JPH09263423A - 抗菌性を有するほうろう釉薬 - Google Patents
抗菌性を有するほうろう釉薬Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C8/22—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions containing two or more distinct frits having different compositions
-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属下地板がアルミニウム板に限定されず、
かつ従来どおりの焼付け条件でほうろう板を製造するこ
とができる、抗菌性を有するほうろう釉薬を提供する。 【解決手段】 抗菌成分を含むフリットと、抗菌成分を
含まないフリットとを配合し、釉薬中の抗菌成分含量を
0.02〜10重量%としたことを特徴とする、抗菌性
を有するほうろう釉薬である。
かつ従来どおりの焼付け条件でほうろう板を製造するこ
とができる、抗菌性を有するほうろう釉薬を提供する。 【解決手段】 抗菌成分を含むフリットと、抗菌成分を
含まないフリットとを配合し、釉薬中の抗菌成分含量を
0.02〜10重量%としたことを特徴とする、抗菌性
を有するほうろう釉薬である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、抗菌性を有するほうろ
う釉薬に関するものである。一般に、ほうろう製品は、
耐熱性、耐薬品性、装飾性などの機能を有しており、燃
焼器具、建築材料、調理器具、流し台などに広範に使わ
れている。本発明は、特に、抗菌性を示すほうろう製品
を得るための新規組成の釉薬に関するものである。
う釉薬に関するものである。一般に、ほうろう製品は、
耐熱性、耐薬品性、装飾性などの機能を有しており、燃
焼器具、建築材料、調理器具、流し台などに広範に使わ
れている。本発明は、特に、抗菌性を示すほうろう製品
を得るための新規組成の釉薬に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、抗菌性を有するほうろう製品とし
ては、所要量のアルカリ金属成分と抗菌成分としてPb
Oを含むフリットを配合したほうろう釉薬を、アルミニ
ウムもしくはその合金をメッキした鋼板の表面に塗布し
焼付けしてなるアルミほうろう板(特開昭7−2686
53号公報参照)や、金属下地板の表面にほうろう釉薬
を塗布し焼付けしてほうろう層を形成し、この層の表面
に抗菌成分としてAgO、CuOまたはZnOをほうろ
う層焼付け温度より低い温度で焼付け塗装により固着さ
せてなる金属ほうろう板(特開昭7−268652号公
報参照)が提案されている。
ては、所要量のアルカリ金属成分と抗菌成分としてPb
Oを含むフリットを配合したほうろう釉薬を、アルミニ
ウムもしくはその合金をメッキした鋼板の表面に塗布し
焼付けしてなるアルミほうろう板(特開昭7−2686
53号公報参照)や、金属下地板の表面にほうろう釉薬
を塗布し焼付けしてほうろう層を形成し、この層の表面
に抗菌成分としてAgO、CuOまたはZnOをほうろ
う層焼付け温度より低い温度で焼付け塗装により固着さ
せてなる金属ほうろう板(特開昭7−268652号公
報参照)が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前者のほうろ
う板は、フリット中のアルカリ金属成分の含有量が大き
いため、金属下地板がアルミニウム板、アルミニウムを
メッキした鋼板などに限定されるものであり、そのため
使用されるフリットは、アルミニウムもしくはその合金
の構成強度に影響を与える温度600℃より低い温度で
焼成を行う必要がある。
う板は、フリット中のアルカリ金属成分の含有量が大き
いため、金属下地板がアルミニウム板、アルミニウムを
メッキした鋼板などに限定されるものであり、そのため
使用されるフリットは、アルミニウムもしくはその合金
の構成強度に影響を与える温度600℃より低い温度で
焼成を行う必要がある。
【0004】また、後者のほうろう板を製造するには、
上述のようにほうろう層の形成時と抗菌成分の付着の時
とで焼付け操作を2回行う必要があり、しかも焼付け条
件を変える必要がある。
上述のようにほうろう層の形成時と抗菌成分の付着の時
とで焼付け操作を2回行う必要があり、しかも焼付け条
件を変える必要がある。
【0005】このように、従来のほうろう板は、製造操
作の点で問題があった。
作の点で問題があった。
【0006】本発明は、上述のような従来法の問題点に
鑑み、金属下地板がアルミニウム板に限定されず、かつ
従来どおりの焼付け条件でほうろう板を製造することが
できる、抗菌性を有するほうろう釉薬を提供することを
目的とする。
鑑み、金属下地板がアルミニウム板に限定されず、かつ
従来どおりの焼付け条件でほうろう板を製造することが
できる、抗菌性を有するほうろう釉薬を提供することを
目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による、抗菌性を
有するほうろう釉薬は、抗菌成分を含むフリットと、抗
菌成分を含まないフリットとを配合し、釉薬中の抗菌成
分含量を0.02〜10重量%としたことを特徴とする
ものである。
有するほうろう釉薬は、抗菌成分を含むフリットと、抗
菌成分を含まないフリットとを配合し、釉薬中の抗菌成
分含量を0.02〜10重量%としたことを特徴とする
ものである。
【0008】本発明によるほうろう釉薬は、例えば、フ
リット、粘土、電解質物質および水からなる配合物をボ
ールミルで混合粉砕することによって調製される。上記
配合物をボールミルで混合粉砕して得られた泥しようを
スリップという。スリップは、例えば、フリット100
重量部に対し、粘土5〜8重量部、電解質物質0.2〜
1.0重量部、水40〜60重量部を含む。スリップは
さらに、顔料、添加剤等を含んでいてもよい。
リット、粘土、電解質物質および水からなる配合物をボ
ールミルで混合粉砕することによって調製される。上記
配合物をボールミルで混合粉砕して得られた泥しようを
スリップという。スリップは、例えば、フリット100
重量部に対し、粘土5〜8重量部、電解質物質0.2〜
1.0重量部、水40〜60重量部を含む。スリップは
さらに、顔料、添加剤等を含んでいてもよい。
【0009】抗菌成分を含まないフリットは、通常、所
要のフリット組成物を構成するようにフリット原料を配
合し、この配合物を溶融し、ついで溶融物を水冷ロール
で急冷することによって調製される。
要のフリット組成物を構成するようにフリット原料を配
合し、この配合物を溶融し、ついで溶融物を水冷ロール
で急冷することによって調製される。
【0010】抗菌成分を含むフリットは、例えば、所要
のフリット組成物を構成するようにフリット原料と抗菌
成分を配合し、この配合物を溶融し、溶融物を水冷ロー
ルで急冷することによって調製される。
のフリット組成物を構成するようにフリット原料と抗菌
成分を配合し、この配合物を溶融し、溶融物を水冷ロー
ルで急冷することによって調製される。
【0011】抗菌成分は、溶融したフリットに溶解する
ものであれば特に限定されないが、代表的には、銀、
銅、亜鉛、スズ、またはこれらの化合物、例えばCu
O、Cu2O、AgO、ZuO、SnO2などである。
ものであれば特に限定されないが、代表的には、銀、
銅、亜鉛、スズ、またはこれらの化合物、例えばCu
O、Cu2O、AgO、ZuO、SnO2などである。
【0012】抗菌成分の添加量は、全フリット量100
重量部に対し好ましくは0.03〜15重量部、より好
ましくは0.1〜10重量部であり、釉薬中には0.0
2〜10重量%、より好ましくは0.06〜7重量部で
ある。
重量部に対し好ましくは0.03〜15重量部、より好
ましくは0.1〜10重量部であり、釉薬中には0.0
2〜10重量%、より好ましくは0.06〜7重量部で
ある。
【0013】抗菌成分の添加量が少なすぎると所期の抗
菌性が得られず、逆に多すぎるとほうろう製品に着色を
生じたり光沢を失ったりして製品の外観を損ねる場合が
ある。
菌性が得られず、逆に多すぎるとほうろう製品に着色を
生じたり光沢を失ったりして製品の外観を損ねる場合が
ある。
【0014】フリットの代表的なものは、SiO2、A
l2O3、B2O3、TiO2、CaO、BaO、Sr
O、K2O、Na2O、Li2O、F2、P2O5、N
iO、CoO、MnOなどを適宜含むものである。市販
のフリット、例えば日本フエロー社製のほうろう用耐酸
下釉フリット(#03−1300)、同社製のほうろう
用透明フリット(#04−1427)、同社製のアルミ
ニウムほうろう用フリット(#01−4303)、同社
製のほうろう用チタン乳白フリット(#02−110
3)および同低温焼成用チタン乳白フリット(#02−
1113)、同社製の下釉フリット(#03−121
8、#03−1250、#03−1210)なども使用
できる。
l2O3、B2O3、TiO2、CaO、BaO、Sr
O、K2O、Na2O、Li2O、F2、P2O5、N
iO、CoO、MnOなどを適宜含むものである。市販
のフリット、例えば日本フエロー社製のほうろう用耐酸
下釉フリット(#03−1300)、同社製のほうろう
用透明フリット(#04−1427)、同社製のアルミ
ニウムほうろう用フリット(#01−4303)、同社
製のほうろう用チタン乳白フリット(#02−110
3)および同低温焼成用チタン乳白フリット(#02−
1113)、同社製の下釉フリット(#03−121
8、#03−1250、#03−1210)なども使用
できる。
【0015】電解質物質としては含水硼砂、亜硝酸ソー
ダ、アルミン酸ソーダ、炭酸マグネシウムなどが例示さ
れる。電解質物質の含有量は、フリット100重量部に
対し通常1重量%未満である。
ダ、アルミン酸ソーダ、炭酸マグネシウムなどが例示さ
れる。電解質物質の含有量は、フリット100重量部に
対し通常1重量%未満である。
【0016】粘土、止め薬、顔料、添加剤などはほうろ
う用材料として汎用されているものが通常の量で使用で
きる。
う用材料として汎用されているものが通常の量で使用で
きる。
【0017】施釉量は焼成後の膜厚みが約40〜200
μmとなるように設定される。焼成温度は金属下地に従
って適宜決められ、鋼板の場合750〜900℃程度、
アルミニウム板の場合500〜600℃程度である。
μmとなるように設定される。焼成温度は金属下地に従
って適宜決められ、鋼板の場合750〜900℃程度、
アルミニウム板の場合500〜600℃程度である。
【0018】本発明によるほうろう釉薬が施釉される下
地金属の代表例は、ほうろう用鋼板(JIS G−31
33)である。その表面が硫酸ニッケル水溶液で前処理
されてもされなくてもよい。下地金属の脱脂処理は行っ
た方が好ましい。
地金属の代表例は、ほうろう用鋼板(JIS G−31
33)である。その表面が硫酸ニッケル水溶液で前処理
されてもされなくてもよい。下地金属の脱脂処理は行っ
た方が好ましい。
【0019】下地金属には通常の下釉薬が施釉される。
下釉薬を構成するフリットは通常は抗菌成分を含まない
が、含んでいてもよい。
下釉薬を構成するフリットは通常は抗菌成分を含まない
が、含んでいてもよい。
【0020】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施例を挙げ
る。また得られたほうろう板の抗菌性能を測定し、その
結果を示す。
る。また得られたほうろう板の抗菌性能を測定し、その
結果を示す。
【0021】実施例 表1に示す(A)(B)(C)(D)および(E)の5
種類のフリット組成物を構成するように、それぞれフリ
ット原料を配合した。上記配合物を1250〜1300
℃で溶融し水冷ロールで急冷することによってフリット
を得た。フリット(E)では、溶融したフリットにCU
2Oが溶解せず、配合物を完全にフリット化できなかっ
た。他の配合物は均質なガラスフリットとなった。
種類のフリット組成物を構成するように、それぞれフリ
ット原料を配合した。上記配合物を1250〜1300
℃で溶融し水冷ロールで急冷することによってフリット
を得た。フリット(E)では、溶融したフリットにCU
2Oが溶解せず、配合物を完全にフリット化できなかっ
た。他の配合物は均質なガラスフリットとなった。
【0022】
【表1】
【0023】上記フリットのうち、フリット(A)と
(C)を用い、これらに粘土、電解質物質および水を表
2に示す割合で配合し、この配合物をボールミルにて湿
式粉砕してスリップを得た。こうしてフリット含量を異
にする5種類の上釉薬を得た。
(C)を用い、これらに粘土、電解質物質および水を表
2に示す割合で配合し、この配合物をボールミルにて湿
式粉砕してスリップを得た。こうしてフリット含量を異
にする5種類の上釉薬を得た。
【0024】
【表2】
【0025】また、日本フエロー社製の下釉フリット
(#03−1234、#03−1248、#03−12
22)を用い、これらに粘土、電解質物質、添加剤およ
び水を表3に示す割合で配合し、この配合物をボールミ
ルにて湿式粉砕してスリップを得た。こうして下釉薬を
調製した。
(#03−1234、#03−1248、#03−12
22)を用い、これらに粘土、電解質物質、添加剤およ
び水を表3に示す割合で配合し、この配合物をボールミ
ルにて湿式粉砕してスリップを得た。こうして下釉薬を
調製した。
【0026】
【表3】
【0027】性能試験 ・試験片の作製 0.8mm厚み、5cm×5cmサイズのほうろう用鋼
板(JIS G−3133)に、前処理なしで(脱脂の
み)、上記の下釉薬を片面1gの両面掛けでスプレー施
釉した。乾燥後、ステンレス鋼板を820℃の温度で3
分間焼成し、下釉膜を融着させた。
板(JIS G−3133)に、前処理なしで(脱脂の
み)、上記の下釉薬を片面1gの両面掛けでスプレー施
釉した。乾燥後、ステンレス鋼板を820℃の温度で3
分間焼成し、下釉膜を融着させた。
【0028】ついで、この下釉膜の上に上記の上釉薬を
片面1gの両面掛けでスプレー施釉した。乾燥後、ステ
ンレス鋼板を820℃の温度で3分間焼成し、上釉膜を
融着させた。
片面1gの両面掛けでスプレー施釉した。乾燥後、ステ
ンレス鋼板を820℃の温度で3分間焼成し、上釉膜を
融着させた。
【0029】得られたほうろう体を試験片とする。
【0030】性能試験 ・試験菌液の調製 下記の試験菌株を普通寒天培地(栄研化学社製)で37
±1℃で16〜24時間培養した後、さらに普通寒天培
地(栄研化学社製)で37±1℃で16〜24時間培養
し、その後1/200濃度の0.2%肉エキス添加普通
ブイヨン培地(栄研化学社製)で各試験菌株に浮遊さ
せ、同培地における菌数が2.0×10〜1.0×10
6/mlとなるように菌液を調製した。この菌液を試験
菌液とした。
±1℃で16〜24時間培養した後、さらに普通寒天培
地(栄研化学社製)で37±1℃で16〜24時間培養
し、その後1/200濃度の0.2%肉エキス添加普通
ブイヨン培地(栄研化学社製)で各試験菌株に浮遊さ
せ、同培地における菌数が2.0×10〜1.0×10
6/mlとなるように菌液を調製した。この菌液を試験
菌液とした。
【0031】・試験菌株 Escherichia coli IFO 3301
(大腸菌) Staphylococcus aureus IFO
12732 (黄色ブドウ球菌)
(大腸菌) Staphylococcus aureus IFO
12732 (黄色ブドウ球菌)
【0032】・試験片の前処理 99.5%エタノールをしみ込ませた綿で試験片を清拭
した後、風乾して試験に供した。
した後、風乾して試験に供した。
【0033】・試験操作 5cm×5cmに対して0.5mlの割合で試験片の試
験面に試験菌液を接種し、その上にポリエチレンフィル
ムを被せ、菌液を試験面を密着させた。これら試験片を
35℃で24時間保存した後、試験菌液をSCDLP寒
天培地(日本製薬社製)で洗い出し、洗い出し液中の生
菌数を菌数測定用培地を用いた混釈平板培養法(35
℃、2日間)により測定した。
験面に試験菌液を接種し、その上にポリエチレンフィル
ムを被せ、菌液を試験面を密着させた。これら試験片を
35℃で24時間保存した後、試験菌液をSCDLP寒
天培地(日本製薬社製)で洗い出し、洗い出し液中の生
菌数を菌数測定用培地を用いた混釈平板培養法(35
℃、2日間)により測定した。
【0034】・抗菌効果 上記誌抗菌試験の結果を表4に示す。また、ほうろう面
の外観を目視観察し、さらにほうろう面の顕微鏡写真
(200倍)を撮った。この結果を図1に示す。
の外観を目視観察し、さらにほうろう面の顕微鏡写真
(200倍)を撮った。この結果を図1に示す。
【0035】
【表4】
【0036】表4から明らかなように、上釉薬(C)を
用いた場合、抗菌効果はよいが、得られたほうろう面が
全面にわたって黒変し、ほうろう製品としての商品価値
を有しないものである。これに対し、上釉薬(C1)、
(C10)および(C20)を用いた場合、抗菌効果が
よい上に、得られたほうろう面は微細な斑点を有する
が、これは目視ではほとんど気付かない程度であるか、
または目視で気付く場合は意匠上好ましい外観を呈する
ものである。
用いた場合、抗菌効果はよいが、得られたほうろう面が
全面にわたって黒変し、ほうろう製品としての商品価値
を有しないものである。これに対し、上釉薬(C1)、
(C10)および(C20)を用いた場合、抗菌効果が
よい上に、得られたほうろう面は微細な斑点を有する
が、これは目視ではほとんど気付かない程度であるか、
または目視で気付く場合は意匠上好ましい外観を呈する
ものである。
【0037】
【発明の効果】本発明による、抗菌性を有するほうろう
釉薬は以上の如く構成されているので、金属下地板がア
ルミニウム板に限定されず、かつ従来どおりの焼付け条
件でほうろう板を製造することができる。しかも、得ら
れたほうろう面は良好な抗菌効果を発揮する上に、微細
な斑点を有し、この班点は目視ではほとんど気付かない
程度であるか、または目視で気付く場合は意匠上好まし
い外観を呈するものである。
釉薬は以上の如く構成されているので、金属下地板がア
ルミニウム板に限定されず、かつ従来どおりの焼付け条
件でほうろう板を製造することができる。しかも、得ら
れたほうろう面は良好な抗菌効果を発揮する上に、微細
な斑点を有し、この班点は目視ではほとんど気付かない
程度であるか、または目視で気付く場合は意匠上好まし
い外観を呈するものである。
【図1】上釉薬(C1)を用いて得られたほうろう面が
微細な斑点を有することを示す顕微鏡写真(200倍)
である。
微細な斑点を有することを示す顕微鏡写真(200倍)
である。
Claims (1)
- 【請求項1】 抗菌成分を含むフリットと、抗菌成分を
含まないフリットとを配合し、釉薬中の抗菌成分含量を
0.02〜10重量%としたことを特徴とする、抗菌性
を有するほうろう釉薬。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11297796A JPH09263423A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 抗菌性を有するほうろう釉薬 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11297796A JPH09263423A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 抗菌性を有するほうろう釉薬 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09263423A true JPH09263423A (ja) | 1997-10-07 |
Family
ID=14600313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11297796A Pending JPH09263423A (ja) | 1996-03-28 | 1996-03-28 | 抗菌性を有するほうろう釉薬 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09263423A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003062163A3 (de) * | 2002-01-24 | 2004-03-11 | Schott Glas | Antimikrobielles, wasserunlösliches silicatglaspulver und mischung von glaspulvern |
CN106365451A (zh) * | 2016-08-29 | 2017-02-01 | 佛山市高明区明城镇新能源新材料产业技术创新中心 | 一种防静电抗菌陶瓷釉及其制备方法 |
JP2017036192A (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 石塚硝子株式会社 | ガラス被膜形成材及びこれを用いたガラス被覆製品 |
KR20210077929A (ko) * | 2019-12-18 | 2021-06-28 | 한국세라믹기술원 | 항균 유약 조성물 및 이를 이용한 항균 도자기의 제조방법 |
WO2022145821A1 (ko) * | 2021-01-04 | 2022-07-07 | 엘지전자 주식회사 | 복합 유리 조성물 및 그 제조 방법과, 이를 포함하는 조리기기 |
US20230114630A1 (en) * | 2021-10-13 | 2023-04-13 | Lg Electronics Inc. | Ceramic composition comprising antimicrobial glass composition |
-
1996
- 1996-03-28 JP JP11297796A patent/JPH09263423A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003062163A3 (de) * | 2002-01-24 | 2004-03-11 | Schott Glas | Antimikrobielles, wasserunlösliches silicatglaspulver und mischung von glaspulvern |
JP2017036192A (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 石塚硝子株式会社 | ガラス被膜形成材及びこれを用いたガラス被覆製品 |
CN106365451A (zh) * | 2016-08-29 | 2017-02-01 | 佛山市高明区明城镇新能源新材料产业技术创新中心 | 一种防静电抗菌陶瓷釉及其制备方法 |
KR20210077929A (ko) * | 2019-12-18 | 2021-06-28 | 한국세라믹기술원 | 항균 유약 조성물 및 이를 이용한 항균 도자기의 제조방법 |
WO2022145821A1 (ko) * | 2021-01-04 | 2022-07-07 | 엘지전자 주식회사 | 복합 유리 조성물 및 그 제조 방법과, 이를 포함하는 조리기기 |
KR20220098468A (ko) * | 2021-01-04 | 2022-07-12 | 엘지전자 주식회사 | 복합 유리 조성물 및 그 제조 방법과, 이를 포함하는 조리기기 |
US20230114630A1 (en) * | 2021-10-13 | 2023-04-13 | Lg Electronics Inc. | Ceramic composition comprising antimicrobial glass composition |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020305 |