[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPH01184641A - Information recording medium - Google Patents

Information recording medium

Info

Publication number
JPH01184641A
JPH01184641A JP63003306A JP330688A JPH01184641A JP H01184641 A JPH01184641 A JP H01184641A JP 63003306 A JP63003306 A JP 63003306A JP 330688 A JP330688 A JP 330688A JP H01184641 A JPH01184641 A JP H01184641A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
group
nonlinear optical
recording medium
recording layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63003306A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yonosuke Takahashi
高橋 洋之介
Masaki Okazaki
正樹 岡崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP63003306A priority Critical patent/JPH01184641A/en
Publication of JPH01184641A publication Critical patent/JPH01184641A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance C/N (carrier wave/noise) at the time of reproduction by incorporating a nonlinear optical material into another layer adjacent to the recording layer of an information recording medium or another layer. CONSTITUTION:This recording medium is constituted of a substrate 1, a nonlinear optical layer 2 provided on one face thereof and the recording layer 3. The recording medium is constituted of the substrate 1 and the recording layer 3'. The nonlinear optical material is incorporated into the layer 3'. The layer 2 of the information recording medium provided with the layer 2 as the separate layer is larger in the refractive index of light than the layer 3 and the wavelength-converted light progresses from the layer of the larger refractive index to the layer of the smaller refractive index and is then detected; therefore, the influence of scattering is decreased and the high C/N is obtd. even if there are ridges around the bits. The wavelength conversion of the laser light for reproduction with the medium having the layer 3' is executed only in the part where the bits are not formed and the information can be read in accordance with the presence or absence of the wavelength-converted light. The high C/N is, therefore, obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームにより情
報の書き込みおよび/または読み取りかでさる記録層を
有する情報記録媒体に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention] The present invention relates to an information recording medium having a recording layer on which information is written and/or read by a high energy density laser beam.

[発明の技術的背景] 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、更には大容量静止画像
ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモリー、
あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超マイクロ
画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字用原版
などに応用されている。
[Technical Background of the Invention] In recent years, information recording media that use high energy density beams such as laser light have been developed and put into practical use. This information recording medium is called an optical disk, and includes video disks, audio disks, large-capacity still image files, large-capacity computer disk memories,
It is also applied to optical cards, micro image recording media, super micro image recording media, micro facsimiles, original plates for phototypesetting, etc.

情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては。
An information recording medium basically consists of a transparent substrate made of plastic, glass, etc., and a recording layer provided thereon. As a material for the recording layer.

Bi、Sn、In、Te等の金属または半金属:および
シアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られて
いる。
Metals or semimetals such as Bi, Sn, In, and Te; and dyes such as cyanine, metal complex, and quinone are known.

情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することなどにより行なわ
れ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてそ
の光学的特性を変えることにより情報が記録される。記
録媒体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを
記録媒体に照射することなどにより行なわれ、記録層の
光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出す
ることにより情報が再生される。
Information is written on an information recording medium by, for example, irradiating the recording medium with a laser beam, and the irradiated portion of the recording layer absorbs the light and locally increases in temperature, causing physical or chemical damage. Information is recorded by causing changes in the optical properties of the optical fiber. Reading information from a recording medium is also performed by irradiating the recording medium with a laser beam, and the information is reproduced by detecting reflected or transmitted light according to changes in the optical characteristics of the recording layer. .

通常、記録層の物理的な変化は孔(ピット)を設けるこ
とにより行なわれているが、その際に溶融した記録層材
料の一部はピットの周囲に残ってリッジを形成するため
に、読み取り時にこのリッジ部分でレーザー光が散乱し
てC/N比(キャリアー/ノイズ比)を低下させるとの
欠点がある。
Normally, physical changes in the recording layer are made by creating holes (pits), but some of the recording layer material that is melted at this time remains around the pits and forms a ridge, making it difficult to read. There is a drawback that the laser beam is sometimes scattered at this ridge portion, reducing the C/N ratio (carrier/noise ratio).

また、ピット形成部分と未形成部分における反射率もし
くは透過率の差異によって情報が読み取られているが、
その差異が十分ではない場合にはC/N比の低下をもた
らす。
In addition, information is read based on the difference in reflectance or transmittance between pit-formed areas and non-pit-formed areas.
If the difference is not sufficient, the C/N ratio will decrease.

[発明の要旨] 本発明は、情報の再生時におけるC/N比の向上した情
報記録媒体を提供することをその目的とするものである
[Summary of the Invention] An object of the present invention is to provide an information recording medium with improved C/N ratio during information reproduction.

また、本発明は、照射されたレーザー光の繕波長(第二
高調波)の光を検出することにより情報の再生が可能な
情報記録媒体を提供することもその目的とするものであ
る。
Further, another object of the present invention is to provide an information recording medium in which information can be reproduced by detecting light at the wavelength (second harmonic) of the irradiated laser light.

上記の目的は、 [11基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび
/または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報
記録媒体において、該記録層に隣  。
[11] An information recording medium in which a recording layer on which information can be written and/or read by a laser is provided on a substrate, adjacent to the recording layer.

接する層に非線形光学材料が含有されていることを特徴
とする本発明の情報記録媒体;および[21基板上に、
レーザーによる情報の書き込みおよび/または読み取り
が可能な記録層が設けられてなる情報記録媒体において
、該記録層に非線形光学材料が含有されていることを特
徴とする本発明の情報記録媒体; により達成することができる。
The information recording medium of the present invention, characterized in that the contacting layer contains a nonlinear optical material; and [21 on the substrate,
Achieved by the information recording medium of the present invention, which is provided with a recording layer on which information can be written and/or read by a laser, wherein the recording layer contains a nonlinear optical material; can do.

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。
Preferred embodiments of the information recording medium of the present invention are as follows.

(1)上記非線形光学材料が第二高調波を発生しうるも
のであることを特徴とする上記[11の情報記録媒体。
(1) The information recording medium of [11] above, wherein the nonlinear optical material is capable of generating a second harmonic.

(2)上記非線形光学材料が、読み取りレーザー光の第
二高調波に対して10%以上の光透過率を有することを
特徴とする上記[1]の情報記録媒体。
(2) The information recording medium according to [1] above, wherein the nonlinear optical material has a light transmittance of 10% or more to the second harmonic of the reading laser beam.

(3)上記記録層が光吸収性物質からなることを特徴と
する上記[1]の情報記録媒体。
(3) The information recording medium according to [1] above, wherein the recording layer is made of a light-absorbing substance.

(4)上記基板と記録層との間に、実質的に非線形光学
材料からなる層が設けられていることを特徴とする上記
[11の情報記録媒体。
(4) The information recording medium of [11] above, wherein a layer substantially made of a nonlinear optical material is provided between the substrate and the recording layer.

(5)上記非線形光学材料が第二高調波を発生しうるち
のであることを特徴とする上記[2]の情報記録媒体。
(5) The information recording medium according to [2] above, wherein the nonlinear optical material is capable of generating a second harmonic.

(6)上記非線形光学材料が、読み取りレーザー光の第
二高調波に対して10%以上の光透過率を有することを
特徴とする上記[21の情報記録媒体。
(6) The information recording medium of [21] above, wherein the nonlinear optical material has a light transmittance of 10% or more to the second harmonic of the reading laser beam.

(7)上記記録層に光吸収性物質が含有されていること
を特徴とする上記[21の情報記録媒体。
(7) The information recording medium of [21] above, wherein the recording layer contains a light-absorbing substance.

本発明は、非線形光学材料を情報記録媒体の記録層もし
くは記録層に隣接する別層に混合含有させることにより
、該非線形光学材料によって再生用のレーザー光の波長
を変換し、この変換された光に基づいて信号の読み取り
を行なうことにより再生時のC/N比を顕著に高めるこ
とができる。
The present invention converts the wavelength of laser light for reproduction using the nonlinear optical material by mixing and containing a nonlinear optical material in the recording layer of an information recording medium or in a separate layer adjacent to the recording layer, and converts the wavelength of the laser beam for reproduction. By reading the signal based on this, the C/N ratio during reproduction can be significantly increased.

本発明において非線形光学材料とは、レーザー光のよう
な強い光電界を与えたときに光の電場と分極との間に非
線形性(IP線形光学効果)を発現しうる物質をいう、
非線形光学効果は物質と光の相互作用によって生じ、主
として光周波数における電気分極の線形性からのずれ、
すなわち非線形分極が問題となる。具体的に非線形光学
効果には、二次の効果(二次の非線形分極)として第二
高調波発生、光混合、パラメトリック発振、光整流、ポ
ッケルス効果などがあり、三次の効果(三次の非線形分
極)として第三高調波発生、カー効果、光双安定、光混
合などがあり、更に高次の効果もある0本発明において
は、非線形光学材料が示すこれらの効果のうち波長変換
に関わる第二高調波発生、光混合、パラメトリック発振
および第三高調波発生が重要であり、該材料は例えば赤
外領域の波長を有する半導体レーザー光を可視領域の波
長に変換する目的で使用される。
In the present invention, a nonlinear optical material refers to a material that can exhibit nonlinearity (IP linear optical effect) between the electric field of light and polarization when a strong optical electric field such as a laser beam is applied.
Nonlinear optical effects are caused by the interaction of matter and light, and are mainly caused by deviations from the linearity of electrical polarization at optical frequencies;
In other words, nonlinear polarization becomes a problem. Specifically, nonlinear optical effects include second-order effects (second-order nonlinear polarization) such as second harmonic generation, optical mixing, parametric oscillation, optical rectification, and Pockels effect, and third-order effects (third-order nonlinear polarization). ) include third harmonic generation, Kerr effect, optical bistability, optical mixing, etc., and there are also higher-order effects.In the present invention, among these effects exhibited by nonlinear optical materials, the second one related to wavelength conversion is Harmonic generation, optical mixing, parametric oscillation and third harmonic generation are important, and the material is used, for example, for the purpose of converting semiconductor laser light having a wavelength in the infrared region to a wavelength in the visible region.

すなわち、非線形光学材料を含有する層(これを1非線
形光学層1と呼ぶ)が別層として設けられている第一の
情報記録媒体においては、再生用レーザー光は数層によ
り第二高調波(34波長)などに波長変換され、この波
長変換された光の量が記録層のピット形成部分と未形成
部分とで異なることに基づいて情報が読み取られる。こ
の際に、非線形光学層は記録層よりも光の屈折率が大き
く、波長変換された光は屈折率の大きい層から小さい層
に進んだ後検出されるために、ピット周辺にリッジがあ
っても散乱の影響が小さくなり、高いC/N比を得るこ
とができる。
That is, in the first information recording medium in which a layer containing a nonlinear optical material (this is referred to as 1 nonlinear optical layer 1) is provided as a separate layer, the reproduction laser beam is transmitted to the second harmonic ( 34 wavelengths), and information is read based on the fact that the amount of the wavelength-converted light differs between the pit-formed portion and the non-pit-formed portion of the recording layer. At this time, the nonlinear optical layer has a higher refractive index than the recording layer, and since the wavelength-converted light is detected after traveling from a layer with a high refractive index to a layer with a low refractive index, there are ridges around the pits. Also, the influence of scattering is reduced, and a high C/N ratio can be obtained.

また、第二の情報記録媒体においては、非線形光学材料
が記録層に混合含有されているから再生用レーザー光の
波長変換はピット未形成部分でのみ行なわれ、波長変換
された光の有無(検出、未検出)に基づいて情報を読み
取ることができる。
In addition, in the second information recording medium, since a nonlinear optical material is mixed and contained in the recording layer, the wavelength conversion of the reproduction laser beam is performed only in the area where no pits are formed, and the presence or absence of the wavelength-converted light (detection , not detected).

従って、再生用レーザー光の反射率の差異に基づ〈従来
の読み取りの場合よりも高いC/N比で情報を読み取る
ことができる。
Therefore, based on the difference in the reflectance of the reproducing laser beam, information can be read at a higher C/N ratio than in conventional reading.

〔発明の41m] 本発明の情報記録媒体の代表的な例を第1図および第2
図に示す、第1図および第2図はそれぞれ、情報記録媒
体の層構成の例を示す断面図tある。
[41m of the invention] Representative examples of the information recording medium of the invention are shown in FIGS. 1 and 2.
Each of FIGS. 1 and 2 is a cross-sectional view showing an example of the layer structure of an information recording medium.

第1図において、記録媒体は基板l、その片面に設けら
れた非線形光学層2および記録層3からaIIt、され
る、また、第2図において、記録媒体は基板lと記録層
3°とから構成される。記録層3°には非線形光学材料
が含有されている。
In FIG. 1, the recording medium is formed from a substrate l, a nonlinear optical layer 2 provided on one side thereof, and a recording layer 3, and in FIG. 2, a recording medium is formed from a substrate l and a recording layer 3°. configured. The recording layer 3° contains a nonlinear optical material.

ただし1本発明の情報記録媒体はこれらの態様に限定さ
れるものではなく、非線形光学材料が記録層中に混合含
有されているか、もしくは独立の層として記録層に隣接
されている限り、任意の構成をとることができる。
However, the information recording medium of the present invention is not limited to these embodiments, and as long as the nonlinear optical material is mixed and contained in the recording layer or is adjoined to the recording layer as an independent layer, it can be implemented in any manner. can be configured.

上記構成を有する情報記録媒体は、たとえば以下に述べ
るような方法により製造することができる。
The information recording medium having the above structure can be manufactured, for example, by the method described below.

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ
樹脂;およびポリカーボネートを挙げることができる。
The substrate used in the present invention can be arbitrarily selected from various materials used as substrates for conventional information recording media. Optical properties, flatness, processability of the substrate,
In terms of ease of handling, stability over time, and manufacturing cost,
Examples of substrate materials include glass such as soda lime glass; acrylic resins such as cell cast polymethyl methacrylate and injection molded polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers; epoxy resins; and polycarbonate. can be mentioned.

これらのうちで寸度安定性、透明性および平面性などの
点から、好ましいものはポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート、エポキシ樹脂およびガラスである。
Among these, polymethyl methacrylate, polycarbonate, epoxy resin, and glass are preferred from the viewpoint of dimensional stability, transparency, and flatness.

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられていてもよい、下塗層の材料としては、た
とえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタ
クリル酸共重合体、ニトロセルロース、ポリエチレン、
ボリプaピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;シ
ランカップリング剤などの有機物質;および無機酸化物
(SiO2、A文203等)、無機弗化物(MgF2)
などの無機物質を挙げることができる。
The surface of the substrate on which the recording layer is provided has improved flatness,
An undercoat layer may be provided for the purpose of improving adhesive strength and preventing deterioration of the recording layer. Examples of materials for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid/methacrylic acid copolymer, and nitro. cellulose, polyethylene,
Polymer substances such as pyrene and polycarbonate; organic substances such as silane coupling agents; and inorganic oxides (SiO2, A-203, etc.), inorganic fluorides (MgF2)
Inorganic substances such as

ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレンe無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられているのが望
ましい。
In the case of a glass substrate, in order to prevent adverse effects on the recording layer due to alkali metal ions and alkaline earth metal ions liberated from the substrate, wood-philic groups such as styrene-maleic anhydride copolymer and/or maleic anhydride are added. Preferably, a subbing layer made of a polymer having acid groups is provided.

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、デイツプコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。
The undercoat layer can be formed by, for example, dissolving or dispersing the above-mentioned substance in a suitable solvent, and then applying this coating solution to the substrate surface by a coating method such as spin cording, dip coating, or extrusion coating.

また、基板上にはトラッキング用溝またはアドレス信号
等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグルーブ層
が設けられてもよい、プレグルーブ層の材料としては、
アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル
およびテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマ
ー(またはオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用
いることができる。
Further, a pre-groove layer may be provided on the substrate for the purpose of forming tracking grooves or unevenness representing information such as address signals. Materials for the pre-groove layer include:
A mixture of at least one monomer (or oligomer) of acrylic acid monoester, diester, triester, and tetraester and a photopolymerization initiator can be used.

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は、一般に0.05〜1100ILの範囲にあり、
好ましくは0.1〜50#Lmの範囲にある。
The pre-groove layer is formed by first coating a mixture of the above acrylic ester and polymerization initiator on a precisely made matrix (stamper), then placing the substrate on top of this coating solution layer. , the substrate and the liquid phase are fixed by curing the liquid layer by irradiating ultraviolet rays through the substrate or the matrix.
Next, by peeling the substrate from the mother mold, a substrate provided with a pregroove layer is obtained. The layer thickness of the pregroove layer is generally in the range of 0.05 to 1100 IL,
It is preferably in the range of 0.1 to 50 #Lm.

また、プラスチック基板の場合は直接基板表面にプレグ
ルーブを設けてもよい。
Furthermore, in the case of a plastic substrate, pregrooves may be provided directly on the substrate surface.

次に、基板(または下塗層、プレグルーブ層)上には記
録層が形成される。
Next, a recording layer is formed on the substrate (or undercoat layer, pregroove layer).

記録層の材料としては、たとえば色素などのレーザー光
を吸収しうる物質が用いられ、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。その例としては。
As the material for the recording layer, a substance capable of absorbing laser light, such as a dye, is used, and any dye conventionally known as a recording material for information recording media can be used. As an example.

銅フタロシアニンなどの7タロシアニン系色素。Seven thalocyanine pigments such as copper phthalocyanine.

シアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素
、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、
Orなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系eアントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミニウム系番ジインモニウム系色素および
ニトロソ化合物を挙げることができる。これらのうちで
も記録再生用レーザーとして近赤外光を発振する半導体
レーザーの利用が実用化されている点から、光吸収性物
質としては700〜900nmの近赤外領域の光に対す
る吸収率が高い色素が好ましい。
Cyanine pigments, pyrylium/thiopyrylium pigments, azulenium pigments, squarylium pigments, Ni,
Examples include metal complex dyes such as Or, naphthoquinone-based anthraquinone-based dyes, indophenol-based dyes, indoaniline-based dyes, triphenylmethane-based dyes, triallylmethane-based dyes, aminium-based diimmonium-based dyes, and nitroso compounds. can. Among these, semiconductor lasers that emit near-infrared light have been put into practical use as recording and reproducing lasers, and light-absorbing materials have a high absorption rate for light in the near-infrared region of 700 to 900 nm. Dyes are preferred.

また、光吸収性物質として金属または半金属を用いても
よい、これらは単独で使用してもよく、組成物として併
用してもよい、また、金属または半金属と、それらの酸
化物、ハロゲン化物、硫化物とを併用してもよい。
In addition, metals or metalloids may be used as the light-absorbing substance; these may be used alone or in combination as a composition; metals or metalloids, their oxides, halogens, etc. A compound or a sulfide may be used in combination.

金属および半金属の例としてはMg、Se、Y、Ti、
Zr、Hf、■、Nb、Ta、Cr。
Examples of metals and metalloids include Mg, Se, Y, Ti,
Zr, Hf, ■, Nb, Ta, Cr.

Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni。Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni.

Ru、Rh、Pd、I r、Pt、Cu、Ag、Au、
Zn、Cd、A1.Ga、I n、S i、Ge、Te
、Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属を挙
げることができる。これらのうちで好ましいものはSn
、BiおよびInである。これらの物質は単独で用いて
もよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金とし
て用いてもよい。
Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Cu, Ag, Au,
Zn, Cd, A1. Ga, In, Si, Ge, Te
, Pb, Po, Sn, Bi, and metalloid metals. Among these, preferred is Sn
, Bi and In. These substances may be used alone, or in combination of two or more or as an alloy.

以1ζ余臼 本発明の特徴的な要件である非線形光学材料が記録層に
含有される場合に、非線形光学材料としてはたとえば、
ニオブ酸リチウム(LiNbOコ)、リン酸二水素カリ
ウム(K H2P Oa、略してKDP)、ヨウ素酸リ
チウム(LiIO3)、メタホウ酸バリウム(B a 
B 20 m )などに代表される無機化合物;および
尿素誘導体、ニトロアニリン誘導体[例えば、2−メチ
ル−4−ニトロアニリン(MNA)、2−N、N−ジメ
チルアミノ−5−ニトロアセトアニリド(DAN)、メ
タニトロアニリン、L−N−(4−ニトロフェニル)−
2−(ヒドロキシメチル)ピロリジン1、ニトロピリジ
ン−N−オキシド誘導体[例えば、3−メチル−4−二
トロピリジン−1−オキシド(POM)]なとの有機化
合物を挙げることができる。
When the recording layer contains a nonlinear optical material, which is a characteristic requirement of the present invention, examples of the nonlinear optical material include:
Lithium niobate (LiNbO), potassium dihydrogen phosphate (K H2P Oa, abbreviated as KDP), lithium iodate (LiIO3), barium metaborate (Ba
B 20 m ); and urea derivatives, nitroaniline derivatives [e.g., 2-methyl-4-nitroaniline (MNA), 2-N,N-dimethylamino-5-nitroacetanilide (DAN)] , metanitroaniline, L-N-(4-nitrophenyl)-
Examples include organic compounds such as 2-(hydroxymethyl)pyrrolidine 1 and nitropyridine-N-oxide derivatives [for example, 3-methyl-4-nitropyridine-1-oxide (POM)].

ニトロアニリン誘導体としては更に、 i)本出願人による特願昭61−29999号明細書に
記載されている一般式(I)で表わされる化合物二 RI   R2 \/ O2 (ただし )11およびR2はそれぞれ水素原子または
置換されていてもよいアルキル基であって、互いに同一
であってもよく、また1lilとR2によって環を形成
していてもよく;R3は水素原子、置換されていてもよ
いアルキル基または置換されていてもよいアリール基で
ある) 上記一般式(I)において、アルキル基の例としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トコシ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、メトキシカルボニルメ
チル基、2−メタンスルホニルアミノエチル基、2−メ
トキシエチル基、2−7セチルオキシエチル基、ベンジ
ル基、2−フェニルエチル基およびテトラヒドロフルフ
リル基が挙げられる。R1とR2によって形成される環
の例としては、ピロリジノ環、2−ヒドロキシメチルピ
ロリジノ環、モルホリノ環およびピペリジノ環が挙げら
れる。また、アリール基の例としては、フェニル基、4
−メチルフェニル基。
Nitroaniline derivatives include i) Compounds represented by the general formula (I) described in Japanese Patent Application No. 61-29999 filed by the present applicant. A hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, which may be the same as each other, or 1lil and R2 may form a ring; R3 is a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group) In the above general formula (I), examples of the alkyl group are:
Methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, octyl group, dodecyl group, hexadecyl group, tocosyl group, 2-hydroxyethyl group, methoxycarbonylmethyl group, 2-methanesulfonylaminoethyl group, 2-methoxyethyl group 2-7 cetyloxyethyl group, benzyl group, 2-phenylethyl group and tetrahydrofurfuryl group. Examples of the ring formed by R1 and R2 include a pyrrolidino ring, a 2-hydroxymethylpyrrolidino ring, a morpholino ring, and a piperidino ring. Furthermore, examples of aryl groups include phenyl group, 4
-methylphenyl group.

l−ナフチル基および2−ナフチル基が挙げられる。Examples include l-naphthyl group and 2-naphthyl group.

具体例としては、下記構造式を有する化合物が挙げられ
る。
Specific examples include compounds having the following structural formula.

以下余白 ii)特願昭61−53462号明細書に記載されてい
る一般式(■)で表わされる化合物およびその酸付加物
: \ NO? (ただし、ZlおよびZ2はそれぞれ窒素原子またはC
R5基であって、互いに同一でも異なっていてもよいが
少なくとも一方は窒素原子であり;Xはアルキル基、ア
リール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルファモイ
ル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アルコキシスルホニル基、ア
リールオキシスルホニル基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、ウ
レイド基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスル
フィニル基またはニトロ基であって、アルキル基および
アリール基は置換されていてもよく;R4は水素原子、
置換されていてもよいアルキル基、ii換されていても
よいアリール基またはアシル基であり;R5は水素原子
、置換されていてもよいアルキル基または置換されてい
てもよいアリール基であり;nは0〜3の範囲の整数で
ある) 上記一般式(■)において、アルキル基の例としては、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、t−
ブチル基、オクチル基、t−オクチル基、デシル基、ヘ
キサデシル基、トコシル基、2−ヒドロキシエチル基、
カルボキシメチル基、シアノメチル基、2−メトキシエ
チル基、ベンジル基、2−フェニルエチル基、トリフル
オロメチル基および3−(2−ベンゾイミダゾリル)プ
ロピル基が挙げられる。7リール基の例としては、フェ
ニル基、4−メチルフェニル基、3−メトキシフェニル
基および4−クロロフェニル基が挙げられる。ハロゲン
原子としては弗素原子、塩素原子、臭素原子および沃素
原子が挙げられる。
The following margins ii) Compound represented by the general formula (■) and its acid adduct described in the specification of Japanese Patent Application No. 61-53462: \ NO? (However, Zl and Z2 are each nitrogen atom or C
R5 groups, which may be the same or different, at least one of which is a nitrogen atom; X is an alkyl group, aryl group, halogen atom, alkoxy group, aryloxy group, acylamino group, carbamoyl group, sulfamoyl group, Acyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, alkylthio group, arylthio group, hydroxy group, thiol group, carboxy group, ureido group, cyano group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, or a nitro group, in which the alkyl group and the aryl group may be substituted; R4 is a hydrogen atom;
an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or an acyl group; R5 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, or an optionally substituted aryl group; n is an integer in the range of 0 to 3) In the above general formula (■), examples of the alkyl group are:
Methyl group, ethyl group, isopropyl group, butyl group, t-
Butyl group, octyl group, t-octyl group, decyl group, hexadecyl group, tocosyl group, 2-hydroxyethyl group,
Examples include carboxymethyl group, cyanomethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 2-phenylethyl group, trifluoromethyl group and 3-(2-benzimidazolyl)propyl group. Examples of 7-aryl groups include phenyl, 4-methylphenyl, 3-methoxyphenyl and 4-chlorophenyl. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

アルコキシ基の例としては、メトキシ基、ブトキシ基、
2−メトキシエトキシ基、ベンジルオキシ基および2−
フェニルエトキシ基が挙げられる。
Examples of alkoxy groups include methoxy group, butoxy group,
2-methoxyethoxy group, benzyloxy group and 2-
Examples include phenylethoxy group.

アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、4−t
−ブチルフェノキシ基および4−クロロフェノキシ基が
挙げられる。アシルアミノ基の例としては、アセチルア
ミノ基、メタンスルホニルアミノ基、ベンゾイルアミノ
基および4−メチルベンゼンスルホニルアミノ基が挙げ
られる。カルバモイル基の例としては、カルバモイル基
、N−メチルカルバモイル およびN−フェニルカルバモイル基が挙げられる.スル
ファモイル基の例としては、スルファモイル基、N−メ
チルスルファモイル基およびN−フェニルスルファモイ
ル基が挙げられる.アシルオキシ基の例としては,アセ
チルオキシ基,ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ
基およびベンゼンスルホニルオキシ基が挙げられる.ウ
レイド基の例としては、メチルウレイド基、エチルウレ
イド基およびフェニルウレイド基が挙げられる。
Examples of aryloxy groups include phenoxy group, 4-t
-butylphenoxy group and 4-chlorophenoxy group. Examples of acylamino groups include acetylamino, methanesulfonylamino, benzoylamino and 4-methylbenzenesulfonylamino groups. Examples of carbamoyl groups include carbamoyl, N-methylcarbamoyl and N-phenylcarbamoyl. Examples of sulfamoyl groups include sulfamoyl, N-methylsulfamoyl and N-phenylsulfamoyl groups. Examples of acyloxy groups include acetyloxy, pivaloyloxy, benzoyloxy and benzenesulfonyloxy groups. Examples of ureido groups include methylureido, ethylureido, and phenylureido.

また、一般式(n)で表わされる化合物のうちで好まし
いものとして、一般式(■):\ O2 (ただし Z3およびZ4はZlおよびZlと同義であ
り,R6はR4と同義である)で表わされる化合物およ
びその酸付加物が挙げられる。
Further, among the compounds represented by the general formula (n), compounds represented by the general formula (■): \O2 (wherein Z3 and Z4 are synonymous with Zl and Zl, and R6 is synonymous with R4) are preferred. and its acid adducts.

さらに、一般式(m)で表わされる化合物のうちで好ま
しいものとして、一般式(■):O2 (ただし、R1はR4と同義であり:R8はR5と同義
であり;そしてNO2基は5位または6位に置換されて
いる)、 一般式(V): \ N(h (ただし、R9はR4と同義であり;R10はR5と同
義であり;そしてNO2基は5位または6位に置換され
ている) で表わされる化合物およびこれらの酸付加物がで表わさ
れる化合物およびこれらの酸付加物が挙げられる。
Further, among the compounds represented by the general formula (m), the general formula (■): O2 (wherein, R1 has the same meaning as R4; R8 has the same meaning as R5; and the NO2 group is at the 5-position or substituted at the 6-position), general formula (V): \N(h (wherein R9 has the same meaning as R4; R10 has the same meaning as R5; and the NO2 group is substituted at the 5- or 6-position Compounds represented by and acid adducts thereof include compounds represented by and acid adducts thereof.

上記の酸付加物とは、一般式(n)、(m)、(IV)
および(V)で表わされる化合物に、カルボン酸、スル
ホン酸などの有機酸;または硫酸。
The above acid adducts have general formulas (n), (m), and (IV).
And the compound represented by (V) is an organic acid such as carboxylic acid or sulfonic acid; or sulfuric acid.

塩酸、硝酸,リン酸などの無機酸が付加(通常は1分子
)された化合物である。
It is a compound to which an inorganic acid such as hydrochloric acid, nitric acid, or phosphoric acid is added (usually one molecule).

具体例としては、下記構造式を有する化合物が挙げられ
る。
Specific examples include compounds having the following structural formula.

以下余白 1ii)特願昭61−53884号明細書に記載されて
いる一般式(Vl)で表わされる化合物およびその酸付
加物: ・Z6、 (ただし、Z5は少なくとも一つのニトロ基をl換基と
して有する五乃至六員芳香族環を形成するのに必要な原
子群であり;26は置換および縮環されていてもよい、
ビロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾ
ール環またはテトラゾール環を形成するのに必要な原子
群である)上記一般式(Vl)において Z5によって
形成される五乃至六員芳香族環の例としては、チアゾー
ル類、オキサゾール類、イミダゾール類、ピリジン類、
ピリミジン類およびベンゼン類が挙げられ、これらの環
は下記の基で置換されていたり、縮環されていてもよい
、22換基の例としては、アルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル
アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシル
オキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリー
ルオキシスルホニル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、ウレイ
ド基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスル
ホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィ
ニル基およびニトロ基が挙げられる。また、アルキル基
の例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、
ブチル基、t−ブチル基、オクチル基、t−オクチル基
、テシル基、ヘキサデシル基、トコシル基、2−ヒドロ
キシエチル基、カルボキシメチル基、シアノメチル基、
2−メトキシエチル基、ベンジル基、2−フェニルエチ
ル基、トリフルオロメチル基および3−(2−ベンゾイ
ミダゾリル)プロピル基が挙げられる。アリール基の例
としては、フェニル基、4−メチルフェニル基、3−メ
トキジフェニル基および4−クロロフェニル基が挙げら
れる。ハロゲン原子としては弗素原子、塩素原子、臭素
原子および沃素原子が挙げられる。アルコキシ基の例と
しては、メトキシ基、ブトキシ基、2−メトキシエトキ
シ基、ベンジルオキシ基および2−フェニルエトキシ基
が挙げられる。アリールオキシ基の例としては、フェノ
キシ基、4−t−ブチルフェノキシ基および4−クロロ
フェノキシ基が挙げられる。アシルアミノ基の例として
は、アセチルアミノ基、メタンスルホニルアミ7基、ベ
ンゾイルアミノ基および4−メチルベンゼンスルホニル
アミノ基が挙げられる。カルバモイル基の例としては、
カルバモイル基、N−メチルカルバモイルl、N−エチ
ルカルバモイル基およびN−フェニルカルバモイル基が
挙げられる。
Space below 1ii) Compounds represented by the general formula (Vl) and acid adducts thereof described in Japanese Patent Application No. 1984-53884: ・Z6, (However, Z5 has at least one nitro group substituted with 1) is an atomic group necessary to form a five- to six-membered aromatic ring having as; 26 may be substituted or fused,
Examples of the five- to six-membered aromatic ring formed by Z5 in the above general formula (Vl), which is an atomic group necessary to form a virole ring, imidazole ring, pyrazole ring, triazole ring, or tetrazole ring, include: Thiazoles, oxazoles, imidazoles, pyridines,
Examples of the 22-substituent group include pyrimidines and benzenes, and these rings may be substituted or condensed with the following groups. Examples of the 22 substituents include alkyl groups, aryl groups, halogen atoms, alkoxy groups, Aryloxy group, acylamino group, carbamoyl group, sulfamoyl group, acyloxy group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkyloxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, alkylthio group, arylthio group, hydroxy group, thiol group, carboxy group , ureido group, cyano group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group and nitro group. Examples of alkyl groups include methyl group, ethyl group, isopropyl group,
butyl group, t-butyl group, octyl group, t-octyl group, tesyl group, hexadecyl group, tocosyl group, 2-hydroxyethyl group, carboxymethyl group, cyanomethyl group,
Examples include 2-methoxyethyl group, benzyl group, 2-phenylethyl group, trifluoromethyl group and 3-(2-benzimidazolyl)propyl group. Examples of aryl groups include phenyl, 4-methylphenyl, 3-methoxydiphenyl and 4-chlorophenyl. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of alkoxy groups include methoxy, butoxy, 2-methoxyethoxy, benzyloxy and 2-phenylethoxy groups. Examples of aryloxy groups include phenoxy, 4-t-butylphenoxy and 4-chlorophenoxy. Examples of the acylamino group include an acetylamino group, a methanesulfonylamino group, a benzoylamino group, and a 4-methylbenzenesulfonylamino group. Examples of carbamoyl groups are:
Examples include carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group and N-phenylcarbamoyl group.

スルファモイル基の例としては、スルファモイル基、N
−メチルスルファモイル基およびN−フェニルスルファ
モイル基が挙げられる。アシルオキシ基の例としては、
アセチルオキシ基、ピパロイルオキシ基、ベンゾイルオ
キシ基およびベンゼンスルホニルオキシ基が挙げられる
。ウレイド基の例としては、メチルウレイド基、エチル
ウレイド基およびフェニルウレイド基が挙げられる。
Examples of sulfamoyl groups include sulfamoyl group, N
-methylsulfamoyl group and N-phenylsulfamoyl group. Examples of acyloxy groups include:
Examples include acetyloxy, piparoyloxy, benzoyloxy and benzenesulfonyloxy groups. Examples of ureido groups include methylureido, ethylureido, and phenylureido.

Z6によって形成されるピロール環の例としては、ピロ
ール、インドール、2−メチルインドール、5−メトキ
シインドール、5−ヒドロキシインドール、L−)リプ
トファン力ルバゾール、3−カルボキシインドールおよ
び2,5−ジメチルビロールが挙げられる。イミダゾー
ル環の例としては、イミダゾール、2−メチルイミダゾ
ール、2−エチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダ
ゾール、2−フェニルイミダゾール、2,4−ジメチル
イミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、
L−ヒスチジン、4.5−ジフェニルイミダゾール、2
,4.5−)リアェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾ
ール、2−メチルベンゾイミダゾール、2−メチル−5
−クロロベンゾイミダゾール、2−メチル−5,6−ジ
クロロベンゾイミダゾール、2−メチル−5−クロロ−
6−ジアツベンゾイミダゾールおよび2−メルカプトベ
ンゾイミダゾールが挙げられる。ピラゾール環の例とし
ては、ピラゾール、3.5−ジメチルピラゾール、3.
5−ジフェニルピラゾール、4−ブロモ−3,5−ジメ
チルピラゾール、3−メチルピラゾールおよびインダゾ
ールが挙げられる。トリアゾール環の例としては、1,
3.4−トリアゾール、1,2.4−)リアゾール、2
−クロロ−1,3,4−)リアゾール、2.5−ジメチ
ル−1,3,4−)リアゾール、3.5−ジフェニル−
1,2,4−)リアゾールおよびベンゾトリアゾールが
挙げられる。テトラゾール環の例としては、テトラゾー
ルおよび5−フェニルテトラゾールが挙げられる。
Examples of pyrrole rings formed by Z6 include pyrrole, indole, 2-methylindole, 5-methoxyindole, 5-hydroxyindole, L-)liptophan, rubazole, 3-carboxindole and 2,5-dimethylbindole. Roles can be mentioned. Examples of imidazole rings include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole,
L-histidine, 4,5-diphenylimidazole, 2
, 4.5-) ryenylimidazole, benzimidazole, 2-methylbenzimidazole, 2-methyl-5
-chlorobenzimidazole, 2-methyl-5,6-dichlorobenzimidazole, 2-methyl-5-chloro-
Mention may be made of 6-diatubenzimidazole and 2-mercaptobenzimidazole. Examples of pyrazole rings include pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole, 3.
Mention may be made of 5-diphenylpyrazole, 4-bromo-3,5-dimethylpyrazole, 3-methylpyrazole and indazole. Examples of triazole rings include 1,
3.4-triazole, 1,2.4-)lyazole, 2
-Chloro-1,3,4-)riazole, 2,5-dimethyl-1,3,4-)riazole, 3,5-diphenyl-
1,2,4-) riazoles and benzotriazoles. Examples of tetrazole rings include tetrazole and 5-phenyltetrazole.

また、Z6によって形成される環には−S−などの二量
体となリラる置換基が含まれていてもよい。
Furthermore, the ring formed by Z6 may contain a substituent that forms a dimer, such as -S-.

具体例としては、下記構造式を有する化合物が挙げられ
る。
Specific examples include compounds having the following structural formula.

さらに、特開昭56−43220号公報に記載されてい
るジアセチレン誘導体、特開昭61−78748号公報
に記載されているジオレフィン化合物、特開昭61−1
52647号公報に記載されているジアゾ化合物、およ
び特開昭61−60638号、特開昭61−13713
6号、特開昭61−147238号、特開昭61−14
8433号、特開昭61−167930号の各公報に記
載されている有機化合物:並びに”Non1inear
Optical  Properties  of  
Organic  and  PolymericMa
terials″ACS SYMPOSIUM 5ER
IES 233. DavidJ、  William
s  編 (American  Chemical 
 5ociety。
Furthermore, diacetylene derivatives described in JP-A-56-43220, diolefin compounds described in JP-A-61-78748, JP-A-61-1
Diazo compounds described in JP-A No. 52647, and JP-A-61-60638 and JP-A-61-13713
No. 6, JP-A-61-147238, JP-A-61-14
Organic compounds described in JP-A No. 8433 and JP-A-61-167930, as well as “Non1inear
Optical Properties of
Organic and PolymericMa
terials″ACS SYMPOSIUM 5ER
IES 233. DavidJ, William
s edition (American Chemical
5ociety.

1983年刊)および「有機非線形光学材料」加藤政雄
、中西へ部監修(シー・エム・シー社、1985年刊)
に記載されている有機化合物を用いることができる。
(Published in 1983) and "Organic Nonlinear Optical Materials" supervised by Masao Kato and He Nakanishi (CMC Co., Ltd., Published in 1985)
Organic compounds described in can be used.

これらの化合物のうち、青色光に対する透過率が高いK
DP、ニオブ酸リチウム、ヨウ素酸リチウム、メタホウ
酸バリウム、尿素、POM、上記一般式(II )で表
わされる化合物(特願昭61−53462号記載)およ
び上記一般式(Vl)で表わされる化合物(#願昭61
−53884号記載)が好ましい、なお、読み取りレー
ザー光の第二高調波、例えば400〜500nmの波長
領域の青色光に対する透過率は105以上であるのが好
ましい。
Among these compounds, K has a high transmittance to blue light.
DP, lithium niobate, lithium iodate, barium metaborate, urea, POM, the compound represented by the above general formula (II) (described in Japanese Patent Application No. 61-53462) and the compound represented by the above general formula (Vl) ( #Gansho61
-53884) is preferable, and the transmittance for the second harmonic of the reading laser beam, for example, blue light in the wavelength range of 400 to 500 nm, is preferably 105 or more.

特に、再生用レーザーとして一般に700〜900nm
の近赤外領域に発振波長を有する半導体レーザーが用い
られており、その第二高調波を検出波長とする場合には
、第二高調波発生(SRG)の比率が高くかつ青色光に
対する透過率が高いPOM、一般式(II)および(V
l)で表わされφ化合物が好ましい。
In particular, the wavelength is generally 700 to 900 nm as a reproduction laser.
A semiconductor laser with an oscillation wavelength in the near-infrared region of POM with high general formula (II) and (V
φ compounds represented by l) are preferred.

なお、これらの非線形光学材料は単独で、もしくは二種
以上の組合せで用いることができる。
Note that these nonlinear optical materials can be used alone or in combination of two or more.

記録層は、たとえば上記の光吸収性物質および場合によ
り非線形光学材料、さらに所望により結合剤を適当な溶
剤に溶解もしくは分散させて塗布液を調製し、次いでこ
の塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成した後乾燥す
ることにより形成することができる。
The recording layer is prepared by, for example, preparing a coating solution by dissolving or dispersing the above-mentioned light-absorbing substance, optionally a nonlinear optical material, and optionally a binder in a suitable solvent, and then applying this coating solution to the surface of the substrate. It can be formed by forming a coating film and then drying it.

そのよ□うな溶剤の例としては、弗素化アルコールなど
の弗素置換有機化合物、トルエン、キシレン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチルエチル
ケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタン、ク
ロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノール
、n−プロパツール、イソプロパツール、  n −ブ
タノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げることがで
きる。
Examples of such solvents include fluorine-substituted organic compounds such as fluorinated alcohols, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, methyl ethyl ketone, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform, dimethylformamide, methyl isobutyl Examples include solvents that can dissolve dyes, such as ketones, cyclohexanone, cyclohexane, tetrahydrofuran, ethyl ether, dioxane, ethanol, n-propanol, isopropanol, and n-butanol.

結合剤としては、たとえばゼラチン、セルロース誘導体
、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物
質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸
ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチ
ル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビ
ニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、
ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアル
デヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有
機高分子物質を挙げることができる。
Examples of binders include natural organic polymer substances such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, and rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and polychloride. Vinyl resins such as vinyl/polyvinyl acetate copolymers, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resins,
Examples include synthetic organic polymeric substances such as butyral resins, rubber derivatives, and initial condensates of thermosetting resins such as phenol-formaldehyde resins.

塗布液中にはさらに酸化防止剤、Uv吸収剤、可塑剤、
滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
The coating solution further contains antioxidants, UV absorbers, plasticizers,
Various additives such as lubricants may be added depending on the purpose.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
Examples of the coating method include a spray method, a spin code method, a dip method, a roll coat method, a blade coat method, a doctor roll method, and a screen printing method.

記録層に非線形光学材料を含有させる場合に、塗布液中
における光吸収性物質と非線形光学材料との混合比は、
一般にはlO:o、5〜1:10(重量比)の範囲にあ
り、好ましくは10:1〜2:5の範囲にある。また、
結合剤を併用する場合に、結合剤に対する色素の比率は
一般に0.01〜99%(重量比)の範囲にあり、好ま
しくは1.0〜95%(重量比)の範囲にある。
When the recording layer contains a nonlinear optical material, the mixing ratio of the light absorbing substance and the nonlinear optical material in the coating liquid is as follows:
Generally, lO:o is in the range of 5 to 1:10 (weight ratio), preferably in the range of 10:1 to 2:5. Also,
When a binder is used in combination, the ratio of dye to binder generally ranges from 0.01 to 99% (by weight), preferably from 1.0 to 95% (by weight).

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般にo
、oi〜10pmの範囲にあり、好ましくは0.02〜
lpmの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみな
らず両面に設けられていてもよい。
The recording layer may be a single layer or a multilayer, but the layer thickness is generally o.
, in the range of oi to 10pm, preferably 0.02 to
It is in the lpm range. Furthermore, the recording layer may be provided not only on one side of the substrate but also on both sides.

また記録層は、光吸収性物質および場合により非線形光
学材料を基板表面に蒸着、スパッタリングあるいはイオ
ンブレーティングすることによっても形成することがで
きる。記録層の層厚は光情報記録に要求される光学濃度
の点から一般に100−1500又の範囲にあり、好ま
しくは150〜100OXの範囲にある。
The recording layer can also be formed by vapor depositing, sputtering or ion blasting a light absorbing substance and optionally a nonlinear optical material onto the surface of the substrate. The thickness of the recording layer is generally in the range of 100 to 1,500 OX, preferably in the range of 150 to 100 OX, in view of the optical density required for optical information recording.

あるいは、非線形光学材料は記録層に隣接する層に含有
されていてもよく、その場合に非線形光学材料を含有す
る層(非線形光学層)は実質的に該材料のみからなる層
であってもよいし、あるいは該材料を分散含有する結合
剤からなる層であつってもよい。
Alternatively, the nonlinear optical material may be contained in a layer adjacent to the recording layer, and in that case, the layer containing the nonlinear optical material (nonlinear optical layer) may be a layer consisting essentially only of the material. Alternatively, it may be a layer consisting of a binder containing the material dispersed therein.

非線形光学層は、前記非線形光学材、料および所望によ
り結合剤を適当な溶剤に溶解もしくは分散させて塗布液
を調製し、次いでこの塗布液を基板表面または記録層表
面に塗布して塗膜を形成した後乾燥することにより形成
することができる。この非線形光学層は記録層に接して
いる限り、記録層のどちら側に設けられていてもよい。
The nonlinear optical layer is prepared by preparing a coating solution by dissolving or dispersing the nonlinear optical material, materials, and optionally a binder in an appropriate solvent, and then applying this coating solution to the surface of the substrate or the recording layer to form a coating film. It can be formed by drying after forming. This nonlinear optical layer may be provided on either side of the recording layer as long as it is in contact with the recording layer.

溶剤および結合剤としては、前記の記録層に用いられう
る溶剤および結合剤の中から選択して用いることができ
る。また、結合剤を併用する場合に、結合剤に対する非
線形光学材料の比率は一般に10〜500%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは50〜300%(重量比)の
範囲にある。
The solvent and binder can be selected from among the solvents and binders that can be used in the recording layer described above. In addition, when a binder is used in combination, the ratio of the nonlinear optical material to the binder is generally 10 to 500% (weight ratio).
It is preferably in the range of 50 to 300% (weight ratio).

非線形光学層の層厚は一般に0.01〜30pmの範囲
にあり、好ましくは0.02〜5pmの範囲にある。
The layer thickness of the nonlinear optical layer is generally in the range of 0.01 to 30 pm, preferably in the range of 0.02 to 5 pm.

なお、非線形光学材料は記録層および非線形光学層の両
方に含有されていてもよい。
Note that the nonlinear optical material may be contained in both the recording layer and the nonlinear optical layer.

記録層(または非線形光学層)の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。
A protective layer may be provided on the recording layer (or nonlinear optical layer) for the purpose of physically and chemically protecting the recording layer, etc. This protective layer is provided on the substrate where the recording layer is not provided. It may also be provided on the sides for the purpose of increasing scratch resistance and moisture resistance.

保護層に用いられる材料の例としては、5iO1S i
 O2、M g F 2.5n02等の無機物質;熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質
を挙げることができる。 保護層は、たとえばプラスチ
ックの押出加工で得られたフィルムを接着層を介して記
録層(または銀塩層あるいは反射層)上および/または
基板上にラミネートすることにより形成することができ
る。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法
により設けられてもよい、また、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥すること
によっても形成することができる。UV硬化性樹脂の場
合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液
を調製したのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して
硬化させることによっても形成することができる。これ
らの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV
吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
Examples of materials used for the protective layer include 5iO1S i
Examples include inorganic substances such as O2 and MgF2.5n02; organic substances such as thermoplastic resins, thermosetting resins, and UV curable resins. The protective layer can be formed, for example, by laminating a film obtained by extrusion of plastic onto the recording layer (or silver salt layer or reflective layer) and/or onto the substrate via an adhesive layer. Alternatively, it may be applied by methods such as vacuum evaporation, sputtering, and coating. In the case of thermoplastic resins and thermosetting resins, the coating solution is prepared by dissolving these in an appropriate solvent, and then the coating is applied. It can also be formed by applying a liquid and drying it. In the case of a UV curable resin, it can also be formed by preparing a coating liquid as it is or by dissolving it in an appropriate solvent, applying this coating liquid, and curing it by irradiating it with UV light. These coating solutions further contain antistatic agents, antioxidants, and UV
Various additives such as absorbents may be added depending on the purpose.

保護層の層厚は一般には0.11−1O0pの範囲にあ
る。
The thickness of the protective layer is generally in the range 0.11-100p.

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは上記構成を有する二枚
の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接着剤
等を用いて接合することにより得られる貼合せタイプの
記録媒体であってもよい、あるいはまた、二枚の円盤状
基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する基板を
用いて、リング状内側スペーサとリング状外側スペーサ
とを介して接合することにより得られるエアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体であってもよい。
In the present invention, the information recording medium may be a single board having the above-mentioned structure, or alternatively, two substrates having the above-mentioned structure are placed facing each other so that the recording layer is on the inside, and bonded together using an adhesive or the like. Alternatively, a substrate having the above structure may be used as at least one of the two disc-shaped substrates, and a ring-shaped inner spacer and a ring-shaped outer spacer may be formed. It may also be an air sandwich type recording medium obtained by bonding through the.

なお1本発明の情報記録媒体への情報の書き込みは、G
a−Asレーザー等の近赤外光を発振する半導体レーザ
ーのビームを記録層表面に照射して、記録層にピットを
形成することにより行なうことができる。非線形光学層
が設けられている場合には、レーザービームの照射はそ
れとは反対側から行なうことができる。
Note that writing of information to the information recording medium of the present invention is performed using G.
This can be done by irradiating the surface of the recording layer with a beam of a semiconductor laser emitting near-infrared light, such as an a-As laser, to form pits in the recording layer. If a nonlinear optical layer is provided, the irradiation with the laser beam can take place from the opposite side.

記録媒体からの情報の読み取りに際しては、まず同様の
レーザービームを記録層表面に照射する。非線形光学層
が設けられている場合には、レーザービームの照射はそ
れとは反対側から行なうことができる。照射されたレー
ザービームは、記録層もしくは非線形光学層中の非線形
光学材料により第二高調波(34波長)などに波長変換
される0次いで、この波長変換された光を検出器で検出
することにより情報を読み取ることができる。
When reading information from a recording medium, first a similar laser beam is irradiated onto the surface of the recording layer. If a nonlinear optical layer is provided, the irradiation with the laser beam can take place from the opposite side. The irradiated laser beam is wavelength-converted into a second harmonic (34 wavelengths) etc. by the nonlinear optical material in the recording layer or nonlinear optical layer.Then, this wavelength-converted light is detected by a detector. Can read information.

尚、非線形光学層と同じ側からレーザー光を入射、記録
そして再生させることも同様に効果的である。
Note that it is equally effective to make the laser beam enter, record, and reproduce from the same side as the nonlinear optical layer.

このとき、非線形光学材料が別層として含まれている場
合には、ピット形成部分と未形成部分とで検出される光
量が異なることに基づいて情報信号を得ることができる
。また、非線形光学材料が記録層に含まれている場合に
は、ピット形成部分および未形成部分において波長変換
された光が検出されるか否かに基づいて情報信号を得る
ことができる。すなわち、後者の場合には従来の再生方
法と異なり、検出光の有無(on−off)により情報
の再生を行なうことができる。
At this time, if the nonlinear optical material is included as a separate layer, an information signal can be obtained based on the difference in the amount of light detected in the pit-formed portion and the pit-unformed portion. Furthermore, when a nonlinear optical material is included in the recording layer, an information signal can be obtained based on whether wavelength-converted light is detected in the pit-formed portion and the pit-unformed portion. That is, in the latter case, unlike conventional reproduction methods, information can be reproduced depending on the presence or absence (on-off) of detection light.

以下に本発明の実施例および比較例を記載する。ただし
、これらの各側は本発明を制限するものではない。
Examples and comparative examples of the present invention are described below. However, each of these aspects does not limit the invention.

[実施例1] 円盤状のガラス基板(外径:130mm、内径:15m
m、厚さ:1.2mm)上に、3−メチル−4−ニトロ
ピリジン−1−オキシド(非線形光学材料)のメチルエ
チルケトン溶液(濃度=5重琶%)をスピンコード法に
より塗布して、層厚が2#Lmの非線形光学層を形成し
た。
[Example 1] Disc-shaped glass substrate (outer diameter: 130 mm, inner diameter: 15 m
A layer of A nonlinear optical layer having a thickness of 2#Lm was formed.

、次に、非線形光学層上に銅フタロシアニンを真空蒸着
させて、層厚が250Aの記録層を形成した。
Next, copper phthalocyanine was vacuum deposited on the nonlinear optical layer to form a recording layer having a layer thickness of 250 Å.

このようにして、順に基板、非線形光学層および記録層
からなる情報記録媒体を製造した(第1図)。
In this way, an information recording medium consisting of a substrate, a nonlinear optical layer, and a recording layer was manufactured in this order (FIG. 1).

[比較例1] 実施例1において、非線形光学層を設けないこと以外は
実施例1の方法と同様の操作を行なうことにより、基板
および記録層からなる情報記録媒体を製造した。
[Comparative Example 1] An information recording medium consisting of a substrate and a recording layer was manufactured by performing the same operations as in Example 1 except that the nonlinear optical layer was not provided.

【実施例2] 円盤状のガラス基板(外径:130mm、内径:15m
m、厚さ: 1.2mm)上に、銅フタロシアニンおよ
び非線形光学材料(構造式:をl:5(色素:非線形光
学材料、重量比)の比率で真空蒸着法により共蒸着させ
て、層厚が100OAの記録層を形成した。
[Example 2] Disc-shaped glass substrate (outer diameter: 130 mm, inner diameter: 15 m
Co-deposited copper phthalocyanine and a nonlinear optical material (structural formula: 1:5 (pigment: nonlinear optical material, weight ratio) by vacuum evaporation method on a layer with a thickness of 1.2 mm). formed a recording layer of 100 OA.

このようにして、基板および非線形光学材料を含む記録
層からなる情報記録媒体を製造した(第2図)。
In this way, an information recording medium consisting of a substrate and a recording layer containing a nonlinear optical material was manufactured (FIG. 2).

[比較例2] 実施例2において、銅フタロシアニンのみを真こと以外
は実施例2の方法と同様の操作を行なうことにより、基
板および記録層からなる情報記録媒体を製造した。
[Comparative Example 2] An information recording medium consisting of a substrate and a recording layer was manufactured by performing the same operation as in Example 2 except that only copper phthalocyanine was used.

[情報記録媒体の評価] 得られた各情報記録媒体に、半導体レーザー光(波長:
830nm、照射パワー:8mW、ビーム径:1#Lm
)を記録層側から照射した0回転数180 Orpmお
よび記録半径30 m mの条件で、レーザー光を変調
して2 MHzの記録信号により。
[Evaluation of information recording media] Each of the obtained information recording media was irradiated with semiconductor laser light (wavelength:
830nm, irradiation power: 8mW, beam diameter: 1#Lm
) was irradiated from the recording layer side under the conditions of 0 rotation speed of 180 Orpm and recording radius of 30 mm, the laser beam was modulated and a 2 MHz recording signal was used.

duty比50第50%を記録した。A duty ratio of 50 and 50% was recorded.

次に、上記半導体レーザー光(照射パワー=1m W 
)を記録媒体に記録層側から照射して情報の読み取りを
行なった。このとき、実施例の記録媒体については読み
取り用受光器の前に500nm以上の波長の光をカット
する光学フィルターを設けておき、第二高調波のみが受
光器に達するように設定した。また、比較例の記録媒体
については受光器の前に光学フィルターを設けないで、
レーザー光の反射光を受光器で検出した。キャリアーと
ノイズの出力レベルの比率(C/N比)を測定した。
Next, the semiconductor laser light (irradiation power = 1 m W
) was irradiated onto the recording medium from the recording layer side to read information. At this time, for the recording medium of the example, an optical filter was provided in front of the reading light receiver to cut off light with a wavelength of 500 nm or more, and was set so that only the second harmonic reached the light receiver. In addition, for the recording medium of the comparative example, no optical filter was installed in front of the light receiver.
The reflected light of the laser light was detected by a light receiver. The ratio of carrier to noise output levels (C/N ratio) was measured.

得られた結果を第1表に示す。The results obtained are shown in Table 1.

第1表 実施例!  比較例1 C/N比(dB)    54    47実施例2 
 比較例2 C/N比(dB)    51    46第1表に示
した結果から明らかなように、非線形光学層を有する本
発明の情報記録媒体(実施例1)、および記録層に非線
形光学材料が含まれている本発明の情報記録媒体(実施
例?)はいずれも、非線形光学材料が含まれていない従
来の情報記録媒体(比較例1.2)と比較して、読み取
り時のC/N比が顕著に高かった。
Table 1 Examples! Comparative example 1 C/N ratio (dB) 54 47 Example 2
Comparative Example 2 C/N ratio (dB) 51 46 As is clear from the results shown in Table 1, the information recording medium of the present invention (Example 1) having a nonlinear optical layer and the recording layer containing a nonlinear optical material The included information recording media of the present invention (examples?) all have a C/N during reading compared to conventional information recording media that do not include nonlinear optical materials (Comparative Example 1.2). The ratio was significantly high.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図はそれぞれ1本発明の情報記録媒体
の構成例を示す断面図である。 に基板、2:非線形光学層、3:記録層、3′:非線形
光学材料を含む記録層
FIG. 1 and FIG. 2 are sectional views each showing an example of the structure of an information recording medium according to the present invention. 2: a nonlinear optical layer; 3: a recording layer; 3': a recording layer containing a nonlinear optical material;

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび/
または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
録媒体において、該記録層に隣接する層に非線形光学材
料が含有されていることを特徴とする情報記録媒体。 2、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび/
または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
録媒体において、該記録層に非線形光学材料が含有され
ていることを特徴とする情報記録媒体。
[Claims] 1. Writing information on the substrate by laser and/or
Alternatively, an information recording medium provided with a readable recording layer, characterized in that a layer adjacent to the recording layer contains a nonlinear optical material. 2. Writing information on the board using a laser and/or
Alternatively, an information recording medium provided with a readable recording layer, characterized in that the recording layer contains a nonlinear optical material.
JP63003306A 1988-01-11 1988-01-11 Information recording medium Pending JPH01184641A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63003306A JPH01184641A (en) 1988-01-11 1988-01-11 Information recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63003306A JPH01184641A (en) 1988-01-11 1988-01-11 Information recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01184641A true JPH01184641A (en) 1989-07-24

Family

ID=11553673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63003306A Pending JPH01184641A (en) 1988-01-11 1988-01-11 Information recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01184641A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0296926A (en) * 1988-05-24 1990-04-09 Philips Gloeilampenfab:Nv Method of optically scanning information surface and recording carrier and scanner proper to usage of said method
JP2003006872A (en) * 2001-04-20 2003-01-10 Tdk Corp Reproducing method and device of optical information medium

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0296926A (en) * 1988-05-24 1990-04-09 Philips Gloeilampenfab:Nv Method of optically scanning information surface and recording carrier and scanner proper to usage of said method
JP2003006872A (en) * 2001-04-20 2003-01-10 Tdk Corp Reproducing method and device of optical information medium
US7859968B2 (en) 2001-04-20 2010-12-28 Tdk Corporation Information readout method for non mask layer type optical information medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0272933B1 (en) Process for the preparation of information recording medium
JP2657579B2 (en) Optical information recording medium
JPH01184641A (en) Information recording medium
WO2000075111A1 (en) Formazan metal complex
JPH03281287A (en) Data recording medium optical data recording method
JPH048585A (en) Manufacture of information recording medium
JP3482481B2 (en) Optical information recording medium
JP2671141B2 (en) Information recording medium and method of manufacturing the same
JP2002052825A (en) Optical information recording medium and method for recording optical information
JPH01146790A (en) Information recording medium
JPH01190494A (en) Data recording medium
JP2811442B2 (en) Cyanine dye compound
JPS63281240A (en) Information recording medium and its production
JP2663009B2 (en) Information recording medium and method of manufacturing the same
JP2007175968A (en) Optical recording medium
JP3278064B2 (en) Information recording medium and method of manufacturing the same
JP2759541B2 (en) Information recording medium
JP2883618B2 (en) Information recording medium and optical information reproducing method
JPS5894145A (en) Optical recording tape
JPH04153931A (en) Wavelength multiplex recording medium, production thereof, optical multiplex recording method, and optical multiplex recording and reproducing method
JPH024581A (en) Production of information recording medium
JPS63193348A (en) Production of information recording medium
JPS63191687A (en) Production of information recording medium
JPS63193343A (en) Production of information recording medium
JPS63191688A (en) Production of information recording medium