JPH02204694A - スクロール型圧縮機における容量可変機構 - Google Patents
スクロール型圧縮機における容量可変機構Info
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- JPH02204694A JPH02204694A JP1024286A JP2428689A JPH02204694A JP H02204694 A JPH02204694 A JP H02204694A JP 1024286 A JP1024286 A JP 1024286A JP 2428689 A JP2428689 A JP 2428689A JP H02204694 A JPH02204694 A JP H02204694A
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
- F04C28/10—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids characterised by changing the positions of the inlet or outlet openings with respect to the working chamber
- F04C28/16—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids characterised by changing the positions of the inlet or outlet openings with respect to the working chamber using lift valves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C18/02—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of arcuate-engagement type, i.e. with circular translatory movement of co-operating members, each member having the same number of teeth or tooth-equivalents
- F04C18/0207—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of arcuate-engagement type, i.e. with circular translatory movement of co-operating members, each member having the same number of teeth or tooth-equivalents both members having co-operating elements in spiral form
- F04C18/0215—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of arcuate-engagement type, i.e. with circular translatory movement of co-operating members, each member having the same number of teeth or tooth-equivalents both members having co-operating elements in spiral form where only one member is moving
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
- Rotary Pumps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、固定スクロールと、この固定スクロールに対
向して自転不能に公転する可動スクロールとの間に可動
スクロールの公転に基づいて容積減少する密閉空間を形
成するスクロール型圧縮機における容量可変機構に関す
るものである。
向して自転不能に公転する可動スクロールとの間に可動
スクロールの公転に基づいて容積減少する密閉空間を形
成するスクロール型圧縮機における容量可変機構に関す
るものである。
[従来の技術]
特開昭61−291792号公報に開示されるこの種の
圧縮機では、固定スクロールの基端壁に立設された渦巻
部の始端側へ移行する密閉空間の容積減少途上領域と吸
入圧領域とを固定スクロールの基端壁の背面側からバイ
パス通路で接続し、バイパス通路上には冷媒ガス圧を用
いてバイパス通路を開閉可能なバイパス開閉機構を介在
している。このバイパス開閉機構は、バイパス通路を開
閉するピストンと、ピストンを収容するシリンダ室への
吐出冷媒ガスの導入を制御する電磁弁とから構成されて
いる。電磁弁が開放状態では吐出冷媒ガスがシリンダ室
へ流入し、ピストンかばね作用に抗してバイパス通路閉
塞位置へ付勢配置される。電磁弁が閉成状態ではシリン
ダ室への吐出冷媒ガスの流入が阻止され、ピストンはば
ね作用によ、てバイパス通路開放位置へ付勢配置される
。
圧縮機では、固定スクロールの基端壁に立設された渦巻
部の始端側へ移行する密閉空間の容積減少途上領域と吸
入圧領域とを固定スクロールの基端壁の背面側からバイ
パス通路で接続し、バイパス通路上には冷媒ガス圧を用
いてバイパス通路を開閉可能なバイパス開閉機構を介在
している。このバイパス開閉機構は、バイパス通路を開
閉するピストンと、ピストンを収容するシリンダ室への
吐出冷媒ガスの導入を制御する電磁弁とから構成されて
いる。電磁弁が開放状態では吐出冷媒ガスがシリンダ室
へ流入し、ピストンかばね作用に抗してバイパス通路閉
塞位置へ付勢配置される。電磁弁が閉成状態ではシリン
ダ室への吐出冷媒ガスの流入が阻止され、ピストンはば
ね作用によ、てバイパス通路開放位置へ付勢配置される
。
従って、電磁弁を閉成すれば圧縮途上の冷媒ガスが吸入
圧領域へ還流され、吐出容量を低減することができる。
圧領域へ還流され、吐出容量を低減することができる。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、圧縮機の回転速度が高速度領域にある場
合には容積減少途上にある密閉空間がバイパス通路の入
口を瞬間的に通過してしまうため、低速度回転の状態の
場合に比して冷媒ガスがバイパス通路を介して吸入圧領
域へ還流され難い。そのため、高速度領域の可変効果を
高めるために例えばバイパス通路の導入口を大きくすれ
ば低速度領域における冷媒ガスの還流量が多くなり過ぎ
て可変効果が効き過ぎることになり、逆に低速度領域の
可変効果の適正化のためにバイパス通路の導入口を小さ
くすれば高速度領域における可変効果が小さくなってし
まう。
合には容積減少途上にある密閉空間がバイパス通路の入
口を瞬間的に通過してしまうため、低速度回転の状態の
場合に比して冷媒ガスがバイパス通路を介して吸入圧領
域へ還流され難い。そのため、高速度領域の可変効果を
高めるために例えばバイパス通路の導入口を大きくすれ
ば低速度領域における冷媒ガスの還流量が多くなり過ぎ
て可変効果が効き過ぎることになり、逆に低速度領域の
可変効果の適正化のためにバイパス通路の導入口を小さ
くすれば高速度領域における可変効果が小さくなってし
まう。
特開昭62−46164号公報には吸入冷媒ガスの流入
量を調整し得る吸入絞り機構とバイパス開閉機構とを併
設したスクロール型圧縮機が開示されている。吸入絞り
機構では絞り前の冷媒ガスの絞り弁に対する直接の圧力
作用によって絞り調整が行われている。バイパス開閉機
構の開閉制御は吸入絞り機構の前後の吸入圧の対抗によ
って行われており、バイパスはバイパス開閉機構を構成
するロータリバルブによって開閉される。ロータリバル
ブはピストンに連結されており、吸入絞り機構の前後の
吸入圧がピストンを介して対抗し、これによりロータリ
バルブの回動制御が行われる。
量を調整し得る吸入絞り機構とバイパス開閉機構とを併
設したスクロール型圧縮機が開示されている。吸入絞り
機構では絞り前の冷媒ガスの絞り弁に対する直接の圧力
作用によって絞り調整が行われている。バイパス開閉機
構の開閉制御は吸入絞り機構の前後の吸入圧の対抗によ
って行われており、バイパスはバイパス開閉機構を構成
するロータリバルブによって開閉される。ロータリバル
ブはピストンに連結されており、吸入絞り機構の前後の
吸入圧がピストンを介して対抗し、これによりロータリ
バルブの回動制御が行われる。
即ち、吸入冷媒ガスの導入量を絞ったときにはバイパス
が開き、吸入冷媒ガスの導入量が多いときにはバイパス
が閉じる。このような両機構の併用によって可変効果の
高い回転速度領域の拡張を図ることができる。しかしな
がら、吸入絞り機構の前後の吸入圧の対抗、即ち冷房負
荷を反映する絞り前の吸入圧と絞り後の吸入圧との対抗
によってロータリバルブの回動を直接制御する構成、及
び冷房負荷を反映する吸入圧の絞り弁に対する直接作用
によって絞り量を調整する構成ではバイパス開閉及び絞
り調整における高い制御精度を達成することは困難であ
り、低速度から高速度の全領域で適正な可変効果を得る
ことは難しい。
が開き、吸入冷媒ガスの導入量が多いときにはバイパス
が閉じる。このような両機構の併用によって可変効果の
高い回転速度領域の拡張を図ることができる。しかしな
がら、吸入絞り機構の前後の吸入圧の対抗、即ち冷房負
荷を反映する絞り前の吸入圧と絞り後の吸入圧との対抗
によってロータリバルブの回動を直接制御する構成、及
び冷房負荷を反映する吸入圧の絞り弁に対する直接作用
によって絞り量を調整する構成ではバイパス開閉及び絞
り調整における高い制御精度を達成することは困難であ
り、低速度から高速度の全領域で適正な可変効果を得る
ことは難しい。
本発明は低速度から高速度の全領域で適正な可変効果を
もたらし得るスクロール型圧縮機における容量可変機構
を提供することを目的するものである。
もたらし得るスクロール型圧縮機における容量可変機構
を提供することを目的するものである。
[課題を解決するための手段]
そのために本発明では、冷媒ガスを圧縮機内へ導入する
ための導入通路上にはその通過断面積を冷媒ガス圧を用
いて変更可能な吸入絞り機構を介在し、密閉空間の容積
減少途上領域と吸入圧領域とを固定スクロールの基端壁
の背面側から接続するバイパス通路上には冷媒ガス圧を
用いてバイパス通路を開閉可能なバイパス開閉機構を介
在し、絞り前の吸入冷媒ガス圧に応じる制御弁によりバ
イパス開閉機構と吸入絞り機構との運動を制御するよう
にした。
ための導入通路上にはその通過断面積を冷媒ガス圧を用
いて変更可能な吸入絞り機構を介在し、密閉空間の容積
減少途上領域と吸入圧領域とを固定スクロールの基端壁
の背面側から接続するバイパス通路上には冷媒ガス圧を
用いてバイパス通路を開閉可能なバイパス開閉機構を介
在し、絞り前の吸入冷媒ガス圧に応じる制御弁によりバ
イパス開閉機構と吸入絞り機構との運動を制御するよう
にした。
[作用]
バイパス開閉機構では回転速度が高くなるほど可変効果
が小さくなるが、吸入絞り機構では回転速度が高くなる
ほど冷媒ガスの通過抵抗が大きくなり、可変効果が大き
くなる。従って、低速度領域で可変効果の大きいバイパ
ス開閉機構の開閉制御と、高速度領域で可変効果の大き
い吸入絞り機構の吸入絞り制御とを前記のように連動し
て制御することにより両機構が各々の可変効果の発揮さ
れ難い回転速度領域の可変作用を互いに補償し合う。バ
イパスの開閉は吐出冷媒ガス圧導入と吸入冷媒ガス圧導
入との切換によって行われるために確実かつ精度良く制
御可能であり、これにより低速度領域から高速度領域に
わたる全領域で適正な可変効果を達成することができる
。
が小さくなるが、吸入絞り機構では回転速度が高くなる
ほど冷媒ガスの通過抵抗が大きくなり、可変効果が大き
くなる。従って、低速度領域で可変効果の大きいバイパ
ス開閉機構の開閉制御と、高速度領域で可変効果の大き
い吸入絞り機構の吸入絞り制御とを前記のように連動し
て制御することにより両機構が各々の可変効果の発揮さ
れ難い回転速度領域の可変作用を互いに補償し合う。バ
イパスの開閉は吐出冷媒ガス圧導入と吸入冷媒ガス圧導
入との切換によって行われるために確実かつ精度良く制
御可能であり、これにより低速度領域から高速度領域に
わたる全領域で適正な可変効果を達成することができる
。
[実施例]
以下、本発明を具体化した一実施例を図面に基づいて説
明する。
明する。
第1図に示すようにフロントハウジング1とリヤハウジ
ング2とは環状の固定基板3を挟んで接合固定されてお
り、フロントハウジング1内に収容された回転軸4の大
径部4aには偏心軸5がリヤハウジング2内に突設され
ていると共に、偏心軸5にはバランスウェイト6及びブ
ツシュ7が回動可能に支持されている。ブツシュ7には
可動スクロール8が回動可能に支持されていると共に、
リヤハウジング2内には固定スクロール9が可動スクロ
ール8と対向接合するように収容固定されており、両者
の基端壁8a、9a及び渦巻部8b。
ング2とは環状の固定基板3を挟んで接合固定されてお
り、フロントハウジング1内に収容された回転軸4の大
径部4aには偏心軸5がリヤハウジング2内に突設され
ていると共に、偏心軸5にはバランスウェイト6及びブ
ツシュ7が回動可能に支持されている。ブツシュ7には
可動スクロール8が回動可能に支持されていると共に、
リヤハウジング2内には固定スクロール9が可動スクロ
ール8と対向接合するように収容固定されており、両者
の基端壁8a、9a及び渦巻部8b。
9bにより密閉空間Pが形成される。
可動スクロール8と対向する固定基板3の面上に止着さ
れた固定リング10には円形状の複数の公転位置規制孔
10aが等間隔位置に透設されており、可動スクロール
8の基端壁8d背面に止着された可動リング11には同
様の公転位置規制孔11aが公転位置規制孔10aと対
応して透設されている。各公転位置規制孔10a、ll
aにはこれより小径の円板状シュー12A、12Bが挿
入されており、対向するシュー12A、12B間にはボ
ール13が介在されている。
れた固定リング10には円形状の複数の公転位置規制孔
10aが等間隔位置に透設されており、可動スクロール
8の基端壁8d背面に止着された可動リング11には同
様の公転位置規制孔11aが公転位置規制孔10aと対
応して透設されている。各公転位置規制孔10a、ll
aにはこれより小径の円板状シュー12A、12Bが挿
入されており、対向するシュー12A、12B間にはボ
ール13が介在されている。
両シュー12A、12B及びボール13は圧縮反作用に
よって固定基板3と可動スクロール8との間で圧接嵌合
し、見掛けの上で一体化する。シュー12A、12Bは
公転位置規制孔10a。
よって固定基板3と可動スクロール8との間で圧接嵌合
し、見掛けの上で一体化する。シュー12A、12Bは
公転位置規制孔10a。
11a内に円形状の可動領域を持ち、シュー12A。
12Bの可動直径は偏心軸6の公転半径に一致するよう
に設定されている。従って、第2図に鎖線で示すように
全てのシュー12A、12Bが偏心軸5の公転によって
同一方向にて公転位置規制孔10a、lla間に挟みこ
まれながら公転位置規制孔10a、llaの周縁を周回
し、可動スクロール8が自転することなく公転する。
に設定されている。従って、第2図に鎖線で示すように
全てのシュー12A、12Bが偏心軸5の公転によって
同一方向にて公転位置規制孔10a、lla間に挟みこ
まれながら公転位置規制孔10a、llaの周縁を周回
し、可動スクロール8が自転することなく公転する。
フロントハウジング1の周壁には冷媒ガス導入用の導入
通路1aが設けられており、導入通路1aからフロント
ハウジング1内へ導入された冷媒ガスは固定基板3上の
通路を経由して両スクロール8.9間の密閉空間P内へ
導入される。可動スクロール8の公転に伴って密閉空間
Pは渦巻部8bの始端側へ移行しつつ容積減少する。こ
れにより密閉空間P内の冷媒ガスが圧縮され、両スクロ
ール8.9間にて圧縮された冷媒ガスは吐出弁14によ
り開放可能に閉塞されている吐出口9eから固定スクロ
ール9の基端壁9aの背面側の吐出室15内へ吐出され
る。
通路1aが設けられており、導入通路1aからフロント
ハウジング1内へ導入された冷媒ガスは固定基板3上の
通路を経由して両スクロール8.9間の密閉空間P内へ
導入される。可動スクロール8の公転に伴って密閉空間
Pは渦巻部8bの始端側へ移行しつつ容積減少する。こ
れにより密閉空間P内の冷媒ガスが圧縮され、両スクロ
ール8.9間にて圧縮された冷媒ガスは吐出弁14によ
り開放可能に閉塞されている吐出口9eから固定スクロ
ール9の基端壁9aの背面側の吐出室15内へ吐出され
る。
導入通路la上には絞りスプール16が直交方向へスラ
イド変位可能に介在されており、絞りスプール16の中
央部には小径部16aが導入通路1aの径と同一長で形
成されている。絞りスプール16の一方の大径部により
閉塞された室には押圧ばね17が介在されていると共に
、他方の大径部の収容室が制御圧室s1となっている。
イド変位可能に介在されており、絞りスプール16の中
央部には小径部16aが導入通路1aの径と同一長で形
成されている。絞りスプール16の一方の大径部により
閉塞された室には押圧ばね17が介在されていると共に
、他方の大径部の収容室が制御圧室s1となっている。
絞りスプール16は押圧ばね17によって導入通路1a
の通過断面積を減少する方向、即ち制御圧室S1の容積
減少をもたらす方向へ付勢されている。
の通過断面積を減少する方向、即ち制御圧室S1の容積
減少をもたらす方向へ付勢されている。
固定スクロール9とリヤハウジング2との間には中間圧
室2aが吐出室15から区画して形成されており、固定
スクロール9の基端壁9aには一対の通口9c、9dが
渦巻部91の壁を置いて隣合うように形成されている0
両通口9c、9dはいずれも中間圧室2aに接続してお
り、両道口9c。
室2aが吐出室15から区画して形成されており、固定
スクロール9の基端壁9aには一対の通口9c、9dが
渦巻部91の壁を置いて隣合うように形成されている0
両通口9c、9dはいずれも中間圧室2aに接続してお
り、両道口9c。
9d及び中間圧室2aからなるバイパス通路りが渦巻部
9bを置いて隣合うリヤハウジング2外周壁付近の吸入
圧領域と密閉空間Pとを接続する。
9bを置いて隣合うリヤハウジング2外周壁付近の吸入
圧領域と密閉空間Pとを接続する。
中間圧室2aと一方の通口9dとの間におけるバイパス
通路り上には開閉スプール18がバイパス通路りを開閉
可能に介在されており、押圧ばね19によってバイパス
通路りを開放する方向へ付勢されている。又、中間圧室
2a内には逆止弁20が通口9Cを開放可能に配設され
ている。
通路り上には開閉スプール18がバイパス通路りを開閉
可能に介在されており、押圧ばね19によってバイパス
通路りを開放する方向へ付勢されている。又、中間圧室
2a内には逆止弁20が通口9Cを開放可能に配設され
ている。
開閉スプール18は制御圧室S2への冷媒ガス圧の供給
制御によって開閉動作され、制御圧室S2への冷媒ガス
圧の供給は制御弁機構21によって制御される。パルプ
ハウジング22内のボール弁23はロッド23aを介し
てダイヤフラム24に連結されており、パルプハウジン
グ22の周面上の入力ボート22aにはリヤハウジング
2内の吸入室が接続されていると共に、下面の入力ボー
ト22bには吐出室15が接続されている。そして、パ
ルプハウジング22の周面上の一方の出力ボート22C
には制御圧室S1が接続されており、他方の出力ボート
22dには制御圧室S2が接続されている。
制御によって開閉動作され、制御圧室S2への冷媒ガス
圧の供給は制御弁機構21によって制御される。パルプ
ハウジング22内のボール弁23はロッド23aを介し
てダイヤフラム24に連結されており、パルプハウジン
グ22の周面上の入力ボート22aにはリヤハウジング
2内の吸入室が接続されていると共に、下面の入力ボー
ト22bには吐出室15が接続されている。そして、パ
ルプハウジング22の周面上の一方の出力ボート22C
には制御圧室S1が接続されており、他方の出力ボート
22dには制御圧室S2が接続されている。
ダイヤフラム24によってバルブハウジング22内に閉
塞形成される圧力室22eには導入通路1aが接続され
ており、絞リスブール16の手前の吸入冷媒ガス圧が圧
力室22eに導入される。圧力室22eへ導入される吸
入圧が高い場合、即ち冷房負荷が高い場合にはダイヤフ
ラム24が押し上げられ、ボール弁23が一方の入力ポ
ート22a側を閉塞すると共に、他方の入カポ−)22
bを開放する。これにより吐出室15内の吐出冷媒ガス
が再制御圧室sl、s2へ供給され、制御圧室S1,3
2が吐出圧相当へ圧力上昇する。吸入圧が低い場合、即
ち冷房負荷が低い場合にはダイヤフラム24が押し下げ
られ、ボール弁23が入カポ−)22b側を閉塞すると
共に、入力ポート22a側を開放する。これによりリヤ
ハウジング2内の吸入室が再制御圧室Sl、32へ連通
し、制御圧室31,32が吸入圧相当へ圧力低下する。
塞形成される圧力室22eには導入通路1aが接続され
ており、絞リスブール16の手前の吸入冷媒ガス圧が圧
力室22eに導入される。圧力室22eへ導入される吸
入圧が高い場合、即ち冷房負荷が高い場合にはダイヤフ
ラム24が押し上げられ、ボール弁23が一方の入力ポ
ート22a側を閉塞すると共に、他方の入カポ−)22
bを開放する。これにより吐出室15内の吐出冷媒ガス
が再制御圧室sl、s2へ供給され、制御圧室S1,3
2が吐出圧相当へ圧力上昇する。吸入圧が低い場合、即
ち冷房負荷が低い場合にはダイヤフラム24が押し下げ
られ、ボール弁23が入カポ−)22b側を閉塞すると
共に、入力ポート22a側を開放する。これによりリヤ
ハウジング2内の吸入室が再制御圧室Sl、32へ連通
し、制御圧室31,32が吸入圧相当へ圧力低下する。
制御圧室S1が吐出圧相当の高圧になると絞りスプール
16が押圧ばね17に抗して移動し、導入通路la上に
は絞りスプール16の小径部16aのみが位置する。こ
の状態では導入通路1aにおける通過断面積が最大とな
る。制御圧室S2が吐出圧相当の高圧になると開閉スプ
ール18が押圧ばね19に抗して移動し、バイパス通路
りが閉じられる。これにより容積減少途上にある密閉空
間P内の冷媒ガスがバイパス通路りを経由して吸入圧領
域へ還流することはない。
16が押圧ばね17に抗して移動し、導入通路la上に
は絞りスプール16の小径部16aのみが位置する。こ
の状態では導入通路1aにおける通過断面積が最大とな
る。制御圧室S2が吐出圧相当の高圧になると開閉スプ
ール18が押圧ばね19に抗して移動し、バイパス通路
りが閉じられる。これにより容積減少途上にある密閉空
間P内の冷媒ガスがバイパス通路りを経由して吸入圧領
域へ還流することはない。
制御圧室S1が吸入圧相当の低圧になると絞りスプール
16の大径部が導入通路la上に飛び出し、導入通路1
aにおける通過断面積が絞られる。
16の大径部が導入通路la上に飛び出し、導入通路1
aにおける通過断面積が絞られる。
制御圧室S2が吸入圧相当の低圧になると開閉スプール
1Bが押圧ばね19の作用によって開放方向へ移動し、
バイパス通路りが開放される。これにより容積減少途上
にある密閉空間P内の冷媒ガスがバイパス通路りを経由
して吸入圧領域へ還流される。
1Bが押圧ばね19の作用によって開放方向へ移動し、
バイパス通路りが開放される。これにより容積減少途上
にある密閉空間P内の冷媒ガスがバイパス通路りを経由
して吸入圧領域へ還流される。
即ち、絞りスプール16、押圧ばね17及び制御圧室S
1からなる吸入絞り機構と、開閉スプール18、押圧ば
ね19及び制御圧室S2からなるバイパス開閉機構とが
制御弁機構21による吐出圧又は吸入圧のいずれか一方
の供給によって連動制御される0回転速度が高くなるほ
ど可変効果が小さ(なるバイパス開閉機構と、回転速度
が高くなるほど冷媒ガスの通過抵抗が大きくなって可変
効果が大きくなる吸入絞り機構との併用はそれぞれの可
変効果の発揮され難い回転速度領域の可変作用を互いに
補償し合う。
1からなる吸入絞り機構と、開閉スプール18、押圧ば
ね19及び制御圧室S2からなるバイパス開閉機構とが
制御弁機構21による吐出圧又は吸入圧のいずれか一方
の供給によって連動制御される0回転速度が高くなるほ
ど可変効果が小さ(なるバイパス開閉機構と、回転速度
が高くなるほど冷媒ガスの通過抵抗が大きくなって可変
効果が大きくなる吸入絞り機構との併用はそれぞれの可
変効果の発揮され難い回転速度領域の可変作用を互いに
補償し合う。
バイパス通路りの開閉及び導入通路1aの絞り調整は冷
房負荷を反映する絞り前の吸入圧の検出に応じた吐出圧
導入と吸入圧導入との切換によって行われる。即ち、冷
房負荷を反映する絞り前の吸入圧が可変作用のための駆
動力として直接用いられることな(制御弁機構21の切
換制御に用いられる構成であり、吐出圧と吸入圧との切
換供給制御を行なう制御弁機構21を組み込んだ構成は
バイパス開閉機構及び吸入絞り機構を共に確実かつ高い
精度で制御することを可能とする。これにより低速度頚
城から高速度領域にわたる全領域での可変効果の補償作
用の適正化が容易である。従って、低速度から高速度の
全領域で適正な可変効果を達成することができ、安定し
た容量可変を遂行することができる。
房負荷を反映する絞り前の吸入圧の検出に応じた吐出圧
導入と吸入圧導入との切換によって行われる。即ち、冷
房負荷を反映する絞り前の吸入圧が可変作用のための駆
動力として直接用いられることな(制御弁機構21の切
換制御に用いられる構成であり、吐出圧と吸入圧との切
換供給制御を行なう制御弁機構21を組み込んだ構成は
バイパス開閉機構及び吸入絞り機構を共に確実かつ高い
精度で制御することを可能とする。これにより低速度頚
城から高速度領域にわたる全領域での可変効果の補償作
用の適正化が容易である。従って、低速度から高速度の
全領域で適正な可変効果を達成することができ、安定し
た容量可変を遂行することができる。
本発明は勿論前記実施例にのみ限定されるものではな(
、例えば冷房負荷を反映する吸入圧検出信号に基づく電
磁弁の切換制御によって吐出圧と吸入圧とのいずれか一
方を再制御圧室St、32へ供給するようにした実施例
も可能である。
、例えば冷房負荷を反映する吸入圧検出信号に基づく電
磁弁の切換制御によって吐出圧と吸入圧とのいずれか一
方を再制御圧室St、32へ供給するようにした実施例
も可能である。
[発明の効果]
以上詳述したように本発明は、絞り前の吸入冷媒ガス圧
の情報に基づいて吐出冷媒ガス圧と吸入冷媒ガス圧との
いずれか一方を制御弁機構によって切換供給してバイパ
ス開閉機構と吸入絞り機構とを連動制御するようにした
ので、バイパス開閉機構の絞り動作及びバイパス開閉機
構の開閉動作が確実かつ高精度で行われ、これにより回
転速度全領域にわたって適正な可変効果を安定して達成
し得るという優れた効果を奏する。
の情報に基づいて吐出冷媒ガス圧と吸入冷媒ガス圧との
いずれか一方を制御弁機構によって切換供給してバイパ
ス開閉機構と吸入絞り機構とを連動制御するようにした
ので、バイパス開閉機構の絞り動作及びバイパス開閉機
構の開閉動作が確実かつ高精度で行われ、これにより回
転速度全領域にわたって適正な可変効果を安定して達成
し得るという優れた効果を奏する。
図面は本発明を具体化した一実施例を示し、第1図は側
断面図、第2図は第1図のA−A線断面図である。 固定スクロール9、基端壁9a、バイパス通路りを形成
する通口9c、9d及び中間圧室2a、吸入絞り機構を
構成する絞りスプール16及び制御圧室S1、バイパス
開閉機構を構成する開閉スプール18及び制御圧室S2
、制御弁機構21、密閉空間P。
断面図、第2図は第1図のA−A線断面図である。 固定スクロール9、基端壁9a、バイパス通路りを形成
する通口9c、9d及び中間圧室2a、吸入絞り機構を
構成する絞りスプール16及び制御圧室S1、バイパス
開閉機構を構成する開閉スプール18及び制御圧室S2
、制御弁機構21、密閉空間P。
Claims (1)
- 1 固定スクロールと、この固定スクロールに対向して
自転不能に公転する可動スクロールとの間に可動スクロ
ールの公転に基づいて容積減少する密閉空間を形成する
スクロール型圧縮機において、冷媒ガスを圧縮機内へ導
入するための導入通路上にはその通過断面積を冷媒ガス
圧を用いて変更可能な吸入絞り機構を介在し、両スクロ
ールの基端壁に立設された渦巻部の始端側へ移行する密
閉空間の容積減少途上領域と吸入圧領域とを固定スクロ
ールの基端壁を貫通して接続するバイパス通路を設ける
と共に、バイパス通路上には冷媒ガス圧を用いてバイパ
ス通路を開閉可能なバイパス開閉機構を介在し、絞り前
の吸入冷媒ガス圧に応じる制御弁によりバイパス開閉機
構と吸入絞り機構との運動を制御するようにしたスクロ
ール型圧縮機における容量可変機構。
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---|---|---|---|
JP1024286A JP2780301B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | スクロール型圧縮機における容量可変機構 |
US07/469,940 US5059098A (en) | 1989-02-02 | 1990-01-25 | Apparatus for varying capacity of scroll type compressor |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1024286A JP2780301B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | スクロール型圧縮機における容量可変機構 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02204694A true JPH02204694A (ja) | 1990-08-14 |
JP2780301B2 JP2780301B2 (ja) | 1998-07-30 |
Family
ID=12133935
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- 1989-02-02 JP JP1024286A patent/JP2780301B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2780301B2 (ja) | 1998-07-30 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |