JPH02116038A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JPH02116038A JPH02116038A JP63268628A JP26862888A JPH02116038A JP H02116038 A JPH02116038 A JP H02116038A JP 63268628 A JP63268628 A JP 63268628A JP 26862888 A JP26862888 A JP 26862888A JP H02116038 A JPH02116038 A JP H02116038A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＣＤ−ＲＯＭ等に用いられる光ディスクに関
する。
する。
近年、コンパクトディスクにコンピュータ用のディジタ
ル情報を記録した光ディスク、所謂ＣＤ−ＲＯＭが普及
してきており、文献情報の検索等に盛んに利用されてき
ているが、このＣＤ−ＲＯＭは基本的にはコンパクトデ
ィスクと同じ構造を有している。
ル情報を記録した光ディスク、所謂ＣＤ−ＲＯＭが普及
してきており、文献情報の検索等に盛んに利用されてき
ているが、このＣＤ−ＲＯＭは基本的にはコンパクトデ
ィスクと同じ構造を有している。
第２図は従来の光ディスクの半径方向に切断した場合の
断面図である。
断面図である。
第２図に示すように、ポリカーボネート等の熱可塑性樹
脂から成る透明基板１の表面に、符号化された記録情報
に対応する凹凸パターンを形成し、前記凹凸パターンの
形成された透明基板１の表面に、蒸着法等にりアルミニ
ウム等の反射率の高い金属から成る反射膜４を形成し、
その後反射膜４の上に保護膜３を積層した構造となって
いる。
脂から成る透明基板１の表面に、符号化された記録情報
に対応する凹凸パターンを形成し、前記凹凸パターンの
形成された透明基板１の表面に、蒸着法等にりアルミニ
ウム等の反射率の高い金属から成る反射膜４を形成し、
その後反射膜４の上に保護膜３を積層した構造となって
いる。
ここで、前述した凹凸パターンを有する透明基板１の形
成は通常射出成形法を用いて行われる。
成は通常射出成形法を用いて行われる。
この射出成形法は、例えば、真利藤雄、林謙二共著ｒＣ
Ｄプレーヤ入門」第２５頁（コロナ社、１９８３年）に
開示されているように、マスタリングプロセスを経て形
成されたマザースタンパに、軟化させたポリカーボネー
ト樹脂を射出し、前記ポリカーボネート樹脂が硬化した
後マザースタンパから剥離し前記マザースタンバの凹凸
パターンを射出した前記ポリカーボネート樹脂上に転写
して、凹凸パターンを有する基板を形成する方法である
。
Ｄプレーヤ入門」第２５頁（コロナ社、１９８３年）に
開示されているように、マスタリングプロセスを経て形
成されたマザースタンパに、軟化させたポリカーボネー
ト樹脂を射出し、前記ポリカーボネート樹脂が硬化した
後マザースタンパから剥離し前記マザースタンバの凹凸
パターンを射出した前記ポリカーボネート樹脂上に転写
して、凹凸パターンを有する基板を形成する方法である
。
しかしながら、上述した従来の光ディスクにおいては、
以下に述べるような問題点があった。すなわち、幅０．
４μｍ前後、流さ０．９〜３．３μｍの極めて微細な凹
凸パターンを射出成形法を用いてマザースタンバからポ
リカーボネート樹脂の透明基板１に転写する際に、凹凸
パターンの欠け、突起、パリ等が発生することがあり、
光ディスクの製造工程上大きな問題となっていた。特に
、ＣＤ−ＲＯＭの場合には従来のコンパクトディスクに
較べて格段の信頼性が求められていることから、前述の
問題点を如何に解決するかが、大きな課題となっている
のが現状である。
以下に述べるような問題点があった。すなわち、幅０．
４μｍ前後、流さ０．９〜３．３μｍの極めて微細な凹
凸パターンを射出成形法を用いてマザースタンバからポ
リカーボネート樹脂の透明基板１に転写する際に、凹凸
パターンの欠け、突起、パリ等が発生することがあり、
光ディスクの製造工程上大きな問題となっていた。特に
、ＣＤ−ＲＯＭの場合には従来のコンパクトディスクに
較べて格段の信頼性が求められていることから、前述の
問題点を如何に解決するかが、大きな課題となっている
のが現状である。
又、既に述べたように従来の光ディスクでは、反射膜４
は凹凸パターンを有する透明基板１の表面に形成される
。ところで、本発明者らの検討によれば、凹凸パターン
上に形成された反射膜４と透明基板１との密着不良（反
射膜４の透明基板１からの浮き上がり）の殆んどが凹凸
パターンの凹部と凸部の境界で発生することが明らかと
なった。更に、従来構造のＣＤ−ＲＯＭを長時間放置し
た時の反射膜４の腐食発生箇所を評価した結果、やはり
凹凸パターンの凹部と凸部の境界を中心として、反射膜
４の腐食が多く発生することが明らかとなった。この様
な、反射膜４の密着不良あるいは腐食は、当然なことな
がら光ディスクの信頼性を著しく損なうものであり、前
述の射出成形時め突起、パリ等の問題と同様、大きな問
題となっている。この反射膜の密着不良・腐食の問題の
改善も、より高い信頼性を求められるＣＤ−ＲＯＭにと
っては、極めて重要な問題と言える。
は凹凸パターンを有する透明基板１の表面に形成される
。ところで、本発明者らの検討によれば、凹凸パターン
上に形成された反射膜４と透明基板１との密着不良（反
射膜４の透明基板１からの浮き上がり）の殆んどが凹凸
パターンの凹部と凸部の境界で発生することが明らかと
なった。更に、従来構造のＣＤ−ＲＯＭを長時間放置し
た時の反射膜４の腐食発生箇所を評価した結果、やはり
凹凸パターンの凹部と凸部の境界を中心として、反射膜
４の腐食が多く発生することが明らかとなった。この様
な、反射膜４の密着不良あるいは腐食は、当然なことな
がら光ディスクの信頼性を著しく損なうものであり、前
述の射出成形時め突起、パリ等の問題と同様、大きな問
題となっている。この反射膜の密着不良・腐食の問題の
改善も、より高い信頼性を求められるＣＤ−ＲＯＭにと
っては、極めて重要な問題と言える。
この様な反射膜の密着不良や腐食の発生原因は、未だ不
明な点も多いが、密着不良の一因は凹部と凸部の境界で
の応力集中により反射膜が大きな力を受けるためと考え
られる。又、反射膜の腐食については、凹部と凸部の境
界で反射膜の膜質が劣化すること、及び密着不良の場合
と同様応力集中により、所謂応力腐食が起こり腐食が促
進されることが原因と考えられる。
明な点も多いが、密着不良の一因は凹部と凸部の境界で
の応力集中により反射膜が大きな力を受けるためと考え
られる。又、反射膜の腐食については、凹部と凸部の境
界で反射膜の膜質が劣化すること、及び密着不良の場合
と同様応力集中により、所謂応力腐食が起こり腐食が促
進されることが原因と考えられる。
本発明の目的は、反射膜の腐食を防止し、高い信頼性を
具備する光ディスクを提供することにある。
具備する光ディスクを提供することにある。
本発明の光ディスクは、強化ガラス、石英又は合成樹脂
等の透明基板の上に設けてディジタル情報に対応°した
パターンを有する金属膜等の反射膜パターンと、前記反
射膜を含む前記透明基板の表面に設けた保護膜とを備え
ている。
等の透明基板の上に設けてディジタル情報に対応°した
パターンを有する金属膜等の反射膜パターンと、前記反
射膜を含む前記透明基板の表面に設けた保護膜とを備え
ている。
本発明は平坦な表面を有する透明基板の上に、アルミニ
ウム等の反射率の高い金属膜からなる反射膜を蒸着して
設けた後、前記反射膜を選択的にエツチングして、ディ
ジタル情報の符号に対応したパターンを有する反射膜を
形成することにより、従来の光ディスクで問題となって
いた凹凸パターンの凹部と凸部の境界における反射膜の
密着不良及び腐食の問題を回避するものである。
ウム等の反射率の高い金属膜からなる反射膜を蒸着して
設けた後、前記反射膜を選択的にエツチングして、ディ
ジタル情報の符号に対応したパターンを有する反射膜を
形成することにより、従来の光ディスクで問題となって
いた凹凸パターンの凹部と凸部の境界における反射膜の
密着不良及び腐食の問題を回避するものである。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例を説明するための光ディスク
の半径方向に切断した断面図である。
の半径方向に切断した断面図である。
第１図に示すように、強化ガラスからなる透明基板１の
上にアルミニウム膜を０．１５μｍの厚さに形成する。
上にアルミニウム膜を０．１５μｍの厚さに形成する。
アルミニウム膜の形成には電子ビーム蒸着法を用い、そ
の蒸着条件は到達真空度３×１０−フＴｏｒｒ、エミッ
ション電流８５ｍＡ、蒸着時の基板温度７０℃である。
の蒸着条件は到達真空度３×１０−フＴｏｒｒ、エミッ
ション電流８５ｍＡ、蒸着時の基板温度７０℃である。
ついで、ディジタル情報に対応したパターンを有するホ
トレジスト膜を前記のアルミニウム膜上に形成し、前記
ホトレジスト膜をマスクとして前記アルミニウム膜をイ
オンエツチングにより除去して反射膜２を形成する。そ
の後、ホトレジスト膜を有機溶媒あるいは酸素アッシン
グにより除去した後、反射膜２を含む透明基板１の上に
、スパッタリング法を用い、Ａｒガス圧力５Ｘ１０−’
Ｔｏｒｒ、投入電力４００Ｗの条件で厚さ２μｍの酸化
珪素膜からなる保護膜３を形成する。
トレジスト膜を前記のアルミニウム膜上に形成し、前記
ホトレジスト膜をマスクとして前記アルミニウム膜をイ
オンエツチングにより除去して反射膜２を形成する。そ
の後、ホトレジスト膜を有機溶媒あるいは酸素アッシン
グにより除去した後、反射膜２を含む透明基板１の上に
、スパッタリング法を用い、Ａｒガス圧力５Ｘ１０−’
Ｔｏｒｒ、投入電力４００Ｗの条件で厚さ２μｍの酸化
珪素膜からなる保護膜３を形成する。
以上に述べた本発明による光ディスクでは、微細な凹凸
パターンを射出成形法で透明基板１の上に形成する必要
が無いため、従来射出成形時の凹凸パターンの欠け、突
起、パリ等の発生という問題点は解決し、光デイスク製
造工程での歩留まりが大幅に向上した。又、平坦な基板
面上にパターン化した反射膜を形成する構造である為、
従来の光ディスクで問題となっていた凹凸パターンの凹
部と凸部の境界での反射膜の密着不良や腐食の発生も見
られなかった。この様に、本発明による光ディスクは、
従来の光ディスクに比較して高い信頼性を有し、コンピ
ュータ用のディジタル情報を記録するＣＤ−ＲＯＭとし
て優れた特性を具備することが確認された。
パターンを射出成形法で透明基板１の上に形成する必要
が無いため、従来射出成形時の凹凸パターンの欠け、突
起、パリ等の発生という問題点は解決し、光デイスク製
造工程での歩留まりが大幅に向上した。又、平坦な基板
面上にパターン化した反射膜を形成する構造である為、
従来の光ディスクで問題となっていた凹凸パターンの凹
部と凸部の境界での反射膜の密着不良や腐食の発生も見
られなかった。この様に、本発明による光ディスクは、
従来の光ディスクに比較して高い信頼性を有し、コンピ
ュータ用のディジタル情報を記録するＣＤ−ＲＯＭとし
て優れた特性を具備することが確認された。
尚、この実施例では反射膜２を成す材料としてアルミニ
ウム膜のみについて言及したが、アルミニウムの代りに
他の高反射率材料例えば金、チタン、タンタル、窒化チ
タン、窒化ジルコニウム等を用いてもよい。
ウム膜のみについて言及したが、アルミニウムの代りに
他の高反射率材料例えば金、チタン、タンタル、窒化チ
タン、窒化ジルコニウム等を用いてもよい。
以上述べたように本発明の光ディスクは、平坦な透明基
板上に反射膜を形成した後、この反射膜をエツチングに
よりパターン化することによりディジタル情報を記録す
る為、従来射出成形時に多く発生していた凹凸パターン
の欠け、突起、パリ等の問題は解決し、光デイスク製造
工程での歩留りが大幅に向上する。
板上に反射膜を形成した後、この反射膜をエツチングに
よりパターン化することによりディジタル情報を記録す
る為、従来射出成形時に多く発生していた凹凸パターン
の欠け、突起、パリ等の問題は解決し、光デイスク製造
工程での歩留りが大幅に向上する。
又、基板上に予め形成された凹凸パターン上に反射膜を
形成する必要が無いため、従来凹凸パターンの凹部と凸
部の境界で発生していた反射膜の密着不良や腐食を抑制
することが可能となり、信頼性を向上させた光ディスク
が実現できる。
形成する必要が無いため、従来凹凸パターンの凹部と凸
部の境界で発生していた反射膜の密着不良や腐食を抑制
することが可能となり、信頼性を向上させた光ディスク
が実現できる。
第１図は本発明の一実施例を説明するための光ディスク
の半径方向の断面図、第２図は従来の光ディスクの半径
方向の断面図である。 １・・・基板、２・・・反射膜、３・・・保護膜、４・
・・反射膜。
の半径方向の断面図、第２図は従来の光ディスクの半径
方向の断面図である。 １・・・基板、２・・・反射膜、３・・・保護膜、４・
・・反射膜。
Claims (1)
- 透明基板の上に設けてディジタル情報に対応したパタ
ーンを有する反射膜と、前記反射膜を含む前記透明基板
の表面に設けた保護膜とを備えたことを特徴とする光デ
ィスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63268628A JPH02116038A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63268628A JPH02116038A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02116038A true JPH02116038A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17461190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63268628A Pending JPH02116038A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02116038A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04281236A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-06 | Nec Corp | 光ディスクの製造方法及び製造装置 |
| JPH08180457A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-07-12 | Nec Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
| US5724479A (en) * | 1994-12-28 | 1998-03-03 | Takahashi; Kei | Fluid flow controlling member |
| US6797368B2 (en) * | 2002-02-28 | 2004-09-28 | Hoya Corporation | Reflective-type mask blank for exposure, method of producing the same, and reflective-type mask for exposure |
-
1988
- 1988-10-24 JP JP63268628A patent/JPH02116038A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04281236A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-06 | Nec Corp | 光ディスクの製造方法及び製造装置 |
| JPH08180457A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-07-12 | Nec Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
| US5724479A (en) * | 1994-12-28 | 1998-03-03 | Takahashi; Kei | Fluid flow controlling member |
| US6797368B2 (en) * | 2002-02-28 | 2004-09-28 | Hoya Corporation | Reflective-type mask blank for exposure, method of producing the same, and reflective-type mask for exposure |
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