JPH09104758A - 多官能性ペルハロゲン化ポリオルガノシロキサン及びその製造方法 - Google Patents
多官能性ペルハロゲン化ポリオルガノシロキサン及びその製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08G77/385—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing halogens
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 多官能性ペルハロゲン化ポリオルガノシロキ
サン及びそれらの製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明は、化学的に安定なハロゲン化−
好ましくは(ペル)弗素化さらた−POSであって、一
方で、SiH単位によるペル弗素化α−オレフィンのヒ
ドロシリル化により生じ且つエーテル結合ではなくてア
ルキル及び(又は)アルキルエステル結合を有する弗素
化側基グラフトを、他方で、種々の物理的化学的性質を
与え且つ多くの用途に道を開くことができるその他の非
ペル弗素化官能性単位を含むものに関する。本発明に従
うこれらのPOSの例は、次式 【化1】 を有するものである。他の特色によれば、本発明は、こ
れらの多官能性ペル弗素化POSの製造法に関する。用
途:消泡剤、表面張力低下剤、汚れ反撥剤、粘着防止
剤、潤滑剤、疎油性及び(又は)疎水性剤、被覆など。
サン及びそれらの製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明は、化学的に安定なハロゲン化−
好ましくは(ペル)弗素化さらた−POSであって、一
方で、SiH単位によるペル弗素化α−オレフィンのヒ
ドロシリル化により生じ且つエーテル結合ではなくてア
ルキル及び(又は)アルキルエステル結合を有する弗素
化側基グラフトを、他方で、種々の物理的化学的性質を
与え且つ多くの用途に道を開くことができるその他の非
ペル弗素化官能性単位を含むものに関する。本発明に従
うこれらのPOSの例は、次式 【化1】 を有するものである。他の特色によれば、本発明は、こ
れらの多官能性ペル弗素化POSの製造法に関する。用
途:消泡剤、表面張力低下剤、汚れ反撥剤、粘着防止
剤、潤滑剤、疎油性及び(又は)疎水性剤、被覆など。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ヒドロシリル化
反応によって(ペル)ハロゲン化オレフィン(例えば、
α−オレフィン)から誘導される(ペル)ハロゲン化ポ
リオルガノシロキサン(POS)に関する。また、該反
応を1個又は2個以上のエチレン又はアルキニル性不飽
和単位を有するハロゲン化反応体に対する水素化珪素化
合物の付加として提供することが可能である。本明細書
では、ハロゲンとして弗素について特に説明するが、こ
れに限定するわけではない。しかして、本発明は、少な
くとも1個のハロゲン化(例えば、弗素化)された基R
fによって置換された少なくとも1個の珪素原子を有す
るハロゲン化された−好ましくは弗素化された−環状又
は非環状の(ポリ)オルガノシロキサン類に関する。さ
らに、本発明は、このような化合物の製造方法に関す
る。
反応によって(ペル)ハロゲン化オレフィン(例えば、
α−オレフィン)から誘導される(ペル)ハロゲン化ポ
リオルガノシロキサン(POS)に関する。また、該反
応を1個又は2個以上のエチレン又はアルキニル性不飽
和単位を有するハロゲン化反応体に対する水素化珪素化
合物の付加として提供することが可能である。本明細書
では、ハロゲンとして弗素について特に説明するが、こ
れに限定するわけではない。しかして、本発明は、少な
くとも1個のハロゲン化(例えば、弗素化)された基R
fによって置換された少なくとも1個の珪素原子を有す
るハロゲン化された−好ましくは弗素化された−環状又
は非環状の(ポリ)オルガノシロキサン類に関する。さ
らに、本発明は、このような化合物の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】特定の性質を有する有機重合体系を提供
するにあたってのハロゲン、特に弗素の役割並びに炭素
−弗素結合の役割は、重合体の化学において周知であ
る。特に、弗素化の効果、詳しく言えば重合体へのペル
弗素化単位の導入の効果は、 ・表面エネルギーを低下させること、 ・熱的及び化学的安定性を向上させること、 ・疎有機性(organophobicity)及び疎油性(oleophobici
ty) を付与すること であることが知られている。ハロゲン化、特に弗素化に
よるこのタイプの官能性付与が、1970年以降、シリ
コーン重合体、特に環状又は非環状ポリオルガノシロキ
サン型のシリコーン重合体に適用された。しかして、繊
維の分野でしみ又は汚れ反撥剤としての用途を有し又は
潤滑剤、ある種の接着剤(高接着力のシリコーン)に特
異的な粘着防止剤、脂肪反撥剤、或いは消泡剤として使
用することができる弗素化単位によりグラフト化された
シリコーンオイルが入手することができる。また、弗素
化シリコーンオイルは種々の増粘剤と処方してマスチッ
クス或いは任意のその他のシール用及び(又は)目地若
しくは接合用材料を形成させることができる。これらの
弗素化シリコーンは、架橋された形態では、成形又は押
出によって種々のエンジニアリング部品に成形すること
ができる。これらの弗素化シリコーンについての詳細
は、オグデン R.ピアースの書籍“フルオロシリコー
ン”(1970、ジョンウイリー&ソンズ社、p.1〜
15)を参照されたい。
するにあたってのハロゲン、特に弗素の役割並びに炭素
−弗素結合の役割は、重合体の化学において周知であ
る。特に、弗素化の効果、詳しく言えば重合体へのペル
弗素化単位の導入の効果は、 ・表面エネルギーを低下させること、 ・熱的及び化学的安定性を向上させること、 ・疎有機性(organophobicity)及び疎油性(oleophobici
ty) を付与すること であることが知られている。ハロゲン化、特に弗素化に
よるこのタイプの官能性付与が、1970年以降、シリ
コーン重合体、特に環状又は非環状ポリオルガノシロキ
サン型のシリコーン重合体に適用された。しかして、繊
維の分野でしみ又は汚れ反撥剤としての用途を有し又は
潤滑剤、ある種の接着剤(高接着力のシリコーン)に特
異的な粘着防止剤、脂肪反撥剤、或いは消泡剤として使
用することができる弗素化単位によりグラフト化された
シリコーンオイルが入手することができる。また、弗素
化シリコーンオイルは種々の増粘剤と処方してマスチッ
クス或いは任意のその他のシール用及び(又は)目地若
しくは接合用材料を形成させることができる。これらの
弗素化シリコーンは、架橋された形態では、成形又は押
出によって種々のエンジニアリング部品に成形すること
ができる。これらの弗素化シリコーンについての詳細
は、オグデン R.ピアースの書籍“フルオロシリコー
ン”(1970、ジョンウイリー&ソンズ社、p.1〜
15)を参照されたい。
【0003】ペル弗素化単位を含有するシリコーンの工
業的な合成ための最初に知られた戦略は、ジハロゲノヒ
ドロゲノオルガノシラン、例えばMeHSiCl2 (M
e=メチル)をペル弗素化単位を持ち且つ一般式CH2
=CH−Rf(Rf=ペル弗素化単位)を有する不飽和
化合物によって“ヒドロシリル化”することから本質的
になる。このオレフィンにシランが付加してペル弗素化
ジハロゲノオルガノシランを生じ、これは加水分解され
て官能化されたシリコーンを生成することができる。こ
のものは例えば環状四量体であり得る。後者を再配列反
応に付してペル弗素化線状ポリオルガノシロキサン(P
OS)を与えることが可能である。この種の合成に関係
し且つシリコーンハイブリッドとペル弗素化オレフィン
との種々の組合せを使用するヒドロシリル化反応は、選
定された金属化合物、特にある種の第VIII 族金属、例
えば白金によって接触されることが知られている。しか
して、Pt/Sn錯体がヒドロシリル化触媒として使用
された。米国特許第4,089,882号(信越化学)
を参照されたい。この合成戦略は比較的複雑であり、従
って高価であると思われる。
業的な合成ための最初に知られた戦略は、ジハロゲノヒ
ドロゲノオルガノシラン、例えばMeHSiCl2 (M
e=メチル)をペル弗素化単位を持ち且つ一般式CH2
=CH−Rf(Rf=ペル弗素化単位)を有する不飽和
化合物によって“ヒドロシリル化”することから本質的
になる。このオレフィンにシランが付加してペル弗素化
ジハロゲノオルガノシランを生じ、これは加水分解され
て官能化されたシリコーンを生成することができる。こ
のものは例えば環状四量体であり得る。後者を再配列反
応に付してペル弗素化線状ポリオルガノシロキサン(P
OS)を与えることが可能である。この種の合成に関係
し且つシリコーンハイブリッドとペル弗素化オレフィン
との種々の組合せを使用するヒドロシリル化反応は、選
定された金属化合物、特にある種の第VIII 族金属、例
えば白金によって接触されることが知られている。しか
して、Pt/Sn錯体がヒドロシリル化触媒として使用
された。米国特許第4,089,882号(信越化学)
を参照されたい。この合成戦略は比較的複雑であり、従
って高価であると思われる。
【0004】工業的な簡略化の観点から、例えば、CH
2 =CH−Rf型(このペル弗素化単位Rfは少なくと
も1個の弗素原子を持つ炭素原子によってオレフィン性
CHに直接結合している)のα−弗素化オレフィンによ
るSiH含有シリコーンの直接ヒドロシリル化に基づく
第二の合成戦略が提案された。このヒドロシリル化反応
でも、やはり種々の第VIII 族金属触媒、特に白金を主
体とする触媒が使用される。しかし、これらの触媒は非
常に高い収率を与えないことがわかった。特に、白金を
主体とする慣用の工業的ヒドロシリル化触媒(例えば、
カルステッド型触媒)は全く有効ではない。さらに、シ
リコーンのペル弗素化にとって明らかに有害な相当な量
の副生物が発生することが観察された。これらの既知の
ペル弗素化POSにおいては、基Rfはシリコーン鎖の
Siに直接結合している。換言すれば、この場合の結合
は−CH2 −CH2 −(CH2 )m −(ここで、m=
0)に相当する。
2 =CH−Rf型(このペル弗素化単位Rfは少なくと
も1個の弗素原子を持つ炭素原子によってオレフィン性
CHに直接結合している)のα−弗素化オレフィンによ
るSiH含有シリコーンの直接ヒドロシリル化に基づく
第二の合成戦略が提案された。このヒドロシリル化反応
でも、やはり種々の第VIII 族金属触媒、特に白金を主
体とする触媒が使用される。しかし、これらの触媒は非
常に高い収率を与えないことがわかった。特に、白金を
主体とする慣用の工業的ヒドロシリル化触媒(例えば、
カルステッド型触媒)は全く有効ではない。さらに、シ
リコーンのペル弗素化にとって明らかに有害な相当な量
の副生物が発生することが観察された。これらの既知の
ペル弗素化POSにおいては、基Rfはシリコーン鎖の
Siに直接結合している。換言すれば、この場合の結合
は−CH2 −CH2 −(CH2 )m −(ここで、m=
0)に相当する。
【0005】米国特許第5,233,071号において
使用されているのはこれらの結合である。これらは、α
−オレフィンのヒドロシリル化から生じる。しかし、従
来技術において使用されているヒドロシリル化触媒の欠
点を克服するために、この特許に記載の方法はコバルト
を主体とする有機金属錯体[(Co2 CO8 ,Co2C
O6 )(PR3 )3 。ここで、R=アルキル、アリール
である。]を使用する。このような技術的な提案は満足
できるものではないと思われた。なぜならば、得られる
反応時間は数日程度のものであり、相当な量の触媒(1
〜2%)を使用することが必須であって、これはプロセ
スの経済性の観点から特に望ましくないからである。こ
れらのコバルトを主体とする錯体の明らかな欠点の一つ
は、それらがヒドロシリル化反応以外の反応を接触させ
ることである。特に、それらは、重合プロセスに加わっ
てエポキシ環の開裂を伴う場合がある。この特異性の欠
如は特にやっかいである。さらに、それらは工業的な触
媒ではない。
使用されているのはこれらの結合である。これらは、α
−オレフィンのヒドロシリル化から生じる。しかし、従
来技術において使用されているヒドロシリル化触媒の欠
点を克服するために、この特許に記載の方法はコバルト
を主体とする有機金属錯体[(Co2 CO8 ,Co2C
O6 )(PR3 )3 。ここで、R=アルキル、アリール
である。]を使用する。このような技術的な提案は満足
できるものではないと思われた。なぜならば、得られる
反応時間は数日程度のものであり、相当な量の触媒(1
〜2%)を使用することが必須であって、これはプロセ
スの経済性の観点から特に望ましくないからである。こ
れらのコバルトを主体とする錯体の明らかな欠点の一つ
は、それらがヒドロシリル化反応以外の反応を接触させ
ることである。特に、それらは、重合プロセスに加わっ
てエポキシ環の開裂を伴う場合がある。この特異性の欠
如は特にやっかいである。さらに、それらは工業的な触
媒ではない。
【0006】米国特許第5,348,769号は、式−
R3 ZRfの第一ペル弗素化官能性単位によって置換さ
れたシロキシ単位D並びにエーテル−ヒドロキシル又は
アルキル−ヒドロキシル型の第二官能性単位を有する他
のシロキシ単位Dを含む線状又は環状のポリオルガノシ
ロキサンを開示している。第一ペル弗素化官能性単位に
おけるSiをRfに連結させる結合又は架橋は、特に−
(CH2 )x Z(ここで、x=2、3又は4であり、Z
=NHCO、NHSO2 、O2 C、O3 S、OCH2 C
H3 、NHCH2 CH2 又はCH2 CH2 OHCH2 で
ある。)からなる。使用される触媒は、好ましくはクロ
ロ白金酸である。これは簡便な技術の一つではない。な
ぜならば、それはペルフルオルアルキルオレフィン反応
体を予め製造することを要求するからである。このこと
は合成時間を相当に延長させ、従ってプロセスのコスト
を増大させる。
R3 ZRfの第一ペル弗素化官能性単位によって置換さ
れたシロキシ単位D並びにエーテル−ヒドロキシル又は
アルキル−ヒドロキシル型の第二官能性単位を有する他
のシロキシ単位Dを含む線状又は環状のポリオルガノシ
ロキサンを開示している。第一ペル弗素化官能性単位に
おけるSiをRfに連結させる結合又は架橋は、特に−
(CH2 )x Z(ここで、x=2、3又は4であり、Z
=NHCO、NHSO2 、O2 C、O3 S、OCH2 C
H3 、NHCH2 CH2 又はCH2 CH2 OHCH2 で
ある。)からなる。使用される触媒は、好ましくはクロ
ロ白金酸である。これは簡便な技術の一つではない。な
ぜならば、それはペルフルオルアルキルオレフィン反応
体を予め製造することを要求するからである。このこと
は合成時間を相当に延長させ、従ってプロセスのコスト
を増大させる。
【0007】これらの結合であってその先駆体が式CH
2 =CH−Rfのペルフルオルアルキル化α−オレフィ
ンであるものはさておき、従来技術の文献は、そのオレ
フィン性先駆体が次式
2 =CH−Rfのペルフルオルアルキル化α−オレフィ
ンであるものはさておき、従来技術の文献は、そのオレ
フィン性先駆体が次式
【化42】 (ここで、LとRfとの間の化学結合はエステル結合で
ある)のタイプである架橋も記載している。これはカル
ボキシル基とペルハロゲン化アルコール、好ましくはペ
ル弗素化アルコールとの反応から生じ、このカルボキシ
ル基は一般に酸無水物の加水分解生成物である。
ある)のタイプである架橋も記載している。これはカル
ボキシル基とペルハロゲン化アルコール、好ましくはペ
ル弗素化アルコールとの反応から生じ、このカルボキシ
ル基は一般に酸無水物の加水分解生成物である。
【0008】しかして、PCT特許出願第WO94/1
2561号は、シリコーン鎖の末端のα及びω−位置に
おいてのみ弗素化単位によってグラフト化されたPOS
を開示している。しかし、アルキルエステル基上でα,
ω−ペル弗素化されたこれらのPOSは、表面張力の低
下又は疎油性及び疎水性に関しては最適な性質を示さな
い。ヨーロッパ特許出願第0640644号は、化粧品
処方物に使用することができるペル弗素化(Rf)シリ
コーン誘導体を記載している。これらのペル弗素化シリ
コーン誘導体は、3種の異なったタイプのペル弗素化グ
ラフト、即ち次式
2561号は、シリコーン鎖の末端のα及びω−位置に
おいてのみ弗素化単位によってグラフト化されたPOS
を開示している。しかし、アルキルエステル基上でα,
ω−ペル弗素化されたこれらのPOSは、表面張力の低
下又は疎油性及び疎水性に関しては最適な性質を示さな
い。ヨーロッパ特許出願第0640644号は、化粧品
処方物に使用することができるペル弗素化(Rf)シリ
コーン誘導体を記載している。これらのペル弗素化シリ
コーン誘導体は、3種の異なったタイプのペル弗素化グ
ラフト、即ち次式
【化43】 (ここで、R2 及びR3 はアルキル、例えばCH3 であ
り、2≦i≦16、例えばi=3であり、1≦m,n≦
6であり、0≦r≦50であり、この方法でグラフト化
されたシロキシ単位の数は1〜200であり、X及びY
=単結合、−CO−又はC1 〜C6 −アルキレンであ
る。)を有するシロキシ単位Dによって特徴づけられ
る。
り、2≦i≦16、例えばi=3であり、1≦m,n≦
6であり、0≦r≦50であり、この方法でグラフト化
されたシロキシ単位の数は1〜200であり、X及びY
=単結合、−CO−又はC1 〜C6 −アルキレンであ
る。)を有するシロキシ単位Dによって特徴づけられ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】これらのペル弗素化グ
ラフト(1)〜(3)の共通の特色は、ペル弗素化基R
fを珪素に結びつける結合の中にエーテル結合が存在す
ることである。これらのエーテル結合のそれぞれは、あ
る種の条件下で化学的な攻撃による可能性がある破壊点
を表わしている。このことはこれらの既知のペル弗素化
POSの大きな欠点である。なぜならば、ペル弗素化基
の不安定な特性はある種の用途において明らかに満足で
きるものではないからである。しかして、この従来技術
の概説から、化学的に安定なハロゲン化−好ましくは
(ペル)弗素化さらた−POSであって、一方で、Si
H単位によるペル弗素化α−オレフィンのヒドロシリル
化により生じ且つエーテル結合ではなくてアルキル及び
(又は)アルキルエステル結合を有する弗素化側基グラ
フトを、他方で、種々の物理的化学的性質を与え且つ多
くの用途に道を開くことができるその他の非ペル弗素化
官能性単位を含むものは存在しないことが示される。さ
らに、従来技術は、簡単で経済的であり、従って完全に
工業的な態様で得ることができるこのようなPOSにつ
いての開示を含んでさえいない。
ラフト(1)〜(3)の共通の特色は、ペル弗素化基R
fを珪素に結びつける結合の中にエーテル結合が存在す
ることである。これらのエーテル結合のそれぞれは、あ
る種の条件下で化学的な攻撃による可能性がある破壊点
を表わしている。このことはこれらの既知のペル弗素化
POSの大きな欠点である。なぜならば、ペル弗素化基
の不安定な特性はある種の用途において明らかに満足で
きるものではないからである。しかして、この従来技術
の概説から、化学的に安定なハロゲン化−好ましくは
(ペル)弗素化さらた−POSであって、一方で、Si
H単位によるペル弗素化α−オレフィンのヒドロシリル
化により生じ且つエーテル結合ではなくてアルキル及び
(又は)アルキルエステル結合を有する弗素化側基グラ
フトを、他方で、種々の物理的化学的性質を与え且つ多
くの用途に道を開くことができるその他の非ペル弗素化
官能性単位を含むものは存在しないことが示される。さ
らに、従来技術は、簡単で経済的であり、従って完全に
工業的な態様で得ることができるこのようなPOSにつ
いての開示を含んでさえいない。
【0010】このような状況の下で、本発明の重要な目
的の一つは、このようなハロゲン化−好ましくは(ペ
ル)弗素化−POSの上記の欠点を克服することであ
り、好ましくは、第一のタイプの非ペル弗素化官能性グ
ラフトと、それぞれが1又は2個の平行なペル弗素化鎖
を有する第二タイプのペル弗素化二裂グラフトとを持
ち、従って特に汚れ反撥剤としての用途に好適ならしめ
る結晶性を有する、新規なペル弗素化POSを提供する
ことである。本発明の他の重要な目的は、このようなハ
ロゲン化−好ましくは(ペル)弗素化−POSを製造す
る方法を提供することであって、この方法はヒドロシリ
ル化機構に従って有効量の触媒の存在下に少なくとも1
種のハロゲン化(例えば弗素化)されたオレフィン及び
弗素化されたグラフトと異なった官能基を有し又は有し
得る少なくとも1種のオレフィン先駆体を少なくとも1
個のSiH単位を含有するPOSと反応させることから
なるタイプのものであり、しかもこの方法は容易に入手
でき又は製造できる出発物質を使用すると共にまた実施
するのが簡単であり、高度に複雑な装置を要求せず且つ
最終の弗素化POSの収率及び純度に関して高い性能特
性を達成するのを可能ならしめる方法論に基づいている
ことが必要である。また、本発明の他の重要な目的は、
優秀なヒドロシリル化速度並びにSiH単位からSiR
oRf単位(ここで、Ro=2価の架橋であり、Rf=
ペル弗素化単位である。)への高い転化率を特徴とする
前記のタイプのペルハロゲン化(好ましくはペル弗素
化)方法を提供することである。本発明のさらに他の重
要な目的は、最適な効率、収率、最終製品純度及び特異
性という必須の要求を犠牲にすることなく取扱いが容易
で安価である例えば白金型の伝統的なヒドロシリル化触
媒(カルステッド触媒)の使用を可能ならしめるSiH
含有POSのペルハロゲン化−好ましくは(ペル)弗素
化−方法を提供することである。さらに、本発明の他の
重要な目的は、少なくとも二官能性であるペル弗素化P
OS(例えば、シリコーンオイル)を得るのを簡単で且
つ経済的なものとする前記のような方法を提供すること
である。
的の一つは、このようなハロゲン化−好ましくは(ペ
ル)弗素化−POSの上記の欠点を克服することであ
り、好ましくは、第一のタイプの非ペル弗素化官能性グ
ラフトと、それぞれが1又は2個の平行なペル弗素化鎖
を有する第二タイプのペル弗素化二裂グラフトとを持
ち、従って特に汚れ反撥剤としての用途に好適ならしめ
る結晶性を有する、新規なペル弗素化POSを提供する
ことである。本発明の他の重要な目的は、このようなハ
ロゲン化−好ましくは(ペル)弗素化−POSを製造す
る方法を提供することであって、この方法はヒドロシリ
ル化機構に従って有効量の触媒の存在下に少なくとも1
種のハロゲン化(例えば弗素化)されたオレフィン及び
弗素化されたグラフトと異なった官能基を有し又は有し
得る少なくとも1種のオレフィン先駆体を少なくとも1
個のSiH単位を含有するPOSと反応させることから
なるタイプのものであり、しかもこの方法は容易に入手
でき又は製造できる出発物質を使用すると共にまた実施
するのが簡単であり、高度に複雑な装置を要求せず且つ
最終の弗素化POSの収率及び純度に関して高い性能特
性を達成するのを可能ならしめる方法論に基づいている
ことが必要である。また、本発明の他の重要な目的は、
優秀なヒドロシリル化速度並びにSiH単位からSiR
oRf単位(ここで、Ro=2価の架橋であり、Rf=
ペル弗素化単位である。)への高い転化率を特徴とする
前記のタイプのペルハロゲン化(好ましくはペル弗素
化)方法を提供することである。本発明のさらに他の重
要な目的は、最適な効率、収率、最終製品純度及び特異
性という必須の要求を犠牲にすることなく取扱いが容易
で安価である例えば白金型の伝統的なヒドロシリル化触
媒(カルステッド触媒)の使用を可能ならしめるSiH
含有POSのペルハロゲン化−好ましくは(ペル)弗素
化−方法を提供することである。さらに、本発明の他の
重要な目的は、少なくとも二官能性であるペル弗素化P
OS(例えば、シリコーンオイル)を得るのを簡単で且
つ経済的なものとする前記のような方法を提供すること
である。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明のこれらの目的及
びその他の目的は、主として、新規なペルハロゲン化−
好ましくはペル弗素化−POS並びにこのような新規な
POSを得るのを可能にさせるSiH含有POSのヒド
ロシリル化を伴う新規なペルハロゲン化−好ましくはペ
ル弗素化−方法に関する本発明によって達成される。
びその他の目的は、主として、新規なペルハロゲン化−
好ましくはペル弗素化−POS並びにこのような新規な
POSを得るのを可能にさせるSiH含有POSのヒド
ロシリル化を伴う新規なペルハロゲン化−好ましくはペ
ル弗素化−方法に関する本発明によって達成される。
【0012】発明の概要 従って、本発明は、まず、次の一般式(I)及び(I
I):
I):
【化44】 [ここで、 ・a+b+p=3、a=2又は3、b及びp=0又は1
であり、zは0〜200、好ましくは1〜90であり、
y1 は0〜10、好ましくは0〜5であり、yは0〜5
0、好ましくは0〜25であり、eは1〜200、好ま
しくは1〜90であり、ただし、△z≠0ならば、5≦
z+y1 +y+e≦200、好ましくは10≦z+y1
+y+e≦100であり、[z/(z+y+y1 +e+
2)].100≧3、好ましくは5であり、△z=0な
らば、5≦y+y1 +e≦100であり、bは1価の末
端シロキシ基Mの少なくとも一つで0以外であり、△e
≠0ならば、5≦z+y1 +y+e≦200、好ましく
は10≦z+y1+y+e≦100であり、[z/(z
+y+y1 +e+2)].100≧3、好ましくは5で
あり、△e=0ならば、5≦y+y1 +z≦100であ
り、pは末端シロキシ基Mの少なくとも一つで0以外で
あるものとし、 ・1≦z' ≦9、好ましくは1≦z' ≦4.5であり、 ・0≦y'1≦0.5、好ましくは0≦y'1≦0.25で
あり、 ・0≦y' ≦5、好ましくは0≦y' ≦0.5であり、 ・基R1 及びR2 のそれぞれは、一方では、同じ指数の
類似の基及び異なる指数の他の基と同一であっても異な
っていてもよく、他方では、線状若しくは分岐状のC1
〜C12−(シクロ)アルキル−好ましくはC1 〜C6 −
(シクロ)アルキル−基、アリール、アラルキル若しく
はアルキルアリール基であり、これらの基は置換されて
いてもよく、 ・Gfはそれが存在するz若しくはz' シロキシ単位D
及び(又は)2個のシロキシ単位M中の同種又は異種の
随意にハロゲン化された−好ましくは(ペル)弗素化さ
れた−官能性の1価の基であり、次式:
であり、zは0〜200、好ましくは1〜90であり、
y1 は0〜10、好ましくは0〜5であり、yは0〜5
0、好ましくは0〜25であり、eは1〜200、好ま
しくは1〜90であり、ただし、△z≠0ならば、5≦
z+y1 +y+e≦200、好ましくは10≦z+y1
+y+e≦100であり、[z/(z+y+y1 +e+
2)].100≧3、好ましくは5であり、△z=0な
らば、5≦y+y1 +e≦100であり、bは1価の末
端シロキシ基Mの少なくとも一つで0以外であり、△e
≠0ならば、5≦z+y1 +y+e≦200、好ましく
は10≦z+y1+y+e≦100であり、[z/(z
+y+y1 +e+2)].100≧3、好ましくは5で
あり、△e=0ならば、5≦y+y1 +z≦100であ
り、pは末端シロキシ基Mの少なくとも一つで0以外で
あるものとし、 ・1≦z' ≦9、好ましくは1≦z' ≦4.5であり、 ・0≦y'1≦0.5、好ましくは0≦y'1≦0.25で
あり、 ・0≦y' ≦5、好ましくは0≦y' ≦0.5であり、 ・基R1 及びR2 のそれぞれは、一方では、同じ指数の
類似の基及び異なる指数の他の基と同一であっても異な
っていてもよく、他方では、線状若しくは分岐状のC1
〜C12−(シクロ)アルキル−好ましくはC1 〜C6 −
(シクロ)アルキル−基、アリール、アラルキル若しく
はアルキルアリール基であり、これらの基は置換されて
いてもよく、 ・Gfはそれが存在するz若しくはz' シロキシ単位D
及び(又は)2個のシロキシ単位M中の同種又は異種の
随意にハロゲン化された−好ましくは(ペル)弗素化さ
れた−官能性の1価の基であり、次式:
【化45】 {ここで、△h=0又は1、g=0又は1、j=0又は
1、k=1又は2であり、△ただし、少なくとも1個の
基GfがPOS(I)及び(II)中に存在するものと
し、基Gfは好ましくは少なくとも60モル%の程度で
存在し、△Z1 は次式:
1、k=1又は2であり、△ただし、少なくとも1個の
基GfがPOS(I)及び(II)中に存在するものと
し、基Gfは好ましくは少なくとも60モル%の程度で
存在し、△Z1 は次式:
【化46】 (ここで、m≧2である。)の2価の基であり、ただ
し、m=2であるならば、基Gfの少なくともいくつか
はg≠0である基であるもとし、△Z2 は α.次式:
し、m=2であるならば、基Gfの少なくともいくつか
はg≠0である基であるもとし、△Z2 は α.次式:
【化47】 (ここで、カルボニルの遊離原子価の一方又は両方は−
Z3 Rfに結合し、また該遊離原子価の一方のみが−Z
3 Rfに結合する場合には他方はヒドロキシルに結合す
る。)の基、 β.次式:
Z3 Rfに結合し、また該遊離原子価の一方のみが−Z
3 Rfに結合する場合には他方はヒドロキシルに結合す
る。)の基、 β.次式:
【化48】 (ここで、 ・カルボニルの遊離原子価の少なくとも一方は−Z3 R
fに結合し、またこれらの遊離原子価の一方のみが−Z
3 Rfに結合する場合には他方は線状又は分岐状のC1
〜C6 −アルコキシに結合し、 ・Ra =H、アリール又は線状若しくは分岐状のC1 〜
C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 である。)の
基、 γ.次式:
fに結合し、またこれらの遊離原子価の一方のみが−Z
3 Rfに結合する場合には他方は線状又は分岐状のC1
〜C6 −アルコキシに結合し、 ・Ra =H、アリール又は線状若しくは分岐状のC1 〜
C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 である。)の
基、 γ.次式:
【化49】 の基、 δ.次式:
【化50】 の基、 ε.次式:
【化51】 の基、 η.次式:
【化52】 (ここで、 ・Gfにおいてh=0であり、 ・カルボニルの遊離原子価の一方又は両方は−Z3 Rf
に結合し、また該遊離原子価の一方のみが−Z3 Rfに
結合する場合には他方はヒドロキシル又は線状若しくは
分岐状のC1 〜C6 −アルコキシに結合する。)の基、 θ.次式:
に結合し、また該遊離原子価の一方のみが−Z3 Rfに
結合する場合には他方はヒドロキシル又は線状若しくは
分岐状のC1 〜C6 −アルコキシに結合する。)の基、 θ.次式:
【化53】 (ここで、原子価━以外の2個の遊離原子価の一方又は
両方は−Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原
子価の一方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方は
OH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −アルコキシ
に結合する。)の基、 λ.次式:
両方は−Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原
子価の一方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方は
OH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −アルコキシ
に結合する。)の基、 λ.次式:
【化54】 (ここで、 ・原子価━以外の2個の遊離原子価の一方又は両方は−
Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原子価の一
方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方はOH又は
線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −アルコキシに結合
し、 ・Rb =H又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −低級
アルキル、好ましくはメチルである。)の基 のうちの1、2又は3価の基であり、これらの基におけ
るWは環状又は非環状の炭化水素基、特に脂肪族及び
(又は)アルケニル及び(又は)アルキニル及び(又
は)芳香族基であり、またWはエーテル結合−O−を欠
いており、△Z3 は次式:
Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原子価の一
方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方はOH又は
線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −アルコキシに結合
し、 ・Rb =H又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −低級
アルキル、好ましくはメチルである。)の基 のうちの1、2又は3価の基であり、これらの基におけ
るWは環状又は非環状の炭化水素基、特に脂肪族及び
(又は)アルケニル及び(又は)アルキニル及び(又
は)芳香族基であり、またWはエーテル結合−O−を欠
いており、△Z3 は次式:
【化55】 (ここで、n≧1及びU=O、S、NH又はNHSO2
であり、好ましくはOである。)の2価の基であり、△
Rfはペルハロゲン化−好ましくはペル弗素化−基、特
に好ましくは次式:
であり、好ましくはOである。)の2価の基であり、△
Rfはペルハロゲン化−好ましくはペル弗素化−基、特
に好ましくは次式:
【化56】 の一つを有する線状又は分岐状のペルフルオルアルキル
基である。}の平均式を有し、 ・Eはそれが存在するe若しくはe' シロキシ単位D及
び(又は)2個のシロキシ単位M中の同種又は異種の1
価の官能基(前記のGf以外のものである)であり、好
ましくは下記の官能基E1 〜E13: △E1 =次式
基である。}の平均式を有し、 ・Eはそれが存在するe若しくはe' シロキシ単位D及
び(又は)2個のシロキシ単位M中の同種又は異種の1
価の官能基(前記のGf以外のものである)であり、好
ましくは下記の官能基E1 〜E13: △E1 =次式
【化57】 {ここで、 *Z1 はm≧2であるGfについて前記したのと同様に
定義され、 *Z2 は下記の基: ・αe.次式
定義され、 *Z2 は下記の基: ・αe.次式
【化58】 (ここで、カルボニルの遊離原子価の少なくとも一方は
OHに結合し、又はこれらの二つの遊離原子価は共に同
じ酸素原子に結合する。)の基、 ・βe.次式
OHに結合し、又はこれらの二つの遊離原子価は共に同
じ酸素原子に結合する。)の基、 ・βe.次式
【化59】 (ここで、カルボニルの二つの遊離原子価はそれぞれ線
状又は分岐状C1 〜C6−アルコキシに結合する。)の
基、 ・γe.次式
状又は分岐状C1 〜C6−アルコキシに結合する。)の
基、 ・γe.次式
【化60】 の基、 ・δe.次式
【化61】 の基、 ・εe.次式
【化62】 (ここで、カルボニルの遊離原子価は線状又は分岐状C
1 〜C6 −アルコキシ或いはOHに結合する。)の基、 ・ηe.次式
1 〜C6 −アルコキシ或いはOHに結合する。)の基、 ・ηe.次式
【化63】 (ここで、カルボニルの遊離原子価の少なくとも一方は
OH又は線状若しくは分岐状C1 〜C6 −アルコキシに
結合し、或いはこれらの二つの遊離原子価は共に同じ酸
素原子に結合する。)の基、 ・θe.次式
OH又は線状若しくは分岐状C1 〜C6 −アルコキシに
結合し、或いはこれらの二つの遊離原子価は共に同じ酸
素原子に結合する。)の基、 ・θe.次式
【化64】 (ここで、原子価━以外の2個の遊離原子価の一方又は
両方は−Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原
子価の一方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方は
OH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 アルコキシに
結合する。)の基、又は ・λe.次式
両方は−Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原
子価の一方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方は
OH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 アルコキシに
結合する。)の基、又は ・λe.次式
【化65】 (ここで、Rb =H又は線状若しくは分岐状のC1 〜C
6 −低級アルキル、好ましくはメチルである。)の基に
相当し、 *Z1 及びZ2 は前記のGf中に存在するそれらの対応
物と同一であっても異なっていてもよく、 *WはGfについて上で定義した通りである。}の基、 △E2 =アミン;E3 =アルコキシ;E4 =アシル;E
5 =アシルオキシ;E6 =ヒドロキシル;E7 =トリア
ルコキシシリル;E8 =アミド;E9 =エステル;E10
=フェノール;E11=アリールアルコキシ;E12=アリ
ールオキシ;E13=エーテル−ヒドロキシ基 の少なくとも1種を有する群から選択される。]の(ペ
ル)ハロゲン化−好ましくは(ペル)弗素化−ポリオル
ガノシロキサン(POS)に関する。
6 −低級アルキル、好ましくはメチルである。)の基に
相当し、 *Z1 及びZ2 は前記のGf中に存在するそれらの対応
物と同一であっても異なっていてもよく、 *WはGfについて上で定義した通りである。}の基、 △E2 =アミン;E3 =アルコキシ;E4 =アシル;E
5 =アシルオキシ;E6 =ヒドロキシル;E7 =トリア
ルコキシシリル;E8 =アミド;E9 =エステル;E10
=フェノール;E11=アリールアルコキシ;E12=アリ
ールオキシ;E13=エーテル−ヒドロキシ基 の少なくとも1種を有する群から選択される。]の(ペ
ル)ハロゲン化−好ましくは(ペル)弗素化−ポリオル
ガノシロキサン(POS)に関する。
【0013】一方で、Rfによってペル弗素化された異
なった種のグラフトを、他方で、互いに異なるが特にペ
ル弗素化基を欠いているためにGfとは異なる1種以上
の種に属する側基グラフトEにより保持される少なくと
も1個の第二の官能基を注意深く選定することによって
これらの新規な(ペル)ハロゲン化−好ましくは(ペ
ル)弗素化−POSを生成させたことは本出願人の名誉
である。本発明に従って、考慮されるべきグラフトGf
の種には特に下記のものがある。 ・アルキレン結合−(Cm H2m)−(m≧2である)を
有するもの。 ・エーテル−O−がなく且つ1個以上のペル弗素化基R
fを有する2価又は3価の炭化水素基Wによって伸長さ
れたアルキレン結合−(Cm H2m)m+2 −(m≧Oであ
る)を有するもの。 ・遊離末端がRfである基によってω−ヒドロキシル化
及びアルコキシル化されたWによって又はRfを有する
2個の基によってアルコキシル化されたWによって伸長
されたアルキレン結合−(Cm H2m)m −(m>2であ
る)を有するもの。 ・基Wの一般的な部類に属し且つSiに接合する遊離原
子価以外の遊離原子価が任意の基Z3 Rf及び(又は)
アルキル、アルコキシ若しくはヒドロキシル置換基と結
合する環状の単位に接合し又はその一部を形成する2価
又は3価の基によって伸長されたアルキレン結合−(C
m H2m)−(m>0である)を有するもの。 ・Siに接合する遊離原子価以外の遊離原子価が任意の
基Z3 Rf及び(又は)アルキル、アルコキシ若しくは
ヒドロキシル置換基と結合する3価のシリル基によって
伸長されたアルキレン結合−(Cm H2m)−(m>0で
ある)を有するもの。 ・2価のアルキレン基を含有しない(h=0)がSiに
直接接合した基Wを有し、また少なくとも1個の基Rf
も有する結合を有するもの。
なった種のグラフトを、他方で、互いに異なるが特にペ
ル弗素化基を欠いているためにGfとは異なる1種以上
の種に属する側基グラフトEにより保持される少なくと
も1個の第二の官能基を注意深く選定することによって
これらの新規な(ペル)ハロゲン化−好ましくは(ペ
ル)弗素化−POSを生成させたことは本出願人の名誉
である。本発明に従って、考慮されるべきグラフトGf
の種には特に下記のものがある。 ・アルキレン結合−(Cm H2m)−(m≧2である)を
有するもの。 ・エーテル−O−がなく且つ1個以上のペル弗素化基R
fを有する2価又は3価の炭化水素基Wによって伸長さ
れたアルキレン結合−(Cm H2m)m+2 −(m≧Oであ
る)を有するもの。 ・遊離末端がRfである基によってω−ヒドロキシル化
及びアルコキシル化されたWによって又はRfを有する
2個の基によってアルコキシル化されたWによって伸長
されたアルキレン結合−(Cm H2m)m −(m>2であ
る)を有するもの。 ・基Wの一般的な部類に属し且つSiに接合する遊離原
子価以外の遊離原子価が任意の基Z3 Rf及び(又は)
アルキル、アルコキシ若しくはヒドロキシル置換基と結
合する環状の単位に接合し又はその一部を形成する2価
又は3価の基によって伸長されたアルキレン結合−(C
m H2m)−(m>0である)を有するもの。 ・Siに接合する遊離原子価以外の遊離原子価が任意の
基Z3 Rf及び(又は)アルキル、アルコキシ若しくは
ヒドロキシル置換基と結合する3価のシリル基によって
伸長されたアルキレン結合−(Cm H2m)−(m>0で
ある)を有するもの。 ・2価のアルキレン基を含有しない(h=0)がSiに
直接接合した基Wを有し、また少なくとも1個の基Rf
も有する結合を有するもの。
【0014】Rfによってペル弗素化されたこれらのグ
ラフトの全ては、化学的に安定であるという利点を有す
る。本発明に従うグラフトGfの他の主要な利点は、そ
れらが工業的な触媒、例えば、カルステッド触媒のよう
な白金を主体とした触媒によって得ることができるとい
うことである。これらが少量で使用されることの外に、
これらの触媒は、固有的に経済的なものであるので、本
発明に従う新規なペルハロゲン化(ペル弗素化)珪素化
合物のコストの削減に寄与する。このコストは全く低
い。なぜならば、本発明に従う結合の構造は迅速なヒド
ロシリル化速度、高い収率並びにSiH単位からSiG
f単位への高い転化率を与えるからである。好ましく
は、1価の基Rfは−Cq F2q−CF3 (ここで、qは
2〜20、好ましくは5〜12、特に好ましくは7〜1
0である。)に相当する。実際には、例えば、q=7、
8及び9であるRfの混合物を使用することが可能であ
る。
ラフトの全ては、化学的に安定であるという利点を有す
る。本発明に従うグラフトGfの他の主要な利点は、そ
れらが工業的な触媒、例えば、カルステッド触媒のよう
な白金を主体とした触媒によって得ることができるとい
うことである。これらが少量で使用されることの外に、
これらの触媒は、固有的に経済的なものであるので、本
発明に従う新規なペルハロゲン化(ペル弗素化)珪素化
合物のコストの削減に寄与する。このコストは全く低
い。なぜならば、本発明に従う結合の構造は迅速なヒド
ロシリル化速度、高い収率並びにSiH単位からSiG
f単位への高い転化率を与えるからである。好ましく
は、1価の基Rfは−Cq F2q−CF3 (ここで、qは
2〜20、好ましくは5〜12、特に好ましくは7〜1
0である。)に相当する。実際には、例えば、q=7、
8及び9であるRfの混合物を使用することが可能であ
る。
【0015】本発明の有益な条件の一つによれば、本発
明に関するペル弗素化ポリオルガノシロキサンは、1個
又はそれ以上のグラフトGf(ここで、h=0又は1で
あり、g=1であり、Z2 は置換又は非置換の飽和、不
飽和又は芳香族単環式又は多環式基(好ましくは、次式
明に関するペル弗素化ポリオルガノシロキサンは、1個
又はそれ以上のグラフトGf(ここで、h=0又は1で
あり、g=1であり、Z2 は置換又は非置換の飽和、不
飽和又は芳香族単環式又は多環式基(好ましくは、次式
【化66】 の環から選択される。)に相当する基Wを含むタイプの
ものである)を含む。
ものである)を含む。
【0016】従って、本発明のPOSの必須の特徴の一
つは、それらが異なったタイプであって、好ましくはシ
ロキシ単位Dにグラフト化された1個又はそれ以上の官
能基Eを有することであり、このような基Eは、例えば
下記の群から選択される。 ・エポキシ官能基E1 ;好ましくは次の基:3−グリシ
ドキシプロピル及び4−エタンジイル(1,2−エポキ
シシクロヘキシル)から選択される。 ・及び(又は)イソシアネート基E1 ;好ましくは次の
基:
つは、それらが異なったタイプであって、好ましくはシ
ロキシ単位Dにグラフト化された1個又はそれ以上の官
能基Eを有することであり、このような基Eは、例えば
下記の群から選択される。 ・エポキシ官能基E1 ;好ましくは次の基:3−グリシ
ドキシプロピル及び4−エタンジイル(1,2−エポキ
シシクロヘキシル)から選択される。 ・及び(又は)イソシアネート基E1 ;好ましくは次の
基:
【化67】 から選択される。 ・及び(又は)アミノ官能基E2 ;好ましくは ‐次の基: NH2 −(CH2 )2 −NH−(CH2 )3 −NH2 −
(CH2 )3 − から、又は ‐次式
(CH2 )3 − から、又は ‐次式
【化68】 (ここで、 ▽基R20は互いに同一であっても異なっていてもよく、
1〜3個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状アルキ
ル基、フェニル基及びベンジル基から選択され、 ▽R21は水素原子、1〜12個の炭素原子を有する線状
若しくは分岐状アルキル基、アルキルカルボニル基(ア
ルキル基は1〜8個の炭素原子を有する線状若しくは分
岐状の基である)、フェニル基、ベンジル基及び基Oか
ら選択され、 ▽tは0及び1から選択される数であり、 ▽好ましい基R20はメチルであり、基R21は水素原子又
はメチル基であり、tは有利には1に等しい数であ
る。)の環状炭化水素鎖(hals)の一部を形成する
第二又は第三アミン基から選択される。 ・及び(又は)ヒドロキシ−官能基;好ましくは次の
基:3−ヒドロキシプロピル及び3−(2−ヒドロキシ
エトキシ)プロピルから選択される。
1〜3個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状アルキ
ル基、フェニル基及びベンジル基から選択され、 ▽R21は水素原子、1〜12個の炭素原子を有する線状
若しくは分岐状アルキル基、アルキルカルボニル基(ア
ルキル基は1〜8個の炭素原子を有する線状若しくは分
岐状の基である)、フェニル基、ベンジル基及び基Oか
ら選択され、 ▽tは0及び1から選択される数であり、 ▽好ましい基R20はメチルであり、基R21は水素原子又
はメチル基であり、tは有利には1に等しい数であ
る。)の環状炭化水素鎖(hals)の一部を形成する
第二又は第三アミン基から選択される。 ・及び(又は)ヒドロキシ−官能基;好ましくは次の
基:3−ヒドロキシプロピル及び3−(2−ヒドロキシ
エトキシ)プロピルから選択される。
【0017】例えば、ペル弗素化されたグラフトGfと
異なったこれらの他の官能基E1 〜E13は、多種多様の
他の異なった基を持つペル弗素化シリコーンを構成する
可能性を提供する。このことは、それぞれのPOSを所
定の用途に特定的に適合させるという観点から特に有益
である。また、化学的反応性の点からは、グラフトE
は、ある場合には、特にタイプGfのペル弗素化側基の
先駆体になり得ることは明らかである。この場合に、基
Rfの接合のための支持体、換言すれば、Rf結合の可
能性ある先駆体(Rf予備結合手)、例えば無水物、カ
ルボニル、アルコール、イソシアネートなどが存在す
る。しかし、可能な置換基はペル弗素化された基に限定
されないことは当然である。また、グラフトGfに任意
の反応性基を結合(架橋)させることが考えられる。
異なったこれらの他の官能基E1 〜E13は、多種多様の
他の異なった基を持つペル弗素化シリコーンを構成する
可能性を提供する。このことは、それぞれのPOSを所
定の用途に特定的に適合させるという観点から特に有益
である。また、化学的反応性の点からは、グラフトE
は、ある場合には、特にタイプGfのペル弗素化側基の
先駆体になり得ることは明らかである。この場合に、基
Rfの接合のための支持体、換言すれば、Rf結合の可
能性ある先駆体(Rf予備結合手)、例えば無水物、カ
ルボニル、アルコール、イソシアネートなどが存在す
る。しかし、可能な置換基はペル弗素化された基に限定
されないことは当然である。また、グラフトGfに任意
の反応性基を結合(架橋)させることが考えられる。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の一つの好ましい具体例に
よれば、POSは線状であって、次式(I.1) :
よれば、POSは線状であって、次式(I.1) :
【化69】 [ここで、 ・Gfはh=g=1又はh=1及びg=0である前記し
た定義に相当し、 ・E=E1 〜E13であり、 ・R1 及びR2 は前記の通りであり、好ましくはメチ
ル、プロピル又はブチルであり、 ・c1+d1=3、好ましくはc1=2、d1=1であ
り、 ・c2+d2=3、好ましくはc2=2、d2=1であ
り、 ・1≦z≦90、好ましくは1≦z≦50であり、 ・1≦e≦100、好ましくは1≦e≦60であり、 ・0≦y1 ≦10、好ましくは0≦y1 ≦5であり、 ・0≦y≦50、好ましくは0≦y≦25である。] の平均式を有する。
た定義に相当し、 ・E=E1 〜E13であり、 ・R1 及びR2 は前記の通りであり、好ましくはメチ
ル、プロピル又はブチルであり、 ・c1+d1=3、好ましくはc1=2、d1=1であ
り、 ・c2+d2=3、好ましくはc2=2、d2=1であ
り、 ・1≦z≦90、好ましくは1≦z≦50であり、 ・1≦e≦100、好ましくは1≦e≦60であり、 ・0≦y1 ≦10、好ましくは0≦y1 ≦5であり、 ・0≦y≦50、好ましくは0≦y≦25である。] の平均式を有する。
【0019】さらに好ましくは、本発明に従うPOS
(I)は、次式(I.1.1):
(I)は、次式(I.1.1):
【化70】 [ここで、y、y1 、z、e、Gf及びEは前記の通り
であり、次の基:
であり、次の基:
【化71】 は同一であっても異なっていてもよく、H又はC1 〜C
6 −アルキルである。]のペル弗素化線状重合体であ
る。
6 −アルキルである。]のペル弗素化線状重合体であ
る。
【0020】本発明の一変形例によれば、POS(I)
は、次式(I.1.2 )
は、次式(I.1.2 )
【化72】 [ここで、 *Gfは前記の通りであり、 *R1 は同じ指数の同様の基と同一であっても異なって
いてもよく、前記のようなR1 であるか、又は前記のよ
うな官能基(E)、好ましくはエポキシ−官能基に相当
し、 *R2 は同じ指数の類似の基と同一であっても異なって
いてもよく、前記と同じように定義され、 *a1+b1=a2+b2=3であり、a1,a2=2
又は3、b1,b2=0又は1であり、0≦y≦10
0、好ましくは0≦y≦10であり、0≦p≦50、好
ましくは0≦p≦5である。]の短い重合体又はオリゴ
マーでさえあり、特に、 ・R1 =CH3 、b1=1及びb2=0であり、Gfが
いてもよく、前記のようなR1 であるか、又は前記のよ
うな官能基(E)、好ましくはエポキシ−官能基に相当
し、 *R2 は同じ指数の類似の基と同一であっても異なって
いてもよく、前記と同じように定義され、 *a1+b1=a2+b2=3であり、a1,a2=2
又は3、b1,b2=0又は1であり、0≦y≦10
0、好ましくは0≦y≦10であり、0≦p≦50、好
ましくは0≦p≦5である。]の短い重合体又はオリゴ
マーでさえあり、特に、 ・R1 =CH3 、b1=1及びb2=0であり、Gfが
【化73】 (ここで、R10及びR11は同一であっても異なっていて
もよく、OH、C1 〜C6 −アルコキシ又は前記のよう
なZ3 Rfであり、基R10及びR11の少なくとも一方は
Z3 Rfである。)であり、p=0、y=0又は1であ
る式を有するもの、並びに ・R1 =CH3 、b1=b2=0であり、Gfが
もよく、OH、C1 〜C6 −アルコキシ又は前記のよう
なZ3 Rfであり、基R10及びR11の少なくとも一方は
Z3 Rfである。)であり、p=0、y=0又は1であ
る式を有するもの、並びに ・R1 =CH3 、b1=b2=0であり、Gfが
【化74】 であり、y=0、p=1〜10、好ましくは1である式
を有するものが好ましい。
を有するものが好ましい。
【0021】下記のオリゴマーがこれらのPOS(I.1.
2 )の例である。
2 )の例である。
【化75】
【化76】
【0022】Gfは、有利には、 a.次式
【化77】 (ここで、m≧2、h=1、g=0、j=0及びk=1
である。)の基、 b.次式
である。)の基、 b.次式
【化78】 (ここで、 ‐h=1、m≧0、g=1、j=0又は1、k=1であ
り、 ‐R3 =H又はC1 〜C6 −アルキルであり、 ‐R4 及びR5 は互いに同一であっても異なっていても
よく、次式
り、 ‐R3 =H又はC1 〜C6 −アルキルであり、 ‐R4 及びR5 は互いに同一であっても異なっていても
よく、次式
【化79】 に相当し、 ‐R6 及びR7 は互いに同一であっても異なっていても
よく、Z3 −Rf(ここで、Z3 =−O−(CH2 )s
−であり、sは0〜10である。)であり、これらの二
つの基R6 及びR7 の少なくとも一つはZ3 Rfに相当
する。)の基、 c.次式
よく、Z3 −Rf(ここで、Z3 =−O−(CH2 )s
−であり、sは0〜10である。)であり、これらの二
つの基R6 及びR7 の少なくとも一つはZ3 Rfに相当
する。)の基、 c.次式
【化80】 (ここで、 ‐h=1、m≧0、g=1、j=0又は1、k=1及び
i=2〜10であり、 ‐R3 、R6 及びR7 は前記の通りである。) の基、 d.次式
i=2〜10であり、 ‐R3 、R6 及びR7 は前記の通りである。) の基、 d.次式
【化81】 (ここで、 ‐h=0又は1、m≧0、g=1、i=2〜10、j=
1及びk=1であり、 ‐R6 及びR7 は前記の通りである。) の基、 e.次式
1及びk=1であり、 ‐R6 及びR7 は前記の通りである。) の基、 e.次式
【化82】 (ここで、 ‐h=1、m≧0、g=1、i=2〜10、j=0又は
1及びk=1であり、 ‐R6 は前記の通りである。) の基、及び f.これらの基の混合物 のリストのうちから選択される。
1及びk=1であり、 ‐R6 は前記の通りである。) の基、及び f.これらの基の混合物 のリストのうちから選択される。
【0023】本発明に従えば、グラフトされるPOSに
付与することができる顕著な特性にとって特に好ましい
特定のグラフトGfのサブグループ(これは“二裂グラ
フト(bifid grafts)”と称する。)が考えられる。し
たがって、本発明は、さらに、(i)次式
付与することができる顕著な特性にとって特に好ましい
特定のグラフトGfのサブグループ(これは“二裂グラ
フト(bifid grafts)”と称する。)が考えられる。し
たがって、本発明は、さらに、(i)次式
【化83】 (ここで、 ・Ra 及びR9 は独立してH又は線状若しくは分岐状の
C1 〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 であり、 ・R10及びR11は独立してOH、線状若しくは分岐状の
C1 〜C6 −アルコキシ又はZ3 −Rfであり、基R10
及びR11の少なくとも一つは−Z3 Rfであり、 ・i=0〜10、好ましくは0〜3、特に好ましくは1
である。)の基、(ii)次式
C1 〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 であり、 ・R10及びR11は独立してOH、線状若しくは分岐状の
C1 〜C6 −アルコキシ又はZ3 −Rfであり、基R10
及びR11の少なくとも一つは−Z3 Rfであり、 ・i=0〜10、好ましくは0〜3、特に好ましくは1
である。)の基、(ii)次式
【化84】 (ここで、R9 、Ra 、R10、R11及びiは前記の通り
である。)の基、(iii) 次式
である。)の基、(iii) 次式
【化85】 (ここで、R9 、R10、R11及びiは前記の通りであ
る。ヘキシル環については置換されていてもよい。)の
基、又は(iv)これらの基の混合物のサブグループから選
択される少なくとも1種のペルハロゲン化−好ましくは
ペル弗素化−基Gfによって置換された少なくとも一つ
の種(I)及び(又は)(II)からなる前記のタイプの
POSに関する。
る。ヘキシル環については置換されていてもよい。)の
基、又は(iv)これらの基の混合物のサブグループから選
択される少なくとも1種のペルハロゲン化−好ましくは
ペル弗素化−基Gfによって置換された少なくとも一つ
の種(I)及び(又は)(II)からなる前記のタイプの
POSに関する。
【0024】この開示の段階では、しばらく、前記した
ような二裂グラフトGfを持つペルハロゲン化−ペル弗
素化−POSによって代表される本発明のPOS化合物
の特に重要な種について思いめぐらすことが適当であ
る。さらに詳しくいえば、ここで有益な二裂Gfは、二
つの裂片がそれぞれペルハロゲン化−ペル弗素化−基Z
3 Rfからなるものである。これらのビスペル弗素化二
裂グラフトGfは結晶性であって、特に、それらが置換
するPOSに一定の結晶化度を与える。これは、後者の
撥水性を最適化し、しかしてなかでも汚れ反撥性組成物
における非常に好適な物質にさせる。
ような二裂グラフトGfを持つペルハロゲン化−ペル弗
素化−POSによって代表される本発明のPOS化合物
の特に重要な種について思いめぐらすことが適当であ
る。さらに詳しくいえば、ここで有益な二裂Gfは、二
つの裂片がそれぞれペルハロゲン化−ペル弗素化−基Z
3 Rfからなるものである。これらのビスペル弗素化二
裂グラフトGfは結晶性であって、特に、それらが置換
するPOSに一定の結晶化度を与える。これは、後者の
撥水性を最適化し、しかしてなかでも汚れ反撥性組成物
における非常に好適な物質にさせる。
【0025】これらのビス弗素化二列グラフトGfは、
モノペル弗素化及び(又は)非ペル弗素化二列グラフト
Gfと特に関係させることができる。この種のPOS
は、 ・前記の式(i) 、(ii)又は(iii) の少なくとも1種のペ
ルハロゲン化−好ましくはペル弗素化−基Gfであって
その式中の基R10及びR11がZ3 Rfに相当し、好まし
くは次式:
モノペル弗素化及び(又は)非ペル弗素化二列グラフト
Gfと特に関係させることができる。この種のPOS
は、 ・前記の式(i) 、(ii)又は(iii) の少なくとも1種のペ
ルハロゲン化−好ましくはペル弗素化−基Gfであって
その式中の基R10及びR11がZ3 Rfに相当し、好まし
くは次式:
【化86】 の基に相当するもの、及び ・随意としての式(i) 、(ii)又は(iii) の少なくとも1
種のGf基であってそのR10又はR11の一方がZ3 Rf
であり且つ他方の基R10又はR11がZ3 Rfと異なって
いて、有利にはOH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C
6 −アルコキシに相当するものによって置換された少な
くとも一つの種(I)及び(又は)(II)からなる。
種のGf基であってそのR10又はR11の一方がZ3 Rf
であり且つ他方の基R10又はR11がZ3 Rfと異なって
いて、有利にはOH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C
6 −アルコキシに相当するものによって置換された少な
くとも一つの種(I)及び(又は)(II)からなる。
【0026】この合成中においては、当業者ならば、ビ
スペル弗素化及び(又は)モノペル弗素化及び(又は)
非ペル弗素化二裂グラフトGfによるこの種のPOSの
置換度を完全に制御することができるであろう。これら
の置換度をどう調節すべきかを決定するのはグラフト化
されたPOSの意図された用途である。この種の中で
は、アルキルマロニル結合(i)を有する二裂Gfが実
際には特に選択される。前記の二裂グラフトと同様に、
グラフトEも同じ構造上に構成することができる。その
結果、本発明に従うPOSのその他の有利な特徴は、そ
れらが前記のような基Gfの(i)、(ii)及び(iii)
にそれぞれ相当する基Eの(ic)、(iic)及び(iiic)
のサブグループから選択される少なくとも1種の基Eで
あって、その唯一の差異がR10及びR11が同一であって
も異なっていてもよく、OH及び線状若しくは分岐状の
C1 〜C6 −アルコキシのみに相当することだけである
基Eによって置換された少なくとも一つの種(I)及び
(又は)(II)からなることができる。これらの全ての
グラフトGf及びEは、それらが結合されるPOSに新
規性及び大きな工業的な価値を付与させるものである。
スペル弗素化及び(又は)モノペル弗素化及び(又は)
非ペル弗素化二裂グラフトGfによるこの種のPOSの
置換度を完全に制御することができるであろう。これら
の置換度をどう調節すべきかを決定するのはグラフト化
されたPOSの意図された用途である。この種の中で
は、アルキルマロニル結合(i)を有する二裂Gfが実
際には特に選択される。前記の二裂グラフトと同様に、
グラフトEも同じ構造上に構成することができる。その
結果、本発明に従うPOSのその他の有利な特徴は、そ
れらが前記のような基Gfの(i)、(ii)及び(iii)
にそれぞれ相当する基Eの(ic)、(iic)及び(iiic)
のサブグループから選択される少なくとも1種の基Eで
あって、その唯一の差異がR10及びR11が同一であって
も異なっていてもよく、OH及び線状若しくは分岐状の
C1 〜C6 −アルコキシのみに相当することだけである
基Eによって置換された少なくとも一つの種(I)及び
(又は)(II)からなることができる。これらの全ての
グラフトGf及びEは、それらが結合されるPOSに新
規性及び大きな工業的な価値を付与させるものである。
【0027】本発明に従うPOS並びにそれらのグラフ
トGf及びEに関して前記した詳細に基いて、本発明に
従う好ましいPOSは、例えば、ポリ(ジメチル,メチ
ルペルフルオルアルキル)シロキサン又はポリ(メチル
アルキル,メチルペルフルオルアルキル)シロキサン
(ここで、最初のアルキル基はプロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシルなどである。)であることがわかる。
トGf及びEに関して前記した詳細に基いて、本発明に
従う好ましいPOSは、例えば、ポリ(ジメチル,メチ
ルペルフルオルアルキル)シロキサン又はポリ(メチル
アルキル,メチルペルフルオルアルキル)シロキサン
(ここで、最初のアルキル基はプロピル、ブチル、ペン
チル、ヘキシルなどである。)であることがわかる。
【0028】平均式(I.1)、(I.1.1)及び(I.1.2)の
ある種の線状のペル弗素化POS化合物は、当然に平均
式(II.1)の相当する環状化合物を有する。しかし、こ
の場合に、z' +y'1+y' +e' の和は10以下、好
ましくは5である。本発明の随意であるがそれでも有益
な条件に従えば、POSは、1分子当たり、 ・少なくとも1個のシロキシ単位T及びまたシロキシ単
位T=−[R8 SiO3/ 2 ](ここで、R8 は前記のR
1 、R2 、Gf又はEと同様に定義される。) ・及び随意のシロキシ単位Q=[SiO4/2 ] を含有する。
ある種の線状のペル弗素化POS化合物は、当然に平均
式(II.1)の相当する環状化合物を有する。しかし、こ
の場合に、z' +y'1+y' +e' の和は10以下、好
ましくは5である。本発明の随意であるがそれでも有益
な条件に従えば、POSは、1分子当たり、 ・少なくとも1個のシロキシ単位T及びまたシロキシ単
位T=−[R8 SiO3/ 2 ](ここで、R8 は前記のR
1 、R2 、Gf又はEと同様に定義される。) ・及び随意のシロキシ単位Q=[SiO4/2 ] を含有する。
【0029】本発明に従う物質の官能特性に関しては、
前記した一官能性又は多官能性の弗素化ポリオルガノシ
ロキサンは、なかでも、顕著な表面張力低下性並びに疎
油性及び(又は)疎水性を有することを強調する必要が
ある。これらの性質は、弗素化POS中に存在するグラ
フト化された又はグラフト化されない単位Dの割合を制
御することによって調節することができる。これは、前
記の式によって示されるモル割合z、z' 、y1 、
y'1、y、y' 、e及びe' に相当する。
前記した一官能性又は多官能性の弗素化ポリオルガノシ
ロキサンは、なかでも、顕著な表面張力低下性並びに疎
油性及び(又は)疎水性を有することを強調する必要が
ある。これらの性質は、弗素化POS中に存在するグラ
フト化された又はグラフト化されない単位Dの割合を制
御することによって調節することができる。これは、前
記の式によって示されるモル割合z、z' 、y1 、
y'1、y、y' 、e及びe' に相当する。
【0030】さらに注目すべきことは、GfのZ1 にお
ける1又は2のm値が問題とする弗素化POSが良好な
熱安定性を有することを保証することである。この性質
は、特に、弗素化POSの潤滑剤としての用途に関して
有益となろう。また、弗素化POSが単位D又は場合に
よっては単位Tにアミノ官能基E4 を含む場合には、こ
のことが問題とするオイルの摩擦係数にはっきりとした
影響を及ぼさないわけではないことを認めたことは興味
がある。本発明の変形例の一つによれば、官能基Eは場
合により単位M又はTにより保持することができる。本
発明に従う弗素化POSは粘度が高く又は低いオイルの
形態をとることができるが、樹脂Q及び(又は)線状又
は環状のPOS鎖中に存在できる架橋性の官能基を介し
てPOS鎖の架橋から生じる樹脂の形態をとることがで
きる。
ける1又は2のm値が問題とする弗素化POSが良好な
熱安定性を有することを保証することである。この性質
は、特に、弗素化POSの潤滑剤としての用途に関して
有益となろう。また、弗素化POSが単位D又は場合に
よっては単位Tにアミノ官能基E4 を含む場合には、こ
のことが問題とするオイルの摩擦係数にはっきりとした
影響を及ぼさないわけではないことを認めたことは興味
がある。本発明の変形例の一つによれば、官能基Eは場
合により単位M又はTにより保持することができる。本
発明に従う弗素化POSは粘度が高く又は低いオイルの
形態をとることができるが、樹脂Q及び(又は)線状又
は環状のPOS鎖中に存在できる架橋性の官能基を介し
てPOS鎖の架橋から生じる樹脂の形態をとることがで
きる。
【0031】さらに、本発明は、 A)少なくとも1種のポリアルキルヒドロゲノシロキサ
ン−好ましくはポリメチルヒドロゲノシロキサン−オイ
ルと、 B)前記のGfの先駆体であり且つ式(Gfp): Z1pRf (ここで、 ・Z1p=Z1 のオレフィン先駆体であり、 ・Rfは前記の通りである。) を有する少なくとも1種の(ペル)ハロゲン化−好まし
くは(ペル)弗素化−オレフィン、 C)及び(又は)次式 Z1pZ2p (ここで、 ・Z1P=Z1 のオレフィン先駆体であり、 ・Z2P=Z2 のオレフィン先駆体である。) の少なくとも1種の(ペル)ハロゲン化−好ましくは
(ペル)弗素化−オレフィンを、 D)好ましくは白金を主体とする金属シリル化触媒の有
効量の存在下に、実質的に反応させ、しかも反応生成物
A+Cを随意に式Z3pRf(ここで、Z3pはZ3 の先駆
体であり、Rfは前記の通りである。)の反応体と接触
させてグラフトGf=−Z1Rf及び(又は)−Z1 Z2
Z3 Rfを得、 E)最後にEのオレフィン先駆体により形成される反応
体Ep (Ep はDの存在下にPOSの≡SiHによりヒ
ドロシリル化することができる。)と反応させることか
らなる環状又は線状の(ペル)ハロゲン化−好ましくは
(ペル)弗素化−POSの製造方法に関する。
ン−好ましくはポリメチルヒドロゲノシロキサン−オイ
ルと、 B)前記のGfの先駆体であり且つ式(Gfp): Z1pRf (ここで、 ・Z1p=Z1 のオレフィン先駆体であり、 ・Rfは前記の通りである。) を有する少なくとも1種の(ペル)ハロゲン化−好まし
くは(ペル)弗素化−オレフィン、 C)及び(又は)次式 Z1pZ2p (ここで、 ・Z1P=Z1 のオレフィン先駆体であり、 ・Z2P=Z2 のオレフィン先駆体である。) の少なくとも1種の(ペル)ハロゲン化−好ましくは
(ペル)弗素化−オレフィンを、 D)好ましくは白金を主体とする金属シリル化触媒の有
効量の存在下に、実質的に反応させ、しかも反応生成物
A+Cを随意に式Z3pRf(ここで、Z3pはZ3 の先駆
体であり、Rfは前記の通りである。)の反応体と接触
させてグラフトGf=−Z1Rf及び(又は)−Z1 Z2
Z3 Rfを得、 E)最後にEのオレフィン先駆体により形成される反応
体Ep (Ep はDの存在下にPOSの≡SiHによりヒ
ドロシリル化することができる。)と反応させることか
らなる環状又は線状の(ペル)ハロゲン化−好ましくは
(ペル)弗素化−POSの製造方法に関する。
【0032】最終POS中に存在する基の先駆体基は、
既に示した下付きに従って下付の“p”によって見分け
られる。一つの変形例によれば、先駆体Ep はZ1pZ2p
(ここで、Z1P=Z1 のオレフィン先駆体であり、Z2P
=Z2 のオレフィン先駆体である。Z1 、Z2 、Z1p及
びZ2pはGf中に存在し且つ前記したそれらの対応物と
同一であっても異なっていてもよい。)型のものであ
る。本発明のこの実施態様においては、POS上にグラ
フト化された基−Z1 Z2pは、グラフト−Z1 Z2 Eを
生成するように、少なくとも1個の官能性基Eを有する
基を持つ少なくとも1種の反応性化合物と接触される。
既に示した下付きに従って下付の“p”によって見分け
られる。一つの変形例によれば、先駆体Ep はZ1pZ2p
(ここで、Z1P=Z1 のオレフィン先駆体であり、Z2P
=Z2 のオレフィン先駆体である。Z1 、Z2 、Z1p及
びZ2pはGf中に存在し且つ前記したそれらの対応物と
同一であっても異なっていてもよい。)型のものであ
る。本発明のこの実施態様においては、POS上にグラ
フト化された基−Z1 Z2pは、グラフト−Z1 Z2 Eを
生成するように、少なくとも1個の官能性基Eを有する
基を持つ少なくとも1種の反応性化合物と接触される。
【0033】無水物型のZ2pが関係する場合には、遊離
のカルボキシル末端を生じさせるように、これらの無水
物基の少なくとも幾分かを加水分解させ、次いでこのカ
ルボキシル基の少なくとも幾分かをZ3p−Rf(ここ
で、Z3pは前記のようなZ3 の水素化先駆体であり、R
fは前記の通りである。)型の反応体によりエステル化
することを意図することが可能である。残留する遊離の
カルボキシル末端はグラフトEの一部を形成する。反応
体Z3p−Rfの代わりに又はこれに加えて、少なくとも
1種の官能性基Eを有する基を持つ少なくとも1種の反
応性化合物を使用することも可能である。
のカルボキシル末端を生じさせるように、これらの無水
物基の少なくとも幾分かを加水分解させ、次いでこのカ
ルボキシル基の少なくとも幾分かをZ3p−Rf(ここ
で、Z3pは前記のようなZ3 の水素化先駆体であり、R
fは前記の通りである。)型の反応体によりエステル化
することを意図することが可能である。残留する遊離の
カルボキシル末端はグラフトEの一部を形成する。反応
体Z3p−Rfの代わりに又はこれに加えて、少なくとも
1種の官能性基Eを有する基を持つ少なくとも1種の反
応性化合物を使用することも可能である。
【0034】また、他の変形例においては、その操作は
グローバルなオレフィン先駆体基Gfp 及び(又は)E
p を予め構成し、次いでPOS上に結合させることであ
る。換言すれば、この変法は、 A)少なくとも1種のポリアルキルヒドロゲノシロキサ
ン−好ましくはポリメチルヒドロゲノシロキサン−オイ
ルと、 F)Gfの先駆体であり且つ次式(Gfp ):
グローバルなオレフィン先駆体基Gfp 及び(又は)E
p を予め構成し、次いでPOS上に結合させることであ
る。換言すれば、この変法は、 A)少なくとも1種のポリアルキルヒドロゲノシロキサ
ン−好ましくはポリメチルヒドロゲノシロキサン−オイ
ルと、 F)Gfの先駆体であり且つ次式(Gfp ):
【化87】 (ここで、 ・Z1pは前記のような基Z1 のオレフィン先駆体であ
り、 ・Z2 、Z3 、Rf、h、g、j及びkは前記の通りで
あり、 ・ただし、h=0であるならば、g=1であり且つZ2
はオレフィン先駆体Z2pとなる。) を有する少なくとも1種のハロゲン化−好ましくは(ペ
ル)弗素化−オレフィン、 G)及び(又は)Eの少なくとも1種のオレフィン先駆
体Ep を、 D)好ましくは白金を主体とする金属ヒドロシリル化触
媒の有効量の存在下に、反応させる ことから本質的になる。
り、 ・Z2 、Z3 、Rf、h、g、j及びkは前記の通りで
あり、 ・ただし、h=0であるならば、g=1であり且つZ2
はオレフィン先駆体Z2pとなる。) を有する少なくとも1種のハロゲン化−好ましくは(ペ
ル)弗素化−オレフィン、 G)及び(又は)Eの少なくとも1種のオレフィン先駆
体Ep を、 D)好ましくは白金を主体とする金属ヒドロシリル化触
媒の有効量の存在下に、反応させる ことから本質的になる。
【0035】グラフトGfの先駆体Gfp は、好ましく
は、 (ip):次式
は、 (ip):次式
【化88】 (ここで、Ra 及びR9 は独立してH又は線状若しく分
岐状のC1 〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 で
あり、R10及びR11は独立してOH、線状若しく分岐状
のC1 〜C6 −アルコキシ又はZ3 Rfであり、iは0
〜10、好ましくは0〜3、さらに好ましくは1であ
る。)の基、 (iip) :次式
岐状のC1 〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 で
あり、R10及びR11は独立してOH、線状若しく分岐状
のC1 〜C6 −アルコキシ又はZ3 Rfであり、iは0
〜10、好ましくは0〜3、さらに好ましくは1であ
る。)の基、 (iip) :次式
【化89】 (ここで、R9 、Ra 、R10、R11及びiは前記の通り
である。)の基、及び (iiip):次式
である。)の基、及び (iiip):次式
【化90】 (ここで、R9 、R10、R11及びiは前記の通りであ
る。ヘキシル環は置換されていてもよい。)の基の一つ
を有する。
る。ヘキシル環は置換されていてもよい。)の基の一つ
を有する。
【0036】二裂グラフトGfのオレフィン先駆体Gf
p は、1個又は2個のペル弗素化基R10及びR11(R10
及び(又は)R11=Z3 Rf)を有し、しかも ・水素化された基Z3 Rf即ちH−Z3 Rfからなる少
なくとも1種のアルコール、即ち次式
p は、1個又は2個のペル弗素化基R10及びR11(R10
及び(又は)R11=Z3 Rf)を有し、しかも ・水素化された基Z3 Rf即ちH−Z3 Rfからなる少
なくとも1種のアルコール、即ち次式
【化91】 (ここで、Rfは前記の通りである。)のアルコール
を、 ・前記のような、基R10及びR11の少なくとも一方が線
状又は分岐状のC1 〜C6 −アルコキシである式(ip)、
(iip) 又は(iiip)の化合物によりなる出発物質と、エス
テル交換機構に従って反応させることによって得られ
る。二裂グラフトEのオレフィン先駆体Ep に関する限
りでは、これらのそれぞれはGfp について前記した式
(ip)、(iip) 及び(iiip)にそれぞれ相当する式(icp) 、
(iicp)及び(iiicp) の少なくとも1種を好ましくは有
し、その相違はR10及びR11が同一であっても異なって
いてもよく、OH又は線状若しくは分岐状C1〜C6 −
アルコキシのみに相当することだけである。
を、 ・前記のような、基R10及びR11の少なくとも一方が線
状又は分岐状のC1 〜C6 −アルコキシである式(ip)、
(iip) 又は(iiip)の化合物によりなる出発物質と、エス
テル交換機構に従って反応させることによって得られ
る。二裂グラフトEのオレフィン先駆体Ep に関する限
りでは、これらのそれぞれはGfp について前記した式
(ip)、(iip) 及び(iiip)にそれぞれ相当する式(icp) 、
(iicp)及び(iiicp) の少なくとも1種を好ましくは有
し、その相違はR10及びR11が同一であっても異なって
いてもよく、OH又は線状若しくは分岐状C1〜C6 −
アルコキシのみに相当することだけである。
【0037】さらに、本発明は、新規なシンソン(前記
の製造法の反応中間体)であって、それぞれが (ip):次式
の製造法の反応中間体)であって、それぞれが (ip):次式
【化92】 (ここで、Ra 及びR9 は独立してH又は線状若しく分
岐状の低級C1 〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH
3 であり、R10及びR11の少なくとも一つは線状又は分
岐状の低級C1 〜C6 −アルコキシであって、メトキ
シ、エトキシ及びプロポキシが好ましい。)の基、 (iip) :次式
岐状の低級C1 〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH
3 であり、R10及びR11の少なくとも一つは線状又は分
岐状の低級C1 〜C6 −アルコキシであって、メトキ
シ、エトキシ及びプロポキシが好ましい。)の基、 (iip) :次式
【化93】 (ここで、R9 、Ra 、R10、R11及びiは前記の通り
である。)の基、及び (iiip):次式
である。)の基、及び (iiip):次式
【化94】 (ここで、R9 、R10、R11及びiは前記の通りであ
る。ヘキシル環は置換されていてもよい。)の基の一つ
を有するシンソンに関する。
る。ヘキシル環は置換されていてもよい。)の基の一つ
を有するシンソンに関する。
【0038】このタイプのペル弗素化又は非ペル弗素化
不飽和化合物(Z1p、Z2p、Rfp及びEp )の使用に
よって生じる主な利点の一つは、Ni、Pd又はPtを
主体とした、好ましくはPtを主体とした化合物から選
択される工業用触媒の使用が可能であることにある。こ
の触媒は、例えば、ヒドロシリル化前の問題とするPO
S化合物(Si−Hオイル)に関して10〜50ppm
程度の少量で有利に使用されるカルステッド触媒であっ
てよい。本発明に従う方法によって決定される方法論
は、特に簡単である。ヒドロシリル化の速度は速い。収
率及びSiHの転化率は特に高い。従って、この方法は
効率的で且つ経済的である。
不飽和化合物(Z1p、Z2p、Rfp及びEp )の使用に
よって生じる主な利点の一つは、Ni、Pd又はPtを
主体とした、好ましくはPtを主体とした化合物から選
択される工業用触媒の使用が可能であることにある。こ
の触媒は、例えば、ヒドロシリル化前の問題とするPO
S化合物(Si−Hオイル)に関して10〜50ppm
程度の少量で有利に使用されるカルステッド触媒であっ
てよい。本発明に従う方法によって決定される方法論
は、特に簡単である。ヒドロシリル化の速度は速い。収
率及びSiHの転化率は特に高い。従って、この方法は
効率的で且つ経済的である。
【0039】本発明の好ましい態様によれば、≡SiH
単位を含有するPOSは、1種又は2種以上のハロゲン
化オレフィンGfp 及びグラフトEのオレフィン先駆体
Epとと徐々に接触される。触媒は反応媒体のこれらの
三つの成分POS、Gfp 及びEp の一つ又はそれ以上
に含有される。実際には、ヒドロシリル化は、種々のオ
レフィン反応体が存在するほど多くの工程で行われる。
反応媒体が撹拌され、50〜150℃の間の温度に加熱
される。反応は、大気圧下に、一般的には数時間行われ
る。SiH単位の転化率は数で99%以上である。
単位を含有するPOSは、1種又は2種以上のハロゲン
化オレフィンGfp 及びグラフトEのオレフィン先駆体
Epとと徐々に接触される。触媒は反応媒体のこれらの
三つの成分POS、Gfp 及びEp の一つ又はそれ以上
に含有される。実際には、ヒドロシリル化は、種々のオ
レフィン反応体が存在するほど多くの工程で行われる。
反応媒体が撹拌され、50〜150℃の間の温度に加熱
される。反応は、大気圧下に、一般的には数時間行われ
る。SiH単位の転化率は数で99%以上である。
【0040】前記し且つ本発明に従うPOSの珪素によ
って支持することができるその他の官能基Eに関して
は、それらは、Rfによってペル弗素化されたアルキレ
ン基のグラフト化の前に、その間に又はその後にグラフ
ト化することができる。本発明に従う方法のための出発
物質として使用できるPOSの例としては、下記のもの
を挙げることができる。*線状POS、例えばポリメチ
ルヒドロゲノシロキサン、特に次式 Me3 SiO(SiMeHO)s SiMe3 (ここで、s=10〜100、好ましくは50であ
る。) Me3 SiO(SiMeHO)s1(SiMe2 O)s2S
iMe3 (ここで、s1 =10〜100、s2 =0〜50であ
る。) *環状POS、例えばテトラメチルテトラシクロシロキ
サンD' 4 本発明の方法を使用することによってペルハロゲン化−
好ましくは−ペル弗素化できるPOSの例として下記の
ものが挙げられる。 Me3 SiO(SiMe2 O)8 (SiHMeO)4 −
SiMe3 Me3 SiO(SiMeHO)50−SiMe3
って支持することができるその他の官能基Eに関して
は、それらは、Rfによってペル弗素化されたアルキレ
ン基のグラフト化の前に、その間に又はその後にグラフ
ト化することができる。本発明に従う方法のための出発
物質として使用できるPOSの例としては、下記のもの
を挙げることができる。*線状POS、例えばポリメチ
ルヒドロゲノシロキサン、特に次式 Me3 SiO(SiMeHO)s SiMe3 (ここで、s=10〜100、好ましくは50であ
る。) Me3 SiO(SiMeHO)s1(SiMe2 O)s2S
iMe3 (ここで、s1 =10〜100、s2 =0〜50であ
る。) *環状POS、例えばテトラメチルテトラシクロシロキ
サンD' 4 本発明の方法を使用することによってペルハロゲン化−
好ましくは−ペル弗素化できるPOSの例として下記の
ものが挙げられる。 Me3 SiO(SiMe2 O)8 (SiHMeO)4 −
SiMe3 Me3 SiO(SiMeHO)50−SiMe3
【0041】グラフトRf及びEにより置換された少な
くとも二官能性のPOS(I)又は(II)は、オイルの
形態をとることができることを既に述べた。好ましい態
様によれば、このPOSは水により乳化することができ
る。従って、本発明は、さらに、 ・前記した又は前記したような方法により得られた少な
くとも1種のPOS、 ・水、及び ・少なくとも1種の界面活性剤 を含有する水性エマルジョンに関する。従って、本発明
のオイルは適用のための溶媒を添加することなく乳化さ
せることができる。さらに、疎油性及び疎水性について
の性能特性は、選定された界面活性剤の添加により向上
させることができる。本発明に従うフルオロシリコーン
は、アクリレート骨格を有する周知のフルオロポリマー
と組合せることができ、この後者の合成法は当然にエマ
ルジョンを導く。本発明の弗素化POSに加えて、スチ
レン/無水マレイン酸共重合体の塩のようなイオン性の
その他の化合物も使用することができる。
くとも二官能性のPOS(I)又は(II)は、オイルの
形態をとることができることを既に述べた。好ましい態
様によれば、このPOSは水により乳化することができ
る。従って、本発明は、さらに、 ・前記した又は前記したような方法により得られた少な
くとも1種のPOS、 ・水、及び ・少なくとも1種の界面活性剤 を含有する水性エマルジョンに関する。従って、本発明
のオイルは適用のための溶媒を添加することなく乳化さ
せることができる。さらに、疎油性及び疎水性について
の性能特性は、選定された界面活性剤の添加により向上
させることができる。本発明に従うフルオロシリコーン
は、アクリレート骨格を有する周知のフルオロポリマー
と組合せることができ、この後者の合成法は当然にエマ
ルジョンを導く。本発明の弗素化POSに加えて、スチ
レン/無水マレイン酸共重合体の塩のようなイオン性の
その他の化合物も使用することができる。
【0042】弗素化POSが塩形成性の特定の基Eを含
む場合には、これが塩基による部分的な又は完全な塩形
成(COOH基の)による或いはアミン基の第四級化に
よる乳化を確実にさせる。エマルジョンを処方する必要
があるその他の場合には、まず物質を溶解させるために
各種の溶媒(アルコール、ケトン、弗素化溶媒、酢酸エ
チルなど)が使用される。乳化に使用される界面活性剤
は、高い親水性/疎水性バランスを有するイオン性又は
非イオン性のものである。一般的には、下記の化合物:
エトキシル化脂肪族アルコール、エトキシル化アルキル
フェノール、エトキシル化アルキルアミン塩、エトキシ
ル化ポリアルコール、アルキルアンモニウム等から選択
される。
む場合には、これが塩基による部分的な又は完全な塩形
成(COOH基の)による或いはアミン基の第四級化に
よる乳化を確実にさせる。エマルジョンを処方する必要
があるその他の場合には、まず物質を溶解させるために
各種の溶媒(アルコール、ケトン、弗素化溶媒、酢酸エ
チルなど)が使用される。乳化に使用される界面活性剤
は、高い親水性/疎水性バランスを有するイオン性又は
非イオン性のものである。一般的には、下記の化合物:
エトキシル化脂肪族アルコール、エトキシル化アルキル
フェノール、エトキシル化アルキルアミン塩、エトキシ
ル化ポリアルコール、アルキルアンモニウム等から選択
される。
【0043】さらに、本発明の他の特色によれば、本発
明は、前記したようなペルハロゲン化(ペル弗素化)シ
リコーン化合物又は前記したペルハロゲン化方法によっ
て得られたシリコーン化合物の、 ・潤滑剤、 ・表面張力低下剤、 ・汚れ反撥剤、 ・粘着防止剤、 ・消泡剤、 ・疎油性及び(又は)疎水性剤、 ・耐薬品及び耐溶剤性のエラストマーの製造用原料、並
びに ・上記の性質の少なくとも一つを有するフィルム及び
(又は)被覆の製造用原料としての用途に関する。
明は、前記したようなペルハロゲン化(ペル弗素化)シ
リコーン化合物又は前記したペルハロゲン化方法によっ
て得られたシリコーン化合物の、 ・潤滑剤、 ・表面張力低下剤、 ・汚れ反撥剤、 ・粘着防止剤、 ・消泡剤、 ・疎油性及び(又は)疎水性剤、 ・耐薬品及び耐溶剤性のエラストマーの製造用原料、並
びに ・上記の性質の少なくとも一つを有するフィルム及び
(又は)被覆の製造用原料としての用途に関する。
【0044】ペル弗素化(モノ−であるが、特にビス−
ペル弗素化)二裂グラフトGfの特定の性質に関して、
本発明は、さらに、 ・前記のような又は前記のような方法によって得られた
少なくとも1種のPOS、 ・及び(又は)前記のような少なくとも1種のエマルジ
ョンを含む汚れ反撥性組成物であって、 ・使用するPOSが好ましくは、 *前記のようなペルハロゲン化−ペル弗素化−基により
二官能化された二裂グラフトGf、 *前記のようなビス−又はモノ−ペルハロゲン化−ペル
弗素化−基以外の基により官能化されたその他のグラフ
トE、及び *やはり前記のようなペルハロゲン化−ペル弗素化−基
によって一官能化された随意としての二裂グラフトGf
を有するものであることを特徴とする汚れ反撥性組成物
に関する。
ペル弗素化)二裂グラフトGfの特定の性質に関して、
本発明は、さらに、 ・前記のような又は前記のような方法によって得られた
少なくとも1種のPOS、 ・及び(又は)前記のような少なくとも1種のエマルジ
ョンを含む汚れ反撥性組成物であって、 ・使用するPOSが好ましくは、 *前記のようなペルハロゲン化−ペル弗素化−基により
二官能化された二裂グラフトGf、 *前記のようなビス−又はモノ−ペルハロゲン化−ペル
弗素化−基以外の基により官能化されたその他のグラフ
トE、及び *やはり前記のようなペルハロゲン化−ペル弗素化−基
によって一官能化された随意としての二裂グラフトGf
を有するものであることを特徴とする汚れ反撥性組成物
に関する。
【0045】例示すれば、繊維における汚れ反撥剤とし
て適用できるペル弗素化POSは、例えば、Eが次式
て適用できるペル弗素化POSは、例えば、Eが次式
【化95】 であるものを示すことができる。また、紙又はその他の
基材(特に、石も含めて(書き傷防止剤))への粘着又
は付着防止剤として使用できるペル弗素化POSは、例
えば、Eが次式
基材(特に、石も含めて(書き傷防止剤))への粘着又
は付着防止剤として使用できるペル弗素化POSは、例
えば、Eが次式
【化96】 であるものである。
【0046】
【実施例】例I :二つのタイプの結合Gf:Gf1 =アルキレン及
びGf2 =アルキルカルボニルを含む単位Rfによりペ
ル弗素化され且つグラフトEも含有するシリコーンオイ
ルの合成 I.1. 合成 この合成は、2工程 ‐工程1‐ペル弗素化単位Gf1 及び酸無水物単位Eに
よりグラフト化されたPOSオイルの製造 ‐工程2‐工程1のオイル中の無水物基のエステル化 で行う。 工程1 90.8mlの乾燥トルエン(モレキュラーシーブで乾
燥)を中心機械的撹拌機、温度計、垂直バルブ凝縮器及
び隔膜を備えた四口の250mlの反応器に導入する。
媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、90℃の温度に
加熱する。次いで、11重量%の白金とジビニルテトラ
メチルジシロキサン配位子を含有する4.8μlの白金
錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(カルス
テッド触媒)を隔膜を通して導入する。次いで、17.
21g(0.273モルのSi−H基)の次の構造式 (CH3)3 SiO−(SiOCH3 H)50−Si(CH
3)3 のポリメチルヒドロゲノシロキサンオイル(100gの
オイル当たり1585meqのSi−Hを含有)(ロド
ルシルH68R 、ローヌプーラン社)及び50.1gの
(0.139モル)の3−ペルフルオルヘキシル−1−
プロペンを徐々に且つ同時に90分間にわたり流入す
る。反応を開始させてから24時間後に、Si−H基の
転化率は44%(最大は50%である。)にすがんかっ
たので、さらに3.2μlの同じカルステッド白金溶液
を添加した。この追加をして2時間30分後に、Si−
H基の転化率は49.5%であった。次いで25.13
g(0.179モル)のアリルこはく酸無水物を90分
間にわたり流入させる。次いで、2×3.2μlの同じ
カルステッド白金溶液を別々に添加する(最初の導入開
始から43時間後及び50時間後)。最初の導入開始か
ら72時間後に、Si−H基の転化率は99%であっ
た。次いで、真空下(0.01mbar)に120℃ま
で加熱するこによってデボラチリゼーションを行って溶
媒及び過剰の反応体を除去した。これにより86.8g
の次の構造式
びGf2 =アルキルカルボニルを含む単位Rfによりペ
ル弗素化され且つグラフトEも含有するシリコーンオイ
ルの合成 I.1. 合成 この合成は、2工程 ‐工程1‐ペル弗素化単位Gf1 及び酸無水物単位Eに
よりグラフト化されたPOSオイルの製造 ‐工程2‐工程1のオイル中の無水物基のエステル化 で行う。 工程1 90.8mlの乾燥トルエン(モレキュラーシーブで乾
燥)を中心機械的撹拌機、温度計、垂直バルブ凝縮器及
び隔膜を備えた四口の250mlの反応器に導入する。
媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、90℃の温度に
加熱する。次いで、11重量%の白金とジビニルテトラ
メチルジシロキサン配位子を含有する4.8μlの白金
錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(カルス
テッド触媒)を隔膜を通して導入する。次いで、17.
21g(0.273モルのSi−H基)の次の構造式 (CH3)3 SiO−(SiOCH3 H)50−Si(CH
3)3 のポリメチルヒドロゲノシロキサンオイル(100gの
オイル当たり1585meqのSi−Hを含有)(ロド
ルシルH68R 、ローヌプーラン社)及び50.1gの
(0.139モル)の3−ペルフルオルヘキシル−1−
プロペンを徐々に且つ同時に90分間にわたり流入す
る。反応を開始させてから24時間後に、Si−H基の
転化率は44%(最大は50%である。)にすがんかっ
たので、さらに3.2μlの同じカルステッド白金溶液
を添加した。この追加をして2時間30分後に、Si−
H基の転化率は49.5%であった。次いで25.13
g(0.179モル)のアリルこはく酸無水物を90分
間にわたり流入させる。次いで、2×3.2μlの同じ
カルステッド白金溶液を別々に添加する(最初の導入開
始から43時間後及び50時間後)。最初の導入開始か
ら72時間後に、Si−H基の転化率は99%であっ
た。次いで、真空下(0.01mbar)に120℃ま
で加熱するこによってデボラチリゼーションを行って溶
媒及び過剰の反応体を除去した。これにより86.8g
の次の構造式
【化97】 のオイルが得られた。 工程2 工程1に記載され、部分的に加水分解され且つ次の構造
式
式
【化98】 を有する7.03gのオイル、5.24g(0.011
3モル)の1−ペルフルオルオクチル−2−ヒドロキシ
エタン及び12.6gの1,1,2−トリフルオルトリ
クロルエタンを中心機械的撹拌機、温度計、垂直バルブ
凝縮器及び隔膜を備えた四口の50mlの反応器に導入
する。媒体を撹拌し、窒素を不活性にし、次いで0.1
5gのピリジンを隔膜を通して導入し、媒体の温度を5
0℃に上昇させる。8時間後に、真空下に110℃まで
加熱することによってデボラチリゼーションを行って溶
媒及び過剰の未反応アルコールを除去した。これにより
10.35gの次の構造式
3モル)の1−ペルフルオルオクチル−2−ヒドロキシ
エタン及び12.6gの1,1,2−トリフルオルトリ
クロルエタンを中心機械的撹拌機、温度計、垂直バルブ
凝縮器及び隔膜を備えた四口の50mlの反応器に導入
する。媒体を撹拌し、窒素を不活性にし、次いで0.1
5gのピリジンを隔膜を通して導入し、媒体の温度を5
0℃に上昇させる。8時間後に、真空下に110℃まで
加熱することによってデボラチリゼーションを行って溶
媒及び過剰の未反応アルコールを除去した。これにより
10.35gの次の構造式
【化99】 のオイルが得られた。このオイルの赤外スペクトルは、
無水物基が完全に消失したことを示した(1780及び
1860cm-1の吸収帯はもはやない。)。NMR分析
はこの官能化されたシリコーンオイルの構造を確認し
た。
無水物基が完全に消失したことを示した(1780及び
1860cm-1の吸収帯はもはやない。)。NMR分析
はこの官能化されたシリコーンオイルの構造を確認し
た。
【0047】I.2. 上記のI.1. で得られた二官能性P
OSオイルの適用耐脂性 例I.1. のオイルの耐脂性をAATCC(アメリカ繊維
科学者及び色剤者協会)試験法No.118−1983
に従ってこのオイルで処理したポリアミド−6(PA
6)マット上で評価する。この試験は、処理したマット
上に極性を低下させる標準液体の液滴(多くとも8個)
を付着させ、液滴がマットに浸透する前に表面上に留ま
っている時間(ここではtで表わす。)を測定すること
からなる。各液体は相当する数を有し、しかしてペル弗
素化オイルはマットの表面上に少なくとも30秒間留ま
っている最高の数の液体に相当する等級が割り当てられ
る。マットの処理 オイルKP307を1,1,2−トリフルオルトリクロ
ルエタンの溶液からポリアミド−6マット上に異なった
量で付着させ、まずマットをオーブンに30℃で14時
間置き、次いでオーブンに80℃で6分間及び140℃
で4分間置く。
OSオイルの適用耐脂性 例I.1. のオイルの耐脂性をAATCC(アメリカ繊維
科学者及び色剤者協会)試験法No.118−1983
に従ってこのオイルで処理したポリアミド−6(PA
6)マット上で評価する。この試験は、処理したマット
上に極性を低下させる標準液体の液滴(多くとも8個)
を付着させ、液滴がマットに浸透する前に表面上に留ま
っている時間(ここではtで表わす。)を測定すること
からなる。各液体は相当する数を有し、しかしてペル弗
素化オイルはマットの表面上に少なくとも30秒間留ま
っている最高の数の液体に相当する等級が割り当てられ
る。マットの処理 オイルKP307を1,1,2−トリフルオルトリクロ
ルエタンの溶液からポリアミド−6マット上に異なった
量で付着させ、まずマットをオーブンに30℃で14時
間置き、次いでオーブンに80℃で6分間及び140℃
で4分間置く。
【0048】結果 得られた結果を下記の表1に示す。
【表1】 使用した等級付け用標準液体の組成は次の通りである。 液体1:ヌジョール(液体パラフィン)。 液体2:ヌジョール/n−ヘキサデカン、容量で65/
35、21℃。 液体3:n−ヘキサデカン。 液体4:n−テトラデカン。 液体5:n−ドデカン。 しかして、例I.1. のオイルは、700ppmの弗素で
2、1400及び4200ppmの弗素で3、280
0、5600及び7000ppmの弗素で4の相当等級
を有する。
35、21℃。 液体3:n−ヘキサデカン。 液体4:n−テトラデカン。 液体5:n−ドデカン。 しかして、例I.1. のオイルは、700ppmの弗素で
2、1400及び4200ppmの弗素で3、280
0、5600及び7000ppmの弗素で4の相当等級
を有する。
【0049】例II:Gf1 及びE1 γeを含有する二官
能性ペル弗素化シリコーンオイルの合成 262.5gのペルフルオルヘキシル−1−イソペンテ
ンと−2−イソペンテンとの混合物(C6 F13CH2 C
H2 C(CH3)=CH2 とC6 F13CH2 CH=C(C
H3)2 とのそれぞれ20%及び80%の割合、即ち、そ
れぞれ0.135及び0.541モル)及び下記の特徴 *Mn=3160g、 *100g当たり1.585eqのSi−H、 *次の平均構造式
能性ペル弗素化シリコーンオイルの合成 262.5gのペルフルオルヘキシル−1−イソペンテ
ンと−2−イソペンテンとの混合物(C6 F13CH2 C
H2 C(CH3)=CH2 とC6 F13CH2 CH=C(C
H3)2 とのそれぞれ20%及び80%の割合、即ち、そ
れぞれ0.135及び0.541モル)及び下記の特徴 *Mn=3160g、 *100g当たり1.585eqのSi−H、 *次の平均構造式
【化100】 を有する7.75gのポリメチルヒドロゲノシロキサン
(即ち、0.122モルのSi−H基)を中心機械的撹
拌機、温度計、垂直バルブ凝縮器及び隔膜を備えた四口
の1000mlの反応器に導入する。媒体を撹拌し、窒
素により不活性にし、100℃の温度に加熱する。次い
で、11.9重量%の白金とジビニルテトラメチルジシ
ロキサン配位子を含有する13μl(即ち、100pp
m/Si−Hオイルの総重量)の白金錯体のジビニルテ
トラメチルジシロキサン溶液(カルステッド触媒)を隔
膜を通して導入する。30分後に、導入Si−Hの転化
率が79%になったときに、262.5gのペルフルオ
ルヘキシル−1−イソペンテンと−2−イソペンテンと
の混合物(C6F13CH2 CH2 C(CH3)=CH2 と
C6 F13CH2 CH=C(CH3)2 とのそれぞれ20%
及び80%の割合、即ち、それぞれ0.135及び0.
541モル)及び7.75gの同じポリメチルヒドロゲ
ノシロキサン(即ち、0.122モルのSi−H基)を
同時に80分間で流入させる。反応を開始して3時間1
5分後に、全導入Si−Hの転化率が76%になったと
きに、13μlのカルステッド触媒を導入する。反応を
開始して22時間後に、全導入Si−Hの転化率が8
8.6%になったときに、7g(即ち、0.056モル
即ち2eq/残留Si−H)のビニルシクロヘキセン及
び6.5μlのカルステッド触媒を隔膜を通して導入す
る。これらの最後の添加を行って12時間後に、Si−
H基の転化率は99.9%であった。真空下に(1mm
Hgで110℃で2時間)デボラチリゼーションを行っ
てペルフルオルヘキシル−2−イソペンテン並びに過剰
のペルフルオルヘキシル−1−イソペンテン及びビニル
シクロヘキセンを除去した。これにより90gの次の構
造式
(即ち、0.122モルのSi−H基)を中心機械的撹
拌機、温度計、垂直バルブ凝縮器及び隔膜を備えた四口
の1000mlの反応器に導入する。媒体を撹拌し、窒
素により不活性にし、100℃の温度に加熱する。次い
で、11.9重量%の白金とジビニルテトラメチルジシ
ロキサン配位子を含有する13μl(即ち、100pp
m/Si−Hオイルの総重量)の白金錯体のジビニルテ
トラメチルジシロキサン溶液(カルステッド触媒)を隔
膜を通して導入する。30分後に、導入Si−Hの転化
率が79%になったときに、262.5gのペルフルオ
ルヘキシル−1−イソペンテンと−2−イソペンテンと
の混合物(C6F13CH2 CH2 C(CH3)=CH2 と
C6 F13CH2 CH=C(CH3)2 とのそれぞれ20%
及び80%の割合、即ち、それぞれ0.135及び0.
541モル)及び7.75gの同じポリメチルヒドロゲ
ノシロキサン(即ち、0.122モルのSi−H基)を
同時に80分間で流入させる。反応を開始して3時間1
5分後に、全導入Si−Hの転化率が76%になったと
きに、13μlのカルステッド触媒を導入する。反応を
開始して22時間後に、全導入Si−Hの転化率が8
8.6%になったときに、7g(即ち、0.056モル
即ち2eq/残留Si−H)のビニルシクロヘキセン及
び6.5μlのカルステッド触媒を隔膜を通して導入す
る。これらの最後の添加を行って12時間後に、Si−
H基の転化率は99.9%であった。真空下に(1mm
Hgで110℃で2時間)デボラチリゼーションを行っ
てペルフルオルヘキシル−2−イソペンテン並びに過剰
のペルフルオルヘキシル−1−イソペンテン及びビニル
シクロヘキセンを除去した。これにより90gの次の構
造式
【化101】 を有するオイルが得られた。
【0050】例III :Gf1 及びE1 γeを含有する別
の二官能性ペル弗素化シリコーンオイルの合成 17.3g(即ち、0.0462モル)のペンタフルオ
ルヘキシルブテンC6F13CH2 CH2 CH=CH2 及
び5.7g(即ち、0.0462モル)のビニルシクロ
ヘキセンを中心機械的撹拌機、温度計、垂直バルブ凝縮
器及び隔膜を備えた四口の100mlの反応器に導入す
る。媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、100℃の
温度に加熱する。次いで、11.9重量%の白金とジビ
ニルテトラメチルジシロキサン配位子を含有する17μ
l(即ち、50ppm/Si−Hオイルの総重量)の白
金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(カル
ステッド触媒)を隔膜を通して導入する。次いで、40
g(即ち、0.084eqのSi−H)のポリ(ジメチ
ル,メチルヒドロゲノシロキサン)オイルを80分間で
導入する。このオイルの特徴は次の通りである。 *Mn=3750g、 *オイル100g当たり0.21eqのSi−H、 *次の平均構造式。
の二官能性ペル弗素化シリコーンオイルの合成 17.3g(即ち、0.0462モル)のペンタフルオ
ルヘキシルブテンC6F13CH2 CH2 CH=CH2 及
び5.7g(即ち、0.0462モル)のビニルシクロ
ヘキセンを中心機械的撹拌機、温度計、垂直バルブ凝縮
器及び隔膜を備えた四口の100mlの反応器に導入す
る。媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、100℃の
温度に加熱する。次いで、11.9重量%の白金とジビ
ニルテトラメチルジシロキサン配位子を含有する17μ
l(即ち、50ppm/Si−Hオイルの総重量)の白
金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(カル
ステッド触媒)を隔膜を通して導入する。次いで、40
g(即ち、0.084eqのSi−H)のポリ(ジメチ
ル,メチルヒドロゲノシロキサン)オイルを80分間で
導入する。このオイルの特徴は次の通りである。 *Mn=3750g、 *オイル100g当たり0.21eqのSi−H、 *次の平均構造式。
【化102】 導入が終了したときに、Si−H基の転化率は98.6
%であり、40分後に99.9%に増大した。真空下に
(1mmHgで100℃で1時間30分)デボラチリゼ
ーションを行って過剰の両反応体を除去した。これによ
り、オイル100g当たり0.065eqのエポキシ
(過塩素酸定量法)を含有する次の構造式
%であり、40分後に99.9%に増大した。真空下に
(1mmHgで100℃で1時間30分)デボラチリゼ
ーションを行って過剰の両反応体を除去した。これによ
り、オイル100g当たり0.065eqのエポキシ
(過塩素酸定量法)を含有する次の構造式
【化103】 を有する59.1gのオイルが得られた。
【0051】例IV:Gf1 及びE1 αeを含有する二官
能性ペル弗素化シリコーンオイルの合成 7.36g(即ち、0.0165モル)のペルフルオル
オクチルエチレンC8F17CH=CH2 及び30g(即
ち、0.033eqのSi−H)の下記の特性 *Mn=3806g、 *オイル100g当たり0.11eqのSi−H、 *次の平均構造式
能性ペル弗素化シリコーンオイルの合成 7.36g(即ち、0.0165モル)のペルフルオル
オクチルエチレンC8F17CH=CH2 及び30g(即
ち、0.033eqのSi−H)の下記の特性 *Mn=3806g、 *オイル100g当たり0.11eqのSi−H、 *次の平均構造式
【化104】 を有するポリ(ジメチル,メチルヒドロゲノシロキサ
ン)オイルを中心機械的撹拌機、温度計及び垂直バルブ
凝縮器を備えた三口の50mlの反応器に導入する。媒
体を撹拌し、窒素により不活性にし、室温で放置する。
次いでヘキサンにより安定化させた0.075gのジコ
バルトオクタカルボニル(即ち、0.25重量%/SI
−Hオイル)を導入する。反応の発熱により短時間でに
温度が10℃上昇する。反応の開始から10時間後に、
Si−H基の転化率は48.5%に達した。次いで、媒
体を分離ロートに移し、3×30mlのメタノールによ
り洗浄する。シリコーン相に依然として含まれたメタノ
ールは、80℃で真空下に2時間デボラチリゼーション
により除去する。次いで、25.23g(即ち、0.0
1eqのSi−H)の部分的にグラフト化されたオイル
(100g当たり0.037eqのSi−Hを含有す
る)及び1.54g(即ち、0.011モル)のアリル
こはく酸無水物を中心機械的撹拌機、温度計及び垂直バ
ルブ凝縮器を備えた三口の50mlの丸底フラスコに導
入する。次いで、媒体を撹拌し、窒素により不活性に
し、100℃の温度に加熱する。次いで、11.9重量
%の白金とジビニルテトラメチルジシロキサン配位子を
含有する10.6μl(即ち、50ppm/Si−Hオ
イルの重量)の白金錯体のジビニルテトラメチルジシロ
キサン溶液(カルステッド触媒)を隔膜を通して導入す
る。白金を添加してから10時間後に、Si−H基の転
化率は71.5%であった。次いで10.6μlのカル
ステッド触媒を添加した。24時間後に、Si−H基の
転化率は97%であった。次いで、真空下にデボラチリ
ゼーションを行って過剰のアリルこはく酸無水物を除去
した。このようにして26.51gの次の構造式
ン)オイルを中心機械的撹拌機、温度計及び垂直バルブ
凝縮器を備えた三口の50mlの反応器に導入する。媒
体を撹拌し、窒素により不活性にし、室温で放置する。
次いでヘキサンにより安定化させた0.075gのジコ
バルトオクタカルボニル(即ち、0.25重量%/SI
−Hオイル)を導入する。反応の発熱により短時間でに
温度が10℃上昇する。反応の開始から10時間後に、
Si−H基の転化率は48.5%に達した。次いで、媒
体を分離ロートに移し、3×30mlのメタノールによ
り洗浄する。シリコーン相に依然として含まれたメタノ
ールは、80℃で真空下に2時間デボラチリゼーション
により除去する。次いで、25.23g(即ち、0.0
1eqのSi−H)の部分的にグラフト化されたオイル
(100g当たり0.037eqのSi−Hを含有す
る)及び1.54g(即ち、0.011モル)のアリル
こはく酸無水物を中心機械的撹拌機、温度計及び垂直バ
ルブ凝縮器を備えた三口の50mlの丸底フラスコに導
入する。次いで、媒体を撹拌し、窒素により不活性に
し、100℃の温度に加熱する。次いで、11.9重量
%の白金とジビニルテトラメチルジシロキサン配位子を
含有する10.6μl(即ち、50ppm/Si−Hオ
イルの重量)の白金錯体のジビニルテトラメチルジシロ
キサン溶液(カルステッド触媒)を隔膜を通して導入す
る。白金を添加してから10時間後に、Si−H基の転
化率は71.5%であった。次いで10.6μlのカル
ステッド触媒を添加した。24時間後に、Si−H基の
転化率は97%であった。次いで、真空下にデボラチリ
ゼーションを行って過剰のアリルこはく酸無水物を除去
した。このようにして26.51gの次の構造式
【化105】 のオイルを得た。
【0052】例V:Gf1 及びE6 を含有する二官能性
ペル弗素化シリコーンオイルの合成 10gのトルエンを中心機械的撹拌機、温度計、垂直バ
ルブ凝縮器及び隔膜を備えた四口の100mlの反応器
に導入する。次いで、媒体を撹拌し、窒素により不活性
にし、85℃の温度に加熱する。次いで、11.9重量
%の白金とジビニルテトラメチルジシロキサン配位子を
含有する2μl(即ち、40ppm/Si−Hオイルの
重量)の白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン
溶液(カルステッド触媒)を隔膜を通して導入する。次
いで、一方で20g(即ち、0.0435モル)のペル
フルオルオクチルプロピレンC8 F17CH2 CH=CH
2 、他方で5.18g(即ち、0.081モルのSi−
H基)の下記の特性 *Mn=3160g、 *100g当たり1.585eqのSi−H、 *次の平均構造式
ペル弗素化シリコーンオイルの合成 10gのトルエンを中心機械的撹拌機、温度計、垂直バ
ルブ凝縮器及び隔膜を備えた四口の100mlの反応器
に導入する。次いで、媒体を撹拌し、窒素により不活性
にし、85℃の温度に加熱する。次いで、11.9重量
%の白金とジビニルテトラメチルジシロキサン配位子を
含有する2μl(即ち、40ppm/Si−Hオイルの
重量)の白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン
溶液(カルステッド触媒)を隔膜を通して導入する。次
いで、一方で20g(即ち、0.0435モル)のペル
フルオルオクチルプロピレンC8 F17CH2 CH=CH
2 、他方で5.18g(即ち、0.081モルのSi−
H基)の下記の特性 *Mn=3160g、 *100g当たり1.585eqのSi−H、 *次の平均構造式
【化106】 を有するポリメチルヒドロゲノシロキサンを隔膜を通し
て1時間で同時に導入する。2時間40分後に、Si−
H基の転化率が54%になったときに、8.27g(即
ち、0.0405モル)の1−アリル−3−メチル−5
−t−ブチルフェノールを30分間で導入する。11時
間後に、Si−H基の転化率は完全であった。真空下に
デボラチリゼーション(1mbarで70℃で2時間)
を行ってトルエン及び過剰のペルフルオルオクチルプロ
ピレンを除去した。これにより31.71gの次の構造
式
て1時間で同時に導入する。2時間40分後に、Si−
H基の転化率が54%になったときに、8.27g(即
ち、0.0405モル)の1−アリル−3−メチル−5
−t−ブチルフェノールを30分間で導入する。11時
間後に、Si−H基の転化率は完全であった。真空下に
デボラチリゼーション(1mbarで70℃で2時間)
を行ってトルエン及び過剰のペルフルオルオクチルプロ
ピレンを除去した。これにより31.71gの次の構造
式
【化107】 のオイルを得た。
【0053】例VI:Gf1 及びE13を含有する二官能性
ペル弗素化シリコーンオイルの合成 30gのトルエンを中心機械的撹拌機、温度計及び垂直
バルブ凝縮器を備えた三口の100mlの反応器に導入
する。次いで、媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、
90℃の温度に加熱する。次いで、9.5重量%の白金
とジビニルテトラメチルジシロキサン配位子を含有する
2.1μl(即ち、20ppm/Si−Hオイルの重
量)の白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶
液(カルステッド触媒)を導入する。次いで、一方で2
8.4g(即ち、0.0789モル)のペルフルオルオ
クチルプロピレン、他方で9.74g(即ち、0.15
4モルのSi−H基)の下記の特性 *Mn=3160g、 *100g当たり1.585eqのSi−H、 *次の平均構造式
ペル弗素化シリコーンオイルの合成 30gのトルエンを中心機械的撹拌機、温度計及び垂直
バルブ凝縮器を備えた三口の100mlの反応器に導入
する。次いで、媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、
90℃の温度に加熱する。次いで、9.5重量%の白金
とジビニルテトラメチルジシロキサン配位子を含有する
2.1μl(即ち、20ppm/Si−Hオイルの重
量)の白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶
液(カルステッド触媒)を導入する。次いで、一方で2
8.4g(即ち、0.0789モル)のペルフルオルオ
クチルプロピレン、他方で9.74g(即ち、0.15
4モルのSi−H基)の下記の特性 *Mn=3160g、 *100g当たり1.585eqのSi−H、 *次の平均構造式
【化108】 を有するポリメチルヒドロゲノシロキサンを1時間30
分で同時に流入させる。反応の開始から4時間40分後
に、Si−H基の転化率が32%であった。次いでさら
に2μlのカルステッド触媒を添加する。このさらなる
添加から1時間50分後に、Si−H基の転化率は4
8.7%であったので、10.2g(即ち、0.1モ
ル)のアリルオキシエタノールを25分間で導入する。
この第二の導入の終了から1時間後に、Si−H基の転
化率は96.5%であった。次いで4μlのカルステッ
ド触媒を添加した。14時間後に、Si−H基の転化率
は87.7%であったので、真空下にデボラチリゼーシ
ョン(5mmHgで75℃で1時間)を行ってトルエン
を除去した。これにより34.3gの次の構造式
分で同時に流入させる。反応の開始から4時間40分後
に、Si−H基の転化率が32%であった。次いでさら
に2μlのカルステッド触媒を添加する。このさらなる
添加から1時間50分後に、Si−H基の転化率は4
8.7%であったので、10.2g(即ち、0.1モ
ル)のアリルオキシエタノールを25分間で導入する。
この第二の導入の終了から1時間後に、Si−H基の転
化率は96.5%であった。次いで4μlのカルステッ
ド触媒を添加した。14時間後に、Si−H基の転化率
は87.7%であったので、真空下にデボラチリゼーシ
ョン(5mmHgで75℃で1時間)を行ってトルエン
を除去した。これにより34.3gの次の構造式
【化109】 のオイルを得た。
【0054】例VII :Gf1 、E1 γe及びE3 を含有
する三官能性グラフト化シリコーンオイルの合成 12.3g(即ち、0.0275モル)のペルフルオル
オクチルエチレンC8F17CH=CH2 及び50g(即
ち、0.055eqのSi−H)の下記の特性 *Mn=3806g、 *100g当たり0.11eqのSi−H、 *次の平均構造式
する三官能性グラフト化シリコーンオイルの合成 12.3g(即ち、0.0275モル)のペルフルオル
オクチルエチレンC8F17CH=CH2 及び50g(即
ち、0.055eqのSi−H)の下記の特性 *Mn=3806g、 *100g当たり0.11eqのSi−H、 *次の平均構造式
【化110】 を有するポリ(ジメチル,メチルヒドロゲノシロキサ
ン)オイルを中心機械的撹拌機、温度計及び垂直バルブ
凝縮器を備えた三口の100mlの反応器に導入する。
媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、50℃に加熱す
る。次いでヘキサンにより安定化させた0.049g
(即ち、0.1重量%/SI−Hオイル)のジコバルト
オクタカルボニルを導入する。反応を開始させて10時
間30分後に、Si−H基の転化率は34%に達した。
次いで、ヘキサンで安定化したさらに0.049gのジ
コバルトオクタカルボニルを添加する。1時間後に、S
i−H基の転化率は48.5%に達した。次いで、媒体
を分離ロートに移し、3×50mlのメタノールにより
洗浄する。メタノールにより部分的に乳化された残留オ
イルを1,1,1−トリフルオルトリクロルメタンに可
溶化させ、混合物を90℃で大気圧下にデボラチリゼー
ションする。次いで、53.3g(即ち、0.017e
qのSi−H)の部分的にグラフト化されたオイル(1
00g当たり0.032eqのSi−Hを含有する)、
10.0重量%の白金とジビニルテトラメチルジシロキ
サン配位子を含有する5μlの白金錯体のジビニルテト
ラメチルジシロキサン溶液(カルステッド触媒)及び6
g(即ち、0.0484モル)のビニルシクロヘキセン
を中心機械的撹拌機、温度計及び垂直バルブ凝縮器を備
えた三口の50mlの丸底フラスコに導入する。反応媒
体の温度は70℃に上昇した。1時間30分後に、Si
−H基の転化率は完全であった。次いで、真空下にデボ
ラチリゼーション(6mbarで135℃で2時間)を
行って過剰のペルフルオルオクチルエチレン及びビニル
シクロヘキセンを除去した。このようにして、オイル1
00g当たり0.0359eqのエポキシ(過塩素酸定
量法)を含有する49.67gの次の構造式
ン)オイルを中心機械的撹拌機、温度計及び垂直バルブ
凝縮器を備えた三口の100mlの反応器に導入する。
媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、50℃に加熱す
る。次いでヘキサンにより安定化させた0.049g
(即ち、0.1重量%/SI−Hオイル)のジコバルト
オクタカルボニルを導入する。反応を開始させて10時
間30分後に、Si−H基の転化率は34%に達した。
次いで、ヘキサンで安定化したさらに0.049gのジ
コバルトオクタカルボニルを添加する。1時間後に、S
i−H基の転化率は48.5%に達した。次いで、媒体
を分離ロートに移し、3×50mlのメタノールにより
洗浄する。メタノールにより部分的に乳化された残留オ
イルを1,1,1−トリフルオルトリクロルメタンに可
溶化させ、混合物を90℃で大気圧下にデボラチリゼー
ションする。次いで、53.3g(即ち、0.017e
qのSi−H)の部分的にグラフト化されたオイル(1
00g当たり0.032eqのSi−Hを含有する)、
10.0重量%の白金とジビニルテトラメチルジシロキ
サン配位子を含有する5μlの白金錯体のジビニルテト
ラメチルジシロキサン溶液(カルステッド触媒)及び6
g(即ち、0.0484モル)のビニルシクロヘキセン
を中心機械的撹拌機、温度計及び垂直バルブ凝縮器を備
えた三口の50mlの丸底フラスコに導入する。反応媒
体の温度は70℃に上昇した。1時間30分後に、Si
−H基の転化率は完全であった。次いで、真空下にデボ
ラチリゼーション(6mbarで135℃で2時間)を
行って過剰のペルフルオルオクチルエチレン及びビニル
シクロヘキセンを除去した。このようにして、オイル1
00g当たり0.0359eqのエポキシ(過塩素酸定
量法)を含有する49.67gの次の構造式
【化111】 のオイルを得た。
【0055】例VIII:Gf1 、E1 γe及びE3 を含有
する別の三官能性シリコーンオイルの合成 271.6g(即ち、0.609モル)のペルフルオル
オクチルエチレンC8F17CH=CH2 及び400g
(即ち、1.16eqのSi−H)の下記の特性 *Mn=6200g、 *オイル100g当たり0.29eqのSi−H、 *次の平均構造式
する別の三官能性シリコーンオイルの合成 271.6g(即ち、0.609モル)のペルフルオル
オクチルエチレンC8F17CH=CH2 及び400g
(即ち、1.16eqのSi−H)の下記の特性 *Mn=6200g、 *オイル100g当たり0.29eqのSi−H、 *次の平均構造式
【化112】 を有するポリ(ジメチル,メチルヒドロゲノシロキサ
ン)オイルを中心機械的撹拌機、温度計、垂直バルブ凝
縮器及び滴下ロートを備えた四口の1000mlの反応
器に導入する。媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、
50℃に加熱する。次いでヘキサンにより安定化させた
0.7944g(即ち、0.2重量%/SI−Hオイ
ル)のジコバルトオクタカルボニルを導入する。反応を
開始させて8時間15分後に、Si−H基の転化率は3
0.4%に達した。次いで、さらにヘキサンにより安定
化させた0.3972gのジコバルトオクタカルボニル
(即ち、合計で0.3重量%/SI−Hオイル)を添加
する。1時間後に、Si−H基の転化率は49.7%に
達した。次いで、媒体を分離ロートに移し、4×175
gのメタノールにより洗浄する。メタノールにより部分
的に乳化された残留オイルを90℃で6mmHgで45
分間デボラチリゼーションする。次いで、597.1g
(即ち、0.211eqのSi−H)の部分的にグラフ
ト化されたオイル(100g当たり0.0353eqの
Si−Hを含有する)、9.5重量%の白金とジビニル
テトラメチルジシロキサン配位子を含有する30μlの
白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(カ
ルステッド触媒)及び30.4g(即ち、0.245モ
ル)のビニルシクロヘキセンを中心機械的撹拌機、温度
計及び垂直バルブ凝縮器を備えた三口の1000mlの
丸底フラスコに導入する。反応媒体の温度は80℃に上
昇した。1時間後に、Si−H基の転化率は94.4%
であった。次いで、さらに30μlのカルステッド触媒
を添加した。8時間後に、Si−H基の転化率は完全で
あった。次いで、真空下にデボラチリゼーション(6m
barで135℃で2時間)を行って過剰のペルフルオ
ルオクチルエチレン及びビニルシクロヘキセンを除去し
た。このようにして、オイル100g当たり0.021
3eqのエポキシ(過塩素酸定量法)を含有する59
1.6gの次の構造式
ン)オイルを中心機械的撹拌機、温度計、垂直バルブ凝
縮器及び滴下ロートを備えた四口の1000mlの反応
器に導入する。媒体を撹拌し、窒素により不活性にし、
50℃に加熱する。次いでヘキサンにより安定化させた
0.7944g(即ち、0.2重量%/SI−Hオイ
ル)のジコバルトオクタカルボニルを導入する。反応を
開始させて8時間15分後に、Si−H基の転化率は3
0.4%に達した。次いで、さらにヘキサンにより安定
化させた0.3972gのジコバルトオクタカルボニル
(即ち、合計で0.3重量%/SI−Hオイル)を添加
する。1時間後に、Si−H基の転化率は49.7%に
達した。次いで、媒体を分離ロートに移し、4×175
gのメタノールにより洗浄する。メタノールにより部分
的に乳化された残留オイルを90℃で6mmHgで45
分間デボラチリゼーションする。次いで、597.1g
(即ち、0.211eqのSi−H)の部分的にグラフ
ト化されたオイル(100g当たり0.0353eqの
Si−Hを含有する)、9.5重量%の白金とジビニル
テトラメチルジシロキサン配位子を含有する30μlの
白金錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(カ
ルステッド触媒)及び30.4g(即ち、0.245モ
ル)のビニルシクロヘキセンを中心機械的撹拌機、温度
計及び垂直バルブ凝縮器を備えた三口の1000mlの
丸底フラスコに導入する。反応媒体の温度は80℃に上
昇した。1時間後に、Si−H基の転化率は94.4%
であった。次いで、さらに30μlのカルステッド触媒
を添加した。8時間後に、Si−H基の転化率は完全で
あった。次いで、真空下にデボラチリゼーション(6m
barで135℃で2時間)を行って過剰のペルフルオ
ルオクチルエチレン及びビニルシクロヘキセンを除去し
た。このようにして、オイル100g当たり0.021
3eqのエポキシ(過塩素酸定量法)を含有する59
1.6gの次の構造式
【化113】 のオイルを得た。
【0056】例IX:モノ−及びビス−ペルフルオルアル
キル単量体POS=二裂グラフトGf及びEの先駆体G
fp の合成 反応:
キル単量体POS=二裂グラフトGf及びEの先駆体G
fp の合成 反応:
【化114】 2018g(10.09モル)のアリルマロン酸ジエチ
ル、2340g(5.04モル)のアルコールC8 F17
CH2 CH2 OH、3.8g(0.016モル)のTi
(OEt)4 及び1000gの乾燥トルエンを5リット
ルの反応器に窒素雰囲気下に導入する。反応混合物の温
度を95℃に上昇させ、反応を部分真空下(≒500m
mHg)に行ってエタノールの除去を促進させる。5時
間反応させた後、さらに7.3g(0.032モル)の
Ti(OEt)4 を添加する。反応を120時間進行さ
せる。ガスクロマトグラフィーによる分析は、ペル弗素
化アルコールの転化率が100%であることを示した。
60gの中性アルミナ(50〜200μm)を添加し、
混合物をボードでろ過する。軽質物質を真空ポンプによ
りデボラチリゼーションする(5mmHg、3時間40
分)。次いで、真空蒸留を行って表2に示す2種のモノ
−及びビス−ペルフルオルアルキル単量体を分離した。
ル、2340g(5.04モル)のアルコールC8 F17
CH2 CH2 OH、3.8g(0.016モル)のTi
(OEt)4 及び1000gの乾燥トルエンを5リット
ルの反応器に窒素雰囲気下に導入する。反応混合物の温
度を95℃に上昇させ、反応を部分真空下(≒500m
mHg)に行ってエタノールの除去を促進させる。5時
間反応させた後、さらに7.3g(0.032モル)の
Ti(OEt)4 を添加する。反応を120時間進行さ
せる。ガスクロマトグラフィーによる分析は、ペル弗素
化アルコールの転化率が100%であることを示した。
60gの中性アルミナ(50〜200μm)を添加し、
混合物をボードでろ過する。軽質物質を真空ポンプによ
りデボラチリゼーションする(5mmHg、3時間40
分)。次いで、真空蒸留を行って表2に示す2種のモノ
−及びビス−ペルフルオルアルキル単量体を分離した。
【表2】 IR及びNMR分析によりこれらの二つの単量体の構造
を確認した。
を確認した。
【0057】例X:ビスペル弗素化二裂グラフトGfβ
及び基E1 βe=予備結合Gfにより置換されたPOS
の合成 217.3gの乾燥トルエンを1000mlの反応器に
窒素雰囲気下に導入し、98℃に加熱する。次いで、
2.2μlのカルステッド触媒(11.5重量%のP
t)を添加する。次いで、24.6gの次の構造式:M
e3 SiO(SiMe2 O)25(SiMeHO)70Si
Me3 (Si−H含有量:11.27モルのSi−H/
kg、即ち、0.277モルのSi−H)のSi−H単
位含有シリコーンオイル及び230.2g(0.222
モル)の溶融状態の例Iに記載のビスペルフルオルアル
キル単量体を同時に2時間15分で流入させる。反応を
98℃で21時間40分進行させる。Si−H単位の転
化率は79.3%であった。次いで、50.6g(0.
361モル)のアリルこはく酸無水物及び2.2μlの
カルステッド触媒を添加する。反応を98℃で50時間
進行させる。Si−H単位の転化率は実質上完全であっ
た。反応混合物は均質である。25℃に放置すると、は
っきりと二相に分離した。生成物相をブフナーロートに
よりろ過し、トルエンで洗浄して白色固体を得た。水
(約100ml)を添加し、反応を25℃で17時間進
行させる。トルエンを添加してて遊離の単量体を除去す
る。デカンテーションした後、トルエン相を取り出し、
次いで固体をろ過し、5mmHgで25℃で真空乾燥す
る。465gの白色固体が回収された。IR及びNMR
分析によりこのシリコーンオイルの構造を確認した。融
点は約65℃であり、元素分析は53.8%の弗素含有
量を与えた。
及び基E1 βe=予備結合Gfにより置換されたPOS
の合成 217.3gの乾燥トルエンを1000mlの反応器に
窒素雰囲気下に導入し、98℃に加熱する。次いで、
2.2μlのカルステッド触媒(11.5重量%のP
t)を添加する。次いで、24.6gの次の構造式:M
e3 SiO(SiMe2 O)25(SiMeHO)70Si
Me3 (Si−H含有量:11.27モルのSi−H/
kg、即ち、0.277モルのSi−H)のSi−H単
位含有シリコーンオイル及び230.2g(0.222
モル)の溶融状態の例Iに記載のビスペルフルオルアル
キル単量体を同時に2時間15分で流入させる。反応を
98℃で21時間40分進行させる。Si−H単位の転
化率は79.3%であった。次いで、50.6g(0.
361モル)のアリルこはく酸無水物及び2.2μlの
カルステッド触媒を添加する。反応を98℃で50時間
進行させる。Si−H単位の転化率は実質上完全であっ
た。反応混合物は均質である。25℃に放置すると、は
っきりと二相に分離した。生成物相をブフナーロートに
よりろ過し、トルエンで洗浄して白色固体を得た。水
(約100ml)を添加し、反応を25℃で17時間進
行させる。トルエンを添加してて遊離の単量体を除去す
る。デカンテーションした後、トルエン相を取り出し、
次いで固体をろ過し、5mmHgで25℃で真空乾燥す
る。465gの白色固体が回収された。IR及びNMR
分析によりこのシリコーンオイルの構造を確認した。融
点は約65℃であり、元素分析は53.8%の弗素含有
量を与えた。
【化115】
【0058】例XI:モノペル弗素化二裂グラフトGf及
び基E1 βe=予備結合Gfにより置換されたPOSの
合成 145.2gの乾燥トルエンを1000mlの反応器に
窒素雰囲気下に導入し、媒体を94℃に加熱する。次い
で、5μlのカルステッド触媒(11.5重量%のP
t)を添加する。次いで、578.5g(0.936モ
ル)の例VIIIに記載のモノペル弗素化単量体と105.
6gの次の構造式:Me3 SiO(SiMe2 O)
25(SiMeHO)70SiMe3 (Si−H含有量:1
1.27モルのSi−H/kg、即ち、1.19モルの
Si−H)のSi−H単位含有シリコーンオイルとの混
合物を2時間で流入させる。反応を94℃で28時間3
0分進行させる。Si−H単位の転化率は53%であっ
た。次いで、さらに5μlのカルステッド触媒(11.
5重量%のPt)を添加し、反応を全体で69時間30
分進行させる。Si−H単位の転化率は73%であっ
た。次いで、96.2g(0.925モル)のアリルこ
はく酸無水物を導入する。反応を128時間進行させ
る。Si−H単位の転化率は96.5%であった。約1
00mlの水を添加し、混合物を25℃で15時間撹拌
し、デカンテーションする。有機相をデボラチリゼーシ
ョンし(2mbarで120℃で5時間)、1330g
の粘稠オイルを回収した。IR及びNMR分析によりこ
のシリコーンオイルの構造を確認し、元素分析は41%
の弗素含有量を与えた。
び基E1 βe=予備結合Gfにより置換されたPOSの
合成 145.2gの乾燥トルエンを1000mlの反応器に
窒素雰囲気下に導入し、媒体を94℃に加熱する。次い
で、5μlのカルステッド触媒(11.5重量%のP
t)を添加する。次いで、578.5g(0.936モ
ル)の例VIIIに記載のモノペル弗素化単量体と105.
6gの次の構造式:Me3 SiO(SiMe2 O)
25(SiMeHO)70SiMe3 (Si−H含有量:1
1.27モルのSi−H/kg、即ち、1.19モルの
Si−H)のSi−H単位含有シリコーンオイルとの混
合物を2時間で流入させる。反応を94℃で28時間3
0分進行させる。Si−H単位の転化率は53%であっ
た。次いで、さらに5μlのカルステッド触媒(11.
5重量%のPt)を添加し、反応を全体で69時間30
分進行させる。Si−H単位の転化率は73%であっ
た。次いで、96.2g(0.925モル)のアリルこ
はく酸無水物を導入する。反応を128時間進行させ
る。Si−H単位の転化率は96.5%であった。約1
00mlの水を添加し、混合物を25℃で15時間撹拌
し、デカンテーションする。有機相をデボラチリゼーシ
ョンし(2mbarで120℃で5時間)、1330g
の粘稠オイルを回収した。IR及びNMR分析によりこ
のシリコーンオイルの構造を確認し、元素分析は41%
の弗素含有量を与えた。
【化116】
【0059】例XII :モノペル弗素化二裂グラフトGf
及び基E1 βe=予備結合Gfにより置換されたPOS
の合成 775gの乾燥トルエン及び0.2944gのPtCl
2 (PhCN)2 をCH2 Cl2 に溶解してなる溶液
(触媒溶液:1.8429gのCH2 Cl2 中に0.0
169gの触媒)を1000mlの反応器に窒素雰囲気
下に導入する。混合物を80℃に加熱し、134.9g
(1.5209eqのSi−H単位)の次の構造式:M
e3 SiO(SiMe2 O)25(SiMeHO)75Si
Me3 のシリコーンオイルの溶液を2時間で流入させ
る。反応を80℃で24時間進行させ、さらに0.15
gづつ白金触媒溶液を2回添加する。Si−H単位の転
化率は69.79%であった。次いで、106gのアリ
ルこはく酸無水物及び59μlのカルステッド触媒(P
t含有量:11.5%)を80℃で添加する。反応を2
4時間進行させる。Si−H単位の転化率は96%であ
った。反応混合物をデボラチリゼーションする(5mm
Hgで120℃)。得られたオイルを250mlの水に
より6回洗浄する。デボラチリゼーションを繰返して8
52.5gの粘稠オイルを得た。IR及びNMR分析に
よりこのシリコーンオイルの構造を確認した。
及び基E1 βe=予備結合Gfにより置換されたPOS
の合成 775gの乾燥トルエン及び0.2944gのPtCl
2 (PhCN)2 をCH2 Cl2 に溶解してなる溶液
(触媒溶液:1.8429gのCH2 Cl2 中に0.0
169gの触媒)を1000mlの反応器に窒素雰囲気
下に導入する。混合物を80℃に加熱し、134.9g
(1.5209eqのSi−H単位)の次の構造式:M
e3 SiO(SiMe2 O)25(SiMeHO)75Si
Me3 のシリコーンオイルの溶液を2時間で流入させ
る。反応を80℃で24時間進行させ、さらに0.15
gづつ白金触媒溶液を2回添加する。Si−H単位の転
化率は69.79%であった。次いで、106gのアリ
ルこはく酸無水物及び59μlのカルステッド触媒(P
t含有量:11.5%)を80℃で添加する。反応を2
4時間進行させる。Si−H単位の転化率は96%であ
った。反応混合物をデボラチリゼーションする(5mm
Hgで120℃)。得られたオイルを250mlの水に
より6回洗浄する。デボラチリゼーションを繰返して8
52.5gの粘稠オイルを得た。IR及びNMR分析に
よりこのシリコーンオイルの構造を確認した。
【化117】
【0060】例XIII:ビスペル弗素化二裂グラフトGf
β及び基E1 βe=予備結合Gfにより置換されたPO
Sの合成 50gのトルエン及び12.5mgのカルステッド触媒
形態のPtを5リットルの反応器に窒素雰囲気下に導入
する。反応混合物を85℃に加熱し、400gの乾燥ト
ルエン、874.94g(0.864モル)の例1に記
載のビスペルフルオルアルキル単量体及び625.06
gの次の構造式:Me3 SiO(SiMe2 O)200
(SiMeHO)45SiMe3 のSi−H単位含有シリ
コーンオイル(1.55モルのSi−H単位)よりなる
混合物をを3時間で流入させる。反応をこの温度で4時
間思考させる。Si−H単位の転化率は55%であっ
た。1901gの透明なオイルを回収した。95.6g
(0.682モル)のアリルこはく酸無水物及び0.1
653gのカルステッド触媒溶液(11.5%のPt)
を2000mlの反応器に導入する。反応混合物を10
5℃に加熱し、950.6gの上記のSi−H単位含有
シリコーンオイル(3.412モルのSi−H単位)を
流入させる。反応をこの温度で4時間進行させる。Si
−H単位の転化率は96.3%であった。次いで500
mlの水を添加する。反応を還流下に7時間行う。混合
物を冷却し、3mmHgで110℃で4時間デボラチリ
ゼーションする。781.6gの粘稠オイルを回収し
た。IR及びNMR分析によりこのシリコーンオイルの
構造を確認した。
β及び基E1 βe=予備結合Gfにより置換されたPO
Sの合成 50gのトルエン及び12.5mgのカルステッド触媒
形態のPtを5リットルの反応器に窒素雰囲気下に導入
する。反応混合物を85℃に加熱し、400gの乾燥ト
ルエン、874.94g(0.864モル)の例1に記
載のビスペルフルオルアルキル単量体及び625.06
gの次の構造式:Me3 SiO(SiMe2 O)200
(SiMeHO)45SiMe3 のSi−H単位含有シリ
コーンオイル(1.55モルのSi−H単位)よりなる
混合物をを3時間で流入させる。反応をこの温度で4時
間思考させる。Si−H単位の転化率は55%であっ
た。1901gの透明なオイルを回収した。95.6g
(0.682モル)のアリルこはく酸無水物及び0.1
653gのカルステッド触媒溶液(11.5%のPt)
を2000mlの反応器に導入する。反応混合物を10
5℃に加熱し、950.6gの上記のSi−H単位含有
シリコーンオイル(3.412モルのSi−H単位)を
流入させる。反応をこの温度で4時間進行させる。Si
−H単位の転化率は96.3%であった。次いで500
mlの水を添加する。反応を還流下に7時間行う。混合
物を冷却し、3mmHgで110℃で4時間デボラチリ
ゼーションする。781.6gの粘稠オイルを回収し
た。IR及びNMR分析によりこのシリコーンオイルの
構造を確認した。
【化118】
【0061】例XIV :ビスペル弗素化二裂グラフトGf
β及び基E2 (hals)=予備結合Gfにより置換されたP
OSの合成 93.01g(0.442モル)のアリルオキシ−HA
LS及び0.1651gのカルステド触媒溶液(11.
5重量%のPt)を2000mlの反応器に窒素雰囲気
下に導入する。混合物を95〜98℃に加熱する。次い
で、例1に記載のビスペルフルオルアルキル単位含有単
量体により55%程度に官能化した949.6gの例6
のSi−H単位含有シリコーンオイルを2時間で流入さ
せる。反応を100℃で2時間進行させる。Si−H単
位の転化率は完全であった。反応混合物を冷却し、50
mlのトルエンを添加する。媒体を2〜5mmHgで1
10〜140℃で5時間デボラチリゼーションする。7
55.5gの非常に粘稠な液体を回収した。IR及びN
MR分析によりこのシリコーンオイルの構造を確認し
た。
β及び基E2 (hals)=予備結合Gfにより置換されたP
OSの合成 93.01g(0.442モル)のアリルオキシ−HA
LS及び0.1651gのカルステド触媒溶液(11.
5重量%のPt)を2000mlの反応器に窒素雰囲気
下に導入する。混合物を95〜98℃に加熱する。次い
で、例1に記載のビスペルフルオルアルキル単位含有単
量体により55%程度に官能化した949.6gの例6
のSi−H単位含有シリコーンオイルを2時間で流入さ
せる。反応を100℃で2時間進行させる。Si−H単
位の転化率は完全であった。反応混合物を冷却し、50
mlのトルエンを添加する。媒体を2〜5mmHgで1
10〜140℃で5時間デボラチリゼーションする。7
55.5gの非常に粘稠な液体を回収した。IR及びN
MR分析によりこのシリコーンオイルの構造を確認し
た。
【化119】
【0062】例XV:ビスペル弗素化二裂グラフトGfβ
及び基E2 (hals)=予備結合Gfにより置換されたPO
Sの合成 5gの乾燥トルエン及び1.2mgのカルステッド触媒
形態(11.45%のPt)のPtを250mlの反応
器に窒素雰囲気下に導入する。反応混合物を95℃に加
熱し、20.24g(0.02モル)の例Iに記載のビ
スペルフルオルアルキル単位含有単量体及び6915g
の次の構造式:Me3 SiO(SiMe2 O)220 (S
iMeHO)25SiMe3 のSi−H単位含有シリコー
ンオイル(0.1モルのSi−H単位)よりなる混合物
を1時間で流入させる。さらに25gのトルエンを添加
し、反応この温度で1時間進行させる。Si−H単位の
転化率は25.8%であった。18.99g(0.09
63モル)のアリルオキシ−HALS及び20.76m
gのカルステド触媒溶液(11.5重量%のPt)を2
000mlの反応器に窒素雰囲気下に導入する。混合物
を98℃に加熱する。次いで、例1に記載のビスペルフ
ルオルアルキル単位含有単量体により25.8%程度に
官能化した119.39g(0.0715モルのSi−
H)のSi−H単位含有シリコーンオイルを1時間で流
入させる。反応を100℃で1時間進行させる。Si−
H単位の転化率は完全であった。反応混合物を冷却す
る。これを3mmHgで140℃で6時間デボラチリゼ
ーションする。86.1gの非常に粘稠な液体を回収し
た。IR及びNMR分析によりこのシリコーンオイルの
構造を確認した。
及び基E2 (hals)=予備結合Gfにより置換されたPO
Sの合成 5gの乾燥トルエン及び1.2mgのカルステッド触媒
形態(11.45%のPt)のPtを250mlの反応
器に窒素雰囲気下に導入する。反応混合物を95℃に加
熱し、20.24g(0.02モル)の例Iに記載のビ
スペルフルオルアルキル単位含有単量体及び6915g
の次の構造式:Me3 SiO(SiMe2 O)220 (S
iMeHO)25SiMe3 のSi−H単位含有シリコー
ンオイル(0.1モルのSi−H単位)よりなる混合物
を1時間で流入させる。さらに25gのトルエンを添加
し、反応この温度で1時間進行させる。Si−H単位の
転化率は25.8%であった。18.99g(0.09
63モル)のアリルオキシ−HALS及び20.76m
gのカルステド触媒溶液(11.5重量%のPt)を2
000mlの反応器に窒素雰囲気下に導入する。混合物
を98℃に加熱する。次いで、例1に記載のビスペルフ
ルオルアルキル単位含有単量体により25.8%程度に
官能化した119.39g(0.0715モルのSi−
H)のSi−H単位含有シリコーンオイルを1時間で流
入させる。反応を100℃で1時間進行させる。Si−
H単位の転化率は完全であった。反応混合物を冷却す
る。これを3mmHgで140℃で6時間デボラチリゼ
ーションする。86.1gの非常に粘稠な液体を回収し
た。IR及びNMR分析によりこのシリコーンオイルの
構造を確認した。
【化120】
【0063】例XVI :ビスペル弗素化二裂グラフトGf
β及び基E3 (hals)=予備結合Gfにより置換されたP
OSの合成 120gの例IXに記載のビスペルフルオルアルキル単位
含有単量体2及び3.5μlのカルステッド触媒溶液
(11.5重量%のPt)を250mlの反応器に窒素
雰囲気下に導入する。反応混合物を90℃に加熱する。
次いで、次の構造式:Me3 SiO(SiMeHO)15
(SiMeOEtO)35SiMe3 のSi−H単位含有
シリコーンオイル(0.105モルのSi−H単位)を
1時間30分で流入させる。反応を90℃で46時間進
行させる。Si−H単位の転化率は96.4%であっ
た。媒体を3mmHgで200℃で2時間デボラチリゼ
ーションする。127.6gの粘稠な透明オイルを回収
した。IR及びNMR分析によりこのシリコーンオイル
の構造を確認した。
β及び基E3 (hals)=予備結合Gfにより置換されたP
OSの合成 120gの例IXに記載のビスペルフルオルアルキル単位
含有単量体2及び3.5μlのカルステッド触媒溶液
(11.5重量%のPt)を250mlの反応器に窒素
雰囲気下に導入する。反応混合物を90℃に加熱する。
次いで、次の構造式:Me3 SiO(SiMeHO)15
(SiMeOEtO)35SiMe3 のSi−H単位含有
シリコーンオイル(0.105モルのSi−H単位)を
1時間30分で流入させる。反応を90℃で46時間進
行させる。Si−H単位の転化率は96.4%であっ
た。媒体を3mmHgで200℃で2時間デボラチリゼ
ーションする。127.6gの粘稠な透明オイルを回収
した。IR及びNMR分析によりこのシリコーンオイル
の構造を確認した。
【化121】
【0064】例XVII:結晶化度の決定 下記の第1表は、いくつかの単量体及び官能化されたシ
リコーンについてX線により測定された結晶化度を要約
する。これらの結果は、例IXに記載されたビスペルフル
オルアルキル単位含有単量体2の特定の構造から得られ
る構成を示す。また、同じ物質について行った示唆熱分
析は、結晶化ピークを示した。
リコーンについてX線により測定された結晶化度を要約
する。これらの結果は、例IXに記載されたビスペルフル
オルアルキル単位含有単量体2の特定の構造から得られ
る構成を示す。また、同じ物質について行った示唆熱分
析は、結晶化ピークを示した。
【0065】
【表3】
【0066】例XVIII :モノペル弗素化二裂グラフトG
f及びグラフトEβeを含有するPOSの合成、乳化及
び適用 XVIII.1.上記の例IX、X及びXII で使用した操作手順に
従って、下記の構造式を有するオイルを合成した。
f及びグラフトEβeを含有するPOSの合成、乳化及
び適用 XVIII.1.上記の例IX、X及びXII で使用した操作手順に
従って、下記の構造式を有するオイルを合成した。
【化122】
【表4】
【0067】XVIII.2.乳化PHO 105 下記の成分を混合する。 PHO 105: 6g AD33: 0.5g ジェナポールX080:0.1g エトキシル化C13脂肪族アルコール 水を徐々に添加し、成分を手により混合する。次いでさ
らに7gの水を添加し、シルバーストーンミキサーを使
用して成分を乳化させる。白色エマルジョン(乾燥抽出
物=46.3%、平均粒度=7965μm)が得られ
た。PHO 107 下記の成分を混合する。 PHO 100: 2.5g AD33: 0.5g ブチルジゴル 1.25g BRIJ: 0.5g 水を徐々に添加し、成分を手により混合する。次いでさ
らに10gの水を添加し、シルバーストーンミキサーを
使用して成分を乳化させる。淡褐色エマルジョン(乾燥
抽出物=31%)が得られた。
らに7gの水を添加し、シルバーストーンミキサーを使
用して成分を乳化させる。白色エマルジョン(乾燥抽出
物=46.3%、平均粒度=7965μm)が得られ
た。PHO 107 下記の成分を混合する。 PHO 100: 2.5g AD33: 0.5g ブチルジゴル 1.25g BRIJ: 0.5g 水を徐々に添加し、成分を手により混合する。次いでさ
らに10gの水を添加し、シルバーストーンミキサーを
使用して成分を乳化させる。淡褐色エマルジョン(乾燥
抽出物=31%)が得られた。
【0068】XVIII.3.本発明に従う弗素化POSに加え
て、下記の市販ペル弗素化ポリアクリレート:3M社製
のFC396及びアサヒ社製のAG850を試験した。
被検物質の特性を下記の第3表に示す。
て、下記の市販ペル弗素化ポリアクリレート:3M社製
のFC396及びアサヒ社製のAG850を試験した。
被検物質の特性を下記の第3表に示す。
【表5】
【0069】XVIII.4.適用 二系列の試験を行う。 ‐溶媒中での適用 トリクロルトリフルオルエタン中で1%に希釈した溶液
から700ppmの弗素の付着(ポリアミド(PA)マ
ットの15g円板試料への含浸)。使用した弗素化PO
SはPHO 105、107、127及び128であ
る。FC396及びAG850も溶液状で使用する。8
0℃で6分間乾燥し、次いで140℃で4分間加熱処理
する。 ‐エマルジョン中での適用 上記のエマルジョン:PHO 105及びPHO 10
7から700ppmの弗素の付着(PAマットの15g
円板試料へのスプレーガンによる適用)。FC396及
びAG850もエマルジョン状で試験する。80℃で6
分間乾燥し、次いで140℃で4分間加熱処理する。表
面張力を低下させる液体(3滴の液体)の浸透又は不浸
透によって疎水性及び疎油性を評価する。POSには、
疎油性試験においては30秒後並びに疎水性試験におい
ては3分後にそれぞれ浸透しない最低表面張力の液体に
相当する数が割り当てられる。
から700ppmの弗素の付着(ポリアミド(PA)マ
ットの15g円板試料への含浸)。使用した弗素化PO
SはPHO 105、107、127及び128であ
る。FC396及びAG850も溶液状で使用する。8
0℃で6分間乾燥し、次いで140℃で4分間加熱処理
する。 ‐エマルジョン中での適用 上記のエマルジョン:PHO 105及びPHO 10
7から700ppmの弗素の付着(PAマットの15g
円板試料へのスプレーガンによる適用)。FC396及
びAG850もエマルジョン状で試験する。80℃で6
分間乾燥し、次いで140℃で4分間加熱処理する。表
面張力を低下させる液体(3滴の液体)の浸透又は不浸
透によって疎水性及び疎油性を評価する。POSには、
疎油性試験においては30秒後並びに疎水性試験におい
ては3分後にそれぞれ浸透しない最低表面張力の液体に
相当する数が割り当てられる。
【0070】
【表6】
【0071】
【表7】 組成は20℃における容量によって示す。
【0072】結果
【表8】
【0073】XVIII.5.物理化学的研究 5.1.付着物の濡れ 物理化学的性質に関しての“汚れ反撥剤”としての有用
性は、液体に対する付着物の挙動(濡れ)及びその液体
と接触状態での経時安定性により要約することができ
る。 5.2.この研究の方法論 次の簡単な物理化学的研究を行う。1# 0.25%重合
体溶液からのプレートワーラーによる処理重合体の付
着。参照用処理であるFC396(スコッチガード社)
も試験した。6系列の試料を次の基準:“そのままの”
試料、即ち初期試料及び140℃で4分間焼付けた試料
について研究する。次いで、これらの二つの試料を採
り、・水滴を1mの高さから10分間落下させることか
らなる“浸出”試験(初期及び洗浄、焼付け及び洗
浄)、又は ・脱塩水に30分間浸漬することからなる“浸漬”試験
(初期及び浸漬、焼付け及び浸漬)に付す。これらの二
つの目的は、明らかに処理の永久性を見出すことであ
る。2# 参照液体(水及びCH2 I2 )との接触角及び
その経時変化(0〜60秒)の測定。実験は、次の物
質:PHO 105、PHO 107、PHO 12
7、 FC396及び未処理のPA66対照例について
行った。 5.1.2.結果 下記の第7表は60秒後に得られた接触角を示す。
性は、液体に対する付着物の挙動(濡れ)及びその液体
と接触状態での経時安定性により要約することができ
る。 5.2.この研究の方法論 次の簡単な物理化学的研究を行う。1# 0.25%重合
体溶液からのプレートワーラーによる処理重合体の付
着。参照用処理であるFC396(スコッチガード社)
も試験した。6系列の試料を次の基準:“そのままの”
試料、即ち初期試料及び140℃で4分間焼付けた試料
について研究する。次いで、これらの二つの試料を採
り、・水滴を1mの高さから10分間落下させることか
らなる“浸出”試験(初期及び洗浄、焼付け及び洗
浄)、又は ・脱塩水に30分間浸漬することからなる“浸漬”試験
(初期及び浸漬、焼付け及び浸漬)に付す。これらの二
つの目的は、明らかに処理の永久性を見出すことであ
る。2# 参照液体(水及びCH2 I2 )との接触角及び
その経時変化(0〜60秒)の測定。実験は、次の物
質:PHO 105、PHO 107、PHO 12
7、 FC396及び未処理のPA66対照例について
行った。 5.1.2.結果 下記の第7表は60秒後に得られた接触角を示す。
【0074】
【表9】
【0075】結論は次の通りである。 *PHO 127は、非常に高い疎油性及び疎水性を有
し、また焼付け及び浸出に対して比較的敏感でないまま
で留まる。 *一般に、本発明に従う弗素化POS物質(PHO 1
05、107、127及び128)は、FC396より
も良好な浸出抵抗性を有する。 *疎水性及び疎油性を得るためにペル弗素化基を“過剰
適用する”ことは必要ではない。y=15であるPHO
107は、焼付け後に、ペル弗素化モノエステル基を
含有する他の官能化シリコーンに匹敵できる結果を与え
る。
し、また焼付け及び浸出に対して比較的敏感でないまま
で留まる。 *一般に、本発明に従う弗素化POS物質(PHO 1
05、107、127及び128)は、FC396より
も良好な浸出抵抗性を有する。 *疎水性及び疎油性を得るためにペル弗素化基を“過剰
適用する”ことは必要ではない。y=15であるPHO
107は、焼付け後に、ペル弗素化モノエステル基を
含有する他の官能化シリコーンに匹敵できる結果を与え
る。
【0076】例XIX :次の一般式
【化123】 (ここで、xは好ましくは0である。)の、末端がエポ
キシド及びペルフルオルアルキル基単位により二官能化
された新規なシリコンの合成 末端がエポキシド単位により二官能化されたこのタイプ
のシリコンは、基材(木材、紙)又はシリコン型マトリ
ックスの表面を疎水性及び疎油性にするのに有用であろ
う。次式
キシド及びペルフルオルアルキル基単位により二官能化
された新規なシリコンの合成 末端がエポキシド単位により二官能化されたこのタイプ
のシリコンは、基材(木材、紙)又はシリコン型マトリ
ックスの表面を疎水性及び疎油性にするのに有用であろ
う。次式
【化124】 の製造 a.300gのVi−C8 F17(0.647モル)、2
50gのHSiMe2OSiMe2 SiH(1.866
モル)及び150gのM2 を1リットルの丸底フラスコ
に窒素雰囲気下に導入する。次いで2gのCo2 CO8
(2857ppm/総重量)を添加する。反応を25℃
で48時間進行させる。GC分析は、Vi−C8 F17の
転化率が100に近いことを示した。混合物を紙でろ過
し、過剰のM2 及びM'2を蒸発させる(100℃/50
mmHg)。反応混合物をポンプ真空下に蒸留し、28
9gの無色液体(沸点:93℃/6mmHg)を回収し
た。純度は>98%(GC)である。NMR及びIR分
析は、この生成物の構造を確認した。Si−H含有量:
1.715eq/kg(理論:1.673eq/k
g)。単離収率:77%。次式
50gのHSiMe2OSiMe2 SiH(1.866
モル)及び150gのM2 を1リットルの丸底フラスコ
に窒素雰囲気下に導入する。次いで2gのCo2 CO8
(2857ppm/総重量)を添加する。反応を25℃
で48時間進行させる。GC分析は、Vi−C8 F17の
転化率が100に近いことを示した。混合物を紙でろ過
し、過剰のM2 及びM'2を蒸発させる(100℃/50
mmHg)。反応混合物をポンプ真空下に蒸留し、28
9gの無色液体(沸点:93℃/6mmHg)を回収し
た。純度は>98%(GC)である。NMR及びIR分
析は、この生成物の構造を確認した。Si−H含有量:
1.715eq/kg(理論:1.673eq/k
g)。単離収率:77%。次式
【化125】 の物質を得た。 b.23gのビニルシクロヘキセンエポキシド(0.1
85モル)、200gの上記の物質(GPE1218)
(0.34モル)及び50gの乾燥トルエンを100m
lの丸底フラスコに窒素雰囲気下に導入する。次いで、
10ppmのPt/総重量をカルステッド触媒の形態で
添加する。混合物を90℃に24時間加熱する。Si−
H単位の転化率は100%に近い。溶媒及び過剰のVC
MXを蒸発させる。225gの黄色オイルを回収した。
その構造はNMR及びIR分析により確認された。純度
は>98%である。上に示した式のα−ペル弗素化−ω
−エポキシ化ジメチルジシロキサンが得られた。
85モル)、200gの上記の物質(GPE1218)
(0.34モル)及び50gの乾燥トルエンを100m
lの丸底フラスコに窒素雰囲気下に導入する。次いで、
10ppmのPt/総重量をカルステッド触媒の形態で
添加する。混合物を90℃に24時間加熱する。Si−
H単位の転化率は100%に近い。溶媒及び過剰のVC
MXを蒸発させる。225gの黄色オイルを回収した。
その構造はNMR及びIR分析により確認された。純度
は>98%である。上に示した式のα−ペル弗素化−ω
−エポキシ化ジメチルジシロキサンが得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェラール・ミニャニ フランス国リヨン、アブニュ・デ・フレー ル・リュミエール、2 (72)発明者 フィリプ・オリエ フランス国リヨン、リュ・ガリバルディ、 333
Claims (19)
- 【請求項1】 次の一般式(I)又は(II): 【化1】 [ここで、 ・a+b+p=3、a=2又は3、b及びp=0又は1
であり、 zは0〜200、好ましくは1〜90であり、 y1 は0〜10、好ましくは0〜5であり、 yは0〜50、好ましくは0〜25であり、 eは1〜200、好ましくは1〜90であり、 ただし、 △z≠0ならば、5≦z+y1 +y+e≦200、好ま
しくは10≦z+y1+y+e≦100であり、[z/
(z+y+y1 +e+2)].100≧3、好ましくは
5であり、 △z=0ならば、5≦y+y1 +e≦100であり、b
は1価の末端シロキシ基Mの少なくとも一つで0以外で
あり、 △e≠0ならば、5≦z+y1 +y+e≦200、好ま
しくは10≦z+y1+y+e≦100であり、[z/
(z+y+y1 +e+2)].100≧3、好ましくは
5であり、 △e=0ならば、5≦y+y1 +z≦100であり、p
は末端シロキシ基Mの少なくとも一つで0以外であるも
のとし、 ・1≦z' ≦9、好ましくは1≦z' ≦4.5であり、 ・0≦y'1≦0.5、好ましくは0≦y'1≦0.25で
あり、 ・0≦y' ≦5、好ましくは0≦y' ≦0.5であり、 ・基R1 及びR2 のそれぞれは、一方では、同じ指数の
類似の基及び異なる指数の他の基と同一であっても異な
っていてもよく、他方では、線状若しくは分岐状のC1
〜C12−(シクロ)アルキル−好ましくはC1 〜C6 −
(シクロ)アルキル−基、アリール、アラルキル若しく
はアルキルアリール基であり、これらの基は置換されて
いてもよく、 ・Gfはそれが存在するz若しくはz' シロキシ単位D
及び(又は)2個のシロキシ単位M中の同種又は異種の
随意にハロゲン化された−好ましくは(ペル)弗素化さ
れた−官能性の1価の基であり、次式: 【化2】 {ここで、 △h=0又は1、g=0又は1、j=0又は1、k=1
又は2であり、 △ただし、少なくとも1個の基GfがPOS(I)又は
(II)中に存在するものとし、基Gfは好ましくは少な
くとも60モル%の程度で存在し、 △Z1 は次式: 【化3】 (ここで、m≧2である。)の2価の基であり、ただ
し、m=2であるならば、基Gfの少なくともいくつか
はg≠0である基であるもとし、 △Z2 は α.次式: 【化4】 (ここで、カルボニルの遊離原子価の一方又は両方は−
Z3 Rfに結合し、また該遊離原子価の一方のみが−Z
3 Rfに結合する場合には他方はヒドロキシルに結合す
る。)の基、 β.次式: 【化5】 (ここで、 ・カルボニルの遊離原子価の少なくとも一方は−Z3 R
fに結合し、またこれらの遊離原子価の一方のみが−Z
3 Rfに結合する場合には他方は線状又は分岐状のC1
〜C6 −アルコキシに結合し、 ・Ra =H、アリール又は線状若しくは分岐状のC1 〜
C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 である。)の
基、 γ.次式: 【化6】 の基、 δ.次式: 【化7】 の基、 ε.次式: 【化8】 の基、 η.次式: 【化9】 (ここで、 ・Gfにおいてh=0であり、 ・カルボニルの遊離原子価の一方又は両方は−Z3 Rf
に結合し、また該遊離原子価の一方のみが−Z3 Rfに
結合する場合には他方はヒドロキシル又は線状若しくは
分岐状のC1 〜C6 −アルコキシに結合する。)の基、 θ.次式: 【化10】 (ここで、原子価━以外の2個の遊離原子価の一方又は
両方は−Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原
子価の一方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方は
OH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −アルコキシ
に結合する。)の基、 λ.次式: 【化11】 (ここで、 ・原子価━以外の2個の遊離原子価の一方又は両方は−
Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原子価の一
方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方はOH又は
線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −アルコキシに結合
し、 ・Rb =H又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −低級
アルキル、好ましくはメチルである。)の基 のうちの1、2又は3価の基であり、これらの基におけ
るWは環状又は非環状の炭化水素基、特に脂肪族及び
(又は)アルケニル及び(又は)アルキニル及び(又
は)芳香族基であり、またWはエーテル結合−O−を欠
いており、 △Z3 は次式: 【化12】 (ここで、n≧1及びU=O、S、NH又はNHSO2
であり、好ましくはOである。)の2価の基であり、 △Rfはペルハロゲン化−好ましくはペル弗素化−基、
特に好ましくは次式: 【化13】 の一つを有する線状又は分岐状のペルフルオルアルキル
基である。}の平均式を有し、 ・Eはそれが存在するe若しくはe' シロキシ単位D及
び(又は)2個のシロキシ単位M中の同種又は異種の1
価の官能基(前記のGf以外のものである)であり、好
ましくは下記の官能基E1 〜E13: △E1 =次式 【化14】 {ここで、 *Z1 はm≧2であるGfについて前記したのと同様に
定義され、 *Z2 は下記の基: ・αe.次式 【化15】 (ここで、カルボニルの遊離原子価の少なくとも一方は
OHに結合し、又はこれらの二つの遊離原子価は共に同
じ酸素原子に結合する。)の基、 ・βe.次式 【化16】 (ここで、カルボニルの二つの遊離原子価はそれぞれ線
状又は分岐状C1 〜C6−アルコキシに結合する。)の
基、 ・γe.次式 【化17】 の基、 ・δe.次式 【化18】 の基、 ・εe.次式 【化19】 (ここで、カルボニルの遊離原子価は線状又は分岐状C
1 〜C6 −アルコキシ或いはOHに結合する。)の基、 ・ηe.次式 【化20】 (ここで、カルボニルの遊離原子価の少なくとも一方は
OH又は線状若しくは分岐状C1 〜C6 −アルコキシに
結合し、或いはこれらの二つの遊離原子価は共に同じ酸
素原子に結合する。)の基、 ・θe.次式 【化21】 (ここで、原子価━以外の2個の遊離原子価の一方又は
両方は−Z3 Rfに結合し、またこれらの2個の遊離原
子価の一方のみが−Z3 Rfに結合する場合には他方は
OH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C6 アルコキシに
結合する。)の基、又は ・λe.次式 【化22】 (ここで、Rb =H又は線状若しくは分岐状のC1 〜C
6 −低級アルキル、好ましくはメチルである。)の基に
相当し、 *Z1 及びZ2 は前記のGf中に存在するそれらの対応
物と同一であっても異なっていてもよく、 *WはGfについて上で定義した通りである。}の基、 △E2 =アミン;E3 =アルコキシ;E4 =アシル;E
5 =アシルオキシ;E6 =ヒドロキシル;E7 =トリア
ルコキシシリル;E8 =アミド;E9 =エステル;E10
=フェノール;E11=アリールアルコキシ;E12=アリ
ールオキシ;E13=エーテル−ヒドロキシ基 の少なくとも1種を有する群から選択される。]の(ペ
ル)ハロゲン化−好ましくは(ペル)弗素化−ポリオル
ガノシロキサン(POS)。 - 【請求項2】 次式(I.1 ) : 【化23】 [ここで、 ・Gfはh=g=1又はh=1及びg=0である請求項
1に記載の定義に相当し、 ・E=E1 〜E13であり、 ・R1 及びR2 は請求項1に記載の通りであり、好まし
くはメチル、プロピル又はブチルであり、 ・c1+d1=3、好ましくはc1=2、d1=1であ
り、 ・c2+d2=3、好ましくはc2=2、d2=1であ
り、 ・1≦z≦90、好ましくは1≦z≦50であり、 ・1≦e≦100、好ましくは1≦e≦60であり、 ・0≦y1 ≦10、好ましくは0≦y1 ≦5であり、 ・0≦y≦50、好ましくは0≦y≦25である。] の平均式の請求項1に記載のPOS。 - 【請求項3】 次式(I.1.1): 【化24】 [ここで、y、y1 、z、e、Gf及びEは請求項1又
は2に記載の通りであり、次の基: 【化25】 は同一であっても異なっていてもよく、H又はC1 〜C
6 −アルキルである。]の請求項2に記載のPOS。 - 【請求項4】 次式(I.1.2 ) 【化26】 [ここで、 *Gfは請求項1に記載の通りであり、 *R1 は同じ指数の同様の基と同一であっても異なって
いてもよく、請求項1に記載のようなR1 であるか、又
は請求項1に記載のような官能基(E)、好ましくはエ
ポキシ−官能性基に相当し、 *R2 は同じ指数の類似の基と同一であっても異なって
いてもよく、請求項1に記載と同じように定義され、 *a1+b1=a2+b2=3であり、 a1,a2=2又は3、b1,b2=0又は1であり、 0≦y≦100、好ましくは0≦y≦10であり、 0≦p≦50、好ましくは0≦p≦5である。] を有し、 特に好ましくは、 ・R1 =CH3 、b1=1及びb2=0であり、Gfが 【化27】 (ここで、R10及びR11は同一であっても異なっていて
もよく、OH、C1 〜C 6 −アルコキシ又は請求項1に
記載のようなZ3 Rfであり、基R10及びR11の少なく
とも一方はZ3 Rfである。)であり、p=0、y=0
又は1である式を有するもの、並びに ・R1 =CH3 、b1=b2=0であり、Gfが 【化28】 であり、y=0、p=1〜10、好ましくは1である式
を有するものである請求項1に記載のPOS。 - 【請求項5】 (i)次式 【化29】 (ここで、 ・Ra 及びR9 は独立してH又は線状若しくは分岐状の
C1 〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 であり、 ・R10及びR11は独立してOH、線状若しくは分岐状の
C1 〜C6 −アルコキシ又はZ3 −Rfであり、基R10
及びR11の少なくとも一つは−Z3 Rfであり、 ・i=0〜10、好ましくは0〜3、特に好ましくは1
である。) の基、(ii)次式 【化30】 (ここで、R9 、Ra 、R10、R11及びiは前記の通り
である。)の基、(iii) 次式 【化31】 (ここで、R9 、R10、R11及びiは前記の通りであ
る。ヘキシル環については置換されていてもよい。)の
基、又は (iv)これらの基の混合物のサブグループから選択される
少なくとも1種のペルハロゲン化−好ましくはペル弗素
化−基Gfによって置換された少なくとも一つの種
(I)及び(又は)(II)からなる請求項1〜4のいず
れかに記載のPOS。 - 【請求項6】 ・請求項5に記載の式(i) 、(ii)又は(i
ii) の少なくとも1種のペルハロゲン化−好ましくはペ
ル弗素化−基Gfであってその式中の基R10及びR11が
Z3 Rfに相当し、好ましくは次式: 【化32】 の基に相当するもの、及び ・随意としての式(i) 、(ii)又は(iii) の少なくとも1
種のGf基であってそのR10又はR11の一方がZ3 Rf
であり且つ他方の基R10又はR11がZ3 Rfと異なって
いて、有利にはOH又は線状若しくは分岐状のC1 〜C
6 −アルコキシに相当するものによって置換された少な
くとも一つの種(I)及び(又は)(II)からなる請求
項5に記載のPOS。 - 【請求項7】 請求項5に記載のような基Gfの
(i)、(ii)及び(iii)にそれぞれ相当する基Eの
(ic)、(iic)及び(iiic) のサブグループから選択さ
れる少なくとも1種の基Eであって、その唯一の差異が
R10及びR11が同一であっても異なっていてもよく、O
H及び線状若しくは分岐状のC1 〜C6 −アルコキシの
みに相当することだけである基Eによって置換された少
なくとも一つの種(I)及び(又は)(II)からなる請
求項1〜6のいずれかに記載のPOS。 - 【請求項8】 ・次式 【化33】 (ここで、この異なる単位の基R8 は互いに同一であっ
ても異なっていてもよく、前記のR1 、R2 、Gf又は
Eと同様に定義される。)のシロキシ単位、及び ・随意の次式 【化34】 のシロキシ単位も含む請求項1〜7のいずれかに記載の
POS。 - 【請求項9】 A)少なくとも1種のポリアルキルヒド
ロゲノシロキサン−好ましくはポリメチルヒドロゲノシ
ロキサン−オイルと、B)Gfの先駆体であり且つ式
(Gfp): Z1pRf (ここで、 ・Z1p=Z1 のオレフィン先駆体であり、 ・Rfは請求項1に記載の通りである。) を有する少なくとも1種の(ペル)ハロゲン化−好まし
くは(ペル)弗素化−オレフィン、 C)及び(又は)次式 Z1pZ2p (ここで、 ・Z1P=Z1 のオレフィン先駆体であり、 ・Z2P=Z2 のオレフィン先駆体である。) の少なくとも1種の(ペル)ハロゲン化−好ましくは
(ペル)弗素化−オレフィンを、 D)好ましくは白金を主体とする金属シリル化触媒の有
効量の存在下に、実質的に反応させ、しかも反応生成物
A+Cを随意に式Z3pRf(ここで、Z3pはZ3 の先駆
体であり、Rfは前記の通りである。)の反応体と接触
させてグラフトGf=−Z1Rf及び(又は)−Z1 Z2
Z3 Rfを得、 E)最後にEのオレフィン先駆体により形成される反応
体Ep (Ep はDの存在下にPOSの≡SiHによりヒ
ドロシリル化することができる。)と反応させることか
らなる、請求項1〜8のいずれかに記載の(ペル)ハロ
ゲン化−好ましくは(ペル)弗素化−POSの製造方
法。 - 【請求項10】 ・先駆体Ep がZ1pZ2p(ここで、Z
1P=Z1 のオレフィン先駆体であり、Z2P=Z2 のオレ
フィン先駆体である。Z1 、Z2 、Z1p及びZ2pはGf
中に存在し且つ前記したそれらの対応物と同一であって
も異なっていてもよい。)型のものであり、 ・POS上にグラフト化された基−Z1 Z2pが、グラフ
ト−Z1 Z2 Eを生成するように、少なくとも1個の官
能性基Eを有する基を持つ少なくとも1種の反応性化合
物と接触される請求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 ・オイルA)にグラフト化させるZ2
の先駆体Z2pの少なくとも幾分かが酸無水物であり、 ・遊離のカルボキシル末端を生じさせるように、これら
の無水物基の少なくとも幾分かを加水分解させ、 ・次いでこのカルボキシル基の少なくとも幾分かを、 *Z3p−Rf(ここで、Z3pは及びZ3 の先駆体であ
り、Z3 及びRfは請求項1に記載の通りである。)型
の反応体か、又は *少なくとも1種の官能性基Eを有する基を持つ少なく
とも1種の反応性化合物によりエステル化することから
なる請求項9又は10記載の方法。 - 【請求項12】 A)少なくとも1種のポリアルキルヒ
ドロゲノシロキサン−好ましくはポリメチルヒドロゲノ
シロキサン−オイルと、 F)Gfの先駆体であり且つ次式(Gfp ): 【化35】 (ここで、 ・Z1pは請求項1に記載のような基Z1 のオレフィン先
駆体であり、 ・Z2 、Z3 、Rf、h、g、j及びkは請求項1に記
載の通りであり、 ・ただし、h=0であるならば、g=1であり且つZ2
はオレフィン先駆体Z2pとなる。)を有する少なくとも
1種のハロゲン化−好ましくは(ペル)弗素化−オレフ
ィン、 G)及び(又は)Eの少なくとも1種のオレフィン先駆
体Ep を、 D)好ましくは白金を主体とする金属ヒドロシリル化触
媒の有効量の存在下に、反応させることから本質的にな
る、請求項1〜8のいずれかに記載の環状又は線状のハ
ロゲン化−好ましくは(ペル)弗素化−POSの製造方
法。 - 【請求項13】 グラフトGfの先駆体Gfp が、 (ip):次式 【化36】 (ここで、 Ra 及びR9 は独立してH又は線状若しく分岐状のC1
〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 であり、 R10及びR11は独立してOH、線状若しく分岐状のC1
〜C6 −アルコキシ又はZ3 Rfであり、 iは0〜10、好ましくは0〜3、さらに好ましくは1
である。)の基、 (iip) :次式 【化37】 (ここで、R9 、Ra 、R10、R11及びiは前記の通り
である。)の基、及び (iiip):次式 【化38】 (ここで、R9 、R10、R11及びiは前記の通りであ
る。ヘキシル環は置換されていてもよい。)の基の少な
くとも一つを有する請求項12に記載の方法。 - 【請求項14】 グラフトGfの先駆体Gfp が、1個
又は2個のペル弗素化基R10及びR11(R10及び(又
は)R11=Z3 Rf)を有し、且つ、 ・水素化された基Z3 Rfからなる易動性水素を有する
少なくとも1種の化合物、即ち、請求項1に記載のH−
Z3 Rf、好ましくはアルコール又はチオールを、 ・前記のような、基R10及びR11の少なくとも一方が線
状又は分岐状のC1 〜C6 −アルコキシである式(ip)、
(iip) 又は(iiip)の化合物によりなる出発物質と、 エステル交換機構に従って反応させることによって得ら
れるものである請求項13に記載の方法。 - 【請求項15】 グラフトEのオレフィン先駆体Ep
が、Gfp について請求項13に記載のような式(ip)、
(iip) 及び(iiip)にそれぞれ相当する式(icp)、(iicp)
及び(iiicp) の少なくとも1種を好ましくは有し、ただ
その相違がR10及びR11が同一であっても異なっていて
もよく、OH又は線状若しくは分岐状C 1 〜C6 −アル
コキシのみに相当することだけである、請求項9〜14
のいずれかに記載の方法。 - 【請求項16】 請求項12、13、14又は15に記
載の方法に特に使用でき、しかも (ip):次式 【化39】 (ここで、 Ra 及びR9 は独立してH又は線状若しく分岐状の低級
C1 〜C6 −低級アルキル、好ましくはCH3 であり、 R10及びR11の少なくとも一つは線状又は分岐状の低級
C1 〜C6 −アルコキシであって、メトキシ、エトキシ
及びプロポキシが好ましい。)の基、 (iip) :次式 【化40】 (ここで、R9 、Ra 、R10、R11及びiは前記の通り
である。)の基、及び (iiip):次式 【化41】 (ここで、R9 、R10、R11及びiは前記の通りであ
る。ヘキシル環は置換されていてもよい。)の基の一つ
を有する反応中間体(シンソン)。 - 【請求項17】 ・請求項1〜8のいずれかに記載され
た又は請求項9〜15のいずれかに記載の方法により得
られた少なくとも1種のPOS、 ・水、及び ・少なくとも1種の界面活性剤 を含有する水性エマルジョン。 - 【請求項18】 請求項1〜8のいずれかに記載された
又は請求項9〜15のいずれかに記載の方法によって得
られたPOSの、 ・消泡剤、 ・潤滑剤、 ・粘着防止剤、 ・表面張力低下剤、 ・汚れ反撥剤、 ・疎油性及び(又は)疎水性剤、並びに ・耐薬品及び耐溶剤性のエラストマー又は被覆の製造用
原料 としての用途。 - 【請求項19】 ・請求項1〜8のいずれかに記載され
た又は請求項9〜15のいずれかに記載の方法によって
得られた少なくとも1種のPOS、 ・及び(又は)請求項17に記載のような少なくとも1
種のエマルジョンを含む汚れ反撥性組成物であって、 ・使用するPOSが好ましくは、 *請求項5に記載のようなペルハロゲン化−ペル弗素化
−基により二官能化された二裂グラフトGf、 *請求項7に記載のようなビス−又はモノ−ペルハロゲ
ン化−ペル弗素化−基以外の基により官能化されたその
他のグラフトE、及び *やはり請求項5に記載のペルハロゲン化−ペル弗素化
−基によって一官能化された随意としての二裂グラフト
Gf を有するものであることを特徴とする汚れ反撥性組成
物。
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