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JPH0955096A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH0955096A
JPH0955096A JP7206078A JP20607895A JPH0955096A JP H0955096 A JPH0955096 A JP H0955096A JP 7206078 A JP7206078 A JP 7206078A JP 20607895 A JP20607895 A JP 20607895A JP H0955096 A JPH0955096 A JP H0955096A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sub
chip
circuit
chips
semiconductor memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7206078A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naohiko Sugibayashi
直彦 杉林
Isao Naritake
功夫 成竹
Satoshi Utsuki
智 宇津木
Kitoku Murotani
樹徳 室谷
Kentaro Shibahara
健太郎 芝原
Ryuichi Oikawa
隆一 及川
Hidemitsu Mori
秀光 森
Shoichi Iwao
庄一 巌
Kuniaki Koyama
邦明 小山
Shinichi Fukuzawa
真一 福沢
Toshiro Itani
俊郎 井谷
Kunihiko Kasama
邦彦 笠間
Takashi Okuda
高 奥田
Shuichi Oya
秀市 大屋
Masaki Ogawa
正毅 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP7206078A priority Critical patent/JPH0955096A/en
Publication of JPH0955096A publication Critical patent/JPH0955096A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a semiconductor memory in which adjacent sub-chips of arbitrary numbers can be constituted as one chip. SOLUTION: This device is provided with a first circuit B000 which is provided with a discriminating circuit discriminating whether sub-chips S0-S3 is individually operated or not owing to cutting of a fuse and a second discriminating circuit discriminating positions of the sub-chips S0-S3 in one chip when plural sub-chips are operated. An input signal is transmitted through buffers B1, B2, B3, B4 switched by an output of the first circuit.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特に半導体基板上で隣接する複数のサブチップを1
つのチップとして切り出した半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a plurality of adjacent sub chips on a semiconductor substrate.
The present invention relates to a semiconductor memory device cut out as one chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置たとえばダイナミック・
ランダム・アクセスメモリ(DRAM)は記憶容量が増
大して歩留が低下しつつある。このため複数のサブチッ
プを組み合せて1つのチップとすることにより歩留まり
の向上を図ることが提案されている(例えば、特開平4
−7867号公報)。つまり、ウエハ上での欠陥密度が
製造プロセスで定まり、ほぼ一定である。したがって、
例えば、図12(a)に示すように1GビットDRAM
を1チップで構成した場合、良品数が1であったとして
も、図12(b)に示すように256MビットDRAM
のサブチップの良品数は61と飛躍的に増大する。すな
わち、256MビットのDRAMサブチップを4個組合
せて1チップを構成すると3個の1GビットDRAMの
チップが得られ、歩留が向上する。
2. Description of the Related Art Semiconductor memory devices such as dynamic
Random access memory (DRAM) is increasing in storage capacity and is being reduced in yield. Therefore, it has been proposed to combine a plurality of sub-chips into one chip to improve the yield (for example, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 4).
-7867). That is, the defect density on the wafer is determined by the manufacturing process and is almost constant. Therefore,
For example, as shown in FIG.
If the number of non-defective products is 1, the 256-Mbit DRAM is configured as shown in FIG.
The number of non-defective sub-chips is dramatically increased to 61. That is, if four 256 Mbit DRAM sub chips are combined to form one chip, three 1 Gbit DRAM chips are obtained, and the yield is improved.

【0003】上述したDRAMサブチップを4個組合せ
て1チップ構成とするDRAMサブチップ方式では1つ
のサブチップに入力された信号を全チップに分配する必
要がある(図11参照)。バッファB01,B02,B
03,B04を介して制御信号DQiをチップ中央に一
旦集めて、各サブチップS00,S10,S20,S3
0に再分配する。バッファB01は、クロック周期を採
用しているDRAMの場合、公知技術のラッチ回路で構
成され、バッファB02は公知技術のインバータ2段で
構成され、バッファB03は公知技術のDFFで構成さ
れ制御信号DQiの信号伝搬をクロックサイクル内に納
める。
In the DRAM sub-chip method in which four DRAM sub-chips described above are combined to form one chip, it is necessary to distribute the signal input to one sub-chip to all the chips (see FIG. 11). Buffers B01, B02, B
The control signal DQi is once collected in the center of the chip via 03, B04, and then the sub chips S00, S10, S20, S3 are collected.
Redistribute to 0. In the case of a DRAM adopting a clock cycle, the buffer B01 is composed of a known latch circuit, the buffer B02 is composed of two known inverters, and the buffer B03 is composed of a known DFF and a control signal DQi. Signal propagation within a clock cycle.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、単独で
動作可能なサブチップを接続して、一つのチップとする
サブチップ方式の場合、単独で動作させるための回路
と、上述の複数を接続して動作させるための回路が共存
しチップサイズが大きくなる問題点があった。また、サ
ブチップを単独で動作させる場合と複数で動作させる場
合の制御回路が違うため接続した場合の機能テストを独
立して行う必要があり、大容量メモリのテスト時間が長
くなる問題点もあった。
However, in the case of a sub-chip method in which a sub-chip capable of operating independently is connected to form one chip, a circuit for operating independently and the above-mentioned plurality of circuits are connected to operate. However, there is a problem in that the chip size becomes large due to the coexistence of circuits. In addition, since the control circuits when operating the sub-chips independently and when operating the sub-chips are different, it is necessary to independently perform a functional test when connected, which causes a problem that the test time of the large-capacity memory becomes long. .

【0005】したがって、本発明の目的は、任意の数の
隣接するサブチップにより1つのチップを構成し得る半
導体記憶装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which one chip can be constituted by an arbitrary number of adjacent sub chips.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、単独で半導体記憶装置として動作可能であるサブチ
ップの複数個を配列してなる半導体基板上の隣接する前
記サブチップの複数個で1つのチップとする半導体記憶
装置において、前記サブチップが前記サブチップを単独
または複数個で動作させるかを判定する第1の判定回路
と前記サブチップを複数個で動作させる際には前記サブ
チップの前記チップ内の位置を判定する第2の判定回路
とを具備する第1の回路を備える構成である。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device, wherein a plurality of sub-chips, each of which is capable of operating as a semiconductor memory device independently, are arranged on the semiconductor substrate. In a semiconductor memory device as a chip, a first determination circuit for determining whether the sub-chip operates the sub-chip alone or in plural, and a position of the sub-chip in the chip when operating the sub-chip in plural. It is a configuration including a first circuit including a second determination circuit for determining.

【0007】また、本発明半導体記憶装置の前記サブチ
ップが一の入力には入力ピンからの信号を受け他の入力
には隣接サブチップからの信号をDFFで受けてバッフ
ァリングし前記第1の回路の出力により切り換えるスイ
ッチを有する第2の回路を備える構成とすることもでき
る。
Further, the sub-chip of the semiconductor memory device of the present invention receives the signal from the input pin at one input and receives the signal from the adjacent sub-chip at the other input by the DFF and buffers the signal. It is also possible to employ a configuration including a second circuit having a switch that switches depending on the output.

【0008】さらに、本発明の半導体記憶装置の前記チ
ップが前記サブチップの四角に配置され前記チップのほ
ぼ中央に位置する回路のみが入力信号のバッファとして
前記第1の回路の出力により活性化される第3の回路を
備える構成とすることもできる。
Further, in the semiconductor memory device of the present invention, the chip is arranged in a square of the sub chip, and only the circuit located substantially in the center of the chip is activated by the output of the first circuit as a buffer of an input signal. It is also possible to adopt a configuration including a third circuit.

【0009】さらにまた、本発明の半導体記憶装置は、
前記チップの中央に配置される前記第3の回路以外の前
記第3の回路が前記第1の回路の出力によりハイインピ
ーダンス状態になる構成とすることもできる。
Furthermore, the semiconductor memory device of the present invention is
The third circuit other than the third circuit arranged in the center of the chip may be in a high impedance state by the output of the first circuit.

【0010】また、本発明の半導体記憶装置の前記サブ
チップが前記第1の出力を受けて切り換わるスイッチを
有しその出力を前記第2の回路の前記他の入力に出力す
る第4の回路を備える構成とすることもできる。
The semiconductor chip of the present invention may further include a fourth circuit in which the sub chip has a switch for receiving and switching the first output, and outputting the output to the other input of the second circuit. It can also be configured to be provided.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図1は本発明に係る半導体記憶装
置の第1の実施の形態を示す平面図である。この実施の
形態の半導体記憶装置は4つのサブチップS0,S1,
S2,S3により1つのチップを構成し、各サブチップ
S0,S1,S2,S3は256MビットDRAMの機
能を有し、組合せて1GビットDRAMを構成する。
1 is a plan view showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. The semiconductor memory device of this embodiment has four sub chips S0, S1,
One chip is composed of S2 and S3, and each of the sub chips S0, S1, S2 and S3 has the function of a 256 Mbit DRAM, and they are combined to form a 1 Gbit DRAM.

【0012】各サブチップには、図示しないが電源パッ
ド、接地パッドが設けられており、サブチップS0,S
1,S2,S3にそれぞれ電源が供給される。サブチッ
プS0は、単独で動作させるか複数で動作させるかを判
定する第1の判定回路と複数で動作させた場合サブチッ
プS0が1チップのどの位置に配置されるかを判定する
第2の判定回路とを有する第1の回路B000を備え
る。同様にサブチップS1は第1の回路B001を備
え、サブチップS2は第1の回路B002を、サブチッ
プS3は第1の回路B003を備える。
Although not shown, each sub chip is provided with a power supply pad and a ground pad, and the sub chips S0, S
Power is supplied to 1, S2 and S3, respectively. The sub-chip S0 includes a first determination circuit that determines whether to operate independently or a plurality of sub-chips S0, and a second determination circuit that determines where in one chip the sub-chip S0 is arranged when operated in plurality. And a first circuit B000 having Similarly, the sub chip S1 includes a first circuit B001, the sub chip S2 includes a first circuit B002, and the sub chip S3 includes a first circuit B003.

【0013】さらに、サブチップS0は外部入力信号D
Qiを受けるバッファB1とバッファB1の出力を内部
信号A1を介して受けるバッファB2とバッファB2の
出力を内部信号A2を介して受けるバッファB3とを備
える。また、残りのサブチップS1,S2およびS3の
それぞれはバッファB3の出力を内部信号A3を介して
受けるバッファB4をそれぞれ備え、さらにこれらバッ
ファB4の出力を受けるバッファB1′をそれぞれ備え
る。
Further, the sub chip S0 has an external input signal D
A buffer B1 receiving Qi, a buffer B2 receiving the output of the buffer B1 via the internal signal A1, and a buffer B3 receiving the output of the buffer B2 via the internal signal A2 are provided. Each of the remaining sub-chips S1, S2 and S3 includes a buffer B4 that receives the output of buffer B3 via internal signal A3, and a buffer B1 'that receives the outputs of these buffers B4.

【0014】次に、図2を参照して第1の回路B0の詳
細について説明する。この第1の回路B0はNチャネル
MOSトランジスタNM0とヒューズF0とを直列接続
しトランジスタNM0のドレイン端子を入力に接続する
インバータIV0とで構成されサブチップ(S0〜S
3)が単独で動作するか否かを出力MCで判定する第1
の判定回路を有する。さらに、この第1の回路B0はサ
ブチップ(S0〜S3)が複数個で1チップを構成する
際の第2の判定回路を有し、この第2の判定回路はNチ
ャネルMOSトランジスタNM1とヒューズF1とを直
列接続しトランジスタNM1のドレイン端子をその入力
に接続し出力MI1とするインバータIV2とで構成さ
れる第2の判定回路を有する。
Next, details of the first circuit B0 will be described with reference to FIG. The first circuit B0 is composed of an N-channel MOS transistor NM0 and a fuse F0 connected in series, and an inverter IV0 connecting the drain terminal of the transistor NM0 to an input, which is a sub chip (S0 to S0).
3) The first to judge whether the output MC operates independently.
It has a judgment circuit. Further, the first circuit B0 has a second judgment circuit when a plurality of sub-chips (S0 to S3) form one chip, and the second judgment circuit has an N-channel MOS transistor NM1 and a fuse F1. And the inverter IV2 which is connected in series and whose drain terminal of the transistor NM1 is connected to its input to serve as the output MI1.

【0015】サブチップ(S0〜S3)が備える第1の
回路B000,B001,B002,B003はサブチ
ップ(S0〜S3)が1GビットのDRAMの配置され
る位置に応じて出力信号(MC,MI0,MI1)は次
のごとくハイレベル(H)、ローレベル(L)となる。
The first circuits B000, B001, B002 and B003 provided in the sub chips (S0 to S3) output signals (MC, MI0, MI1) according to the positions where the sub chips (S0 to S3) are arranged with 1 Gbit DRAM. ) Becomes high level (H) and low level (L) as follows.

【0016】[0016]

【表1】 [Table 1]

【0017】すなわち、各サブチップ(S0〜S3)を
単独で動作させる場合、出力信号MCを作るヒューズF
0を切断しない。したがって出力信号MCはLになる。
サブチップ(S0〜S3)を接続させ1GビットのDR
AMとして動作させる場合、出力信号MC,MI0,M
I1に対応するヒューズF0,F1,F2を上述の表1
となるよう切断する。
That is, when each sub-chip (S0 to S3) is operated independently, the fuse F that produces the output signal MC
Do not cut 0. Therefore, the output signal MC becomes L.
1G-bit DR by connecting sub chips (S0 to S3)
When operating as AM, output signals MC, MI0, M
The fuses F0, F1 and F2 corresponding to I1 are shown in Table 1 above.
Cut so that

【0018】次に、サブチップS0のバッファB1およ
びサブチップ(S1〜S3)のバッファB1′のそれぞ
れについて図3を参照して説明する。このバッファB
1、B1′は、外部入力信号DQiを受けクロック信号
CLKで動作するラッチ回路30と、信号A4を受けク
ロック信号CLKで動作するDFF31と、サブチップ
の1GビットDRAM構成を判定する信号MI0,MI
1の反転信号およびサブチップの単独動作を判定する信
号MCのそれぞれを受けるNAND回路29と、トラン
ジスタ34およびトランジスタ35で構成されるトラン
スファーゲートならびにトランジスタ36およびトラン
ジスタ37で構成されるトランスファーゲートから成り
信号MCによりラッチ回路30の出力信号またはDFF
31の出力信号を切り換えるスイッチ回路とを備え、出
力信号A1および出力信号A5を出力する。
Next, each of the buffer B1 of the sub chip S0 and the buffer B1 'of the sub chips (S1 to S3) will be described with reference to FIG. This buffer B
Reference numerals 1 and B1 'are a latch circuit 30 which receives an external input signal DQi and operates with a clock signal CLK, a DFF 31 which receives a signal A4 and operates with a clock signal CLK, and signals MI0 and MI for determining a 1-Gbit DRAM configuration of a sub chip.
A signal MC including a NAND circuit 29 that receives an inverted signal of 1 and a signal MC that determines a single operation of the sub chip, a transfer gate composed of a transistor 34 and a transistor 35, and a transfer gate composed of a transistor 36 and a transistor 37. Output signal of the latch circuit 30 or DFF
And a switch circuit for switching the output signal of 31 to output the output signal A1 and the output signal A5.

【0019】サブチップS0のバッファB2は、信号A
1の波形整形をする公知技術のインバータ41を備える
(図4参照)。
The buffer B2 of the sub chip S0 is connected to the signal A
An inverter 41 of a known technique for shaping the waveform 1 is provided (see FIG. 4).

【0020】次に、図4および図5のそれぞれを参照し
てサブチップ(S0〜S3)のバッファB3について説
明する。図4を参照すると、バッファB3は、トランジ
スタ47およびトランジスタ48で構成されバッファB
2の出力信号A2を受け出力信号A3を出力するインバ
ータと、トランジスタ46およびトランジスタ49によ
り構成されサブチップ選択信号(MC,MI0,MI
1)により信号A2を出力信号A3として出力するまた
は出力A3をハイインピーダンス状態とするスイッチと
を備える。また、図5を参照すると、このバッファB3
はサブチップ51の四角の角に配置される。
Next, the buffer B3 of the sub chips (S0 to S3) will be described with reference to FIGS. 4 and 5, respectively. Referring to FIG. 4, the buffer B3 includes a transistor 47 and a transistor 48.
2 outputs the output signal A2 and outputs the output signal A3, and the sub-chip selection signals (MC, MI0, MI
According to 1), the switch outputs the signal A2 as the output signal A3 or puts the output A3 in a high impedance state. Further, referring to FIG. 5, this buffer B3
Are arranged at the corners of the sub chip 51.

【0021】サブチップ(S0〜S3)を単品としてつ
まり256MビットのDRAMとして用いるときは、サ
ブチップ間を接続する信号線(A3,A3′)がウエハ
切断面に短絡することになり、故障の原因になる。
When the sub chips (S0 to S3) are used individually, that is, as a 256 Mbit DRAM, the signal lines (A3, A3 ') connecting the sub chips are short-circuited to the wafer cut surface, which may cause a failure. Become.

【0022】このバッファB3はサブチップ(S0〜S
3)が単独で動作する場合、各サブチップ(S0〜S
3)の四角に配置されたバッファB3のすべては信号M
Cがロウレベルであるので、出力信号A3はハイインピ
ーダンスとなり、信号A3をウエハ切断面から分離する
ことができる。
The buffer B3 is a sub chip (S0 to S).
3) operates independently, each sub chip (S0 to S)
3) All of the buffers B3 arranged in the square are signal M
Since C is at a low level, the output signal A3 becomes high impedance, and the signal A3 can be separated from the wafer cut surface.

【0023】サブチップ(S0〜S3)を1Gビットの
DRAMとして用いるときは、1チップとしてのDRA
Mのほぼ中央の位置に対応するバッファB3が選択的に
活性化される。
When the sub chips (S0 to S3) are used as a 1 Gbit DRAM, the DRA as one chip
The buffer B3 corresponding to the position approximately in the center of M is selectively activated.

【0024】次に、再度図3を参照してバッファB4に
ついて説明すると、バッファB4は、1チップのDRA
Mの平面配置のほぼ中央に配置されたバッファB3の出
力(A3,A3′)を受けてサブチップ(S0〜S3)
の1GDRAMの対応するサブチップ選択信号(MC,
MI0,MI1)により信号A3または信号A3′を選
択するNAND22,23およびOR−NAND24と
から構成されるセレクタと、この選択された信号をクロ
ック信号CLKで動作させるDFF25とを備える。
Next, referring again to FIG. 3, the buffer B4 will be described. The buffer B4 is a one-chip DRA.
The sub chips (S0 to S3) receive the outputs (A3, A3 ') of the buffer B3 arranged almost in the center of the M plane arrangement.
Corresponding sub-chip selection signal (MC,
A selector including NANDs 22 and 23 and an OR-NAND 24 for selecting the signal A3 or the signal A3 'by MI0, MI1), and a DFF 25 for operating the selected signal with the clock signal CLK.

【0025】このことにより、各サブチップ(S0〜S
3)に伝搬されるアドレス信号A5のスキューを実質的
に無くすることができる。
As a result, each sub chip (S0 to S
The skew of the address signal A5 propagated in 3) can be substantially eliminated.

【0026】本発明の第1の実施形態の半導体記憶装置
のウエハ製造工程におけるウエハ試験と実施する際、第
1の回路の第1の判定回路の出力MCはヒューズF0を
接続したままつまりサブチップを単独動作させることが
できるのでウエハ上のサブチップのすべてを電気試験が
可能となる。
When performing the wafer test and the wafer test in the wafer manufacturing process of the semiconductor memory device of the first embodiment of the present invention, the output MC of the first determination circuit of the first circuit remains the fuse F0 connected, that is, the sub-chip. Since it can be operated independently, all the sub chips on the wafer can be electrically tested.

【0027】ウエハ試験工程においては、まず、ウエハ
上のサブチップの良否を判定し、次に、サブチップが図
12(b)に示すように4コ分良品の箇所はそれぞれ対
応するサブチップの第1の回路のヒューズを切断して1
GDRAMチップとして良否を判定する。また、4コ連
続しない箇所は256MDRAMチップとして4コ連続
箇所は1GDRAMチップとしてウエハ切断して取り出
し、パッケージングの後工程処理を行う。
In the wafer test process, first, the quality of the sub-chip on the wafer is judged, and then, as shown in FIG. 12B, the sub-chips are good parts corresponding to the four sub-chips. Cut the fuse in the circuit 1
The quality of the GDRAM chip is judged. In addition, a portion not continuous with four is a 256M DRAM chip and a portion continuous with four is a 1G DRAM chip.

【0028】次に、本発明の半導体記憶装置の第2の実
施の形態について説明する。図6を参照すると、この実
施の形態の半導体記憶装置は、第1の実施形態の半導体
記憶装置のバッファB1およびB1′をバッファB10
1に置き換える以外は他の構成要素は第1の実施形態と
同一である。さらにバッファB101は外部入力DQi
から信号A1の間にクロック信号CLKで動作するDF
F61,62が追加される以外はバッファB1と同じ構
成要素を有し、同一構成要素には同一参照符号を付して
ある。すなわち、ラッチ回路30の出力信号をクロック
信号CLKで同期を取り、DFF61,62に取り組
む。
Next, a second embodiment of the semiconductor memory device of the present invention will be described. Referring to FIG. 6, in the semiconductor memory device of this embodiment, the buffers B1 and B1 ′ of the semiconductor memory device of the first embodiment are replaced by buffer B10.
Other components are the same as those in the first embodiment except that the components are replaced with 1. Further, the buffer B101 is an external input DQi.
From the signal A1 to the DF operating with the clock signal CLK
It has the same components as the buffer B1 except that F61 and F62 are added, and the same components are designated by the same reference numerals. That is, the output signal of the latch circuit 30 is synchronized with the clock signal CLK to work on the DFFs 61 and 62.

【0029】これにより、サブチップ(S0〜S3)を
単独で動作させた場合と1GDRAMとして動作させた
場合とのクロックレイテンシを揃えることができる。
As a result, the clock latencies can be made uniform when the sub chips (S0 to S3) are operated independently and when they are operated as a 1G DRAM.

【0030】なお、上述の説明でラッチ回路としては図
7に示す公知技術を用い、DFFとしては図8に示す公
知技術を用いてもよい。
In the above description, the known technique shown in FIG. 7 may be used as the latch circuit and the known technique shown in FIG. 8 may be used as the DFF.

【0031】次に、本発明記憶装置の第3の実施の形態
について説明する。図9はこの第3の実施の形態を示す
平面図である。この実施形態の半導体記憶装置は8個の
サブチップ(S0〜S8)により1チップを構成し、各
サブチップ(S0〜S8)は256MビットDRAMの
機能を有し、組合せて2GビットDRAMを構成する。
Next, a third embodiment of the storage device of the present invention will be described. FIG. 9 is a plan view showing this third embodiment. In the semiconductor memory device of this embodiment, one chip is composed of eight sub-chips (S0 to S8), and each sub-chip (S0 to S8) has the function of a 256 Mbit DRAM and is combined to form a 2 Gbit DRAM.

【0032】各サブチップには、図示しないが電源パッ
ド、接地パッドが設けられており、サブチップ(S0〜
S8)にそれぞれ電源が供給される。
Although not shown, each sub chip is provided with a power supply pad and a ground pad.
Power is supplied to each of S8).

【0033】サブチップS0は単独で動作させるか複数
で動作させるかを判定する第1の判定回路と複数で動作
させた場合サブチップS0が1チップとしての2Gビッ
トDRAMのどの位置に配置されるかを判定する第2の
判定回路とを有する第1の回路B000を備える。
A first determination circuit for determining whether the sub-chip S0 is operated alone or a plurality of sub-chips is operated, and when operated by a plurality of sub-chips S0, it is determined at which position of the 2 G-bit DRAM as one chip the sub-chip S0 is arranged. A first circuit B000 having a second judging circuit for judging is provided.

【0034】以下同様に、サブチップS1,S2,S
3,S4,S5,S6,S7のそれぞれは対応する第1
の回路B001,B002,B003,B004,B0
05,B006,B007を備える。
Similarly, the sub chips S1, S2, S
Each of S3, S4, S5, S6 and S7 corresponds to the first
Circuit B001, B002, B003, B004, B0
05, B006, B007.

【0035】さらに、図10を参照すると、上述した第
1の回路(B000〜B007)は、第1の実施形態の
半導体記憶装置の第1の回路の第2の判定回路に直列接
続されたNチャネルMOSトランジスタNM3とヒュー
ズF3を追加し、トランジスタNM3のドレイン端子を
入力に接続し出力MI3とヒューズF3を追加し、トラ
ンジスタNM3のドレイン端子を入力に接続し出力MI
3とするインバータIV3を追加して第2の判定を構成
する以外は第1の実施形態の第1の回路と同じ構成でそ
の構成要素には同一参照符号を付して図示してある。
Further, referring to FIG. 10, the above-mentioned first circuit (B000 to B007) is connected in series with the second determination circuit of the first circuit of the semiconductor memory device of the first embodiment. A channel MOS transistor NM3 and a fuse F3 are added, a drain terminal of the transistor NM3 is connected to an input, an output MI3 and a fuse F3 are added, and a drain terminal of the transistor NM3 is connected to an input to output MI.
3 has the same configuration as that of the first circuit of the first embodiment except that an inverter IV3 of 3 is added to configure the second determination, and the same reference numerals are allotted to the constituent elements.

【0036】また、図示してないが、サブチップ(S0
〜S8)のそれぞれは第1の実施の形態の半導体記憶装
置のバッファB1,B2,B3,B4と同一構成のバッ
ファおよび信号A1,A2,A3,A4と同一の信号の
それぞれを有している。
Although not shown, the sub chip (S0
S8) to S8) each have a buffer having the same configuration as the buffers B1, B2, B3, B4 of the semiconductor memory device of the first embodiment and signals having the same signals as A1, A2, A3, A4. .

【0037】これら各サブチップ(S0〜S8)を単独
で動作させる場合、出力信号MCを作るヒューズF0を
切断せず、出力信号MCにLを出力するのは第1の実施
形態と同様である。サブチップ(S0〜S8)を2Gビ
ットのDRAMとして動作させる場合、出力信号MC,
MI0,MI1,MI2に対応するヒューズF0,F
1,F2,F3を切断して8個のサブチップに応ずる出
力信号MC,MI0,MI1,MI2を得る。
When each of these sub chips (S0 to S8) is operated independently, the fuse F0 for producing the output signal MC is not cut and L is output to the output signal MC, as in the first embodiment. When operating the sub chips (S0 to S8) as a 2 Gbit DRAM, output signals MC,
Fuses F0, F corresponding to MI0, MI1, MI2
1, F2 and F3 are cut to obtain output signals MC, MI0, MI1 and MI2 corresponding to eight sub chips.

【0038】なお、上述の実施の形態の説明において
は、隣接する4つもしくは8つのサブチップとしている
が、他の数のサブチップを1つのチップとすることもで
きる。この場合各サブチップにおけるバッファ(B1,
B2,B3,B4)および信号(A1,A2,A3,A
4,A5)の構成は同一であるが、第1の回路の第2の
判定回路の回路構成が異る。
In the above description of the embodiment, four or eight adjacent sub-chips are used, but other numbers of sub-chips may be one chip. In this case, the buffer (B1,
B2, B3, B4) and signals (A1, A2, A3, A
4, A5) are the same, but the circuit configuration of the second determination circuit of the first circuit is different.

【0039】また、本発明はDRAM以外に、スタティ
ックRAM、あるいは他の半導体記憶装置にも適用し得
る。
Further, the present invention can be applied to a static RAM or other semiconductor memory device in addition to the DRAM.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、サ
ブチップを単独で動作させるか否かを判定する第1の判
定回路と複数個接続して1チップの構成とする場合のサ
ブチップの位置に応じて判定する第2の判定回路とを具
備する第1の回路を備えるので、回路の共存が可能とな
り、集積度を向上できる。また、サブチップを単独で機
能テストが行えるのでテスト時間を短縮できる。
As described above, according to the present invention, the position of a sub-chip in the case where a plurality of first decision circuits for deciding whether or not to operate the sub-chip independently are connected to form a single chip. Since the first circuit that includes the second determination circuit that determines according to the above is provided, the circuits can coexist and the degree of integration can be improved. In addition, since the functional test can be performed on each sub-chip independently, the test time can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る半導体記憶装置の第1の実施の形
態を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】図1の第1の回路の回路構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a circuit configuration of a first circuit of FIG.

【図3】図1のバッファB1およびバッファB4の回路
構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of a buffer B1 and a buffer B4 of FIG.

【図4】図1のバッファB3の回路構成を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a circuit configuration of a buffer B3 of FIG.

【図5】図1のサブチップの構成を示す平面図である。5 is a plan view showing the configuration of the sub chip of FIG. 1. FIG.

【図6】本発明に係る半導体記憶装置の第2の実施の形
態のバッファB101およびバッファB4の回路構成を
示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a circuit configuration of a buffer B101 and a buffer B4 of a second embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図7】ラッチ回路例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a latch circuit.

【図8】DFF例を示す回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of DFF.

【図9】本発明に係る半導体記憶装置の第3の実施の形
態を示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing a third embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図10】図9の第1の回路の回路構成を示す図であ
る。
10 is a diagram showing a circuit configuration of a first circuit of FIG.

【図11】従来技術の半導体記憶装置を示す平面図であ
る。
FIG. 11 is a plan view showing a conventional semiconductor memory device.

【図12】サブチップによる1チップ構成の半導体記憶
装置のウエハ上の概念図である。
FIG. 12 is a conceptual diagram on a wafer of a semiconductor memory device having a one-chip configuration with sub chips.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21,26,27,28,33,41,43,45,7
1,76,77,81,86,87,91,96,9
7,IV0,IV1,IV2,IV3 インバータ 22,23,29,32,44,63 NAND 24 OR−NAND 25,31,61,62 DFF 31 ラッチ 34,35,36,37,46,47,48,49,7
2,73,74,75,82,83,84,85,9
2,93,94,95,NM0,NM1,NM2,NM
3 MOSトランジスタ 51,S0,S1,S2,S3,S4,S5,S6,S
7,S00,S01,S02,S03 サブチップ A1〜A5,A01〜A04,A3′ 内部信号 B1〜B4,B01〜B04,B1′ バッファ B000〜B007 第1の回路 DQi 外部入力信号 MC サブチップ接続信号 MI0,MI1,MI2 サブチップ位置信号 F0,F1,F2,F3 ヒューズ
21, 26, 27, 28, 33, 41, 43, 45, 7
1, 76, 77, 81, 86, 87, 91, 96, 9
7, IV0, IV1, IV2, IV3 inverters 22, 23, 29, 32, 44, 63 NAND 24 OR-NAND 25, 31, 61, 62 DFF 31 latches 34, 35, 36, 37, 46, 47, 48, 49,7
2,73,74,75,82,83,84,85,9
2, 93, 94, 95, NM0, NM1, NM2, NM
3 MOS transistors 51, S0, S1, S2, S3, S4, S5, S6, S
7, S00, S01, S02, S03 Sub chips A1 to A5, A01 to A04, A3 'Internal signals B1 to B4, B01 to B04, B1' Buffer B000 to B007 First circuit DQi External input signal MC sub chip connection signal MI0, MI1, MI2 Sub-chip position signal F0, F1, F2, F3 Fuse

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 室谷 樹徳 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 芝原 健太郎 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 及川 隆一 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 森 秀光 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 巌 庄一 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 小山 邦明 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 福沢 真一 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 井谷 俊郎 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 笠間 邦彦 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 奥田 高 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 大屋 秀市 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 小川 正毅 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Jutenori Muroya 5-7-1, Shiba, Minato-ku, Tokyo Inside NEC Corporation (72) Inventor Kentaro Shibahara 5-7-1, Shiba, Minato-ku, Tokyo Inside NEC Corporation (72) Inventor Ryuichi Oikawa 5-7-1, Shiba, Minato-ku, Tokyo Inside NEC Corporation (72) Hidemitsu Mori 5-7-1, Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Stock company (72) Inventor Shoichi Gan 5-7 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation Stock company (72) Inventor Kuniaki Koyama 5-7 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation In-house (72) Inventor Shinichi Fukuzawa 5-7-1, Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation In-house (72) Inventor Toshiro Itani 5-7 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation (72) Inventor Kunihiko Kasama Tokyo 5-7-1, Shiba, Minato-ku, Nippon Electric Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Okuda, 5-7-1, Shiba, Minato-ku, Tokyo (72), Inventor, Hideshi Oya, Tokyo 5-7-1, Shiba Ward, NEC Corporation (72) Inventor Masaki Ogawa 5-7-1, Shiba, Minato-ku, Tokyo Within NEC Corporation

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 単独で半導体記憶装置として動作可能で
あるサブチップの複数個を配列してなる半導体基板上の
隣接する前記サブチップの複数個で1つのチップとする
半導体記憶装置において、 前記サブチップが前記サブチップを単独または複数個で
動作させるかを判定する第1の判定回路と前記サブチッ
プを複数個で動作させる際には前記サブチップの前記チ
ップ内の位置を判定する第2の判定回路とを具備する第
1の回路を備えることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device in which a plurality of subchips adjacent to each other on a semiconductor substrate in which a plurality of subchips capable of operating independently as a semiconductor memory device are arranged into one chip, wherein the subchips are A first determination circuit for determining whether to operate a single sub-chip or a plurality of sub-chips, and a second determination circuit for determining the position of the sub-chip within the chip when operating the plurality of sub-chips. A semiconductor memory device comprising a first circuit.
【請求項2】 前記サブチップが一の入力には入力ピン
からの信号を受け他の入力には隣接サブチップからの信
号をDFFで受けてバッファリングし前記第1の回路の
出力により切り換えるスイッチを有する第2の回路を備
えることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The sub-chip has a switch that receives a signal from an input pin at one input, receives a signal from an adjacent sub-chip at the other input by a DFF, buffers the signal, and switches the output by the output of the first circuit. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a second circuit.
【請求項3】 前記チップが前記サブチップの四角に配
置され前記チップのほぼ中央に位置する回路のみが入力
信号のバッファとして前記第1の回路の出力により活性
化される第3の回路を備えることを特徴とする請求項1
または2記載の半導体記憶装置。
3. A third circuit, wherein the chip is arranged in a square of the sub chip, and only a circuit located substantially in the center of the chip is provided with a third circuit activated as an input signal buffer by the output of the first circuit. Claim 1 characterized by the above-mentioned.
Alternatively, the semiconductor memory device according to item 2.
【請求項4】 前記チップの中央に配置される前記第3
の回路以外の前記第3の回路が前記第1の回路の出力に
よりハイインピーダンス状態になる請求項3記載の半導
体記憶装置。
4. The third device arranged in the center of the chip.
4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the third circuit other than the circuit of 1 is brought into a high impedance state by the output of the first circuit.
【請求項5】 前記サブチップが前記第1の出力を受け
て切り換わるスイッチを有しその出力を前記第2の回路
の前記他の入力に出力する第4の回路を備える請求項3
または4記載の半導体記憶装置。
5. The sub-chip comprises a fourth circuit having a switch for receiving and switching the first output, and outputting the output to the other input of the second circuit.
Alternatively, the semiconductor memory device according to item 4.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6658639B2 (en) 2000-08-22 2003-12-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit provided with determination circuit

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07202003A (en) * 1993-12-30 1995-08-04 Nec Corp Semiconductor device

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