JPH09270653A - Manufacture of electrode film - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は圧電材の振動片の電
極膜の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an electrode film of a vibrating piece made of a piezoelectric material.
【0002】[0002]
【従来の技術】圧電材料からなる振動片に励振電極膜を
設けた振動子は広く普及している。この場合、振動子の
電極膜形成の製造方法がその品質とコストに影響するこ
とが多い。以下では、ATカット水晶振動子を例示とし
て取り上げるが、振動子の素材(圧電セラミック、水
晶)、振動姿態、電極膜の種類は例示に限定されるもの
ではない。2. Description of the Related Art A vibrator in which a vibrating piece made of a piezoelectric material is provided with an exciting electrode film is widely used. In this case, the manufacturing method for forming the electrode film of the vibrator often affects its quality and cost. Although an AT-cut crystal oscillator will be taken as an example below, the material (piezoelectric ceramic, crystal) of the oscillator, the vibration mode, and the type of the electrode film are not limited to the examples.
【0003】図3はATカット水晶振動子の外観図であ
る。図4は振動片に電極膜を形成する蒸着装置の模式図
である。図5は図4の上面図である。図6は蒸着ホルダ
ーセットの関係展開図であり、同図(A)は薄板状の表
蒸着マスク(以下表蒸着マスクと略称)、同図(B)は
振動片群、同図(C)は薄板状の蒸着ホルダー(以下蒸
着ホルダーと略称)、同図(D)は薄板状の裏蒸着マス
ク(以下裏蒸着マスクと略称)である。図7(A)は振
動片、表蒸着マスク、電極膜の関係の詳細説明図であ
る。同図(B)は同図(A)のA−A線の断面図であ
る。同図(C)は振動片、裏蒸着マスク、電極膜の関係
説明図である。図8はマウント部の電極膜の構成説明図
である。FIG. 3 is an external view of an AT-cut crystal unit. FIG. 4 is a schematic diagram of a vapor deposition device that forms an electrode film on a vibrating piece. FIG. 5 is a top view of FIG. FIG. 6 is a relational development view of a vapor deposition holder set. FIG. 6A is a thin plate-shaped front vapor deposition mask (hereinafter abbreviated as front vapor deposition mask), FIG. 6B is a vibrating piece group, and FIG. A thin plate-shaped vapor deposition holder (hereinafter abbreviated as vapor deposition holder), and FIG. 6D shows a thin plate-shaped back vapor deposition mask (hereinafter abbreviated as back vapor deposition mask). FIG. 7A is a detailed explanatory diagram of the relationship between the resonator element, the front vapor deposition mask, and the electrode film. FIG. 3B is a sectional view taken along line AA of FIG. FIG. 6C is an explanatory diagram of the relationship between the resonator element, the back evaporation mask, and the electrode film. FIG. 8 is an explanatory diagram of the structure of the electrode film of the mount portion.
【0004】図3において、ATカット水晶振動子10
0は、振動片の表面に設けられた電極膜102(裏電極
膜は図示されていない)を有する水晶振動片101(以
下では振動片と略称する)のマウント部が、ステム10
3に配設された金属の支持棒104、105に半田等で
接続固定されて構成される。In FIG. 3, an AT-cut crystal unit 10
0 means that the mount portion of the quartz crystal vibrating piece 101 (hereinafter referred to as a vibrating piece) having the electrode film 102 (the back electrode film is not shown) provided on the surface of the vibrating piece is the stem 10.
It is configured by being connected and fixed to the metal support rods 104 and 105 arranged in No. 3 with solder or the like.
【0005】図4に示す例示では、ベルジャー201を
有する真空槽である蒸着装置200には振動片の電極膜
を蒸着によって形成するためのクロム材料のターゲット
(以下ではクロムと略称)205、銀材料ターゲット
(以下では銀と略称)206が設置されている。また、
複数個の振動片(以下では振動片群と略称)を保持した
複数個の蒸着ホルダーセット210〜219(図では2
10、215のみ図示)が傘状に中心軸209に設けら
れ公転208する。蒸着ホルダーセット210、215
はクロム205から見てα、β、γ、δの各角度を有し
夫々ほぼ50°、40°、80°、90°の傾斜角をな
している。同様にして、銀206から見てα’、β’、
γ’、δ’の各角度は前記クロム205とは中心軸20
9に関して軸対称の関係にあり夫々ほぼ50°、40
°、80°、90°の傾斜角を有している。これはクロ
ム205、銀206から前記金属が蒸発して振動片に付
着して形成される電極膜が高さ方向に対して蒸着角度を
持っていることを示している。また、前記角度α〜δ、
α’〜δ’は蒸着装置の大きさ、蒸着ホルダーセットの
大きさとセットする個数、クロム205、銀206の配
置によって変わる。In the example shown in FIG. 4, in a vapor deposition apparatus 200 which is a vacuum chamber having a bell jar 201, a chromium material target (hereinafter abbreviated as chromium) 205 for forming an electrode film of a vibrating element by vapor deposition, a silver material. A target (abbreviated as silver below) 206 is installed. Also,
A plurality of vapor deposition holder sets 210 to 219 (2 in the figure) holding a plurality of vibrating pieces (hereinafter, abbreviated as a vibrating piece group).
(Only 10 and 215 are shown) are provided on the central shaft 209 in an umbrella shape and revolve 208. Vapor deposition holder set 210, 215
Has an angle of α, β, γ, and δ when viewed from the chrome 205, and has inclination angles of approximately 50 °, 40 °, 80 °, and 90 °, respectively. Similarly, α ′, β ′, when viewed from silver 206,
The angles γ ′ and δ ′ are different from the chrome 205 in the central axis 20.
There is an axisymmetric relationship with respect to 9, and they are approximately 50 ° and 40, respectively.
It has inclination angles of °, 80 ° and 90 °. This shows that the electrode film formed by vaporizing the metal from the chromium 205 and the silver 206 and adhering to the vibrating piece has a vapor deposition angle with respect to the height direction. Further, the angles α to δ,
α ′ to δ ′ vary depending on the size of the vapor deposition apparatus, the size of the vapor deposition holder set and the number to be set, and the arrangement of the chromium 205 and the silver 206.
【0006】図5は蒸着装置200を上面から見たもの
で、蒸着ホルダーセット210〜219は合計10セッ
トで公転208するだけではなく、反転207ができる
ように構成される。そのため、蒸着ホルダーセット21
0〜219に保持され、後述する蒸着マスクでカバーさ
れた振動片群の表裏の必要部分にクロム205、銀20
6の蒸発金属が積層されて電極膜が形成される。この場
合、クロム205から見て平面方向にa〜iの蒸着角度
が、同様に銀206から見て図は示されていないが平面
方向に同様の蒸着角度がある。前記蒸着角度a〜iは蒸
着装置の大きさ、蒸着ホルダーセットの大きさとセット
する個数、クロム205、銀206の配置によって変わ
る。この例示ではa〜iは夫々30°、120°、12
0°、110°、95°、85°、65°、45°、3
5°である。FIG. 5 is a top view of the vapor deposition apparatus 200. The vapor deposition holder sets 210 to 219 are configured so that not only the total of 10 sets can be revolved 208 but also the reversal 207 can be performed. Therefore, evaporation holder set 21
0 to 219, and chromium 205 and silver 20 on necessary parts on the front and back of the vibrating piece group covered with a vapor deposition mask described later.
The evaporated metal of No. 6 is laminated to form an electrode film. In this case, there are vapor deposition angles a to i in the plane direction as seen from the chrome 205, and similarly, although not shown in the diagram as seen from the silver 206, there are similar vapor deposition angles in the plane direction. The vapor deposition angles a to i vary depending on the size of the vapor deposition apparatus, the size of the vapor deposition holder set and the number to be set, and the arrangement of the chromium 205 and the silver 206. In this example, a to i are 30 °, 120 °, and 12 respectively.
0 °, 110 °, 95 °, 85 °, 65 °, 45 °, 3
5 °.
【0007】図6に示す蒸着ホルダーセット210は以
下のように構成される。幅0.8〜2mm、長さ3〜8
mm、厚み0.1〜0.2mmの振動片は複数列に複数
個配列されて振動片群220となり(同図(B))、振
動片の外形よりやや大きい小孔を複数列に複数個配列し
た蒸着ホルダー210’に収納され(同図(C))、蒸
着ホルダー210’の小孔より小さい電極膜形成のため
の開口部を有する表蒸着マスク230(同図(A))及
び蒸着ホルダー210’の小孔より小さい電極膜形成の
ための開口部を有する裏蒸着マスク240(同図
(D))で治具(図省略)によって挟持される。ここ
で、振動片群220の中の一つである振動片220aは
蒸着ホルダー210’の小孔210a、表蒸着マスク2
30の開口部230a、及び裏蒸着マスク240の開口
部240aに夫々対応している。The vapor deposition holder set 210 shown in FIG. 6 is constructed as follows. Width 0.8-2 mm, length 3-8
mm, thickness 0.1 to 0.2 mm, a plurality of vibrating reeds are arranged in a plurality of rows to form a vibrating reed group 220 (FIG. (B)), and a plurality of small holes slightly larger than the outer shape of the vibrating reed are provided in a plurality of rows. A front deposition mask 230 (FIG. (A)) housed in an arrayed deposition holder 210 ′ (FIG. (C)) and having an opening for forming an electrode film smaller than the small holes of the deposition holder 210 ′, and the deposition holder. It is sandwiched by a jig (not shown) with a back evaporation mask 240 (FIG. 2D) having an opening for forming an electrode film smaller than the small holes 210 '. Here, the vibrating piece 220a, which is one of the vibrating piece group 220, is the small hole 210a of the vapor deposition holder 210 ', the front vapor deposition mask 2
The openings 230a of 30 and the openings 240a of the back vapor deposition mask 240 respectively correspond.
【0008】図7(A)において、開口部230aと対
応する表蒸着マスク230の部分マスクを表蒸着サブマ
スク230bと呼称することにする。振動片220aは
表蒸着サブマスク230bでカバーされて開口部230
aに電極膜として下地にクロム材、その上に銀材が形成
され、マウント部250、251も前記電極膜で形成さ
れる。260は開口部230a周縁の電極膜の厚みを示
したものである。同図(B)は同図(A)のA−A線の
断面図を示し、開口部230aのマウント部250、2
51に付着するクロム205、銀206による蒸発金属
の最小傾斜角252は約30°弱である。即ち、図4〜
図5で説明したように蒸着ホルダーセットは蒸着角度を
持っているため、表蒸着サブマスク230bの側壁によ
って開口部230aの周縁に陰が生じることになる。同
様にして、振動片220aは裏蒸着サブマスク240b
でカバーされて開口部240aに電極膜として下地にク
ロム材、その上に銀材が形成され、マウント部25
0’、251’も前記電極膜で形成される。260’は
開口部240a周縁の電極膜の厚みを示したものであ
る。開口部240aのマウント部250’、251’に
付着するクロム205、銀206による蒸発金属の最小
傾斜角は約30°弱である。即ち、図4〜図5で説明し
たように蒸着ホルダーセットは蒸着角度を持っているた
め、裏蒸着サブマスク240bの側壁によって開口部2
40aの周縁に陰が生じることになる。In FIG. 7A, a partial mask of the surface vapor deposition mask 230 corresponding to the opening 230a is referred to as a surface vapor deposition submask 230b. The vibrating piece 220a is covered with the front vapor deposition sub-mask 230b so that the opening 230
A chromium material is formed on the base as an electrode film on a and a silver material is formed thereon, and the mount portions 250 and 251 are also formed of the electrode film. 260 indicates the thickness of the electrode film at the peripheral edge of the opening 230a. FIG. 2B shows a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
The minimum inclination angle 252 of the vaporized metal due to the chromium 205 and the silver 206 adhering to 51 is slightly less than about 30 °. That is, FIG.
Since the vapor deposition holder set has a vapor deposition angle as described with reference to FIG. 5, the side wall of the front vapor deposition sub-mask 230b causes a shadow on the peripheral edge of the opening 230a. Similarly, the vibrating piece 220a is formed on the back evaporation sub-mask 240b.
And a silver material is formed on the underlying layer as an electrode film in the opening 240a.
0'and 251 'are also formed of the electrode film. Reference numeral 260 'indicates the thickness of the electrode film around the periphery of the opening 240a. The minimum inclination angle of the evaporated metal by the chromium 205 and the silver 206 attached to the mounts 250 ′ and 251 ′ of the opening 240a is about 30 ° or less. That is, since the vapor deposition holder set has a vapor deposition angle as described with reference to FIGS. 4 to 5, the opening 2 is formed by the sidewall of the back vapor deposition sub-mask 240b.
A shadow will be produced on the periphery of 40a.
【0009】マウント部の例示として、図8に示すよう
に振動片220aのマウント部250について説明す
る。クロム材255、その上に銀材256が蒸着で積層
されてマウント部250の電極膜が形成される。また、
電極膜255、256の前記振動片220aとの密着性
を向上させるために、一般には200℃〜300℃×1
〜2時間の熱処理が行われた後で支持棒104、105
に半田接続257されて振動子となる。(図省略)As an example of the mount portion, the mount portion 250 of the vibrating piece 220a will be described as shown in FIG. A chromium material 255 and a silver material 256 are laminated thereon by vapor deposition to form an electrode film of the mount section 250. Also,
In order to improve the adhesion of the electrode films 255 and 256 to the vibrating piece 220a, generally, 200 ° C. to 300 ° C. × 1
Support bars 104, 105 after heat treatment for ~ 2 hours
Solder connection 257 is made into a vibrator. (Figure omitted)
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7〜
図8で説明したように前記マウント部250の周縁25
3、254の電極膜は中央部の電極膜より薄い電極膜と
なる。このため、マウント部250を半田接続257す
ると周縁253、254の薄い電極膜が半田に食われて
しまい接続不良が生じ問題であった。SUMMARY OF THE INVENTION However, FIGS.
As described with reference to FIG. 8, the peripheral edge 25 of the mount part 250.
The electrode films 3 and 254 are thinner than the central electrode film. Therefore, when the mount portion 250 is solder-connected 257, the thin electrode films on the peripheral edges 253 and 254 are eaten by the solder, resulting in a connection failure.
【0011】また、前記マウント部250の下地のクロ
ム材電極膜255の厚みには以下の条件が必要である。
即ち、前述の半田による食われを防止するためには10
0オングストローム以上の厚みが望ましく、振動子の特
性を確保するためには200オングストローム以下の厚
みが望ましい。しかしながら、従来の製造方法では前記
マウント部250の周縁253、254のクロム材電極
膜255は100オングストローム以下の薄い電極膜と
なり必要条件が満たせなかった。The thickness of the underlying chromium material electrode film 255 of the mount portion 250 must meet the following conditions.
That is, in order to prevent the above-mentioned solder bite, 10
A thickness of 0 angstrom or more is desirable, and a thickness of 200 angstrom or less is desirable to secure the characteristics of the vibrator. However, in the conventional manufacturing method, the chromium material electrode film 255 on the peripheral edges 253 and 254 of the mount part 250 is a thin electrode film of 100 angstroms or less, and the necessary conditions cannot be satisfied.
【0012】更に、従来の製造方法によるクロム材電極
膜255及び銀材電極膜256では振動子の周波数がシ
フトしてしまい品質を損なうという問題があった。Further, the chromium material electrode film 255 and the silver material electrode film 256 produced by the conventional manufacturing method have a problem that the frequency of the vibrator is shifted and the quality is deteriorated.
【0013】本発明の目的は振動子の特性と品質を保持
するための電極膜の製造方法を提供することである。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electrode film for maintaining the characteristics and quality of a vibrator.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】真空槽内で、複数個の圧
電材の振動片を複数個の小孔を有する蒸着ホルダーに収
納し、該蒸着ホルダーの表裏に、前記蒸着ホルダーの小
孔より小さい開口部を有する一対の複数個の蒸着マスク
を重ねて前記振動片を挟持し、該振動片の表裏に電極膜
を形成する製造方法において、前記表裏の蒸着マスクの
開口部の外周縁の厚みを蒸着マスクの板厚より薄く設定
して電極膜を形成することを特徴とする。Means for Solving the Problems In a vacuum chamber, a plurality of piezoelectric vibrating pieces are housed in a vapor deposition holder having a plurality of small holes. In the manufacturing method of sandwiching the vibrating piece by stacking a pair of a plurality of vapor deposition masks having a small opening, and forming an electrode film on the front and back of the vibrating piece, the thickness of the outer peripheral edge of the opening of the vapor deposition mask on the front and back. Is set to be thinner than the plate thickness of the vapor deposition mask to form the electrode film.
【0015】前記表裏の蒸着マスクの開口部の外周縁の
断面の形状を開口部の中心に向かって開口部が萎むよう
に傾斜を設定して電極膜を形成することを特徴とする請
求項1記載の製造方法。The electrode film is formed by setting the cross-sectional shape of the outer peripheral edges of the openings of the vapor deposition masks on the front and back sides so that the openings shrink toward the center of the openings. Manufacturing method.
【0016】前記表裏の蒸着マスクの開口部の外周縁の
断面の形状を開口部の中心に向かって薄くなるように段
差を設定して電極膜を形成することを特徴とする。It is characterized in that the electrode film is formed by setting a step so that the cross-sectional shape of the outer peripheral edge of the opening of the front and back evaporation mask becomes thinner toward the center of the opening.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下では本発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1(A)は本発明の製造方法
による振動片と蒸着サブマスクとの関係説明図である。
同図(B)は同図(A)のA−A線の断面図である。同
図(C)は同図(A)のA−A線の断面図として示す本
発明による他の実施例である。図2は本発明の製造方法
によるマウント部の電極膜の説明図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A is an explanatory view of the relationship between the resonator element and the vapor deposition submask according to the manufacturing method of the present invention.
FIG. 3B is a sectional view taken along line AA of FIG. FIG. 7C is another embodiment according to the present invention shown as a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. FIG. 2 is an explanatory diagram of the electrode film of the mount portion according to the manufacturing method of the present invention.
【0018】図1(A)において、振動片10は開口部
11を有する表蒸着サブマスク12によってカバーされ
ている。前記振動片10の裏面には裏蒸着サブマスクに
よってカバーされているが、図示と説明は従来例と同様
の働きなので省略する。マウント部は16、17に形成
され、前記表蒸着サブマスク12の開口部11の外周縁
15はその側壁が後述するように薄くなるように構成さ
れる部分である。In FIG. 1 (A), the resonator element 10 is covered by a surface vapor deposition submask 12 having an opening 11. The back surface of the vibrating element 10 is covered with a back evaporation sub-mask, but the illustration and description thereof are omitted because they work in the same manner as the conventional example. The mount portions are formed at 16 and 17, and the outer peripheral edge 15 of the opening portion 11 of the surface vapor deposition submask 12 is a portion whose side wall is thin as described later.
【0019】図1(B)において、本発明による表蒸着
サブマスク12aの開口部11の外周縁15の断面13
は開口部11の中心に向かって傾斜角が約30°になる
ように例えばエッチング後の片面押しなどで形成され
る。In FIG. 1B, a cross section 13 of the outer peripheral edge 15 of the opening 11 of the surface vapor deposition sub-mask 12a according to the present invention.
Is formed by, for example, single-sided pressing after etching so that the inclination angle becomes about 30 ° toward the center of the opening 11.
【0020】同図(C)は本発明の他の実施例であり、
表蒸着サブマスク12bの開口部11の外周縁15の断
面は表蒸着サブマスク12bの厚みのほぼ1/2となる
ように段差14がハーフエッチングなどで形成される。FIG. 3C shows another embodiment of the present invention,
The step 14 is formed by half etching or the like so that the cross section of the outer peripheral edge 15 of the opening 11 of the front vapor deposition sub-mask 12b is approximately 1/2 of the thickness of the front vapor deposition sub-mask 12b.
【0021】本発明の図1(B)によれば、マウント部
16、17には前記開口部11の側壁によって陰は生じ
ないないのでマウント部16、17には電極膜が均一に
付着する。According to FIG. 1B of the present invention, since no shadow is generated on the mount parts 16 and 17 by the side wall of the opening 11, the electrode films are uniformly attached to the mount parts 16 and 17.
【0022】図2は図1(C)のマウント部16の詳細
説明図である。振動片10上の表蒸着サブマスク12b
の開口部11の外周縁15の断面は段差14を有してい
るので、従来の蒸着サブマスク18と比較して、蒸着角
度が約30°としても蒸着マスクによる陰が半減してマ
ウント部16周縁を含むクロム電極膜19の厚みは10
0〜200オングストロームに形成することができる。FIG. 2 is a detailed explanatory view of the mount portion 16 of FIG. 1 (C). Surface deposition sub-mask 12b on the vibrating piece 10
Since the cross section of the outer peripheral edge 15 of the opening 11 has a step 14, compared with the conventional vapor deposition sub-mask 18, even if the vapor deposition angle is about 30 °, the shadow due to the vapor deposition mask is halved and the periphery of the mount 16 is reduced. The thickness of the chromium electrode film 19 including is 10
It can be formed to 0 to 200 angstroms.
【0023】[0023]
【発明の効果】本発明によれば、マウント部16と支持
棒を半田接続する際に半田による食われがなく品質が安
定する。According to the present invention, when the mount portion 16 and the supporting rod are connected by soldering, the quality is stable without being eaten by the solder.
【0024】本発明によれば、振動子の周波数がシフト
が少ないので品質及び歩留が向上し、更に蒸着マスクの
形状が簡単であるから振動子のコスト/パフォーマンス
を顕著に改善することができる。According to the present invention, the frequency and the yield of the vibrator are improved because the frequency of the vibrator is less shifted, and the cost / performance of the vibrator can be remarkably improved because the shape of the vapor deposition mask is simple. .
【図1】本発明の製造方法による振動片と蒸着サブマス
クとの関係説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a relationship between a resonator element and a vapor deposition submask according to a manufacturing method of the present invention.
【図2】本発明の製造方法によるマウント部の電極膜の
説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an electrode film of a mount portion according to the manufacturing method of the present invention.
【図3】従来のATカット水晶振動子の外観図である。FIG. 3 is an external view of a conventional AT-cut crystal unit.
【図4】従来の振動片に電極膜を形成する蒸着装置の模
式図である。FIG. 4 is a schematic view of a vapor deposition device for forming an electrode film on a conventional resonator element.
【図5】図4の上面図である。5 is a top view of FIG. 4. FIG.
【図6】従来の蒸着ホルダーセットの関係展開図であ
る。FIG. 6 is a relationship development view of a conventional vapor deposition holder set.
【図7】従来の振動片、表蒸着マスク、電極膜の関係の
詳細説明図である。FIG. 7 is a detailed explanatory diagram showing a relationship between a conventional resonator element, a front vapor deposition mask, and an electrode film.
【図8】従来のマウント部の電極膜の構成説明図であ
る。FIG. 8 is an explanatory diagram of a configuration of an electrode film of a conventional mount section.
10 振動片 11 開口部 12 表蒸着サブマスク 12a 表蒸着サブマスク 12b 表蒸着サブマスク 13 蒸着マスク断面 14 段差 15 開口部外周縁 16、17 マウント部 18 蒸着サブマスク 19 クロム電極膜 101 水晶振動片 102 電極膜 103 ステム 104、105 支持棒 200 蒸着装置 201 ベルジャー 205 クロム 206 銀 207 反転 208 公転 209 中心軸 210〜219 蒸着ホルダーセット 210’ 蒸着ホルダー 210a 小孔 220 振動片群 220a 振動片 230 表蒸着マスク 230a 開口部 230b 表蒸着サブマスク 240 裏蒸着マスク 240a 開口部 240b 裏蒸着サブマスク 250、251 マウント部 250’、251’ マウント部 252 最小傾斜角 253 電極膜周縁 254 電極膜周縁 255 クロム材 256 銀材 257 半田接続 260、260’ 電極膜の厚み Reference Signs List 10 vibrating piece 11 opening 12 surface vapor deposition submask 12a surface vapor deposition submask 12b surface vapor deposition submask 13 vapor deposition mask cross section 14 step 15 outer peripheral edge of opening 16, 17 mounting portion 18 vapor deposition submask 19 chromium electrode film 101 quartz crystal vibrating piece 102 electrode film 103 stem 104, 105 Support bar 200 Vapor deposition apparatus 201 Bell jar 205 Chrome 206 Silver 207 Inversion 208 Revolution 209 Center axis 210-219 Vapor deposition holder set 210 'Vapor deposition holder 210a Small hole 220 Vibrating piece group 220a Vibrating piece 230 table Vapor deposition mask 230a Opening 230b Table Vapor deposition sub-mask 240 Back vapor deposition mask 240a Opening 240b Back vapor deposition sub-mask 250, 251 Mounting part 250 ', 251' Mounting part 252 Minimum inclination angle 253 Electrode film peripheral edge 254 The thickness of the electrode film periphery 255 chromium material 256 silver material 257 solder connections 260 and 260 'electrode film
Claims (3)
複数個の小孔を有する薄板状の蒸着ホルダーに収納し、
該薄板状の蒸着ホルダーの表裏に、前記蒸着ホルダーの
小孔より小さい開口部を有する一対の複数個の薄板状の
蒸着マスクを重ねて前記振動片を挟持し、該振動片の表
裏に電極膜を形成する製造方法において、前記表裏の薄
板状蒸着マスクの開口部の外周縁の厚みを蒸着マスクの
板厚より薄く設定して電極膜を形成することを特徴とす
る電極膜の製造方法。1. A thin plate-shaped vapor deposition holder having a plurality of small holes, in which a plurality of piezoelectric vibrating pieces are housed in a vacuum chamber.
On the front and back of the thin plate-shaped vapor deposition holder, a pair of a plurality of thin plate-shaped vapor deposition masks having openings smaller than the small holes of the vapor deposition holder are overlapped to sandwich the vibrating piece, and electrode films are provided on the front and back of the vibrating piece. In the manufacturing method for forming an electrode film, the electrode film is formed by setting the thickness of the outer peripheral edges of the openings of the thin plate-shaped vapor deposition masks on the front and back sides to be smaller than the plate thickness of the vapor deposition mask.
外周縁の断面の形状を開口部の中心に向かって開口部が
萎むように傾斜を設定して電極膜を形成することを特徴
とする請求項1記載の電極膜の製造方法。2. The electrode film is formed by setting the cross-sectional shape of the outer peripheral edge of the opening of the thin plate-shaped vapor deposition masks on the front and back sides so that the opening shrinks toward the center of the opening. The method for producing an electrode film according to claim 1.
外周縁の断面の形状を開口部の中心に向かって薄くなる
ように段差を設定して電極膜を形成することを特徴とす
る請求項1記載の電極膜の製造方法。3. An electrode film is formed by setting a step so that the cross-sectional shape of the outer peripheral edge of the opening of the thin plate-shaped vapor deposition masks on the front and back sides becomes thinner toward the center of the opening. Item 2. The method for producing an electrode film according to Item 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10344396A JPH09270653A (en) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | Manufacture of electrode film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10344396A JPH09270653A (en) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | Manufacture of electrode film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09270653A true JPH09270653A (en) | 1997-10-14 |
Family
ID=14354183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10344396A Pending JPH09270653A (en) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | Manufacture of electrode film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09270653A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005269628A (en) * | 2005-02-21 | 2005-09-29 | Toyo Commun Equip Co Ltd | Quartz resonator and manufacturing method of electrode film thereof |
JP2007256311A (en) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | Metal mask for sputtering, color filter, and manufacturing method therefor |
-
1996
- 1996-03-28 JP JP10344396A patent/JPH09270653A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005269628A (en) * | 2005-02-21 | 2005-09-29 | Toyo Commun Equip Co Ltd | Quartz resonator and manufacturing method of electrode film thereof |
JP2007256311A (en) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | Metal mask for sputtering, color filter, and manufacturing method therefor |
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