JPH0977758A - テトラヒドロフラン誘導体の製造方法 - Google Patents
テトラヒドロフラン誘導体の製造方法Info
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- JPH0977758A JPH0977758A JP7232329A JP23232995A JPH0977758A JP H0977758 A JPH0977758 A JP H0977758A JP 7232329 A JP7232329 A JP 7232329A JP 23232995 A JP23232995 A JP 23232995A JP H0977758 A JPH0977758 A JP H0977758A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 種々の医薬、農薬の中間体として有用な２−
ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体の工業的に有利な
製造方法の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で示される４−ヒドロキシ
ブタンニトリル誘導体を酸性物質および水の存在下、金
属触媒を用いて還元的に環化させる一般式（ＩＩ）で示
される２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体の製造
方法。 ［式中、Ｒ１乃至Ｒ６は水素原子または置換基を有して
いてもよいアルキル基、アリール基もしくはアラルキル
基を表す］
ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体の工業的に有利な
製造方法の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で示される４−ヒドロキシ
ブタンニトリル誘導体を酸性物質および水の存在下、金
属触媒を用いて還元的に環化させる一般式（ＩＩ）で示
される２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体の製造
方法。 ［式中、Ｒ１乃至Ｒ６は水素原子または置換基を有して
いてもよいアルキル基、アリール基もしくはアラルキル
基を表す］
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２−ヒドロキシテ
トラヒドロフラン誘導体の製造方法に関する。本発明に
より製造される２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導
体は、種々の医薬、農薬の中間体として、例えば抗炎症
剤、鎮痛剤として効果が期待されている（１Ｓ，４Ｒ）
−シス−１−エチル−１，３，４，９−テトラヒドロ−
４−（フェニルメチル）ピラノ［３，４−ｂ］インドー
ル−１−酢酸の合成中間体として有用である。
トラヒドロフラン誘導体の製造方法に関する。本発明に
より製造される２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導
体は、種々の医薬、農薬の中間体として、例えば抗炎症
剤、鎮痛剤として効果が期待されている（１Ｓ，４Ｒ）
−シス−１−エチル−１，３，４，９−テトラヒドロ−
４−（フェニルメチル）ピラノ［３，４−ｂ］インドー
ル−１−酢酸の合成中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】従来、２−ヒドロキシテトラヒドロフラ
ン誘導体の製造方法としては、例えば、シンナミルア
ルコールを原料とし、アゾビスイソブチロニトリル−水
素化トリブチルスズを用いるブロモアセタールのラジカ
ル環化を経由して２−ヒドロキシ−４−ベンジルテトラ
ヒドロフランを製造する方法［シンセティック・コミュ
ニケーションズ（Synthetic Communications）、22巻、
8 号、1127頁（1992年）参照］、２−置換−２−プロ
ペノールを原料として、ロジウム触媒下、オキソ反応に
より２−ヒドロキシ−４−メチルテトラヒドロフランを
製造する方法［ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー（Journal of Organic Chemistry）、37巻、18
35-1837 頁（1972年）参照］などが知られている。
ン誘導体の製造方法としては、例えば、シンナミルア
ルコールを原料とし、アゾビスイソブチロニトリル−水
素化トリブチルスズを用いるブロモアセタールのラジカ
ル環化を経由して２−ヒドロキシ−４−ベンジルテトラ
ヒドロフランを製造する方法［シンセティック・コミュ
ニケーションズ（Synthetic Communications）、22巻、
8 号、1127頁（1992年）参照］、２−置換−２−プロ
ペノールを原料として、ロジウム触媒下、オキソ反応に
より２−ヒドロキシ−４−メチルテトラヒドロフランを
製造する方法［ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー（Journal of Organic Chemistry）、37巻、18
35-1837 頁（1972年）参照］などが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のブロモアセタ
ールのラジカル環化を経由する方法では、中間体となる
ブロモアセタールの合成にＮ−ブロモスクシンイミド等
の高価な試薬を用いており、また、環化反応においては
スズ化合物およびシアン化合物のような毒性が高く、高
価で、しかも工業的に取扱いの難しい試薬や技術を用い
る必要がある。また、上記の方法では、原料の２−置
換−２−プロペノールを製造するに際し、アルキルアル
デヒドをマンニッヒ反応に付すことによりα−アルキル
アクロレインとした後、水素化リチウムアルミニウムで
還元するという方法で製造しているが、この原料合成に
使用する還元剤が高価であり、工業的に有利な方法とは
いい難い。しかも、いずれの方法も光学活性化合物を合
成する目的には使用できない。しかして、本発明の目的
は、高価で毒性の高い試薬を用いることなく、容易に入
手可能な原料から２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘
導体を工業的に有利に製造する方法を提供することにあ
る。
ールのラジカル環化を経由する方法では、中間体となる
ブロモアセタールの合成にＮ−ブロモスクシンイミド等
の高価な試薬を用いており、また、環化反応においては
スズ化合物およびシアン化合物のような毒性が高く、高
価で、しかも工業的に取扱いの難しい試薬や技術を用い
る必要がある。また、上記の方法では、原料の２−置
換−２−プロペノールを製造するに際し、アルキルアル
デヒドをマンニッヒ反応に付すことによりα−アルキル
アクロレインとした後、水素化リチウムアルミニウムで
還元するという方法で製造しているが、この原料合成に
使用する還元剤が高価であり、工業的に有利な方法とは
いい難い。しかも、いずれの方法も光学活性化合物を合
成する目的には使用できない。しかして、本発明の目的
は、高価で毒性の高い試薬を用いることなく、容易に入
手可能な原料から２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘
導体を工業的に有利に製造する方法を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、一般式（Ｉ）
目的は、一般式（Ｉ）
【０００５】
【化３】
【０００６】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 お
よびＲ6 は水素原子または置換基を有していてもよいア
ルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を表す。）
で示される４−ヒドロキシブタンニトリル誘導体（以
下、これを４−ヒドロキシブタンニトリル誘導体（Ｉ）
と略記することがある）を酸性物質および水の存在下、
金属触媒を用いて還元的に環化させることを特徴とする
一般式（II）
よびＲ6 は水素原子または置換基を有していてもよいア
ルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を表す。）
で示される４−ヒドロキシブタンニトリル誘導体（以
下、これを４−ヒドロキシブタンニトリル誘導体（Ｉ）
と略記することがある）を酸性物質および水の存在下、
金属触媒を用いて還元的に環化させることを特徴とする
一般式（II）
【０００７】
【化４】
【０００８】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 お
よびＲ6 は前記定義のとおりである。）で示される２−
ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体（以下、これを２
−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体（II）と略記す
ることがある）の製造方法を提供することにより達成さ
れる。
よびＲ6 は前記定義のとおりである。）で示される２−
ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体（以下、これを２
−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体（II）と略記す
ることがある）の製造方法を提供することにより達成さ
れる。
【０００９】
【発明の実施の形態】前記一般式（Ｉ）および（II）に
おいて、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 が表
すアルキル基としては、直鎖状または分岐鎖状のいずれ
でもよく、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基などが挙げられる。ま
た、アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル
基などが挙げられ、アラルキル基としてはベンジル基な
どが挙げられる。これらのアルキル基、アリール基およ
びアラルキル基は置換基を有していてもよく、置換基と
しては塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が挙げら
れる。また、アリール基およびアラルキル基のアリール
基部分は置換基として、メチル基、エチル基、プロピル
基などの炭素数１〜６の低級アルキル基を有していても
よい。
おいて、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 が表
すアルキル基としては、直鎖状または分岐鎖状のいずれ
でもよく、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基などが挙げられる。ま
た、アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル
基などが挙げられ、アラルキル基としてはベンジル基な
どが挙げられる。これらのアルキル基、アリール基およ
びアラルキル基は置換基を有していてもよく、置換基と
しては塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が挙げら
れる。また、アリール基およびアラルキル基のアリール
基部分は置換基として、メチル基、エチル基、プロピル
基などの炭素数１〜６の低級アルキル基を有していても
よい。
【００１０】原料である４−ヒドロキシブタンニトリル
誘導体（Ｉ）は、光学活性体、ラセミ体いずれでもよ
く、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
（Journal of Organic Chemistry）、58巻、5717-5723
頁（1993年）または特開平６−２５１７３号公報に記載
の方法にしたがって製造することができる。例えば、２
−ベンジル−１，３−プロパンジオールを出発原料と
し、これをシュードモナス属等の微生物に由来するエス
テラーゼを使用し、酢酸無水物、酢酸ビニルなどのアシ
ル化剤で不斉アシル化することにより光学活性モノエス
テル体とし、水酸基をトシル化し、青酸ナトリウム等と
反応させることによってニトリル基を導入し、エステル
を加水分解することによって、光学活性な３−ベンジル
−４−ヒドロキシブタンニトリルを製造することができ
る。また、２−メチル−１，３−プロパンジオールを原
料とし、塩化チオニル等で環状スルフィネートとした
後、青酸ナトリウムで加熱処理することにより、３−メ
チル−４−ヒドロキシブタンニトリル（ラセミ体）を製
造することができる。
誘導体（Ｉ）は、光学活性体、ラセミ体いずれでもよ
く、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
（Journal of Organic Chemistry）、58巻、5717-5723
頁（1993年）または特開平６−２５１７３号公報に記載
の方法にしたがって製造することができる。例えば、２
−ベンジル−１，３−プロパンジオールを出発原料と
し、これをシュードモナス属等の微生物に由来するエス
テラーゼを使用し、酢酸無水物、酢酸ビニルなどのアシ
ル化剤で不斉アシル化することにより光学活性モノエス
テル体とし、水酸基をトシル化し、青酸ナトリウム等と
反応させることによってニトリル基を導入し、エステル
を加水分解することによって、光学活性な３−ベンジル
−４−ヒドロキシブタンニトリルを製造することができ
る。また、２−メチル−１，３−プロパンジオールを原
料とし、塩化チオニル等で環状スルフィネートとした
後、青酸ナトリウムで加熱処理することにより、３−メ
チル−４−ヒドロキシブタンニトリル（ラセミ体）を製
造することができる。
【００１１】４−ヒドロキシブタンニトリル誘導体
（Ｉ）から、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体
（II）への還元的環化反応に使用する金属触媒として
は、ニトリルをイミンに還元する能力をもつ一般的金属
触媒、例えば、ラネーニッケル、ラネーコバルト、パラ
ジウム−炭素、白金−炭素、酸化白金等が挙げられる
が、ラネーニッケルが好ましい。触媒の使用量は、４−
ヒドロキシブタンニトリル誘導体（Ｉ）１モルに対して
通常約０．００００１〜０．５モルの範囲が好ましい。
（Ｉ）から、２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体
（II）への還元的環化反応に使用する金属触媒として
は、ニトリルをイミンに還元する能力をもつ一般的金属
触媒、例えば、ラネーニッケル、ラネーコバルト、パラ
ジウム−炭素、白金−炭素、酸化白金等が挙げられる
が、ラネーニッケルが好ましい。触媒の使用量は、４−
ヒドロキシブタンニトリル誘導体（Ｉ）１モルに対して
通常約０．００００１〜０．５モルの範囲が好ましい。
【００１２】酸性物質としては、酢酸等の有機酸、塩
酸、硫酸、トシル酸などの強酸などが使用可能である
が、酢酸を用いるのが好ましい。酸性物質の使用量は、
４−ヒドロキシブタンニトリル誘導体（Ｉ）１モルに対
して通常約１〜３０モルの範囲が好ましい。
酸、硫酸、トシル酸などの強酸などが使用可能である
が、酢酸を用いるのが好ましい。酸性物質の使用量は、
４−ヒドロキシブタンニトリル誘導体（Ｉ）１モルに対
して通常約１〜３０モルの範囲が好ましい。
【００１３】反応は、溶媒中で行うのが好ましく、溶媒
としては、水、または水とメタノール、エタノール等の
アルコール系溶媒；ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン等の炭化水素系
溶媒との混合溶媒などが使用できる。反応は水素雰囲気
下で行われ、約１０〜１００℃の範囲内の温度、約１〜
１００ｋｇ／ｃｍ2 の範囲内の水素圧下で行われること
が好ましい。
としては、水、または水とメタノール、エタノール等の
アルコール系溶媒；ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン等の炭化水素系
溶媒との混合溶媒などが使用できる。反応は水素雰囲気
下で行われ、約１０〜１００℃の範囲内の温度、約１〜
１００ｋｇ／ｃｍ2 の範囲内の水素圧下で行われること
が好ましい。
【００１４】このようにして得られる２−ヒドロキシテ
トラヒドロフラン誘導体（II）の単離・精製は、通常の
有機化合物の単離・精製において用いられる方法と同様
にして行われる。例えば、反応混合物に、酢酸エチル、
ジエチルエーテル、塩化メチレン等の有機溶媒を加え、
得られた溶液を飽和重層水、飽和食塩水で洗浄する。次
いで、有機層を乾燥、濃縮することによって、粗生成物
を得ることができる。この粗生成物を酢酸エチルとヘキ
サン等の有機溶媒で再結晶することによって光学純度の
高い目的物を得ることができる。
トラヒドロフラン誘導体（II）の単離・精製は、通常の
有機化合物の単離・精製において用いられる方法と同様
にして行われる。例えば、反応混合物に、酢酸エチル、
ジエチルエーテル、塩化メチレン等の有機溶媒を加え、
得られた溶液を飽和重層水、飽和食塩水で洗浄する。次
いで、有機層を乾燥、濃縮することによって、粗生成物
を得ることができる。この粗生成物を酢酸エチルとヘキ
サン等の有機溶媒で再結晶することによって光学純度の
高い目的物を得ることができる。
【００１５】２−ヒドロキシテトラヒドロフラン誘導体
（II）は、例えば酸性条件下で脱水反応に付すことによ
り、２，３−ジヒドロフラン誘導体に、また、酸性条件
下でメタノール、エタノール等のアルコールと反応させ
ることにより、テトラヒドロフランエーテル誘導体に変
換させることが可能であり、いずれも種々の医薬、農薬
中間体として有用である。
（II）は、例えば酸性条件下で脱水反応に付すことによ
り、２，３−ジヒドロフラン誘導体に、また、酸性条件
下でメタノール、エタノール等のアルコールと反応させ
ることにより、テトラヒドロフランエーテル誘導体に変
換させることが可能であり、いずれも種々の医薬、農薬
中間体として有用である。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
【００１７】参考例１ （Ｒ）−３−ベンジル−４−ヒドロキシブタンニトリル
の製造 ２−ベンジル−１，３−プロパンジオール１３５ｇをヘ
キサン６７５ｍｌに溶解し、得られた溶液に酢酸ビニル
８４．６ｇおよびリパーゼＱＬ（名糖産業株式会社製）
１．２ｇを加え、３７℃で１９時間攪拌した。このとき
の転化率は９７％であり、生成した２−ベンジル−３−
ヒドロキシプロピルアセテートの光学純度は９２％ｅ．
ｅ．であった。反応混合液から酵素を濾別した後、減圧
濃縮し、（Ｒ）−２−ベンジル−３−ヒドロキシプロピ
ルアセテートを２０２ｇ得た。この（Ｒ）−２−ベンジ
ル−３−ヒドロキシプロピルアセテート２０２ｇを塩化
メチレン３００ｍｌに溶解した後、得られた溶液にトリ
エチルアミン１９１ｍｌを加えた。混合液を氷温冷却
後、パラトルエンスルホニルクロリド２１７ｇを加え、
３時間室温で反応させた。反応混合液に、酢酸エチル、
水を加えて分液した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水
で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に
濃縮することによって粗生成物を得た。粗生成物を酢酸
エチル１００ｍｌに溶解した後、得られた溶液にヘキサ
ン２００ｍｌを加えた。生成した結晶を濾取、洗浄し、
光学純度９７％ｅ．ｅ．の（Ｓ）−２−ベンジル−３−
［（パラトルエンスルホニル）オキシ］プロピルアセテ
ートを２９９ｇ得た。このうちの９９ｇをジメチルスル
ホキシド６７０ｍｌに溶解し、得られた溶液に青酸ナト
リウム１５．８ｇを加えて６０℃で２時間攪拌した。反
応混合液にイソプロピルエーテル、水を加えて分液し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧下で濃縮することによって粗（Ｒ）
−２−ベンジル−３−シアノプロピルアセテート５６．
６ｇを得た。これをテトラヒドロフラン４２０ｍｌ、水
１４０ｍｌに溶解し、得られた溶液に水酸化リチウム１
水和物１１．９ｇを加え、室温で２４時間攪拌した。反
応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩
水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これ
を減圧下で濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより、３７．９ｇの（Ｒ）−３−ベンジル−４
−ヒドロキシブタンニトリルを得た。
の製造 ２−ベンジル−１，３−プロパンジオール１３５ｇをヘ
キサン６７５ｍｌに溶解し、得られた溶液に酢酸ビニル
８４．６ｇおよびリパーゼＱＬ（名糖産業株式会社製）
１．２ｇを加え、３７℃で１９時間攪拌した。このとき
の転化率は９７％であり、生成した２−ベンジル−３−
ヒドロキシプロピルアセテートの光学純度は９２％ｅ．
ｅ．であった。反応混合液から酵素を濾別した後、減圧
濃縮し、（Ｒ）−２−ベンジル−３−ヒドロキシプロピ
ルアセテートを２０２ｇ得た。この（Ｒ）−２−ベンジ
ル−３−ヒドロキシプロピルアセテート２０２ｇを塩化
メチレン３００ｍｌに溶解した後、得られた溶液にトリ
エチルアミン１９１ｍｌを加えた。混合液を氷温冷却
後、パラトルエンスルホニルクロリド２１７ｇを加え、
３時間室温で反応させた。反応混合液に、酢酸エチル、
水を加えて分液した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水
で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に
濃縮することによって粗生成物を得た。粗生成物を酢酸
エチル１００ｍｌに溶解した後、得られた溶液にヘキサ
ン２００ｍｌを加えた。生成した結晶を濾取、洗浄し、
光学純度９７％ｅ．ｅ．の（Ｓ）−２−ベンジル−３−
［（パラトルエンスルホニル）オキシ］プロピルアセテ
ートを２９９ｇ得た。このうちの９９ｇをジメチルスル
ホキシド６７０ｍｌに溶解し、得られた溶液に青酸ナト
リウム１５．８ｇを加えて６０℃で２時間攪拌した。反
応混合液にイソプロピルエーテル、水を加えて分液し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧下で濃縮することによって粗（Ｒ）
−２−ベンジル−３−シアノプロピルアセテート５６．
６ｇを得た。これをテトラヒドロフラン４２０ｍｌ、水
１４０ｍｌに溶解し、得られた溶液に水酸化リチウム１
水和物１１．９ｇを加え、室温で２４時間攪拌した。反
応混合液を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩
水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これ
を減圧下で濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより、３７．９ｇの（Ｒ）−３−ベンジル−４
−ヒドロキシブタンニトリルを得た。
【００１８】実施例１ （Ｒ）−３−ベンジル−４−ヒドロキシブタンニトリル
４ｇを脱気した５０％酢酸水溶液２０ｍｌに溶解し、得
られた溶液にラネーニッケル０．４ｇを加え、オートク
レーブ中、５０℃、１０ｋｇ／ｃｍ2 で７時間反応させ
た。反応液から触媒を濾別し、濾液を水酸化ナトリウム
水溶液で中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて
乾燥した後、減圧下に濃縮した。生成物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離精製することにより、下記の物
性を有する２−ヒドロキシ−４−ベンジルテトラヒドロ
フラン２．５ｇを得た。
４ｇを脱気した５０％酢酸水溶液２０ｍｌに溶解し、得
られた溶液にラネーニッケル０．４ｇを加え、オートク
レーブ中、５０℃、１０ｋｇ／ｃｍ2 で７時間反応させ
た。反応液から触媒を濾別し、濾液を水酸化ナトリウム
水溶液で中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて
乾燥した後、減圧下に濃縮した。生成物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離精製することにより、下記の物
性を有する２−ヒドロキシ−４−ベンジルテトラヒドロ
フラン２．５ｇを得た。
【００１９】1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨ
ｚ）、ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ、δ：1.56-2.86(m,5H), 3.5
0-4.10(m,3H), 5.50-5.55(m,1H), 7.11-7.30(m,5H)
ｚ）、ＣＤＣｌ3 、ＴＭＳ、δ：1.56-2.86(m,5H), 3.5
0-4.10(m,3H), 5.50-5.55(m,1H), 7.11-7.30(m,5H)
【００２０】実施例２ （Ｒ）−３−ベンジル−４−ヒドロキシブタンニトリル
４００ｍｇを脱気したテトラヒドロフラン１６ｍｌおよ
び５０％酢酸水溶液４ｍｌの混合溶媒に溶解し、得られ
た溶液にラネーニッケル４０ｍｇを加え、オートクレー
ブ中、５０℃、１０ｋｇ／ｃｍ2 で１８時間反応させ
た。反応液から触媒を濾別し、濾液を水酸化ナトリウム
水溶液で中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて
乾燥した後、減圧下に濃縮した。生成物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離精製することにより、実施例１
で得られたと同じ物性を有する２−ヒドロキシ−４−ベ
ンジルテトラヒドロフラン１５０ｍｇを得た。
４００ｍｇを脱気したテトラヒドロフラン１６ｍｌおよ
び５０％酢酸水溶液４ｍｌの混合溶媒に溶解し、得られ
た溶液にラネーニッケル４０ｍｇを加え、オートクレー
ブ中、５０℃、１０ｋｇ／ｃｍ2 で１８時間反応させ
た。反応液から触媒を濾別し、濾液を水酸化ナトリウム
水溶液で中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて
乾燥した後、減圧下に濃縮した。生成物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離精製することにより、実施例１
で得られたと同じ物性を有する２−ヒドロキシ−４−ベ
ンジルテトラヒドロフラン１５０ｍｇを得た。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、２−ヒドロキシテトラ
ヒドロフラン誘導体（II）を工業的に有利に製造するこ
とができる。
ヒドロフラン誘導体（II）を工業的に有利に製造するこ
とができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 は水
素原子または置換基を有していてもよいアルキル基、ア
リール基もしくはアラルキル基を表す。）で示される４
−ヒドロキシブタンニトリル誘導体を酸性物質および水
の存在下、金属触媒を用いて還元的に環化させることを
特徴とする一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 は前
記定義のとおりである。）で示される２−ヒドロキシテ
トラヒドロフラン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7232329A JPH0977758A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | テトラヒドロフラン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7232329A JPH0977758A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | テトラヒドロフラン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0977758A true JPH0977758A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=16937496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7232329A Pending JPH0977758A (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | テトラヒドロフラン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0977758A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001163866A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Kuraray Co Ltd | ３−メチルテトラヒドロフランの製造方法 |
| KR100614546B1 (ko) * | 2004-09-13 | 2006-08-25 | 한국과학기술연구원 | 입체선택성이 높은 테트라하이드로퓨란 고리화합물과 이의제조방법 |
-
1995
- 1995-09-11 JP JP7232329A patent/JPH0977758A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001163866A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Kuraray Co Ltd | ３−メチルテトラヒドロフランの製造方法 |
| KR100614546B1 (ko) * | 2004-09-13 | 2006-08-25 | 한국과학기술연구원 | 입체선택성이 높은 테트라하이드로퓨란 고리화합물과 이의제조방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041026 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050510 |