JPH0967293A - ２，３−ベンゾシクロアルケノンの製造法 - Google Patents
２，３−ベンゾシクロアルケノンの製造法Info
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- JPH0967293A JPH0967293A JP24532195A JP24532195A JPH0967293A JP H0967293 A JPH0967293 A JP H0967293A JP 24532195 A JP24532195 A JP 24532195A JP 24532195 A JP24532195 A JP 24532195A JP H0967293 A JPH0967293 A JP H0967293A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】新規な反応に基づく２，３−ベンゾシクロアル
ケノン誘導体の製造法を提供する。 【解決手段】一般式（ＩI ）で表されるジフルオロオレ
フインに酸を反応させる一般式（Ｉ）で表される２，３
−ベンゾシクロアルケノン誘導体の製造法。 【化１】 （各一般式中、Ｒ1 、Ｒ2 はＨ、アリール基またはアル
キル基、ｎは１、２又は３の整数を示す。）
ケノン誘導体の製造法を提供する。 【解決手段】一般式（ＩI ）で表されるジフルオロオレ
フインに酸を反応させる一般式（Ｉ）で表される２，３
−ベンゾシクロアルケノン誘導体の製造法。 【化１】 （各一般式中、Ｒ1 、Ｒ2 はＨ、アリール基またはアル
キル基、ｎは１、２又は３の整数を示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２，３−ベンゾシ
クロアルケノン誘導体の製造法に関するものである。
クロアルケノン誘導体の製造法に関するものである。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
な反応に基づく２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導体
の製造法を提供することにある。
な反応に基づく２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導体
の製造法を提供することにある。
【０００３】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の要旨
は、下記一般式（ＩＩ）で表されるジフルオロオレフィ
ンに酸を反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）で表
される２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導体の製造法
に存する。
は、下記一般式（ＩＩ）で表されるジフルオロオレフィ
ンに酸を反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）で表
される２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導体の製造法
に存する。
【０００４】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の製造法は、次の反応式で表される。
本発明の製造法は、次の反応式で表される。
【０００５】
【化２】
【０００６】（各一般式中、Ｒ1 、Ｒ2 はＨ、アリール
基またはアルキル基、ｎは１、２又は３の整数を示
す。）
基またはアルキル基、ｎは１、２又は３の整数を示
す。）
【０００７】すなわち、本発明の製造法において、上記
の反応式に示す通り、一般式（ＩＩ）で表されるジフル
オロオレフィンに酸を反応させることにより、一般式
（Ｉ）で表される２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導
体が生成する。
の反応式に示す通り、一般式（ＩＩ）で表されるジフル
オロオレフィンに酸を反応させることにより、一般式
（Ｉ）で表される２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導
体が生成する。
【０００８】一般式（ＩＩ）中、Ｒ1 、Ｒ2 はＨ、アル
キル基またはアリール基を示す。アルキル基の具体例と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基などの低級アルキル基が挙げられる。アルキ
ル基としては、分岐状であってもよく又は置換されてい
てもよい。アリール基としては、フェニル基、トリル
基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げ
られる。Ｒ1 、Ｒ2 の代表的な基としては、各々低級ア
ルキル基とフェニル基が挙げられる。
キル基またはアリール基を示す。アルキル基の具体例と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基などの低級アルキル基が挙げられる。アルキ
ル基としては、分岐状であってもよく又は置換されてい
てもよい。アリール基としては、フェニル基、トリル
基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げ
られる。Ｒ1 、Ｒ2 の代表的な基としては、各々低級ア
ルキル基とフェニル基が挙げられる。
【０００９】酸としては、ＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 、ＨＦ
・ＳｂＦ5 、ＳｂＦ5 、ＣＦ3 ＳＯ3 Ｈ等が挙げられ
る。通常、酸は約０．１〜１ｍｏｌ／ｌ濃度の溶液とし
て使用される。
・ＳｂＦ5 、ＳｂＦ5 、ＣＦ3 ＳＯ3 Ｈ等が挙げられ
る。通常、酸は約０．１〜１ｍｏｌ／ｌ濃度の溶液とし
て使用される。
【００１０】反応は、溶媒の存在下で行われ、溶媒とし
ては、通常、ジクロロメタン、１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール（ＨＦＩ
Ｐ）、トルエン、ジエチルエーテル等が挙げられるが、
好ましくは１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−
２−プロパノール（ＨＦＩＰ）が使用される。
ては、通常、ジクロロメタン、１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール（ＨＦＩ
Ｐ）、トルエン、ジエチルエーテル等が挙げられるが、
好ましくは１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−
２−プロパノール（ＨＦＩＰ）が使用される。
【００１１】一般式（ＩＩ) で表されるジフルオロオレ
フィン（Ａ）及び酸（Ｂ）の使用割合は、通常、Ａ：Ｂ
のモル比として、１：１〜３の範囲から選択される。
Ａ：Ｂの好ましいモル比は、１：２である。
フィン（Ａ）及び酸（Ｂ）の使用割合は、通常、Ａ：Ｂ
のモル比として、１：１〜３の範囲から選択される。
Ａ：Ｂの好ましいモル比は、１：２である。
【００１２】反応は、溶媒中、一般式（ＩＩ）で表され
るジフルオロオレフィンに酸を加え、通常−７８〜４０
℃の温度範囲、好ましくは−１０〜３０℃の温度範囲
で、例えば０．１〜６時間行なわれる。反応操作後、反
応液に、例えば燐酸緩衝液（ｐＨ７）を加えて反応を停
止し、ジクロロメタン、ジエチルエーテル等で反応生成
物を１回以上抽出する。そして、合わせた抽出液を、例
えば飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウム等で乾
燥した後、溶媒を留去し、次いで精製して、一般式
（Ｉ）で表される２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導
体を得る。
るジフルオロオレフィンに酸を加え、通常−７８〜４０
℃の温度範囲、好ましくは−１０〜３０℃の温度範囲
で、例えば０．１〜６時間行なわれる。反応操作後、反
応液に、例えば燐酸緩衝液（ｐＨ７）を加えて反応を停
止し、ジクロロメタン、ジエチルエーテル等で反応生成
物を１回以上抽出する。そして、合わせた抽出液を、例
えば飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウム等で乾
燥した後、溶媒を留去し、次いで精製して、一般式
（Ｉ）で表される２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導
体を得る。
【００１３】一般式（Ｉ）で表される２，３−ベンゾシ
クロアルケノン誘導体は、生理活性天然物などの合成の
ための中間体として、更に、医薬、農薬における中間体
として有用である。
クロアルケノン誘導体は、生理活性天然物などの合成の
ための中間体として、更に、医薬、農薬における中間体
として有用である。
【００１４】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
【００１５】実施例１ 窒素置換した３０ｍｌの二口ナスフラスコに、ＨＦＩＰ
２ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 ２３７ｍｇ（０．７５
ｍｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解した
ｌ，１−ジフルオロ−４−フェニル−１−ブテン６２ｍ
ｇ（０．３７ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
２ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 ２３７ｍｇ（０．７５
ｍｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解した
ｌ，１−ジフルオロ−４−フェニル−１−ブテン６２ｍ
ｇ（０．３７ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
【００１６】混合溶液を０℃で１０分間攪拌した後、得
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え，ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出し、合わせた抽出液を
飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）
により、１−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロナ
フタレン（無色の液体）を単離した。収量は４４ｍｇ
（０．３０ｍｍｏｌ）であり、収率は８２％であった。
同定は標品（市販品）との比較により行なった。
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え，ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出し、合わせた抽出液を
飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）
により、１−オキソ−１，２，３，４−テトラヒドロナ
フタレン（無色の液体）を単離した。収量は４４ｍｇ
（０．３０ｍｍｏｌ）であり、収率は８２％であった。
同定は標品（市販品）との比較により行なった。
【００１７】実施例２ 窒素置換した３０ｍｌの二口ナスフラスコに、ＨＦＩＰ
２ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 １８０ｍｇ（０．５７
ｍｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解した
ｌ，１−ジフルオロ−４−フェニル−１−ペンテン５２
ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
２ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 １８０ｍｇ（０．５７
ｍｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解した
ｌ，１−ジフルオロ−４−フェニル−１−ペンテン５２
ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
【００１８】混合溶液を０℃で１０分間攪拌した後、得
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え、ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出した。合わせた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）
により、４−メチル−１−オキソ−１，２，３，４−テ
トラヒドロナフタレン（無色の液体）を単離した。収量
は３８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）であり、収率は８３％
であった。同定デ−タを表１に示す。
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え、ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出した。合わせた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）
により、４−メチル−１−オキソ−１，２，３，４−テ
トラヒドロナフタレン（無色の液体）を単離した。収量
は３８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）であり、収率は８３％
であった。同定デ−タを表１に示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】実施例３ 窒素置換した３０ｍｌの二口ナスフラスコにＨＦＩＰ２
ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 １３８ｍｇ（０．４４ｍ
ｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解したｌ，
１−ジフルオロ−２，４−ジフェニル−１−ブテン４０
ｍｇ（０．１６４ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 １３８ｍｇ（０．４４ｍ
ｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解したｌ，
１−ジフルオロ−２，４−ジフェニル−１−ブテン４０
ｍｇ（０．１６４ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
【００２１】混合溶液を０℃で１０分間攪拌した後、得
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え、ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出した。合わせた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）により、１−オキソ−２−フェニル−１，２，３，
４−テトラヒドロナフタレン（無色の液体）を単離し
た。収量は３２ｍｇ（０．１４２ｍｍｏｌ）であり、収
率は８７％であった。同定デ−タを表２及び表３に示
す。
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え、ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出した。合わせた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）により、１−オキソ−２−フェニル−１，２，３，
４−テトラヒドロナフタレン（無色の液体）を単離し
た。収量は３２ｍｇ（０．１４２ｍｍｏｌ）であり、収
率は８７％であった。同定デ−タを表２及び表３に示
す。
【００２２】
【表２】
【００２３】
【表３】
【００２４】実施例４ 窒素置換した３０ｍｌの二口ナスフラスコに、ＨＦＩＰ
２ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 １６７ｍｇ（０．５３
ｍｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解した
ｌ，１−ジフルオロ−２，４−ジフェニル−１−ぺンテ
ン６６ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
２ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 １６７ｍｇ（０．５３
ｍｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解した
ｌ，１−ジフルオロ−２，４−ジフェニル−１−ぺンテ
ン６６ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
【００２５】混合溶液を０℃で１０分間攪拌した後、得
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え、ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出した。合わせた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）
により、４−メチル−１−オキソ−２−フェニル−１，
２，３，４−テトラヒドロナフタレン（無色の液体）を
単離した。収量は５１ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ、ジアス
テレオマー混合物７７：２３）であり、収率は８５％で
あった。同定デ−タを表４に示す。
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え、ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出した。合わせた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）
により、４−メチル−１−オキソ−２−フェニル−１，
２，３，４−テトラヒドロナフタレン（無色の液体）を
単離した。収量は５１ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ、ジアス
テレオマー混合物７７：２３）であり、収率は８５％で
あった。同定デ−タを表４に示す。
【００２６】
【表４】
【００２７】実施例５ 窒素置換した３０ｍｌの二口ナスフラスコにＨＦＩＰ２
ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 ２７４ｍｇ（０．８７ｍ
ｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解したｌ，
１−ジフルオロ−５−フェニル−１−ぺンテン７８ｍｇ
（０．４３ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
ｍｌ及びＦＳＯ3 Ｈ・ＳｂＦ5 ２７４ｍｇ（０．８７ｍ
ｍｏｌ）を加え、次いでＨＦＩＰ１ｍｌに溶解したｌ，
１−ジフルオロ−５−フェニル−１−ぺンテン７８ｍｇ
（０．４３ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。
【００２８】混合溶液を０℃で１０分間攪拌した後、得
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え、ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出した。合わせた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）により、５−オキソ−６，７，８，９−テトラヒド
ロ−５Ｈ−ベンゾシクロヘプテン（無色の液体）を単離
した。収量は１６ｍｇ（０．１００ｍｍｏｌ）であり、
収率は２３％であった。同定デ−タは標品（市販品）と
の比較により行なった。
られた反応液にリン酸緩衝液（ｐＨ７）を加え、ジクロ
ロメタンで反応生成物を３回抽出した。合わせた抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下で溶媒を留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフイー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）により、５−オキソ−６，７，８，９−テトラヒド
ロ−５Ｈ−ベンゾシクロヘプテン（無色の液体）を単離
した。収量は１６ｍｇ（０．１００ｍｍｏｌ）であり、
収率は２３％であった。同定デ−タは標品（市販品）と
の比較により行なった。
【００２９】
【発明の効果】以上、説明した本発明によれば、医薬、
農薬に於ける中間体として有用な一般式（Ｉ）で表され
る２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導体を高収率で製
造することが出来る。
農薬に於ける中間体として有用な一般式（Ｉ）で表され
る２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導体を高収率で製
造することが出来る。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（ＩＩ）で表されるジフルオロオ
レフィンに酸を反応させることを特徴とする一般式
（Ｉ）で表される２，３−ベンゾシクロアルケノン誘導
体の製造法。 【化１】 （各一般式中、Ｒ1 、Ｒ2 はＨ、アリール基またはアル
キル基、ｎは１、２又は３の整数を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24532195A JPH0967293A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ２，３−ベンゾシクロアルケノンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24532195A JPH0967293A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ２，３−ベンゾシクロアルケノンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0967293A true JPH0967293A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=17131929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24532195A Withdrawn JPH0967293A (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | ２，３−ベンゾシクロアルケノンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0967293A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8148006B2 (en) | 2007-05-22 | 2012-04-03 | Sony Corporation | Electrolytic solution and battery |
-
1995
- 1995-08-30 JP JP24532195A patent/JPH0967293A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8148006B2 (en) | 2007-05-22 | 2012-04-03 | Sony Corporation | Electrolytic solution and battery |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021105 |