JPH09326356A - 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置 - Google Patents
露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置Info
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- JPH09326356A JPH09326356A JP8165124A JP16512496A JPH09326356A JP H09326356 A JPH09326356 A JP H09326356A JP 8165124 A JP8165124 A JP 8165124A JP 16512496 A JP16512496 A JP 16512496A JP H09326356 A JPH09326356 A JP H09326356A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 原版ステージの移動に伴う定盤の変形、投影
光学系や原版と基板間の位置測定精度を改善する。基板
の移動を簡単な構成で高精度にする。 【解決手段】 投影光学系２と原版ステージ１を第２定
盤９上に配置し、３点に配置したダンパ１１および支柱
１２を介して第２定盤を支持し、３点が構成する三角形
の重心と投影光学系の重心とを一致させる。この三角形
を二等辺三角形とし、第２定盤上において、三角形の二
等辺が交わる点と重心とを結ぶ直線に平行に走査させ
る。基板ステージを支持する第１定盤７と第２定盤間の
距離を測定する場合に、第１定盤上の測定点を、第１定
盤の３つの支持点による三角形の各頂点とそれに隣接す
る辺の中点とを通る直線上とする。また、基板ステージ
を、走査方向に移動する第１ステージ３ｂと、その上の
走査方向に直角に移動する第２ステージ３ａとで構成す
る。
光学系や原版と基板間の位置測定精度を改善する。基板
の移動を簡単な構成で高精度にする。 【解決手段】 投影光学系２と原版ステージ１を第２定
盤９上に配置し、３点に配置したダンパ１１および支柱
１２を介して第２定盤を支持し、３点が構成する三角形
の重心と投影光学系の重心とを一致させる。この三角形
を二等辺三角形とし、第２定盤上において、三角形の二
等辺が交わる点と重心とを結ぶ直線に平行に走査させ
る。基板ステージを支持する第１定盤７と第２定盤間の
距離を測定する場合に、第１定盤上の測定点を、第１定
盤の３つの支持点による三角形の各頂点とそれに隣接す
る辺の中点とを通る直線上とする。また、基板ステージ
を、走査方向に移動する第１ステージ３ｂと、その上の
走査方向に直角に移動する第２ステージ３ａとで構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、設計パターンを基
板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造する
ために用いられる露光装置およびそれを用い得るデバイ
ス製造方法に関する。
板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造する
ために用いられる露光装置およびそれを用い得るデバイ
ス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、このような露光装置としては、ウ
エハ等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の
露光領域に原版のパターンを投影光学系を介して順次露
光するステッパや、投影光学系に対し相対的にマスク等
の原版と基板とを同期走査させて原版のパターンを基板
上に露光する走査型の露光装置等が知られている。
エハ等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の
露光領域に原版のパターンを投影光学系を介して順次露
光するステッパや、投影光学系に対し相対的にマスク等
の原版と基板とを同期走査させて原版のパターンを基板
上に露光する走査型の露光装置等が知られている。
【０００３】また、近年、より高精度で微細なパターン
の露光が行えるように、前記ステップ移動と走査露光と
を繰り返すことにより、基板上の複数の領域に高精度で
微細なパターンの露光を行う、ステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置が提案されている。この露光装置で
は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に
近い部分のみを使用しているため、より高精度且つ広画
角な微細パターンの露光が可能となっている。
の露光が行えるように、前記ステップ移動と走査露光と
を繰り返すことにより、基板上の複数の領域に高精度で
微細なパターンの露光を行う、ステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置が提案されている。この露光装置で
は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に
近い部分のみを使用しているため、より高精度且つ広画
角な微細パターンの露光が可能となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなステップ・アンド・スキャン型の露光装置等の高精
細な露光を目的とする露光装置において、投影光学系の
性能を十分に引き出し、真に露光精度を向上させるため
には、さらに、原版と基板間の位置的整合性を向上させ
る必要がある。
うなステップ・アンド・スキャン型の露光装置等の高精
細な露光を目的とする露光装置において、投影光学系の
性能を十分に引き出し、真に露光精度を向上させるため
には、さらに、原版と基板間の位置的整合性を向上させ
る必要がある。
【０００５】そこで本発明の目的は、露光装置およびこ
れを用い得るデバイス製造方法において、原版と基板間
の位置的整合性の向上を図るための新たな技術を提供す
ることにある。
れを用い得るデバイス製造方法において、原版と基板間
の位置的整合性の向上を図るための新たな技術を提供す
ることにある。
【０００６】具体的には、本発明の目的は、第１に、投
影光学系、原版、基板等の支持方法や基板の走査方向と
の兼ね合いを見直し、走査露光時の基板ステージの移動
に伴う支持手段の変形を極力排除することにある。第２
に、このような支持手段の変形による投影光学系や原版
と基板との間の位置関係の測定精度の劣化を極力排除
し、かかる位置関係の制御をより高精度で行なえるよう
にすることにある。第３に、基板ステージの移動に伴う
発熱の量を減少させ、温度の安定化を図ることにより温
度の不均一や変動による露光精度の劣化を排除すること
にある。第４に、より簡単な構成により走査露光時の基
板の走査方向への移動をより高精度に行なえるようにす
ることにある。
影光学系、原版、基板等の支持方法や基板の走査方向と
の兼ね合いを見直し、走査露光時の基板ステージの移動
に伴う支持手段の変形を極力排除することにある。第２
に、このような支持手段の変形による投影光学系や原版
と基板との間の位置関係の測定精度の劣化を極力排除
し、かかる位置関係の制御をより高精度で行なえるよう
にすることにある。第３に、基板ステージの移動に伴う
発熱の量を減少させ、温度の安定化を図ることにより温
度の不均一や変動による露光精度の劣化を排除すること
にある。第４に、より簡単な構成により走査露光時の基
板の走査方向への移動をより高精度に行なえるようにす
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記第１の目的を達成す
るための本発明の露光装置は、原版のパターンの一部を
投影光学系を介して基板に投影し、投影光学系に対し相
対的に前記原版と基板を共に走査することにより前記原
版のパターンを前記基板に露光する走査型の露光装置で
あって、前記原版を保持する原版ステージと、前記投影
光学系および前記原版ステージを設けた定盤と、この定
盤を３点に配置したダンパおよび支柱を介して支持する
支持手段とを備え、前記３点が構成する三角形の重心と
前記投影光学系の重心とが一致することを特徴とする。
あるいは、さらに前記原版ステージを前記定盤上で前記
走査のために走査方向に移動させる駆動手段を備え、前
記３点は２等辺三角形を構成しており、その２等辺が交
わる点と重心とを結ぶ直線に対して前記走査方向は平行
であることを特徴とする。
るための本発明の露光装置は、原版のパターンの一部を
投影光学系を介して基板に投影し、投影光学系に対し相
対的に前記原版と基板を共に走査することにより前記原
版のパターンを前記基板に露光する走査型の露光装置で
あって、前記原版を保持する原版ステージと、前記投影
光学系および前記原版ステージを設けた定盤と、この定
盤を３点に配置したダンパおよび支柱を介して支持する
支持手段とを備え、前記３点が構成する三角形の重心と
前記投影光学系の重心とが一致することを特徴とする。
あるいは、さらに前記原版ステージを前記定盤上で前記
走査のために走査方向に移動させる駆動手段を備え、前
記３点は２等辺三角形を構成しており、その２等辺が交
わる点と重心とを結ぶ直線に対して前記走査方向は平行
であることを特徴とする。
【０００８】この場合、前記三角形の３点のうち２点が
装置の前部に位置し、残りの１点が装置の奥に位置し、
装置への前記基板の搬入経路が、装置前部の前記２点に
配置された２つの前記支柱の間を経て設定されているの
が好ましい。
装置の前部に位置し、残りの１点が装置の奥に位置し、
装置への前記基板の搬入経路が、装置前部の前記２点に
配置された２つの前記支柱の間を経て設定されているの
が好ましい。
【０００９】前記第１の目的を達成するための本発明の
デバイス製造方法は、原版のパターンの一部を投影光学
系を介して基板に投影し、投影光学系に対し相対的に前
記原版と基板を共に走査することにより前記原版のパタ
ーンを前記基板に露光するデバイス製造方法であって、
前記原版を原版ステージによって保持し、前記投影光学
系および原版ステージを定盤上に配置し、３点に配置し
たダンパおよび支柱を介して前記定盤を支持し、かつ前
記３点が構成する三角形の重心と前記投影光学系の重心
とを一致させ、そして前記走査を行なうことを特徴とす
る。さらには、前記三角形を二等辺三角形とし、前記走
査に際し、前記原版ステージを、前記定盤上において、
前記三角形の二等辺が交わる点と重心とを結ぶ直線に平
行に移動させることを特徴とする。
デバイス製造方法は、原版のパターンの一部を投影光学
系を介して基板に投影し、投影光学系に対し相対的に前
記原版と基板を共に走査することにより前記原版のパタ
ーンを前記基板に露光するデバイス製造方法であって、
前記原版を原版ステージによって保持し、前記投影光学
系および原版ステージを定盤上に配置し、３点に配置し
たダンパおよび支柱を介して前記定盤を支持し、かつ前
記３点が構成する三角形の重心と前記投影光学系の重心
とを一致させ、そして前記走査を行なうことを特徴とす
る。さらには、前記三角形を二等辺三角形とし、前記走
査に際し、前記原版ステージを、前記定盤上において、
前記三角形の二等辺が交わる点と重心とを結ぶ直線に平
行に移動させることを特徴とする。
【００１０】この場合、前記三角形の３点のうち２点を
装置の前部に配置し、残りの１点を装置の奥に配置し、
装置への前記基板の搬入を、装置前部の前記２点に位置
する２つの前記支柱の間を経て行なうのが好ましい。
装置の前部に配置し、残りの１点を装置の奥に配置し、
装置への前記基板の搬入を、装置前部の前記２点に位置
する２つの前記支柱の間を経て行なうのが好ましい。
【００１１】また、前記第２の目的を達成するための本
発明の露光装置は、基板を基板ステージにより移動させ
ながら、原版のパターンを投影光学系を介して前記基板
上に露光する露光装置であって、前記基板ステージを設
けた第１の定盤と、この第１定盤を３点において支持す
る支持手段と、前記原版および投影光学系を設けた第２
の定盤と、前記第１および第２定盤間の距離を測定する
測定手段とを備え、前記測定手段の前記第１定盤上にお
ける測定点は、その測定方向にみれば、前記３点が構成
する三角形の各頂点とそれに隣接する辺の中点とを通る
直線上に存在することを特徴とする。
発明の露光装置は、基板を基板ステージにより移動させ
ながら、原版のパターンを投影光学系を介して前記基板
上に露光する露光装置であって、前記基板ステージを設
けた第１の定盤と、この第１定盤を３点において支持す
る支持手段と、前記原版および投影光学系を設けた第２
の定盤と、前記第１および第２定盤間の距離を測定する
測定手段とを備え、前記測定手段の前記第１定盤上にお
ける測定点は、その測定方向にみれば、前記３点が構成
する三角形の各頂点とそれに隣接する辺の中点とを通る
直線上に存在することを特徴とする。
【００１２】また、前記第２の目的を達成するための本
発明のデバイス製造方法は、基板を基板ステージにより
移動させながら、原版のパターンを投影光学系を介して
前記基板上に露光するデバイス製造方法であって、前記
基板ステージを第１の定盤上に設け、前記原版および投
影光学系を第２の定盤上に設け、前記第１定盤を３点で
支持し、前記第１および第２定盤間の距離を、第１定盤
上における測定点が、その測定方向にみれば、前記３点
が構成する三角形の各頂点とそれに隣接する辺の中点と
を通る直線上に存在するようにして測定し、その測定結
果に基づいて前記第１および第２定盤間の相対位置を制
御しながら前記露光を行うことを特徴とする。
発明のデバイス製造方法は、基板を基板ステージにより
移動させながら、原版のパターンを投影光学系を介して
前記基板上に露光するデバイス製造方法であって、前記
基板ステージを第１の定盤上に設け、前記原版および投
影光学系を第２の定盤上に設け、前記第１定盤を３点で
支持し、前記第１および第２定盤間の距離を、第１定盤
上における測定点が、その測定方向にみれば、前記３点
が構成する三角形の各頂点とそれに隣接する辺の中点と
を通る直線上に存在するようにして測定し、その測定結
果に基づいて前記第１および第２定盤間の相対位置を制
御しながら前記露光を行うことを特徴とする。
【００１３】また、前記第２の目的を達成するための本
発明の別の露光装置は、基板を基板ステージにより移動
させながら、原版のパターンを投影光学系を介して前記
基板上に露光する露光装置であって、前記基板ステージ
を設けた第１の定盤と、この第１定盤を３点において支
持する支持手段と、前記原版および投影光学系を設けた
第２の定盤と、前記第１および第２定盤間の距離を測定
する測定手段とを備え、前記測定手段は、その前記第１
定盤上での測定点における、予め測定された前記基板ス
テージの移動による前記第１定盤の変形量を考慮して前
記距離の測定を行うものであることを特徴とする。
発明の別の露光装置は、基板を基板ステージにより移動
させながら、原版のパターンを投影光学系を介して前記
基板上に露光する露光装置であって、前記基板ステージ
を設けた第１の定盤と、この第１定盤を３点において支
持する支持手段と、前記原版および投影光学系を設けた
第２の定盤と、前記第１および第２定盤間の距離を測定
する測定手段とを備え、前記測定手段は、その前記第１
定盤上での測定点における、予め測定された前記基板ス
テージの移動による前記第１定盤の変形量を考慮して前
記距離の測定を行うものであることを特徴とする。
【００１４】また、前記第２の目的を達成するための本
発明の別のデバイス製造方法は、基板を基板ステージに
より移動させながら、原版のパターンを投影光学系を介
して前記基板上に露光するデバイス製造方法であって、
前記基板ステージを第１の定盤上に設け、前記原版およ
び投影光学系を第２の定盤で支持し、前記第１定盤を３
点で支持し、前記第１および第２定盤間の距離を、第１
定盤上での測定点における、予め測定された前記ステー
ジの移動による前記第１定盤の変形量を考慮して測定
し、その測定結果に基づいて前記第１および第２定盤間
の相対位置を制御しながら前記露光を行うことを特徴と
する。
発明の別のデバイス製造方法は、基板を基板ステージに
より移動させながら、原版のパターンを投影光学系を介
して前記基板上に露光するデバイス製造方法であって、
前記基板ステージを第１の定盤上に設け、前記原版およ
び投影光学系を第２の定盤で支持し、前記第１定盤を３
点で支持し、前記第１および第２定盤間の距離を、第１
定盤上での測定点における、予め測定された前記ステー
ジの移動による前記第１定盤の変形量を考慮して測定
し、その測定結果に基づいて前記第１および第２定盤間
の相対位置を制御しながら前記露光を行うことを特徴と
する。
【００１５】また、前記第３および第４の目的を達成す
るための本発明の露光装置は、原版のパターンの一部を
投影光学系を介して基板に投影し、投影光学系に対し相
対的に原版と基板を共に走査することにより原版のパタ
ーンを基板に露光する走査露光を、前記基板上の複数領
域に対して、ステップ移動を介在させながら行うステッ
プおよび走査型の露光装置であって、前記走査を行なう
ために前記基板をその走査方向に移動させる第１のステ
ージと、前記ステップ移動を行うために前記基板を前記
走査方向に垂直な方向に移動させる第２のステージとを
備え、前記第１ステージ上に前記基板を保持する前記第
２ステージを配置したことを特徴とする。
るための本発明の露光装置は、原版のパターンの一部を
投影光学系を介して基板に投影し、投影光学系に対し相
対的に原版と基板を共に走査することにより原版のパタ
ーンを基板に露光する走査露光を、前記基板上の複数領
域に対して、ステップ移動を介在させながら行うステッ
プおよび走査型の露光装置であって、前記走査を行なう
ために前記基板をその走査方向に移動させる第１のステ
ージと、前記ステップ移動を行うために前記基板を前記
走査方向に垂直な方向に移動させる第２のステージとを
備え、前記第１ステージ上に前記基板を保持する前記第
２ステージを配置したことを特徴とする。
【００１６】また、前記第３および第４の目的を達成す
るための本発明のデバイス製造方法は、原版のパターン
の一部を投影光学系を介して基板に投影し、投影光学系
に対し相対的に原版と基板を共に走査することにより原
版のパターンを基板に露光する走査露光を、前記基板上
の複数領域に対して、ステップ移動を介在させながら行
なうデバイス製造方法であって、第１のステージを、前
記走査を行うためにその走査方向へ移動させるととも
に、前記第１ステージ上において、第２のステージによ
り前記基板を前記ステップ移動させることを特徴とす
る。
るための本発明のデバイス製造方法は、原版のパターン
の一部を投影光学系を介して基板に投影し、投影光学系
に対し相対的に原版と基板を共に走査することにより原
版のパターンを基板に露光する走査露光を、前記基板上
の複数領域に対して、ステップ移動を介在させながら行
なうデバイス製造方法であって、第１のステージを、前
記走査を行うためにその走査方向へ移動させるととも
に、前記第１ステージ上において、第２のステージによ
り前記基板を前記ステップ移動させることを特徴とす
る。
【００１７】また、前記第２の目的を達成するための本
発明のステージ装置は、３点で支持された定盤と、この
定盤上に設けられたステージと、前記定盤の支持方向の
位置を測定する測定手段とを備えたステージ装置であっ
て、前記測定手段の前記定盤上における位置の測定点
は、その測定方向にみれば、前記３点が構成する三角形
の各頂点とそれに隣接する辺の中点とを通る直線上に存
在することを特徴とする。
発明のステージ装置は、３点で支持された定盤と、この
定盤上に設けられたステージと、前記定盤の支持方向の
位置を測定する測定手段とを備えたステージ装置であっ
て、前記測定手段の前記定盤上における位置の測定点
は、その測定方向にみれば、前記３点が構成する三角形
の各頂点とそれに隣接する辺の中点とを通る直線上に存
在することを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を説明する。図１は本発明の一実施形態に係る露光
装置を側方から見た様子を模式的に示す図であり、図２
は、その露光装置の外観を示す斜視図である。これらの
図に示すように、この露光装置は、レチクルステージ１
上の原版のパターンの一部を投影光学系２を介してＸ・
Ｙステージ３上のウエハに投影し、投影光学系２に対し
相対的にレチクルとウエハをＹ方向に同期走査すること
によりレチクルのパターンをウエハに露光するととも
に、この走査露光を、ウエハ上の複数領域に対して、繰
り返し行なうためのステップ移動を介在させながら行な
うステップ・アンド・スキャン型の露光装置である。
形態を説明する。図１は本発明の一実施形態に係る露光
装置を側方から見た様子を模式的に示す図であり、図２
は、その露光装置の外観を示す斜視図である。これらの
図に示すように、この露光装置は、レチクルステージ１
上の原版のパターンの一部を投影光学系２を介してＸ・
Ｙステージ３上のウエハに投影し、投影光学系２に対し
相対的にレチクルとウエハをＹ方向に同期走査すること
によりレチクルのパターンをウエハに露光するととも
に、この走査露光を、ウエハ上の複数領域に対して、繰
り返し行なうためのステップ移動を介在させながら行な
うステップ・アンド・スキャン型の露光装置である。
【００１９】レチクルステージ１はリニアモータ４によ
ってＹ方向へ駆動し、Ｘ・Ｙステージ３のＸステージ３
ａはリニアモータ５によってＸ方向に駆動し、Ｙステー
ジ３ｂはリニアモータ６によってＹ方向へ駆動するよう
になっている。レチクルおよびウエハの同期走査は、レ
チクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向へ一定
の速度比率（例えば４：１）で駆動させることにより行
なう。また、Ｘ方向へのステップ移動はＸステージ３ａ
により行なう。
ってＹ方向へ駆動し、Ｘ・Ｙステージ３のＸステージ３
ａはリニアモータ５によってＸ方向に駆動し、Ｙステー
ジ３ｂはリニアモータ６によってＹ方向へ駆動するよう
になっている。レチクルおよびウエハの同期走査は、レ
チクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向へ一定
の速度比率（例えば４：１）で駆動させることにより行
なう。また、Ｘ方向へのステップ移動はＸステージ３ａ
により行なう。
【００２０】Ｘ・Ｙステージ３は、ステージ定盤７上に
設けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して３
点で床等の上に支持されている。レチクルステージ１お
よび投影光学系２は鏡筒定盤９上に設けられ、鏡筒定盤
９はベースフレーム１０上に３つのダンパ１１および支
柱１２を介して支持されている。ダンパ８は６軸方向に
アクティブに制振もしくは除振するアクティブダンパで
あるが、パッシブダンパを用いてもよく、あるいはダン
パを介せずに支持してもよい。
設けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して３
点で床等の上に支持されている。レチクルステージ１お
よび投影光学系２は鏡筒定盤９上に設けられ、鏡筒定盤
９はベースフレーム１０上に３つのダンパ１１および支
柱１２を介して支持されている。ダンパ８は６軸方向に
アクティブに制振もしくは除振するアクティブダンパで
あるが、パッシブダンパを用いてもよく、あるいはダン
パを介せずに支持してもよい。
【００２１】図３は、ダンパ１１あるいは支柱１２、走
査露光時の走査方向、投影光学系２および露光光間の、
装置の上から見たときの位置的関係を示す。同図に示す
ように、ダンパ１１および支柱１２による鏡筒定盤９の
３つの支持点は二等辺三角形を構成しており、その二等
辺１４、１５が交わる点１６と重心とを結ぶ直線１７に
対して走査方向Ｙは平行であり、かつその重心１８と投
影光学系２の重心１９とはほぼ一致している。図３中の
２０は、スリット状に成形された露光光の断面である。
そのスリット形状の長手方向は走査方向に垂直な方向
（Ｘ方向）である。３つのダンパ１１のうち２つは装置
の前部に位置し、残りの１つは装置の奥側に位置してい
る。そして、装置へのウエハの搬入経路は、装置の前側
より、装置前部に配置した２つの支柱１２の間を経て設
定されている。
査露光時の走査方向、投影光学系２および露光光間の、
装置の上から見たときの位置的関係を示す。同図に示す
ように、ダンパ１１および支柱１２による鏡筒定盤９の
３つの支持点は二等辺三角形を構成しており、その二等
辺１４、１５が交わる点１６と重心とを結ぶ直線１７に
対して走査方向Ｙは平行であり、かつその重心１８と投
影光学系２の重心１９とはほぼ一致している。図３中の
２０は、スリット状に成形された露光光の断面である。
そのスリット形状の長手方向は走査方向に垂直な方向
（Ｘ方向）である。３つのダンパ１１のうち２つは装置
の前部に位置し、残りの１つは装置の奥側に位置してい
る。そして、装置へのウエハの搬入経路は、装置の前側
より、装置前部に配置した２つの支柱１２の間を経て設
定されている。
【００２２】また、この露光装置は、鏡筒定盤９とステ
ージ定盤７との間の距離を３点において測定するレーザ
干渉計、マイクロエンコーダ等の距離測定手段１３を備
え、それらのステージ定盤７上における３つの測定点Ｐ
は、図５に示すように、その測定方向にみれば、ダンパ
８による定盤７の３つの支持点が構成する三角形の各頂
点とそれに隣接する辺の中点とを通る直線上に存在す
る。
ージ定盤７との間の距離を３点において測定するレーザ
干渉計、マイクロエンコーダ等の距離測定手段１３を備
え、それらのステージ定盤７上における３つの測定点Ｐ
は、図５に示すように、その測定方向にみれば、ダンパ
８による定盤７の３つの支持点が構成する三角形の各頂
点とそれに隣接する辺の中点とを通る直線上に存在す
る。
【００２３】あるいは、これら測定点における、予め測
定されたＸ・Ｙステージ３の移動によるステージ定盤７
の変形量を考慮して前記距離の測定を行なうようにして
もよい。
定されたＸ・Ｙステージ３の移動によるステージ定盤７
の変形量を考慮して前記距離の測定を行なうようにして
もよい。
【００２４】この構成において、不図示の搬送手段によ
り、装置前部の２つの支柱１２間の搬送経路を経てＸ・
Ｙステージ３上にウエハが搬入され、所定の位置合せが
終了すると、露光装置は、走査露光およびステップ移動
を繰り返しながら、ウエハ上の複数の露光領域に対して
レチクルのパターンを露光転写する。走査露光に際して
は、レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向
（走査方向）へ、所定の速度比で移動させて、スリット
状の露光光でレチクル上のパターンを走査するととも
に、その投影像でウエハを走査することにより、ウエハ
上の所定の露光領域に対してレチクル上のパターンを露
光する。１つの露光領域に対する走査露光が終了した
ら、Ｘステージ３ａをＸ方向へ駆動してウエハをステッ
プ移動させることにより、他の露光領域を走査露光の開
始位置に対して位置決めし、走査露光を行なう。なお、
このＸ方向へのステップ移動と、Ｙ方向への走査露光の
ための移動との組合せにより、ウエハ上の複数の露光領
域に対して、順次効率良く露光が行なえるように、各露
光領域の配置、Ｙの正または負のいずれかへの走査方
向、各露光領域への露光順等が設定されている。
り、装置前部の２つの支柱１２間の搬送経路を経てＸ・
Ｙステージ３上にウエハが搬入され、所定の位置合せが
終了すると、露光装置は、走査露光およびステップ移動
を繰り返しながら、ウエハ上の複数の露光領域に対して
レチクルのパターンを露光転写する。走査露光に際して
は、レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向
（走査方向）へ、所定の速度比で移動させて、スリット
状の露光光でレチクル上のパターンを走査するととも
に、その投影像でウエハを走査することにより、ウエハ
上の所定の露光領域に対してレチクル上のパターンを露
光する。１つの露光領域に対する走査露光が終了した
ら、Ｘステージ３ａをＸ方向へ駆動してウエハをステッ
プ移動させることにより、他の露光領域を走査露光の開
始位置に対して位置決めし、走査露光を行なう。なお、
このＸ方向へのステップ移動と、Ｙ方向への走査露光の
ための移動との組合せにより、ウエハ上の複数の露光領
域に対して、順次効率良く露光が行なえるように、各露
光領域の配置、Ｙの正または負のいずれかへの走査方
向、各露光領域への露光順等が設定されている。
【００２５】走査露光に際して、レチクルステージ１が
移動するに従って、その重心の移動により鏡筒定盤９の
傾きや変形状態が変化する。しかし、上述のように、鏡
筒定盤９の支持点が二等辺三角形を構成し、直線１７に
対して走査方向Ｙは平行であり、かつ二等辺三角形の重
心と投影光学系２の重心とは一致しているため、レチク
ルステージ１の重心もほぼ直線１７上を通る。したがっ
て、レチクルステージ１の移動による鏡筒定盤９の傾き
は、Ｙ（Ｚ）方向に対するもののみとなり、Ｘ方向に対
しては傾かない。また、鏡筒定盤９の変形量は直線１７
について対称となる。したがって、この変形によっても
露光光のスリット形状２０は走査方向に対し垂直である
ため、Ｙ方向に傾いたとしても、例えば、単にウエハ位
置をＺ方向に調整すれば、傾きの影響を排除することが
できる。これに対し、鏡筒定盤９がＸ方向に対して傾い
た場合は、Ｘ方向にスリット形状２０が延びているた
め、傾きの影響を排除することは、非常に困難である。
移動するに従って、その重心の移動により鏡筒定盤９の
傾きや変形状態が変化する。しかし、上述のように、鏡
筒定盤９の支持点が二等辺三角形を構成し、直線１７に
対して走査方向Ｙは平行であり、かつ二等辺三角形の重
心と投影光学系２の重心とは一致しているため、レチク
ルステージ１の重心もほぼ直線１７上を通る。したがっ
て、レチクルステージ１の移動による鏡筒定盤９の傾き
は、Ｙ（Ｚ）方向に対するもののみとなり、Ｘ方向に対
しては傾かない。また、鏡筒定盤９の変形量は直線１７
について対称となる。したがって、この変形によっても
露光光のスリット形状２０は走査方向に対し垂直である
ため、Ｙ方向に傾いたとしても、例えば、単にウエハ位
置をＺ方向に調整すれば、傾きの影響を排除することが
できる。これに対し、鏡筒定盤９がＸ方向に対して傾い
た場合は、Ｘ方向にスリット形状２０が延びているた
め、傾きの影響を排除することは、非常に困難である。
【００２６】また、鏡筒定盤９は３点で支持されている
ため、レチクルステージ１の位置、鏡筒定盤９各点の変
形量、および各支持点の位置間の関係は一義的に決まる
ため、４点支持に比べ、変形に対する再現性が良い。し
たがって、レチクルステージ１の移動に伴う鏡筒定盤９
の変形を考慮したり、補正したりする場合は、これらを
高精度で行うことができる。例えば、図１に示すよう
に、投影光学系２のフォーカス位置にウエハが位置して
いるか否かは、鏡筒定盤９に固定された投光手段２１に
よりウエハに対して斜め方向から光を照射し、その反射
光の位置を受光手段２２によって検出することにより行
うことができるが、その際、鏡筒定盤９の正確な変形量
を考慮してフォーカス位置を正確に検出することができ
る。また、ウエハのＸ、Ｙ、θ方向の位置を検出するた
めのレーザ干渉計２３による測定も同様に鏡筒定盤９の
変形量を考慮して精確に行うことができる。
ため、レチクルステージ１の位置、鏡筒定盤９各点の変
形量、および各支持点の位置間の関係は一義的に決まる
ため、４点支持に比べ、変形に対する再現性が良い。し
たがって、レチクルステージ１の移動に伴う鏡筒定盤９
の変形を考慮したり、補正したりする場合は、これらを
高精度で行うことができる。例えば、図１に示すよう
に、投影光学系２のフォーカス位置にウエハが位置して
いるか否かは、鏡筒定盤９に固定された投光手段２１に
よりウエハに対して斜め方向から光を照射し、その反射
光の位置を受光手段２２によって検出することにより行
うことができるが、その際、鏡筒定盤９の正確な変形量
を考慮してフォーカス位置を正確に検出することができ
る。また、ウエハのＸ、Ｙ、θ方向の位置を検出するた
めのレーザ干渉計２３による測定も同様に鏡筒定盤９の
変形量を考慮して精確に行うことができる。
【００２７】また、走査露光やステップ移動において、
レチクルステージ１やＸ・Ｙステージ３の移動に伴い鏡
筒定盤９やステージ定盤７が傾くため、これを補正する
必要がある。このために、距離測定手段１３により、鏡
筒定盤９とステージ定盤７との間の距離を双方の３つの
支持点の近傍において測定する。このときのステージ定
盤７上における測定点は、その測定方向にみれば、３つ
の支持点が構成する三角形の各頂点とそれに隣接する辺
の中点とを通る直線上に存在する。これらの測定点にお
いては、レチクルステージ１やＸ・Ｙステージ３の移動
に伴う変形量が無視し得る程度であるため、変形量を考
慮することなく、測定を行なうことができる。
レチクルステージ１やＸ・Ｙステージ３の移動に伴い鏡
筒定盤９やステージ定盤７が傾くため、これを補正する
必要がある。このために、距離測定手段１３により、鏡
筒定盤９とステージ定盤７との間の距離を双方の３つの
支持点の近傍において測定する。このときのステージ定
盤７上における測定点は、その測定方向にみれば、３つ
の支持点が構成する三角形の各頂点とそれに隣接する辺
の中点とを通る直線上に存在する。これらの測定点にお
いては、レチクルステージ１やＸ・Ｙステージ３の移動
に伴う変形量が無視し得る程度であるため、変形量を考
慮することなく、測定を行なうことができる。
【００２８】一方、測定点における変形量が、無視でき
ない程度であれば、あらかじめ、その変形量をレチクル
ステージ１やＸ・Ｙステージ３の位置に対応させて測定
しておき、その変形量を考慮することにより、鏡筒定盤
９とステージ定盤７との間の正確な距離を測定すること
ができる。この場合、上述のように、３点支持であるた
め、変形量の再現性が良く、変形量を精確に反映するこ
とができる。
ない程度であれば、あらかじめ、その変形量をレチクル
ステージ１やＸ・Ｙステージ３の位置に対応させて測定
しておき、その変形量を考慮することにより、鏡筒定盤
９とステージ定盤７との間の正確な距離を測定すること
ができる。この場合、上述のように、３点支持であるた
め、変形量の再現性が良く、変形量を精確に反映するこ
とができる。
【００２９】図４（ａ）および（ｂ）は、それぞれステ
ップ移動および走査露光におけるＸステージ３ａおよび
Ｙステージ３ｂの移動速度の時間的変化の一例を示すグ
ラフである。Ｙステージの加速を開始すると、Ｙステー
ジは０．０５１秒の加速期間および０．０５秒の整定時
間を経た後、１００ｍｍ／秒の一定速度で０．３７５秒
間移動する。この一定速度の移動期間において露光を行
なう。この露光期間の後、Ｙステージを減速させるとと
もにＸステージの加速を開始し、ステップ移動を行な
う。ステップ移動が終了したら、再度Ｙステージの加速
を同様にして開始する。このようにして、ＸおよびＹス
テージの移動を繰り返して、複数の露光領域に対してレ
チクルのパターンを順次走査露光してゆく。
ップ移動および走査露光におけるＸステージ３ａおよび
Ｙステージ３ｂの移動速度の時間的変化の一例を示すグ
ラフである。Ｙステージの加速を開始すると、Ｙステー
ジは０．０５１秒の加速期間および０．０５秒の整定時
間を経た後、１００ｍｍ／秒の一定速度で０．３７５秒
間移動する。この一定速度の移動期間において露光を行
なう。この露光期間の後、Ｙステージを減速させるとと
もにＸステージの加速を開始し、ステップ移動を行な
う。ステップ移動が終了したら、再度Ｙステージの加速
を同様にして開始する。このようにして、ＸおよびＹス
テージの移動を繰り返して、複数の露光領域に対してレ
チクルのパターンを順次走査露光してゆく。
【００３０】Ｘステージの重量を３０ｋｇ、Ｙステージ
の重量を６０ｋｇとし、図４に示すような加減速を行な
うものとする。そしてそのときのＸおよびＹステージの
最高加速度が０．２Ｇ、最高スキャン速度が１００ｍｍ
／秒、最高ステップ速度が３５０ｍｍ／秒、整定時間が
０．１５秒、露光の画角（各露光領域における露光範囲
の大きさ）が３２．５×２５ｍｍ、スキャン距離が３
７．５（３２．５＋５）ｍｍ、ＸおよびＹステージを駆
動するリニアモータの推力定数が２０Ｎ／Ａとすれば、
スキャン時およびステップ時のそれぞれにおける加減速
時の各デューティＤy およびＤx は
の重量を６０ｋｇとし、図４に示すような加減速を行な
うものとする。そしてそのときのＸおよびＹステージの
最高加速度が０．２Ｇ、最高スキャン速度が１００ｍｍ
／秒、最高ステップ速度が３５０ｍｍ／秒、整定時間が
０．１５秒、露光の画角（各露光領域における露光範囲
の大きさ）が３２．５×２５ｍｍ、スキャン距離が３
７．５（３２．５＋５）ｍｍ、ＸおよびＹステージを駆
動するリニアモータの推力定数が２０Ｎ／Ａとすれば、
スキャン時およびステップ時のそれぞれにおける加減速
時の各デューティＤy およびＤx は
【００３１】
【数１】 であり、ＹステージおよびＸステージにおける各発熱量
Ｑ1yおよびＱ1xは、
Ｑ1yおよびＱ1xは、
【００３２】
【数２】 となり、発熱量の合計は２４．１２［ｗ］である。一
方、仮に、Ｘステージを走査方向に駆動させ、Ｙステー
ジでステップ移動を行なうとし、その他の点について
は、上述と同様であるとすれば、そのときのＸおよびＹ
各ステージにおける発熱量Ｑ2yおよびＱ2xは、
方、仮に、Ｘステージを走査方向に駆動させ、Ｙステー
ジでステップ移動を行なうとし、その他の点について
は、上述と同様であるとすれば、そのときのＸおよびＹ
各ステージにおける発熱量Ｑ2yおよびＱ2xは、
【００３３】
【数３】 であり、発熱量の合計は、３５．１４［ｗ］となる。し
たがって、重い下側のＹステージをデューティの少ない
スキャン動作に使用することにより、発熱量を抑えるこ
とができる。また、このように、軽い上側のＸステージ
の駆動方向を走査方向と直交する方向とし、そのＸステ
ージにより、レチクルステージ１における走査方向に垂
直な成分の駆動誤差の補正やオフセットへの追込み駆動
を行なうことにより、これら補正等の精度を向上させる
ことができる。したがって、レチクルステージ１を走査
方向のみの１軸方向の駆動手段のみで構成することも可
能となる。
たがって、重い下側のＹステージをデューティの少ない
スキャン動作に使用することにより、発熱量を抑えるこ
とができる。また、このように、軽い上側のＸステージ
の駆動方向を走査方向と直交する方向とし、そのＸステ
ージにより、レチクルステージ１における走査方向に垂
直な成分の駆動誤差の補正やオフセットへの追込み駆動
を行なうことにより、これら補正等の精度を向上させる
ことができる。したがって、レチクルステージ１を走査
方向のみの１軸方向の駆動手段のみで構成することも可
能となる。
【００３４】次に上記説明した露光装置を利用したデバ
イスの生産方法の実施例を説明する。
イスの生産方法の実施例を説明する。
【００３５】図６は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半
導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マ
イクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１
（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ
製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディン
グ）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含
む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これを出荷（ステップ７）する。
導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マ
イクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１
（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ
製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディン
グ）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含
む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これを出荷（ステップ７）する。
【００３６】図７は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。
【００３７】本実施例の製造方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コストに
製造することができる。
造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コストに
製造することができる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、投
影光学系および原版ステージを定盤上に配置し、３点に
配置したダンパおよび支柱を介して定盤を支持し、かつ
その３点が構成する三角形の重心と投影光学系の重心と
を一致させるようにしたため、原版ステージの移動によ
る定盤の変形の再現性が良く、変形の影響を精度よく排
除することができる。またさらに、原版ステージを、定
盤上において、前記三角形の二等辺が交わる点と重心と
を結ぶ直線に平行に移動させるようにしたため、定盤の
傾きや変形による影響がスリット状露光光のスリット方
向に大きく及ぶのを防止し、スリット方向に垂直な方向
に対して主に傾きや変形が生じるようにして、その影響
を容易に排除することができる。その場合、前記三角形
の３点のうち２点を装置の前部に配置し、残りの１点を
装置の奥に配置し、装置への前記基板の搬入を、装置前
部の前記２点に位置する２つの前記支柱の間を経て行な
うことにより、基板の搬送経路を容易に確保することが
でき、かつスペースの有効利用を図ることができる。
影光学系および原版ステージを定盤上に配置し、３点に
配置したダンパおよび支柱を介して定盤を支持し、かつ
その３点が構成する三角形の重心と投影光学系の重心と
を一致させるようにしたため、原版ステージの移動によ
る定盤の変形の再現性が良く、変形の影響を精度よく排
除することができる。またさらに、原版ステージを、定
盤上において、前記三角形の二等辺が交わる点と重心と
を結ぶ直線に平行に移動させるようにしたため、定盤の
傾きや変形による影響がスリット状露光光のスリット方
向に大きく及ぶのを防止し、スリット方向に垂直な方向
に対して主に傾きや変形が生じるようにして、その影響
を容易に排除することができる。その場合、前記三角形
の３点のうち２点を装置の前部に配置し、残りの１点を
装置の奥に配置し、装置への前記基板の搬入を、装置前
部の前記２点に位置する２つの前記支柱の間を経て行な
うことにより、基板の搬送経路を容易に確保することが
でき、かつスペースの有効利用を図ることができる。
【００３９】また、基板ステージが設けられ、３点で支
持されている定盤の位置やそれに対する距離の測定点
を、それら３点が構成する三角形の各頂点とそれに隣接
する辺の中点とを通る直線上に存在するようにしたた
め、基板ステージの移動に伴う定盤の変形が少ない点を
測定点として測定を行ない、高い精度で測定を行なうこ
とができる。あるいは、このような測定を、その測定点
における、予め測定した基板ステージの移動による定盤
の変形量を考慮して測定を行うことにより、やはり高い
精度で測定を行なうことができる。
持されている定盤の位置やそれに対する距離の測定点
を、それら３点が構成する三角形の各頂点とそれに隣接
する辺の中点とを通る直線上に存在するようにしたた
め、基板ステージの移動に伴う定盤の変形が少ない点を
測定点として測定を行ない、高い精度で測定を行なうこ
とができる。あるいは、このような測定を、その測定点
における、予め測定した基板ステージの移動による定盤
の変形量を考慮して測定を行うことにより、やはり高い
精度で測定を行なうことができる。
【００４０】また、同期走査を行なうために基板をその
走査方向に移動させる第１ステージ上に、ステップ移動
を行うために基板を走査方向に垂直な方向に移動させる
第２のステージを配置するようにしたため、これら基板
ステージの移動に伴う発熱量を減少させ、温度の安定化
を図ることができ、したがって、温度の不均一や変動に
よる露光精度の劣化を排除することができる。また、軽
い第２ステージにより走査方向に垂直な方向の修正が行
なえるため、原版ステージを一軸方向のみの駆動手段に
よるより簡単な構成とするとこができる。前記支柱の間
を経て設定することにより、搬送経路を容易に確保する
ことができ、スペースの有効利用を図ることができる。
走査方向に移動させる第１ステージ上に、ステップ移動
を行うために基板を走査方向に垂直な方向に移動させる
第２のステージを配置するようにしたため、これら基板
ステージの移動に伴う発熱量を減少させ、温度の安定化
を図ることができ、したがって、温度の不均一や変動に
よる露光精度の劣化を排除することができる。また、軽
い第２ステージにより走査方向に垂直な方向の修正が行
なえるため、原版ステージを一軸方向のみの駆動手段に
よるより簡単な構成とするとこができる。前記支柱の間
を経て設定することにより、搬送経路を容易に確保する
ことができ、スペースの有効利用を図ることができる。
【図１】 本発明の一実施形態に係る露光装置を側方か
ら見た様子を模式的に示す図である。
ら見た様子を模式的に示す図である。
【図２】 図１の露光装置の外観を示す斜視図である。
【図３】 図１の装置のダンパあるいは支柱、走査露光
時の走査方向、投影光学系および露光光間の、装置の上
から見たときの位置的関係を示す図である。
時の走査方向、投影光学系および露光光間の、装置の上
から見たときの位置的関係を示す図である。
【図４】 図１の装置におけるステップ移動および走査
露光でのＸステージおよびＹステージの移動速度の時間
的変化の一例を示すグラフである。
露光でのＸステージおよびＹステージの移動速度の時間
的変化の一例を示すグラフである。
【図５】 図１の装置におけるステージ定盤の支持点と
ステージ定盤の測定点との位置関係を示す図である。
ステージ定盤の測定点との位置関係を示す図である。
【図６】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図７】 図６におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。
示す図である。
１：レチクルステージ、２：投影光学系、３：Ｘ・Ｙス
テージ、４：リニアモータ、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：
Ｙステージ、６：リニアモータ、７：ステージ定盤、
８：ダンパ、９：鏡筒定盤、１０：ベースフレーム、１
１：ダンパ、１２：支柱、１３：距離測定手段、１８，
１９：重心、２０：露光光の断面、２１：投光手段、２
２：受光手段、２３：レーザ干渉計。
テージ、４：リニアモータ、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：
Ｙステージ、６：リニアモータ、７：ステージ定盤、
８：ダンパ、９：鏡筒定盤、１０：ベースフレーム、１
１：ダンパ、１２：支柱、１３：距離測定手段、１８，
１９：重心、２０：露光光の断面、２１：投光手段、２
２：受光手段、２３：レーザ干渉計。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 海老沼 隆一 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 小山内 英司 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内
Claims (13)
- 【請求項１】 原版のパターンの一部を投影光学系を介
して基板に投影し、投影光学系に対し相対的に前記原版
と基板を共に走査することにより前記原版のパターンを
前記基板に露光する走査型の露光装置であって、前記原
版を保持する原版ステージと、前記投影光学系および前
記原版ステージを設けた定盤と、この定盤を３点に配置
したダンパおよび支柱を介して支持する支持手段と、前
記原版ステージを前記定盤上で前記走査のために走査方
向に移動させる駆動手段とを備え、前記３点は２等辺三
角形を構成しており、その２等辺が交わる点と重心とを
結ぶ直線に対して前記走査方向は平行であることを特徴
とする露光装置。 - 【請求項２】 原版のパターンの一部を投影光学系を介
して基板に投影し、投影光学系に対し相対的に前記原版
と基板を共に走査することにより前記原版のパターンを
前記基板に露光する走査型の露光装置であって、前記原
版を保持する原版ステージと、前記投影光学系および前
記原版ステージを設けた定盤と、この定盤を３点に配置
したダンパおよび支柱を介して支持する支持手段とを備
え、前記３点が構成する三角形の重心と前記投影光学系
の重心とが一致することを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 前記三角形の３点のうち２点が装置の前
部に位置し、残りの１点が装置の奥に位置し、装置への
前記基板の搬入経路が、装置前部の前記２点に配置され
た２つの前記支柱の間を経て設定されていることを特徴
とする請求項１または２記載の露光装置。 - 【請求項４】 原版のパターンの一部を投影光学系を介
して基板に投影し、投影光学系に対し相対的に前記原版
と基板を共に走査することにより前記原版のパターンを
前記基板に露光するデバイス製造方法であって、前記原
版を原版ステージによって保持し、前記投影光学系およ
び原版ステージを定盤上に配置し、二等辺三角形を構成
する３点に配置したダンパおよび支柱を介して前記定盤
を支持し、かつ前記三角形の重心と前記投影光学系の重
心とを一致させ、そして前記原版ステージを、前記定盤
上において、前記三角形の二等辺が交わる点と重心とを
結ぶ直線に平行に移動させることにより前記走査を行な
うことを特徴とするデバイス製造方法。 - 【請求項５】 原版のパターンの一部を投影光学系を介
して基板に投影し、投影光学系に対し相対的に前記原版
と基板を共に走査することにより前記原版のパターンを
前記基板に露光するデバイス製造方法であって、前記原
版を原版ステージによって保持し、前記投影光学系およ
び原版ステージを定盤上に配置し、この定盤を３点に配
置したダンパおよび支柱を介して支持し、かつ前記３点
が構成する三角形の重心と前記投影光学系の重心とを一
致させ、そして前記走査を行なうことを特徴とするデバ
イス製造方法。 - 【請求項６】 前記三角形の３点のうち２点を装置の前
部に配置し、残りの１点を装置の奥に配置し、装置への
前記基板の搬入を、装置前部の前記２点に位置する２つ
の前記支柱の間を経て行なうことを特徴とする請求項４
または５記載のデバイス製造方法。 - 【請求項７】 基板を基板ステージにより移動させなが
ら、原版のパターンを投影光学系を介して前記基板上に
露光する露光装置であって、前記基板ステージを設けた
第１の定盤と、この第１定盤を３点において支持する支
持手段と、前記原版および投影光学系を設けた第２の定
盤と、前記第１および第２定盤間の距離を測定する測定
手段とを備え、前記測定手段の前記第１定盤上における
測定点は、その測定方向にみれば、前記３点が構成する
三角形の各頂点とそれに隣接する辺の中点とを通る直線
上に存在することを特徴とする露光装置。 - 【請求項８】 基板を基板ステージにより移動させなが
ら、原版のパターンを投影光学系を介して前記基板上に
露光するデバイス製造方法であって、前記基板ステージ
を第１の定盤上に設け、前記原版および投影光学系を第
２の定盤上に設け、前記第１定盤を３点で支持し、前記
第１および第２定盤間の距離を、第１定盤上における測
定点が、その測定方向にみれば、前記３点が構成する三
角形の各頂点とそれに隣接する辺の中点とを通る直線上
に存在するようにして測定し、その測定結果に基づいて
前記第１および第２定盤間の相対位置を制御しながら前
記露光を行うことを特徴とするデバイス製造方法。 - 【請求項９】 基板を基板ステージにより移動させなが
ら、原版のパターンを投影光学系を介して前記基板上に
露光する露光装置であって、前記基板ステージを設けた
第１の定盤と、この第１定盤を３点において支持する支
持手段と、前記原版および投影光学系を設けた第２の定
盤と、前記第１および第２定盤間の距離を測定する測定
手段とを備え、前記測定手段は、その前記第１定盤上で
の測定点における、予め測定された前記基板ステージの
移動による前記第１定盤の変形量を考慮して前記距離の
測定を行うものであることを特徴とする露光装置。 - 【請求項１０】 基板を基板ステージにより移動させな
がら、原版のパターンを投影光学系を介して前記基板上
に露光するデバイス製造方法であって、前記基板ステー
ジを第１の定盤上に設け、前記原版および投影光学系を
第２の定盤で支持し、前記第１定盤を３点で支持し、前
記第１および第２定盤間の距離を、第１定盤上での測定
点における、予め測定された前記ステージの移動による
前記第１定盤の変形量を考慮して測定し、その測定結果
に基づいて前記第１および第２定盤間の相対位置を制御
しながら前記露光を行うことを特徴とするデバイス製造
方法。 - 【請求項１１】 原版のパターンの一部を投影光学系を
介して基板に投影し、投影光学系に対し相対的に原版と
基板を共に走査することにより原版のパターンを基板に
露光する走査露光を、前記基板上の複数領域に対して、
ステップ移動を介在させながら行うステップおよび走査
型の露光装置であって、前記走査を行なうために前記基
板をその走査方向に移動させる第１のステージと、前記
ステップ移動を行うために前記基板を前記走査方向に垂
直な方向に移動させる第２のステージとを備え、前記第
１ステージ上に前記基板を保持する前記第２ステージを
配置したことを特徴とする露光装置。 - 【請求項１２】 原版のパターンの一部を投影光学系を
介して基板に投影し、投影光学系に対し相対的に原版と
基板を共に走査することにより原版のパターンを基板に
露光する走査露光を、前記基板上の複数領域に対して、
ステップ移動を介在させながら行なうデバイス製造方法
であって、第１のステージを、前記走査を行うためにそ
の走査方向へ移動させるとともに、前記第１ステージ上
において、第２のステージにより前記基板を前記ステッ
プ移動させることを特徴とするデバイス製造方法。 - 【請求項１３】 ３点で支持された定盤と、この定盤上
に設けられたステージと、前記定盤の支持方向の位置を
測定する測定手段とを備えたステージ装置であって、前
記測定手段の前記定盤上における位置の測定点は、その
測定方向にみれば、前記３点が構成する三角形の各頂点
とそれに隣接する辺の中点とを通る直線上に存在するこ
とを特徴とするステージ装置。
Priority Applications (13)
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|---|---|---|---|
| JP16512496A JP3659529B2 (ja) | 1996-06-06 | 1996-06-06 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| US08/867,355 US5933215A (en) | 1996-06-06 | 1997-06-02 | Exposure apparatus and device manufacturing method using the same |
| DE69712256T DE69712256T2 (de) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben |
| TW086107632A TW339456B (en) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Exposure apparatus and device manufacturing method using the same |
| EP01203848A EP1170634B1 (en) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Exposure apparatus and device manufacturing method using the same |
| EP97303781A EP0811883B1 (en) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Exposure apparatus and device manufacturing method using the same |
| DE69740012T DE69740012D1 (de) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben |
| DE69739827T DE69739827D1 (de) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben |
| EP01203845A EP1170633A1 (en) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Exposure apparatus and device manufacturing method using the same |
| EP01203844A EP1174768B1 (en) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Exposure apparatus and device manufacturing method using the same |
| DE69739621T DE69739621D1 (de) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung desselben |
| EP00203428A EP1069477B1 (en) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Exposure apparatus and device manufacturing method using the same |
| KR1019970023342A KR100277111B1 (ko) | 1996-06-06 | 1997-06-05 | 노광장치와 이것을 이용한 디바이스 제조방법 |
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|---|---|---|---|
| JP16512496A JP3659529B2 (ja) | 1996-06-06 | 1996-06-06 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
Related Child Applications (2)
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| JP2004160440A Division JP3984973B2 (ja) | 2004-05-31 | 2004-05-31 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP2004160438A Division JP2004297081A (ja) | 2004-05-31 | 2004-05-31 | 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置 |
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|---|---|
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| DE (4) | DE69739827D1 (ja) |
| TW (1) | TW339456B (ja) |
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