JPH0994516A - フォトレジスト塗布装置 - Google Patents
フォトレジスト塗布装置Info
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- JPH0994516A JPH0994516A JP27965495A JP27965495A JPH0994516A JP H0994516 A JPH0994516 A JP H0994516A JP 27965495 A JP27965495 A JP 27965495A JP 27965495 A JP27965495 A JP 27965495A JP H0994516 A JPH0994516 A JP H0994516A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フォトレジスト層を、内周部から外周部にか
けて膜厚が厚くなるように変化させて形成するために
は、フォトレジスト溶液の粘度、塗布量及び塗布時間等
諸条件の管理や、複雑なスピンプログラム制御が必要と
なり、内外周に渡り安定した膜厚差を有するマスタ原盤
の作製が困難であった。 【解決手段】 通気孔を形成した蓋部を着脱自在に装着
した装置本体と、駆動装置により回転し円形基板を搭載
するターンテーブルと、前記円形基板上にフォトレジス
ト溶液を滴下するノズルと、前記装置本体の塗布室を排
気する排気量を可変に調節する排気量調節弁とを具備す
るフォトレジスト塗布装置において、前記蓋の通気孔の
直径が前記フォトレジスト層が露光される領域の外径と
略等しいことを特徴とする。
けて膜厚が厚くなるように変化させて形成するために
は、フォトレジスト溶液の粘度、塗布量及び塗布時間等
諸条件の管理や、複雑なスピンプログラム制御が必要と
なり、内外周に渡り安定した膜厚差を有するマスタ原盤
の作製が困難であった。 【解決手段】 通気孔を形成した蓋部を着脱自在に装着
した装置本体と、駆動装置により回転し円形基板を搭載
するターンテーブルと、前記円形基板上にフォトレジス
ト溶液を滴下するノズルと、前記装置本体の塗布室を排
気する排気量を可変に調節する排気量調節弁とを具備す
るフォトレジスト塗布装置において、前記蓋の通気孔の
直径が前記フォトレジスト層が露光される領域の外径と
略等しいことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、光ディスク用マス
タ原盤等にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト
塗布装置に関するものである。
タ原盤等にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト
塗布装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、コンパクトディスク（ＣＤ：Comp
act Disk）やレーザディスク（ＬＤ：Laser Disk）等の
光ディスクを製造する場合、光ディスクの記録情報領域
全面に亘り記録再生特性を均一にするために、記録ピッ
トの形状が均一になるようにしていた。
act Disk）やレーザディスク（ＬＤ：Laser Disk）等の
光ディスクを製造する場合、光ディスクの記録情報領域
全面に亘り記録再生特性を均一にするために、記録ピッ
トの形状が均一になるようにしていた。
【０００３】記録ピットの深さ（ＣＤの場合：約110n
m）は、マスタ原盤のフォトレジスト層の膜厚で決定さ
れるため、マスタ原盤上にフォトレジスト層を形成する
場合、その後の工程で得られる光ディスクの記録情報領
域に対応するフォトレジスト層の領域の膜厚が内外周で
均一になるように、フォトレジスト塗布装置のスピンプ
ログラム、排気量及び塗布液の粘度等の諸条件を管理し
ていた。
m）は、マスタ原盤のフォトレジスト層の膜厚で決定さ
れるため、マスタ原盤上にフォトレジスト層を形成する
場合、その後の工程で得られる光ディスクの記録情報領
域に対応するフォトレジスト層の領域の膜厚が内外周で
均一になるように、フォトレジスト塗布装置のスピンプ
ログラム、排気量及び塗布液の粘度等の諸条件を管理し
ていた。
【０００４】しかし、追記型ＣＤ（ＣＤーＲ：Compact
Disk-Recordable）のように、プリグルーブの深さが大
きい（約160〜200nm）光ディスクのレプリカを射出成型
する場合、光ディスク外周部での記録ピットの転写性が
落ち、記録再生特性が劣化するという問題があった。
Disk-Recordable）のように、プリグルーブの深さが大
きい（約160〜200nm）光ディスクのレプリカを射出成型
する場合、光ディスク外周部での記録ピットの転写性が
落ち、記録再生特性が劣化するという問題があった。
【０００５】また、従来のＣＤやＬＤのレプリカの射出
成型においても、成型時間を短縮するために、射出時間
又は成型後の冷却時間を短くすると、上記ＣＤ−Ｒと同
様に、光ディスク外周部での記録ピットの転写性が落
ち、光ディスク外周部での記録ピットの深さが小さくな
り、記録再生特性が劣化するという問題があった。
成型においても、成型時間を短縮するために、射出時間
又は成型後の冷却時間を短くすると、上記ＣＤ−Ｒと同
様に、光ディスク外周部での記録ピットの転写性が落
ち、光ディスク外周部での記録ピットの深さが小さくな
り、記録再生特性が劣化するという問題があった。
【０００６】そのため、マスタ原盤のフォトレジスト層
の膜厚が、内周部から外周部にかけて大きくなるように
変化させて、フォトレジスト層を形成し、光ディスク外
周部の記録ピットの形状（深さ）を大きく（深く）し
て、射出成型時の光ディスク外周部での記録ピットの深
さの減少を補う試みがなされている。
の膜厚が、内周部から外周部にかけて大きくなるように
変化させて、フォトレジスト層を形成し、光ディスク外
周部の記録ピットの形状（深さ）を大きく（深く）し
て、射出成型時の光ディスク外周部での記録ピットの深
さの減少を補う試みがなされている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フォト
レジスト層を、内周部から外周部にかけて膜厚が大きく
変化するように形成するためには、フォトレジスト溶液
の粘度、塗布量及び塗布時間等諸条件の管理や、複雑な
スピンプログラム制御が必要となり、内外周に渡り安定
した膜厚差を有するマスタ原盤の作製が困難であった。
レジスト層を、内周部から外周部にかけて膜厚が大きく
変化するように形成するためには、フォトレジスト溶液
の粘度、塗布量及び塗布時間等諸条件の管理や、複雑な
スピンプログラム制御が必要となり、内外周に渡り安定
した膜厚差を有するマスタ原盤の作製が困難であった。
【０００８】また、従来のフォトレジスト塗布装置は、
フォトレジスト層の膜厚をマスタ原盤全面に渡って均一
に形成し易いように、蓋部の通気孔の径がマスタ原盤と
同じか、又は、大きく設計されていた。通常マスタ原盤
は、その後の工程で作製する光ディスクの記録情報領域
の外径よりも大きい径を有するものを用いる（直径１２
０ｍｍのＣＤを作製する場合、直径２００ｍｍのマスタ
原盤を用いる。）。
フォトレジスト層の膜厚をマスタ原盤全面に渡って均一
に形成し易いように、蓋部の通気孔の径がマスタ原盤と
同じか、又は、大きく設計されていた。通常マスタ原盤
は、その後の工程で作製する光ディスクの記録情報領域
の外径よりも大きい径を有するものを用いる（直径１２
０ｍｍのＣＤを作製する場合、直径２００ｍｍのマスタ
原盤を用いる。）。
【０００９】したがって、フォトレジスト溶液の特性、
排気量及びスピンプログラムを調整しても、マスタ原盤
の内外周でフォトレジスト層の大きな膜厚差が得られな
い、又は、マスタ原盤の外周部のフォトレジスト層のみ
膜厚が大きくなってしまう。その後の工程で作製する光
ディスクの記録情報領域は、マスタ原盤のフォトレジス
ト塗布領域の内周部及び外周部を除いた中周部を使用す
るため、光ディスクの記録情報領域においては、フォト
レジスト層の膜厚を大きく変化させることが困難であっ
た。
排気量及びスピンプログラムを調整しても、マスタ原盤
の内外周でフォトレジスト層の大きな膜厚差が得られな
い、又は、マスタ原盤の外周部のフォトレジスト層のみ
膜厚が大きくなってしまう。その後の工程で作製する光
ディスクの記録情報領域は、マスタ原盤のフォトレジス
ト塗布領域の内周部及び外周部を除いた中周部を使用す
るため、光ディスクの記録情報領域においては、フォト
レジスト層の膜厚を大きく変化させることが困難であっ
た。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明の請求項１記載の発明においては、通気孔を
形成した蓋部を着脱自在に装着した装置本体と、駆動装
置により回転し円形基板を搭載するターンテーブルと、
前記円形基板上にフォトレジスト溶液を滴下するノズル
と、前記装置本体の塗布室を排気する排気量を可変に調
節する排気量調節弁とを具備し前記円形基板上にフォト
レジスト層を形成するフォトレジスト塗布装置におい
て、前記蓋部の通気孔の直径が前記フォトレジスト層が
露光される領域の外径と略等しいことを特徴とするもの
である。
め、本発明の請求項１記載の発明においては、通気孔を
形成した蓋部を着脱自在に装着した装置本体と、駆動装
置により回転し円形基板を搭載するターンテーブルと、
前記円形基板上にフォトレジスト溶液を滴下するノズル
と、前記装置本体の塗布室を排気する排気量を可変に調
節する排気量調節弁とを具備し前記円形基板上にフォト
レジスト層を形成するフォトレジスト塗布装置におい
て、前記蓋部の通気孔の直径が前記フォトレジスト層が
露光される領域の外径と略等しいことを特徴とするもの
である。
【００１１】本発明の請求項２記載の発明においては、
請求項１記載のフォトレジスト塗布装置であって、前記
蓋部の外縁と通気孔の縁の間の部分が傾斜していること
を特徴とするものである。
請求項１記載のフォトレジスト塗布装置であって、前記
蓋部の外縁と通気孔の縁の間の部分が傾斜していること
を特徴とするものである。
【００１２】本発明の請求項３記載の発明においては、
請求項２記載のフォトレジスト塗布装置であって、前記
蓋部の外縁と通気孔の縁の間の部分の傾斜角度が可変で
あることを特徴とするものである。
請求項２記載のフォトレジスト塗布装置であって、前記
蓋部の外縁と通気孔の縁の間の部分の傾斜角度が可変で
あることを特徴とするものである。
【００１３】本発明の請求項１記載のフォトレジスト装
置によれば、作製する光ディスクの記録情報領域の径に
応じて、マスタ原盤のフォトレジスト層の膜厚を内周か
ら外周に亘り変化させることができる。
置によれば、作製する光ディスクの記録情報領域の径に
応じて、マスタ原盤のフォトレジスト層の膜厚を内周か
ら外周に亘り変化させることができる。
【００１４】また、本発明の請求項２記載のフォトレジ
スト装置によれば、マスタ原盤のフォトレジスト層の内
外周の膜厚差を所望の値とすることができる。
スト装置によれば、マスタ原盤のフォトレジスト層の内
外周の膜厚差を所望の値とすることができる。
【００１５】さらに、本発明の請求項３記載のフォトレ
ジスト装置によれば、排気量を調整することにより、マ
スタ原盤のフォトレジスト層の内外周の膜厚を任意の値
にすることができる。
ジスト装置によれば、排気量を調整することにより、マ
スタ原盤のフォトレジスト層の内外周の膜厚を任意の値
にすることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】図１は、本発明のフォトレジスト
塗布装置の第１の実施例を示した模式図である。（ａ）
は、装置本体の可動部７が上昇し、フォトレジスト溶液
１０を滴下している状態、（ｂ）は装置本体の可動部７
が下降し、ターンテーブル２が高速回転している状態を
示している。
塗布装置の第１の実施例を示した模式図である。（ａ）
は、装置本体の可動部７が上昇し、フォトレジスト溶液
１０を滴下している状態、（ｂ）は装置本体の可動部７
が下降し、ターンテーブル２が高速回転している状態を
示している。
【００１７】塗布室を形成している装置本体１は、その
中央部にマスタ原盤３が着脱自在に装着され、駆動装置
Ａ１１で駆動されるターンテーブル２が設置されてお
り、ターンテーブル２の側方には、駆動装置Ｂ１２によ
って矢印Ｃ方向に回動され、フォトレジスト溶液１０を
マスタ原盤３の全面に滴下するノズル６が設置されてお
り、装置本体１の上方には、通気孔５を有する平面ドー
ナツ状の蓋部４を着脱自在に装着し、上昇及び下降する
可動部７が設置されている。
中央部にマスタ原盤３が着脱自在に装着され、駆動装置
Ａ１１で駆動されるターンテーブル２が設置されてお
り、ターンテーブル２の側方には、駆動装置Ｂ１２によ
って矢印Ｃ方向に回動され、フォトレジスト溶液１０を
マスタ原盤３の全面に滴下するノズル６が設置されてお
り、装置本体１の上方には、通気孔５を有する平面ドー
ナツ状の蓋部４を着脱自在に装着し、上昇及び下降する
可動部７が設置されている。
【００１８】また、装置本体１の下方には複数本のダク
ト８が配置され、排気量調整弁９の開閉量によって排気
量を調整している。排気量Ｑは、次式（１）で表され
る。 Ｑ＝αＦ（２ΔＰ／ρ）1 / 2 （１） ここで、ρは流体の密度、Ｆはしぼりの最小断面積（排
気量調節弁９の開閉量）、αは流量係数とよばれ、しぼ
りの形状やしぼり比率によって異なる係数、ΔＰはしぼ
りの前後の圧力差である。（１）式より排気量Ｑは、圧
力差ΔＰの（１／２）乗に比例して大きくなることがわ
かる。本実施例では、排気量を直接測定せず、排気量調
節弁９の前後の圧力差ΔＰを測定した。
ト８が配置され、排気量調整弁９の開閉量によって排気
量を調整している。排気量Ｑは、次式（１）で表され
る。 Ｑ＝αＦ（２ΔＰ／ρ）1 / 2 （１） ここで、ρは流体の密度、Ｆはしぼりの最小断面積（排
気量調節弁９の開閉量）、αは流量係数とよばれ、しぼ
りの形状やしぼり比率によって異なる係数、ΔＰはしぼ
りの前後の圧力差である。（１）式より排気量Ｑは、圧
力差ΔＰの（１／２）乗に比例して大きくなることがわ
かる。本実施例では、排気量を直接測定せず、排気量調
節弁９の前後の圧力差ΔＰを測定した。
【００１９】本実施例では、厚さ６ｍｍ、直径２００ｍ
ｍのマスタ原盤３を用いた。まず、図１（ａ）に示すよ
うに、蓋部４を装着した可動部７は矢印Ａ方向に上昇す
る。蓋部４を取り外してターンテーブル２上にマスタ原
盤３を取り付け、再び蓋部４を装着する。
ｍのマスタ原盤３を用いた。まず、図１（ａ）に示すよ
うに、蓋部４を装着した可動部７は矢印Ａ方向に上昇す
る。蓋部４を取り外してターンテーブル２上にマスタ原
盤３を取り付け、再び蓋部４を装着する。
【００２０】ターンテーブル２に設置されたマスタ原盤
３は、駆動装置Ａ１１によって１００ｒｐｍの低回転数
で回転され、ノズル６が駆動装置Ｂ１２によってマスタ
原盤３上を回動しながらフォトレジスト溶液１０を吐出
し、マスタ原盤３の全面にフォトレジスト溶液１０を広
げる。
３は、駆動装置Ａ１１によって１００ｒｐｍの低回転数
で回転され、ノズル６が駆動装置Ｂ１２によってマスタ
原盤３上を回動しながらフォトレジスト溶液１０を吐出
し、マスタ原盤３の全面にフォトレジスト溶液１０を広
げる。
【００２１】次に、図１（ｂ）に示すように、蓋部４を
装着した可動部７が矢印Ｂ方向に下降し、マスタ原盤３
を搭載したターンテーブル２は１０００ｒｐｍで高速回
転してフォトレジスト層１３を形成する。このとき装置
本体１内の空気は、矢印Ｄで示すように、マスタ原盤３
の中心から外周方向に流れる。
装着した可動部７が矢印Ｂ方向に下降し、マスタ原盤３
を搭載したターンテーブル２は１０００ｒｐｍで高速回
転してフォトレジスト層１３を形成する。このとき装置
本体１内の空気は、矢印Ｄで示すように、マスタ原盤３
の中心から外周方向に流れる。
【００２２】図２は、通気孔５の直径を変化させた場合
のフォトレジスト層１３の膜厚分布図である。排気量調
節弁９の前後の圧力差を１０ｍｍＨ2Ｏに固定し、フォ
トレジスト溶液１０としてヘキスト社製ＡＺ１３５０を
シンナーで２０％に希釈したものを用いた。
のフォトレジスト層１３の膜厚分布図である。排気量調
節弁９の前後の圧力差を１０ｍｍＨ2Ｏに固定し、フォ
トレジスト溶液１０としてヘキスト社製ＡＺ１３５０を
シンナーで２０％に希釈したものを用いた。
【００２３】図２に示したように、通気孔５の直径とほ
ぼ同じ位置で、フォトレジスト層１３の膜厚は最大にな
る。通気孔５の直径が１６０ｍｍの蓋部４を用いた場合
は、マスタ原盤３の直径１６０ｍｍの位置で最大値を示
し、内周部との膜厚差は約１０ｎｍであり（図２）、
通気孔５の直径が１２０ｍｍの蓋部４を用いた場合は、
マスタ原盤３の直径１２５ｍｍの位置で最大値を示し、
内周部との膜厚差は約１５ｎｍであり（図２）、通気
孔５の直径が８０ｍｍの蓋部４を用いた場合は、マスタ
原盤３の直径８０ｍｍの位置で最大値を示し、内周部と
の膜厚差は約１５ｎｍであった（図２）。
ぼ同じ位置で、フォトレジスト層１３の膜厚は最大にな
る。通気孔５の直径が１６０ｍｍの蓋部４を用いた場合
は、マスタ原盤３の直径１６０ｍｍの位置で最大値を示
し、内周部との膜厚差は約１０ｎｍであり（図２）、
通気孔５の直径が１２０ｍｍの蓋部４を用いた場合は、
マスタ原盤３の直径１２５ｍｍの位置で最大値を示し、
内周部との膜厚差は約１５ｎｍであり（図２）、通気
孔５の直径が８０ｍｍの蓋部４を用いた場合は、マスタ
原盤３の直径８０ｍｍの位置で最大値を示し、内周部と
の膜厚差は約１５ｎｍであった（図２）。
【００２４】したがって、１２ｃｍＣＤ（記録情報領
域：直径４４ｍｍ〜１１８ｍｍ）を製造する場合は、通
気孔５の直径が１２０ｍｍの蓋部４を用い、８ｃｍＣＤ
（記録情報領域：直径４４ｍｍ〜７８ｍｍ）を製造する
場合は、通気孔５の直径が８０ｍｍの蓋部４を用いるよ
うにすれば、所望の範囲でフォトレジスト層１３の膜厚
を、内周部から外周部にかけて厚く変化させることがで
きる。
域：直径４４ｍｍ〜１１８ｍｍ）を製造する場合は、通
気孔５の直径が１２０ｍｍの蓋部４を用い、８ｃｍＣＤ
（記録情報領域：直径４４ｍｍ〜７８ｍｍ）を製造する
場合は、通気孔５の直径が８０ｍｍの蓋部４を用いるよ
うにすれば、所望の範囲でフォトレジスト層１３の膜厚
を、内周部から外周部にかけて厚く変化させることがで
きる。
【００２５】次に、本発明のフォトレジスト塗布装置の
第２の実施例について説明する。図３は、本発明のフォ
トレジスト塗布装置の第２の実施例を示した模式図であ
る。第１の実施例のフォトレジスト塗布装置との相違点
は、平面ドーナツ状の蓋部４の代わりに、通気孔５の位
置が外縁部よりも高さｈだけ高い傾斜部分を有する傾斜
蓋部１４を用いたことである。他の構成は同一であり、
フォトレジスト溶液１０をマスタ原盤３上に塗布する手
順及びターンテーブル２の回転数も第１の実施例と同一
である。
第２の実施例について説明する。図３は、本発明のフォ
トレジスト塗布装置の第２の実施例を示した模式図であ
る。第１の実施例のフォトレジスト塗布装置との相違点
は、平面ドーナツ状の蓋部４の代わりに、通気孔５の位
置が外縁部よりも高さｈだけ高い傾斜部分を有する傾斜
蓋部１４を用いたことである。他の構成は同一であり、
フォトレジスト溶液１０をマスタ原盤３上に塗布する手
順及びターンテーブル２の回転数も第１の実施例と同一
である。
【００２６】図４は、傾斜蓋部１４の通気孔５の外縁部
からの高さｈを変化させた場合のフォトレジスト層１３
の膜厚分布図である。通気孔５の直径は１２０ｍｍ、排
気量調節弁の前後の圧力差を１０ｍｍＨ2Ｏに固定し、
フォトレジスト溶液１０としてヘキスト社製ＡＺ１３５
０をシンナーで２０％に希釈したものを用いた。
からの高さｈを変化させた場合のフォトレジスト層１３
の膜厚分布図である。通気孔５の直径は１２０ｍｍ、排
気量調節弁の前後の圧力差を１０ｍｍＨ2Ｏに固定し、
フォトレジスト溶液１０としてヘキスト社製ＡＺ１３５
０をシンナーで２０％に希釈したものを用いた。
【００２７】図４に示したように、通気孔５の高さｈが
大きくなる程、フォトレジスト層１３の内周部と外周部
（直径１２０ｍｍ付近）の膜厚差が小さくなる。したが
って、通気孔５の高さｈが異なる傾斜蓋部１４を使い分
けることによって、フォトレジスト層１３の内外周の膜
厚差を、所望の値とすることができる。また、傾斜蓋部
１４を用いることで、ガラス原盤から飛散したフォトレ
ジスト溶液の跳ね返りが少なくなり、円周方向の膜厚む
らを小さくする効果もあった。
大きくなる程、フォトレジスト層１３の内周部と外周部
（直径１２０ｍｍ付近）の膜厚差が小さくなる。したが
って、通気孔５の高さｈが異なる傾斜蓋部１４を使い分
けることによって、フォトレジスト層１３の内外周の膜
厚差を、所望の値とすることができる。また、傾斜蓋部
１４を用いることで、ガラス原盤から飛散したフォトレ
ジスト溶液の跳ね返りが少なくなり、円周方向の膜厚む
らを小さくする効果もあった。
【００２８】図５は、傾斜蓋部１４を用い排気量を変化
させた場合のフォトレジスト層１３の膜厚分布図であ
る。傾斜蓋部１４は、高さｈが４０ｍｍ、通気孔５の直
径が１２０ｍｍであるものを用い、フォトレジスト溶液
１０としてヘキスト社製ＡＺ１３５０をシンナーで２０
％に希釈したものを用いた。
させた場合のフォトレジスト層１３の膜厚分布図であ
る。傾斜蓋部１４は、高さｈが４０ｍｍ、通気孔５の直
径が１２０ｍｍであるものを用い、フォトレジスト溶液
１０としてヘキスト社製ＡＺ１３５０をシンナーで２０
％に希釈したものを用いた。
【００２９】図５に示したように、排気量調節弁９の前
後の圧力差（排気量）が大きくなるに連れて、フォトレ
ジスト層１３の全面にわたり、内外周の膜厚が厚くな
る。したがって、フォトレジスト溶液の濃度や、ターン
テーブルの回転数等を変化させることなしに、排気量を
調整するだけで、所望の膜厚のフォトレジスト層１３を
形成することができる。
後の圧力差（排気量）が大きくなるに連れて、フォトレ
ジスト層１３の全面にわたり、内外周の膜厚が厚くな
る。したがって、フォトレジスト溶液の濃度や、ターン
テーブルの回転数等を変化させることなしに、排気量を
調整するだけで、所望の膜厚のフォトレジスト層１３を
形成することができる。
【００３０】
【発明の効果】以上のように、本発明のフォトレジスト
塗布装置は、フォトレジスト溶液の粘度、塗布量及び塗
布時間等諸条件の管理や、複雑なスピンプログラム制御
を行うことなしに、作製する光ディスクの記録情報領域
の径に応じて、マスタ原盤のフォトレジスト層の膜厚を
内周部から外周部に亘り変化させることができる。
塗布装置は、フォトレジスト溶液の粘度、塗布量及び塗
布時間等諸条件の管理や、複雑なスピンプログラム制御
を行うことなしに、作製する光ディスクの記録情報領域
の径に応じて、マスタ原盤のフォトレジスト層の膜厚を
内周部から外周部に亘り変化させることができる。
【００３１】また、本発明のフォトレジスト装置によれ
ば、マスタ原盤のフォトレジスト層の内外周の膜厚差を
所望の値とすることができる。
ば、マスタ原盤のフォトレジスト層の内外周の膜厚差を
所望の値とすることができる。
【００３２】さらに、本発明のフォトレジスト装置によ
れば、排気量を調整することにより、フォトレジスト層
の内外周の膜厚を任意の値にすることができる。
れば、排気量を調整することにより、フォトレジスト層
の内外周の膜厚を任意の値にすることができる。
【図１】本発明のフォトレジスト塗布装置の第１の実施
例を示した模式図。 （ａ）装置本体の可動部が上昇し、フォトレジスト溶液
を滴下している状態。 （ｂ）装置本体の可動部が下降し、ターンテーブルが高
速回転している状態。
例を示した模式図。 （ａ）装置本体の可動部が上昇し、フォトレジスト溶液
を滴下している状態。 （ｂ）装置本体の可動部が下降し、ターンテーブルが高
速回転している状態。
【図２】通気孔の直径を変化させた場合のフォトレジス
ト層の膜厚分布図。
ト層の膜厚分布図。
【図３】本発明のフォトレジスト塗布装置の第２の実施
例を示した模式図。
例を示した模式図。
【図４】傾斜蓋部の通気孔の外縁部からの高さｈを変化
させた場合のフォトレジスト層の膜厚分布図。
させた場合のフォトレジスト層の膜厚分布図。
【図５】傾斜蓋部を用いて排気量を変化させた場合のフ
ォトレジスト層の膜厚分布図。
ォトレジスト層の膜厚分布図。
１ 装置本体 ２ ターンテーブル ３ マスタ原盤 ４ 蓋部 ５ 通気孔 ６ ノズル ７ 可動部 ８ ダクト ９ 排気量調節弁 １０ フォトレジスト溶液 １１ 駆動装置Ａ １２ 駆動装置Ｂ １３ フォトレジスト層 １４ 傾斜蓋部
Claims (3)
- 【請求項１】通気孔を形成した蓋部を着脱自在に装着し
た装置本体と、駆動装置により回転し円形基板を搭載す
るターンテーブルと、前記円形基板上にフォトレジスト
溶液を滴下するノズルと、前記装置本体の塗布室を排気
する排気量を可変に調節する排気量調節弁とを具備し、
前記円形基板上にフォトレジスト層を形成するフォトレ
ジスト塗布装置において、前記蓋部の通気孔の直径が前
記フォトレジスト層が露光される領域の外径と略等しい
ことを特徴とするフォトレジスト塗布装置。 - 【請求項２】請求項１記載のフォトレジスト塗布装置で
あって、前記蓋部の外縁と通気孔の縁の間の部分が傾斜
していることを特徴とするフォトレジスト塗布装置。 - 【請求項３】請求項２記載のフォトレジスト塗布装置で
あって、前記蓋部の外縁と通気孔の縁の間の部分の傾斜
角度が可変せあることを特徴とするフォトレジスト塗布
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27965495A JPH0994516A (ja) | 1995-10-03 | 1995-10-03 | フォトレジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27965495A JPH0994516A (ja) | 1995-10-03 | 1995-10-03 | フォトレジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0994516A true JPH0994516A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=17614000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27965495A Withdrawn JPH0994516A (ja) | 1995-10-03 | 1995-10-03 | フォトレジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0994516A (ja) |
-
1995
- 1995-10-03 JP JP27965495A patent/JPH0994516A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021203 |