JPH02122888A - 水処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はビル等の貯水タンクや水道管、ボイラ、冷却塔
、給水管、及び食品工場の配管等に設けられる水処理装
置に関する。

［従来の技術］ 近年、ビル内の給水管の老朽化と水質の悪化による塩素
剤投入から、給配水管系統の三大障害といわれる赤錆、
スクール、スライムが発生し、管内の錆付着による管の
詰まり及び錆の発生による管の破損、漏水による建物の
損壊、赤水発生による飲料水の汚染及び飲料水のまずさ
等の原因となっている。

この対策として、給水管に対しては、化学薬品の投入に
よる付着したスケール・赤錆の除去をする化学洗浄又は
防錆剤の投入、高圧空気で珪砂を吹き付けたり、水のジ
ェット噴流を用いてスケール・赤錆の除去を行う洗浄方
法が知られており、飲料水に対しては、活性炭による水
中の鉄分及び浮遊物等の吸着濾過除去等が公知である。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら上記の化学薬品投入の処理方法においては
、定期的に処理を継続しなくてはならず、薬剤費及び人
件費がかかるとともに、洗浄後の廃液処理の問題及び薬
物の残留の問題もある。また物理的にスケール及び赤錆
を落とす場合には装置が大掛かりになり費用が嵩むこと
、更には洗浄処理の間給水がストップする為、営業、操
業に支障をきたすという問題がある。

本発明は従来技術の有する前記問題点に鑑みなされたも
のであり、飲料水として薬量がなく、装置の稼働に電気
等の別のエネルギー源を必要とせず経済的であり、水質
の改質効果の優れた水処理装置を提供することを目的と
する。

［課趙を解決するための手段］ 本発明は流入口と流出口の間に遠赤外線放射セラミック
を設ける遠赤外線水処理室と磁場発生装置を設ける磁湯
水処理室とを設けて構成される。

［作　用］ 本発明は水処理装置に磁場発生装置を設け、二極（Ｓ極
とＮ極）の間に発生する磁場の中に水を通過させること
により、その磁場で水中の溶存イオン、鉄分、更にスケ
ールの正置の１つである電荷を持つ沈澱物やコロイド等
の析出を促進し、赤錆、スケール・スライムの給水管へ
の付着と防ぐものである。

また、水のように大きな電気陰性度を持つ酸素とそれに
結合している水素を有している場合、水素結合が起こり
、数〜数十個の水分子が会合して一つの分子のような行
動をするが、遠赤外線放射セラミックを水処理装置に設
け、遠赤外線を水に照射することにより、会合した水分
子の水素結合及び水分子の基準振動に共鳴し、水素結合
が分解され水をおいしくするとともに水の異臭を除去す
る等の作用をするものである。

［実施例］ 以下に本発明の実施例を図面を参照して詳説する。

まず、第１実施例を第１図乃至第４図に示す。

１は本発明の磁気と遠赤外線の相乗効果による水処理装
置で缶体２と、この缶体２内に装着された永久磁石３Ｂ
を用いた磁場発生装置３と、遠赤外線放射セラミック４
とから構成されており、前記缶体２は部上クーシング２
Ａと、この部上ゲージング２Ａの上下に連結した一対の
わん状の上部クーシンク２８下部ケーシングク２Ｃとか
ら構成されている。

前記セラミック４は Ｓ　ｉ０２　　　７０〜８０％　好ましくは７６％Ａｌ
２Ｏ，１０〜２０％　好ましくは１６％Ｆｅ２Ｏ，３〜
９％　好ましくは６％ Ｚｒ○２　　５％以下　好ましくは２％からなる板状体
または径小な円柱状体の表面に黒色の被膜を設けた焼結
体（商凛名　バイオセラミ力）を用いる。

また、前記上部ゲーソング２Ｂには流出口５を中心に自
動空気抜き弁６と圧力ゲージ７が配設され、前記下部ケ
ーシング２Ｃの中心には流入口８が設けられ、前記缶体
２は支脚９により支持されている。

尚、前記缶体２は直径的２５０ｍ　ｍ　、高さ約６９０
ｍ　ｍ程度のものである。更に前記缶体２は水平に張設
されたパンチングメタル１０で下方に順に第１の磁湯水
処理室１１．遠赤外線水処理室１２．第２の磁湯水処理
室１１Ａが形成されており、前記各磁湯水処理室１１．
１１Ａには磁場発生装置３が第２図及び第３図に示す様
に各々２個ずつ並設され、取り付けｗ、３Ｃに固定され
ている。また第２の磁湯水処理室１１Ａの磁場発生装置
３は第１の磁湯水処理室１１の磁場発生装置３に対し、
ねじれの位置に配設される。また磁場発生装置３は、磁
湯水処理室１１．１１Ａ内に張設された軸３Ａに所定間
隔をもって適数枚配設された円板状の永久磁石３Ｂから
成る。

次に前記遠赤外線水処理室１２内には円筒状に構成され
た遠赤外線放射セラミック４が９本第４図に示される様
な配置で垂設されている。

しかして、水道水は流入口８を水処理装置１内を上方に
向かって流入し、下部ケーシング２Ｃを通ってパンチン
グメタル１０に達し缶体２内に均一に流れるよう分散さ
れ、更に第１の磁湯水処理室１１を通って、遠赤外線水
処理室１２に流入し、再びパンチングメタル１０を介し
て第２の磁湯水処理室１１Ａに達し、その後上部ケーシ
ング２Ｂに設けた流出口５から吐出される。この際、水
処理装置１内に流入された水道水は第１及び第２の磁湯
水処理室１１゜１１Ａに配設された永久磁石３８のＮ極
とＳ極の間に発生する磁場の中３通過することにより、
その磁場で水中の溶存イオン、鉄分更にスケールの成分
の一つである電荷を持つ沈澱物やコロイド等の析出を促
進し、赤錆、スケール。

スライムの給水管への付着を防ぐことが可能となる。こ
こで用いられる永久磁石は流速２ｍ／秒の時、大概１８
００ガウス前後の磁力であれば充分に効果を」二げるこ
とかできる。

次にこの被処理水は、遠赤外線放射セラミック４を配設
した遠赤外線水処理室１２を通過することにより、遠赤
外線放射セラミック４の放射する水に対する吸収波長を
含む４〜５０μｍ、特に８〜１４μｍの遠赤外線の照射
を受け、会合した水分子の水素結合及び水分子の基準振
動が共鳴し、数〜数十個会合していた水分子が分解され
るとともに、活性化された水が得られ、水が浄化される
。

次表は塩素系殺菌剤ハイクロン投入前の貯水３日から４
日経過したプール水において、本発明の遠赤外線放射セ
ラミック４で処理を行った採水と未処理の採水について
水質検査を行った結果である。

この表によれば、本発明に係わる処理水と未処理水の間
で残留塩素濃度に大きな変化はなく、又カルシウム、マ
グネシウム等も表１−（１）の未処理水で３０．０１１
（］／　ｌ　、表１（２）の処理水でも３０．０ｍｇ／
　１と変わらない。

一方、大腸菌群では、未処理水でＢＧＬＢが（＋）であ
ったものが処理により（−）となっている、更に、一般
雑菌については未処理水において３４０７１　ｍｌと基
準値の１００／１ｍｌ以下をかなり上回っているが、処
理水では８６／１ｍｌとなり基準値内におさまっており
、効果の高いことが分かる。

表１．−（１）　　貯水ｆ＆３経過し、採水した未処理
プール水（塩素系殺菌剤ハイクロン投入前） 表１−（２）　　貯水後４日経過し、本発明の遠赤外線
放射セラミックで処理後のプール水（塩素系殺菌剤ハイ
クロン投入前） 次表においては、前夫同様にプール水において未処理採
水と本発明の遠赤外線放射セラミック４で循環させ、処
理を行った採水について水質検査を行った結果である。

ここでも前夫と同様に、残留塩素量及びカルシウム、マ
グネシウム等の濃度に大きな変化は見られず、一方、大
腸菌群では全ての項目において（＋）が示され、検出と
なっていたものが、処理水の方では検出されないという
結果に変わっている。一般細菌では未処理水の５６，０
００／　１　ｍｌに対し、処理水は１４０／　１１と著
しい効果をあげている。

表２−（１）　　未処理プール水 表２−（２＞　　本発明の遠赤外線水処理室により循環
処理を行ったプール水 更に水分子に磁場が作用すると分子内の電子がスピンし
、ラーモア歳差運動を行い、水分子のエネルギー準位が
定常状態から、エネルギーの高いエネルギー準位とエネ
ルギーの低いエネルギー準位に分割される。このファラ
デー効果におけるゼーマン効果により、磁場を通過した
水の遠赤外線吸収量が増加し、相乗的な効果が得られる
ものである。　第６図乃至第８図は本発明の第２実施例
を示し、前記第１実施例と同一部分には同一符号と付し
、その詳細は省略して説明する。

前記第１実施例では各磁湯水処理室１１．１１Ａに永久
磁石３Ａを並設した磁場発生装置３を各々２本ずつ設け
るととともに遠赤外線水処理室１２内には９個の円筒状
遠赤外線放射セラミック４を垂設したものを示したが、
第２実施例では前記缶体２の寸法を直径約３００ｍｍ、
高さ約７５６ｍ　ｍ程度にすることにより、パンチング
パネル１０で仕切られた各磁湯水処理室１１．１１Ａ内
に収納する磁場発生装置３を第６図乃至第７図に示すよ
うに長短台せて各々３本とし、遠赤外線水処理室１２内
には第８図に示すように１１本の円筒状に構成された遠
赤外線放射セラミック４が配設される。

この第２実施例においては前記第１実施例に比べ缶体２
の寸法を大きくするとともに各磁湯水処理室１１．　Ｉ
ＩＡ、遠赤外線水処理室１２内の発生装置３及び遠赤外
線放射セラミック４の納置数を増加することにより、水
処理能力の増加を図るものである。

次に、第９図乃至第１２図は本発明の第３実施例を示し
、前記第１実施例と同一部分に同一符号を付し、その詳
細は省略して説明する。

まず、第３実施例においては、前記缶体２の寸法を直径
約３５０ｍ　ｍ　、高さ８８０ｍ　ｍ程度に形成し、パ
ンチングパネル１０で仕切られる各磁湯水処理室１１．
１１Ａの下方に同様の磁湯水処理室１１Ｂを設け、その
内部には第１０図に示されるように磁場発生袋Ｎ３が、
磁湯水処理室１１内には第１１図に示されるように磁場
発生装置３が配設される。また、遠赤外線水処理室１２
内には第１２図に示すように１３本の円筒状に構成され
た遠赤外線放射セラミック４が配設される。

しかして、前記第２実施例と同様に缶体２の寸法を大き
くし、各磁場発生装置３及び遠赤外線放射セラミック４
の納置数を増加させ更に磁湯水処理室１１Ｂを増設する
ことにより、水処理能力の増加を図るものである。

本発明の第４実施例を第１３図に示す、第１３図は前記
遠赤外線水処理室１２内に収納される遠赤外線放射セラ
ミック２０の取り付は状態を示す縦断面図であり、遠赤
外線放射セラミック２０を複数個設けたセラミック群２
１を遠赤外線放射セラミック２０の端面間に左巻きのコ
イル状中間部材２２を介在させて縦方向に複数個配設し
、前記セラミック群２１と前記中間部材２２の外側をそ
の全長にわたって配設される左巻きのコイル状の収納部
材から構成される。

さらに前記セラミック群２１の両端には各々左巻きのコ
イル状の押え部材２４．２５が設けられる。

次に流入口８から導入された水はパンチングメタル１０
を介して遠赤外線水処理室１２に入り、遠赤外線放射セ
ラミック２０から遠赤外線の放射を受けて活性化される
とともに浄化が行われる。その際に流入した水は遠赤外
線放射セラミック２０に設けられた左巻きのコイル状の
収納部材２３及び中間部材２２により、左回転し、地球
の自転と同一方向となり活性化が強化される。また遠赤
外線放射セラミック２０間に設けた中間部材２３等によ
りセラミックの表面積を大きくすることができ効率よく
活性化する。また、２６は前記遠赤外線放射セラミック
２０等を収納したゲージングであって、開口率を大きく
して通孔２７が形成されている。

尚、前記実施例では磁場発生装置３は磁性体の中でも保
磁力の大きい強磁性体の残留磁化を利用した永久磁石を
用いているが、間隙のある磁路にコイルを巻き、コイル
に電流を流し磁路を磁化し、間隙に磁場を作る電磁石を
用いてもよく、また半導体、超伝導磁石を用いてもよい
、更に、遠赤外線放射セラミックに設けた左巻きのコイ
ル状収納部材及び中間部材、押え部材には右巻きのコイ
ル状収納部材及び中間部材、押え部材を設けても良い。

［発明の効果］ 本発明は流入口と流出口の間に遠赤外線放射セラミック
を設ける遠赤外線水処理室と、磁場発生装置を設ける磁
湯水処理室を設けて構成されているので飲料水として薬
量がなく、装置の稼働に電気等の別のエネルギー源を必
要とせずに半永久的に効果が継続するものであるから経
済的であるとともに優れた水処理効果を有する。

４、

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例の縦断面図、第２図は第１
図のＡ−Ａ線断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ線断面図
、第４図は第１図のＣ−Ｃ線断面図、第５図は本発明の
第２実施例の縦断面図、第６図は第５図のＤ−Ｄ線断面
図、第７図は第５図のＥ−Ｅ線断面図、第８図は第５図
のＦ−Ｆ線断面図、第９図は本発明の第３実施例の縦断
面図、第１０図は第９図のＧ−Ｇ線断面図、第１１図は
第９図のＨ−８線断面図、第１２図は第９図のＩ−Ｉ線
断面図、第１３図は本発明の第４実施例の縦断面図、第
１４図は第１３図のＪ−Ｊ線断面図を示す。 ３・磁場発生装置 ４．２０・・遠赤外線放射セラミック ５・・・流出口 ８・・流入口 １１、１１Ａ・・磁湯水処理室 １２・・・遠赤外線水処理室 特　許　出　願人　株式会社 富士計器 代 理 人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 流入口と流出口の間に遠赤外線放射セラミ ックを設ける遠赤外線水処理室と、磁場発生装置を設け
   る磁湯水処理室を設けることを特徴とする水処理装置。