JPH02164765A - 高強度磁器製品の製造法 - Google Patents
高強度磁器製品の製造法Info
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- JPH02164765A JPH02164765A JP63319222A JP31922288A JPH02164765A JP H02164765 A JPH02164765 A JP H02164765A JP 63319222 A JP63319222 A JP 63319222A JP 31922288 A JP31922288 A JP 31922288A JP H02164765 A JPH02164765 A JP H02164765A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は通常の磁器組成中の石英をアルミナで置換した
高強度磁器製品の製造法に関するものである。
高強度磁器製品の製造法に関するものである。
(従来の技術)
−vLm器はカオリン−石英−長石系磁器を普通とする
が、機械的強度に劣るものがあるため、磁器組成中の石
英をアルミナで置換したアルミナ含有磁器よりなる製品
が機械的強度を大きく改善できるものとして近年その生
産を増加しつつある。
が、機械的強度に劣るものがあるため、磁器組成中の石
英をアルミナで置換したアルミナ含有磁器よりなる製品
が機械的強度を大きく改善できるものとして近年その生
産を増加しつつある。
しかし、アルミナ含有磁器製品にしてもその生素地の成
形性や原料コストなどの面から工業的生産に適応できる
アルミナ含有率30%程度の製品においては重要な曲げ
強度の点で未だ充分満足できないという問題があり、大
量に取り扱われて1員傷されることの多い小中学校や病
院、工場などの給食分野においては洗浄などに伴う損傷
ができるだけ少ないより一層曲げ強度の大きな磁器製品
が期待されている。
形性や原料コストなどの面から工業的生産に適応できる
アルミナ含有率30%程度の製品においては重要な曲げ
強度の点で未だ充分満足できないという問題があり、大
量に取り扱われて1員傷されることの多い小中学校や病
院、工場などの給食分野においては洗浄などに伴う損傷
ができるだけ少ないより一層曲げ強度の大きな磁器製品
が期待されている。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は前記のような従来技術の問題点であるアルミナ
含有磁器の曲げ強度の点を工業的生産に適応して解決し
ようとするものである。
含有磁器の曲げ強度の点を工業的生産に適応して解決し
ようとするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明はアルミナ含有磁器の調合原料を30μm以下9
8%よりも微細に湿式粉砕した後325メツシュまたは
それよりも細かい篩を通して調製した泥漿または坏土を
もって成形した生素地を素焼または締焼によって焼成素
地とし、次に、釉原料の配合物を54m以下60〜90
%、10μm以下95〜100%の粒度に粉砕した後3
25メソンユまたはそれよりも細かい篩を通して焼成後
の熱膨張係数が前記焼成素地の熱膨張係数より 10〜
1.5 X 10−’/”C(20〜150℃)低い値
となるようにした釉薬を前記焼成素地に施釉して125
0〜l 400 ’Cで焼成することを特徴とするもの
である。
8%よりも微細に湿式粉砕した後325メツシュまたは
それよりも細かい篩を通して調製した泥漿または坏土を
もって成形した生素地を素焼または締焼によって焼成素
地とし、次に、釉原料の配合物を54m以下60〜90
%、10μm以下95〜100%の粒度に粉砕した後3
25メソンユまたはそれよりも細かい篩を通して焼成後
の熱膨張係数が前記焼成素地の熱膨張係数より 10〜
1.5 X 10−’/”C(20〜150℃)低い値
となるようにした釉薬を前記焼成素地に施釉して125
0〜l 400 ’Cで焼成することを特徴とするもの
である。
本発明におけるアルミナ含有磁器としての調合原料はそ
の好ましい生素地の成形性や原料コストなどの点からア
ルミナ30〜45%、長石15〜35%、粘土またはカ
オリン25〜45%、セリサイト0−10%の配合組成
とするのが適当であって、このような調合原料を30μ
m以下98%よりも微細に湿式粉砕した後325メンシ
ユまたはそれよりも細かい篩を通して強度を低下さゼる
原因となる粗粒子を除去した泥漿とする。この泥漿は脱
水して坏土としたうえ可塑成形により所要の形状に成形
して生素地とするか、または適当な解膠剤により鋳込み
用泥漿としたうえ鋳込み成形により所要の形状に成形し
て生素地とし、次いでこの生素地は乾燥した後素焼また
は締焼によって焼成素地とする。そして、このようにし
て得られる焼成素地はその熱膨張係数が5.8〜6.7
X10−6/’C(20〜750℃)であり、また、曲
げ強度は2100〜2500kg/cfflを示すもの
である。
の好ましい生素地の成形性や原料コストなどの点からア
ルミナ30〜45%、長石15〜35%、粘土またはカ
オリン25〜45%、セリサイト0−10%の配合組成
とするのが適当であって、このような調合原料を30μ
m以下98%よりも微細に湿式粉砕した後325メンシ
ユまたはそれよりも細かい篩を通して強度を低下さゼる
原因となる粗粒子を除去した泥漿とする。この泥漿は脱
水して坏土としたうえ可塑成形により所要の形状に成形
して生素地とするか、または適当な解膠剤により鋳込み
用泥漿としたうえ鋳込み成形により所要の形状に成形し
て生素地とし、次いでこの生素地は乾燥した後素焼また
は締焼によって焼成素地とする。そして、このようにし
て得られる焼成素地はその熱膨張係数が5.8〜6.7
X10−6/’C(20〜750℃)であり、また、曲
げ強度は2100〜2500kg/cfflを示すもの
である。
一方、釉薬は通常の釉原料の配合物をボールミルで長時
間粉砕したうえ篩を通して調製するものであるが、この
際、該釉原料の配合物は54m以下60〜90%、10
μm以下95〜100%の粒度に粉砕した後325メツ
シュまたはそれよりも細かい篩を通して破壊の原因とな
る石英粗粒子を除去する。従来、釉は焼成によりガラス
化して均質な状態になると考えられ、釉配合物の粒度な
らびにその分布には余り注意が払われていなかった。と
ころが、本発明者が施釉曲げ強度を詳細に測定し、強度
を低下させている原因につき幾多研究を重ねた結果、多
くの場合、釉薬中の溶は残った石英粗粒子が破壊源とな
り、強度を低下させていることが明らかとなった。即ち
、釉薬においてもt5)砕後の残留石英粗粒子が軸中で
完全には熔融せず、強度低下の原因になっているのであ
る。しかして、この場合、釉原料の配合物の粒度が前記
粒度範囲を外れたものとすれば、施釉面に亀裂を生した
り、焼成時に釉の剥離があったりして好ましくない。ま
た、焼成後の釉の熱膨張係数は前記焼成素地の熱膨張係
数より 1.0〜1.5 X I O−/’C(20〜
750℃)低い値となるようにするものであって、その
配合組成は次の軸式のとおりである。
間粉砕したうえ篩を通して調製するものであるが、この
際、該釉原料の配合物は54m以下60〜90%、10
μm以下95〜100%の粒度に粉砕した後325メツ
シュまたはそれよりも細かい篩を通して破壊の原因とな
る石英粗粒子を除去する。従来、釉は焼成によりガラス
化して均質な状態になると考えられ、釉配合物の粒度な
らびにその分布には余り注意が払われていなかった。と
ころが、本発明者が施釉曲げ強度を詳細に測定し、強度
を低下させている原因につき幾多研究を重ねた結果、多
くの場合、釉薬中の溶は残った石英粗粒子が破壊源とな
り、強度を低下させていることが明らかとなった。即ち
、釉薬においてもt5)砕後の残留石英粗粒子が軸中で
完全には熔融せず、強度低下の原因になっているのであ
る。しかして、この場合、釉原料の配合物の粒度が前記
粒度範囲を外れたものとすれば、施釉面に亀裂を生した
り、焼成時に釉の剥離があったりして好ましくない。ま
た、焼成後の釉の熱膨張係数は前記焼成素地の熱膨張係
数より 1.0〜1.5 X I O−/’C(20〜
750℃)低い値となるようにするものであって、その
配合組成は次の軸式のとおりである。
このような釉薬をiり記焼成素地に常法により施釉して
還元雰囲気で1250〜1400℃の焼成温度範囲にお
いて焼成すれば、ここに所期の高強度iff器製品が得
られるものであって、前記成形した生素地を施釉するこ
となく同条件で焼成した磁器製品と比較してその曲げ強
度は約1.3〜1.4倍まで高められた2 700〜3
350kg/c−の曲げ強度のものとなる。しかして、
このような曲げ強度の大きな向上はアルミナ含有磁器の
調合原料を30μm以下98%よりも微細に粉砕したう
え325メンシユまたはそれよりも細かい篩を通すこと
によって強度を低下させる原因となる粗粒子を除去した
こと、および釉薬の釉原料の配合物を54m以下60〜
90%、10μm以下95〜100%の粒度にわ)砕し
た後325メンシユまたはそれよりも細かい篩を通すこ
とによって焼成後も軸中に残留して破壊原因となる石英
粗粒子を除去したこと、そして、焼成後の熱膨張係数が
焼成素地の熱膨張係数より 1.0−1.5 X 10
−/”C(20〜750℃)低い値となるようにしたこ
との総合による結果と認められ、そのため、特に軸中に
生じる圧縮応力は200〜750 kg/cdとなり、
焼成素地と釉とは1250〜1400℃の焼成温度下に
適正に調和されて曲げ強度を大きく向上させるものであ
る。しかして、軸中の圧縮応力が750 kg / c
dを超えると製品の縁欠は強度はかえって減少するため
前記以上に釉を低熱膨張化することは好ましくない、な
お、前記のような釉薬の特定の条件を満足させない釉薬
を使用した場合には、前記のような曲げ強度の顕著な向
上効果を期待できないことは幾多の実験研究の結果究明
された。
還元雰囲気で1250〜1400℃の焼成温度範囲にお
いて焼成すれば、ここに所期の高強度iff器製品が得
られるものであって、前記成形した生素地を施釉するこ
となく同条件で焼成した磁器製品と比較してその曲げ強
度は約1.3〜1.4倍まで高められた2 700〜3
350kg/c−の曲げ強度のものとなる。しかして、
このような曲げ強度の大きな向上はアルミナ含有磁器の
調合原料を30μm以下98%よりも微細に粉砕したう
え325メンシユまたはそれよりも細かい篩を通すこと
によって強度を低下させる原因となる粗粒子を除去した
こと、および釉薬の釉原料の配合物を54m以下60〜
90%、10μm以下95〜100%の粒度にわ)砕し
た後325メンシユまたはそれよりも細かい篩を通すこ
とによって焼成後も軸中に残留して破壊原因となる石英
粗粒子を除去したこと、そして、焼成後の熱膨張係数が
焼成素地の熱膨張係数より 1.0−1.5 X 10
−/”C(20〜750℃)低い値となるようにしたこ
との総合による結果と認められ、そのため、特に軸中に
生じる圧縮応力は200〜750 kg/cdとなり、
焼成素地と釉とは1250〜1400℃の焼成温度下に
適正に調和されて曲げ強度を大きく向上させるものであ
る。しかして、軸中の圧縮応力が750 kg / c
dを超えると製品の縁欠は強度はかえって減少するため
前記以上に釉を低熱膨張化することは好ましくない、な
お、前記のような釉薬の特定の条件を満足させない釉薬
を使用した場合には、前記のような曲げ強度の顕著な向
上効果を期待できないことは幾多の実験研究の結果究明
された。
(実験例)
アルミナ30%(重量%、以下同じ)、長石30%、蛙
目粘土10%、チャイナクレー(カオリン)30%の配
合組成の調合原料をボールミルで18時時間式粉砕した
後350メツシュの篩を通して調製した泥漿をもって1
0鵬×511II11×80Bの試験体を鋳込み成形し
、次いで、乾燥後700℃で電気炉において30分間素
焼した。
目粘土10%、チャイナクレー(カオリン)30%の配
合組成の調合原料をボールミルで18時時間式粉砕した
後350メツシュの篩を通して調製した泥漿をもって1
0鵬×511II11×80Bの試験体を鋳込み成形し
、次いで、乾燥後700℃で電気炉において30分間素
焼した。
一方、釉薬は磁器釉原料の配合物をボールミルで48時
時間式粉砕したうえ350メツシュの篩に通して5μm
以下85%(島津製作所製粒度分析装JR51000に
よる)の粒度に微粉砕したものとし、その配合組成は次
の軸式のとおりとしてその熱膨張係数を前記焼成素地の
熱膨張係数6.0〜6.2 X 10−6/゜C(20
〜750’C)より低い値の4.8X 10−”/”C
(20〜750℃)のものとした。
時間式粉砕したうえ350メツシュの篩に通して5μm
以下85%(島津製作所製粒度分析装JR51000に
よる)の粒度に微粉砕したものとし、その配合組成は次
の軸式のとおりとしてその熱膨張係数を前記焼成素地の
熱膨張係数6.0〜6.2 X 10−6/゜C(20
〜750’C)より低い値の4.8X 10−”/”C
(20〜750℃)のものとした。
(KgO/NazO= 1.00 )
次に、前記素焼した試験体に濃度をボーメで約34〜3
8度とした前記釉薬を厚さ約150μmに均ゴに施釉し
た後還元雰囲気で1350℃で焼成した。この焼成品の
曲げ強度は3000 kg/c+flであった。
8度とした前記釉薬を厚さ約150μmに均ゴに施釉し
た後還元雰囲気で1350℃で焼成した。この焼成品の
曲げ強度は3000 kg/c+flであった。
(発明の効果)
本発明は以上の説明によって明らかなように、釉原料の
配合物を特に5μm以下60〜90%、10μm以下9
5〜100%の粒度に粉砕した後325メツシュまたは
それよりも細かい篩を通し、なおかつ焼成後の熱膨張係
数が焼成素地の熱膨張係数より 1.0〜1.5 X
10−6/゜C(20〜750℃)低い値となるように
した特定の釉薬をアルミナ含有磁器となる素焼または締
焼した焼成素地に施釉して1250〜1400 ’Cで
の焼成と相撲ち焼成素地と釉とを適正に調和させて軸中
に生じる圧縮応力をして特に高い曲げ強度の高強度磁器
製品となるようにしたものであって、その曲げ強度は約
3350 kg/cjまで得られることが確認されると
ころであり、しかも、アルミナ含有磁器としてその生素
地の成形性に支障がなく、原料も特にコスト高となるも
のを必要としないことによって工業的生産にも全(問題
はないものであって、特に大量に取り扱われて損傷され
ることの多い小中学校や病院、工場などの給食分野にお
いて使用される食器としての磁器製品を提供するのに好
適なものである。
配合物を特に5μm以下60〜90%、10μm以下9
5〜100%の粒度に粉砕した後325メツシュまたは
それよりも細かい篩を通し、なおかつ焼成後の熱膨張係
数が焼成素地の熱膨張係数より 1.0〜1.5 X
10−6/゜C(20〜750℃)低い値となるように
した特定の釉薬をアルミナ含有磁器となる素焼または締
焼した焼成素地に施釉して1250〜1400 ’Cで
の焼成と相撲ち焼成素地と釉とを適正に調和させて軸中
に生じる圧縮応力をして特に高い曲げ強度の高強度磁器
製品となるようにしたものであって、その曲げ強度は約
3350 kg/cjまで得られることが確認されると
ころであり、しかも、アルミナ含有磁器としてその生素
地の成形性に支障がなく、原料も特にコスト高となるも
のを必要としないことによって工業的生産にも全(問題
はないものであって、特に大量に取り扱われて損傷され
ることの多い小中学校や病院、工場などの給食分野にお
いて使用される食器としての磁器製品を提供するのに好
適なものである。
Claims (1)
- アルミナ含有磁器の調合原料を30μm以下98%よ
りも微細に湿式粉砕した後325メッシュまたはそれよ
りも細かい篩を通して調製した泥漿または坏土をもって
成形した生素地を素焼または締焼によって焼成素地とし
、次に、釉原料の配合物を5μm以下60〜90%、1
0μm以下95〜100%の粒度に粉砕した後325メ
ッシュまたはそれよりも細かい篩を通して焼成後の熱膨
張係数が前記焼成素地の熱膨張係数より1.0〜1.5
×10^−^6/゜C(20〜750゜C)低い値とな
るようにした釉薬を前記焼成素地に施釉して1250〜
1400℃で焼成することを特徴とする高強度磁器製品
の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63319222A JPH0611668B2 (ja) | 1988-12-17 | 1988-12-17 | 高強度磁器製品の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63319222A JPH0611668B2 (ja) | 1988-12-17 | 1988-12-17 | 高強度磁器製品の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02164765A true JPH02164765A (ja) | 1990-06-25 |
JPH0611668B2 JPH0611668B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=18107770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63319222A Expired - Lifetime JPH0611668B2 (ja) | 1988-12-17 | 1988-12-17 | 高強度磁器製品の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0611668B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001058827A1 (fr) * | 2000-02-14 | 2001-08-16 | Ngk Insulators, Ltd. | Procede de production d'une structure en ceramique nid d'abeille |
WO2002032834A1 (fr) * | 2000-10-19 | 2002-04-25 | Inax Corporation | Procede de traitement antitache et produit a couche de verre, poterie renforcee et procede d'elaboration, ainsi que produit a couche de verre et procede d'elaboration |
JP2007151875A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Ogiso:Kk | 磁器製食器 |
CN115745565A (zh) * | 2022-11-21 | 2023-03-07 | 湖南阳东电瓷电气股份有限公司 | 一种适合氧化焰烧成的电瓷坯料配方、支柱绝缘子及其制备方法 |
CN117417184A (zh) * | 2023-10-17 | 2024-01-19 | 山东果兹生活科技有限公司 | 一种新型玲珑瓷及其制备方法与应用 |
CN117819938A (zh) * | 2023-01-18 | 2024-04-05 | 童良文 | 彩毫建盏的烧制工艺 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN102557584B (zh) * | 2012-02-20 | 2013-05-22 | 范晨雨 | 玉质汝瓷及其制备方法 |
-
1988
- 1988-12-17 JP JP63319222A patent/JPH0611668B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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