで画素部５における金属材ＩＡ３とコンデンサ９
における金属材料Ｂ８とが接触するようにパターニング
すると、金属材料Ｂ８と前段ゲートラインＩＯとの間に
絶縁膜を介してコンテ゛ンサ９が形成されることとなる
。

第３図に、本発明にかかるＴＰＴの一実施例の平面図を
示す。この図において画素部５がコンデンサ９を介して
前段ゲートライン１０へと接続されていることを示して
いる。

第４図は、本発明にかかるＴＰＴの別の一実施例の断面
図であり、コンデンサ９の部分における金属材料Ｂ８が
、同じくコンデンサ９の部分における金属材料Ａ３と接
触している例であるが、この場合においても本発明は何
ら制約を受けるものではない。

また、金属材料Ａと金属材料Ｂとが同し物質であっても
差し支えない。

〔発明の効果〕

以上述べてきたように本発明は、少ないマスクによる少
ないフォト工程を守りつつ、保持のためのコンデンサを
容易に提供でき、表示品質の更なる向上を得られるとい
う効果を存する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にがかる一実施例の等価回路図、第２図
は本発明にかがるＴＰＴ、コンデンサ部を示す断面図で
コンデンサの上部の金属が画素電極と接触している例を
表わす、第３図は本発明にかかるＴＰＴ、　　コンデン
サ部を示す平面図でゲートラインと画素電極がコンデン
サによって結合されていることを示している。第４図は
コンデンサの他の例を示す断面図でコンデンサ上部の金
属が前段のゲートラインと接触している場合を示してい
る。第５図は従来技術の例の断面図である。 ｌ・・・絶縁基板 ２・・・透明導電材料 ３・・・金属材料Ａ 本宛８目にｐ＼ｂ鴎ＴＦＴの一笑範ｔ１の清価回路口第
１図 ４　・　・ ５　・　・ ６　・　・ ７　・　・ ８　・　・ ９　・　・ ｌＯ・　・ １１・　・ １２・　・ ・ゲームライン ・画素部 ・絶縁材料 ・半導体 金属材料Ｂ ・コンデンサ ・前段ゲートライン ・　ＴＰＴ ・ドレインライン

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）マトリクス状に、画素部および薄膜トランジスタ
   が形成されている電気光学装置において、画素部に隣り
   合ったゲートラインのうち、該画素部に関する薄膜トラ
   ンジスタが形成されていない側のゲートライン（前段ゲ
   ートライン）と、該画素部との間に、コンデンサが設け
   てあることを特徴とする電気光学装置。
2. （２）絶縁基板上に透明導電材料と金属材料とを、この
   順序で積層し、１番目のマスクを用いてパターニングす
   ることによりゲートラインと画素部とを形成し、その上
   に絶縁材料と半導体層とをこの順序で積層し、２番目の
   マスクを用いてパターニングし、その上に金属材料を積
   層し、３番目のマスクを用いてパターニングする方式で
   薄膜トランジスタおよびコンデンサを形成する電気光学
   装置の製造方法。