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JPH01118771A - 反応管洗浄装置 - Google Patents

反応管洗浄装置

Info

Publication number
JPH01118771A
JPH01118771A JP27794687A JP27794687A JPH01118771A JP H01118771 A JPH01118771 A JP H01118771A JP 27794687 A JP27794687 A JP 27794687A JP 27794687 A JP27794687 A JP 27794687A JP H01118771 A JPH01118771 A JP H01118771A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning liquid
reaction tube
cleaning
passage
discharged
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27794687A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazu Sakuma
佐久間 壱
Masakazu Kitajima
北島 雅一
Akio Toyama
外山 昭夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP27794687A priority Critical patent/JPH01118771A/ja
Publication of JPH01118771A publication Critical patent/JPH01118771A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は生化学的又は免疫学的分析等で使用される反応
管の洗浄装置に関する。
〔従来の技術〕
自動分析に用いられる洗浄装置においては反応管内部へ
洗浄液を吐出したときに検体中の様々な育害物賞が水滴
と共に装置外に飛散したり霧状となって外気に濡れるこ
とにより分析者に有害な汚染をもたらす危険があった。
このため従来よりノズルの吐出力を制限して反応管の壁
内から洗浄液が飛散しないよう調整する方法が主に採ら
れていたが洗浄に要する時間が長く、シかも反応管内壁
全体に互って充分な洗浄ができなかうた。又、反応管の
開口部を下に向けることにより洗浄空間をIIi+1l
fflして自動的に洗浄を行なう装置として例えば特開
昭52−122180においては、反応容器が移゛送さ
れるベルトに沿って案内板を設け、この案内板の所定位
置に先端を上に向けた洗浄ノズル及び乾燥ノズルが設置
しである。かかる構成によればベルトが下方に回り込む
のに伴い反応容器が開口部を下に向けて反転し、反応容
器が案内部に載った状態で尚もベルトの回転により案内
板上、を摺動して洗浄位置へ運ばれた後、上記洗浄ノズ
ルより洗浄液を噴射し、次に上記乾燥ノズルより加圧さ
れた熱風を噴射することにより洗浄を実行する。ここで
反応容器は下方からの圧力でベルトと案内板との間に浮
上し得る状態にあり、従って少く共乾燥時には飛散又は
蒸発させた洗浄廃液が熱風と共に反応容器の外へ逃れる
ことを可能にしている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが有害な成分を含む検体を扱う場合は特に、洗浄
廃液は所定の廃液容器へ完全にかつ確実に輸送され排除
されなければならない。従ってこのような場合、洗浄す
べき反応容器は少く共洗浄が開始してから排液が完了す
るまでの間完全に密閉された状態にあることが望ましい
ところで、もしこのような洗浄装置にした場合、充分な
洗浄液の吐出に対応して適当な排出手段が要求される。
というのも、洗浄液の吐出量が反応容器の容量を上回っ
た場合、即ちオーバーフローした状態において、尚も吐
出しようとする圧力が反応容器中の水圧の抵抗を受ける
ために著しく吐出速度を抑えられると同時に余計な負荷
が装置の劣化を早めてしまう可能性もあるからである0
本発明はこれらの問題点を鑑みなされたもので外部への
汚染の危険がない状態において効率的かつ精度の高い洗
浄を行なう洗浄装置を提供することを目的とする。
〔問題を解決するための手段〕
本発明は、反応管の開口部との接触部に弾性部材を設け
た蓋本体と、該弾性部材上に開口部を下に向けた状態で
載置された反応管内部に洗浄液を吐出する吐出通路と、
吐出された洗浄液を上記反応管の最上部に位置する底部
付近より排水する第1の排水通路と、前記蓋本体の底部
に設けられた第2の排水通路とを有することを特徴とす
る反応管洗浄装置である。
〔作 用〕
この装置では、反応管の開口部は弾性部材と接触するこ
とにより開口部を下に間げた状態で蓋本体と密着し、次
に吐出通路より洗浄液が吐出され反応管内部を充たして
いく。その後この吐出通路より吐出された洗浄液は反応
管の最上部に位置する底部付近から第1の排水通路を通
って排水される。このような洗浄が終了すると最後に反
応管内部の洗浄液は、前記蓋本体の底部に設けた第2の
排水通路より排水される。
〔実施例〕
以下図面を参照して本発明を説明する。第1図は本発明
の第1実施例を示す反応管洗浄装置の正面断面図である
。まず、開口部を下に向けた反応管1の下方に位置する
蓋本体2には、反応管1の開口部周縁との接触位置に弾
性部材よりなるパツキン3が段差を介して嵌装されてい
る。パツキン3はゴム製またはスポンジ製の0リングで
ある。次に蓋本体2にはパツキン3の内側に円柱状の孔
4が穿孔され、これが蓋本体2の底部側方に貫通する吐
出通路5及び下方に貫通する排水通路6に連絡し、夫々
図示しない送水機構及び廃液処理部に連絡している。こ
こで排水通路6は開閉可能な2方弁を介して廃液処理部
に接続されている。次に前記蓋本体2の孔4の底部中心
には上記反応管1の最上部の底面付近に先端を向けたオ
ーバーフロー排出ノズル7が直立状態に突出させて設け
である。
かかる構成においては、反応管1はパツキン3を介して
蓋本体2と密着することにより、−定体積の密閉空間8
を生ずる0次に、図示しない送水機構より送水された洗
浄液が吐出通路5を経て孔4へ吐出される。このとき排
水通路6は閉じられている。吐出通路5より吐出された
洗浄液は孔4を充たし、次第に上記反応管工の内壁を上
昇してやがて密閉空間8に充満する。
密閉空間8の容量を越えた後も吐出通路5より洗浄液の
吐出は続くが、これに応じてオーバーフロー排出ノズル
7が密閉空間8を上昇してきた洗浄液を上記反応管lの
最・上部の底部より次々と排出していき洗浄液の流れを
保つ。
このようにして充分な洗浄が行なわれた後、洗浄液の吐
出は停止されかつ排水通路6が開けられることにより、
密閉空間8内の洗浄液の全ては排水通路6を経て図示し
ない廃液処理部へ排水される。第2図は本発明の第2実
施例を示す反応管洗浄装置の正面断面図である0反応管
1とパツキン3の密着部及び蓋本体2に設けた孔4とこ
れに通じる吐出通路5及び排水通路6の構成は第1図と
同じである。蓋本体2の中心に直立して設けたオーバー
フロー排出ノズル7には、反応管1の内壁に沿って接近
しかつ該オーバーフローノズル7の先端入口より連続し
て少く共上記反応管1の開口部より下方まで延在させた
案内部材9を接着固定している。かかる構成によれば反
応管lとパツキン3及び蓋本体2が形成する密閉空間8
の体積は著しく減少するので吐出通路5より吐出された
洗浄液は迅速に反応管1に充満し、更に次々とオーバー
フロー排出ノズル7により排出されるので流通し続ける
。尚、この間排水通路6は閉じており、充分な洗浄が終
わると再び開いて残りの洗浄液を全て排水する。
このように、洗浄液は狭められた密閉空間8のみを流通
して上記反応管lの内壁を効率よく洗浄しかつ流速が促
進されるので洗浄力も高い。
第3図は本発明の反応管洗浄装置の第3実施例を示す正
面断面図である0反応管1の底部内壁の直前には第1図
で示したオーバーフロー排出ノズル7と同様の高さに吐
出ノズル10を並列させて蓋本体2に取り付けである。
かかる構成によれば吐出ノズルlOより送られた洗浄液
は反応管1の底部にまず接触して流れ落ち次第に密閉空
間8を満たし、その後もオーバーフロー排出ノズル7と
の連動で流通を繰り返す、従ってこれによれば反応管1
の底部を特に積極的に洗浄することができる。
第4図は本発明の反応管洗浄装置の応用例を示す一部断
面図である。
まず、図示しない駆動装置により移動するベル)11を
挟んで支持台12a及びbがビスで固定され、支持台1
2bには反応管を固定保持するための反応管保持部材1
3固接されており口を下に°向けた反応管1の底部を捕
捉しかつ比較的強い押圧にも耐えるよう構成している0
次に蓋本体2には図示しない分析装置本体に固定された
ス今、該蓋本体2に具備する反応管洗浄装置の構成は吐
出通路5が下方に貫通する点及び前記孔4がパツキン3
の嵌装部も兼ねている点以外は第1図と同じである。
かかる構成においては、支持台12a及びbは反応管保
持部材13を介して反応管1をベルト11の移送により
該蓋本体2に設けたパツキン3の真上に停止する0次に
図示しない駆動源により蓋本体2が前記スライド軸14
を摺動して上昇し、パツキン3と上記反応管1の開口部
が密着し、これによって密閉空間8が形成されて洗浄で
きる状態に設定される。第1図と同様の洗浄及び排水過
程が終了すると該蓋本体2は前記スライド軸14をスラ
イド下降して上記反応管1より離間する一方、上記反応
管1はベルト11の駆動により次の工程へ移送される。
尚、本発明は上述した例に限られるものではな(、その
他幾つかの変形が可能である6例えば第2図における案
内部材9はオーバーフロー排出ノズル7の先端を折り返
し変形させて反応管1の口部位置まで延長させるように
して洗浄液の流通面積を狭めてもよいし、該オーバーフ
ロー排出ノズル7を密閉空間8において膨張させたもの
を用いてもよい、又、第3図においても吐出ノズル10
より吐出した洗浄液がオーバーフロー排出ノズル7より
直接排出されないように該オーバーフロー排出ノズル7
の入口を横方向又は下方向に開口させるよう構成すれば
、洗浄液の流通が緩慢にならずに済む。
以上の実施例においては洗浄液は反応容器の外へ濡れず
確実に廃液処理部へ輸送される。又、密閉空間には洗浄
液が満たされた後も吐出が継続し、一方ではオーバーフ
ローを排出し続けることにより、洗浄液の流れは滞まら
ずに反応管内部を満たし続けると共に反応管内壁の全面
が洗浄液と接触することになり、洗浄効・果が促進され
る。
〔発明の効果〕
このように、本発明の反応管洗浄装置では洗浄処理の全
てが限られた密閉空間内においてのみ行われるよう構成
したので洗浄液が装置外へ濡れる心配はなく、外気を汚
染することなく安全な分析が行える。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の反応管洗浄装置の第一実施例の構成を
示す正面断面図、第2図は本発明の反応管洗浄装置の第
2実施例の構成を示す正面断面図、第3図は本発明の反
応管洗浄装置の第3実施例の構成を示す正面断面図、第
4図は本発明の反応管洗浄装置の応用例の構成を示す一
部断面図である。 1、反応管    2.蓋本体 孔 3、パツキン   4.#P 5、吐出通路   6.排水通路 7、オーバーフロー排出ノズル 8、密閉空間   9.案内部材 10、吐出ノズル  11.ベルト 12、a、b  支持台  138反応管保持部材14
、スライド軸 第41m

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、反応管の開口部との接触部に弾性部材を設けた蓋本
    体と、該弾性部材上に開口部を下に向けた状態で載置さ
    れた反応管内部に洗浄液を吐出する吐出通路と、吐出さ
    れた洗浄液を上記反応管の最上部に位置する底部付近よ
    り排水する第1の排水通路と、前記蓋本体の底部に設け
    られた第2の排水通路とを有することを特徴とする反応
    管洗浄装置。
JP27794687A 1987-10-31 1987-10-31 反応管洗浄装置 Pending JPH01118771A (ja)

Priority Applications (1)

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JP27794687A JPH01118771A (ja) 1987-10-31 1987-10-31 反応管洗浄装置

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JP27794687A JPH01118771A (ja) 1987-10-31 1987-10-31 反応管洗浄装置

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JPH01118771A true JPH01118771A (ja) 1989-05-11

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ID=17590478

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JP27794687A Pending JPH01118771A (ja) 1987-10-31 1987-10-31 反応管洗浄装置

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JP (1) JPH01118771A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009014181A1 (ja) * 2007-07-24 2009-01-29 Olympus Corporation 洗浄装置および分析装置
CN102830238A (zh) * 2011-06-14 2012-12-19 日本电子株式会社 临床检查用分析装置及临床检查用分析装置中的清洗方法
CN108290239A (zh) * 2015-12-04 2018-07-17 杰富意钢铁株式会社 立式窄坡口气体保护弧焊方法
CN108367376A (zh) * 2015-12-09 2018-08-03 杰富意钢铁株式会社 立式窄坡口气体保护弧焊方法

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