JPH09231520A - Thin-film magnetic head and magnetic head device - Google Patents
Thin-film magnetic head and magnetic head deviceInfo
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- JPH09231520A JPH09231520A JP6530396A JP6530396A JPH09231520A JP H09231520 A JPH09231520 A JP H09231520A JP 6530396 A JP6530396 A JP 6530396A JP 6530396 A JP6530396 A JP 6530396A JP H09231520 A JPH09231520 A JP H09231520A
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- head
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気抵抗効果型ヘ
ッド素子を具えた薄膜磁気ヘッド、或いは誘導型ヘッド
素子及び磁気抵抗効果型ヘッド素子を一体に具えた複合
型の薄膜磁気ヘッドに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic head having a magnetoresistive head element or a composite thin film magnetic head having an inductive head element and a magnetoresistive head element integrally formed. is there.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、コンピュータの外部記憶装置とし
てのハードディスクドライブ装置等においては、信号記
録用の誘導型ヘッド素子H1と、信号再生用の磁気抵抗
効果型ヘッド素子H2(以下、MRヘッド素子という)と
を一体に具えた複合型薄膜磁気ヘッドが注目されてい
る。一般に、複合型薄膜磁気ヘッドにおいては、図9に
示す如く、基板(1)上に、MRヘッド素子H2として、
絶縁層(2)、下部シールド層(3)、下部絶縁層(4)、M
R素子層(5)、電極層(6)(6)、及び上部絶縁層(7)が
順次積層されている。又、該ヘッド素子H2上には、誘
導型ヘッド素子H1として、上部シールド層(8)、コイ
ル層(図示省略)、ギャップスペーサ層(12)、上部コア層
(13)、及び保護層(16)が順次積層されている。尚、上部
シールド層(8)は、MRヘッド素子H2と誘導型ヘッド
素子H1の間の磁気シールドの機能を発揮すると同時
に、誘導型ヘッド素子H1の下部コア層としての機能を
兼ね具えている。2. Description of the Related Art In recent years, in a hard disk drive device or the like as an external storage device of a computer, an inductive head element H1 for recording a signal and a magnetoresistive head element H2 for reproducing a signal (hereinafter referred to as an MR head element). ) And a composite type thin film magnetic head, which are integrated, are attracting attention. Generally, in a composite type thin film magnetic head, as shown in FIG. 9, as an MR head element H2 on a substrate (1),
Insulating layer (2), lower shield layer (3), lower insulating layer (4), M
The R element layer (5), the electrode layers (6) and (6), and the upper insulating layer (7) are sequentially stacked. Further, on the head element H2, as an inductive head element H1, an upper shield layer (8), a coil layer (not shown), a gap spacer layer (12), an upper core layer are provided.
(13) and the protective layer (16) are sequentially laminated. The upper shield layer (8) has a function as a magnetic shield between the MR head element H2 and the inductive head element H1 and also has a function as a lower core layer of the inductive head element H1.
【0003】ハードディスクドライブ装置による信号再
生において、上記複合型薄膜磁気ヘッドは、ディスクの
信号記録面に対し浮上状態を保ちながら、高速回転する
ディスクの表面を走査する。この過程で、ディスクの磁
化方向によってMR素子層(5)の磁化方向が変化し、こ
れに伴って、MR素子層(5)の抵抗値が変化する。そこ
で、電極層(6)(6)からMR素子層(5)に電流を流し
て、電極層(6)(6)間の電圧、即ちMR素子層(5)の両
端電圧を測定すれば、MR素子層(5)の抵抗変化を電圧
変動として検知することが出来る。ハードディスクドラ
イブ装置は、この様にして得られるMR素子層(5)の抵
抗値の変化を利用して、ディスクの信号記録面に書き込
まれているデータを読み取るのである。In signal reproduction by a hard disk drive, the composite thin film magnetic head scans the surface of a disk rotating at high speed while maintaining a floating state with respect to the signal recording surface of the disk. In this process, the magnetization direction of the MR element layer (5) changes depending on the magnetization direction of the disk, and the resistance value of the MR element layer (5) changes accordingly. Therefore, if a current is passed from the electrode layers (6) and (6) to the MR element layer (5) and the voltage between the electrode layers (6) and (6), that is, the voltage across the MR element layer (5) is measured, The resistance change of the MR element layer (5) can be detected as a voltage change. The hard disk drive device reads the data written on the signal recording surface of the disk by utilizing the change in the resistance value of the MR element layer (5) thus obtained.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上述の如くMR素子層
(5)に電流を流すと、MR素子層(5)は抵抗を有するた
めに発熱し、温度が上昇する。これによって、MR素子
層(5)の磁気特性が変化し、MRヘッド素子H2の再生
出力が低下すると共に、雑音が生じることとなる。又、
一般に、MR素子層(5)の内部では、エレクトロマイグ
レーションが起こっており、該エレクトロマイグレーシ
ョンが進行すると、最終的にMR素子層(5)が破断し
て、電流が流れなくなる。ここで、エレクトロマイグレ
ーションの進行度は、温度や電流密度に依存するので、
上述の温度上昇によって、エレクトロマイグレーション
の進行は促進される。この結果、薄膜磁気ヘッドの寿命
が短くなる。As described above, the MR element layer
When a current is applied to (5), the MR element layer (5) has a resistance and thus generates heat, and the temperature rises. As a result, the magnetic characteristics of the MR element layer (5) are changed, the reproduction output of the MR head element H2 is lowered, and noise is generated. or,
Generally, electromigration occurs inside the MR element layer (5), and when the electromigration progresses, the MR element layer (5) is finally broken and current does not flow. Here, since the degree of progress of electromigration depends on the temperature and the current density,
The above-mentioned temperature rise accelerates the progress of electromigration. As a result, the life of the thin film magnetic head is shortened.
【0005】ところで、浮動式の薄膜磁気ヘッドにおい
ては、薄膜磁気ヘッドが浮上した状態でディスクが高速
回転するので、空気流による冷却効果により、前記温度
上昇が抑制されることが期待される。しかしながら、上
記薄膜磁気ヘッドは、ヘッド素子全体が、熱伝導率の低
い保護層(16)に覆われているので、空気流による冷却効
果は充分に得られない。又、携帯型パーソナルコンピュ
ータでは、消費電力の制限により、磁気記録装置の記録
媒体の回転速度が遅く、記録媒体の半径が小さいので、
空気流による冷却効果は充分に得られない。更に、パー
ソナルコンピュータにおける画像データの取込み処理に
おいては、非常に容量の大きいファイルが保存される。
この様なファイルの読出しの際には、長時間に亘ってM
R素子層(5)に電流が流れることとなり、温度上昇が大
きくなる。本発明の目的は、MR素子層(5)の温度上昇
を抑制して、上記問題点を一挙に解決することである。By the way, in the floating type thin film magnetic head, since the disk rotates at a high speed in a state where the thin film magnetic head is levitated, it is expected that the temperature rise is suppressed by the cooling effect by the air flow. However, in the above thin-film magnetic head, the entire head element is covered with the protective layer (16) having a low thermal conductivity, so that the cooling effect by the air flow cannot be sufficiently obtained. Further, in the portable personal computer, the rotation speed of the recording medium of the magnetic recording device is slow and the radius of the recording medium is small due to the limitation of power consumption.
The cooling effect by the air flow cannot be sufficiently obtained. Furthermore, in the process of capturing image data in a personal computer, a very large capacity file is saved.
When reading such a file, M
A current flows through the R element layer (5), and the temperature rise becomes large. An object of the present invention is to suppress the temperature rise of the MR element layer (5) and solve the above problems all at once.
【0006】[0006]
【課題を解決する為の手段】本発明に係る薄膜磁気ヘッ
ドは、基板(1)上に磁気抵抗効果型ヘッド素子H2を具
え、該ヘッド素子H2は、下部シールド層(3)と上部シ
ールド層(8)の間にMR素子層(5)を介在させて構成さ
れ、ヘッド素子全体が保護層(16)によって覆われている
薄膜磁気ヘッドにおいて、上部シールド層(8)と同一の
資材からなる水平熱伝導層(80)が、基板(1)と保護層(1
6)の間を上部シールド層(8)の端部から基板(1)の表面
に沿ってヘッド素子の外方位置まで伸びると共に、該水
平熱伝導層(80)の先端部に重ねて、保護層(16)よりも熱
伝導率の高い資材からなる垂直熱伝導層(81)が形成さ
れ、該垂直熱伝導層(81)は、保護層(16)を貫通して保護
層表面から露出している。A thin film magnetic head according to the present invention comprises a magnetoresistive head element H2 on a substrate (1), the head element H2 comprising a lower shield layer (3) and an upper shield layer. In the thin film magnetic head having the MR element layer (5) interposed between (8) and the entire head element being covered by the protective layer (16), it is made of the same material as the upper shield layer (8). The horizontal heat conduction layer (80) is composed of the substrate (1) and the protective layer (1).
6) extends from the end of the upper shield layer (8) along the surface of the substrate (1) to the outer position of the head element, and is overlapped with the end of the horizontal heat conduction layer (80) to protect it. A vertical heat conductive layer (81) made of a material having a higher thermal conductivity than the layer (16) is formed, and the vertical heat conductive layer (81) penetrates the protective layer (16) and is exposed from the surface of the protective layer. ing.
【0007】該薄膜磁気ヘッドにおいて、信号再生時に
MR素子層(5)に電流を流すことによりMR素子層(5)
から発生する熱は、上部シールド層(8)を経て水平熱伝
導層(80)へ伝わり、更に水平熱伝導層(80)の表面に形成
されている垂直熱伝導層(81)を伝って露出面から外部へ
放散される。ここで、垂直熱伝導層(81)は、保護層(16)
よりも熱伝導率の高い資材から形成されているので、ヘ
ッド素子全体が保護層(16)に覆われている従来の薄膜磁
気ヘッドよりも、多くの熱量が放散される。又、一般
に、上部シールド層(8)は、Ni−Fe合金等の熱伝導率
の高い資材から形成されており、然もMR素子層(5)に
近い位置に存在する。従って、水平熱伝導層(80)を上部
シールド層(8)と同一の資材から形成することによっ
て、多くの熱量を垂直熱伝導層(81)に伝えることが出来
る。尚、上部シールド層(8)を形成する工程で、同時に
水平熱伝導層(80)を形成すれば、工程数が増加すること
はない。In the thin film magnetic head, the MR element layer (5) is formed by applying a current to the MR element layer (5) during signal reproduction.
The heat generated from the heat is transmitted to the horizontal heat conduction layer (80) through the upper shield layer (8) and further exposed through the vertical heat conduction layer (81) formed on the surface of the horizontal heat conduction layer (80). Emitted from the surface to the outside. Here, the vertical heat conduction layer (81) is the protective layer (16).
Since it is formed of a material having a higher thermal conductivity than that of the conventional thin film magnetic head in which the entire head element is covered with the protective layer (16), a larger amount of heat is dissipated. In general, the upper shield layer (8) is made of a material having a high thermal conductivity such as a Ni-Fe alloy, and is located near the MR element layer (5). Therefore, by forming the horizontal heat conduction layer (80) from the same material as the upper shield layer (8), a large amount of heat can be transferred to the vertical heat conduction layer (81). If the horizontal heat conduction layer (80) is simultaneously formed in the step of forming the upper shield layer (8), the number of steps does not increase.
【0008】本発明に係る他の薄膜磁気ヘッドは、基板
(1)上に磁気抵抗効果型ヘッド素子H2を具え、該ヘッ
ド素子H2は、下部シールド層(3)と上部シールド層
(8)の間にMR素子層(5)を介在させて構成され、ヘッ
ド素子全体が保護層(16)によって覆われている薄膜磁気
ヘッドにおいて、上部シールド層(8)よりも外方へ突出
した下部シールド層(3)の端部に、保護層(16)よりも熱
伝導率の高い資材からなる垂直熱伝導層(31)が形成さ
れ、該垂直熱伝導層(31)は、保護層(16)を貫通して保護
層表面から露出している。Another thin film magnetic head according to the present invention is a substrate
(1) A magnetoresistive head element H2 is provided on the head element H2. The head element H2 includes a lower shield layer (3) and an upper shield layer.
In a thin film magnetic head constituted by interposing an MR element layer (5) between (8) and having the entire head element covered with a protective layer (16), protrudes outwardly from the upper shield layer (8). A vertical heat conduction layer (31) made of a material having a higher thermal conductivity than that of the protective layer (16) is formed at an end of the lower shield layer (3), and the vertical heat conduction layer (31) is a protective layer. It penetrates through (16) and is exposed from the surface of the protective layer.
【0009】該薄膜磁気ヘッドにおいて、信号再生時に
MR素子層(5)に電流を流すことによりMR素子層(5)
から発生する熱は、下部シールド層(3)から垂直熱伝導
層(31)へ伝わり、露出面から外部へ放散される。ここ
で、垂直熱伝導層(31)は、保護層(16)よりも熱伝導率の
高い資材、例えばNi−Fe合金から形成されているの
で、ヘッド素子全体が保護層(16)に覆われている従来の
薄膜磁気ヘッドよりも、多くの熱量が放散される。又、
一般に、下部シールド層(3)は、上記上部シールド層
(8)と同様に、Ni−Fe合金等の熱伝導率の高い資材か
ら形成されており、然もMR素子層(5)に近い位置に存
在する。従って、下部シールド層(3)の端部に垂直熱伝
導層(31)を形成することによって、多くの熱量を垂直熱
伝導層(31)に伝えることが出来る。In the thin film magnetic head, the MR element layer (5) is formed by applying a current to the MR element layer (5) during signal reproduction.
The heat generated by the heat is transmitted from the lower shield layer (3) to the vertical heat conduction layer (31) and is radiated to the outside from the exposed surface. Here, since the vertical heat conduction layer (31) is formed of a material having a higher heat conductivity than the protection layer (16), for example, a Ni-Fe alloy, the entire head element is covered with the protection layer (16). More heat is dissipated than the conventional thin film magnetic head. or,
Generally, the lower shield layer (3) is the above upper shield layer.
Similar to (8), it is made of a material having a high thermal conductivity such as a Ni-Fe alloy, and it is still located near the MR element layer (5). Therefore, by forming the vertical heat conduction layer (31) at the end of the lower shield layer (3), a large amount of heat can be transferred to the vertical heat conduction layer (31).
【0010】具体的には、垂直熱伝導層は、前記ヘッド
素子H2から伸びる複数条のターミナル層(14)の先端部
に積層されているバンプ層(15)と同一の資材からなる主
層部を具え、該主層部の表面は、保護層表面と同一平面
上に形成されている。Specifically, the vertical heat conduction layer is a main layer portion made of the same material as the bump layer (15) laminated on the tip portions of the plurality of terminal layers (14) extending from the head element H2. The surface of the main layer portion is formed on the same plane as the surface of the protective layer.
【0011】該具体的構成において、バンプ層(15)は保
護層(16)よりも熱伝導率の高い資材、例えばCuから形
成されているので、多くの熱量を放散することが出来
る。又、ヘッド素子H2から伸びるターミナル層(14)の
先端部にバンプ層(15)を形成する工程で、同時に水平熱
伝導層(80)の表面、或いは下部シールド層(3)の表面に
垂直熱伝導層を形成すれば、工程数が増加することはな
い。In the specific structure, since the bump layer (15) is made of a material having a higher thermal conductivity than the protective layer (16), such as Cu, a large amount of heat can be dissipated. Further, in the process of forming the bump layer (15) on the tip of the terminal layer (14) extending from the head element H2, at the same time, the vertical heat is applied to the surface of the horizontal heat conduction layer (80) or the surface of the lower shield layer (3). If the conductive layer is formed, the number of steps does not increase.
【0012】又、具体的には、前記主層部の表面を覆っ
て、前記バンプ層(15)の表面に形成されているパッド層
(17)と同一の資材からなる放熱層(90)が形成されてい
る。Further, specifically, a pad layer formed on the surface of the bump layer (15) so as to cover the surface of the main layer portion.
A heat dissipation layer (90) made of the same material as (17) is formed.
【0013】一般に、パッド層(17)はAuから形成さ
れ、この場合、放熱層(90)はAuから形成されることに
なる。一方、前記バンプ層(15)は、一般にCuから形成
され、この場合、主層部はCuから形成されることとな
り、酸化や腐食に弱いものとなるが、Auからなる放熱
層(90)により主層部の表面を覆うことによって、主層部
の酸化や腐食による損傷を防止することが出来る。ここ
で、上記放熱層(90)は、保護層(16)よりも熱伝導率が高
い資材、例えばAuから形成されているので、充分な放
熱効果が得られる。尚、バンプ層(15)の表面にパッド層
(17)を形成する工程で、同時に主層部の表面に放熱層(9
0)を形成すれば、工程数が増加することはない。Generally, the pad layer 17 is made of Au, and in this case, the heat dissipation layer 90 is made of Au. On the other hand, the bump layer (15) is generally formed of Cu, and in this case, the main layer portion is formed of Cu, which is vulnerable to oxidation and corrosion. By covering the surface of the main layer portion, damage due to oxidation or corrosion of the main layer portion can be prevented. Here, since the heat dissipation layer (90) is made of a material having a higher thermal conductivity than the protection layer (16), for example, Au, a sufficient heat dissipation effect can be obtained. In addition, a pad layer is formed on the surface of the bump layer (15).
In the step of forming (17), the heat dissipation layer (9
Forming 0) does not increase the number of steps.
【0014】又、本発明に係る磁気ヘッド装置は、金属
製ヘッド支持部材の先端部に薄膜磁気ヘッドを取り付け
て構成される。該薄膜磁気ヘッドは、基板(1)上に磁気
抵抗効果型ヘッド素子H2を具え、該ヘッド素子H2
は、下部シールド層(3)と上部シールド層(8)の間にM
R素子層(5)を介在させて構成され、ヘッド素子全体が
保護層(16)によって覆われている。The magnetic head device according to the present invention is constructed by attaching a thin film magnetic head to the tip of a metal head supporting member. The thin film magnetic head comprises a magnetoresistive head element H2 on a substrate (1),
Is between the lower shield layer (3) and the upper shield layer (8).
The R element layer (5) is interposed, and the entire head element is covered with the protective layer (16).
【0015】上記薄膜磁気ヘッドは、上部シールド層
(8)と同一の資材からなる水平熱伝導層(80)が、基板
(1)と保護層(16)の間を上部シールド層(8)の端部から
基板(1)の表面に沿ってヘッド素子の外方位置まで伸び
ると共に、該水平熱伝導層(80)の先端部に重ねて、保護
層(16)よりも熱伝導率の高い資材からなる垂直熱伝導層
(81)が形成され、該垂直熱伝導層(81)は、保護層(16)を
貫通して保護層表面から露出し、該露出面と前記ヘッド
支持部材の表面とが金属製のワイヤー(92)によって互い
に接続されている。The thin film magnetic head has an upper shield layer.
The horizontal heat conduction layer (80) made of the same material as (8)
Between the end (1) and the protective layer (16) of the upper shield layer (8) along the surface of the substrate (1) to the outer position of the head element, the horizontal heat transfer layer (80) A vertical heat conduction layer that is made of a material with higher heat conductivity than the protective layer (16)
(81) is formed, the vertical heat conduction layer (81) is penetrated through the protective layer (16) and exposed from the surface of the protective layer, and the exposed surface and the surface of the head supporting member are made of a metal wire ( 92) connected to each other.
【0016】上記本発明の磁気ヘッド装置において、信
号再生時にMR素子層(5)に電流を流すことによりMR
素子層(5)から発生する熱は、上部シールド層(8)から
水平熱伝導層(80)を経て、水平熱伝導層(80)の表面に形
成されている垂直熱伝導層(81)へ伝わる。更に、該垂直
熱伝導層(81)に伝わった熱は、ワイヤー(92)を経てヘッ
ド支持部材に伝わり、ヘッド支持部材の表面全体から熱
が放散される。従って、上記構成によって放熱面積が増
大することとなり、より高い放熱効果を得ることが出来
る。In the above magnetic head device of the present invention, the MR element layer (5) is supplied with a current at the time of reproducing a signal so that the MR element
The heat generated from the element layer (5) passes from the upper shield layer (8) through the horizontal heat conduction layer (80) to the vertical heat conduction layer (81) formed on the surface of the horizontal heat conduction layer (80). It is transmitted. Further, the heat transmitted to the vertical heat conduction layer (81) is transmitted to the head supporting member via the wire (92), and the heat is dissipated from the entire surface of the head supporting member. Therefore, the heat dissipation area is increased by the above configuration, and a higher heat dissipation effect can be obtained.
【0017】更に、本発明に係る磁気ヘッド装置の他の
構成において、薄膜磁気ヘッドは、上部シールド層(8)
よりも外方へ突出した下部シールド層(3)の端部に、保
護層(16)よりも熱伝導率の高い資材からなる垂直熱伝導
層(31)が形成され、該垂直熱伝導層(31)は、保護層(16)
を貫通して保護層表面から露出し、該露出面と前記ヘッ
ド支持部材の表面とが金属製のワイヤー(92)によって互
いに接続されている。Furthermore, in another configuration of the magnetic head device according to the present invention, the thin film magnetic head has an upper shield layer (8).
A vertical heat conduction layer (31) made of a material having a higher thermal conductivity than that of the protective layer (16) is formed at an end portion of the lower shield layer (3) protruding further outward than the vertical heat conduction layer (31). 31) is a protective layer (16)
And is exposed from the surface of the protective layer, and the exposed surface and the surface of the head supporting member are connected to each other by a metal wire (92).
【0018】該磁気ヘッド装置においては、MR素子層
(5)から発生する熱は、下部シールド層(3)から垂直熱
伝導層(31)へ伝わる。更に、該垂直熱伝導層(31)に伝わ
った熱は、上記磁気ヘッド装置と同様に、ワイヤー(92)
を経てヘッド支持部材に伝わり、ヘッド支持部材の表面
全体から熱が放散される。従って、上記構成によって放
熱面積が増大することとなり、より高い放熱効果を得る
ことが出来る。In the magnetic head device, the MR element layer
The heat generated from (5) is transferred from the lower shield layer (3) to the vertical heat conduction layer (31). Further, the heat transferred to the vertical heat conduction layer (31) is transferred to the wire (92) as in the magnetic head device.
The heat is dissipated from the entire surface of the head support member by being transmitted to the head support member via Therefore, the heat dissipation area is increased by the above configuration, and a higher heat dissipation effect can be obtained.
【0019】[0019]
【発明の効果】本発明に係る薄膜磁気ヘッドによれば、
MR素子層(5)から発生する熱は、垂直熱伝導層を伝っ
て外部へ放散されるので、MR素子層(5)の温度上昇が
抑制される。この結果、MRヘッド素子H2の再生出力
の低下、雑音の発生、更には、MRヘッド素子H2の劣
化が防止される。又、本発明に係る磁気ヘッド装置によ
れば、MR素子層(5)から発生する熱はヘッド支持部材
の表面全体から放散されるので、高い放熱効果が得ら
れ、この結果、温度上昇を更に効果的に抑制することが
出来る。According to the thin film magnetic head of the present invention,
Since the heat generated from the MR element layer (5) is dissipated to the outside through the vertical heat conduction layer, the temperature rise of the MR element layer (5) is suppressed. As a result, the reproduction output of the MR head element H2 is prevented from being lowered, noise is generated, and further deterioration of the MR head element H2 is prevented. Further, according to the magnetic head device of the present invention, the heat generated from the MR element layer (5) is dissipated from the entire surface of the head supporting member, so that a high heat radiation effect is obtained, and as a result, the temperature rise is further reduced. It can be effectively suppressed.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明の薄膜磁気ヘッドを
ハードディスクドライブ装置に実施した3つの実施例に
つき、図面に沿って具体的に説明する。第1実施例 図1に示す如く、本実施例のハードディスクドライブ装
置においては、揺動アーム(21)の先端部に、ステンレス
合金からなるバネ板(22)が取り付けられ、該バネ板(22)
の先端部には、複合型薄膜磁気ヘッド(20)がエポキシ系
樹脂及び銀粉を混合してなる導電性の接着剤によって固
定されている。複合型薄膜磁気ヘッド(20)には、ディス
クとの対向面にエアベアリング面Sが形成され、その側
面にはヘッド部(40)、パッド部(50)及び垂直熱伝導層(8
1)が形成されている。ヘッド部(40)は、誘導型ヘッド素
子H1及びMRヘッド素子H2を具え、パッド部(50)に
は、両ヘッド素子を外部回路と接続するための4つのパ
ッド層(17)(17)(17)(17)が形成されている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Three embodiments in which the thin film magnetic head of the present invention is applied to a hard disk drive will be specifically described below with reference to the drawings. First Embodiment As shown in FIG. 1, in the hard disk drive device of the present embodiment, a spring plate (22) made of a stainless alloy is attached to the tip end of a swing arm (21), and the spring plate (22) is attached.
A composite type thin film magnetic head (20) is fixed to the tip of the device by a conductive adhesive formed by mixing an epoxy resin and silver powder. The composite thin film magnetic head (20) has an air bearing surface S formed on the surface facing the disk, and the head portion (40), the pad portion (50) and the vertical heat conduction layer (8) are formed on the side surface thereof.
1) is formed. The head section (40) includes an inductive head element H1 and an MR head element H2, and the pad section (50) has four pad layers (17) (17) (for connecting both head elements to an external circuit). 17) (17) is formed.
【0021】図2は、複合型薄膜磁気ヘッド(20)のヘッ
ド部(40)及び垂直熱伝導層(81)を正面から見た構成を表
わしており、下部シールド層(3)上に一対の電極層(6)
(6)が形成され、両電極層(6)(6)上には、記録媒体と
の対向面側に上部シールド層(8)が形成されている。
又、上部シールド層(8)の端部からは、上部シールド層
(8)と同一の資材からなる帯状の水平熱伝導層(80)が、
記録媒体との対向面から離れる方向に引き出され、水平
熱伝導層(80)の先端部には垂直熱伝導層(81)が設けられ
ている。該垂直熱伝導層(81)は、パッド層(17)と同一の
資材からなる放熱層(90)を具えている。垂直熱伝導層(8
1)の具体的な積層構造については、後述する。又、上部
シールド層(8)上には、記録媒体との対向面側に上部コ
ア層(13)が形成され、該上部コア層(13)の周囲にはコイ
ル層(10)が形成されている。更に、電極層(6)(6)及び
コイル層(10)からは夫々、一対のターミナル層(14)(14)
が引き出されている。FIG. 2 shows a structure of the head portion (40) and the vertical heat conduction layer (81) of the composite type thin film magnetic head (20) as seen from the front side, and a pair of layers is formed on the lower shield layer (3). Electrode layer (6)
(6) is formed, and an upper shield layer (8) is formed on both electrode layers (6) and (6) on the side facing the recording medium.
Also, from the end of the upper shield layer (8),
A strip-shaped horizontal heat conduction layer (80) made of the same material as (8)
A vertical heat conduction layer (81) is provided at the tip of the horizontal heat conduction layer (80) and is drawn out in a direction away from the surface facing the recording medium. The vertical heat conduction layer (81) includes a heat dissipation layer (90) made of the same material as the pad layer (17). Vertical heat conduction layer (8
The specific laminated structure of 1) will be described later. An upper core layer (13) is formed on the upper shield layer (8) on the side facing the recording medium, and a coil layer (10) is formed around the upper core layer (13). There is. Furthermore, the electrode layers (6) (6) and the coil layer (10) respectively comprise a pair of terminal layers (14) (14).
Has been pulled out.
【0022】図4は、垂直熱伝導層(81)の積層構造を表
わす図2A−A線に沿う拡大断面図であり、基板(1)上
に、絶縁層(2)、下部シールド層(3)、下部絶縁層
(4)、電極層(6)、上部絶縁層(7)、及び前記上部シー
ルド層(8)から引き出された水平熱伝導層(80)が順次形
成されている。又、水平熱伝導層(80)の上面には、上記
垂直熱伝導層(81)として、コイル層(10)と同一の資材か
らなる第1層(82)が形成されており、第1層(82)の周囲
には、ギャップスペーサ層(12)が形成されている。更
に、第1層(82)の上面には、上部コア層(13)と同一の資
材からなる第2層(83)、及びバンプ層(15)と同一の資材
からなる第3層(84)が順次積層され、第3層(84)は最も
厚い主層部を構成している。該第3層(84)は、保護層(1
6)を貫通して、その表面Rが保護層(16)表面と揃ってい
る。更に、第3層(84)の表面Rを覆って、パッド層(17)
と同一の資材からなる放熱層(90)が形成されている。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 2 showing the laminated structure of the vertical heat conduction layer (81). The insulating layer (2) and the lower shield layer (3) are provided on the substrate (1). ), Lower insulating layer
(4), the electrode layer (6), the upper insulating layer (7), and the horizontal heat conduction layer (80) drawn from the upper shield layer (8) are sequentially formed. A first layer (82) made of the same material as the coil layer (10) is formed on the upper surface of the horizontal heat conduction layer (80) as the vertical heat conduction layer (81). A gap spacer layer (12) is formed around the (82). Furthermore, on the upper surface of the first layer (82), a second layer (83) made of the same material as the upper core layer (13) and a third layer (84) made of the same material as the bump layer (15). Are sequentially laminated, and the third layer (84) constitutes the thickest main layer portion. The third layer (84) is a protective layer (1
The surface R penetrates 6) and is aligned with the surface of the protective layer (16). Further, covering the surface R of the third layer (84), the pad layer (17)
A heat dissipation layer (90) made of the same material as the above is formed.
【0023】次に、上記複合型薄膜磁気ヘッド(20)の製
造工程について、具体的に説明する。図6及び図7は、
夫々、上記複合型薄膜磁気ヘッド(20)のヘッド部(40)及
びパッド部(50)の積層構造を表わしている。図6に示す
如く、Al2O3−TiOからなる基板(1)上に、先ず、M
Rヘッド素子H2として、Al2O3からなる絶縁層
(2)、Ni−Fe合金からなる下部シールド層(3)、Al2
O3からなる下部絶縁層(4)、Ni−FeからなるMR素
子層(5)、Cuからなる電極層(6)(6)、Al2O3からな
る上部絶縁層(7)及びNi−Fe合金からなる上部シール
ド層(8)を順次形成する。ここで、上部シールド層(8)
を形成する際、マスクとして、上部シールド層(8)と水
平熱伝導層(80)の形状を合成したものを採用し、上部シ
ールド層(8)と同時に、図2に示す如く水平熱伝導層(8
0)を形成する。次に、図6に示す如く、誘導型ヘッド素
子H1として、フォトレジストからなる下部絶縁層(9)
及びCuからなるコイル層(10)を形成する。ここで、コ
イル層(10)を形成する際には同時に、図4に示す如く、
前記水平熱伝導層(80)の先端部に、コイル層(10)と同一
の資材から第1層(82)を形成する。Next, the manufacturing process of the composite type thin film magnetic head (20) will be specifically described. FIG. 6 and FIG.
Each of them represents a laminated structure of the head portion (40) and the pad portion (50) of the composite type thin film magnetic head (20). As shown in FIG. 6, first, on a substrate (1) made of Al 2 O 3 —TiO, M
An insulating layer made of Al 2 O 3 as the R head element H2
(2), lower shield layer made of Ni-Fe alloy (3), Al 2
A lower insulating layer (4) made of O 3, an MR element layer (5) made of Ni—Fe, electrode layers (6) and (6) made of Cu, an upper insulating layer (7) made of Al 2 O 3 and Ni−. An upper shield layer (8) made of Fe alloy is sequentially formed. Where the upper shield layer (8)
When the mask is formed, a mask in which the shapes of the upper shield layer (8) and the horizontal heat conduction layer (80) are combined is adopted as a mask, and at the same time as the upper shield layer (8), as shown in FIG. (8
0) is formed. Next, as shown in FIG. 6, as an inductive head element H1, a lower insulating layer (9) made of photoresist was used.
And a coil layer (10) made of Cu is formed. Here, at the same time when forming the coil layer (10), as shown in FIG.
A first layer (82) is formed at the tip of the horizontal heat conduction layer (80) from the same material as the coil layer (10).
【0024】そして、図6に示す如く、フォトレジスト
からなる上部絶縁層(11)及びAl2O3からなるギャップ
スペーサ層(12)を形成するのであるが、該ギャップスペ
ーサ層(12)はAl2O3から形成されているので、熱伝導
率が低い。そこで、第1層(82)の表面に形成されたギャ
ップスペーサ層(12)を除去し、図4に示す如く、第1層
(82)の表面を露出させる。Then, as shown in FIG. 6, an upper insulating layer (11) made of a photoresist and a gap spacer layer (12) made of Al 2 O 3 are formed. The gap spacer layer (12) is made of Al. Since it is formed of 2 O 3 , its thermal conductivity is low. Therefore, the gap spacer layer (12) formed on the surface of the first layer (82) is removed, and as shown in FIG.
The surface of (82) is exposed.
【0025】次に、ギャップスペーサ層(12)の上面に、
図6に示す如く、Ni−Feからなる上部コア層(13)を形
成すると同時に、図4に示す如く、第1層(82)の上面
に、上部コア層(13)と同一の資材から第2層(83)を形成
する。続いて、図7に示す如く、Cuからなるターミナ
ル層(14)及びCuからなるバンプ層(15)を順次形成す
る。ここで、バンプ層(15)を形成する際には同時に、図
4に示す如く、バンプ層(15)と同一の資材から第3層(8
4)を形成する。Next, on the upper surface of the gap spacer layer (12),
As shown in FIG. 6, the upper core layer (13) made of Ni-Fe is formed, and at the same time, as shown in FIG. 4, the upper layer of the first layer (82) is made of the same material as the upper core layer (13). Two layers (83) are formed. Subsequently, as shown in FIG. 7, a terminal layer (14) made of Cu and a bump layer (15) made of Cu are sequentially formed. Here, when forming the bump layer (15), at the same time, as shown in FIG. 4, the third layer (8
4) is formed.
【0026】その後、図4、図6及び図7に示す如く、
第3層(84)、両ヘッド素子及びバンプ層(15)を覆って、
Al2O3からなる保護層(16)を形成する。そして、保護
層(16)の表面を研磨して、第3層(84)及びバンプ層(15)
の表面を保護層(16)から露出させる。最後に、第3層(8
4)の表面R及びバンプ層(15)の表面に夫々、Auからな
る放熱層(90)及びパッド層(17)を形成し、複合型薄膜磁
気ヘッド(20)を完成する。ここで、放熱層(90)はAuか
ら形成されているので、熱伝導率が高く、充分な放熱効
果を得ることが出来る。又、第3層(84)はCuから形成
されて、酸化や腐食に弱いが、その表面RがAuからな
る放熱層(90)により覆われているので、酸化及び腐食に
よる損傷が防止される。Thereafter, as shown in FIGS. 4, 6 and 7.
Covering the third layer (84), both head elements and the bump layer (15),
A protective layer (16) made of Al 2 O 3 is formed. Then, the surface of the protective layer (16) is polished to give a third layer (84) and a bump layer (15).
The surface of the is exposed from the protective layer (16). Finally, the third layer (8
A heat dissipation layer (90) and a pad layer (17) made of Au are respectively formed on the surface R of 4) and the surface of the bump layer (15) to complete the composite type thin film magnetic head (20). Here, since the heat dissipation layer (90) is made of Au, it has a high thermal conductivity and a sufficient heat dissipation effect can be obtained. Also, the third layer (84) is made of Cu and is weak against oxidation and corrosion, but its surface R is covered with the heat dissipation layer (90) made of Au, so that damage due to oxidation and corrosion is prevented. .
【0027】上記複合型薄膜磁気ヘッド(20)において
は、信号再生時にMR素子層(5)から発生した熱は、上
部シールド層(8)から水平熱伝導層(80)を経て、垂直熱
伝導層(81)の第1層(82)に伝わり、更に、第2層(83)及
び第3層(84)を経て、放熱層(90)の表面から外部へ放散
される。In the composite thin film magnetic head (20), the heat generated from the MR element layer (5) at the time of signal reproduction passes vertically from the upper shield layer (8) through the horizontal heat conduction layer (80). It is transmitted to the first layer (82) of the layer (81), and further radiated from the surface of the heat dissipation layer (90) to the outside through the second layer (83) and the third layer (84).
【0028】ここで、上部シールド層(8)は、Ni−Fe
合金等の熱伝導率の高い資材から形成されており、Al2
O3からなる下部絶縁層(4)及び上部絶縁層(7)よりも
熱伝導率が高い。従って、上部シールド層(8)と同一の
資材から水平熱伝導層(80)を形成する構成によって、M
R素子層(5)に最も近い位置に存在する下部絶縁層(4)
或いは上部絶縁層(7)と同一の資材から水平熱伝導層(8
0)を形成する構成よりも、多くの熱量を垂直熱伝導層(8
1)に伝えることが出来る。又、垂直熱伝導層(81)を構成
する第1層(82)、第2層(83)、第3層(84)及び放熱層(9
0)は、保護層(16)よりも熱伝導率の高い資材から形成さ
れているので、ヘッド素子全体が保護層(16)に覆われて
いる従来の薄膜磁気ヘッドよりも、多くの熱量が放散さ
れる。Here, the upper shield layer (8) is made of Ni-Fe.
It is formed from a high thermal conductivity, such as alloy materials, Al 2
It has higher thermal conductivity than the lower insulating layer (4) and the upper insulating layer (7) made of O 3 . Therefore, if the horizontal heat conduction layer (80) is formed from the same material as the upper shield layer (8), M
Lower insulating layer (4) existing closest to the R element layer (5)
Alternatively, use the same material as the upper insulating layer (7) for the horizontal heat transfer layer (8
Than the structure that forms the vertical heat conduction layer (8).
You can tell 1). Further, the first layer (82), the second layer (83), the third layer (84), and the heat dissipation layer (9) that constitute the vertical heat conduction layer (81).
Since (0) is formed of a material having a higher thermal conductivity than the protective layer (16), it has a larger amount of heat than a conventional thin film magnetic head in which the entire head element is covered with the protective layer (16). Dissipated.
【0029】更に、信号記録時においては、コイル層(1
0)から熱が発生することになるが、上部シールド層(8)
はコイル層(10)からも近い位置に存在するので、この熱
も水平熱伝導層(80)及び垂直熱伝導層(81)を経て外部へ
放散される。Further, when recording a signal, the coil layer (1
Heat will be generated from (0), but the upper shield layer (8)
Exists also in a position close to the coil layer (10), and this heat is also radiated to the outside through the horizontal heat conduction layer (80) and the vertical heat conduction layer (81).
【0030】第2実施例 上記第1実施例における複合型薄膜磁気ヘッド(20)にお
いては、水平熱伝導層(80)を上部シールド層(8)の端部
から引き出して形成し、その先端部に垂直熱伝導層(81)
を設けているが、本実施例は下部シールド層(3)の端部
に垂直熱伝導層(31)を設けるものである。尚、複合型薄
膜磁気ヘッド(23)のヘッド部(41)及びパッド部(51)の積
層構造は、図6及び図7に示す上記第1実施例と同一で
ある。又、本実施例のハードディスクドライブ装置の構
成についても、図1に示す上記第1実施例と同一であ
る。 Second Embodiment In the composite type thin film magnetic head (20) of the first embodiment, the horizontal heat conduction layer (80) is formed by being drawn out from the end of the upper shield layer (8), and its tip end is formed. Vertical heat transfer layer (81)
In this embodiment, the vertical heat conduction layer (31) is provided at the end of the lower shield layer (3). The laminated structure of the head portion (41) and the pad portion (51) of the composite type thin film magnetic head (23) is the same as that of the first embodiment shown in FIGS. 6 and 7. The configuration of the hard disk drive device of this embodiment is also the same as that of the first embodiment shown in FIG.
【0031】図3は、複合型薄膜磁気ヘッド(23)のヘッ
ド部(41)及び垂直熱伝導層(31)を正面から見た構成を表
わしており、下部シールド層(3)上に一対の電極層(6)
(6)が形成されている。該下部シールド層(3)の端部に
は、電極層(6)から離れた位置に、垂直熱伝導層(31)が
設けられている。該垂直熱伝導層(31)は、パッド層(17)
と同一の資材からなる放熱層(90)を具えている。垂直熱
伝導層(31)の具体的な積層構造については、後述する。
又、両電極層(6)(6)上には、記録媒体との対向面側に
上部シールド層(8)が形成されている。更に、上部シー
ルド層(8)上には、記録媒体との対向面側に上部コア層
(13)が形成され、該上部コア層(13)の周囲にはコイル層
(10)が形成されている。又、電極層(6)(6)及びコイル
層(10)からは夫々、一対のターミナル層(14)(14)が引き
出されている。FIG. 3 shows a structure of the head portion (41) and the vertical heat conduction layer (31) of the composite type thin film magnetic head (23) as seen from the front side, and a pair of layers is formed on the lower shield layer (3). Electrode layer (6)
(6) is formed. A vertical heat conduction layer (31) is provided at an end of the lower shield layer (3) at a position apart from the electrode layer (6). The vertical heat conduction layer (31) is a pad layer (17).
It has a heat dissipation layer (90) made of the same material as. The specific laminated structure of the vertical heat conduction layer (31) will be described later.
An upper shield layer (8) is formed on both electrode layers (6) and (6) on the side facing the recording medium. Furthermore, on the upper shield layer (8), the upper core layer is provided on the side facing the recording medium.
(13) is formed, and a coil layer is formed around the upper core layer (13).
(10) is formed. Further, a pair of terminal layers (14) and (14) are respectively drawn out from the electrode layers (6) (6) and the coil layer (10).
【0032】図5は、垂直熱伝導層(31)の積層構造を表
わす図3A−A線に沿う拡大断面図であり、基板(1)上
に、絶縁層(2)及び下部シールド層(3)が順次形成され
ている。下部シールド層(3)の上面には、上記垂直熱伝
導層(31)として、上部シールド層(8)と同一の資材から
なる第1層(32)が形成されており、第1層(32)の周囲に
は、下部絶縁層(4)、上部絶縁層(7)及びギャップスペ
ーサ層(12)が順次積層されている。又、第1層(32)の上
面には、コイル層(10)と同一の資材からなる第2層(3
3)、上部コア層(13)と同一の資材からなる第3層(34)、
及びバンプ層(15)と同一の資材からなる第4層(35)が順
次積層され、第4層(35)は最も厚い主層部を構成してい
る。第4層(35)は、保護層(16)を貫通して、その表面R
が保護層(16)表面と揃っている。更に、第4層(35)の表
面Rを覆って、パッド層(17)と同一の資材からなる放熱
層(90)が形成されている。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing the laminated structure of the vertical heat conduction layer (31), taken along the line 3A-A in FIG. 3. The insulating layer (2) and the lower shield layer (3) are formed on the substrate (1). ) Are sequentially formed. On the upper surface of the lower shield layer (3), a first layer (32) made of the same material as the upper shield layer (8) is formed as the vertical heat conduction layer (31). ), A lower insulating layer (4), an upper insulating layer (7) and a gap spacer layer (12) are sequentially laminated. Further, on the upper surface of the first layer (32), the second layer (3) made of the same material as the coil layer (10) is provided.
3), the third layer (34) made of the same material as the upper core layer (13),
And the fourth layer (35) made of the same material as the bump layer (15) is sequentially laminated, and the fourth layer (35) constitutes the thickest main layer portion. The fourth layer (35) penetrates the protective layer (16) and has a surface R
Are aligned with the surface of the protective layer (16). Further, a heat dissipation layer (90) made of the same material as the pad layer (17) is formed so as to cover the surface R of the fourth layer (35).
【0033】次に、上記複合型薄膜磁気ヘッド(23)の製
造工程について、具体的に説明する。図6に示す如く、
Al2O3−TiOからなる基板(1)上に、先ず、MRヘッ
ド素子H2として、Al2O3からなる絶縁層(2)、Ni−
Fe合金からなる下部シールド層(3)、Al2O3からなる
下部絶縁層(4)、Ni−FeからなるMR素子層(5)、C
uからなる電極層(6)(6)、及びAl2O3からなる上部絶
縁層(7)を形成する。ここで、電極層(6)は、下部シー
ルド層(3)上に、垂直熱伝導層形成領域を設けて形成さ
れる。又、下部絶縁層(4)及び上部絶縁層(7)は、Al2
O3から形成されているので、熱伝導率が低い。そこ
で、図5に示す如く、下部絶縁層(4)及び上部絶縁層
(7)に開口を設ける。次に図6に示す如く、上部絶縁層
(7)の上面に、Ni−Fe合金からなる上部シールド層
(8)を形成すると同時に、図5に示す如く、前記開口部
に上部シールド層(8)と同一の資材から第1層(32)を形
成する。更に、図6に示す如く、誘導型ヘッド素子H1
として、フォトレジストからなる下部絶縁層(9)及びC
uからなるコイル層(10)を形成する。ここで、コイル層
(10)を形成する際には同時に、図5に示す如く、第1層
(32)の上面に、コイル層(10)と同一の資材から第2層(3
3)を形成する。Next, the manufacturing process of the composite type thin film magnetic head (23) will be specifically described. As shown in FIG.
On the substrate (1) made of Al 2 O 3 —TiO, first, as the MR head element H2, an insulating layer (2) made of Al 2 O 3 and Ni—
Lower shield layer (3) made of Fe alloy, lower insulating layer (4) made of Al 2 O 3 , MR element layer (5) made of Ni-Fe, C
The electrode layers (6) and (6) made of u and the upper insulating layer (7) made of Al 2 O 3 are formed. Here, the electrode layer (6) is formed on the lower shield layer (3) by providing a vertical heat conduction layer forming region. The lower insulating layer (4) and the upper insulating layer (7) are made of Al 2
Since it is formed of O 3 , its thermal conductivity is low. Therefore, as shown in FIG. 5, the lower insulating layer (4) and the upper insulating layer are
An opening is provided in (7). Next, as shown in FIG. 6, the upper insulating layer
An upper shield layer made of a Ni-Fe alloy on the upper surface of (7)
At the same time as forming (8), as shown in FIG. 5, a first layer (32) is formed in the opening from the same material as the upper shield layer (8). Further, as shown in FIG. 6, the inductive head element H1
As a lower insulating layer (9) made of photoresist and C
A coil layer (10) made of u is formed. Where the coil layers
At the same time when forming (10), as shown in FIG.
On the upper surface of (32), from the same material as the coil layer (10), the second layer (3
Form 3).
【0034】そして、図6に示す如く、フォトレジスト
からなる上部絶縁層(11)及びAl2O3からなるギャップ
スペーサ層(12)を形成するのであるが、該ギャップスペ
ーサ層(12)はAl2O3から形成されているので、熱伝導
率が低い。そこで、第2層(33)の表面に形成されたギャ
ップスペーサ層(12)を除去し、図5に示す如く、第2層
(33)の表面を露出させる。Then, as shown in FIG. 6, an upper insulating layer (11) made of photoresist and a gap spacer layer (12) made of Al 2 O 3 are formed. The gap spacer layer (12) is made of Al. Since it is formed of 2 O 3 , its thermal conductivity is low. Therefore, the gap spacer layer (12) formed on the surface of the second layer (33) is removed, and as shown in FIG.
The surface of (33) is exposed.
【0035】次に、ギャップスペーサ層(12)の上面に、
図6に示す如く、Ni−Feからなる上部コア層(13)を形
成すると同時に、図5に示す如く、第2層(33)の上面
に、上部コア層(13)と同一の資材から第3層(34)を形成
する。続いて、図7に示す如く、Cuからなるターミナ
ル層(14)及びCuからなるバンプ層(15)を順次形成す
る。ここで、バンプ層(15)を形成する際には同時に、図
5に示す如く、バンプ層(15)と同一の資材から第4層(3
5)を形成する。Next, on the upper surface of the gap spacer layer (12),
As shown in FIG. 6, the upper core layer (13) made of Ni-Fe is formed, and at the same time, as shown in FIG. 5, the upper surface of the second layer (33) is made of the same material as the upper core layer (13). Form three layers (34). Subsequently, as shown in FIG. 7, a terminal layer (14) made of Cu and a bump layer (15) made of Cu are sequentially formed. Here, when forming the bump layer (15), at the same time, as shown in FIG. 5, a fourth layer (3
5) is formed.
【0036】その後、図5、図6及び図7に示す如く、
第4層(35)、両ヘッド素子及びバンプ層(15)を覆って、
Al2O3からなる保護層(16)を形成する。そして、保護
層(16)の表面を研磨して、第4層(35)及びバンプ層(15)
の表面を保護層(16)から露出させる。最後に、第4層(3
5)の表面R及びバンプ層(15)の表面に夫々、Auからな
る放熱層(90)及びパッド層(17)を形成し、複合型薄膜磁
気ヘッド(23)を完成する。ここで、上記第1実施例と同
様に、放熱層(90)はAuから形成されているので、充分
な放熱効果を得ることが出来る。又、Cuからなる第4
層(35)の表面RがAuからなる放熱層(90)により覆われ
ているので、第1実施例と同様に、酸化及び腐食による
損傷が防止される。Then, as shown in FIGS. 5, 6 and 7,
Covering the fourth layer (35), both head elements and the bump layer (15),
A protective layer (16) made of Al 2 O 3 is formed. Then, the surface of the protective layer (16) is polished to give a fourth layer (35) and a bump layer (15).
The surface of the is exposed from the protective layer (16). Finally, the fourth layer (3
A heat dissipation layer (90) and a pad layer (17) made of Au are respectively formed on the surface R of 5) and the surface of the bump layer (15) to complete the composite type thin film magnetic head (23). Here, as in the first embodiment, the heat dissipation layer (90) is made of Au, so that a sufficient heat dissipation effect can be obtained. Also, the fourth made of Cu
Since the surface R of the layer (35) is covered with the heat dissipation layer (90) made of Au, damage due to oxidation and corrosion can be prevented as in the first embodiment.
【0037】上記複合型薄膜磁気ヘッド(23)において
は、信号再生時にMR素子層(5)から発生する熱は、下
部シールド層(3)から垂直熱伝導層(31)の第1層(32)を
経て、第2層(33)、第3層(34)及び第4層(35)に伝わ
り、放熱層(90)の表面から外部へ放散される。In the above composite type thin film magnetic head (23), the heat generated from the MR element layer (5) at the time of signal reproduction is generated from the lower shield layer (3) to the first layer (32) of the vertical heat conduction layer (31). ), Is transmitted to the second layer (33), the third layer (34) and the fourth layer (35), and is radiated to the outside from the surface of the heat dissipation layer (90).
【0038】ここで、下部シールド層(3)は、Ni−Fe
合金等の熱伝導率の高い資材から形成されており、Al2
O3からなる下部絶縁層(4)及び上部絶縁層(7)よりも
熱伝導率が高い。従って、下部シールド層(3)の端部に
垂直熱伝導層(31)を形成する構成によって、MR素子層
(5)に最も近い位置に存在する下部絶縁層(4)の端部或
いは上部絶縁層(7)の端部に垂直熱伝導層(31)を形成す
る構成よりも、多くの熱量を垂直熱伝導層(31)に伝える
ことが出来る。又、上記第1実施例と同様に、垂直熱伝
導層(31)を構成する第1層(32)、第2層(33)、第3層(3
4)、第4層(35)及び放熱層(90)は、保護層(16)よりも熱
伝導率の高い資材から形成されているので、ヘッド素子
全体が保護層(16)に覆われている従来の薄膜磁気ヘッド
よりも、多くの熱量が放散される。The lower shield layer (3) is made of Ni-Fe.
It is formed from a high thermal conductivity, such as alloy materials, Al 2
It has higher thermal conductivity than the lower insulating layer (4) and the upper insulating layer (7) made of O 3 . Therefore, the structure in which the vertical heat conduction layer (31) is formed at the end of the lower shield layer (3) is used for the MR element layer.
A larger amount of heat is applied to the vertical insulation layer than the structure in which the vertical heat conduction layer (31) is formed at the end of the lower insulation layer (4) or the end of the upper insulation layer (7) located closest to (5). It can be transferred to the conductive layer (31). In addition, as in the first embodiment, the first layer (32), the second layer (33), and the third layer (3) that form the vertical heat conduction layer (31).
4), the fourth layer (35) and the heat dissipation layer (90) are made of a material having higher thermal conductivity than the protective layer (16), so that the entire head element is covered with the protective layer (16). More heat is dissipated than conventional thin-film magnetic heads.
【0039】第3実施例 図8に示す本実施例のハードディスクドライブ装置は、
揺動アーム(21)の先端部に、ステンレス合金からなるバ
ネ板(24)が取り付けられ、該バネ板(24)の先端部には、
上記第1実施例と同一の複合型薄膜磁気ヘッド(20)が、
エポキシ系樹脂及び銀粉を混合してなる導電性の接着剤
によって固定されている。更に、バネ板(24)には、複合
型薄膜磁気ヘッド(20)よりも先端部に、Auからなる放
熱用パッド層(91)が形成されている。該放熱用パッド層
(91)と、複合型薄膜磁気ヘッド(20)の側面に形成された
垂直熱伝導層(81)の表面とは、金属製のワイヤー(92)に
よって互いに接続されている。 Third Embodiment A hard disk drive device of this embodiment shown in FIG.
A spring plate (24) made of a stainless alloy is attached to the tip of the swing arm (21), and the tip of the spring plate (24) is
The same composite thin film magnetic head (20) as in the first embodiment is
It is fixed by a conductive adhesive formed by mixing an epoxy resin and silver powder. Further, the heat dissipation pad layer (91) made of Au is formed on the spring plate (24) at the tip of the composite type thin film magnetic head (20). The heat dissipation pad layer
The (91) and the surface of the vertical heat conduction layer (81) formed on the side surface of the composite type thin film magnetic head (20) are connected to each other by a metal wire (92).
【0040】上記本実施例のハードディスクドライブ装
置において、MR素子層(5)から発生した熱は、上記第
1実施例と同様に、上部シールド層(8)から水平熱伝導
層(80)を経て、垂直熱伝導層(81)の第1層(82)、第2層
(83)、第3層(84)及び放熱層(90)に順次伝わる。更に、
放熱層(90)に伝わった熱は、ワイヤー(92)及び放熱用パ
ッド層(91)を経て、バネ板(24)に伝わり、バネ板(24)の
全表面から放散される。In the hard disk drive device of the present embodiment, the heat generated from the MR element layer (5) passes from the upper shield layer (8) to the horizontal heat conduction layer (80) as in the first embodiment. , The first layer (82) and the second layer of the vertical heat conduction layer (81)
(83), the third layer (84) and the heat dissipation layer (90). Furthermore,
The heat transferred to the heat dissipation layer (90) is transferred to the spring plate (24) via the wire (92) and the heat dissipation pad layer (91), and is dissipated from the entire surface of the spring plate (24).
【0041】上記第1、第2及び第3実施例における複
合型薄膜磁気ヘッドによれば、信号再生時にMR素子層
(5)から発生した熱は、上述の如く、放熱層(90)の表面
から外部へ放散されるので、MR素子層(5)の温度上昇
を抑制することが出来る。この結果、MRヘッド素子H
2の再生出力の低下、雑音の発生、更には、MRヘッド
素子H2の劣化が防止される。According to the composite type thin film magnetic heads in the first, second and third embodiments, the MR element layer is reproduced during signal reproduction.
Since the heat generated from (5) is dissipated to the outside from the surface of the heat dissipation layer (90) as described above, the temperature rise of the MR element layer (5) can be suppressed. As a result, the MR head element H
2 of the reproduction output, the generation of noise, and the deterioration of the MR head element H2 are prevented.
【0042】又、上記第1、第2及び第3実施例のハー
ドディスクドライブ装置によれば、複合型薄膜磁気ヘッ
ドが、エポキシ系樹脂及び銀粉を混合してなる導電性の
接着剤によって、バネ板に固定されているので、記録媒
体の回転によって複合型薄膜磁気ヘッドと記録媒体との
間に生じた静電気をバネ板に流すことが出来、静電気に
よる弊害を防止することが可能である。特に、第3実施
例においては、発生した静電気を上部シールド層(8)か
ら水平熱伝導層(80)、垂直熱伝導層(81)、放熱層(90)、
ワイヤー(92)及び放熱用パッド層(91)を経て、バネ板(2
4)に流すことが出来るので、静電気を逃がす効果を更に
高め、信頼性の高い複合型薄膜磁気ヘッドを得ることが
出来る。Further, according to the hard disk drive devices of the above-mentioned first, second and third embodiments, the composite thin film magnetic head is made of a spring plate by means of a conductive adhesive formed by mixing an epoxy resin and silver powder. Since it is fixed to the spring plate, static electricity generated between the composite thin-film magnetic head and the recording medium due to the rotation of the recording medium can be made to flow to the spring plate, and it is possible to prevent the harmful effects of static electricity. Particularly, in the third embodiment, the generated static electricity is transferred from the upper shield layer (8) to the horizontal heat conduction layer (80), the vertical heat conduction layer (81), the heat dissipation layer (90),
After passing through the wire (92) and the heat dissipation pad layer (91), the spring plate (2
Since it can be flown to 4), the effect of releasing static electricity can be further enhanced and a highly reliable composite thin film magnetic head can be obtained.
【0043】更に、上記第3実施例のハードディスクド
ライブ装置によれば、上述の如く、MR素子層(5)から
発生した熱は、バネ板(24)の全表面から放散されるの
で、放熱面積が増大する。これによって、上記第1及び
第2実施例のハードディスクドライブ装置よりも、MR
素子層(5)の温度上昇を効果的に抑制することが出来
る。Further, according to the hard disk drive device of the third embodiment, as described above, the heat generated from the MR element layer (5) is dissipated from the entire surface of the spring plate (24), so that the heat dissipation area is reduced. Will increase. As a result, MR
The temperature rise of the element layer (5) can be effectively suppressed.
【0044】上記実施の形態の説明は、本発明を説明す
るためのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を
限定し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。
又、本発明の各部構成は上記実施の形態に限らず、特許
請求の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能で
あることは勿論である。The above description of the embodiments is for explaining the present invention, and should not be understood so as to limit the invention described in the claims or to reduce the scope.
In addition, the configuration of each part of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various modifications can be made within the technical scope described in the claims.
【0045】例えば、第2実施例において、垂直熱伝導
層(31)は、下部シールド層(3)の端部に設けられている
が、下部シールド層(3)と同一の資材からなる水平熱伝
導層を下部シールド層(3)から引き出して形成し、該水
平熱伝導層の先端部に垂直熱伝導層(31)を設けることも
可能である。又、第3実施例において、バネ板(24)の先
端部には、水平熱伝導層(80)の先端部に垂直熱伝導層(8
1)を設けた第1実施例と同一の複合型薄膜磁気ヘッド(2
0)が取り付けられているが、下部シールド層(3)の端部
に垂直熱伝導層(31)を設けた第2実施例と同一の複合型
薄膜磁気ヘッド(23)を、バネ板(24)の先端部に取り付け
ることも可能である。又、第1実施例において、垂直熱
伝導層(81)として、上部コア層(13)と同一の資材からな
る第2層(83)を形成しているが、第2層(83)を省略し
て、次に形成されるバンプ層(15)と同一の資材からなる
第3層(84)を厚く形成することも可能である。更に、第
2実施例において、垂直熱伝導層(31)として、上部コア
層(13)と同一の資材からなる第3層(34)を形成している
が、第3層(34)を省略して、次に形成されるバンプ層(1
5)と同一の資材からなる第4層(35)を厚く形成すること
も可能である。For example, in the second embodiment, the vertical heat conduction layer (31) is provided at the end of the lower shield layer (3), but the horizontal heat conduction layer (31) made of the same material as the lower shield layer (3) is used. It is also possible to form the conductive layer by drawing it from the lower shield layer (3) and provide the vertical heat conductive layer (31) at the tip of the horizontal heat conductive layer. In the third embodiment, the tip of the spring plate (24) has a vertical heat conduction layer (8) at the tip of the horizontal heat conduction layer (80).
The same composite type thin film magnetic head (2)
0) is attached, but the same composite type thin film magnetic head (23) as that of the second embodiment in which the vertical heat conduction layer (31) is provided at the end of the lower shield layer (3), the spring plate (24 ) It is also possible to attach to the tip part. Also, in the first embodiment, the second layer (83) made of the same material as the upper core layer (13) is formed as the vertical heat conduction layer (81), but the second layer (83) is omitted. Then, it is possible to form a thick third layer (84) made of the same material as the bump layer (15) to be formed next. Further, in the second embodiment, as the vertical heat conduction layer (31), the third layer (34) made of the same material as the upper core layer (13) is formed, but the third layer (34) is omitted. Then, the bump layer (1
It is also possible to form a thick fourth layer (35) made of the same material as 5).
【図1】第1及び第2実施例のハードディスクドライブ
装置の要部を表わす斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a main part of a hard disk drive device according to first and second embodiments.
【図2】第1及び第3実施例における複合型薄膜磁気ヘ
ッドの要部を表わす平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an essential part of a composite type thin film magnetic head in first and third embodiments.
【図3】第2実施例における複合型薄膜磁気ヘッドの要
部を表わす平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a main part of a composite type thin film magnetic head according to a second embodiment.
【図4】第1及び第3実施例における複合型薄膜磁気ヘ
ッドの垂直熱伝導層の積層構造を表わす断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a laminated structure of a vertical heat conduction layer of the composite type thin film magnetic head in the first and third examples.
【図5】第2実施例における複合型薄膜磁気ヘッドの垂
直熱伝導層の積層構造を表わす断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a laminated structure of a vertical heat conduction layer of a composite type thin film magnetic head in a second example.
【図6】第1、第2及び第3実施例における複合型薄膜
磁気ヘッドのヘッド部の積層構造を表わす断面図であ
る。FIG. 6 is a sectional view showing a laminated structure of a head portion of the composite type thin film magnetic head in the first, second and third embodiments.
【図7】該ヘッドのパッド部の積層構造を表わす断面図
である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a laminated structure of a pad portion of the head.
【図8】第3実施例のハードディスクドライブ装置の要
部を表わす斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing a main part of a hard disk drive device according to a third embodiment.
【図9】従来における複合型薄膜磁気ヘッドのヘッド部
の積層構造を表わす断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a laminated structure of a head portion of a conventional composite type thin film magnetic head.
(3) 下部シールド層 (31) 垂直熱伝導層 (8) 上部シールド層 (80) 水平熱伝導層 (81) 垂直熱伝導層 (90) 放熱層 (91) 放熱用パッド層 (92) ワイヤー (3) Lower shield layer (31) Vertical heat conduction layer (8) Upper shield layer (80) Horizontal heat conduction layer (81) Vertical heat conduction layer (90) Heat dissipation layer (91) Heat dissipation pad layer (92) Wire
Claims (6)
H2を具え、該ヘッド素子H2は、下部シールド層(3)
と上部シールド層(8)の間に磁気抵抗効果素子層(5)を
介在させて構成され、ヘッド素子全体が保護層(16)によ
って覆われている薄膜磁気ヘッドにおいて、上部シール
ド層(8)と同一の資材からなる水平熱伝導層(80)が、基
板(1)と保護層(16)の間を上部シールド層(8)の端部か
ら基板(1)の表面に沿ってヘッド素子の外方位置まで伸
びると共に、該水平熱伝導層(80)の先端部に重ねて、保
護層(16)よりも熱伝導率の高い資材からなる垂直熱伝導
層(81)が形成され、該垂直熱伝導層(81)は、保護層(16)
を貫通して保護層表面から露出していることを特徴とす
る薄膜磁気ヘッド。1. A magnetoresistive head element H2 is provided on a substrate (1), and the head element H2 comprises a lower shield layer (3).
A thin film magnetic head in which a magnetoresistive effect element layer (5) is interposed between the upper shield layer (8) and the head element and the entire head element is covered with a protective layer (16). A horizontal heat conduction layer (80) made of the same material as that of the head element is provided between the substrate (1) and the protective layer (16) along the surface of the substrate (1) from the end of the upper shield layer (8). A vertical heat conduction layer (81) made of a material having a higher heat conductivity than that of the protective layer (16) is formed on the horizontal heat conduction layer (80) so that the vertical heat conduction layer (81) extends to the outer position and overlaps with the tip of the horizontal heat conduction layer (80). The heat conduction layer (81) is a protective layer (16).
A thin-film magnetic head characterized in that it is exposed through the protective layer from the surface of the protective layer.
H2を具え、該ヘッド素子H2は、下部シールド層(3)
と上部シールド層(8)の間に磁気抵抗効果素子層(5)を
介在させて構成され、ヘッド素子全体が保護層(16)によ
って覆われている薄膜磁気ヘッドにおいて、上部シール
ド層(8)よりも外方へ突出した下部シールド層(3)の端
部に、保護層(16)よりも熱伝導率の高い資材からなる垂
直熱伝導層(31)が形成され、該垂直熱伝導層(31)は、保
護層(16)を貫通して保護層表面から露出していることを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。2. A magnetoresistive head element H2 is provided on a substrate (1), said head element H2 comprising a lower shield layer (3).
A thin film magnetic head in which a magnetoresistive effect element layer (5) is interposed between the upper shield layer (8) and the head element and the entire head element is covered with a protective layer (16). A vertical heat conduction layer (31) made of a material having a higher thermal conductivity than that of the protective layer (16) is formed at an end portion of the lower shield layer (3) protruding further outward than the vertical heat conduction layer (31). Reference numeral 31) is a thin-film magnetic head characterized by penetrating the protective layer (16) and being exposed from the surface of the protective layer.
ら伸びる複数条のターミナル層(14)の先端部に積層され
ているバンプ層(15)と同一の資材からなる主層部を具
え、該主層部の表面は、保護層表面と同一平面上に形成
されている請求項1又は請求項2に記載の薄膜磁気ヘッ
ド。3. The vertical heat conduction layer comprises a main layer portion made of the same material as the bump layer (15) laminated on the tip portions of the plurality of terminal layers (14) extending from the head element H2, The thin film magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the surface of the main layer portion is formed on the same plane as the surface of the protective layer.
層(15)の表面に形成されているパッド層(17)と同一の資
材からなる放熱層(90)が形成されている請求項3に記載
の薄膜磁気ヘッド。4. A heat dissipation layer (90) made of the same material as the pad layer (17) formed on the surface of the bump layer (15) is formed so as to cover the surface of the main layer portion. Item 3. The thin-film magnetic head according to item 3.
気ヘッドを取り付けて構成される磁気ヘッド装置であっ
て、該薄膜磁気ヘッドは、基板(1)上に磁気抵抗効果型
ヘッド素子H2を具え、該ヘッド素子H2は、下部シー
ルド層(3)と上部シールド層(8)の間に磁気抵抗効果素
子層(5)を介在させて構成され、ヘッド素子全体が保護
層(16)によって覆われている磁気ヘッド装置において、
上部シールド層(8)と同一の資材からなる水平熱伝導層
(80)が、基板(1)と保護層(16)の間を上部シールド層
(8)の端部から基板(1)の表面に沿ってヘッド素子の外
方位置まで伸びると共に、該水平熱伝導層(80)の先端部
に重ねて、保護層(16)よりも熱伝導率の高い資材からな
る垂直熱伝導層(81)が形成され、該垂直熱伝導層(81)
は、保護層(16)を貫通して保護層表面から露出し、該露
出面と前記ヘッド支持部材の表面とが金属製のワイヤー
(92)によって互いに接続されていることを特徴とする磁
気ヘッド装置。5. A magnetic head device constructed by attaching a thin film magnetic head to the tip of a metal head supporting member, wherein the thin film magnetic head comprises a magnetoresistive head element H2 on a substrate (1). The head element H2 comprises a magnetoresistive effect element layer (5) interposed between a lower shield layer (3) and an upper shield layer (8), and the entire head element is covered with a protective layer (16). In the known magnetic head device,
Horizontal heat conduction layer made of the same material as the upper shield layer (8)
(80) is the upper shield layer between the substrate (1) and the protective layer (16)
It extends from the end of (8) along the surface of the substrate (1) to the outer position of the head element, and is superposed on the tip of the horizontal heat conduction layer (80) so as to conduct heat more than the protective layer (16). A vertical heat conduction layer (81) made of a material having a high rate is formed, and the vertical heat conduction layer (81) is formed.
Is exposed through the protective layer (16) from the surface of the protective layer, and the exposed surface and the surface of the head supporting member are made of metal.
A magnetic head device characterized in that they are connected to each other by (92).
気ヘッドを取り付けて構成される磁気ヘッド装置であっ
て、該薄膜磁気ヘッドは、基板(1)上に磁気抵抗効果型
ヘッド素子H2を具え、該ヘッド素子H2は、下部シー
ルド層(3)と上部シールド層(8)の間に磁気抵抗効果素
子層(5)を介在させて構成され、ヘッド素子全体が保護
層(16)によって覆われている磁気ヘッド装置において、
上部シールド層(8)よりも外方へ突出した下部シールド
層(3)の端部に、保護層(16)よりも熱伝導率の高い資材
からなる垂直熱伝導層(31)が形成され、該垂直熱伝導層
(31)は、保護層(16)を貫通して保護層表面から露出し、
該露出面と前記ヘッド支持部材の表面とが金属製のワイ
ヤー(92)によって互いに接続されていることを特徴とす
る磁気ヘッド装置。6. A magnetic head device comprising a thin film magnetic head attached to the tip of a metal head supporting member, wherein the thin film magnetic head comprises a magnetoresistive head element H2 on a substrate (1). The head element H2 comprises a magnetoresistive effect element layer (5) interposed between a lower shield layer (3) and an upper shield layer (8), and the entire head element is covered with a protective layer (16). In the known magnetic head device,
A vertical heat conduction layer (31) made of a material having a higher heat conductivity than the protection layer (16) is formed at an end of the lower shield layer (3) protruding outwardly from the upper shield layer (8), The vertical heat conduction layer
(31) penetrates the protective layer (16) and is exposed from the protective layer surface,
A magnetic head device characterized in that the exposed surface and the surface of the head supporting member are connected to each other by a metal wire (92).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6530396A JPH09231520A (en) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | Thin-film magnetic head and magnetic head device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6530396A JPH09231520A (en) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | Thin-film magnetic head and magnetic head device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09231520A true JPH09231520A (en) | 1997-09-05 |
Family
ID=13283017
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6530396A Pending JPH09231520A (en) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | Thin-film magnetic head and magnetic head device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09231520A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6914750B2 (en) * | 2001-10-05 | 2005-07-05 | Headway Technologies, Inc. | Thermal protrusion reduction in magnet heads by utilizing heat sink layers |
-
1996
- 1996-02-26 JP JP6530396A patent/JPH09231520A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6914750B2 (en) * | 2001-10-05 | 2005-07-05 | Headway Technologies, Inc. | Thermal protrusion reduction in magnet heads by utilizing heat sink layers |
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