JPH09293210A

JPH09293210A - 複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH09293210A
Application number: JP10680696A
Authority: JP
Inventors: Takashi Kawabe; 隆川邉; Akira Taniyama; 彰谷山; Katsunori Owada; 克則大和田; Tetsuya Okai; 哲也岡井
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1996-04-26
Filing date: 1996-04-26
Publication date: 1997-11-11

Abstract

(57)【要約】【課題】記録トラック幅を高精度化し、側面への記録磁
界にじみを低減した磁気コア形状を有する、複合型薄膜
磁気ヘッド製造及びその製造方法を提供する。【解決手段】記録ヘッド下部コア兼再生ヘッド上部シー
ルドを、媒体対向面の記録ギャップに接した部分では厚
く、媒体対向面の記録ギャップに接していない部分、及
びコイルと絶縁膜が形成されている部分では薄くする。
記録ヘッドコアを形成する時の素子段差高さを小さくで
きるため、高トラック密度記録に適した高精度ヘッドが
実現できる。また、再生ヘッドへの記録磁界の影響を低
減できるため、波形安定性に優れたヘッドが実現でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録装置、例
えば磁気ディスク装置や磁気テープ装置に搭載される複
合型薄膜磁気ヘッド、すなわち磁気抵抗効果型再生ヘッ
ドと誘導型記録ヘッドとを積層した複合型薄膜磁気ヘッ
ドに係り、特に、トラック幅が狭く高い面記録密度を実
現するために用いる複合型薄膜磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録装置の記録密度を増加させるた
めに、従来の記録再生兼用タイプの誘導型磁気ヘッドに
代わって、記録再生分離タイプの複合型薄膜磁気ヘッド
が注目されている。この複合型薄膜磁気ヘッドは、再生
ヘッドとしてシールド層を含む磁気抵抗効果型ヘッドを
有し、記録ヘッドとして誘導型薄膜ヘッドを有する積層
構造を取る。このうち、再生ヘッドのシールド層の一部
が記録ヘッドの磁気コアの一部と兼用されている構造の
ヘッドは「マージ（ｍｅｒｇｅ）型」と呼ばれ、積層構
造を簡略化できる利点があることから、多く採用されて
いる。

【０００３】記録密度の増加に伴って、磁気ヘッドの記
録トラック幅を狭く、かつ高精度に形成する要求が高ま
っている。複合型薄膜磁気ヘッドの記録トラック幅は、
誘導型ヘッド部分の磁気コア先端の幅で決定されるが、
上記のマージ型ヘッドの場合、通常の構造においては、
誘導型ヘッドの下部コアが再生ヘッドの上部シールドと
兼用されており、結果として下部コア（上部シールド）
先端の幅は、トラック幅を決める上部コア先端の幅に比
べて充分広い場合が多かった。ところが、下部コア先端
の幅が広いと記録磁界の横方向にじみが大きくなってし
まうため、これを避けるために、記録ギャップに近い側
の下部コア先端の幅を上部コア先端の幅と略同一にした
構造が、これまでも提案されていた。

【０００４】例えば、特開平５−１４３９３９号公報及
び特開平７−２２０２４５号公報には、上部シールドの
上半分が上部コアと等しい幅の矩形断面形状であり、上
部シールドの下半分がそれよりも広がった断面形状を有
する複合型薄膜磁気ヘッドが開示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記の公知例で示され
たヘッド素子部の、磁気媒体に対向する浮上面から見た
正面図、及び磁気コア中心部で切断した場合の側断面図
を図４に示す。基板１０１の上に、下部シールド１０
２、磁気抵抗効果型（ＭＲ）ヘッド１０３及び再生ギャ
ップ１０４、上部シールド（下部コア）１０５、記録ギ
ャップ１０６、コイル１０７及び絶縁膜１０８、上部コ
ア１０９、素子保護膜１１０を順に積層して、複合型磁
気ヘッドを構成する。ここで、上部シールド１０５の記
録ギャップ１０６に近い側は、上部コア１０９の先端と
概略同一幅にパターン形成され、記録ヘッドの横方向磁
界にじみを低減している。また、上部シールド１０５の
再生ギャップ１０４に近い側の幅は充分広く、下部シー
ルド１０２と対になってＭＲヘッドの信号分解能を高め
る働きを持っている。

【０００６】この従来型ヘッドにおいては、にじみ低減
後の記録トラック幅は上部磁気コアの先端幅４０１によ
って決められる。ところが、上記の積層順と図４に示し
た側断面図から明らかなように、上部コア１０９はコイ
ル１０７や絶縁膜１０８の後から形成されるため、コイ
ルや絶縁膜の作る約９〜１５μｍの高さの段差の下部に
おいて先端幅４０１のパターンを作製する必要が生じ
る。しかし、このような段差部分でパターン作製する場
合、パターン形状を決める感光性樹脂（ホトレジスト）
を塗布すると、段差の下部で樹脂が厚くなってしまうた
めに、段差下部のパターン精度を向上させることが難し
く、高精度な記録トラック幅を形成することは実質的に
は困難であった。したがって実際には、図４に示した構
造を持ち、かつ３μｍ以下のトラック幅を有する高記録
密度対応の薄膜磁気ヘッドを量産することは困難であっ
た。

【０００７】また、上部シールド１０５の上判部の幅を
上部コア幅４０１と略同一に形成する工程においても、
公知例である特開平５−１４３９３９号公報に示されて
いるように、上部コア１０９と上部シールド１０５を一
括イオンエッチングしようと試みると、絶縁膜１０８の
段差に近い部分はエッチングが進行しにくいため、所望
の精度で一括パターン形成することが困難であった。

【０００８】本発明は、これらの問題点を克服して、３
μｍ以下の狭トラックにおいて高精度な記録トラック幅
を達成し、併せて記録磁界にじみを低減した磁気コア先
端形状を有する複合型薄膜磁気ヘッド製造を提供するこ
とを目的とする。また、その複合型薄膜磁気ヘッドを安
定に作製するための製造方法を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の複合型薄膜磁気
ヘッドは、少なくとも記録ヘッド下部コアとしての働き
を兼用する再生ヘッド上部シールドと、記録ギャップ
と、記録ヘッド上部コアと、記録ヘッドを励磁するため
のコイル及びコイルを取り巻く絶縁膜とを有し、その上
部シールドが、少なくとも次に示す３つの部分から成る
ことを特徴とする。（わかりやすくするため、以下の
（）で示した番号は、図１の同じ番号の部分と対応さ
せてある）すなわち、少なくとも（１）磁気媒体対向面において記
録ギャップに接し、上部コアと概略で同じ幅に形成され
た最も厚い部分と、（２）磁気媒体対向面に露出してい
るが、記録ギャップには接していない（１）よりも薄い
部分と、（３）磁気媒体対向面に露出しておらず、その
上部にコイル及び絶縁膜が形成されている（１）よりも
薄い部分、の３つの部分から成ることを特徴とする。

【００１０】ここで、（１）の部分と（２）の部分の膜
厚差は、記録磁界にじみを抑制するために大きく設定す
ることが望ましく、少なくとも記録ギャップ長（記録ギ
ャップ膜の厚さ）と同じ程度にするのが望ましい。

【００１１】また、（３）の部分の膜厚に関しては、絶
縁膜段差解消の観点から見れば、できるだけ小さくする
（すなわち、できるだけ（１）部分との膜厚差を大きく
する）のが望ましいが、薄くし過ぎると記録磁束の飽和
が発生して記録能力が劣化するため、少なくとも１μｍ
以上に設定するのが望ましい。

【００１２】また通常の場合、コイルを含む絶縁膜の全
体厚さは１０μｍ程度であるから、上部コア作製時の絶
縁膜段差を充分に小さくするためには、（１）の部分の
膜厚をできるだけ大きくしておくことが望ましい。具体
的には、少なくとも（１）の部分の膜厚を４μｍ以上に
して、後述するように（１）と（３）の部分の膜厚差を
３μｍ程度以上とし、絶縁膜段差を７μｍ以下程度に小
さくしておくことが望ましい。

【００１３】また、（１）の部分と（３）の部分の膜厚
差は、上部コア作製時の絶縁膜段差高さよりも大きくし
ておくこと、すなわち記録ギャップ面の高さがコイルを
含む絶縁膜全体の厚さの中央よりも高いところに位置す
るようにヘッド作製することにより、記録ヘッドトラッ
ク幅の高精度化が実現できる。

【００１４】また、トラック幅の高精度化という点から
見れば、（２）の部分がない構造、すなわち（１）と
（３）の部分のみから成る製造を採用しても、本発明の
一部の効果が達成できる。

【００１５】一方、絶縁膜の先端位置を、上記（１）の
部分の上に配置すれば、記録ヘッドのギャップ深さを高
精度に制御することも可能である。

【００１６】また、浮上面に露出しない部分の上部コア
の膜厚を、浮上面に露出する部分の上部コアの膜厚より
も大きくしておけば、磁気コア先端での磁束の絞り込み
が有効に働くため、優れた記録磁界分布を持つヘッドが
実現できる。これについては、上記（２）の部分を作製
する際に、上部コアの後部のみ（浮上面に露出しない部
分）をホトレジスト等でマスクしてエッチングすること
により、上記（１）の部分がセルフアライメントマスク
として働くためわずかに膜厚減少し、結果として所望の
構造を作製することが可能になる。

【００１７】一方、本発明の複合型薄膜磁気ヘッドは、
少なくとも再生ヘッドＭＲ素子部と、記録ヘッド下部コ
アとしての働きを兼用する再生ヘッド上部シールドと、
記録ギャップと、記録ヘッドを励磁するためのコイル及
びコイルを取り巻く絶縁膜とを有し、ＭＲ素子部から見
た積層方向の高さが（ａ）上部シールド下面、（ｂ）コ
イルまたは絶縁膜の底面、（ｃ）磁気媒体対向面に露出
しているが、記録ギャップには接していない部分の上
面、（ｄ）磁気媒体対向面に露出しており、記録ギャッ
プに接している部分の上面、の順に高くなってゆくこと
を特徴とする。（なお、（）で示した記号は、図１の
同じ記号の部分と対応させてある）ここで、記録ギャッ
プと再生ギャップの距離は、少なくとも４μｍ以上とす
るのが望ましい。

【００１８】さらに、本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの
製造方法は、（１）基板上に下部シールド、ＭＲヘッド
及び再生ギャップを形成する工程、（２）再生ギャップ
上に上部シールド膜を成膜する工程、（３）上部シール
ド膜の一部をエッチングして膜厚を小さくし、絶縁膜と
コイルを作製するための凹部を形成する工程、（４）上
部シールド膜パターンを形成する工程、（５）上部シー
ルド膜パターン上に記録ギャップ膜を作製する工程、
（６）少なくとも（３）で形成した凹部を含めて絶縁膜
とコイルを形成する工程、（７）上部コアを形成する工
程、（８）上部コア幅と概略同一幅になるように、少な
くとも磁気媒体対向面近傍の上部シールド膜表面をエッ
チングして、膜厚を小さくする工程、の各工程を含むこ
とを特徴とする。

【００１９】また、本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの製
造方法は、（１）基板上に下部シールド、ＭＲヘッド及
び再生ギャップを形成する工程、（２）再生ギャップ上
に上部シールド膜を成膜する工程、（３）上部シールド
膜の一部をエッチングして膜厚を小さくし、絶縁膜とコ
イルを作製するための凹部を形成する工程、（４）後か
ら形成する上部コア幅と概略同一幅になるように、磁気
媒体対向面近傍の上部シールド膜表面をエッチングし
て、膜厚を小さくする工程、（５）上部シールド膜パタ
ーンを形成する工程、（６）上部シールド膜パターン上
に記録ギャップ膜を作製する工程、（７）少なくとも
（３）で形成した凹部を含めて絶縁膜とコイルを形成す
る工程、（８）（４）で形成したパターンの部分に、先
端が位置合わせされるように上部コアを形成する工程、
の各工程を含むことを特徴とする。

【００２０】また、本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの製
造方法は、（１）基板上に下部シールド、ＭＲヘッド及
び再生ギャップを形成する工程、（２）再生ギャップ上
に第１上部シールド膜パターンを成膜する工程、（３）
少なくとも絶縁膜とコイルを作製するための部分を除い
て、第２上部シールド膜パターンを形成する工程、
（４）第１及び第２上部シールド膜パターン上に記録ギ
ャップ膜を作製する工程、（５）少なくとも（３）で形
成した凹部を含めて絶縁膜とコイルを形成する工程、
（６）上部コアを形成する工程、（７）上部コア幅と概
略同一幅になるように、少なくとも磁気媒体対向面近傍
の上部シールド膜表面をエッチングして、膜厚を小さく
する工程、の各工程を含むことを特徴とする。

【００２１】本発明の複合型薄膜磁気ヘッドでは、厚い
シールド膜を活用することにより、下部コア兼用の上部
シールド膜パターンのうち、後から絶縁膜及びコイルを
形成する部分にあらかじめ凹部を作製しておき、その部
分に埋め込むように絶縁膜とコイルをパターン形成す
る。これによって、磁気媒体対向面近傍で記録ギャップ
を形成する上部シールド膜の上面と、コイルを含んだ絶
縁膜の表面との高さの差が小さくなり、上部磁気コア形
成時の絶縁膜段差を小さくできる。その結果、段差部分
に塗布するホトレジスト膜厚を小さくできるようにな
り、上部コア幅（トラック幅）を高精度に形成できる。

【００２２】図５に、実験によって得られた、上部磁気
コア形成時の絶縁膜段差高さと、段差部分に形成したト
ラック幅パターン精度（３σ値）との関係を示す、この
図から、３μｍ以下のトラック幅を有するヘッドを作製
するためには、パターン精度を±１０％（０．３μｍ）
まで許容すると仮定すると、絶縁膜段差高さを７μｍ以
下にする必要があることがわかる。

【００２３】また、上部コア幅に揃えるように上部シー
ルド膜表面をエッチングする工程においても、絶縁膜段
差が小さい状態でのエッチングが可能となるため、エッ
チング用イオン入射が段差によるシャドウイングの影響
を受けなくなり、均一なエッチング及び安定なパターン
形成が可能となる。特に、この工程でもホトレジストマ
スクを利用する場合には、上記の作用（ホトレジスト膜
厚を小さくできる）も加わって、さらに大きな効果を得
ることができる。

【００２４】なお、実際の適用にあたっては、上部シー
ルドの各部分の膜厚やパターン形状、及び上部コアや絶
縁膜形状等に関して、それぞれのヘッド設計に応じた最
適値を求める必要があることは言うまでもない。

【００２５】また本発明のヘッド構造の採用により、通
常は３μｍ程度であった記録ギャップと再生ギャップの
間隔を従来に比べて４μｍ以上にまで広くすることが容
易になり、再生ヘッドに及ぼす記録磁界の悪影響を低減
することも可能となる。したがって、記録電流を増加さ
せた場合でも、再生波形の安定性に優れた複合型ヘッド
の実現が可能となる。

【００２６】一方、本発明の製造方法においては、もし
上部シールド膜材料が所望のテーパ形状にエッチングし
やすい場合は、厚いシールド膜をエッチングして絶縁膜
形成用の凹部を作製することができ、逆にエッチングし
にくい場合は、シールド膜を２層にわけてリフトオフ等
の手法を用いることによりパターン形成できるため、い
ずれも本発明の複合型磁気ヘッドを容易に作製できる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を用
いて説明する。図１は、本発明の一実施例としての複合
型薄膜磁気ヘッドの構造を表わしており、磁気媒体に対
向する浮上面から見た正面図、及び磁気コア中心部で切
断した場合の側断面図を併せて示している。もちろん、
ここで示した構造や膜厚等の寸法は一つの例に過ぎず、
本発明の主旨を損なわない範囲でこれらを変更してもま
ったく問題ない。

【００２８】図１においては、Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ基板１
０１（表面に下地Ａｌ₂Ｏ₃膜（５μｍ）を作製してあ
る）の上に、下部シールド１０２としてのＦｅＡｌＳｉ
膜（２μｍ）、磁気抵抗効果型（ＭＲ）ヘッド１０３及
び再生ギャップ１０４としてのＡｌ₂Ｏ₃膜（０．２μ
ｍ）、上部シールド（下部コア）１０５としてのＮｉＦ
ｅ膜、記録ギャップ１０６としてのＡｌ₂Ｏ₃膜（０．４
μｍ）、Ｃｕコイル１０７（３μｍ）及び熱硬化したホ
トレジスト絶縁膜１０８（７μｍ）、上部コア１０９と
してのＮｉＦｅ膜（３．５μｍ）、素子保護膜１１０と
してのＡｌ₂Ｏ₃膜（３０μｍ）を順に積層して作製し
た、複合型磁気ヘッドの概略構造を表わしている。上部
シールド１０５の記録ギャップ１０６に近い側は、上部
コア１０９の先端と概略同一幅（２．５μｍ）にパター
ン形成されている。また、上部シールド１０５の厚さ
は、記録ギャップ１０６に接している最も厚い部分で６
μｍ、浮上面に露出しているやや薄い部分で５．２μｍ
であり、コイル１０７や絶縁膜１０８が形成されている
掘り込まれた部分では２μｍとなっている。したがっ
て、通常の構造と比較して（６−２）＝４μｍの段差が
緩和されているため、上部コア１０９を形成する時の絶
縁膜段差は、従来の７μｍから３μｍまで低減された。
その結果、上部コア１０９の寸法（トラック幅）精度及
び上部シールド１０５のパターン精度が、従来に比べて
約半分となり、著しく向上した。

【００２９】図２は、本発明の別の実施例としての複合
型薄膜磁気ヘッドの構造を表わしており、図１と同様の
浮上面から見た正面図、及び側断面図を併せて示してい
る。

【００３０】図２においては、Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ基板１
０１の上に、下部シールド１０２としてのＣｏＮｂＮｒ
膜（２μｍ）、磁気抵抗効果型（ＭＲ）ヘッド１０３及
び再生ギャップ１０４としてのＡｌ₂Ｏ₃膜（０．２５μ
ｍ）、上部シールド（下部コア）１０５としてのＣｏＮ
ｂＺｒ／Ａｌ₂Ｏ₃多層（１層あたり２．０／０．０５μ
ｍ）膜、記録ギャップ１０６としてのＡｌ₂Ｏ₃膜（０．
３５μｍ）、２層構造のＣｕコイル１０７（３＋３μ
ｍ）及び熱硬化したホトレジスト絶縁膜１０８（１２μ
ｍ）、上部コア１０９としてのＣｏＮｂＺｒ膜（３．８
μｍ）、素子保護膜１１０としてのＡｌ₂Ｏ₃膜（３０μ
ｍ）を順に積層して作製した、複合型磁気ヘッドの概略
構造を表わしている。上部シールド１０５の記録ギャッ
プ１０６に近い側は、上部コア１０９の先端と概略同一
幅（２．２μｍ）にパターン形成されている。また、上
部シールド１０５の厚さは、記録ギャップ１０６に接し
ている最も厚い部分で８μｍ、浮上面に露出しているや
や薄い部分で７．３μｍであり、コイル１０７や絶縁膜
１０８が形成されている掘り込まれた部分では１．５μ
ｍとなっている。したがって、通常の構造と比較して
（８−１．５）＝６．５μｍの段差が緩和されているた
め、上部コア１０９を形成する時の絶縁膜段差は、従来
の１２μｍから５．５μｍまで低減された。その結果、
上部コア１０９の寸法（トラック幅）精度及び上部シー
ルド１０５のパターン精度が、従来に比べて約２／３と
なり、狭トラックが実現できた。

【００３１】図３は、本発明の別の実施例としての複合
型薄膜磁気ヘッドの製造方法を表わしており、各工程毎
に、図１と同様の正面図と側断面図を併せて示してい
る。

【００３２】まず図３（ａ）に示したように、Ａｌ₂Ｏ₃
−ＴｉＣ基板１０１の上に、下部シールド１０２として
のＦｅＡｌＳｉ膜（２．７μｍ）、磁気抵抗効果型（Ｍ
Ｒ）ヘッド１０３及び再生ギャップ１０４としてのＡｌ
₂Ｏ₃膜（０．２５μｍ）を作製した後、上部シールド兼
下部コア材料１０５としてＮｉＦｅ膜（５．５μｍ）を
成膜した。次に図３（ｂ）に示したように、ホトレジス
トをマスクにしたテーパエッチング技術を利用して、Ｎ
ｉＦｅ膜を深さ４μｍだけ掘り込んだ後、不要な部分を
エッチング除去してパターン形成した。次に図３（ｃ）
に示したように、記録ギャップ１０６としてのＡｌ₂Ｏ₃
膜（０．３５μｍ）、Ｃｕコイル１０７（３μｍ）及び
熱硬化したホトレジスト絶縁膜１０８（７μｍ）をそれ
ぞれ作製した。ここで、記録ヘッドのギャップ深さを高
精度に決めるため、絶縁膜の先端部３０１は、上部シー
ルド膜１０５の段差上部に位置するようパターン形成し
た。次に図３（ｄ）に示したように、上部コア１０９と
してのＮｉＦｅ膜（３．５μｍ）パターンを電気めっき
法で作製し、その後、図３（ｅ）に示したように、浮上
面近くの上部シールド膜１０５及び記録ギャップ膜１０
６を、上部コアパターン１０９を利用してエッチング
し、記録ヘッド磁極形状を作製した。

【００３３】本工程では、トラック幅を決める部分に対
する絶縁膜段差高さは３μｍと低いために、（ｄ）に示
した工程における上部コア１０９、及び（ｅ）に示した
工程における上部シールドパターン１０５の寸法精度
（３σ値）を、従来の０．３２μｍに比べて０．２３μ
ｍまで向上できた。

【００３４】

【発明の効果】本発明により、簡単な構造変更によっ
て、複合型薄膜磁気ヘッドの記録トラック幅を形成する
時の素子段差を小さくできるため、記録トラック幅の高
精度化が実現できた。また、記録磁界にじみを低減でき
る、新規な複合型薄膜磁気ヘッドが実現できた。また、
記録ギャップと再生ギャップの間隔が従来に比べて広く
なったために、再生ヘッドに及ぼす記録磁界の悪影響を
低減することができ、再生波形の安定性に優れた複合型
薄膜磁気ヘッドが実現できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例としての複合型薄膜磁気ヘッド
の主要部概略構造を表わす正面図及び断面図である。

【図２】本発明の実施例としての複合型薄膜磁気ヘッド
の主要部概略構造を表わす正面図及び断面図である。

【図３】本発明の実施例としての複合型薄膜磁気ヘッド
の製造方法を表わす正面図及び断面図である。

【図４】従来の複合型薄膜磁気ヘッドの主要部概略構造
を表わす正面図及び断面図である。

【図５】本発明の効果を表わす段差高さと寸法精度との
関係グラフである。

【符号の説明】

１０１…基板、１０２…下部シールド、１
０３…ＭＲヘッド、１０４…再生ギャップ、１０５…上
部シールド（下部コア）、１０６…記録ギャップ、１０
７…コイル、１０８…絶縁膜、１０９…上部
コア、１１０…素子保護膜、３０１…絶縁膜
先端部、４０１…上部コア幅。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者岡井哲也神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも記録ヘッド下部コアとしての働
きを兼用する再生ヘッド上部シールドと、記録ギャップ
と、記録ヘッド上部コアと、記録ヘッドを励磁するため
のコイル及びコイルを取り巻く絶縁膜とを有し、該上部
シールドが、（１）磁気媒体対向面において該記録ギャ
ップに接し、該上部コアと概略で同じ幅に形成された最
も厚い部分と、（２）磁気媒体対向面に露出している
が、該記録ギャップには接しておらず、かつ膜厚が
（１）の部分より薄い部分と、（３）磁気媒体対向面に
露出しておらず、かつその上部に該コイル及び該絶縁膜
が形成されており、かつ膜厚が（１）よりも薄い部分と
の、少なくとも３つの部分から成ることを特徴とする複
合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項２】上記（１）の部分と上記（２）の部分の膜
厚差が、記録ギャップ長と同じか、それより大きいこと
を特徴とする、請求項１に記載の複合型薄膜磁気ヘッ
ド。
【請求項３】上記（３）の部分の膜厚が１μｍ以上であ
ることを特徴とする、請求項１に記載の複合型薄膜磁気
ヘッド。
【請求項４】少なくとも上記（１）の部分の膜厚が４μ
ｍ以上であることを特徴とする、請求項１に記載の複合
型薄膜磁気ヘッド。
【請求項５】ギャップ深さを決める該絶縁膜の先端位置
が、上記（１）の部分の上に配置されていることを特徴
とする、請求項１に記載の複合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項６】磁気媒体対向面に露出している該上部コア
の厚さが、磁気媒体対向面に露出していない部分の該上
部コアの厚さよりも小さいことを特徴とする、請求項１
に記載の複合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項７】少なくとも再生ヘッドであるＭＲ素子部
と、記録ヘッド下部コアとしての働きを兼用する再生ヘ
ッド上部シールドと、記録ギャップと、記録ヘッドを励
磁するためのコイル及びコイルを取り巻く絶縁膜とを有
し、該ＭＲ素子部から見た積層方向の高さが、（ａ）該
上部シールド下面、（ｂ）該絶縁膜の底面、（ｃ）該シ
ールド上面のうちで、磁気媒体対向面に露出しているが
該記録ギャップには接していない部分、（ｄ）該シール
ド上面のうちで、磁気媒体対向面に露出しており該記録
ギャップに接している部分、の順に高くなってゆくこと
を特徴とする、複合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項８】少なくとも記録ヘッド下部コアとしての働
きを兼用する再生ヘッド上部シールドと、記録ギャップ
と、磁気ヘッド上部コアと、記録ヘッドを励磁するため
のコイル及びコイルを取り巻く絶縁膜とを有し、記録ギ
ャップ位置から見た絶縁膜の高さが７μｍ以下であるこ
とを特徴とする、複合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項９】請求項１に記載された少なくとも３つの部
分から成る上部シールドを有する、請求項７に記載の、
複合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項１０】少なくとも記録ヘッド下部コアとしての
働きを兼用する再生ヘッド上部シールドと、記録ギャッ
プと、記録ヘッド上部コアと、記録ヘッドを励磁するた
めのコイル及びコイルを取り巻く絶縁膜とを有し、該記
録ギャップ面の高さがコイルを含む該絶縁膜全体の厚さ
の中央よりも高いところに位置することを特徴とする、
複合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項１１】少なくとも再生ヘッドを含む再生ギャッ
プと、記録ヘッド下部コアとしての働きを兼用する再生
ヘッド上部シールドと、記録ギャップとを有し、該再生
ギャップと該記録ギャップとの間隔が４μｍ以上である
ことを特徴とする、複合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項１２】少なくとも記録ヘッド下部コアとしての
働きを兼用する再生ヘッド上部シールドと、記録ギャッ
プと、記録ヘッド上部コアと、記録ヘッドを励磁するた
めのコイル及びコイルを取り巻く絶縁膜とを有し、該上
部シールドが、（１）磁気媒体対向面に露出して、該記
録ギャップに接している厚い部分と、（２）磁気媒体対
向面に露出しておらず、かつその上部に該コイル及び該
絶縁膜が形成されており、かつ膜厚が（１）よりも薄い
部分との、少なくとも２つの部分から成ることを特徴と
する複合型薄膜磁気ヘッド。
【請求項１３】（１）基板上に下部シールド、ＭＲヘッ
ド及び再生ギャップを形成する工程、（２）該再生ギャ
ップ上に上部シールド膜を成膜する工程、（３）該上部
シールド膜の一部をエッチングして膜厚を小さくし、絶
縁膜とコイルを作製するための凹部を形成する工程、
（４）上部シールド膜パターンを形成する工程、（５）
該上部シールド膜パターン上に記録ギャップ膜を作製す
る工程、（６）少なくとも（３）で形成した凹部を含め
て絶縁膜とコイルを形成する工程、（７）上部コアを形
成する工程、（８）該上部コア幅と概略同一幅になるよ
うに、少なくとも磁気媒体対向面近傍の該上部シールド
膜表面をエッチングして、膜厚を小さくする工程、の各
工程を少なくとも含むことを特徴とする、複合型薄膜磁
気ヘッドの製造方法。
【請求項１４】（１）基板上に下部シールド、ＭＲヘッ
ド及び再生ギャップを形成する工程、（２）該再生ギャ
ップ上に上部シールド膜を成膜する工程、（３）該上部
シールド膜の一部をエッチングして膜厚を小さくし、絶
縁膜とコイルを作製するための凹部を形成する工程、
（４）後から形成する上部コア幅と概略同一幅になるよ
うに、磁気媒体対向面近傍の該上部シールド膜表面をエ
ッチングして、膜厚を小さくする工程、（５）上部シー
ルド膜パターンを形成する工程、（６）該上部シールド
膜パターン上に記録ギャップ膜を作製する工程、（７）
少なくとも（３）で形成した凹部を含めて絶縁膜とコイ
ルを形成する工程、（８）（４）で形成したパターンの
部分に、先端が位置合わせされるように上部コアを形成
する工程、の各工程を少なくとも含むことを特徴とす
る、複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１５】（１）基板上に下部シールド、ＭＲヘッ
ド及び再生ギャップを形成する工程、（２）該再生ギャ
ップ上に第１上部シールド膜パターンを成膜する工程、
（３）少なくとも絶縁膜とコイルを作製するための部分
を除いて、第２上部シールド膜パターンを形成する工
程、（４）該第１及び該第２上部シールド膜パターン上
に記録ギャップ膜を作製する工程、（５）少なくとも
（３）で形成した凹部を含めて絶縁膜とコイルを形成す
る工程、（６）上部コアを形成する工程、（７）上部コ
ア幅と概略同一幅になるように、少なくとも磁気媒体対
向面近傍の該上部シールド膜表面をエッチングして、膜
厚を小さくする工程、の各工程を少なくとも含むことを
特徴とする、複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法。