JPH01287056A - 4,4’‐(1,6‐ヘキサメチレンジオキシ)‐ビス‐安息香酸の精製方法 - Google Patents
4,4’‐(1,6‐ヘキサメチレンジオキシ)‐ビス‐安息香酸の精製方法Info
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- JPH01287056A JPH01287056A JP11354788A JP11354788A JPH01287056A JP H01287056 A JPH01287056 A JP H01287056A JP 11354788 A JP11354788 A JP 11354788A JP 11354788 A JP11354788 A JP 11354788A JP H01287056 A JPH01287056 A JP H01287056A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明によって得られる高純度の4. 4’ −(1
,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸はポ
リエステル、ポリアミド等のポリマー原料として有用で
ある。 一般にポリマー原料には高い純度、良好な色調
、低い金属含有量等を要求されるのが通例である。
しかも、ポリマーが高性能になればなるほど、原料にも
厳しい数値が要求されるようになる。
,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸はポ
リエステル、ポリアミド等のポリマー原料として有用で
ある。 一般にポリマー原料には高い純度、良好な色調
、低い金属含有量等を要求されるのが通例である。
しかも、ポリマーが高性能になればなるほど、原料にも
厳しい数値が要求されるようになる。
特にポリエステル、ポリアミド等の縮合系高分子にあっ
ては、純度が低い原料ではポリマーの分子型が上がらず
、工業的に価値あるポリマーとはなり得ない。
ては、純度が低い原料ではポリマーの分子型が上がらず
、工業的に価値あるポリマーとはなり得ない。
[従来の技術]
Journal of Organic Chemis
try 26.474(1961)でハ、p−ヒドロキ
シベンズアルデヒドと1,6−ジブロモヘキサンとをエ
タノール中で金属ナトリウムの存在下に反応させて得た
4、4”−(1゜6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス
−ベンズアルデヒドを、硝酸銀を用いて酸化して得られ
た4、 4’−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)
−ビスー安息香酸、およびp−ヒドロキシ安息香酸エチ
ルと1,6−ジブロモヘキサンとをエタノール中で金属
ナトリウムの存在下に反応させて得た4、4’ −(1
,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビスー安息香酸エチ
ルを、加水分解する方法による4、 4’ −(1,
6−ヘキサメチレンジオキシ)−ヒス−安息香酸を、エ
チレングリコールモノメチルエーテルから再結晶して精
製する方法を報告している。
try 26.474(1961)でハ、p−ヒドロキ
シベンズアルデヒドと1,6−ジブロモヘキサンとをエ
タノール中で金属ナトリウムの存在下に反応させて得た
4、4”−(1゜6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス
−ベンズアルデヒドを、硝酸銀を用いて酸化して得られ
た4、 4’−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)
−ビスー安息香酸、およびp−ヒドロキシ安息香酸エチ
ルと1,6−ジブロモヘキサンとをエタノール中で金属
ナトリウムの存在下に反応させて得た4、4’ −(1
,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビスー安息香酸エチ
ルを、加水分解する方法による4、 4’ −(1,
6−ヘキサメチレンジオキシ)−ヒス−安息香酸を、エ
チレングリコールモノメチルエーテルから再結晶して精
製する方法を報告している。
[発明が解決しようとする問題点コ
4、 4’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−
ビス−安息香酸の製造方法には、p−ヒドロキシ安息香
酸と1.6−ジハロゲン化ヘキサンとをアルカリの存在
下に反応させる方法、p−ヒドロキシ安息香酸の低級ア
ルロールエステルと1,6−ジハロゲン化ヘキサンとを
アルカリの存在下に反応させて得た4、 4’ −(
1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビスー安息香酸エ
ステルを、加水分解する方法、p−ヒドロキシベンズア
ルデヒドと1.6−ジハロゲン化ヘキサンとをアルカリ
の存在下に反応させて得た4、 4’ −(1,6−
ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−ベンズアルデヒドを
硝酸銀を用いて酸化する方法等がある。 これらの製造
工程においては、アルカリ金属等の金属の混入が避けら
れないが、ポリマー原料のような高純度を要求される用
途においては、金属濃度は極力低く抑える必要がある。
ビス−安息香酸の製造方法には、p−ヒドロキシ安息香
酸と1.6−ジハロゲン化ヘキサンとをアルカリの存在
下に反応させる方法、p−ヒドロキシ安息香酸の低級ア
ルロールエステルと1,6−ジハロゲン化ヘキサンとを
アルカリの存在下に反応させて得た4、 4’ −(
1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビスー安息香酸エ
ステルを、加水分解する方法、p−ヒドロキシベンズア
ルデヒドと1.6−ジハロゲン化ヘキサンとをアルカリ
の存在下に反応させて得た4、 4’ −(1,6−
ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−ベンズアルデヒドを
硝酸銀を用いて酸化する方法等がある。 これらの製造
工程においては、アルカリ金属等の金属の混入が避けら
れないが、ポリマー原料のような高純度を要求される用
途においては、金属濃度は極力低く抑える必要がある。
金属以外の不純物についても、低減させる必要が有る
ことは言うまでもない。
ことは言うまでもない。
本発明者らは粗製の4. 4’ −(1,6−ヘキサメ
チレンジオキシ)−ビス−安息香酸を、Journal
of Organic Chemistry 26
、474 (1961)に報告されているように、エチ
レングリコールモノメチルエーテルより再結晶して精製
する方法を試みたが、4. 4’ −(1,6−ヘキサ
メチレンジオキシ)−ビス−安息香酸のエチレングリコ
ールモノメチルエーテルへの溶解性が極端に悪く、25
倍重量の溶剤を必要とし、かつ再結晶効率も満足すべき
ものではなかった。
チレンジオキシ)−ビス−安息香酸を、Journal
of Organic Chemistry 26
、474 (1961)に報告されているように、エチ
レングリコールモノメチルエーテルより再結晶して精製
する方法を試みたが、4. 4’ −(1,6−ヘキサ
メチレンジオキシ)−ビス−安息香酸のエチレングリコ
ールモノメチルエーテルへの溶解性が極端に悪く、25
倍重量の溶剤を必要とし、かつ再結晶効率も満足すべき
ものではなかった。
[問題点を解決するための手段」
本発明者らはこれらの事情に鑑み、4,4” −(1,
6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸の精製
方法を鋭意研究の結果、本発明に到達した。
6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸の精製
方法を鋭意研究の結果、本発明に到達した。
本発明は、粗製の4. 4’ −(1,6−ヘキサメチ
レンジオキシ)−ビス−安息香酸を、N、 N゛−ジメ
チルホルムアミド、N、 N” −ジメチルアセトアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシ
ドから成る群より選ばれる1種以上の溶媒を用いて再結
晶することを特徴とする4、4″ −(1,6−ヘキサ
メチレンジオキシ)−ビス−安息香酸の精製方法である
。
レンジオキシ)−ビス−安息香酸を、N、 N゛−ジメ
チルホルムアミド、N、 N” −ジメチルアセトアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシ
ドから成る群より選ばれる1種以上の溶媒を用いて再結
晶することを特徴とする4、4″ −(1,6−ヘキサ
メチレンジオキシ)−ビス−安息香酸の精製方法である
。
4.4°−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス
−安息香酸は、いくつかの方法により製造することがで
きるが、例としてp−ヒドロキシ安息香酸ト1.6−ジ
ハロゲン化ヘキサンとから製造する方法について説明す
る。
−安息香酸は、いくつかの方法により製造することがで
きるが、例としてp−ヒドロキシ安息香酸ト1.6−ジ
ハロゲン化ヘキサンとから製造する方法について説明す
る。
極性溶媒中にて、アルカリの存在下、p−ヒドロキシ安
息香酸と1,6−ジクロロヘキサンまたは1.6−ジブ
ロモヘキサンとを反応させることにより、4. 4’
−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香
酸のアルカリ金属塩が得られる。 得られた4、 4
’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安
息香酸のアルカリ金属塩を含む反応液に塩酸、硫酸等の
鉱酸を加えて酸性とし、遊離した4、4’ −(1,6
−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸を濾過等
により分離する。 次いで4. 4’ −(1,6−ヘ
キサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸中に残存する
未反応原料、酸、アルカリ金属塩等を水、アルコール等
により洗浄・除去して、粗製の4゜4’ −(1,6
−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸を得る。
息香酸と1,6−ジクロロヘキサンまたは1.6−ジブ
ロモヘキサンとを反応させることにより、4. 4’
−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香
酸のアルカリ金属塩が得られる。 得られた4、 4
’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安
息香酸のアルカリ金属塩を含む反応液に塩酸、硫酸等の
鉱酸を加えて酸性とし、遊離した4、4’ −(1,6
−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸を濾過等
により分離する。 次いで4. 4’ −(1,6−ヘ
キサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸中に残存する
未反応原料、酸、アルカリ金属塩等を水、アルコール等
により洗浄・除去して、粗製の4゜4’ −(1,6
−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸を得る。
通常、この段階での純度は80〜95重量%程度であ
る。 さらに洗浄を続けることにより純度を上げること
も不可能ではないが、精製の効率は極端に低下し、ポリ
マー原料に要求される純度まで洗浄のみで上げるのは極
めて困難である。
る。 さらに洗浄を続けることにより純度を上げること
も不可能ではないが、精製の効率は極端に低下し、ポリ
マー原料に要求される純度まで洗浄のみで上げるのは極
めて困難である。
しかるに、本発明により特定の溶剤を用いて再結晶する
ことにより、4. 4’ −(1,6−ヘキサメチレン
ジオキシ)−ビス−安息香酸の純度を飛躍的に上げるこ
とができる。
ことにより、4. 4’ −(1,6−ヘキサメチレン
ジオキシ)−ビス−安息香酸の純度を飛躍的に上げるこ
とができる。
再結晶に用いる溶剤は、N、 N’ −ジメチルホル
ムアミド、N、N’−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドから成る群
より選ばれるものである。 2種以上の溶媒を混合し
て用いることもできる。 再結晶効率、価格を考慮すれ
ば、N、 N’ −ジメチルホルムアミドが最も好まし
い。
ムアミド、N、N’−ジメチルアセトアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドから成る群
より選ばれるものである。 2種以上の溶媒を混合し
て用いることもできる。 再結晶効率、価格を考慮すれ
ば、N、 N’ −ジメチルホルムアミドが最も好まし
い。
再結晶溶媒の使用量は粗製の4.4’ −(1゜6−ヘ
キサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸中の不純物の
量および溶剤の種類によって異なるが、概ね粗製物に対
して5〜20倍重景が重量である。 もちろん、その溶
剤の溶解温度における飽和濃度に近づけるほうが、再結
晶効率の面からも、溶剤の有効利用の面からも望ましい
のは言うまでもない。
キサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸中の不純物の
量および溶剤の種類によって異なるが、概ね粗製物に対
して5〜20倍重景が重量である。 もちろん、その溶
剤の溶解温度における飽和濃度に近づけるほうが、再結
晶効率の面からも、溶剤の有効利用の面からも望ましい
のは言うまでもない。
再結晶時に活性炭等の吸着剤による吸着処理を施すこと
は本発明の好ましい実施態様の1つである。 吸着処理
は脱色、金属の除去に効果的である。
は本発明の好ましい実施態様の1つである。 吸着処理
は脱色、金属の除去に効果的である。
溶媒の沸点近傍の温度にて、粗製4. 4’ −(1,
6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸を溶解
した後、活性炭を加え、不溶物および活性炭を溶質が析
出しない温度を保ちなから濾別する。 濾過は加圧、減
圧いずれの方法によっても良い。 濾液を放冷、あるい
は強制冷却して析出した結晶を濾別した後、乾燥して4
. 4’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビ
ス−安息香酸の精製物を得る。 乾燥の際には、使用す
る溶媒がいずれもかなり高沸点であるので、アセトン、
メタノール等の低沸点溶剤で置換した後、乾燥するのが
好ましい。
6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸を溶解
した後、活性炭を加え、不溶物および活性炭を溶質が析
出しない温度を保ちなから濾別する。 濾過は加圧、減
圧いずれの方法によっても良い。 濾液を放冷、あるい
は強制冷却して析出した結晶を濾別した後、乾燥して4
. 4’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビ
ス−安息香酸の精製物を得る。 乾燥の際には、使用す
る溶媒がいずれもかなり高沸点であるので、アセトン、
メタノール等の低沸点溶剤で置換した後、乾燥するのが
好ましい。
実施例により本発明を具体的に説明する。 なお、4,
4”−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安
息香酸の分析は以下の方法により行なった。
4”−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安
息香酸の分析は以下の方法により行なった。
(1)カルボキシル基濃度
試料50mgをピリジン40mAに溶解した後、水20
m1を加え、0.IN水酸化カリウム−エタノール溶液
で電位差滴定により求めた。
m1を加え、0.IN水酸化カリウム−エタノール溶液
で電位差滴定により求めた。
(2)純度
試料25mg、内部標準物質(4,4°−メチレンジオ
キシ)−ビスー安息香酸ジメチル)25mgをメタノー
ル−ベンゼン混合溶媒中にて、トリメチルシリルジアゾ
メタン(10%溶液)0.7mlによりメチルエステル
化した後、ガスクロマトグラフィーに注入した。 別に
求めた検量線より、純粋な4. 4’ −(1,6−ヘ
キサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸の量を算出し
、試料最に対する重量%を純度とした。
キシ)−ビスー安息香酸ジメチル)25mgをメタノー
ル−ベンゼン混合溶媒中にて、トリメチルシリルジアゾ
メタン(10%溶液)0.7mlによりメチルエステル
化した後、ガスクロマトグラフィーに注入した。 別に
求めた検量線より、純粋な4. 4’ −(1,6−ヘ
キサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸の量を算出し
、試料最に対する重量%を純度とした。
(3)金属含有量
試料1gを白金るつぼ中にて灰化し、過塩素酸および塩
酸で処理した後、純水で希釈した試料溶液を原子吸光に
より測定した。 標準溶液を用いて作成した検量線より
金属含有量を求めた。
酸で処理した後、純水で希釈した試料溶液を原子吸光に
より測定した。 標準溶液を用いて作成した検量線より
金属含有量を求めた。
参考例1 4. 4’−(1,6−ヘキサメチレンジオ
キシ)−ビス−安息香酸の製造 撹拌機を備えたオートクレーブ中に、p−ヒドロキシ安
息香酸1380部、1.6−シクロロヘキサン775部
、水酸化ナトリウム830部、水7000部を仕込み、
120℃にて7時間反応させた。 4. 4’ −(1
,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸のナ
トリウム塩を含む反応液に、35%塩酸2100部を加
え、1時間撹拌した。 析出した結晶を濾別し°、水、
次いでメタノールで洗浄した後、乾燥して粗製4,4′
−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香
酸970部を得た。 カルボキシル基濃度は、5. 3
47meq/g 、純度は92重量%、Na及びFe含
有量はそれぞれ132ppm 、 46ppmであった
。
キシ)−ビス−安息香酸の製造 撹拌機を備えたオートクレーブ中に、p−ヒドロキシ安
息香酸1380部、1.6−シクロロヘキサン775部
、水酸化ナトリウム830部、水7000部を仕込み、
120℃にて7時間反応させた。 4. 4’ −(1
,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸のナ
トリウム塩を含む反応液に、35%塩酸2100部を加
え、1時間撹拌した。 析出した結晶を濾別し°、水、
次いでメタノールで洗浄した後、乾燥して粗製4,4′
−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香
酸970部を得た。 カルボキシル基濃度は、5. 3
47meq/g 、純度は92重量%、Na及びFe含
有量はそれぞれ132ppm 、 46ppmであった
。
実施例1
撹拌機、冷却器を備えた反応器中にて、参考例1で得た
粗製の4.4’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ
)−ビス−安息香酸100重量部に対して、N、 N’
−ジメチルホルムアミド475重量部を加えて、15
0℃にて溶解した後、溶液を加熱可能な加圧濾過器に導
き、不溶物を濾別した。 濾液を放冷して析出した結晶
を濾別し、メタノールで洗浄し置換した後、乾燥して精
製4゜4’ −(]、 6−ヘキサメチレンジオキ
シ)−ビス−安息香酸89重量部を得た。
粗製の4.4’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ
)−ビス−安息香酸100重量部に対して、N、 N’
−ジメチルホルムアミド475重量部を加えて、15
0℃にて溶解した後、溶液を加熱可能な加圧濾過器に導
き、不溶物を濾別した。 濾液を放冷して析出した結晶
を濾別し、メタノールで洗浄し置換した後、乾燥して精
製4゜4’ −(]、 6−ヘキサメチレンジオキ
シ)−ビス−安息香酸89重量部を得た。
再結晶前後の4,4°−(1,6−ヘキサメチレンジオ
キシ)−ビス−安息香酸の性状を表1に示した。
キシ)−ビス−安息香酸の性状を表1に示した。
比較例1
撹拌機、冷却器を備えた反応器中にて、参考例1で得た
粗製の4,4”−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)
−ビスー安息香酸100重景部に対シて、エチレングリ
コールモノメチルエーテル2500重量部を加えて、1
20℃にて溶解した。
粗製の4,4”−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)
−ビスー安息香酸100重景部に対シて、エチレングリ
コールモノメチルエーテル2500重量部を加えて、1
20℃にて溶解した。
活性炭5重量部を加え、10分間この温度にて撹拌を続
けた後、溶液を加熱可能な加圧濾過器に導き、不溶物お
よび活性炭を濾別した。
けた後、溶液を加熱可能な加圧濾過器に導き、不溶物お
よび活性炭を濾別した。
濾液を放冷して析出した結晶を濾別し、メタノールで洗
浄置換した後、乾燥して精製4. 4’ −(1,6−
ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸76重量部
を得た。
浄置換した後、乾燥して精製4. 4’ −(1,6−
ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸76重量部
を得た。
再結晶前後の4. 4’ −(1,6−ヘキサメチレン
ジオキシ)−ビス−安息香酸の性状を表2に示した。
ジオキシ)−ビス−安息香酸の性状を表2に示した。
表1、表2からN、 N’ −ジメチルホルムアミドの
方がエチレングリコールモノメチルエーテルより、4.
4’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス
−安息香酸の再結晶溶媒として優れていることは明らか
である。
方がエチレングリコールモノメチルエーテルより、4.
4’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス
−安息香酸の再結晶溶媒として優れていることは明らか
である。
実施例2〜4
再結晶溶媒として、N、 N’ −ジメチルアセトアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシ
ドをそれぞれ表3に示す量用いた以外は実施例1と同様
にして再結晶した。その結果を表3に示す。
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシ
ドをそれぞれ表3に示す量用いた以外は実施例1と同様
にして再結晶した。その結果を表3に示す。
表3
[発明の効果]
粗製の4. 4’ −(1,6−ヘキサメチレンジオキ
シ)−ビス−安息香酸を、N、 N’ −ジメチルホル
ムアミド、N、N’ −ジメチルアセトアミド、N−
メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドから成
る群より選ばれる1種以上の溶媒を用いて再結晶するこ
とにより、効率良く、高純度の4. 4’ −(1,
6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸を得る
ことができる。
シ)−ビス−安息香酸を、N、 N’ −ジメチルホル
ムアミド、N、N’ −ジメチルアセトアミド、N−
メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドから成
る群より選ばれる1種以上の溶媒を用いて再結晶するこ
とにより、効率良く、高純度の4. 4’ −(1,
6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビス−安息香酸を得る
ことができる。
特許出願人 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 弁理士 小 堀 貞 文
Claims (1)
- 粗製の4,4′−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)
−ビス−安息香酸を、N,N′−ジメチルホルムアミド
、N,N′−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−
ピロリドン、ジメチルスルホキシドから成る群より選ば
れる1種以上の溶媒を用いて再結晶することを特徴とす
る4,4′−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)−ビ
ス−安息香酸の精製方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11354788A JPH01287056A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 4,4’‐(1,6‐ヘキサメチレンジオキシ)‐ビス‐安息香酸の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11354788A JPH01287056A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 4,4’‐(1,6‐ヘキサメチレンジオキシ)‐ビス‐安息香酸の精製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01287056A true JPH01287056A (ja) | 1989-11-17 |
Family
ID=14615073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11354788A Pending JPH01287056A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 4,4’‐(1,6‐ヘキサメチレンジオキシ)‐ビス‐安息香酸の精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01287056A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009120541A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Ueno Fine Chem Ind Ltd | 6,6’−(エチレンジオキシ)ビス−2−ナフトエ酸の精製方法 |
-
1988
- 1988-05-12 JP JP11354788A patent/JPH01287056A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009120541A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Ueno Fine Chem Ind Ltd | 6,6’−(エチレンジオキシ)ビス−2−ナフトエ酸の精製方法 |
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