JPH09281119A - Probe-sample approach mechanism of scanning type probe microscope - Google Patents
Probe-sample approach mechanism of scanning type probe microscopeInfo
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- JPH09281119A JPH09281119A JP12113996A JP12113996A JPH09281119A JP H09281119 A JPH09281119 A JP H09281119A JP 12113996 A JP12113996 A JP 12113996A JP 12113996 A JP12113996 A JP 12113996A JP H09281119 A JPH09281119 A JP H09281119A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は走査型プローブ顕微
鏡の探針・試料接近機構に関し、特に、パルス信号で駆
動され、高速自動接近機能とフェイルセーフ機能を備え
た走査型プローブ顕微鏡の探針・試料接近機構に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe / sample approach mechanism for a scanning probe microscope, and more particularly to a probe for a scanning probe microscope driven by a pulse signal and having a high-speed automatic approach function and a fail-safe function. Regarding the sample approach mechanism.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば原子間力顕微鏡で、試料の表面の
観察を行うとき、その前の段階で試料表面に対して探針
を所定の微小距離まで接近させることが必要である。そ
のため、原子間力顕微鏡は探針・試料接近機構を備え
る。この探針・試料接近機構の動作の制御では、探針が
試料に衝突することにより探針および試料が損傷するこ
とを避けることが重要である。このような機能を有する
従来の探針・試料接近機構の一例として、特開平5−4
5111号公報に開示される技術を挙げる。当該技術文
献は、走査型プローブ顕微鏡においてプローブ(探針)
を、試料に衝突させることなく、自動的に接近させるプ
ローブ自走接近機構を開示する。このプローブ自動接近
機構は、プローブを微動させる微動機構と、試料台を移
動させる粗動機構と、これらの微動機構と粗動機構の各
動作を制御する制御手段とからなり、この制御手段は、
試料とプローブとの間隔を検出し、当該距離が所定の距
離になったと判断すると、粗動機構の動作を停止させ、
かつ微動機構の動作を、当該プローブが試料から離れる
方向に退避動作させる。このように、大きな動作を生じ
る粗動機構を停止させることと、微動機構によってプロ
ーブを退避させることによってプローブと試料との衝突
を避けるようにしている。微動機構に退避動作を行わせ
るとき、通常の制御のときに使用されるフィードバック
回路を使用しないようにし、応答性を高めている。2. Description of the Related Art For example, when observing the surface of a sample with an atomic force microscope, it is necessary to bring a probe close to the sample surface to a predetermined minute distance before the observation. Therefore, the atomic force microscope has a probe / sample approach mechanism. In controlling the operation of the probe / sample approach mechanism, it is important to avoid damage to the probe and the sample due to collision of the probe with the sample. As an example of a conventional probe / sample approach mechanism having such a function, Japanese Patent Laid-Open No. 5-4
The technique disclosed in Japanese Patent No. 5111 will be given. The technical document is a probe (probe) in a scanning probe microscope.
A probe self-propelled approach mechanism for automatically approaching the sample without colliding with the sample is disclosed. This probe automatic approach mechanism is composed of a fine movement mechanism for finely moving the probe, a coarse movement mechanism for moving the sample stage, and a control means for controlling each operation of these fine movement mechanism and coarse movement mechanism.
When the distance between the sample and the probe is detected and it is determined that the distance has reached the predetermined distance, the operation of the coarse movement mechanism is stopped,
Moreover, the operation of the fine movement mechanism is retracted in the direction in which the probe is separated from the sample. In this way, the coarse movement mechanism that causes a large movement is stopped, and the fine movement mechanism retracts the probe to avoid collision between the probe and the sample. When the fine movement mechanism is caused to perform the retracting operation, the feedback circuit used in the normal control is not used to improve the responsiveness.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記の従来装置では、
粗動機構の動作と微動機構の動作を組合せて試料への探
針の接近を急停止し、探針と試料との接触を防止してい
る。かかる構成では、微動機構の動作特性によってその
応答性が決まるが、当該応答性に関する周波数は一般的
には数kHzである。しかしながら、現在、原子間力顕
微鏡の測定は、さらなる高速化が要求されており、上記
微動機構の応答性によれば接近速度の高速化の障害にな
っていた。このことは走査型プローブ顕微鏡にとって一
般的な問題である。In the above-mentioned conventional apparatus,
By combining the operation of the coarse movement mechanism and the operation of the fine movement mechanism, the approach of the probe to the sample is suddenly stopped to prevent contact between the probe and the sample. In such a configuration, the responsiveness is determined by the operating characteristics of the fine movement mechanism, and the frequency related to the responsiveness is generally several kHz. However, at present, the atomic force microscope is required to have a higher speed, and the responsiveness of the fine movement mechanism is an obstacle to the increase in the approach speed. This is a common problem for scanning probe microscopes.
【0004】本発明の第1の目的は、上記の課題を解決
することにあり、応答性を高め、探針と試料の間の接近
動作において高速の自動接近を達成できる走査型プロー
ブ顕微鏡の探針・試料接近機構を提供することにある。A first object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to improve the responsivity, a probe for a scanning probe microscope capable of achieving high-speed automatic approach in the approach operation between the probe and the sample. It is to provide a needle / sample approach mechanism.
【0005】本発明の他の目的は、特別な構成を加える
ことなくそれ自体でフェイルセーフ機能が実現され、探
針や試料の破壊を阻止できる走査型プローブ顕微鏡の探
針・試料接近機構を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a probe / sample approaching mechanism of a scanning probe microscope which can realize a fail-safe function by itself without adding a special structure and prevent destruction of a probe or a sample. To do.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段および作用】第1の本発明
(請求項1に対応)に係る走査型プローブ顕微鏡の探針
・試料接近機構は、上記の各目的を達成するため、次の
ように構成される。本発明による走査型プローブ顕微鏡
は、大気環境で測定動作や接近動作が行われるもので、
測定時に試料の測定表面に臨むように配置される探針
(プローブともいう)を先部に有するカンチレバーを備
えており、さらに当該カンチレバーと試料とを接近させ
または離反させる機構部分を備える。当然のことなが
ら、大気環境にある試料の表面には吸着層が形成されて
いる。カンチレバーまたは試料のいずれかの接近動作に
よって探針を試料の表面に所要間隔で接近させ、これに
より、探針と試料の表面との間の相互作用に基づき当該
表面の微細性状(凹凸形状等)を測定する。本発明に係
る探針・試料接近機構は、かかる走査型プローブ顕微鏡
に適用され、カンチレバーと試料とを接近させまたは離
反させる上記機構部分の構成に関する。当該探針・試料
接近機構は、探針と試料が比較的に大きな距離で接近す
るように移動動作(粗動)を行う接近装置(Zステー
ジ)を含む。この接近装置は例えばスッテピングモータ
によって構成され、パルス信号で駆動されるにように構
成される。またカンチレバーを発振(振動)させる構成
を有し、そのための発振装置を備える。本発明の特徴的
構成は、上記の接近装置を駆動するためのパルス信号と
して、カンチレバーの発振動作から得られる発振信号に
基づいて作られるパルス信号が使用される点にある。Means and Actions for Solving the Problems The probe / sample approaching mechanism of the scanning probe microscope according to the first aspect of the present invention (corresponding to claim 1) is as follows in order to achieve each of the above objects. Is composed of. The scanning probe microscope according to the present invention is used for measuring operation and approaching operation in an atmospheric environment.
A cantilever having a probe (also referred to as a probe) arranged at the tip so as to face the measurement surface of the sample at the time of measurement is provided, and further, a mechanism portion for making the cantilever and the sample approach or separate from each other. As a matter of course, an adsorption layer is formed on the surface of the sample in the atmospheric environment. The probe moves closer to the surface of the sample at a required interval by the approaching motion of either the cantilever or the sample, and as a result, based on the interaction between the probe and the surface of the sample, the fine characteristics of the surface (uneven shape, etc.) To measure. The probe / sample approaching mechanism according to the present invention is applied to such a scanning probe microscope, and relates to the configuration of the above-mentioned mechanism portion that causes the cantilever and the sample to approach or separate from each other. The probe / sample approach mechanism includes an approach device (Z stage) that performs a moving operation (coarse motion) so that the probe and the sample approach each other at a relatively large distance. This approaching device is constituted by, for example, a stepping motor, and is driven by a pulse signal. Further, the cantilever is configured to oscillate (vibrate), and an oscillation device therefor is provided. A characteristic configuration of the present invention is that a pulse signal generated based on an oscillation signal obtained from an oscillation operation of a cantilever is used as a pulse signal for driving the approaching device.
【0007】第1の本発明の構成によれば、探針と試料
とを接近させるとき、カンチレバーを発振させ、カンチ
レバーの発振動作で得られる交流電気信号を利用して、
接近装置駆動用のパルス信号を生成するようにした。従
って、試料と探針が接触する直前で試料表面の吸着層が
探針を引き込み、これによってカンチレバーの発振を停
止させ、上記パルス信号の発生をなくし、接近動作を自
動的に停止させることが可能となる。高速の接近動作を
行いながら、探針と試料と衝突を防ぎ、探針や試料の破
損を防止しながら、適切な距離で停止させることができ
る。According to the structure of the first aspect of the present invention, when the probe and the sample are brought close to each other, the cantilever is oscillated, and the alternating electric signal obtained by the oscillating operation of the cantilever is used,
A pulse signal for driving the approaching device is generated. Therefore, the adsorption layer on the surface of the sample draws in the probe just before the sample comes into contact with the probe, which stops the oscillation of the cantilever, eliminates the generation of the pulse signal, and stops the approach operation automatically. Becomes While performing a high-speed approaching operation, it is possible to stop the probe and the sample at an appropriate distance while preventing the probe from colliding with the sample and preventing damage to the probe and the sample.
【0008】第2の本発明(請求項2に対応)に係る走
査型プローブ顕微鏡の探針・試料接近機構は、第1の発
明の構成において、カンチレバーの発振動作を交流電気
信号に変換する変換器と、交流電気信号を方形波信号に
変換する波形整形器と、方形波信号を分周する分周器を
備え、この分周器で得られた分周信号を上記パルス信号
として用いるように構成される。A probe / sample approaching mechanism of a scanning probe microscope according to a second aspect of the present invention (corresponding to claim 2) is a conversion mechanism for converting an oscillation operation of a cantilever into an AC electric signal in the structure of the first aspect of the invention. A wave shaper for converting an AC electric signal into a square wave signal, and a frequency divider for dividing the square wave signal, and the frequency division signal obtained by this frequency divider is used as the pulse signal. Composed.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施形態
を添付図面に基づいて説明する。Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【0010】図1は、本発明の実施形態を示し、本発明
による探針・試料接近機構が装備された通常の接触(コ
ンタクト)モードの例えば原子間力顕微鏡(以下AFM
という)の実施形態を示す。このAFMは、試料表面を
観察する場合には接触モードで動作する。また当該AF
Mは大気中の環境で測定が行われるものであることを前
提としている。従って、測定を開始する前の段階で、大
気中に置かれた試料の表面には吸着層が形成されてい
る。この吸着層は、大気中の水分子が試料表面に着くこ
とに層状に形成されるものであり、約数ナノメータの層
となっている。本発明による探針・試料接近機構は、A
FMによって大気環境でかつ接触モードで試料表面の測
定・観察を行う前の段階で、探針と試料を所要の距離に
接近させるための装置であり、比較的に大きな移動距離
(粗動)で接近動作を行う。図1に従って、本実施形態
による探針・試料接近機構を備えた接触モードのAFM
の構成および動作を説明する。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. For example, an atomic force microscope (hereinafter AFM) in a normal contact mode equipped with a probe / sample approach mechanism according to the present invention.
That is, the embodiment will be described. The AFM operates in contact mode when observing the sample surface. Also the AF
M is premised on that the measurement is performed in the atmospheric environment. Therefore, before the start of the measurement, an adsorption layer is formed on the surface of the sample placed in the atmosphere. This adsorption layer is formed in layers when water molecules in the atmosphere reach the surface of the sample, and is a layer of about several nanometers. The probe / sample approach mechanism according to the present invention is
This is a device for bringing the probe and sample closer to the required distance in the stage before measuring and observing the sample surface in the atmospheric environment and contact mode by FM, and with a relatively large movement distance (coarse movement). Perform an approaching motion. According to FIG. 1, a contact mode AFM including a probe / sample approach mechanism according to the present embodiment.
The configuration and operation of will be described.
【0011】11はカンチレバーで、その先端に探針1
2が設けられている。カンチレバー11の基部は加振用
圧電素子13を介してフレーム14の上部に固定され
る。フレーム14の下部にはXYZスキャナ15とZス
テージ31が設けられる。XYZスキャナ15はZステ
ージ31の上に設けられ、Zステージ31はフレーム1
4の下部に固定される。XYZスキャナ15の上面には
試料16が配置される。XYZスキャナ15は、直交す
る3軸(X軸、Y軸、Z軸)の各軸方向に微細な変位を
発生するための圧電素子等からなる微動駆動部(X軸方
向駆動部、Y軸方向駆動部、Z軸方向駆動部)を内蔵し
ている。これによって、試料16を任意の方向に微小距
離だけ移動させることができる。XYZスキャナ15
は、測定・観測時における探針・試料間の距離の調整や
XY走査移動のための微動機構としての働きを持つ。Z
ステージ31は、XYZスキャナ15および試料16を
Z軸方向に比較的に大きな距離で移動させるもので、探
針12と試料16を接近させる場合に当該動作を行う。
Zステージ31は接近動作用の粗動機構としての働きを
持つ。Zステージ31の具体的構造は、例えばステッピ
ングモータを内蔵し、このステッピングモータによって
上記移動のための動作を行う。従って、Zステージ31
には、外部からステッピングモータを動作させる駆動信
号としてのパルス信号32が入力される。Reference numeral 11 is a cantilever, and the probe 1 is attached to its tip.
2 are provided. The base of the cantilever 11 is fixed to the upper part of the frame 14 via the piezoelectric element 13 for vibration. An XYZ scanner 15 and a Z stage 31 are provided below the frame 14. The XYZ scanner 15 is provided on a Z stage 31, and the Z stage 31
4 is fixed to the lower part. A sample 16 is arranged on the upper surface of the XYZ scanner 15. The XYZ scanner 15 includes a fine movement drive unit (X-axis direction drive unit, Y-axis direction drive unit) including a piezoelectric element for generating minute displacement in each of three orthogonal axes (X-axis, Y-axis, Z-axis). Drive section, Z-axis direction drive section). As a result, the sample 16 can be moved by a minute distance in any direction. XYZ scanner 15
Has a function as a fine movement mechanism for adjusting the distance between the probe and the sample during measurement and observation, and for XY scanning movement. Z
The stage 31 moves the XYZ scanner 15 and the sample 16 in a relatively large distance in the Z-axis direction, and performs the operation when the probe 12 and the sample 16 are brought close to each other.
The Z stage 31 has a function as a coarse movement mechanism for approaching movement. The specific structure of the Z stage 31 has, for example, a stepping motor built therein, and the stepping motor performs an operation for the above movement. Therefore, the Z stage 31
A pulse signal 32 as a drive signal for operating the stepping motor is input to the external.
【0012】上記の構成において、試料16の表面を測
定する場合、探針12は試料16に接近し、その先端が
試料16の測定表面に実質的に接触した状態で試料16
に対向する。探針12と試料16の接近状態は、通常の
接触モードの測定が開始される前の段階で、粗動機構で
あるZステージ31を動作させることにより設定され
る。In the above structure, when the surface of the sample 16 is measured, the probe 12 approaches the sample 16 and its tip is substantially in contact with the surface of the sample 16 to be measured.
To face. The approach state between the probe 12 and the sample 16 is set by operating the Z stage 31 which is a coarse movement mechanism before the measurement in the normal contact mode is started.
【0013】一方、カンチレバー11の上方にはレーザ
光源17が配置され、レーザ光源17から出射されたレ
ーザ光18はカンチレバー11の背面先部付近の反射面
を照射する。当該反射面で反射されたレーザ光18は位
置センサ(光検出器)19の受光面に入射される。レー
ザ光源17とカンチレバー11と位置センサ19によっ
て光てこ方式の変位検出器(検出光学系)が構成され
る。カンチレバー11の先端部が、探針12と試料16
の表面との間に生じる原子間力(物理的作用)に基づい
て図1中Z軸方向へ変位すると、位置センサ19の受光
面内で反射光のスポット位置が変位する。位置センサ1
9は、反射光のスポット位置の変位を電圧値の変化に変
換して出力する。こうして、カンチレバー11の先端部
のZ軸方向の変化すなわち探針12のZ軸方向の変化
は、位置センサ19の出力電圧の変化として取り出され
る。On the other hand, a laser light source 17 is arranged above the cantilever 11, and a laser beam 18 emitted from the laser light source 17 irradiates a reflecting surface near the front tip of the cantilever 11. The laser beam 18 reflected by the reflecting surface is incident on a light receiving surface of a position sensor (photodetector) 19. The laser light source 17, the cantilever 11, and the position sensor 19 constitute an optical lever type displacement detector (detection optical system). The tip of the cantilever 11 has a probe 12 and a sample 16
When it is displaced in the Z-axis direction in FIG. 1 on the basis of an interatomic force (physical action) generated between the position sensor 19 and the surface, the spot position of the reflected light is displaced within the light receiving surface of the position sensor 19. Position sensor 1
Reference numeral 9 converts the displacement of the spot position of the reflected light into a change in voltage value and outputs it. Thus, a change in the Z-axis direction of the tip of the cantilever 11, that is, a change in the Z-axis direction of the probe 12 is extracted as a change in the output voltage of the position sensor 19.
【0014】次に、制御系(信号処理系)について説明
する。位置センサ19から出力される電圧信号は、切換
えスイッチ33の接続状態によって下記の2つの系統の
いずれかに供給される。切換えスイッチ33の切換え動
作は、自動または手動によって行われる。Next, the control system (signal processing system) will be described. The voltage signal output from the position sensor 19 is supplied to one of the following two systems depending on the connection state of the changeover switch 33. The switching operation of the changeover switch 33 is performed automatically or manually.
【0015】第1の系統は、図1において切換えスイッ
チ33が下側の端子33aに接続される場合で、信号増
幅器34とサーボ装置35から構成される。この第1系
統は、試料16の表面の通常測定に関連する制御系であ
る。測定の際の位置センサ19から出力される電圧信号
は、探針12のZ軸方向の位置、すなわちカンチレバー
11のたわみ量を表す信号であり、当該電圧信号は、信
号増幅器34とサーボ装置35を経由して、XYZスキ
ャナ15のZ軸方向駆動部を動作させる駆動信号Vzに
変換され、XYZスキャナ15に供給される。信号増幅
器34は、位置センサ19の出力信号を所要のレベルま
で増幅する。信号増幅器34の出力信号はサーボ装置3
5に入力される。このサーボ装置35は、演算制御部3
6aと表示部36bを備える演算処理装置36からバス
37を経由して指示されるサーボ制御条件に従って、入
力された信号を上記駆動信号Vzに変換する。この駆動
信号VzによってXYZスキャナ15内のZ軸方向駆動
部が動作し、試料16のZ軸方向の位置が調整され、探
針12と試料16との距離が所定距離(実質的な接触状
態)に保持され、試料16の表面の凹凸形状が測定され
る。The first system is composed of a signal amplifier 34 and a servo device 35 when the changeover switch 33 is connected to the lower terminal 33a in FIG. The first system is a control system related to the normal measurement of the surface of the sample 16. The voltage signal output from the position sensor 19 at the time of measurement is a signal indicating the position of the probe 12 in the Z-axis direction, that is, the amount of deflection of the cantilever 11, and the voltage signal is transmitted to the signal amplifier 34 and the servo device 35. Then, the signal is converted into a drive signal Vz for operating the Z-axis direction drive unit of the XYZ scanner 15 and supplied to the XYZ scanner 15. The signal amplifier 34 amplifies the output signal of the position sensor 19 to a required level. The output signal of the signal amplifier 34 is
5 is input. The servo device 35 includes an arithmetic control unit 3
The input signal is converted into the drive signal Vz according to the servo control conditions instructed via the bus 37 from the arithmetic processing unit 36 including the display unit 36a and the display unit 36b. The drive signal Vz operates the Z-axis direction drive unit in the XYZ scanner 15 to adjust the position of the sample 16 in the Z-axis direction, and the distance between the probe 12 and the sample 16 is a predetermined distance (substantial contact state). And the uneven shape of the surface of the sample 16 is measured.
【0016】より詳しくは、演算処理装置36はコンピ
ュータで構成され、CPUと記憶部を内蔵する。その記
憶部には、試料表面の所望箇所を測定するためAFMの
動作を制御するプログラム(測定プログラム)と、測定
データを記憶して、この測定データから試料16の観察
表面の微細形状に関する画像を上記表示部36bに表示
するための画像データを作成するための処理を行うプロ
グラム(画像作成プログラム)が格納される。サーボ装
置35は、探針・試料の間が所定距離になるように、X
YZスキャナ15に対してそのZ軸方向駆動部の駆動信
号Vzを与える。XYZスキャナ15のZ軸方向駆動部
によるZ軸方向の動作に関してサーボ装置35にサーボ
動作を行わせた状態で、XY走査回路部を用いてXYZ
スキャナ15のXとYの各軸方向の駆動部を動作させ、
探針12に試料16のXY平面を走査させる。このと
き、XY平面内の測定点の座標と、各測定点のVz(サ
ーボ装置35の出力電圧値)が、演算処理装置36の記
憶部に測定データとして格納される。記憶部に格納され
た測定データは、上記の画像作成プログラムによって逐
次にあるいは一括して処理され、試料16における測定
箇所の表面形状に関する画像データを作成し、この画像
データを用いて表示部36bの画面に測定画像を表示す
る。こうして、試料16の測定箇所の表面形状が得られ
る。More specifically, the arithmetic processing unit 36 is composed of a computer and has a CPU and a storage unit built therein. The storage unit stores a program (measurement program) for controlling the operation of the AFM for measuring a desired portion of the sample surface, and measurement data, and from this measurement data, an image relating to the fine shape of the observation surface of the sample 16 is stored. A program (image creation program) for performing processing for creating image data to be displayed on the display unit 36b is stored. The servo device 35 controls the distance between the probe and the sample so that the distance between the probe and the sample is a predetermined distance.
A drive signal Vz of the Z-axis direction drive unit is given to the YZ scanner 15. With the servo device 35 performing the servo operation with respect to the operation in the Z-axis direction by the Z-axis direction drive unit of the XYZ scanner 15, the XYZ scanning circuit unit is used.
Operate the drive units in the X and Y axis directions of the scanner 15,
The probe 12 is caused to scan the XY plane of the sample 16. At this time, the coordinates of the measurement points on the XY plane and Vz (output voltage value of the servo device 35) at each measurement point are stored as measurement data in the storage unit of the arithmetic processing device 36. The measurement data stored in the storage unit is sequentially or collectively processed by the above-described image creation program, creates image data relating to the surface shape of the measurement location on the sample 16, and uses this image data to display the display unit 36b. Display the measurement image on the screen. In this way, the surface shape of the measurement point of the sample 16 is obtained.
【0017】なお試料表面の通常の測定においては、上
記の通り、上記探針・試料間の距離の調整のためのZ軸
方向の制御に併せて、探針で試料表面を走査するための
位置制御が必要となる。この走査の位置制御のための駆
動信号は、演算処理装置36に内蔵されるXY走査回路
部から信号Vx,VyとしてXYZスキャナ15に与え
られる。In the normal measurement of the sample surface, as described above, in addition to the control in the Z-axis direction for adjusting the distance between the probe and the sample, the position for scanning the sample surface with the probe is used. Control is needed. The drive signal for controlling the scanning position is given to the XYZ scanner 15 as signals Vx and Vy from the XY scanning circuit section incorporated in the arithmetic processing unit 36.
【0018】接触モードAFMは、その測定動作の際に
はカンチレバー11は非振動状態にあり、探針12と試
料16の間は実質的に接触状態に保持される。また、接
近動作の際には、後述するように、カンチレバー11は
圧電素子13によって加振されて振動(発振)状態にあ
り、当該振動状態に基づいて得られる交流信号を利用し
て高速自動接近の機能と接触時のフェイルセーフの機能
が形成される。In the contact mode AFM, the cantilever 11 is in a non-vibrating state during the measurement operation, and the probe 12 and the sample 16 are kept in a substantially contact state. Further, during the approaching operation, the cantilever 11 is vibrated (oscillated) by the piezoelectric element 13 as will be described later, and high-speed automatic approaching is performed using an AC signal obtained based on the vibrating state. And the function of fail-safe at the time of contact are formed.
【0019】次に、第2の系統は、図1において切換え
スイッチ33が上側の端子33bに接続される場合で、
波形整形器41と分周器42から構成される。この第2
系統は、高速の自動接近モードに関連する制御系であ
る。波形整形器41は位置センサ19から出力される後
述するような交流電圧信号を入力し、これに基づいて同
じ周波数の方形波形の周期信号を作る。分周器42は、
波形整形器41の出力信号を分周して所定の周波数のパ
ルス信号を作り、Zステージ31を駆動するための上記
パルス信号32を出力する。パルス信号32はZステー
ジ31に対し駆動信号として与えられる。波形整形器4
1および分周器42の各々の動作、並びに高速の自動接
近モードの制御の方法は以下に詳述される。Next, the second system is a case where the changeover switch 33 is connected to the upper terminal 33b in FIG.
It comprises a waveform shaper 41 and a frequency divider 42. This second
The system is the control system associated with the high speed automatic approach mode. The waveform shaper 41 inputs an AC voltage signal, which will be described later, output from the position sensor 19, and based on this, forms a periodic signal having a rectangular waveform of the same frequency. The frequency divider 42
The output signal of the waveform shaper 41 is frequency-divided to generate a pulse signal having a predetermined frequency, and the pulse signal 32 for driving the Z stage 31 is output. The pulse signal 32 is given to the Z stage 31 as a drive signal. Waveform shaper 4
The operation of each of the 1 and divider 42, as well as the method of controlling the high speed automatic approach mode are detailed below.
【0020】43は、カンチレバー11を振動させるた
めの加振用圧電素子13を駆動する信号を与える発振器
である。発振器43は、駆動信号を生成するための周期
信号を演算処理装置36から与えられる。Reference numeral 43 is an oscillator for giving a signal for driving the vibration piezoelectric element 13 for vibrating the cantilever 11. The oscillator 43 is supplied with a periodic signal for generating a drive signal from the arithmetic processing unit 36.
【0021】次に、前述の高速の自動接近モードに関連
する制御系の動作と制御手順を、上記の図1と、図2お
よび図3とを参照して説明する。Next, the operation and control procedure of the control system related to the above-described high-speed automatic approach mode will be described with reference to FIG. 1, FIG. 2 and FIG.
【0022】試料16をXYZスキャナ15の上に載置
し、セットする。このとき試料16とカンチレバー11
は数ミリメートルの距離で離れている。この状態で、発
振器43の出力信号によって加振用圧電素子13を駆動
し、カンチレバー11を共振周波数f0 で発振させる。
振動状態にあるカンチレバー11に対してはレーザ光源
18からレーザ光が照射され、その反射光は位置センサ
19に入射する。カンチレバー11の振動動作は位置セ
ンサ19によってモニタされる。図2の(a)は、位置
センサ19から出力される交流電気信号の状態を示し、
カンチレバー11の振動状態を実質的に示している。交
流電気信号44の周波数はおよそ数十kHzである。The sample 16 is placed on the XYZ scanner 15 and set. At this time, sample 16 and cantilever 11
Are separated by a few millimeters. In this state, the vibration piezoelectric element 13 is driven by the output signal of the oscillator 43 to cause the cantilever 11 to oscillate at the resonance frequency f 0 .
Laser light is emitted from the laser light source 18 to the cantilever 11 in the vibrating state, and the reflected light enters the position sensor 19. The vibration operation of the cantilever 11 is monitored by the position sensor 19. FIG. 2A shows the state of the AC electric signal output from the position sensor 19,
The vibration state of the cantilever 11 is substantially shown. The frequency of the AC electric signal 44 is about several tens of kHz.
【0023】自動接近モードにあるとき、切換えスイッ
チ33は図1中上側端子33bに接続されている。この
状態で、位置センサ19の出力信号すなわち電気信号4
4は、波形整形器41によって図2の(b)のような方
形波信号45に整形される。この方形波信号45は分周
器42に入力され、分周器42は分周処理する。この実
施形態では図2の(c)に示すように例えば1/4に分
周された分周信号が生成される。この分周信号は、前述
のパルス信号32に相当する。上記分周比は、演算処理
装置36から指示される。In the automatic approach mode, the changeover switch 33 is connected to the upper terminal 33b in FIG. In this state, the output signal of the position sensor 19, that is, the electric signal 4
4 is shaped into a square wave signal 45 as shown in FIG. 2B by the waveform shaper 41. This square wave signal 45 is input to the frequency divider 42, and the frequency divider 42 performs frequency division processing. In this embodiment, as shown in FIG. 2 (c), a frequency-divided signal divided into, for example, 1/4 is generated. This frequency-divided signal corresponds to the pulse signal 32 described above. The frequency division ratio is instructed from the arithmetic processing unit 36.
【0024】分周器42から出力される分周信号すなわ
ち上記パルス信号32はZステージ31に供給される。
Zステージ31は前述の通りステッピングモータを内蔵
し、このステッピングモータは、入力した分周信号を用
いて例えば1パルスについて0.5μmだけ試料16を
探針12に接近させる。The frequency-divided signal output from the frequency divider 42, that is, the pulse signal 32 is supplied to the Z stage 31.
As described above, the Z stage 31 has a built-in stepping motor, and the stepping motor moves the sample 16 closer to the probe 12 by 0.5 μm per pulse, for example, by using the input frequency dividing signal.
【0025】なお、本実施形態におけるカンチレバー1
1は、例えば、窒化珪素で作られ、全長が100μm、
バネ定数が約0.1N/m、共振周波数は約20kHz
である。The cantilever 1 in this embodiment
1 is made of, for example, silicon nitride, has a total length of 100 μm,
Spring constant is about 0.1N / m, resonance frequency is about 20kHz
It is.
【0026】いま、Zステージ31にパルス信号32を
与えて動作させ、振幅数μmで発振している上記のカン
チレバー11に向かって試料16を接近させるものとす
る。分周器42における分周比を例えば1/16に設定
すると、1秒間に1250パルスが与えられるので、Z
ステージ31による試料16の接近速度は625μm/
秒となる。試料16は次第に振動状態にあるカンチレバ
ー11すなわち先部の探針12に接近し、接触状態が発
生するようになる。図3の(a)〜(d)を参照して探
針12と試料16の表面との接触の瞬間に発生する状態
を説明する。Now, it is assumed that the Z stage 31 is operated by applying a pulse signal 32 to bring the sample 16 toward the cantilever 11 which is oscillating with an amplitude of several μm. When the frequency division ratio in the frequency divider 42 is set to, for example, 1/16, 1250 pulses are given per second, so Z
The approach speed of the sample 16 by the stage 31 is 625 μm /
Seconds. The sample 16 gradually approaches the cantilever 11 in a vibrating state, that is, the tip probe 12, and a contact state is generated. A state that occurs at the moment of contact between the probe 12 and the surface of the sample 16 will be described with reference to FIGS.
【0027】図3(a)は、振動するカンチレバー11
およびその先部の探針12と、これに接近する試料16
の一部表面を示している。試料16の表面には前述の吸
着層16aが形成されている。やがて探針12の先端が
吸着層16aの表面に接触しようとし、図3(b)の状
態になる。そうすると、探針12に対して吸着層16a
の表面張力が作用し、探針12が吸着層16aの中に引
き込まれる。この状態を図3(c)に示す。図3(c)
では、カンチレバー11の変位が図3(b)の状態に比
較して大きくなり、当該状態でカンチレバー11の発振
が停止されることになる。FIG. 3A shows a vibrating cantilever 11.
And the tip 12 of the tip and the sample 16 approaching this
Shows a partial surface of the. The adsorption layer 16 a described above is formed on the surface of the sample 16. Eventually, the tip of the probe 12 tries to contact the surface of the adsorption layer 16a, and the state shown in FIG. Then, the adsorption layer 16a is attached to the probe 12.
The surface tension of the probe acts to draw the probe 12 into the adsorption layer 16a. This state is shown in FIG. Figure 3 (c)
Then, the displacement of the cantilever 11 becomes larger than that in the state of FIG. 3B, and the oscillation of the cantilever 11 is stopped in this state.
【0028】一方、図2を再び参照すると、探針12が
試料16から遠ざかる方向にカンチレバー11が変位し
たとき波形整形器41からパルスが出力され、かかるパ
ルスが連続的に生じて方形波信号45が生成される。そ
して、このようにして波形整形器41から出力された方
形波信号45を分周して分周信号、すなわちZステージ
31を動作させるためのパルス信号32を作り出す。従
って、カンチレバー11の発振が停止すると、方形波信
号45は生成されず、それ故にパルス信号32も発生し
ない。On the other hand, referring again to FIG. 2, when the cantilever 11 is displaced in the direction in which the probe 12 moves away from the sample 16, a pulse is output from the waveform shaper 41, and the pulse is continuously generated to generate a square wave signal 45. Is generated. In this way, the square wave signal 45 output from the waveform shaper 41 is frequency-divided to generate a frequency-divided signal, that is, a pulse signal 32 for operating the Z stage 31. Therefore, when the oscillation of the cantilever 11 stops, the square wave signal 45 is not generated, and hence the pulse signal 32 is not generated.
【0029】図3(a),(b)では、カンチレバー1
1の発振動作でパルス信号32を作りZステージ31を
駆動して試料16を探針12に接近させ、図3(c)の
状態では、探針12が試料表面の吸着層16aに引き込
まれ、吸着層16aから探針12が解放されない限り、
カンチレバー11の発振は停止状態に保持される。カン
チレバー11の発振が停止状態になると、分周器42か
らパルス信号32は出力されないので、その後、Zステ
ージ31に駆動用のパルス信号32が入力されることは
ない。従って、試料16は停止状態に保持され、高速な
自動接近が達成される。このようにして、試料16が粗
動機構であるZステージ31によって探針12(カンチ
レバー11)に接近し、探針12が試料表面の吸着層1
6aに接触すると、吸着層16aの引き込み力によって
カンチレバー11の発振が停止し、試料16はそれ以上
に探針12に接近せず、自動接近動作が完了する。In FIGS. 3A and 3B, the cantilever 1 is
The pulse signal 32 is generated by the oscillation operation of No. 1 to drive the Z stage 31 to bring the sample 16 close to the probe 12, and in the state of FIG. 3C, the probe 12 is drawn into the adsorption layer 16a on the sample surface, Unless the probe 12 is released from the adsorption layer 16a,
The oscillation of the cantilever 11 is held in a stopped state. When the oscillation of the cantilever 11 is stopped, the pulse signal 32 is not output from the frequency divider 42, so that the pulse signal 32 for driving is not input to the Z stage 31 thereafter. Therefore, the sample 16 is held in a stopped state, and high-speed automatic approach is achieved. In this way, the sample 16 approaches the probe 12 (cantilever 11) by the Z stage 31 which is the coarse movement mechanism, and the probe 12 causes the adsorption layer 1 on the sample surface to move.
Upon contact with 6a, the oscillation of the cantilever 11 is stopped by the pulling force of the adsorption layer 16a, the sample 16 does not approach the probe 12 any further, and the automatic approach operation is completed.
【0030】上記構成によれば、分周器42における分
周比を設定することによって所望の接近速度を設定で
き、また高速な接近速度を設定できる。さらに試料表面
の吸着層16aと探針12との間の作用で、カンチレバ
ー11の発振を停止させ、試料16と探針12との接近
動作を停止させることができ、試料16と探針12との
衝突を避けるためのフェイルセーフ機能が作用する。According to the above configuration, the desired approach speed can be set by setting the frequency division ratio in the frequency divider 42, and a high speed approach speed can be set. Further, by the action between the adsorption layer 16a on the sample surface and the probe 12, the oscillation of the cantilever 11 can be stopped and the approaching operation between the sample 16 and the probe 12 can be stopped. Fail-safe function to avoid the collision of
【0031】またZステージ31の動作を急に停止させ
た場合、図3(d)の試料上昇分46に示されるような
機械系のオーバーシュートが懸念されるが、図3(c)
に示されるごとく、カンチレバー11の最大発振振幅と
吸着層16aの吸い込み力による変位分との和だけの余
裕分47が探針・試料間には存在するため、この余裕分
でオーバーシュートを吸収し、カンチレバー11に対し
て試料側から斥力が加わるのを避けることができる。換
言すれば、最初に探針12が試料表面に接触しようとす
るとき、吸着層16aによってカンチレバー11はその
静止位置よりも試料側に数μm変位した状態で静止し、
かつZステージ31における1パルス分の動作量が好ま
しくは当該変位量よりも小さくなるように設定されてい
るので、探針と試料との間に大きな斥力が働く心配はな
く、探針や試料等の破壊を防止することができる。以上
の意味においても、本実施形態による探針・試料接近機
構はフェイルセーフ機能を発揮する。Further, when the operation of the Z stage 31 is suddenly stopped, there is a concern that the mechanical system may overshoot as shown by the sample lift 46 in FIG. 3D, but FIG.
As shown in (1), since there is a margin 47 between the probe and the sample, which is the sum of the maximum oscillation amplitude of the cantilever 11 and the displacement due to the suction force of the adsorption layer 16a, the overshoot is absorbed by this margin. It is possible to avoid applying a repulsive force to the cantilever 11 from the sample side. In other words, when the probe 12 first tries to contact the surface of the sample, the adsorption layer 16a causes the cantilever 11 to stand still with a displacement of several μm from the rest position to the sample side.
Moreover, since the operation amount for one pulse in the Z stage 31 is preferably set to be smaller than the displacement amount, there is no concern that a large repulsive force acts between the probe and the sample, and the probe, the sample, etc. Can be prevented from being destroyed. Also in the above meaning, the probe / sample approaching mechanism according to the present embodiment exerts a fail-safe function.
【0032】上記実施形態によれば、ステッピングモー
タ等のパルス駆動型のZステージ31を利用することに
より、AFMとしての測定が可能になる程度までカンチ
レバー11と試料16を自動接近させる装置を簡単な構
成にて実現することができ、かつフェイルセーフの機能
によって十分な保護が図られている。例えば、レーザ光
源17や位置センサ19の不良によりカンチレバー11
の動作をモニタできなくなった場合にも探針・試料の接
近動作は停止される。According to the above-described embodiment, by utilizing the pulse drive type Z stage 31 such as the stepping motor, the apparatus for automatically bringing the cantilever 11 and the sample 16 close to each other to the extent that the measurement as the AFM becomes possible is simple. It can be realized by the configuration, and sufficient protection is achieved by the fail-safe function. For example, due to a defect in the laser light source 17 or the position sensor 19, the cantilever 11
Even when the operation of is no longer monitored, the approaching operation of the probe / sample is stopped.
【0033】前述の実施形態では、粗動機構であるZス
テージ31を試料側に設けたが、カンチレバー側に設け
ることができるのは勿論である。In the above-described embodiment, the Z stage 31, which is the coarse movement mechanism, is provided on the sample side, but it goes without saying that it can be provided on the cantilever side.
【0034】また前述の実施形態ではAFMで説明した
が、同様な構成および作用を有する走査型プローブ顕微
鏡に対して本発明に係る探針・試料接近装置を適用でき
るのは勿論である。Although the AFM has been described in the above embodiments, it is needless to say that the probe / sample approaching device according to the present invention can be applied to a scanning probe microscope having a similar structure and action.
【0035】さらに、上記実施形態では測定時の動作を
接触モードとしたが、必ずこれに限定されるというもの
ではなく、非接触モードや周期的に接触するモードのA
FMであっても、測定・観察を開始する前の段階におい
て、探針・試料間の距離を所望のものに設定するため
に、本発明による探針・試料接近機構を適用できるのは
勿論である。さらに本発明による探針・試料接近機構
は、走査型プローブ顕微鏡一般に適用できるのは勿論で
ある。Furthermore, in the above embodiment, the operation at the time of measurement is the contact mode, but the operation is not necessarily limited to this, and the contact mode or the periodic contact mode A is used.
Even in the case of FM, the probe / sample approach mechanism according to the present invention can be applied to set the desired distance between the probe and the sample at the stage before starting the measurement / observation. is there. Further, it is needless to say that the probe / sample approaching mechanism according to the present invention can be applied to scanning probe microscopes in general.
【0036】[0036]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明によ
れば、走査型プローブ顕微鏡で探針・試料間の接近を行
うに当たって、試料表面に吸着層が形成される大気環境
での接近動作であり、カンチレバーを発振させ、探針・
試料間の接近をパルス駆動の粗動機構を用いて行い、か
つ当該粗動機構を駆動するパルス信号をカンチレバーの
発振動作に基づいて作るようにしたため、当該パルス信
号を適宜に作ることによって高速に自動接近ができると
共に、吸着層の探針引き込み作用とカンチレバーの停止
状態の特長に基づいてカンチレバーの発振動作を探針や
試料を破壊することなく安全に停止することができる。
このように、応答性を高くし、高速自動接近を達成で
き、さらに、特別な構成を加えることなくそれ自体でフ
ェイルセーフ機能を備えることができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, in the approach between the probe and the sample by the scanning probe microscope, the approach operation in the atmospheric environment in which the adsorption layer is formed on the sample surface. And oscillate the cantilever,
Since the sample-to-sample approach was performed using the pulse drive coarse movement mechanism, and the pulse signal for driving the coarse movement mechanism was made based on the oscillation operation of the cantilever, it is possible to speed up by making the pulse signal appropriately. In addition to being able to automatically approach, the oscillation operation of the cantilever can be safely stopped without damaging the probe or the sample based on the characteristics of the probe pulling action of the adsorption layer and the stopped state of the cantilever.
In this way, the responsiveness can be increased, high-speed automatic approach can be achieved, and further, the fail-safe function can be provided by itself without adding a special configuration.
【図1】本発明の代表的な実施形態を示す構成図であ
る。FIG. 1 is a configuration diagram showing a typical embodiment of the present invention.
【図2】装置各部の信号の波形を示す波形図である。FIG. 2 is a waveform chart showing waveforms of signals of respective parts of the device.
【図3】探針と試料の接触状態を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a contact state between a probe and a sample.
【符号の説明】 11 カンチレバー 12 探針 13 加振用圧電素子 15 XYZスキャナ 16 試料 16a 吸着層 17 レーザ光源 19 位置センサ 31 Zステージ 32 パルス信号 34 信号増幅器 35 サーボ装置 36 演算処理装置 41 波形整形器 42 分周器 43 発振器[Explanation of Codes] 11 Cantilever 12 Probe 13 Vibrating Piezoelectric Element 15 XYZ Scanner 16 Sample 16a Adsorption Layer 17 Laser Light Source 19 Position Sensor 31 Z Stage 32 Pulse Signal 34 Signal Amplifier 35 Servo Device 36 Arithmetic Processing Device 41 Waveform Shaper 42 frequency divider 43 oscillator
Claims (2)
え、前記探針と試料を接近させ、前記探針と前記試料の
表面との間の相互作用に基づき当該表面の微細性状を大
気環境で測定する走査型プローブ顕微鏡において、 パルス信号で動作するように構成され、前記探針と前記
試料を接近させる接近装置と、 前記カンチレバーを発振させる発振装置とを備え、 前記パルス信号で前記接近装置を駆動して前記探針と前
記試料を接近させるとき、前記カンチレバーの発振動作
から得られる発振信号に基づいて前記パルス信号を生成
したことを特徴とする走査型プローブ顕微鏡の探針・試
料接近機構。1. A cantilever having a probe at its tip is provided, the probe and the sample are brought close to each other, and the microscopic characteristics of the surface are measured in an atmospheric environment based on the interaction between the probe and the surface of the sample. In a scanning probe microscope for measurement, it is configured to operate with a pulse signal, and includes an approaching device for approaching the probe and the sample, and an oscillating device for oscillating the cantilever, and the approaching device with the pulse signal. A probe / sample approach mechanism of a scanning probe microscope, wherein the pulse signal is generated based on an oscillation signal obtained from an oscillation operation of the cantilever when the probe and the sample are brought close to each other by driving.
信号に変換する変換器と、前記交流電気信号を方形波信
号に変換する波形整形器と、前記方形波信号を分周する
分周器を備え、この分周器で得られた分周信号を前記パ
ルス信号として用いたことを特徴とする請求項1記載の
走査型プローブ顕微鏡の探針・試料接近機構。2. A converter for converting the oscillation operation of the cantilever into an AC electric signal, a waveform shaper for converting the AC electric signal into a square wave signal, and a frequency divider for dividing the square wave signal. The probe / sample approaching mechanism of the scanning probe microscope according to claim 1, wherein the frequency-divided signal obtained by this frequency divider is used as the pulse signal.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12113996A JPH09281119A (en) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | Probe-sample approach mechanism of scanning type probe microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12113996A JPH09281119A (en) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | Probe-sample approach mechanism of scanning type probe microscope |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09281119A true JPH09281119A (en) | 1997-10-31 |
Family
ID=14803842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12113996A Pending JPH09281119A (en) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | Probe-sample approach mechanism of scanning type probe microscope |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09281119A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006242965A (en) * | 2006-05-29 | 2006-09-14 | Sii Nanotechnology Inc | Scanning probe microscope |
CN108508238A (en) * | 2018-03-22 | 2018-09-07 | 天津职业技术师范大学 | Single molecule force spectroscopy device and method are tested based on double drive AFM system |
-
1996
- 1996-04-18 JP JP12113996A patent/JPH09281119A/en active Pending
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