JPH02199455A - 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法Info
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- JPH02199455A JPH02199455A JP1017546A JP1754689A JPH02199455A JP H02199455 A JPH02199455 A JP H02199455A JP 1017546 A JP1017546 A JP 1017546A JP 1754689 A JP1754689 A JP 1754689A JP H02199455 A JPH02199455 A JP H02199455A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 24
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims abstract description 26
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- -1 aromatic diazonium salt Chemical class 0.000 claims description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 25
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 17
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 claims description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 12
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 abstract description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 abstract description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 abstract description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- XHEUGRVBDKDLTH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-diazocyclohexa-1,5-dien-1-yl)morpholine;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.C1=CC(=[N+]=[N-])CC=C1N1CCOCC1 XHEUGRVBDKDLTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XGOYJVIYKUBYQH-UHFFFAOYSA-N 4-diazo-n,n-dimethylcyclohexa-1,5-dien-1-amine;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.CN(C)C1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 XGOYJVIYKUBYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- ULQHUGMGRKCFAR-UHFFFAOYSA-N 4-(4-diazocyclohexa-1,5-dien-1-yl)-2,5-dimethoxymorpholine;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.COC1COC(OC)CN1C1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 ULQHUGMGRKCFAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005269 aluminizing Methods 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- QSLPNSWXUQHVLP-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-sulfanylmethane Chemical compound [S]C QSLPNSWXUQHVLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEBVHOPHFNDSAK-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibutoxy-4-(4-diazocyclohexa-1,5-dien-1-yl)morpholine;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.CCCCOC1COC(OCCCC)CN1C1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 YEBVHOPHFNDSAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFPRRTVSCCQNLL-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)phenol;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.CN(C)C1=CC=C(O)C=C1 JFPRRTVSCCQNLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEDHDQADNGZAKL-UHFFFAOYSA-N 4-diazo-n,n-diethylcyclohexa-1,5-dien-1-amine;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.CCN(CC)C1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 DEDHDQADNGZAKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000007540 photo-reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/54—Diazonium salts or diazo anhydrides
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光性組成物及びそれを用いたパターン形成
方法並びにカラーブラウン管等の表示装置のけい光面形
成方法に関する。
方法並びにカラーブラウン管等の表示装置のけい光面形
成方法に関する。
〔従来の技術〕
水溶性ポリマーと重クロム酸アルカリ塩からなる光硬化
型ホトレジストは古くから知られており、写真平版、写
真凸版、ホトエツチング、スクリーン印刷製版、表示装
置のけい光面の製作等に使用されている。このホトレジ
ストについては、例えば、氷枕、乾著;感光性高分子第
89頁〜第96頁(1977)講談社等に記載されてい
る。
型ホトレジストは古くから知られており、写真平版、写
真凸版、ホトエツチング、スクリーン印刷製版、表示装
置のけい光面の製作等に使用されている。このホトレジ
ストについては、例えば、氷枕、乾著;感光性高分子第
89頁〜第96頁(1977)講談社等に記載されてい
る。
このホトレジストの光硬化機構については、この系が古
い歴史を持っているにもかかわらず明白ではない。一応
は、六価のクロムが光を受けて三価のクロムに還元され
、この三価のクロムが水溶性ポリマーと配位結合を生じ
て不溶化すると考えられている。
い歴史を持っているにもかかわらず明白ではない。一応
は、六価のクロムが光を受けて三価のクロムに還元され
、この三価のクロムが水溶性ポリマーと配位結合を生じ
て不溶化すると考えられている。
このホトレジストを用いてカラーブラウン管のけい光面
を製造する例を示す。ポリビニルアルコールと界面活性
剤と重クロム酸アンモニウムと青色発光けい光体を水に
混合してスラリーとする。
を製造する例を示す。ポリビニルアルコールと界面活性
剤と重クロム酸アンモニウムと青色発光けい光体を水に
混合してスラリーとする。
一方カラーブラウン管フェースプレート内面にブラック
マトリックスを形成する。この上に上記スラリーを回転
塗布して塗膜を形成する。シャドウマスクを介して紫外
光を照射し、水で現像すると、露光した部分は不溶化し
ているため、青色発光けい光体ドツトが形成される。つ
いで、赤色発光けい光体及び緑色発光けい光体について
順次同様の方法でそれぞれのけい光体ドツトを形成する
。ついでフィルミング、アルミナイジング、パネルベー
キングの後、フェースプレート部とファンネル部を合わ
せフリットベーキングし、電子銃装着してブラウン管を
製造する。
マトリックスを形成する。この上に上記スラリーを回転
塗布して塗膜を形成する。シャドウマスクを介して紫外
光を照射し、水で現像すると、露光した部分は不溶化し
ているため、青色発光けい光体ドツトが形成される。つ
いで、赤色発光けい光体及び緑色発光けい光体について
順次同様の方法でそれぞれのけい光体ドツトを形成する
。ついでフィルミング、アルミナイジング、パネルベー
キングの後、フェースプレート部とファンネル部を合わ
せフリットベーキングし、電子銃装着してブラウン管を
製造する。
上記従来技術は、例えば、カラーブラウン管の大型化又
は高精細化について十分配慮がされていなかった。カラ
ーブラウン管が大型化すると、けい光体ドツトを製造す
る場合、露光面(塗膜面)が光源から離れるため露光面
における照度が下がり、露光に長時開票するという問題
があった。
は高精細化について十分配慮がされていなかった。カラ
ーブラウン管が大型化すると、けい光体ドツトを製造す
る場合、露光面(塗膜面)が光源から離れるため露光面
における照度が下がり、露光に長時開票するという問題
があった。
また、カラーブラウン管を高精細化するためには、けい
光体ドツト径をより小さくする必要がある。第2図に示
すように、けい光体3を含む塗膜2に光を照射すると、
けい光体3によって光5が散乱され、多量の露光を行な
うとマスク1の径よりも大きなドツトが形成され、ドツ
ト径を小さくすることが困難であるという問題があった
。
光体ドツト径をより小さくする必要がある。第2図に示
すように、けい光体3を含む塗膜2に光を照射すると、
けい光体3によって光5が散乱され、多量の露光を行な
うとマスク1の径よりも大きなドツトが形成され、ドツ
ト径を小さくすることが困難であるという問題があった
。
本発明の目的は、高感度な感光性組成物及びそれを用い
たパターン形成方法並びに露光時間を短縮したけい光面
形成方法を提供することにある。
たパターン形成方法並びに露光時間を短縮したけい光面
形成方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、高精度なパターンを形成し得る感
光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法並びにけ
い光面形成方法を提供することにある。
光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法並びにけ
い光面形成方法を提供することにある。
上記目的は、(1)水溶性ポリマー、重クロム酸塩並び
に芳香族ジアゾニウム硫酸塩及びスルホン酸塩よりなる
群から選ばれた少なくとも一種の芳香族ジアゾニウム塩
よりなることを特徴とする感光性組成物、(2)上記芳
香族ジアゾニウム塩は、一般式 M (ここでR工、R2は炭素数1〜3のアルキル基、L及
びMはH,CH,、OCH3,0C2H,、○C3H7
,0C4H9、XはH8O4、CF35○3、CH3S
03で表わされる元素、置換基又は原子団である)で示
される芳香族ジアゾニウム塩である上記1記載の感光性
組成物、(3)上記芳香族ジアゾニウム塩は、一般式 (ここでL及びMはH,CH,、OCH3、OC,H,
、○C3H,,0C4H9、XはH8O,、CF3SO
3、CH3S03で表わされる元素、置換基又は原子団
である)で示される芳香族ジアゾニウム塩である上記1
記載の感光性組成物、(4)水溶性ポリマーはポリビニ
ルアルコールである上記1.2又は3記載の感光性組成
物、(5)上記1から4までのいずれかに記載の感光性
組成物を中性又は弱酸性の水溶液とした塗料を基板上に
塗布し、塗膜を形成する工程、該塗膜に所望のパターン
の露光を行なう工程及び現像によりパターンを形成する
工程を有することを特徴とするパターン形成方法、(6
)上記中性又は弱酸性の水溶液は、pH5〜7の水溶液
である上記5記載のパターン形成方法、(7)上記露光
を行なう工程の後に塗膜を高湿度の雰囲気に保つことを
特徴とする上記5記載のパターン形成方法、(8)上記
1から4までのいずれかに記載の感光性組成物とけい光
体とを中性又は弱酸性の水性けん濁液とした塗料を基板
に塗布し、塗膜を形成する工程、該塗膜に所望のパター
ンの露光を行なう工程及び現像によりパターンを形成す
る工程を有することを特徴とするけい光面形成方法、(
9)上記中性又は弱酸性の水性けん濁液は、pH5〜7
の水性けん濁液である上記8記載のけい光面形成方法、
(10)上記露光を行なう工程の後に塗膜を高湿度の雰
囲気に保つことを特徴とする上記8記載のけい光面形成
方法によって達成される。
に芳香族ジアゾニウム硫酸塩及びスルホン酸塩よりなる
群から選ばれた少なくとも一種の芳香族ジアゾニウム塩
よりなることを特徴とする感光性組成物、(2)上記芳
香族ジアゾニウム塩は、一般式 M (ここでR工、R2は炭素数1〜3のアルキル基、L及
びMはH,CH,、OCH3,0C2H,、○C3H7
,0C4H9、XはH8O4、CF35○3、CH3S
03で表わされる元素、置換基又は原子団である)で示
される芳香族ジアゾニウム塩である上記1記載の感光性
組成物、(3)上記芳香族ジアゾニウム塩は、一般式 (ここでL及びMはH,CH,、OCH3、OC,H,
、○C3H,,0C4H9、XはH8O,、CF3SO
3、CH3S03で表わされる元素、置換基又は原子団
である)で示される芳香族ジアゾニウム塩である上記1
記載の感光性組成物、(4)水溶性ポリマーはポリビニ
ルアルコールである上記1.2又は3記載の感光性組成
物、(5)上記1から4までのいずれかに記載の感光性
組成物を中性又は弱酸性の水溶液とした塗料を基板上に
塗布し、塗膜を形成する工程、該塗膜に所望のパターン
の露光を行なう工程及び現像によりパターンを形成する
工程を有することを特徴とするパターン形成方法、(6
)上記中性又は弱酸性の水溶液は、pH5〜7の水溶液
である上記5記載のパターン形成方法、(7)上記露光
を行なう工程の後に塗膜を高湿度の雰囲気に保つことを
特徴とする上記5記載のパターン形成方法、(8)上記
1から4までのいずれかに記載の感光性組成物とけい光
体とを中性又は弱酸性の水性けん濁液とした塗料を基板
に塗布し、塗膜を形成する工程、該塗膜に所望のパター
ンの露光を行なう工程及び現像によりパターンを形成す
る工程を有することを特徴とするけい光面形成方法、(
9)上記中性又は弱酸性の水性けん濁液は、pH5〜7
の水性けん濁液である上記8記載のけい光面形成方法、
(10)上記露光を行なう工程の後に塗膜を高湿度の雰
囲気に保つことを特徴とする上記8記載のけい光面形成
方法によって達成される。
本発明において、水溶性ポリマーとしては、ポリビニル
アルコール、ゼラチン、アラビアゴム等従来重クロム酸
塩と組み合わせた感光性組成物に用いられていたポリマ
ーを用いることができる。
アルコール、ゼラチン、アラビアゴム等従来重クロム酸
塩と組み合わせた感光性組成物に用いられていたポリマ
ーを用いることができる。
けい光面形成のために本発明の感光性組成物を用いると
きは、燃焼によって容易に除去できるポリマーであるポ
リビニルアルコールを用いることが好ましい。
きは、燃焼によって容易に除去できるポリマーであるポ
リビニルアルコールを用いることが好ましい。
重クロム酸塩としては、アルカリ金属塩、アンモニウム
塩等のアルカリ塩を用いることが好ましい。上記と同様
にけい光面形成に本発明の感光性組成物を用いるときは
、アンモニウム塩を用いることが好ましい。
塩等のアルカリ塩を用いることが好ましい。上記と同様
にけい光面形成に本発明の感光性組成物を用いるときは
、アンモニウム塩を用いることが好ましい。
芳香族ジアゾニウム塩としては、上記(2)、(3)に
一般式で示した芳香族ジアゾニウム塩を用いることがで
きる。例えば、p−ジアゾ−N。
一般式で示した芳香族ジアゾニウム塩を用いることがで
きる。例えば、p−ジアゾ−N。
N−ジメチルアニリン硫酸塩、P−ジアゾ−N。
N−ジメチルアニリントリフルオロメタンスルホン酸塩
、p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリンメタンスルホ
ン酸塩、p−ジアゾ−モルホリノベンゼン硫酸塩、P−
ジアゾ−N、N−ジメチル−2,5−ジメチルアニリン
硫酸塩、P−ジアゾ−2,5−ジメトキシモルホリノベ
ンゼン硫酸塩等が用いられる。これらの芳香族ジアゾニ
ウム塩は、二種以上混合して用いることができる。
、p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリンメタンスルホ
ン酸塩、p−ジアゾ−モルホリノベンゼン硫酸塩、P−
ジアゾ−N、N−ジメチル−2,5−ジメチルアニリン
硫酸塩、P−ジアゾ−2,5−ジメトキシモルホリノベ
ンゼン硫酸塩等が用いられる。これらの芳香族ジアゾニ
ウム塩は、二種以上混合して用いることができる。
本発明の感光性組成物において、水溶性ポリマーに対し
、重クロム酸塩の量は5〜20重量%の範囲であること
が好ましい。重クロム酸塩の量が少ないと硬化し難く、
多すぎると重クロム酸塩が析出する。また芳香族ジアゾ
ニウム塩の量は5〜20重量%の範囲であることが好ま
しい。芳香族ジアゾニウム塩の量が少ないと感度が増加
せず、多すぎると塩が析出しやすい。
、重クロム酸塩の量は5〜20重量%の範囲であること
が好ましい。重クロム酸塩の量が少ないと硬化し難く、
多すぎると重クロム酸塩が析出する。また芳香族ジアゾ
ニウム塩の量は5〜20重量%の範囲であることが好ま
しい。芳香族ジアゾニウム塩の量が少ないと感度が増加
せず、多すぎると塩が析出しやすい。
本発明の感光性組成物は、従来の水溶性ポリマーと重ク
ロム酸塩系の組成物に加えられている界面活性剤等を加
えて用いてもさしつかえない。
ロム酸塩系の組成物に加えられている界面活性剤等を加
えて用いてもさしつかえない。
本発明のパターン形成方法、けい光面形成方法において
、露光後、塗膜を高湿度の状態に保つことによって、露
光時間を減少させることができる。
、露光後、塗膜を高湿度の状態に保つことによって、露
光時間を減少させることができる。
例えば、塗膜の厚さ等にもよるが、通常のけい光面形成
方法に用いる塗膜は、湿度約50%以上の状態に30秒
〜1分間程度放置することが好ましく、湿度60%以上
の状態に30秒〜1分間放置することがより好ましい。
方法に用いる塗膜は、湿度約50%以上の状態に30秒
〜1分間程度放置することが好ましく、湿度60%以上
の状態に30秒〜1分間放置することがより好ましい。
湿度は30%前後でもよいが、その場合はより多くの時
間、放置することが好ましい。
間、放置することが好ましい。
水溶性ポリマーと重クロム酸塩からなる塗膜に紫外光が
照射されると、複雑な過程を伴うが六価のクロムが光還
元されて三価のクロムに変化し、この三価のクロムが水
溶性ポリマーと配位結合し、網状構造を形成して水に不
溶になると考えられている。
照射されると、複雑な過程を伴うが六価のクロムが光還
元されて三価のクロムに変化し、この三価のクロムが水
溶性ポリマーと配位結合し、網状構造を形成して水に不
溶になると考えられている。
一方、芳香族ジアゾニウム硫酸塩、スルホン酸塩は、光
照射を受けると強酸を発生し、また還元剤を生じる。例
えば、p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリン硫酸塩は
、光照射を受けると分解して、p−ヒドロキシ−N、N
−ジメチルアニリンと硫酸を生じる。前者は還元剤であ
り、後者は酸である。
照射を受けると強酸を発生し、また還元剤を生じる。例
えば、p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリン硫酸塩は
、光照射を受けると分解して、p−ヒドロキシ−N、N
−ジメチルアニリンと硫酸を生じる。前者は還元剤であ
り、後者は酸である。
重クロム酸塩は酸性の状態では強い酸化力を示し、還元
剤を酸化し、自身は還元されて三価のクロムになる。よ
って水溶性ポリマーと重クロム酸塩との系に芳香族ジア
ゾニウム塩が添加されていれば、光照射による前記光還
元反応が促進されると考えられる。従って感光性組成物
の感度が向上する。
剤を酸化し、自身は還元されて三価のクロムになる。よ
って水溶性ポリマーと重クロム酸塩との系に芳香族ジア
ゾニウム塩が添加されていれば、光照射による前記光還
元反応が促進されると考えられる。従って感光性組成物
の感度が向上する。
また1例えばカラーブラウン管のけい光面の形成の如く
、けい光体を含む感光性組成物の塗膜に光照射すると、
前記の如くけい光体表面で光が乱反射する。本発明のけ
い光面形成方法によると、例えば第1図に示すように、
塗膜2の上層部分を硬化するのみの露光量で照射しても
、□その部分に生じた酸と還元剤6が高湿度の雰囲気に
放置されている間に下層に拡散し、下層をも不溶化する
。
、けい光体を含む感光性組成物の塗膜に光照射すると、
前記の如くけい光体表面で光が乱反射する。本発明のけ
い光面形成方法によると、例えば第1図に示すように、
塗膜2の上層部分を硬化するのみの露光量で照射しても
、□その部分に生じた酸と還元剤6が高湿度の雰囲気に
放置されている間に下層に拡散し、下層をも不溶化する
。
従って散乱する露光量も少ないので光の乱反射により硬
化する部分が少なく、より小さいドツトが形成される。
化する部分が少なく、より小さいドツトが形成される。
以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明する。
実施例1〜5
下記組成の感光性塗料を調製し、アンモニア水でpH=
7とした。
7とした。
ポリビニールアルコール 5 重量%重クロム
酸アンモニウム 0.5重量%芳香族ジアゾニ
ウム塩 0.5重量%水
残り芳香族ジアゾニウム塩として
は、つぎのちのを用いた。
酸アンモニウム 0.5重量%芳香族ジアゾニ
ウム塩 0.5重量%水
残り芳香族ジアゾニウム塩として
は、つぎのちのを用いた。
(1)p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリン硫酸塩
(2)p−ジアゾ−モルホリノベンゼン硫酸塩(3)p
−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリントリフルオロメタ
ンスルホン酸塩 (4)p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリンメタンス
ルホン酸塩 (5)p−ジアゾ−2,5−ジメチル−N、Nジメチル
アニリン硫酸塩 これらの感光性塗料をガラス板上に回転塗布し、乾燥し
て0.5〜0.7μmの塗膜とした。この塗膜に、濃度
差が5%ずつ変化するステップタブレット(フィルター
)を介して主発光波長365nmの紫外光を60秒間照
射し、相対湿度60〜70%の雰囲気に1分間放置後、
弱い温水スプレーで現像した。感度の高い塗膜径フィル
ターの濃度の高いステップ(光の透過率が低いステップ
)においても不溶化が起こる。その感度の比較を表1に
示した。比較例は芳香族ジアゾニウム塩を含まない塗膜
である。
−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリントリフルオロメタ
ンスルホン酸塩 (4)p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリンメタンス
ルホン酸塩 (5)p−ジアゾ−2,5−ジメチル−N、Nジメチル
アニリン硫酸塩 これらの感光性塗料をガラス板上に回転塗布し、乾燥し
て0.5〜0.7μmの塗膜とした。この塗膜に、濃度
差が5%ずつ変化するステップタブレット(フィルター
)を介して主発光波長365nmの紫外光を60秒間照
射し、相対湿度60〜70%の雰囲気に1分間放置後、
弱い温水スプレーで現像した。感度の高い塗膜径フィル
ターの濃度の高いステップ(光の透過率が低いステップ
)においても不溶化が起こる。その感度の比較を表1に
示した。比較例は芳香族ジアゾニウム塩を含まない塗膜
である。
表 1
実施例Nα 感 度
1 、 4.4
22.2
32.1
41.7
52.1
比較例 1
実施例6
下記けい光膜形成用の塗料を調製した。塗料はアンモニ
ア水でpH=7に調節した。
ア水でpH=7に調節した。
青色発光けい光体粉体(ZnS:A4)25重量%ポリ
ビニールアルコール 2.5重量%重クロム酸
アンモニウム 0.25重量%p−ジアゾ−N
、N−ジメチルアニリン硫酸塩0.25重量% 界面活性剤(ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン
エーテル) 0.25重量%水
残り上記塗料をガラ
ス板に回転塗布し、実施例1と同じ方法、条件で露光、
現像した。感度の比較を表2に示す。
ビニールアルコール 2.5重量%重クロム酸
アンモニウム 0.25重量%p−ジアゾ−N
、N−ジメチルアニリン硫酸塩0.25重量% 界面活性剤(ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン
エーテル) 0.25重量%水
残り上記塗料をガラ
ス板に回転塗布し、実施例1と同じ方法、条件で露光、
現像した。感度の比較を表2に示す。
表2
実施例Nα 感 度
6 3.2
比較例 1
実施例7
カラーブラウン管フェースプレート内面に従来と同じ方
法でブラックマトリックスを形成し、その上に実施例6
記載の塗料を用い、回転塗布により塗膜を形成する。青
色発光けい光体のドツトを形成すべき位置を紫外線によ
りシャドウマスクを介して照射し、温水スプレーで現像
する。ついで青色発光けい光体に変えて赤色発光けい光
体を混合した塗料を用い、同様に赤色発光けい光体のド
ツトを形成する。さらに緑色発光けい光体に変えた塗料
を用いて同様に緑色発光けい光体のドツトを形成する。
法でブラックマトリックスを形成し、その上に実施例6
記載の塗料を用い、回転塗布により塗膜を形成する。青
色発光けい光体のドツトを形成すべき位置を紫外線によ
りシャドウマスクを介して照射し、温水スプレーで現像
する。ついで青色発光けい光体に変えて赤色発光けい光
体を混合した塗料を用い、同様に赤色発光けい光体のド
ツトを形成する。さらに緑色発光けい光体に変えた塗料
を用いて同様に緑色発光けい光体のドツトを形成する。
さらに従来の方法によりフィルミング、アルミナイジン
グ、パネルベーキングを行ない、フェースプレート部と
ファンネル部を合わせフリットベーキングし、電子銃装
着してブラウン管とする。
グ、パネルベーキングを行ない、フェースプレート部と
ファンネル部を合わせフリットベーキングし、電子銃装
着してブラウン管とする。
以上の工程で各けい光体ドツトを形成するための露光は
、従来より短時間であり、またけい光体ドツトは高解像
度で形成された。
、従来より短時間であり、またけい光体ドツトは高解像
度で形成された。
実施例8〜12
実施例1に記載の感光性塗料を、下記の芳香族ジアゾニ
ウム塩を用いて調製した。
ウム塩を用いて調製した。
(8)p−ジアゾ−N、N−ジエチルアニリン硫酸塩
=15
=16−
(9)p−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−N、Nジメチ
ルアニリン硫酸塩 (10) p−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−N、Nジ
メチルアニリン硫酸塩 (11) p−ジアゾ−2,5−ジメトキシモルホリノ
ベンゼン硫酸塩 (12) p−ジアゾ−2,5−ジブトキシモルホリノ
ベンゼン硫酸塩 これらの感光性塗料を実施例1と同じ方法1条件でその
感度を検討した。結果を表3に示す。
ルアニリン硫酸塩 (10) p−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−N、Nジ
メチルアニリン硫酸塩 (11) p−ジアゾ−2,5−ジメトキシモルホリノ
ベンゼン硫酸塩 (12) p−ジアゾ−2,5−ジブトキシモルホリノ
ベンゼン硫酸塩 これらの感光性塗料を実施例1と同じ方法1条件でその
感度を検討した。結果を表3に示す。
表3
実施例Nα 感 度
83.5
92.1
10 2.0
11 2.0
12 1.7
比較例 l
実施例13
実施例1と同じ感光性塗料を用いて同様にガラス板上に
塗膜を形成し、露光後の放置条件を下記の表4の如くし
た他は、実施例1と同じ方法、条件で感度を検討した。
塗膜を形成し、露光後の放置条件を下記の表4の如くし
た他は、実施例1と同じ方法、条件で感度を検討した。
結果を表4に示す。
表4
実施例Nα 湿度 時間 感度
1 60〜70% 1分 4.41320〜3
0% 1分 1.8比較例 60〜70%
1分 1〔発明の効果〕 本発明の感光性組成物は高感度であり、それを用いてパ
ターンを形成する場合、露光時間を短縮できた。また高
解像度のパターンを得ることができた。
0% 1分 1.8比較例 60〜70%
1分 1〔発明の効果〕 本発明の感光性組成物は高感度であり、それを用いてパ
ターンを形成する場合、露光時間を短縮できた。また高
解像度のパターンを得ることができた。
第1図は本発明のけい光面形成方法を説明するためのブ
ラウン管フェースプレートの部分断面図、第2図は従来
のけい光面形成方法を説明するためのブラウン管フェー
スプレートの部分断面図である。 1・・・マスク 2・・・塗膜3・・・けい
光体 4・・・フェースプレート 5・・・光 6・・・酸又は還元剤
ラウン管フェースプレートの部分断面図、第2図は従来
のけい光面形成方法を説明するためのブラウン管フェー
スプレートの部分断面図である。 1・・・マスク 2・・・塗膜3・・・けい
光体 4・・・フェースプレート 5・・・光 6・・・酸又は還元剤
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、水溶性ポリマー、重クロム酸塩並びに芳香族ジアゾ
ニウム硫酸塩及びスルホン酸塩よりなる群から選ばれた
少なくとも一種の芳香族ジアゾニウム塩よりなることを
特徴とする感光性組成物。 2、上記芳香族ジアゾニウム塩は、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでR_1、R_2は炭素数1〜3のアルキル基、
L及びMはH、CH_3、OCH_3、OC_2H_5
、OC_3H_7、OC_4H_9、XはHSO_4、
CF_3SO_3、CH_3SO_3で表わされる元素
、置換基又は原子団である)で示される芳香族ジアゾニ
ウム塩である請求項1記載の感光性組成物。 3、上記芳香族ジアゾニウム塩は、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでL及びMはH、CH_3、OCH_3、OC_
2H_5、OC_3H_7、OC_4H_9、XはHS
O_4、CF_3SO_3、CH_3SO_3で表わさ
れる元素、置換基又は原子団である)で示される芳香族
ジアゾニウム塩である請求項1記載の感光性組成物。 4、水溶性ポリマーはポリビニルアルコールである請求
項1、2又は3記載の感光性組成物。 5、請求項1から4までのいずれかに記載の感光性組成
物を中性又は弱酸性の水溶液とした塗料を基板上に塗布
し、塗膜を形成する工程、該塗膜に所望のパターンの露
光を行なう工程及び現像によりパターンを形成する工程
を有することを特徴とするパターン形成方法。 6、上記中性又は弱酸性の水溶液は、pH5〜7の水溶
液である請求項5記載のパターン形成方法。 7、上記露光を行なう工程の後に塗膜を高湿度の雰囲気
に保つことを特徴とする請求項5記載のパターン形成方
法。 8、請求項1から4までのいずれかに記載の感光性組成
物とけい光体とを中性又は弱酸性の水性けん濁液とした
塗料を基板に塗布し、塗膜を形成する工程、該塗膜に所
望のパターンの露光を行なう工程及び現像によりパター
ンを形成する工程を有することを特徴とするけい光面形
成方法。 9、上記中性又は弱酸性の水性けん濁液は、pH5〜7
の水性けん濁液である請求項8記載のけい光面形成方法
。 10、上記露光を行なう工程の後に塗膜を高湿度の雰囲
気に保つことを特徴とする請求項8記載のけい光面形成
方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1017546A JPH02199455A (ja) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
US07/462,589 US5173382A (en) | 1989-01-30 | 1990-01-09 | Photosensitive composition containing water-soluble binder and aromatic diazonium chromate forming fluorescent screens employing same |
KR1019900000814A KR900012130A (ko) | 1989-01-30 | 1990-01-24 | 감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴 형상과 형광면 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1017546A JPH02199455A (ja) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02199455A true JPH02199455A (ja) | 1990-08-07 |
Family
ID=11946911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1017546A Pending JPH02199455A (ja) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5173382A (ja) |
JP (1) | JPH02199455A (ja) |
KR (1) | KR900012130A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE38256E1 (en) | 1994-03-15 | 2003-09-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photosensitive composition |
KR100432994B1 (ko) * | 1996-12-31 | 2004-09-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성수지조성물및이를이용한형광막패턴의형성방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6007790A (en) * | 1998-08-13 | 1999-12-28 | Uop Llc | Family of microporous indium silicate compositions |
KR20020077948A (ko) | 2001-04-03 | 2002-10-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3649269A (en) * | 1964-04-30 | 1972-03-14 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of forming fluorescent screens |
US3778615A (en) * | 1969-10-21 | 1973-12-11 | Eastman Kodak Co | Mixed alkaline earth sulfate phosphor fluorescent screens and radiographic elements |
FI71851C (fi) * | 1977-04-13 | 1987-02-09 | Hitachi Ltd | Foerfarande foer bildande av ett pulverbelaeggningsskikt enligt moenster pao en bildyta av ett faergbildroer. |
JPS5648032A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-01 | Hitachi Ltd | Phosphor screen forming method for color picture tube |
JPS6117138A (ja) * | 1984-07-04 | 1986-01-25 | Agency Of Ind Science & Technol | プラスチツクフイルム塗布用感光性エマルジヨン |
US4748102A (en) * | 1986-05-29 | 1988-05-31 | Weller Jr Edward L | Photoimaging process using water removable coatings |
-
1989
- 1989-01-30 JP JP1017546A patent/JPH02199455A/ja active Pending
-
1990
- 1990-01-09 US US07/462,589 patent/US5173382A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-01-24 KR KR1019900000814A patent/KR900012130A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE38256E1 (en) | 1994-03-15 | 2003-09-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photosensitive composition |
KR100432994B1 (ko) * | 1996-12-31 | 2004-09-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성수지조성물및이를이용한형광막패턴의형성방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5173382A (en) | 1992-12-22 |
KR900012130A (ko) | 1990-08-03 |
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