JPH01274381A - マイクロ波加熱装置及びその方法 - Google Patents
マイクロ波加熱装置及びその方法Info
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- JPH01274381A JPH01274381A JP63102118A JP10211888A JPH01274381A JP H01274381 A JPH01274381 A JP H01274381A JP 63102118 A JP63102118 A JP 63102118A JP 10211888 A JP10211888 A JP 10211888A JP H01274381 A JPH01274381 A JP H01274381A
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- ridge
- heating chamber
- type heating
- microwaves
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 62
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
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- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 8
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/70—Feed lines
- H05B6/701—Feed lines using microwave applicators
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/647—Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques
- H05B6/6491—Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with the use of susceptors
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- Electromagnetism (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、被加熱物をマイクロ波により加熱する装置及
びその方法に関するものである。
びその方法に関するものである。
従来の技術
従来、被加熱物を加熱する際、遠赤外線ヒータ装置を用
いることが試みられてきたが、遠赤外線ヒータ装置によ
る方法では、急速加熱による加熱ムラ防止のために金偏
加熱等の工程を要し、加熱処理に時間がかかるという欠
点を有していた。
いることが試みられてきたが、遠赤外線ヒータ装置によ
る方法では、急速加熱による加熱ムラ防止のために金偏
加熱等の工程を要し、加熱処理に時間がかかるという欠
点を有していた。
また、近年では上記の問題を解決し被加熱物を短時間で
均一に加熱する手段としてマイクロ波を用いた加熱処理
が行われるようになってきている。
均一に加熱する手段としてマイクロ波を用いた加熱処理
が行われるようになってきている。
発明が解決しようとする課題
上記従来のマイクロ波を用いる加熱処理は、被加熱物全
体を加熱する際には被加熱物の外面及び内部を同時に均
一に加熱できるため実に効果的であった。
体を加熱する際には被加熱物の外面及び内部を同時に均
一に加熱できるため実に効果的であった。
しかしながら、被加熱物を部分的に加熱すれば良い場合
に、マイクロ波を被加熱物全体に照射すると余分なとこ
ろにマイクロ波の吸収があり、発熱を起こすため無駄な
エネルギーを消費するという欠点を有していた。
に、マイクロ波を被加熱物全体に照射すると余分なとこ
ろにマイクロ波の吸収があり、発熱を起こすため無駄な
エネルギーを消費するという欠点を有していた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、被加熱物
で部分的な加熱のみ必要な場合に、エネルギー効率の良
い消費が行えるマイクロ波加熱装置及びその方法を提供
することを目的とする。
で部分的な加熱のみ必要な場合に、エネルギー効率の良
い消費が行えるマイクロ波加熱装置及びその方法を提供
することを目的とする。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために本発明のマイクロ波加熱装置
及びその方法は、被加熱物の通過する間隙を挾んで互い
に対抗するように配置された２組のリッジ対を内部に有
するリッジ式加熱室とマイクロ波を発生し前記リッジ式
加熱室へ供給するマイクロ波供給部とから構成され、被
加熱物は前記２組のリッジ対が作る間隙を通って搬送さ
れるようにしている。
及びその方法は、被加熱物の通過する間隙を挾んで互い
に対抗するように配置された２組のリッジ対を内部に有
するリッジ式加熱室とマイクロ波を発生し前記リッジ式
加熱室へ供給するマイクロ波供給部とから構成され、被
加熱物は前記２組のリッジ対が作る間隙を通って搬送さ
れるようにしている。
作用
この構成によってマイクロ波供給部から供給されたマイ
クロ波はリッジ式加熱室を搬送される被加熱物の部分的
照射を可能とし、余分なところへマイクロ波が吸収され
ることがないため効率の良いエネルギー消費が行える。
クロ波はリッジ式加熱室を搬送される被加熱物の部分的
照射を可能とし、余分なところへマイクロ波が吸収され
ることがないため効率の良いエネルギー消費が行える。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の第１の実施例におけるマイクロ波加熱
装置を示す平面図、第２図はリッジ式加熱室の構成を示
す破断斜視図、第３図（２Ｌ） 、 （ｂ） 、 （Ｃ
）はリッジ式加熱室の電界分布状態と電界強度を示す図
である。
装置を示す平面図、第２図はリッジ式加熱室の構成を示
す破断斜視図、第３図（２Ｌ） 、 （ｂ） 、 （Ｃ
）はリッジ式加熱室の電界分布状態と電界強度を示す図
である。
第１図、第２図において、１はマイクロ波を発生させる
マイクロ波発振器、２は反射してもどってきたマイクロ
波を吸収してマイクロ波発振器１を安定動作させるアイ
ソレータ、３はマイクロ波の反射量を最小にするための
整合器、４は導波管、６は被加熱物、６はマイクロ波に
よる照射を直接受ける加熱部、７は被加熱物６の通過す
る間隙８を挾んで互いに対抗するように配置された２組
のリッジ対９ａ、９ｂを内部に備えたリッジ式加熱室、
１０は加熱部８に吸収されずに通過してきたマイクロ波
を反射させずに吸収する無反射終端部である。ここでリ
ッジ式加熱室７を上記の様な構成にすることにより、第
３図ｅ）の矢印に示される様な電界が生じる。この電界
分布は、第３図（ｂ）で示される斜線部分人全域に渡っ
ており、第３図（ｂ）の断面図に対応する電界強度図（
Ｃ）で示される様に、斜線部公人の中央部近辺がとりわ
け電界強度が大となっている。
マイクロ波発振器、２は反射してもどってきたマイクロ
波を吸収してマイクロ波発振器１を安定動作させるアイ
ソレータ、３はマイクロ波の反射量を最小にするための
整合器、４は導波管、６は被加熱物、６はマイクロ波に
よる照射を直接受ける加熱部、７は被加熱物６の通過す
る間隙８を挾んで互いに対抗するように配置された２組
のリッジ対９ａ、９ｂを内部に備えたリッジ式加熱室、
１０は加熱部８に吸収されずに通過してきたマイクロ波
を反射させずに吸収する無反射終端部である。ここでリ
ッジ式加熱室７を上記の様な構成にすることにより、第
３図ｅ）の矢印に示される様な電界が生じる。この電界
分布は、第３図（ｂ）で示される斜線部分人全域に渡っ
ており、第３図（ｂ）の断面図に対応する電界強度図（
Ｃ）で示される様に、斜線部公人の中央部近辺がとりわ
け電界強度が大となっている。
以上のように構成されたマイクロ波加熱装置を用いて加
熱部にマイクロ波を照射する方法について以下その動作
を説明する。
熱部にマイクロ波を照射する方法について以下その動作
を説明する。
まず被加熱物６をリッジ式加熱室７の間隙８に送り込み
、加熱部６をリッジ式加熱室７のほぼ中央部に位置させ
る。この状態でマイクロ波発振器１を作動させるならば
、マイクロ波（図示せず）はアイソレータ２、整合器３
および導波管４を介してリッジ式加熱室７内部に誘導さ
れる。リッジ式加熱室７内部に設けられたリッジ対ｇａ
、ｇｂはその形状が台形型となっており、マイクロ波を
容易に引き込むようにしてあり、マイクロ波は加熱物６
の位置する部分を集中的に照射する。
、加熱部６をリッジ式加熱室７のほぼ中央部に位置させ
る。この状態でマイクロ波発振器１を作動させるならば
、マイクロ波（図示せず）はアイソレータ２、整合器３
および導波管４を介してリッジ式加熱室７内部に誘導さ
れる。リッジ式加熱室７内部に設けられたリッジ対ｇａ
、ｇｂはその形状が台形型となっており、マイクロ波を
容易に引き込むようにしてあり、マイクロ波は加熱物６
の位置する部分を集中的に照射する。
以上のように本実施例によれば、リッジ対を有する加熱
室において加熱部をマイクロ波で集中的に照射すること
によυ、加熱部を内外部共に早期に加熱することが可能
となり、マイクロ波のエネルギー消費を効率よくできる
。
室において加熱部をマイクロ波で集中的に照射すること
によυ、加熱部を内外部共に早期に加熱することが可能
となり、マイクロ波のエネルギー消費を効率よくできる
。
なお、本実施例においてリッジ式加熱室７は両側面が開
口している構造としたが、他に第４図（＆）。
口している構造としたが、他に第４図（＆）。
（ｂ）に示す様に一側面を閉口とする構造も考えられる
。リッジ式加熱室７を上記第４図（！Ｌ） 、 （ｂ）
の構造にすることによシ、被加熱物５の一端部かリッジ
式加熱室７の内壁によって規制され加熱部の位置決めを
容易に行える。
。リッジ式加熱室７を上記第４図（！Ｌ） 、 （ｂ）
の構造にすることによシ、被加熱物５の一端部かリッジ
式加熱室７の内壁によって規制され加熱部の位置決めを
容易に行える。
また、本実施例におけるマイクロ波加熱装置では、無反
射終端部１ｏを設けていたが、この無反射終端部１０に
水負荷を用いて吸収されなかったマイクロ波を吸収させ
ても良い。
射終端部１ｏを設けていたが、この無反射終端部１０に
水負荷を用いて吸収されなかったマイクロ波を吸収させ
ても良い。
発明の効果
以上のように本発明は、被加熱物の通過する間隙を挾ん
で互いに対抗するように配置された２組のリッジ対全内
部に備えたリッジ式加熱室とマイクロ波供給部を設ける
ことにより、加熱を必要とする部分に限定して集中加熱
を行うことができ、マイクロ波は余分な部分へ吸収され
ることがないので、効率の良いエネルギー消費を実現で
きる優れたマイクロ波加熱装置及びその方法を提供する
ものである。
で互いに対抗するように配置された２組のリッジ対全内
部に備えたリッジ式加熱室とマイクロ波供給部を設ける
ことにより、加熱を必要とする部分に限定して集中加熱
を行うことができ、マイクロ波は余分な部分へ吸収され
ることがないので、効率の良いエネルギー消費を実現で
きる優れたマイクロ波加熱装置及びその方法を提供する
ものである。
第１図は本発明の一実施例におけるマイクロ波加熱装置
を示す平面図、第２図はリッジ式加熱室の構成を示す破
断斜視図、第３図（ａ） 、 （ｂ） 、 （Ｃ）はリ
ッジ式加熱室の電界分布状態と電界強度を示す図、第４
図（ａ） 、 （ｂ）はリッジ式加熱室の構造例を示す
断面図である。 １・・・・・マイクロ波発振器、２・・・・・・アイル
−タ、３・・・・・・整合器、４・・・・・・導波管、
６・・・・・・被加熱物、６・・・・・・加熱部、７・
・・・・・リッジ式加熱室、８・・・・・・間隙、９１
，９ｂ・・・・・・リッジ対、１０・・・・・・無反射
終端部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名、Ｃ
３−
を示す平面図、第２図はリッジ式加熱室の構成を示す破
断斜視図、第３図（ａ） 、 （ｂ） 、 （Ｃ）はリ
ッジ式加熱室の電界分布状態と電界強度を示す図、第４
図（ａ） 、 （ｂ）はリッジ式加熱室の構造例を示す
断面図である。 １・・・・・マイクロ波発振器、２・・・・・・アイル
−タ、３・・・・・・整合器、４・・・・・・導波管、
６・・・・・・被加熱物、６・・・・・・加熱部、７・
・・・・・リッジ式加熱室、８・・・・・・間隙、９１
，９ｂ・・・・・・リッジ対、１０・・・・・・無反射
終端部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名、Ｃ
３−
Claims (2)
- （１）被加熱物の通過する間隙を挾んで互いに対抗する
ように配置された２組のリッジ対を内部に備えたリッジ
式加熱室と前記リッジ式加熱室へマイクロ波を供給する
マイクロ波供給部とから構成されるマイクロ波加熱装置
。 - （２）被加熱物の通過する間隙を挾んで互いに対抗する
ように配置された２組のリッジ対を内部に備えたリッジ
式加熱室にマイクロ波を供給し、被加熱物を同マイクロ
波にて加熱するマイクロ波加熱方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63102118A JPH01274381A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | マイクロ波加熱装置及びその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63102118A JPH01274381A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | マイクロ波加熱装置及びその方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01274381A true JPH01274381A (ja) | 1989-11-02 |
Family
ID=14318883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63102118A Pending JPH01274381A (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | マイクロ波加熱装置及びその方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01274381A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6259077B1 (en) * | 1999-07-12 | 2001-07-10 | Industrial Microwave Systems, Inc. | Method and apparatus for electromagnetic exposure of planar or other materials |
| US6396034B2 (en) * | 1999-08-11 | 2002-05-28 | Industrial Microwave Systems, Inc. | Method and apparatus for electromagnetic exposure of planar or other materials |
| US7470876B2 (en) * | 2005-12-14 | 2008-12-30 | Industrial Microwave Systems, L.L.C. | Waveguide exposure chamber for heating and drying material |
| WO2017118504A1 (de) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | Homag Gmbh | Vorrichtung zur erwärmung einer funktionsschicht |
| WO2017118534A1 (de) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | Homag Gmbh | Vorrichtung zur erwärmung einer funktionsschicht |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS513415A (en) * | 1974-06-29 | 1976-01-12 | Kyoritsu Kiko Kk | Ekitaino funshutsusochi |
-
1988
- 1988-04-25 JP JP63102118A patent/JPH01274381A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS513415A (en) * | 1974-06-29 | 1976-01-12 | Kyoritsu Kiko Kk | Ekitaino funshutsusochi |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6259077B1 (en) * | 1999-07-12 | 2001-07-10 | Industrial Microwave Systems, Inc. | Method and apparatus for electromagnetic exposure of planar or other materials |
| US6590191B2 (en) | 1999-07-12 | 2003-07-08 | Industrial Microwaves Systems, Inc. | Method and apparatus for electromagnetic exposure of planar or other materials |
| US6396034B2 (en) * | 1999-08-11 | 2002-05-28 | Industrial Microwave Systems, Inc. | Method and apparatus for electromagnetic exposure of planar or other materials |
| US7470876B2 (en) * | 2005-12-14 | 2008-12-30 | Industrial Microwave Systems, L.L.C. | Waveguide exposure chamber for heating and drying material |
| AU2006341402B2 (en) * | 2005-12-14 | 2012-12-20 | Industrial Microwave Systems, L.L.C. | Waveguide exposure chamber for heating and drying material |
| WO2017118504A1 (de) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | Homag Gmbh | Vorrichtung zur erwärmung einer funktionsschicht |
| WO2017118534A1 (de) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | Homag Gmbh | Vorrichtung zur erwärmung einer funktionsschicht |
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