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JPH0990627A - 感光性ポリイミド前駆体組成物 - Google Patents

感光性ポリイミド前駆体組成物

Info

Publication number
JPH0990627A
JPH0990627A JP24949195A JP24949195A JPH0990627A JP H0990627 A JPH0990627 A JP H0990627A JP 24949195 A JP24949195 A JP 24949195A JP 24949195 A JP24949195 A JP 24949195A JP H0990627 A JPH0990627 A JP H0990627A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
precursor composition
polyimide precursor
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24949195A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Yoshimura
利夫 吉村
Masao Tomikawa
真佐夫 富川
Yasuo Miura
康男 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP24949195A priority Critical patent/JPH0990627A/ja
Publication of JPH0990627A publication Critical patent/JPH0990627A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Formation Of Insulating Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】容易に製造でき、かつ、ネガ型の優れた機能を
有する感光性ポリイミド前駆体組成物を得る。 【解決手段】式(1)で表される構造単位を主成分とす
るポリマ、エチレン性不飽和二重結合およびアミノ基お
よび/またはアミド基を有する化合物、特定のオキシム
化合物、および芳香族アミノ化合物を含有する感光性ポ
リイミド前駆体組成物。 (R1は少なくとも2個以上の炭素原子を有する3価ま
たは4価の有機基、R2は少なくとも2個以上の炭素原
子を有する2価の有機基、R3は、水素、アルカリ金属
イオン、アンモニウムイオン、または炭素数1〜30の
有機基を表す。nは1または2である。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、良好な感度を有す
る感光性ポリイミド前駆体組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】露光した部分が現像により残るネガ型の
感光性ポリイミド前駆体組成物としては次のものが知ら
れていた。
【0003】(a)ポリアミド酸に化学線により2量化
又は重合可能な炭素−炭素二重結合およびアミノ基又は
その四級化塩を添加した組成物(例えば特公昭 59−
52822公報)。
【0004】(b)ポリアミド酸にアクリルアミド類を
添加した組成物(例えば特開平 3−170555公
報)。
【0005】(c)炭素−炭素二重結合基を有するポリ
イミド前駆体と、特定のオキシム化合物と、増感剤を含
有してなる組成物(例えば特開昭 61−118423
公報、特開昭62−184056公報、特開昭 62−
273259公報)。
【0006】かかるこれらの従来の先行技術は、感光性
ポリイミド前駆体の膜厚を厚くしていくと、光感度の低
下や、現像時に露光部のパタ−ンのサイドが抉られ、オ
−バ−ハングになるという問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
を解決せしめ、良好な感度を有するネガ型感光性ポリイ
ミド前駆体組成物を提供することを目的とするものであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
(a)一般式(1)で表される構造単位を主成分とする
ポリマー(A)、
【化3】 (R1 は少なくとも2個以上の炭素原子を有する3価ま
たは4価の有機基、R2は、少なくとも2個以上の炭素
原子を有する2価の有機基、R3 は、水素、アルカリ金
属イオン、アンモニウムイオン、または炭素数1〜30
の有機基を表す。nは1または2である。)で表される
構造単位[1]を主成分とするポリマーと、(b)エチ
レン性不飽和二重結合およびアミノ基および/またはア
ミド基を有する化合物(B)、(c)一般式(2)で表
されるオキシム化合物(C)と、
【化4】 (ただし、式中R4 、R5 は炭素数1〜20の有機基、
R6 は少なくとも2個の炭素原子を有する1〜4価の有
機基、mは1〜4である。) (d)芳香族2級または芳香族3級アミン化合物(D)
を含有することを特徴とする感光性ポリイミド前駆体組
成物により達成される。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明における一般式(1)で表
される構造単位を主成分とするポリマー(A)とは、加
熱あるいは適当な触媒により、イミド環や、その他の環
状構造を有するポリマー(以後、ポリイミド系ポリマー
という)となり得るものである。
【0010】上記一般式(1)中、R1 は少なくとも2
個以上の炭素原子を有する3価または4価の有機基であ
る。耐熱性の面から、R1 は芳香族環又は芳香族複素環
を含有し、かつ、炭素数6〜30の3価または4価の基
が好ましい。具体的には、フェニル基、ビフェニル基、
タ−フェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジフェニ
ルエ−テル基、ジフェニルスルホン基、ジフェニルプロ
パン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルトリフルオロプ
ロパン基などが挙げられるが、これらに限定されない。
【0011】上記一般式(1)中、R2 は少なくとも2
個以上の炭素原子を有する2価の有機基であるが、耐熱
性の面から、R2 は芳香族環又は芳香族複素環を含有
し、かつ炭素数6〜30の2価の基が好ましい。具体的
には、フェニル基、ビフェニル基、タ−フェニル基、ナ
フタレン基、ペリレン基、ジフェニルエ−テル基、ジフ
ェニルスルホン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェ
ノン基、ビフェニルヘキサフルオロプロパン基などが挙
げられるが、これらに限定されない。
【0012】さらに、基板との接着性を向上させるため
に、耐熱性を低下させない範囲でR1 、R2 にシロキサ
ン構造を有する脂肪族の基を共重合してもよい。具体的
には、ジアミン成分として、ビス(3−アミノプロピ
ル)テトラメチルジシロキサンなどを1〜10モル%共
重合したものなどがあげられる。
【0013】R3 は、水素、アルカリ金属イオン、アン
モニウムイオン、または炭素数1〜30の有機基を表
す。R3 の好ましい具体例としては、水素、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、ブチル基、メタクリル酸エ
チル基、アクリル酸エチル基、o−ニトロベンジル基な
どがあげられるが、これらに限定されない。R3 として
は水素が好ましい。
【0014】ポリマー(A)は、R1 、R2 、R3 がこ
れらのうち各々1種から構成されていても良いし、各々
2種以上から構成される共重合体であつてもよい。
【0015】ポリマー(A)は、一般式(1)で表され
る構造単位のみからなるものであっても良いし、他の構
造単位との共重合体あるいはブレンド体でであっても良
い。その際、一般式(1)で表される構造単位を90モ
ル%以上含有していることが好ましい。共重合あるいは
ブレンドに用いられる構造単位の種類および量は最終加
熱処理によって得られるポリイミド系ポリマーの耐熱性
を損なわない範囲で選択することが好ましい。
【0016】ポリマー(A)の具体的な例として、ピロ
メリット酸二無水物と4,4´−(または3,4´−)
ジアミノジフェニルエ−テル、3,3´,4,4´−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と4,4´−
(または3,4´−)ジアミノジフェニルエ−テル、
3,3´,4,4´−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物と4,4´−(または3,4´−)ジアミノジフェ
ニルエ−テル、3,3´,4,4´−ビフェニルヘキサ
フルオロプロパンテトラカルボン酸二無水物と4,4´
−(または3,4´−)ジアミノジフェニルエ−テル、
3,3´,4,4´−ビフェニルスルホンテトラカルボ
ン酸二無水物と4,4´−(または3,4´−)ジアミ
ノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物と3,
3´−(または4,4´−)ジアミノジフェニルスルホ
ン、3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物と3,3´−(または4,4´−)ジアミ
ノジフェニルスルホン、3,3´,4,4´−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物と3,3´−(または4,
4´−)ジアミノジフェニルスルホン、ピロメリット酸
二無水物と4,4´−ジアミノジフェニルスルフィド、
3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物と4,4´−ジアミノジフェニルスルフィド、
3,3´,4,4´−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物と4,4´−ジアミノジフェニルスルフィド、3,
3´,4,4´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
とパラフェニレンジアミン、3,3´,4,4´−ジフ
ェニルエ−テルテトラカルボン酸二無水物とパラフェニ
レンジアミン、3,3´,4,4´−ビフェニルヘキサ
フルオロプロパンテトラカルボン酸二無水物とパラフェ
ニレンジアミン、3,3´,4,4´−ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物とタ−フェニルジアミン、ピロメ
リット酸二無水物および3,3´,4,4´−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物と3,3´−(または
4,4´)ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット
酸二無水物および3,3´,4,4´−ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミン、3,
3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物と4,4´−ジアミノジフェニルエ−テルおよびビ
ス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、
ピロメリット酸二無水物と4,4´−ジアミノジフェニ
ルエ−テルおよびビス(3−アミノプロピル)テトラメ
チルジシロキサン、3,3´,4,4´−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物と4,4´−ジアミノジフェニ
ルエ−テルおよびビス(3−アミノプロピル)テトラメ
チルジシロキサン、などから合成されたポリアミド酸お
よびそのエステル化合物が挙げられるが、これらに限定
されない。
【0017】これらのポリアミド酸およびそのエステル
化合物は公知の方法によって合成される。すなわち、ポ
リアミド酸の場合はテトラカルボン酸二無水物とジアミ
ンを選択的に組み合わせ、これらをN−メチル−2−ピ
ロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミドなどを主成分とする極性溶媒や、γ
−ブチロラクトン中で反応させることにより合成され
る。ポリアミド酸のエステル化合物は例えば、特開昭6
1−72022号公報、特開昭55−30207号公報
に記載されている方法などで合成される。
【0018】本発明で用いられる(B)成分のエチレン
性不飽和二重結合およびアミノ基および/またはアミド
基を有する化合物としては、エチレン性不飽和二重結合
およびアミノ基および/またはアミド基を有し、炭素数
3〜30の有機化合物が好ましい。さらに炭素数3〜3
0の脂肪族有機化合物が好ましい。含有される有機基と
しては、アミノ基、アミド基の他に炭化水素基、水酸
基、カルボニル基、カルボキシル基、ウレタン基、ウレ
ア基などが挙げられるがこれらに限定されない。
【0019】エチレン性不飽和二重結合およびアミノ基
を有する化合物の好ましい具体的な例として、メタクリ
ル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミ
ノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、N,
N−ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、N,N−
ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、N,N−ジ
エチルアミノエチルメタクリルアミド、N,N−ジエチ
ルアミノプロピルメタクリルアミド、アクリル酸ジメチ
ルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、ア
クリル酸ジメチルアミノプロピル、N,N−ジメチルア
ミノエチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプ
ロピルアクリルアミド、N,N−ジエチルアミノエチル
アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノプロピルアク
リルアミドなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【0020】エチレン性不飽和二重結合およびアミド基
を有する化合物の好ましい具体的な例として、アクリル
アミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミ
ド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルメタクリル
アミド、N−エチルアクリルアミド、N−イソプロピル
メタクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、
N−ブチルメタクリルアミド、N−ブチルアクリルアミ
ド、ジアセトンアクリルアミド、ジアセトンメタクリル
アミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−シ
クロヘキシルアクリルアミド、N−メチロ−ルアクリル
アミド、アクリロイルモルホリン、メタクリロイルモル
ホリン、アクリロイルピペリジン、メタクリロイルピペ
リジン、クロトンアミド、N−メチルクロトンアミド、
N−イソプロピルクロトンアミド、N−ブチルクロトン
アミド、酢酸アリルアミド、プロピオン酸アリルアミド
などが挙げられるがこれらに限定されない。とくにアミ
ノアクリレ−ト誘導体、アクリルアミド誘導体が感度の
面で好ましい。
【0021】これらは単独もしくは2種以上の混合物と
して使用される。
【0022】化合物(B)はポリマの全構成単位の5
%、好ましくは30%に相当する当量以上で、かつポリ
マ中の全カルボキシル基の当量の5倍以下の割合で、混
合されているのが望ましい。この範囲をはずれると感度
が悪くなったり、現像への制約が多くなる。
【0023】本発明において用いられるオキシム化合物
(C)は下記一般式(2)で表されるものである。
【0024】
【化5】 式中R4 、R5 は炭素数1〜20の有機基、R6 は少な
くとも2個の炭素原子を有する1〜4価の有機基、mは
1〜4である。R4 、R5 は具体的にはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、などのアルキル基、シク
ロブチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基、(無置換あるいは、メチル、エチル、プロピル、ブ
チルなどで置換された)フェニル基などの芳香族炭化水
素基などが挙げられるが、これらに限定されない。
【0025】式中R6 は少なくとも2個以上の炭素原子
を有する1〜4価の有機基で炭素数2〜20の2〜4価
の有機基が好ましい。具体的には、メチレン基、エチレ
ン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレ
ン基、などの2価の炭化水素基、フェニル、ビフェニ
ル、ジフェニルエ−テル、ジフェニルスルホン、ジフェ
ニルプロパン、ベンゾフェノン、ビフェニルヘキサフル
オロプロパンの各々2〜4価の芳香族基などが挙げられ
るが、これらに限定されない。
【0026】オキシム化合物(C)の具体的な例とし
て、以下のものがあげられるが、これらに限定されな
い。
【0027】酢酸(1−フェニル−1,2−プロパン
ジオン−2−オキシム)モノエステル、ステアリン酸
(1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−オキシ
ム)モノエステル、安息香酸(1−フェニル−1,2−
プロパンジオン−2−オキシム)モノエステルなど。
【0028】マロン酸(1−フェニル−1、2−プロ
パンジオン−2−オキシム)ジエステル、コハク酸(1
−フェニル−1、2−プロパンジオン−2−オキシム)
ジエステル、アジピン酸(1−フェニル−1、2−プロ
パンジオン−2−オキシム)ジエステルなど。
【0029】テレ(またはイソ)フタル酸(1−フェ
ニル−1、2−プロパンジオン−2−オキシム)ジエス
テル、4,4´−ベンゾフェノンジカルボン酸(1−フ
ェニル−1、2−プロパンジオン−2−オキシム)ジエ
ステルなど。
【0030】トリメリット酸(1−フェニル−1、2
−プロパンジオン−2−オキシム)トリエステル、トリ
メシック酸(1−フェニル−1、2−プロパンジオン−
2−オキシム)トリエステルなど。
【0031】ピロメリット酸(1−フェニル−1、2
−プロパンジオン−2−オキシム)テトラエステル、
3,3´、4,4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
(1−フェニル−1、2−プロパンジオン−2−オキシ
ム)テトラエステルなど。
【0032】上記のフェニルをメチル、エチル、プロ
ピル、またはブチルに変えたもの、および、上記のプロ
パンジオンをブタンジオンまたはヘキサンジオンに変え
たものなど。
【0033】オキシム化合物(C)の量はポリマーに対
して0.1重量%〜10重量%、好ましくは0.5重量
%〜5重量%、より好ましくは0.5〜3重量%混合さ
れているのが望ましい。この範囲をはずれると感度が悪
くなったり、現像への制約が多くなる。
【0034】さらに、芳香族2級または芳香族3級アミ
ン化合物(D)を添加することによって、感度の著しい
向上が達成できる。好ましい具体例としては、N−フェ
ニルジエタノールアミン、N−(3−メチルフェニル)
ジエタノールアミン、N−(4−メチルフェニル)ジエ
タノールアミン、N−フェニルモノエタノールアミン、
N−フェニル−N−メチル−モノエタノールアミン、N
−フェニル−N−エチル−モノエタノールアミン、N−
エチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N−ベン
ジル−N−エチルアニリン、N−アリールグリシン化合
物などをあげることができる。感度向上の点からはN−
アリールグリシン化合物が特に好ましい。N−アリール
グリシン化合物とはグリシンの窒素原子に芳香族環が直
接結合した化合物であって、ここでいう芳香族環とは、
ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ナフトキ
ノン環、アントラキノン環などをさす。これらの芳香族
環は炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基、ハロゲン基、カルボキシル基、カルボキシルエステ
ル基、2級または3級のアミノ基などで置換されていて
も良い。また、グリシンのカルボキシル基がエステル化
されていても良い。N−アリールグリシン化合物の好ま
しい具体例としては、N−フェニルグリシン、N−ナフ
チルグリシン、N−フェニルグリシンのエチルエステ
ル、N−ナフチルグリシンのエチルエステルなどがあげ
られるがこれに限定されない。
【0035】これらの芳香族2級または芳香族3級アミ
ン化合物は単独もしくは2種以上の混合物として使用さ
れる。好ましい添加量はポリマーに対して0.1重量%
〜20重量%、さらに好ましくは0.2重量%〜10重
量%である。
【0036】また、上記オキシム化合物(C)と、芳香
族2級または3級アミン化合物(D)の割合((C)/
(D))は、1以下であることが好ましく、より好まし
くは、0.5以下である。
【0037】さらに、g線露光に対する感度を向上させ
るために、クマリン類を添加してもよい。好ましいクマ
リン類の具体例としては、3−(4−メトキシベンゾイ
ル)クマリン、3−ベンゾイルクマリン、3−(4−シ
アノベンゾイル)クマリン、7−メトキシ−3−(4−
メトキシベンゾイル)クマリン、3−ベンゾイル−7−
メトキシクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−7
−メトキシクマリン、5,7−ジメトキシ−3−(4−
メトキシベンゾイル)クマリン、3−ベンゾイル−5,
7−ジメトキシクマリン、3−(4−シアノベンゾイ
ル)−5,7−ジメトキシクマリン、3−ベンゾイル−
7−ジエチルアミノクマリン、7−ジエチルアミノ−3
−(4−ジメチルアミノベンゾイル)クマリン、3,3
´−カルボニルビスクマリン、3,3´−カルボニルビ
ス(7−メトキシクマリン)、5,7−ジメトキシ−
3,3´−カルボニルビスクマリン、5,7,7´−ト
リメトキシ−3,3´−カルボニルビスクマリン、3,
3´−カルボニルビス(5,7−ジメトキシクマリ
ン)、7−ジエチルアミノ−3,3´−カルボニルビス
クマリン、7−ジエチルアミノ−5´,7´−ジメトキ
シ−3,3´−カルボニルビスクマリン、3,3´−カ
ルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、9−
(7−ジエチルアミノ−3−クマリノイル)−1,2,
4,5−テトラヒドロ−3H,6H,10H[l]ベン
ゾピラノ[9,9a,l−gh]キノラジン−10−オ
ン、9,9´−カルボニルビス(1,2,4,5−テト
ラヒドロ−3H,6H,10H[l]ベンゾピラノ
[9,9a,l−gh]キノラジン−10−オン)、な
どがあげられるがこれに限定されない。
【0038】これらのクマリン類は単独もしくは2種以
上の混合物として使用される。好ましい添加量はポリマ
ーに対して0.1重量%〜20重量%、さらに好ましく
は0.2重量%〜10重量%である。
【0039】さらに、上記以外の増感剤を添加してもよ
い。具体例としてはミヒラーズケトン、フルオレノン、
ベンズアントロンなどの芳香族カルボニル化合物、3−
[4−(ジメチルアミノ)フェニル]−1−フェニル−
2−プロペン1−オン、1−(3−クロロフェニル)−
5−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]−1,4−ペ
ンタジエン3−オンなどのアミノ芳香族不飽和ケトン、
1−メチル−2−ベンゾイルメチレン−1,2−ジヒド
ロナフト[1,2,d]チアゾールなどのメチレンチア
ゾール誘導体、メロシアニン色素などが有効であるが、
これらに限定されない。これらの増感剤は単独もしくは
2種以上の混合物として使用される。好ましい添加量は
ポリマーに対して0.1重量%〜20重量%、さらに好
ましくは0.2重量%〜10重量%である。
【0040】本発明の組成物に、さらに、光反応性モノ
マーとして、2−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、ト
リメチロ−ルプロパントリアクリレ−ト、トリメチロ−
ルプロパントリメタクリレ−ト、エチレングリコ−ルジ
メタクリレ−トなどのモノマ−をポリマーに対して1重
量%〜20重量%、添加してもさしつかえない。
【0041】上記のポリマー(A)、化合物(B)、オ
キシム化合物(C)、芳香族2級または芳香族3級アミ
ン化合物(D)、および必要に応じてクマリン類やその
他の増感剤や光反応性モノマーを溶媒と混合することに
より感光性ポリイミド前駆体組成物を得る。このとき用
いられる溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホオキシド、などを主成分とす
る極性溶媒や、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチル
アクリルアミドなどの溶媒が単独もしくは二種以上の混
合物として好ましく用いられるが、これらに限定されな
い。、また、必要に応じ、上記の前駆体組成物に基板と
の濡れ性を向上させる界面活性剤や、SiO2 ,TiO
2 などの無機粒子、あるいはポリイミドの粒子を添加し
てもよい。
【0042】次に本発明の感光性ポリイミド前駆体組成
物を用いて、ポリイミドパタ−ンを形成する方法につい
て説明する。本発明の感光性ポリイミド前駆体組成物は
主としてネガ型のポリイミドパターンの形成に用いられ
る。
【0043】該感光性ポリイミド前駆体組成物を基板上
に塗布する。基板としてはシリコン、アルミナセラミッ
ク、ガラスセラミック、窒化アルミ、半導体を形成した
基板などが用いられるが、これらに限定されない。塗布
方法としてはスピンナ−を用いた回転塗布、スプレ−塗
布、浸漬、ロ−ルコ−ティングなどの方法があげられる
が、これらに限定されない。また、塗布膜厚は、塗布手
段、組成物の固形分濃度、粘度等によって異なるが、通
常、乾燥後の膜厚が、0.1〜150μmになるように
塗布される。
【0044】次にポリイミド前駆体組成物を塗布した基
板を乾燥して、ポリイミド前駆体組成物被膜を得る。乾
燥は、オ−ブン、ホットプレ−ト、赤外線などを使用
し、50〜100℃の範囲で1分〜数時間行なうのが好
ましい。
【0045】次に、この被膜上に所望のパタ−ンを有す
るマスクを置き、それを介して化学線を照射し露光す
る。露光に用いられる化学線としては、紫外線、可視光
線、電子線、X線などがあげられる。とくに紫外線、可
視光線が好ましい。
【0046】ポリイミドパタ−ンを形成するには、露光
後、現像液を用いて、未露光部を除去することによって
達成される。現像液としては、N−メチル−2−ピロリ
ドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチ
ルホルムアミドなどの極性溶媒と、メタノ−ル、エタノ
−ル、イソプロピルアルコ−ル、キシレン、水などと組
み合わせた現像液が、使用できる。現像後、エタノ−
ル、イソプロピルアルコ−ルなどのアルコ−ルでリンス
をする。
【0047】現像後のキュアは温度を選び、段階的に昇
温するかある温度範囲を選び連続的に昇温しながら5分
〜5時間実施する。このキュアの最高温度は、250〜
500℃、好ましくは、300〜450℃で行うのがよ
い。例えば、130℃、200℃、400℃で各々30
分熱処理する。また、室温から400℃まで2時間かけ
て直線的に昇温してもよい。
【0048】本発明による感光性ポリイミド前駆体によ
り形成したポリイミド被膜は、半導体のパッシベ−ショ
ン膜、半導体素子の保護膜や、高密度実装用多層配線の
層間絶縁膜などの用途として用いられる。
【0049】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。
【0050】実施例−1 3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物 80.55g,ピロメリット酸二無水物 54.53gを
エタノ−ル 2.3g,N−メチル−2−ピロリドン 549g
と共に、70℃で3時間反応させた。その後20℃に冷
却し、4,4´−ジアミノジフェニルエ−テル 95.10g
およびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロ
キサン 6.20 gを添加し、さらに60℃で3時間反応さ
せ、粘度122ポアズ(25℃)の構造単位(1)のポ
リマー溶液を得た。この溶液にN−イソプロピルアクリ
ルアミド113.16g(ポリマ中の全カルボキシル基と当
量)、イソフタル酸(1−フェニル−1、2−プロパン
ジオン−2−オキシム)ジエステル、2.36g、N−フェ
ニルグリシン 11.82gおよびγ−ブチロラクトン315g
を添加し、ポリイミド前駆体組成物を得た。4インチシ
リコンウエハ−上にこのポリイミド前駆体組成物を塗
布、60℃で30分窒素雰囲気中で乾燥し、膜厚5.18μ
mの皮膜を形成した。キャノン(株)製紫外線露光機P
LA−501Fを用い、クロム製のフォトマスクを介し
て150mJ/cm2 (365nm の紫外線強度)露光し
た。露光露光後、ホットプレ−トで80℃で1分熱処理
を施した。次に、これをN−メチル−2−ピロリドン70
0g,キシレン300g、水100gからなる現像液に浸漬し、イ
ソプロピルアルコ−ルでリンス後、窒素ブロ−し、ネガ
型のパタ−ンを得た。この様にして、得られたネガ型の
パタ−ンを130℃、200℃、400℃で各々30分
窒素雰囲気中でキュアし、ネガ型のポリイミドパタ−ン
を形成した。
【0051】実施例−2 実施例−1で得た構造単位(1)のポリマ溶液に4,4
´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸(1−メチル−
1、2−プロパンジオン−2−オキシム)テトラエステ
ル、2.36g、N−フェニルジエタノールアミン 11.82
g、γ−ブチロラクトン315 gおよび、N,N−ジエチ
ルアミノエチルメタクリレ−ト185.0 gを添加したポリ
イミド前駆体組成物を調整した。4インチシリコンウエ
ハ−上にこのポリイミド前駆体組成物を塗布、ホットプ
レ−トで80℃で3分乾燥し、膜厚5.40μmポリイミド
前駆体皮膜を形成した。キャノン(株)製紫外線露光機
PLA−501Fを用い、クロム製のフォトマスクを介
して200mJ/cm2 (365nm の紫外線強度)露光し
た。露光後、ホットプレ−トで80℃で1分熱処理を施
した。これをN−メチル−2−ピロリドン900g,水100g
からなる現像液に浸漬し、イソプロピルアルコ−ルでリ
ンス後、窒素ブロ−し、ネガ型のパタ−ンを得た。
【0052】実施例−3 3,3´,4,4´−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物 147.1g,2−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト 3
2.5 g,N−メチル−2−ピロリドン 471gと共に、7
0℃で3時間反応させた。その後20℃に冷却し、パラ
フェニレンジアミン 37.84g、4,4´−ジアミノジフ
ェニルエ−テル 25.03gおよびビス(3−アミノプロピ
ル)テトラメチルジシロキサン 6.20 gを添加し、さら
に60℃で3時間反応させ、粘度600ポアズ(25
℃)の構造単位(1)のポリマー溶液を得た。このポリ
マ溶液にテレフタル酸(1−フェニル−1、2−ブタン
ジオン−2−オキシム)ジエステル2.16g、N−フェニ
ルグリシン10.8g、3,3´−カルボニルビス(ジエチ
ルアミノクマリン)0.54g、γ−ブチロラクトン171g
およびジメチルアミノエチルメタクリレ−トを78.65 g
を添加し、粘度120ポアズ(25℃)ポリイミド前駆
体組成物を調整した。
【0053】4インチシリコンウエハ−上にこのポリイ
ミド前駆体組成物を塗布、乾燥機で70℃で90分乾燥
し、膜厚40μmのポリイミド前駆体皮膜を形成した。キ
ャノン(株)製紫外線露光機PLA−501Fを用い、
L−42光学フィルタ−を装着し、クロム製のフォトマ
スクを介して250mJ/cm2 (436nm の紫外線強
度)露光した。露光後、ホットプレ−トで80℃で1分
熱処理を施した。次に、N−メチル−2−ピロリドン70
0g,キシレン300g、水100gからなる現像液を滴下し、パ
ドル法で現像、イソプロピルアルコ−ルでリンスし、断
面が垂直なネガ型のパタ−ンを得た。
【0054】
【表1】 比較例−1 実施例−1においてイソフタル酸(1−フェニル−1、
2−ブタンジオン−2−オキシム)ジエステルを入れず
にポリイミド前駆体組成物を調整した。
【0055】4インチシリコンウエハ−上にこのポリイ
ミド前駆体組成物を塗布、実施例−1と同様に露光、現
像を実施した。150mJ/cm2 (365nm の紫外線強
度)の露光量でネガ型のパタ−ンが得られたが、断面が
抉られ、オ−バ−ハングの形状であった。
【0056】比較例−2 実施例−3においてN−フェニルグリシンを入れずにポ
リイミド前駆体組成物を調整した。4インチシリコンウ
エハ−上にこのポリイミド前駆体組成物を塗布、実施例
−5と同様に露光、現像を実施した。250mJ/cm
2 (436nm の紫外線強度)の露光量でネガ型のパタ−ン
が得られたが、断面が抉られ、オ−バ−ハングの形状で
あった。
【0057】
【発明の効果】本発明は、上述したように、一般式
(1)で表される構造単位を主成分とするポリマー、エ
チレン性不飽和二重結合およびアミノ基および/または
アミド基を有する化合物、特定のオキシム化合物、およ
び芳香族アミノ化合物を含有する組成物が、ネガ型の感
光性ポリイミド前駆体として優れた性能を示すことがで
きたものである。本発明における感光性ポリイミド前駆
体組成物は容易に製造でき、かつ現像後、キュアするこ
とにより、性能が優れたポリイミド被膜を得ることがで
きる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027 H01L 21/312 B 21/312 21/30 502R

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)一般式(1)で表される構造単位を
    主成分とするポリマー(A)、 【化1】 (R1 は少なくとも2個以上の炭素原子を有する3価ま
    たは4価の有機基、R2は、少なくとも2個以上の炭素
    原子を有する2価の有機基、R3 は、水素、アルカリ金
    属イオン、アンモニウムイオン、または炭素数1〜30
    の有機基を表す。nは1または2である。)で表される
    構造単位[1]を主成分とするポリマーと、(b)エチ
    レン性不飽和二重結合およびアミノ基および/またはア
    ミド基を有する化合物(B)、(c)一般式(2)で表
    されるオキシム化合物(C)と、 【化2】 (ただし、式中R4 、R5 は炭素数1〜20の有機基、
    R6 は少なくとも2個の炭素原子を有する1〜4価の有
    機基、mは1〜4である。) (d)芳香族2級または芳香族3級アミン化合物(D)
    を含有することを特徴とする感光性ポリイミド前駆体組
    成物。
  2. 【請求項2】芳香族2級または芳香族3級アミン化合物
    がN−アリールグリシン化合物であることを特徴とする
    請求項1記載の感光性ポリイミド前駆体組成物。
  3. 【請求項3】クマリン類(E)を含有することを特徴と
    する請求項1記載の感光性ポリイミド前駆体組成物。
  4. 【請求項4】一般式(2)で表されるオキシム化合物
    (C)を、一般式(1)で表される構造単位を主成分と
    するポリマー(A)の3重量%以下の範囲で含有するこ
    とを特徴とする請求項1記載の感光性ポリイミド前駆体
    組成物。
  5. 【請求項5】一般式(2)で表されるオキシム化合物
    (C)と芳香族2級または芳香族3級アミン化合物
    (D)の割合((C)/(D))が、1以下であること
    を特徴とする請求項1記載の感光性ポリイミド前駆体組
    成物。
  6. 【請求項6】ネガ型であることを特徴とする請求項1記
    載の感光性ポリイミド前駆体組成物。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000026219A1 (en) * 1998-10-29 2000-05-11 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
JP2000250204A (ja) * 1999-03-04 2000-09-14 Shin Etsu Chem Co Ltd フォトレジスト材料およびパターン形成方法
US7189489B2 (en) * 2001-06-11 2007-03-13 Ciba Specialty Chemicals Corporation Oxime ester photoiniators having a combined structure

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000026219A1 (en) * 1998-10-29 2000-05-11 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
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