JPH0882922A - Original plate of waterless planographic printing plate - Google Patents
Original plate of waterless planographic printing plateInfo
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- JPH0882922A JPH0882922A JP17520495A JP17520495A JPH0882922A JP H0882922 A JPH0882922 A JP H0882922A JP 17520495 A JP17520495 A JP 17520495A JP 17520495 A JP17520495 A JP 17520495A JP H0882922 A JPH0882922 A JP H0882922A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版に関す
るものであり、特に高感度でありかつフィルムエッジや
ゴミなどの焼き飛ばし性などの製版作業性に優れた水な
し平版印刷用原板に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waterless lithographic printing plate, and more particularly to a waterless lithographic printing plate which has high sensitivity and is excellent in plate-making workability such as burn-off property of film edges and dust. It is a thing.
【0002】[0002]
【従来の技術】水なし平版印刷とは、画線部と非画線部
とを基本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ
受容性、非画線部をインキ反撥性として、インキの付着
性の差異を利用して、画線部のみにインキを着肉させた
後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷をする平版
印刷方法において、非画線部がシリコーンゴム、含フッ
素化合物などのインキ反撥性を有する物質からなり、湿
し水を用いずに印刷可能であるような印刷方法を意味す
る。2. Description of the Related Art Waterless lithographic printing means that an image area and a non-image area are basically on the same plane, and the image area is ink receptive and the non-image area is ink repellent. In the lithographic printing method, in which the ink is applied only to the image area using the difference in the ink adhesion, and then the ink is transferred to the material to be printed, such as paper, for printing, the non-image area is silicone. It means a printing method comprising a substance having ink repulsion property such as rubber and a fluorine-containing compound and capable of printing without using fountain solution.
【0003】ところで、この水なし平版印刷版として実
用上優れた性能を有しているものとしては、インキ反撥
性層としてシリコーンゴム層を用いたもの、例えばポジ
ティブワーキング用としては、特公昭54−26923
号公報や特開昭60−21050公報などが、またネガ
ティブワーキング用としては特公昭46−16044号
公報、特開昭55−59466号公報や特開昭56−8
0046号公報、特公昭61−54222号公報などが
挙げられる。By the way, as a waterless planographic printing plate having excellent performance in practical use, one using a silicone rubber layer as an ink repellent layer, for example, as a positive working one, Japanese Patent Publication No. 54- 26923
JP-A-60-21050 and JP-A-60-21050 for negative working, and JP-B-46-16044, JP-A-55-59466 and JP-A-56-8.
Japanese Patent Publication No. 0046, Japanese Patent Publication No. 61-54222 and the like are listed.
【0004】これらの水なし平版印刷版は、通常ポジテ
ィブフィルムもしくはネガティブフィルムを通して、活
性光線により露光される。そして、その後、現像処理さ
れることにより、画線部に対応したシリコーンゴム層の
みが剥ぎ取られて感光層が露出し、インキ着肉性の画線
部となる。These waterless lithographic printing plates are usually exposed to actinic radiation through a positive or negative film. Then, after that, by being developed, only the silicone rubber layer corresponding to the image area is peeled off to expose the photosensitive layer, and the ink image receptive area is formed.
【0005】ところで、上記で説明した水なし平版印刷
版のうち、ポジティブワーキング用水なし平版印刷版の
光重合性感光層に用いられる光増感剤としては多くの提
案がなされている。By the way, among the waterless lithographic printing plates described above, many proposals have been made as a photosensitizer used for the photopolymerizable photosensitive layer of a waterless lithographic printing plate for positive working.
【0006】特公昭60−26125号公報において、
光増感剤としてビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノ
ンと特定の芳香族カルボニル化合物としてチオキサント
ンを組合わせた系が提案されている。In Japanese Patent Publication No. 60-26125,
A system combining bis (dialkylamino) benzophenone as a photosensitizer and thioxanthone as a specific aromatic carbonyl compound has been proposed.
【0007】該系はベンゾイン系増感剤の感度向上効果
とケトン系増感剤の貯蔵安定性を合せ持つ優れた光増感
剤系であるが、しかしながら、このようなチオキサン誘
導体単独または光増感剤の組合わせの系においては、4
00nmを越えた長波長領域に吸収極大波長を持つ光増
感剤成分が含まれないために該長波長領域に発光強度を
有する平版印刷版の汎用露光光源であるメタルハライド
ランプなどに対する感度は不十分であった。This system is an excellent photosensitizer system having both the sensitivity improving effect of a benzoin sensitizer and the storage stability of a ketone sensitizer. However, such a thioxane derivative alone or a photosensitizer is used. In the combination system of sensitizers, 4
Since the photosensitizer component having the maximum absorption wavelength is not included in the long wavelength region exceeding 00 nm, the sensitivity of the lithographic printing plate having a light emission intensity to the metal halide lamp, which is a general-purpose exposure light source, is insufficient. Met.
【0008】また、特開昭61−145203号公報に
おいては、光増感剤として核ハロゲン置換アクリドンと
ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノンを組合わせた
系が提案されている。核ハロゲン置換アクリドンは40
0nmを越えた長波長領域に吸収極大波長を持つ優れた
光増感剤であり、フィルムエッジやゴミなどの焼き飛ば
し性は向上するが、感度の向上効果、特に単波長光源に
対する感度の向上効果は不十分であった。Further, JP-A-61-145203 proposes a system in which a nuclear halogen-substituted acridone and bis (dialkylamino) benzophenone are combined as a photosensitizer. Nuclear halogen substituted acridone is 40
It is an excellent photosensitizer with an absorption maximum wavelength in the long wavelength region exceeding 0 nm, and improves the burn-off property of film edges and dust, but the sensitivity improvement effect, especially the sensitivity improvement effect for a single wavelength light source. Was insufficient.
【0009】また、特開平3−274051号公報にお
いては、トリメチロールプロパントリアクリレート10
0mlに対して5g以上の溶解度を有するチオキサント
ン誘導体を感光層に添加する提案がなされ、該公報の実
施例においてエチルミヒラーズケトン(4,4′−ビス
(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン)と各種チオキサン
トン誘導体との組合わせが提案されている。しかしなが
ら、このようなチオキサン誘導体単独または光増感剤の
組合わせの系においては、400nmを越えた長波長領
域に吸収極大波長を持つ光増感剤成分が含まれないた
め、長波長領域の発光成分を有する光源のエネルギーを
効率良く利用しているとは言えず、該長波長領域に発光
強度を有する平版印刷版の汎用露光光源であるメタルハ
ライドランプなどに対する感度の向上効果およびフィル
ムエッジやゴミなどの焼き飛ばし性は不十分であった。Further, in JP-A-3-274051, trimethylolpropane triacrylate 10 is used.
A proposal was made to add a thioxanthone derivative having a solubility of 5 g or more to 0 ml to the photosensitive layer, and in the examples of the publication, ethyl Michler's ketone (4,4'-bis (diethylamino) benzophenone) and various thioxanthone derivatives were added. A combination is proposed. However, such a thioxane derivative alone or a combination of photosensitizers does not include a photosensitizer component having an absorption maximum wavelength in a long wavelength region of more than 400 nm, and thus emits light in a long wavelength region. It cannot be said that the energy of the light source having a component is efficiently used, and the effect of improving sensitivity to a metal halide lamp, which is a general-purpose exposure light source of a lithographic printing plate having emission intensity in the long wavelength region, and film edge and dust The burn-off property of was insufficient.
【0010】また特開平4−174437号公報、特開
平4−324865号公報、特開平4−338954号
公報、特開平5−34921号公報、特開平5−349
24号公報、特開平5−53318号公報、特開平5−
88378号公報、特開平5−94009号公報、特開
平5−100432号公報、特開平5−142762号
公報、特開平5−281714号公報などの実施例にお
いては、光増感剤としてエチルミヒラーズケトン(4,
4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン)および
2,4−ジエチルチオキサントンを組合わせた系が提示
されているが、このような組合わせも上記と同様、感度
の向上効果およびフィルムエッジやゴミなどの焼き飛ば
し性は不十分であった。Further, JP-A-4-174437, JP-A-4-324865, JP-A-4-338954, JP-A-5-34921, and JP-A-5-349.
24, JP-A-5-53318, and JP-A-5-
In Examples such as 88378, JP-A-5-94009, JP-A-5-100432, JP-A-5-142762, and JP-A-5-281714, ethyl Michler's as a photosensitizer is used. Ketone (4
A system in which 4'-bis (diethylamino) benzophenone) and 2,4-diethylthioxanthone are combined has been proposed. Such a combination also has the same effect of improving the sensitivity and burning of film edges and dust as in the above case. The flyability was insufficient.
【0011】本発明者らがこれら従来の問題点について
鋭意検討を行なった結果、従来提案されてきた(I)ビ
ス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン、(II)チオキ
サントンおよびその誘導体の組合わせ、および400n
mを越えた長波長領域に吸収極大波長を持つ特定の構造
を有する(III )アクリドンおよびその誘導体の三種の
光増感剤を、好ましくは特定の組成範囲で組合わせるこ
とによって、単純な加成性では説明できない飛躍的な感
度向上効果を発現し、またハイライト部からシャドウ部
に渡って優れた画像再現性示しかつ、フィルムエッジや
ゴミなどの焼き飛ばし性が向上することを見出した。As a result of intensive studies made by the present inventors on these conventional problems, a combination of (I) bis (dialkylamino) benzophenone, (II) thioxanthone and its derivatives, which has been proposed hitherto, and 400 n
Simple addition by combining three photosensitizers of (III) acridone and its derivative having a specific structure having an absorption maximum wavelength in a long wavelength region exceeding m, preferably in a specific composition range. It has been found that a dramatic improvement in sensitivity that cannot be explained by the properties is exhibited, and that excellent image reproducibility is exhibited from the highlight part to the shadow part, and the burn-off property of film edges and dust is improved.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上に少なくとも感光層およびインキ反撥層をこの順に設
けてなる水なし平版印刷用原版において、該感光層が下
記(I),(II)および(III )群の各群の各々から少
なくとも1種ずつ選ばれた光増感剤を含有することを特
徴とする水なし平版印刷版原版という構成をとる。That is, the present invention provides a waterless lithographic printing plate precursor in which at least a photosensitive layer and an ink repellent layer are provided in this order on a substrate, the photosensitive layer having the following (I) and (II): And a waterless planographic printing plate precursor characterized by containing at least one photosensitizer selected from each of the groups (III).
【0013】(I) ビス(アルキルアミノ)ベンゾフ
ェノン (II) チオキサントン誘導体 (III )400nmを越えた波長領域に吸収極大を持つ
化合物(I) Bis (alkylamino) benzophenone (II) Thioxanthone derivative (III) A compound having an absorption maximum in a wavelength region exceeding 400 nm.
【0014】本発明に用いられるインキ反撥性層につい
て説明する。The ink repellent layer used in the present invention will be described.
【0015】インキ反撥性層としては、シリコーンゴ
ム、含フッ素化合物(例えば分子中にフッ素を有するゴ
ムなど)が挙げられるが、材料供給の簡便さなどからシ
リコーンゴムが好ましく用いられる。このようなシリコ
ーンゴム層は、ポリオルガノシロキサンに、必要に応じ
て架橋剤および触媒を添加したシリコーンガム組成物を
適当な溶媒で希釈したものを、該感光層上に塗布し、加
熱乾燥して硬化させることによって形成される。Examples of the ink repellent layer include silicone rubber and fluorine-containing compounds (for example, rubber having fluorine in the molecule), but silicone rubber is preferably used because of easy material supply. Such a silicone rubber layer is prepared by diluting a polyorganosiloxane with a silicone gum composition obtained by adding a crosslinking agent and a catalyst, if necessary, to a suitable solvent, coating the same on the photosensitive layer, and heating and drying. It is formed by curing.
【0016】本発明において好ましく用いられるシリコ
ーンガム組成物としては、湿熱硬化型の縮合反応架橋性
のシリコーンガム組成物および熱硬化型の付加反応架橋
性のシリコーンガム組成物が好ましく用いられる。As the silicone gum composition which is preferably used in the present invention, a wet heat-curable condensation reaction crosslinkable silicone gum composition and a heat-curable addition reaction crosslinkable silicone gum composition are preferably used.
【0017】まずはじめに、湿熱硬化型の縮合反応架橋
性のシリコーンガム組成物について説明する。First, a moisture-heat curable condensation reaction crosslinkable silicone gum composition will be described.
【0018】ここで用いられるポリオルガノシロキサン
は、下記の一般式(1)で示される線状ポリオルガノシ
ロキサンを意味する。また、本発明に言うシリコーンガ
ム組成物とは、該ポリオルガノシロキサンを適当な溶媒
に溶かして溶液としたのち、架橋剤や触媒などとともに
混合した未硬化(未ゴム化)の溶液組成物を意味し、一
方、シリコーンゴムとは該シリコーンガム組成物を適当
な硬化条件の下で架橋反応させ、ゴム化した硬化生成物
を意味する。The polyorganosiloxane used herein means a linear polyorganosiloxane represented by the following general formula (1). The silicone gum composition referred to in the present invention means an uncured (non-rubberized) solution composition prepared by dissolving the polyorganosiloxane in an appropriate solvent to form a solution, and then mixing the solution with a crosslinking agent, a catalyst and the like. On the other hand, the silicone rubber means a cured product obtained by subjecting the silicone gum composition to a crosslinking reaction under an appropriate curing condition to form a rubber.
【0019】[0019]
【化1】 (ここでnは1以上の整数、R1 、R2 、は炭素数1〜
10のアルキル基、アルコキシ基、アミノアルキル基、
ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数2〜1
0のカルボキシアルキル基、シアノアルキル基または炭
素数6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、アリ
ロキシ基、アラルキル基、または水素原子、水酸基の内
から選ばれる基であり、同一であっても異なってもよ
い。また、鎖末端もしくは側鎖のかたちで分子鎖中に少
なくとも一つ以上の水酸基を有する。) 本発明に好ましく用いられる縮合反応架橋性シリコーン
ガム組成物としては、上記の一般式(1)で示される線
状ポリオルガノシロキサンの有機溶剤溶液に、架橋剤お
よび必要に応じて触媒が添加された、いわゆる室温(低
温)湿気硬化型の形態をとる。該シリコーンガム組成物
を構成する上で用いられる架橋剤としては、下記の一般
式(2)で示されるような、アセトキシシラン、ケトオ
キシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミ
ドシランなどが好ましく用いられ、通常、分子鎖中に少
なくとも一つ以上の水酸基を有する線状ポリオルガノシ
ロキサンと反応して、それぞれ脱酢酸、脱オキシム、脱
アルコール、脱アミン、脱アミドなどの形式で縮合反応
で架橋する架橋剤が、単一または混合された形、もしく
は縮合体の形で用いられる。Embedded image (Here, n is an integer of 1 or more, R 1 and R 2 are each a carbon number of 1 to 1.
10 alkyl groups, alkoxy groups, aminoalkyl groups,
Haloalkyl group, hydroxyalkyl group, carbon number 2 to 1
A carboxyalkyl group of 0, a cyanoalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aryloxy group, an aralkyl group, or a group selected from a hydrogen atom and a hydroxyl group, which may be the same or different. May be. Further, it has at least one hydroxyl group in the molecular chain in the form of a chain end or a side chain. As the condensation reaction crosslinkable silicone gum composition preferably used in the present invention, a crosslinking agent and, if necessary, a catalyst are added to an organic solvent solution of the linear polyorganosiloxane represented by the general formula (1). In addition, it takes a so-called room temperature (low temperature) moisture curing type. As the cross-linking agent used for constituting the silicone gum composition, acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane and the like, which are represented by the following general formula (2), are preferably used, and are usually used. , A cross-linking agent that reacts with a linear polyorganosiloxane having at least one or more hydroxyl groups in the molecular chain and cross-links in a condensation reaction in the form of deacetic acid, deoxime, dealcohol, deamine, deamide, etc. , In single or mixed form or in the form of condensates.
【0020】特に本発明においては、ケトオキシムシラ
ン、アルコキシシランなどが好ましく用いられる。Particularly in the present invention, ketoxime silane, alkoxy silane and the like are preferably used.
【0021】 Rm ・Si・Xn (2) (ただし、m、nは m≧0、n≧1でm+n=4を満
足する整数を意味する。Rは置換もしくは非置換の炭素
数1〜20のアルキル基、アミノアルキル基、アミノア
ルキレンアミノアルキル基、アミノアルキレンアミノメ
チルフェネチル基、置換もしくは非置換の炭素数6〜2
0のアリール基を示し、Xは−OR1 、−OCOR2 、
−O−N=CR3 −R4 、−O−C=CR5 H であ
る。R1 〜R5 は炭素数1〜4の置換もしくは非置換の
アルキル基を意味する) 架橋剤の単体もしくはその縮合物の具体例としては、次
のようなものがある。Rm · Si · Xn (2) (where m and n are integers satisfying m ≧ 0 and n ≧ 1 and m + n = 4. R is a substituted or unsubstituted C 1 to C 20 Alkyl group, aminoalkyl group, aminoalkyleneaminoalkyl group, aminoalkyleneaminomethylphenethyl group, substituted or unsubstituted carbon number 6 to 2
0 represents an aryl group, and X represents —OR 1 , —OCOR 2 ,
-O-N = CR 3 -R 4 , a -O-C = CR 5 H. R 1 to R 5 mean a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) Specific examples of the crosslinking agent alone or its condensate are as follows.
【0022】テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセ
トキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ジメチル
ジアセトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、N−(βアミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−(βアミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシ
シラン、N−(βアミノエチル)アミノメチルフェネチ
ルトリメトキシシラン、N−(βアミノエチル)アミノ
メチルフェネチルトリエトキシシラン、トリス(メチル
エチルケトオキシム)メチルシラン、トリス(メチルエ
チルケトオキシム)エチルシラン、トリス(メチルエチ
ルケトオキシム)ビニルシラン、テトラキス(メチルエ
チルケトオキシム)シランなどが挙げられる。Tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldiethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, tetraacetoxysilane, methyltriacetoxysilane, Ethyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (βaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (βaminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, N- (βaminoethyl) aminomethylphenethyltrimethoxysilane, - (beta-aminoethyl) aminomethyl phenethyl triethoxysilane, tris (methyl ethyl ketoxime) methylsilane, tris (methyl ethyl ketoxime) ethylsilane, tris (methyl ethyl ketoxime) vinylsilane, tetrakis (methyl ethyl ketoxime) silane.
【0023】また、触媒としてはジブチル錫ジアセテー
ト、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエー
トなどの有機錫化合物が好ましく用いられる。Organotin compounds such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate and dibutyltin dioctoate are preferably used as the catalyst.
【0024】本発明に好ましく用いられる縮合反応架橋
性のシリコーンガム組成物の一般的な形態としては次の
ようなものがある。The general form of the condensation reaction-crosslinkable silicone gum composition preferably used in the present invention is as follows.
【0025】 (1) 一般式(1)で表されるポリオルガノシロキサン 100重量部 (2) 一般式(2)で表される縮合反応架橋剤 3〜20重量部 (3) 縮合触媒 0.01〜20重量部 (4) 溶剤 100〜4000重量部(1) Polyorganosiloxane represented by the general formula (1) 100 parts by weight (2) Condensation reaction cross-linking agent represented by the general formula (2) 3 to 20 parts by weight (3) Condensation catalyst 0.01 ~ 20 parts by weight (4) Solvent 100-4000 parts by weight
【0026】次に熱硬化型の付加反応架橋性のシリコー
ンガム組成物について説明する。Next, a thermosetting addition reaction-crosslinking silicone gum composition will be described.
【0027】ここで用いられるポリオルガノシロキサン
は、多価ハイドロジェンポリオルガノシロキサンおよび
1分子中に2個以上の−CH=CH−基を有するポリオ
ルガノシロキサンを意味し、これらのは適当な溶媒に溶
かして混合溶液としたのち、必要に応じて触媒や硬化遅
延剤などが加えられて未硬化(未ゴム化)のシリコーン
ガム組成物となる。As used herein, polyorganosiloxane refers to polyvalent hydrogen polyorganosiloxanes and polyorganosiloxanes having two or more --CH.dbd.CH-- groups in the molecule, which are suitable solvents. After being melted to form a mixed solution, a catalyst, a curing retarder and the like are added if necessary to obtain an uncured (unrubbed) silicone gum composition.
【0028】本発明に好ましく用いられる付加反応架橋
性のシリコーンガム組成物の一般的な形態としては次の
ようなものがある。The following is a general form of the addition reaction-crosslinkable silicone gum composition that is preferably used in the present invention.
【0029】 (1) 一分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(好ましくはビニル基) を少なくとも2個以上有するポリオルガノシロキサン 100重量部 (2) 一分子中に少なくとも−SiH基を2個以上有するハイドロジェンポリオル ガノシロキサン 0.1〜1000重量部 (3) 付加触媒 0.00001〜20重量部 (4) 溶剤 100〜4000重量部(1) 100 parts by weight of polyorganosiloxane having at least two alkenyl groups (preferably vinyl groups) directly bonded to a silicon atom in one molecule (2) at least two —SiH groups in one molecule Hydrogen polyorganosiloxane having the above 0.1 to 1000 parts by weight (3) Addition catalyst 0.00001 to 20 parts by weight (4) Solvent 100 to 4000 parts by weight
【0030】成分(1) に示されるポリオルガノシロキサ
ンのアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあって
もよく、アルケニル基以外の有機基としては、置換もし
くは非置換のアルキル基、アリール基から選ぶことがで
きる。また、必要に応じて微量の水酸基を有してもよ
い。成分(2) に示されるポリオルガノシロキサンは成分
(1) と反応してシリコーンゴム層を形成するが、同時に
感光層に対する接着性付与の役割も果たしている。成分
(2) の水素基は分子鎖末端、中間のいずれにあってもよ
く、水素以外の有機基としては成分(1) と同様の官能基
から選ぶことができる。The alkenyl group of the polyorganosiloxane represented by the component (1) may be at the terminal or in the middle of the molecular chain, and the organic group other than the alkenyl group may be a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. You can choose. Moreover, you may have a trace amount of hydroxyl groups as needed. The polyorganosiloxane shown in component (2) is a component
Although it reacts with (1) to form a silicone rubber layer, it also plays the role of imparting adhesiveness to the photosensitive layer. component
The hydrogen group of (2) may be at the terminal or in the middle of the molecular chain, and the organic group other than hydrogen can be selected from the same functional groups as the component (1).
【0031】成分(1) および(2) の有機基はインキ反撥
性の観点から総官能基数のうち60%以上がメチル基で
あることが好ましい。成分(1) および(2) の分子構造
は、直鎖状、環状、分岐状のいずれでもよく、どちらか
少なくとも一方の数平均分子量が1000を越えること
がゴム物性の点から好ましく、より好ましくは成分(1)
のポリオルガノシロキサンの数平均分子量が1000以
上であることが好ましい。From the viewpoint of ink repellency, it is preferable that the organic groups of the components (1) and (2) are methyl groups in 60% or more of the total number of functional groups. The molecular structures of the components (1) and (2) may be linear, cyclic or branched, and it is preferable that at least one of them has a number average molecular weight of more than 1000 from the viewpoint of rubber physical properties, and more preferably Ingredient (1)
It is preferable that the polyorganosiloxane (1) has a number average molecular weight of 1,000 or more.
【0032】成分(1) のポリオルガノシロキサンの具体
例としては、α、ω−ジビニルポリジメチルシロキサ
ン、両末端メチル基の(メチルビニルシロキサン)(ジ
メチルシロキサン)共重合体などが挙げられる。Specific examples of the polyorganosiloxane of the component (1) include α, ω-divinylpolydimethylsiloxane and (methylvinylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both ends.
【0033】成分(2) のポリオルガンシロキサンの具体
例としては、両末端水素基のポリジメチルシロキサン、
α、ω−ジメチルポリメチルハイドロジェンシロキサ
ン、両末端メチル基の(メチルハイドロジェンシロキサ
ン)(ジメチルシロキサン)共重合体、ポリメチルハイ
ドロジェンサイクリックスなどが挙げられる。Specific examples of the polyorganosiloxane as the component (2) include polydimethylsiloxane having hydrogen groups at both ends,
Examples include α, ω-dimethyl polymethyl hydrogen siloxane, (methyl hydrogen siloxane) (dimethyl siloxane) copolymers having methyl groups at both ends, and polymethyl hydrogen cyclics.
【0034】成分(3) の付加触媒は公知のものから自由
に選択できるが、特に白金化合物が好ましく用いられ
る。具体的には、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オ
レフィン配位白金鎖体などが挙げられる。また、これら
の付加反応架橋性のシリコーンガム組成物の硬化速度を
適度に抑制する目的から硬化遅延剤などが添加される。
具体例としては、テトラシクロ(メチルビニル)シロキ
サンなどのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、ア
セチルアセトンアルコールなどの炭素−炭素三重結合含
有アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノ
ール、エタノール、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルなどが挙げられる。The addition catalyst of the component (3) can be freely selected from known ones, but a platinum compound is particularly preferably used. Specific examples include platinum simple substance, platinum chloride, chloroplatinic acid, and olefin-coordinated platinum chain. Further, a curing retarder or the like is added for the purpose of appropriately suppressing the curing rate of these addition reaction-crosslinkable silicone gum compositions.
Specific examples thereof include vinyl group-containing organopolysiloxanes such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, carbon-carbon triple bond-containing alcohols such as acetylacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol and propylene glycol monomethyl ether.
【0035】またこれらの付加反応架橋性のシリコーン
ガム組成物には、公知のシランカップリング剤や縮合反
応架橋性のシリコーンガム組成物に定義された水酸基含
有ポリオルガノシロキサンや加水分解性の官能基を含有
する縮合反応架橋剤も少量添加することも可能である。These addition reaction-crosslinkable silicone gum compositions include hydroxyl group-containing polyorganosiloxanes and hydrolyzable functional groups defined in known silane coupling agents and condensation reaction-crosslinkable silicone gum compositions. It is also possible to add a small amount of a condensation reaction cross-linking agent containing.
【0036】また、本発明のインキ反撥性層に好ましく
用いられるこれらのシリコーンガム組成物には、該シリ
コーンガム組成物によって形成されたインキ反撥性層を
適度に補強する目的で、公知のフィラーや無機粒子、ケ
イ酸ゾルなどを添加したり、架橋性官能基を有さない公
知の変性シリコーンオイルを少量添加することも可能で
ある。These silicone gum compositions which are preferably used in the ink repellent layer of the present invention include known fillers and fillers for the purpose of appropriately reinforcing the ink repellent layer formed by the silicone gum composition. It is also possible to add inorganic particles, silicic acid sol, or the like, or to add a small amount of a known modified silicone oil having no crosslinkable functional group.
【0037】これらのシリコーンガム組成物を希釈、溶
解する溶媒としては、パラフィン系炭化水素、イソパラ
フィン系炭化水素、シクロパラフィン系炭化水素および
芳香族炭化水素が単一または混合された形で用いられ
る。これらの炭化水素系溶媒の代表的なものとしては、
石油の分留品およびその改質品などがある。As a solvent for diluting and dissolving these silicone gum compositions, paraffinic hydrocarbons, isoparaffinic hydrocarbons, cycloparaffinic hydrocarbons and aromatic hydrocarbons are used alone or in a mixed form. Typical of these hydrocarbon solvents are:
Examples include fractionated petroleum products and modified products thereof.
【0038】本発明のインキ反撥性層として好ましく用
いられるシリコーンゴム層の膜厚は耐刷性およびインキ
反撥性を保ち、かつ良好な画像再現性を維持する点か
ら、乾燥重量で、0.5〜10g/m2 の範囲が好まし
く、1〜3g/m2 の範囲がさらに好ましい。The thickness of the silicone rubber layer preferably used as the ink repellent layer of the present invention is 0.5 in terms of dry weight from the viewpoint of maintaining printing durability and ink repellent property and maintaining good image reproducibility. It ranges preferably to 10 g / m 2, more preferably in the range of 1 to 3 g / m 2.
【0039】次に本発明に用いられる感光層について説
明する。Next, the photosensitive layer used in the present invention will be described.
【0040】本発明の感光層としては光増感剤の光励起
によってモノマまたはオリゴマがラジカル重合を開始す
る光重合性感光層が用いられる。As the photosensitive layer of the present invention, a photopolymerizable photosensitive layer in which a monomer or an oligomer initiates radical polymerization by photoexcitation of a photosensitizer is used.
【0041】本発明に用いられるモノマについて説明す
る。本発明に好ましく用いられるモノマとしては、下記
一般式(3)で表わされるモノマが挙げられる。The monomer used in the present invention will be described. The monomer preferably used in the present invention includes a monomer represented by the following general formula (3).
【0042】 R1 R2 N−(X1 )p −(X2 )q −NR3 R4 (3) (式中X1 は、炭素数1〜20の置換または無置換の環
式または非環式のアルキレン、置換または無置換のフェ
ニレン、置換または無置換のアラルキレンから選ばれる
2価の連結基を表す。置換基としては、炭素数1〜6の
アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基があげ
られる。X2 は、-OE 1 - 、-S-E2 - 、-NH-E 3 - 、-C
O-O-E 4 - 、-SO2-NH-E 5 - から選ばれる2価の連結基
を表す。E1 、E2 、E3 、E4 、E5 は、上記のX1
と同様の基を表す。pは1以上の整数、qは0または1
以上の整数を表す。R1 、R2 、R3 、R4 は、水素原
子、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基、
置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のア
ラルキル基、下式(4)、(5)、(6)から選ばれる
官能基を意味し、同一でも異なってもよい。置換基とし
ては、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、水酸
基、アリール基があげられる。ただし化合物(3)の1
分子中に少なくとも1個以上のエチレン性不飽和基を含
む。R5 、R6、R7 は、水素原子、炭素数1〜20の
置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のフ
ェニル基、置換または無置換のアラルキル基、CH2 =CH-
基、CH2=CCH3 - 基を表す。Yは-CO-O-、-CO-NH- 、置
換または無置換フェニレン基から選ばれるを表す。
X3 、X4 、X5 は上記X1 またはX2 と同様の基を意
味する。m、nは0または1を表わす。)R 1 R 2 N- (X 1 ) p- (X 2 ) q -NR 3 R 4 (3) (wherein X 1 is a substituted or unsubstituted cyclic or non-substituted one having 1 to 20 carbon atoms). Represents a divalent linking group selected from a cyclic alkylene, a substituted or unsubstituted phenylene, a substituted or unsubstituted aralkylene, a substituent having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group, an aryl group; X 2 is -OE 1- , -SE 2- , -NH-E 3- , -C.
It represents a divalent linking group selected from OOE 4 -and -SO2-NH-E 5- . E 1 , E 2 , E 3 , E 4 , E 5 are the above X 1
Represents the same group as. p is an integer of 1 or more, q is 0 or 1
Represents the above integers. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
A substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, or a functional group selected from the following formulas (4), (5), and (6), and may be the same or different. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group, and an aryl group. However, 1 of compound (3)
At least one ethylenically unsaturated group is contained in the molecule. R 5 , R 6 and R 7 are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, CH 2 = CH-
Represents a group, CH 2 ═CCH 3 — group. Y represents -CO-O-, -CO-NH-, or a substituted or unsubstituted phenylene group.
X 3 , X 4 and X 5 mean the same groups as those of X 1 or X 2 . m and n represent 0 or 1. )
【化2】 特に、下記ジアミン化合物に光重合可能な基を有するグ
リシジル(メタ)アクリレートおよび光重合可能な基を
もたないモノグリシジルエーテル化合物を付加反応させ
たものが好ましく用いられる。Embedded image In particular, those obtained by subjecting the following diamine compound to an addition reaction with a glycidyl (meth) acrylate having a photopolymerizable group and a monoglycidyl ether compound having no photopolymerizable group are preferably used.
【0043】(1)ジアミン化合物(モノオキシエチレ
ンジアミン、ジオキシエチレンジアミン、トリオキシエ
チレンジアミン、テトラオキシエチレンジアミン、ペン
タオキシエチレンジアミン、ヘキサオキシエチレンジア
ミン、ヘプタオキシエチレンジアミン、オクタオキシエ
チレンジアミン、ノナオキシエチレンジアミン、デカオ
キシエチレンジアミン、トリトリアコンタオキシエチレ
ンジアミン、モノオキシプロピレンジアミン、ジオキシ
プロピレンジアミン、トリオキシプロピレンジアミン、
テトラオキシプロピレンジアミン、ペンタオキシプロピ
レンジアミン、ヘキサオキシプロピレンジアミン、ヘプ
タオキシプロピレンジアミン、オクタオキシプロピレン
ジアミン、ノナオキシプロピレンジアミン、デカオキシ
プロピレンジアミン、トリトリアコンタオキシプロピレ
ンジアミン、N−ヒドロキシエチルヘキサプロピレンジ
アミン、N−ヒドロキシイソプロピルヘキサプロピレン
ジアミン、N,N´−ジヒドロキシエチルヘキサプロピ
レンジアミン、N,N´−ジヒドロキシイソプロピルヘ
キサプロピレンジアミン、トリメチレンビス(4−アミ
ノベンゾエート)、(テトラメチレングリコールビス
(4−アミノベンゾエート)、ジブチレングリコールビ
ス(4−アミノベンゾエート)、o−キシリレンジアミ
ン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミ
ン、N−ヒドロキシエチル−m−キシリレンジアミン、
N−ヒドロキシイソプロピル−m−キシリレンジアミ
ン、N,N´−ジヒドロキシエチル−m−キシリレンジ
アミン、N,N´−ジヒドロキシイソプロピル−m−キ
シリレンジアミンなど) 1 mol (2)グリシジル(メタ)アクリレート
4−n mol (3)モノグリシジルエーテル化合物(メチルグリシジ
ルエーテル、エチルグリシジルエーテル、n−プロピル
グリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテ
ル、n−ブチルグリシジルエ−テル、イソブチルグリシ
ジルエーテル、n−ヘキシルグリシジルエーテル、2エ
チルヘキシルグリシジルエーテル、n−デシルグリシジ
ルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フエニールグ
リシジルエーテル、グリシドールなど)
n mol (nは0≦n≦4の整数) の付加反応物が有用である。(1) Diamine compound (monooxyethylene diamine, dioxyethylene diamine, trioxyethylene diamine, tetraoxyethylene diamine, pentaoxyethylene diamine, hexaoxyethylene diamine, heptaoxyethylene diamine, octaoxyethylene diamine, nonaoxyethylene diamine, decaoxyethylene diamine, trioxyethylene diamine Triacontaoxyethylenediamine, monooxypropylenediamine, dioxypropylenediamine, trioxypropylenediamine,
Tetraoxypropylenediamine, pentaoxypropylenediamine, hexaoxypropylenediamine, heptaoxypropylenediamine, octaoxypropylenediamine, nonaoxypropylenediamine, decaoxypropylenediamine, tritriacontaoxypropylenediamine, N-hydroxyethylhexapropylenediamine, N-hydroxyisopropylhexapropylenediamine, N, N'-dihydroxyethylhexapropylenediamine, N, N'-dihydroxyisopropylhexapropylenediamine, trimethylenebis (4-aminobenzoate), (tetramethyleneglycolbis (4-aminobenzoate ), Dibutylene glycol bis (4-aminobenzoate), o-xylylenediamine, m-xylylenediene Amine, p-xylylenediamine, N-hydroxyethyl-m-xylylenediamine,
N-hydroxyisopropyl-m-xylylenediamine, N, N'-dihydroxyethyl-m-xylylenediamine, N, N'-dihydroxyisopropyl-m-xylylenediamine, etc.) 1 mol (2) glycidyl (meth) acrylate
4-n mol (3) monoglycidyl ether compound (methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, n-propyl glycidyl ether, isopropyl glycidyl ether, n-butyl glycidyl ether, isobutyl glycidyl ether, n-hexyl glycidyl ether, 2 ethylhexyl Glycidyl ether, n-decyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, glycidol, etc.)
The addition reaction product of nmol (n is an integer of 0 ≦ n ≦ 4) is useful.
【0044】また感光層とインキ反撥層との接着力を制
御する目的から、下記に示すような有機シリル基を有す
るエチレン性不飽和化合物も該感光層に好ましく添加さ
れる。For the purpose of controlling the adhesive force between the photosensitive layer and the ink repellent layer, an ethylenically unsaturated compound having an organic silyl group as shown below is also preferably added to the photosensitive layer.
【0045】本発明に好ましく添加される有機シリル基
を有するエチレン性不飽和基化合物としては、光重合性
のエチレン性不飽和化合物が好ましく用いられる。As the ethylenically unsaturated group compound having an organic silyl group which is preferably added to the present invention, a photopolymerizable ethylenically unsaturated compound is preferably used.
【0046】本発明に言う有機シリル基は、大別して加
水分解性の活性シリル基と非加水分解性のシリル基の二
つに分類できる。The organic silyl group referred to in the present invention can be roughly classified into two groups, a hydrolyzable active silyl group and a non-hydrolyzable silyl group.
【0047】第一の加水分解性の活性シリル基とは、加
水分解によりシラノール基などの高反応性基が再生する
アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、オキシムシ
リル基などのシリル基とトリメチルシロキシ基、トリエ
チルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基などのように
加水分解によってアルコール性水酸基が再生するものが
挙げられる。The first hydrolyzable active silyl group is a silyl group such as an alkoxysilyl group, an acetoxysilyl group or an oximesilyl group, which is regenerated by a highly reactive group such as a silanol group by hydrolysis, and a trimethylsiloxy group, Examples thereof include those in which alcoholic hydroxyl groups are regenerated by hydrolysis such as triethylsiloxy group and triphenylsiloxy group.
【0048】アルコキシシリル基の具体例としては、ト
リメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジ
メトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ビニル
ジメトキシシリル基、ビニルジエトキシシリル基、アリ
ルジメトキシシリル基、アリルジエトキシシリル基、3-
メタクリロキシプロピルジメトキシシリル基、3-メタク
リロキシプロピルジエトキシシリル基、ジメチルメトキ
シシリル基、ジメチルエトキシシリル基、ジビニルメト
キシシリル基、ジビニルエトキシシリル基、ジアリルメ
トキシシリル基、ジアリルエトキシシリル基、3-メタク
リロキシプロピルメチルメトキシシリル基、3-メタクリ
ロキシプロピルメチルエトキシシリル基など。Specific examples of the alkoxysilyl group include trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group, methyldimethoxysilyl group, methyldiethoxysilyl group, vinyldimethoxysilyl group, vinyldiethoxysilyl group, allyldimethoxysilyl group and allyl. Diethoxysilyl group, 3-
Methacryloxypropyl dimethoxysilyl group, 3-methacryloxypropyl diethoxysilyl group, dimethylmethoxysilyl group, dimethylethoxysilyl group, divinylmethoxysilyl group, divinylethoxysilyl group, diallylmethoxysilyl group, diallylethoxysilyl group, 3-methacryl Roxypropylmethylmethoxysilyl group, 3-methacryloxypropylmethylethoxysilyl group, etc.
【0049】アセトキシシリル基の具体例としては、ト
リアセトキシシリル基、メチルジアセトキシシリル基、
エチルジアセトキシシリル基、ジメチルジアセトキシシ
リル基、ジエチルアセトキシシリル基など。Specific examples of the acetoxysilyl group include triacetoxysilyl group, methyldiacetoxysilyl group,
Ethyldiacetoxysilyl group, dimethyldiacetoxysilyl group, diethylacetoxysilyl group, etc.
【0050】オキシムシリル基の具体例としては、トリ
ス(メチルエチルケトオキシム)シリル基、メチルジ
(メチルエチルケトオキシム)シリル基、エチルジ(メ
チルエチルケトオキシム)シリル基、ビニルジ(メチル
エチルケトオキシム)シリル基など。Specific examples of the oxime silyl group include tris (methylethylketoxime) silyl group, methyldi (methylethylketoxime) silyl group, ethyldi (methylethylketoxime) silyl group, vinyldi (methylethylketoxime) silyl group and the like.
【0051】これらの加水分解性の活性シリル基を有す
るエチレン性不飽和基化合物としては、上記の活性シリ
ル基および光重合性または光架橋性のエチレン性不飽和
基とが同一分子内に存在すれば、その分子構造にはなん
ら制限を受けないが、合成や入手の容易さから下記のよ
うな化合物が一般的である。As the ethylenically unsaturated group compound having a hydrolyzable active silyl group, the above active silyl group and the photopolymerizable or photocrosslinkable ethylenically unsaturated group may be present in the same molecule. For example, although the molecular structure is not limited, the following compounds are common because of their ease of synthesis and availability.
【0052】すなわち、光重合性のものとしては、炭素
数30以下の多価アルコール、多価酸や酸無水物あるい
は多価アミンから誘導される(メタ)アクリル酸エステ
ルやアリルエステル、(メタ)アクリルアミドなど、ま
たエポキシエステルの付加物などのエチレン性不飽和基
化合物などで、これらを合成する段階の途中もしくは最
後において、上記に定義された有機シリル基を有する化
合物を反応させて同一分子内に有機シリル基を取込む方
法が一般的である。That is, as the photopolymerizable one, a (meth) acrylic acid ester or an allyl ester derived from a polyhydric alcohol having 30 or less carbon atoms, a polyhydric acid, an acid anhydride or a polyvalent amine, (meth) Acrylamide, an ethylenically unsaturated group compound such as an epoxy ester adduct, etc. may be reacted with a compound having an organic silyl group defined above in the same molecule during or after the step of synthesizing these compounds. The method of incorporating an organic silyl group is common.
【0053】反応に用いる上記の有機シリル基化合物と
しては、クロロアルキルシリル化合物、エポキシアルキ
ルシリル化合物、アミノアルキルシリル化合物、メルカ
プトアルキルシリル化合物、イソシアナートプロピルシ
リル化合物 などがあり、これらのクロロシリル基、エ
ポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアナート基
などを利用して反応させる。また、多価アセトキシシ
リル基や多価オキシムシリル基の一部を反応させて(例
えばトリオキシムシリル基を反応させて、ジオキシムシ
リル基とするなど)有機シリル基を取り込むことも可能
である。Examples of the above-mentioned organic silyl group compound used in the reaction include a chloroalkylsilyl compound, an epoxyalkylsilyl compound, an aminoalkylsilyl compound, a mercaptoalkylsilyl compound, and an isocyanatopropylsilyl compound. Group, amino group, mercapto group, isocyanate group, etc. are used for the reaction. Further, it is also possible to react a part of the polyvalent acetoxysilyl group or the polyvalent oxime silyl group (for example, by reacting a trioxime silyl group to form a dioxime silyl group) to incorporate an organic silyl group.
【0054】下記に具体例を示すが、これらに限定され
るものではない。Specific examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0055】 例1 2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート 1 mol ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン1 mol 例2 ペンタエリスリトールトリアクリレート 1 mol トリメトキシクロロシラン 1 mol 例3 エチレングリコールジグリシジルエーテル/メタクリル酸付加物 1 mol 3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン n mol (nは1≦n≦2 の整数) 例4 ジエチレントリアミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 3−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦3 の整数) 例5 トリエチレンテトラミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦4 の整数) 例6 ジアミノジフェニルメタン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦4 の整数) 例7 m−キシリレンジアミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦4 の整数) 例8 ペンタオキシプロピレンジアミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦4 の整数) 例9 3−アミノプロピルトリメトキシシラン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 2 mol 例10 3−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 3 mol 例11 トリエチレングリコールジアクリレート 1 mol トリメトキシシラン 1 mol 例12 m−キシリレンジアミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol アリルグリシジルエーテル n mol (nは1≦n≦4 の整数) 以上の付加反応物と 3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン n mol 例13 トリメチロールプロパントリメタクリレート 1 mol 3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン n mol (nは1≦n≦2 の整数) 例14 グリセリンジメタクリレート 1 mol ヘキサメチルジシラザン 0.5 mol 例15 エチレングリコールジグリシジルエーテル/メタクリル酸付加物 1 mol ヘキサメチルジシラザン 1 mol 例16 p−ヒドロキシスチレン 1 mol ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン1 molExample 1 2-Hydroxypropyl (meth) acrylate 1 mol Vinyltris (methylethylketoxime) silane 1 mol Example 2 Pentaerythritol triacrylate 1 mol Trimethoxychlorosilane 1 mol Example 3 Ethylene glycol diglycidyl ether / methacrylic acid adduct 1 mol 3-isocyanatopropyltriethoxysilane nmol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 2) Example 4 Diethylenetriamine 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 3-nmol 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane nmol (n is 1 ≦ n ≦ 3) Example 5 Triethylenetetramine 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 4-nmol 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane nmol (n is 1 ≦ n ≦ 4 Example 6 diaminodiphenylmethane 1 mol glycidyl (meth) acrylate 4-n mol 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane n mol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 4) Example 7 m-xylylenediamine 1 mol glycidyl (Meth) acrylate 4-nmol 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane nmol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 4) Example 8 Pentaoxypropylenediamine 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 4-nmol 3-glyc Sidoxypropyltrimethoxysilane n mol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 4) Example 9 3-aminopropyltrimethoxysilane 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 2 mol Example 10 3- (2-Aminoethyl) aminopropylmethyl Dimethoxysilane 1 mol glycy (Meth) acrylate 3 mol Example 11 Triethylene glycol diacrylate 1 mol Trimethoxysilane 1 mol Example 12 m-xylylenediamine 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 4-n mol Allyl glycidyl ether n mol (n is 1 ≦ n ≤4 integer) and above addition reaction product and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane nmol Example 13 trimethylolpropane trimethacrylate 1 mol 3-mercaptopropyltrimethoxysilane nmol (n is an integer of 1≤n≤2) Example 14 Glycerin dimethacrylate 1 mol Hexamethyldisilazane 0.5 mol Example 15 Ethylene glycol diglycidyl ether / methacrylic acid adduct 1 mol Hexamethyldisilazane 1 mol Example 16 p-hydroxystyi Len 1 mol Vinyltris (methylethylketoxime) silane 1 mol
【0056】第二の非加水分解性のシリル基としては非
反応性のシリル基を意味し、アルキルシリル基やアリル
シリル基などが挙げられる。これらの非加水分解性のシ
リル基を有するエチレン性不飽和基化合物としては、上
記の非反応性シリル基および光重合性または光架橋性の
エチレン性不飽和基とが同一分子内に存在すれば、その
分子構造にはなんら制限を受けないが、合成や入手の容
易さから下記のような化合物が一般的である。The second non-hydrolyzable silyl group means a non-reactive silyl group, and examples thereof include an alkylsilyl group and an allylsilyl group. As the ethylenically unsaturated group compound having a non-hydrolyzable silyl group, if the non-reactive silyl group and the photopolymerizable or photocrosslinkable ethylenically unsaturated group are present in the same molecule The molecular structure thereof is not limited, but the following compounds are generally used because of their ease of synthesis and availability.
【0057】下記に具体例を示すが、これらに限定され
るものではない。Specific examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0058】 例17 m−キシリレンジアミン 1 mol グリシジル(メタ)アクリレート 4−n mol アリルグリシジルエーテル n mol (nは1≦n≦4 の整数) 以上の付加反応物と トリメトキシシラン n mol 例18 2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート 3 mol メチルトリアセトキシシラン 1 mol 例19 α,ω−ビス(3−アミノプロピル)ヘキサジメチルシロキサン 1 mol グリシジルメタアクリレート 4−n mol メチルグリシジルエーテル n mol (nは0≦n≦4の整数) 例20 1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルメチルジシロキサ ン 1 mol グリシジルメタアクリレート 4−n mol メチルグリシジルエーテル n mol (nは0≦n≦4の整数)Example 17 m-Xylylenediamine 1 mol Glycidyl (meth) acrylate 4-n mol Allyl glycidyl ether n mol (n is an integer of 1 ≦ n ≦ 4) The above addition reaction product and trimethoxysilane n mol Example 18 2-Hydroxypropyl (meth) acrylate 3 mol Methyltriacetoxysilane 1 mol Example 19 α, ω-bis (3-aminopropyl) hexadimethylsiloxane 1 mol Glycidyl methacrylate 4-n mol Methylglycidyl ether n mol (n is 0 ≦ n ≦ 4) Example 20 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethylmethyldisiloxane 1 mol glycidyl methacrylate 4-n mol methyl glycidyl ether n mol (n is 0 ≦ n ≦ 4) integer)
【0059】これらの他にも、ビス(アミノプロピルジ
メチルシリル)ベンゼン/グリシジルメタクリレート=
1/4モル比付加反応物なども本発明に有用な有機シリ
ル基を有するエチレン性不飽和化合物の例として挙げら
れる。In addition to these, bis (aminopropyldimethylsilyl) benzene / glycidyl methacrylate =
A 1/4 molar ratio addition reaction product and the like are also mentioned as examples of the ethylenically unsaturated compound having an organic silyl group useful in the present invention.
【0060】また上記に説明した有機シリル基を有する
エチレン性不飽和化合物の他にも、少量にポリジメチル
シロキサン、シリコーンレジン、公知の各種変性ポリジ
メチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロ
キサン、シリコーン(メタ)アクリレートなどのシリコ
ーン化合物を添加することも可能である。特にシリコー
ン(メタ)アクリレートの少量添加は感度調整などの点
から有効である。In addition to the ethylenically unsaturated compound having an organic silyl group described above, a small amount of polydimethylsiloxane, silicone resin, various known modified polydimethylsiloxanes, polyether modified polydimethylsiloxane, silicone (meta ) It is also possible to add silicone compounds such as acrylates. In particular, addition of a small amount of silicone (meth) acrylate is effective from the viewpoint of sensitivity adjustment.
【0061】シリコーン(メタ)アクリレートの具体例
としては、1,3−ビス(3−メタクリロキシプロピ
ル)−1,1,3,3,−テトラメチルジシロキサン、
3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
1−(3−メタクリロキシプロピル)1,1,3,3,
3−ペンタメチルジシロキサン、3−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピ
ルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、α,ω−メタ
クリロキシプロピルポリジメチルシロキサン、ポリ(メ
タクリロキシプロピルメチル−co−ジメチル)シロキ
サンなどが挙げられる。Specific examples of the silicone (meth) acrylate include 1,3-bis (3-methacryloxypropyl) -1,1,3,3, -tetramethyldisiloxane,
3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane,
1- (3-methacryloxypropyl) 1,1,3,3,
3-pentamethyldisiloxane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltris (trimethylsiloxy) silane, α, ω-methacryloxypropylpolydimethylsiloxane, poly (methacryloxypropylmethyl-co-dimethyl) Examples thereof include siloxane.
【0062】本発明に用いられる感光層中には、これら
の特定の構造および機能を果たすモノマの他に感度調整
などの目的から公知のモノマまたはオリゴマを添加する
こともできる。In the photosensitive layer used in the present invention, known monomers or oligomers may be added for the purpose of adjusting sensitivity in addition to the monomers having these specific structures and functions.
【0063】このようなモノマまたはオリゴマの具体例
を下記に示す。Specific examples of such a monomer or oligomer are shown below.
【0064】アルコール類(エタノール、プロパノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、イソアミルアルコール、ラウリルアルコー
ル、ステアリルアルコール、ブトキシエチルアルコー
ル、エトキシエチレングリコール、メトキシエチレング
リコール、メチキシプロピレングリコール、フェノキシ
エタノール、フェノキシジエチレングリコール、テトラ
ヒドロフルフリルアルコールなど)の(メタ)アクリル
酸エステル、カルボン酸類(酢酸、プロピオン酸、安息
香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸、マレイン
酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸など)と(メタ)アク
リル酸グリシジルまたはテトラグリシジル−m−キシリ
レンジアミンまたはテトラグリシジル−m−テトラヒド
ロキシリレンジアミンとの付加反応物、アミド誘導体
(アクリルアミド、メタクリルアミド、n−メチロール
アクリルアミド、メチレンビスアクリルアミドなど)、
エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応物な
どを挙げることができる。Alcohols (ethanol, propanol, hexanol, octanol, cyclohexanol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, isoamyl alcohol, lauryl alcohol, stearyl alcohol, butoxyethyl alcohol, ethoxyethylene glycol, methoxyethylene glycol, methoxypropylene). (Meth) acrylic acid esters of glycol, phenoxyethanol, phenoxydiethylene glycol, tetrahydrofurfuryl alcohol, etc., carboxylic acids (acetic acid, propionic acid, benzoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, succinic acid, maleic acid, phthalic acid, tartaric acid, citric acid) Acid) and glycidyl (meth) acrylate or tetraglycidyl-m-xylylenediamine or tet Addition reaction product of glycidyl -m- tetrahydroxy Li diamine, amide derivatives (acrylamide, methacrylamide, n- methylolacrylamide, methylenebisacrylamide, etc.),
Examples thereof include addition reaction products of epoxy compounds and (meth) acrylic acid.
【0065】さらに具体的には、特公昭48−4170
8号公報、特公昭50−6034号公報、特開昭51−
37193号公報に記載されているウレタンアクリレー
ト、特開昭48−64183号公報、特公昭49−43
191号公報、特公昭52−30490号公報に記載さ
れているポリエステルアクリレート、エポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸を反応させた多官能エポキシ(メ
タ)アクリレート、米国特許4540649 に記載されている
N−メチロールアクリルアミド誘導体などを挙げること
ができる。更に日本接着協会誌VOL.20,No.7,p300〜308
に紹介されている光硬化性モノマおよびオリゴマを用い
ることができる。More specifically, Japanese Patent Publication No. 48-4170.
No. 8, Japanese Patent Publication No. 50-6034, Japanese Patent Laid-Open No. 51-
Urethane acrylates described in JP-A-37193, JP-A-48-64183 and JP-B-49-43.
191 and Japanese Patent Publication No. 52-30490, polyester acrylates, polyfunctional epoxy (meth) acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, and N-methylol described in US Pat. No. 4,540,649. Examples thereof include acrylamide derivatives. Furthermore, Japan Adhesive Association magazine VOL.20, No.7, p300-308
The photocurable monomers and oligomers introduced in can be used.
【0066】次に本発明の最大の特徴である光増感剤に
ついて説明する。Next, the photosensitizer which is the greatest feature of the present invention will be described.
【0067】本発明に用いられる光増感剤としては、下
記に挙げる(I)〜(III )群からそれぞれ選ばれた光
増感剤の混合物を、好ましくは特定の組成範囲で含有す
ることを特徴とする。 (I)ビス(アルキルアミノ)ベンゾフェノン (II)チオキサントン誘導体 (III )400nmを越えた波長領域に吸収極大を持つ
化合物The photosensitizer used in the present invention contains a mixture of photosensitizers selected from the following groups (I) to (III), preferably in a specific composition range. Characterize. (I) Bis (alkylamino) benzophenone (II) Thioxanthone derivative (III) Compound having absorption maximum in wavelength region beyond 400 nm
【0068】(I)群のビス(ジアルキルアミノ)ベン
ゾフェノンとしては、下記一般式(7)で表わされる化
合物を意味する。The bis (dialkylamino) benzophenone of the group (I) means a compound represented by the following general formula (7).
【化3】 (ただし、R1 、R2 、R3 、R4 は炭素数1〜20の
アルキル基を表わす。) 具体例としては、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベ
ンゾフェノン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベン
ゾフェノン、4,4′−ビス(ジプロピルアミノ)ベン
ゾフェノン、4,4′−ビス(ピペリジン)ベンゾフェ
ノンなどが挙げられる。[Chemical 3] (However, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.) Specific examples include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis. (Diethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (dipropylamino) benzophenone, 4,4'-bis (piperidine) benzophenone and the like can be mentioned.
【0069】(II)群のチオキサントン誘導体として
は、下記一般式(8)で表わされる化合物を意味する。The thioxanthone derivative of group (II) means a compound represented by the following general formula (8).
【化4】 (ただし、R5 、R6 、R7 、R8 は水素原子、ハロゲ
ン原子、炭素数1〜20置換または未置換のアルキル
基、アルケニル基、炭素数6〜20の置換または未置換
のアリール基、アラルキル基から選ばれる官能基を表わ
し、同一でも異なってもよい。) 具体例としては2−クロルチオキサントン、2−メチル
チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2
−ラウリルチオキサントン、3−クロルチオキサント
ン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチ
ルチオキサントン、2,4−ジクロルチオキサントン、
2,4−ジイソプロピルチオキサントン、3,4−ジカ
ルボキシオクチルチオキサントン、2−メチル−3′−
カルボキシラウリルチオキサントンなどが挙げられる。[Chemical 4] (However, R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Represents a functional group selected from an aralkyl group and may be the same or different.) Specific examples include 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2
-Laurylthioxanthone, 3-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone,
2,4-diisopropylthioxanthone, 3,4-dicarboxyoctylthioxanthone, 2-methyl-3'-
Carboxylauryl thioxanthone etc. are mentioned.
【0070】(III )群の400nmを越えた波長領域
に吸収極大を持つ化合物としては、アクリドン誘導体を
挙げることができる。アクリドン誘導体としては、下記
一般式(9)で表わされる化合物を意味する。Examples of the compound (III) having an absorption maximum in the wavelength region exceeding 400 nm include acridone derivatives. The acridone derivative means a compound represented by the following general formula (9).
【化5】 (ただし、R9 、R10、R11、R12、R13は水素原子、
ハロゲン原子、炭素数1〜20置換または未置換のアル
キル基、アルケニル基、炭素数6〜20の置換または未
置換のアリール基、アラルキル基から選ばれる官能基を
表わし、同一でも異なってもよい。) 具体例としては、1−クロル−N−メチルアクリドン、
1−ブロム−N−メチルアクリドン、3−クロル−N−
メチルアクリドン、2−クロル−N−ブチルアクリド
ン、2−クロル−N−メチルアクリドン、3−クロル−
N−ベンジルアクリドン、4−クロル−N−メチルアク
リドン、2,3−ジクロル−N−メチルアクリドン、
2,6−ジクロル−N−メチルアクリドン、2,6−ジ
クロル−N−ブチルアクリドン、2−クロル−N−アリ
ルアクリドン、3−クロル−N−ベンジルアクリドン、
N−ベンジルアクリドン、N−ブチルアクリドン、N−
エチルアクリドンなどが挙げられる。[Chemical 5] (However, R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , and R 13 are hydrogen atoms,
It represents a functional group selected from a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and an aralkyl group, which may be the same or different. ) As a specific example, 1-chloro-N-methylacridone,
1-bromo-N-methylacridone, 3-chloro-N-
Methylacridone, 2-chloro-N-butylacridone, 2-chloro-N-methylacridone, 3-chloro-
N-benzylacridone, 4-chloro-N-methylacridone, 2,3-dichloro-N-methylacridone,
2,6-dichloro-N-methylacridone, 2,6-dichloro-N-butylacridone, 2-chloro-N-allylacridone, 3-chloro-N-benzylacridone,
N-benzylacridone, N-butylacridone, N-
Examples include ethyl acridone.
【0071】(III )群の400nmを越えた波長領域
に吸収極大を持つ化合物を含有することにより、平版印
刷版の汎用露光光源であるメタルハライドランプなどに
対する感度の向上およびフィルムエッジやごみなどの焼
き飛ばし性の向上が図れる。By containing a compound having an absorption maximum in the wavelength region of more than 400 nm of the group (III), the sensitivity of the lithographic printing plate to a metal halide lamp, which is a general-purpose exposure light source, and the burning of film edges and dust are improved. The flying performance can be improved.
【0072】これらの光増感剤の添加量は本発明の効果
を効率良く発現する意味から極めて重要で、感光層乾燥
重量に対して光増感剤の添加量総量が0.3〜40重量
%、好ましくは6〜30重量%であり、各群に属する光
増感剤の添加量が、 (I) 0.1〜 5重量% (II) 0.1〜20重量% (III )0.1〜15重量% また特に、 (I) 1〜 5重量% (II) 3〜15重量% (III )2〜10重量% の組成範囲であることが好ましい。The addition amount of these photosensitizers is extremely important in that the effects of the present invention can be efficiently exhibited. %, Preferably 6 to 30% by weight, and the addition amount of the photosensitizer belonging to each group is (I) 0.1 to 5% by weight (II) 0.1 to 20% by weight (III) 0.1. 1 to 15% by weight Further, it is particularly preferable that the composition range is (I) 1 to 5% by weight (II) 3 to 15% by weight (III) 2 to 10% by weight.
【0073】各群の光増感剤が該組成範囲以下で添加さ
れると実質的に二種混合系の公知例と差がなく、また該
組成範囲以上では光増感効果が飽和し、感光層を過度に
可塑化され、感光層が脆く耐刷性が低下する傾向にあ
り、高価な光増感剤を大量に用いることは経済的にも不
利である。When the photosensitizer of each group is added within the above composition range, there is substantially no difference from the known examples of the two-component mixture system, and above the composition range, the photosensitizing effect is saturated, and The layer is excessively plasticized, the photosensitive layer tends to be brittle and printing durability tends to be deteriorated, and it is economically disadvantageous to use a large amount of an expensive photosensitizer.
【0074】下記に本発明に好ましく用いられる光増感
剤組成の中でも、特に好ましく用いられる光増感剤組成
の組合わせおよび組成範囲の具体例を示す。Specific examples of combinations and composition ranges of photosensitizer compositions which are particularly preferably used among the photosensitizer compositions preferably used in the present invention are shown below.
【0075】なお、(III) の化合物の吸収極大波長は以
下の通りである。The maximum absorption wavelength of the compound (III) is as follows.
【0076】 2−クロル−N−ブチルアクリドン 411nm 2,6−ジクロル−N−ブチルアクリドン 411nm N−ブチルアクリドン 402nm2-chloro-N-butylacridone 411 nm 2,6-dichloro-N-butylacridone 411 nm N-butylacridone 402 nm
【表1】 [Table 1]
【表2】 またこれらの特定の構造および組合わせを有する光増感
剤の他にも、本発明の効果を損わない範囲で公知の光増
感剤を少量添加することも可能である。[Table 2] In addition to the photosensitizers having these specific structures and combinations, known photosensitizers can be added in small amounts within the range that does not impair the effects of the present invention.
【0077】また本発明に用いられる感光層には、染料
や顔料、pH指示薬、ロイコ染料、界面活性剤、有機
酸、重合禁止剤、光酸発生剤などの各種添加剤を加える
ことも可能である。It is also possible to add various additives such as dyes and pigments, pH indicators, leuco dyes, surfactants, organic acids, polymerization inhibitors and photoacid generators to the photosensitive layer used in the present invention. is there.
【0078】特に有機酸の添加は、上記の有機シリル基
を有するエチレン性不飽和化合物の接着反応や光重合反
応を制御する点から好ましく添加される。例えば、酢
酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル
酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン
酸など。またジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラ
ウレート、ジブチル錫ジオクトエートなどに代表される
公知の金属触媒なども微量を感光層中に添加することも
好ましい。In particular, the addition of an organic acid is preferably added from the viewpoint of controlling the adhesion reaction and photopolymerization reaction of the above-mentioned ethylenically unsaturated compound having an organic silyl group. For example, acetic acid, propionic acid, benzoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, succinic acid, maleic acid, phthalic acid, tartaric acid, citric acid and the like. It is also preferable to add a small amount of a known metal catalyst represented by dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dioctoate, etc. to the photosensitive layer.
【0079】重合禁止剤としては、例えばハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチルクレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、フェノチアジン、テンポールなどが有用で
ある。Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butylcresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol). , 2,2'-methylenebis (4-methyl-
6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, phenothiazine, tempol and the like are useful.
【0080】さらに感光層とプライマー層の接着を向上
させる目的などから、公知のジアゾ化合物を感光層中に
添加することも可能である。Further, a known diazo compound may be added to the photosensitive layer for the purpose of improving the adhesion between the photosensitive layer and the primer layer.
【0081】また感光層組成物の塗工性を向上させる目
的から、フッ素系界面活性剤を添加することも好まし
い。Further, for the purpose of improving the coatability of the photosensitive layer composition, it is also preferable to add a fluorinated surfactant.
【0082】本発明に用いられる感光層中には形態保持
用充填剤(ポリマーあるいは無機粉末)として、公知の
樹脂および無機粉末を添加することが好ましく行なわれ
る。Known resins and inorganic powders are preferably added as a shape-maintaining filler (polymer or inorganic powder) to the photosensitive layer used in the present invention.
【0083】すなわち、(メタ)アクリル酸系化合物共
重合体、クロトン酸化合物共重合体、マレイン酸系化合
物共重合体、ロジン変性などの部分エステル化マレイン
酸系化合物共重合体、酸性セルロース誘導体、ポリビニ
ルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、アルコール可
溶性ナイロン、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、ポリウレタン、ポリスチレン、エポキシ樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、部分
アセタール化ポリビニルアルコール、水溶性ナイロン、
水溶性ウレタン、ゼラチン、水溶性セルロース誘導体な
どを単体もしくは二種類以上混合して用いることが可能
である。That is, (meth) acrylic acid compound copolymer, crotonic acid compound copolymer, maleic acid compound copolymer, partially esterified maleic acid compound copolymer such as rosin modified, acidic cellulose derivative, Polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, alcohol-soluble nylon, polyester resin, unsaturated polyester resin, polyurethane, polystyrene, epoxy resin, phenoxy resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, partially acetalized polyvinyl alcohol, water-soluble nylon ,
Water-soluble urethane, gelatin, water-soluble cellulose derivative and the like can be used alone or in combination of two or more kinds.
【0084】さらに側鎖に光重合可能または光架橋可能
なオレフィン性不飽和二重結合基を有する高分子化合物
も単体もしくは上記のポリマに加えて二種類以上混合し
て用いることが可能である。Further, a polymer compound having a photopolymerizable or photocrosslinkable olefinically unsaturated double bond group in its side chain may be used alone or in combination with two or more of the above polymers.
【0085】具体的には、特開昭59−53836号公
報に提案されているアリル(メタ)アクリレート/(メ
タ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニ
ルモノマ共重合体、及びそのアルカリ金属塩またはアミ
ン塩、特公昭59−45979号公報に提案されている
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/(メタ)アク
リル酸/アルキル(メタ)アクリレート共重合体、及び
そのアルカリ金属塩またはアミン塩に(メタ)アクリル
酸クロライドを反応させたもの、特開昭59−7104
8号公報に提案されている無水マレイン酸共重合体にペ
ンタエリスリトールトリアクリレートをハーフエステル
化で付加させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはア
ミン塩、スチレン/無水マレイン酸共重合体にモノヒド
ロキシアルキル(メタ)アクリレー及びまたはポリエチ
レングリコールモノ(メタ)アクリレート及びまたはポ
リプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートをハ
ーフエステル化で付加させたもの、及びそのアルカリ金
属塩またはアミン塩、(メタ)アクリル酸共重合体やク
ロトン酸共重合体のカルボン酸の一部にグリシジル(メ
タ)アクリレートを反応させたもの、及びそのアルカリ
金属塩またはアミン塩、ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート共重合体、ポリビニルホルマール及びまたは
ポリビニルブチラールに無水マレイン酸や無水イタコン
酸を反応させたもの、及びそのアルカリ金属塩またはア
ミン塩、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート/
(メタ)アクリル酸共重合体に2,4−トリレンジイソ
シアネート/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
=1/1モル比付加反応物をさらに反応させたもの、、
及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、特開昭59−
53836号公報に提案されている(メタ)アクリル酸
共重合体の一部をアリルグリシジルエーテルで反応させ
たもの及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、(メ
タ)アリルアクリレート/スチレンスルフォン酸ナトリ
ウム共重合体、(メタ)アクリル酸ビニル/スチレンス
ルフォン酸ナトリウム共重合体、(メタ)アリルアクリ
レート/アクリルアミド/1,1−ジメチルエチレンン
スルフォン酸ナトリウム共重合体、(メタ)アクリル酸
ビニル/アクリルアミド/1,1−ジメチルエチレンン
スルフォン酸ナトリウム共重合体、2−アリロキシエチ
ル(メタ)アクリレート/メタクリル酸共重合体、2−
アリロキシエチル(メタ)アクリレート/2−メタクリ
ロキシエチル水素サクシネート共重合体などを挙げるこ
とができる。Specifically, allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / another addition-polymerizable vinyl monomer copolymer, if necessary, proposed in JP-A-59-53836 and its alkali. Metal salts or amine salts, hydroxyethyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / alkyl (meth) acrylate copolymers proposed in JP-B-59-45979, and alkali metal salts or amine salts thereof ( Those obtained by reacting (meth) acrylic acid chloride, JP-A-59-7104
No. 8 proposed by adding maleic anhydride copolymer to pentaerythritol triacrylate by half-esterification, its alkali metal salt or amine salt, styrene / maleic anhydride copolymer and monohydroxyalkyl (Meth) acrylate and / or polyethylene glycol mono (meth) acrylate and / or polypropylene glycol mono (meth) acrylate added by half-esterification, its alkali metal salt or amine salt, (meth) acrylic acid copolymer, A part of carboxylic acid of crotonic acid copolymer reacted with glycidyl (meth) acrylate, and its alkali metal salt or amine salt, hydroxyalkyl (meth) acrylate copolymer, polyvinyl formal and / or polyvinyl butyra Those obtained by reacting maleic anhydride and itaconic anhydride in Le, and an alkali metal salt or amine salt, hydroxyalkyl (meth) acrylate /
The (meth) acrylic acid copolymer further reacted with an addition reaction product of 2,4-tolylene diisocyanate / hydroxyalkyl (meth) acrylate = 1/1,
And its alkali metal salts or amine salts, JP-A-59-
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 53836 discloses a (meth) acrylic acid copolymer partially reacted with allyl glycidyl ether, an alkali metal salt or amine salt thereof, and a (meth) allyl acrylate / sodium styrene sulfonate copolymer. , Vinyl (meth) acrylate / sodium styrene sulfonate copolymer, (meth) allyl acrylate / acrylamide / 1,1-dimethylethylene sodium sulfonate copolymer, vinyl (meth) acrylate / acrylamide / 1,1 -Sodium dimethylethylene sulfonic acid copolymer, 2-allyloxyethyl (meth) acrylate / methacrylic acid copolymer, 2-
Examples thereof include allyloxyethyl (meth) acrylate / 2-methacryloxyethyl hydrogen succinate copolymer.
【0086】これらのポリマの感光層中における割合は
全感光層組成物に対して20〜97重量%、好ましくは
40〜80重量%で含むことができる。The proportion of these polymers in the photosensitive layer may be 20 to 97% by weight, preferably 40 to 80% by weight, based on the total composition of the photosensitive layer.
【0087】本発明に用いられる感光層は下記組成比が
一般的である。The photosensitive layer used in the present invention generally has the following composition ratio.
【0088】 式(3)で表わされる化合物(モノマ) 1〜50重量% 上記(1) 以外のモノマまたはオリゴマ 1〜50重量% 上記で説明した(I)〜(III )群からそれぞれ選ばれた光増感剤 0.3〜40重量% 形態保持用充填剤 20〜80重量% その他の添加剤 0〜10重量%Compound (Monomer) Represented by Formula (3) 1 to 50% by Weight Monomer or Oligomer Other than (1) 1 to 50% by Weight Selected from the groups (I) to (III) described above. Photosensitizer 0.3-40% by weight Filler for shape retention 20-80% by weight Other additives 0-10% by weight
【0089】また、上記の、のモノマまたはオリゴ
マ成分の合計が10〜80重量%であることが好まし
く、さらに好ましくは10〜50重量%である。感光層
中に過剰にモノマまたはオリゴマ成分が存在すると、感
光層の形態保持が不十分となり、少なすぎると画像再現
性が不良となる。The total amount of the above-mentioned monomer or oligomer components is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 10 to 50% by weight. If the monomer or oligomer component is excessively present in the photosensitive layer, the shape retention of the photosensitive layer will be insufficient, and if it is too small, image reproducibility will be poor.
【0090】また特にシリコーンゴム層に付加反応架橋
性のシリコーンガム組成物を用いる場合には、アリル基
を有する公知のポリマを添加することなどが好ましく行
われる。When a silicone gum composition crosslinkable by addition reaction is used in the silicone rubber layer, it is preferable to add a known polymer having an allyl group.
【0091】無機粉末としてはシリカ粒子が好ましく、
該シリカ粒子は公知のシランカップリング剤を用いて表
面処理することが可能である。As the inorganic powder, silica particles are preferable,
The silica particles can be surface-treated with a known silane coupling agent.
【0092】本発明に用いられる感光層の膜厚は乾燥重
量で、0.1〜100g/m2 の範囲が好ましく、0.
5〜10g/m2 の範囲がさらに好ましい。該膜厚が薄
すぎると塗工時にピンホールなどの欠点が生じ易くな
り、一方、厚すぎると塗膜乾燥や量など経済的見地から
不利である。The film thickness of the photosensitive layer used in the present invention is preferably 0.1 to 100 g / m 2 in dry weight,
The range of 5 to 10 g / m 2 is more preferable. If the film thickness is too thin, defects such as pinholes are likely to occur during coating, while if it is too thick, it is disadvantageous from the economical point of view such as drying and amount of the coating film.
【0093】本発明に用いられる平版印刷版の基板とし
ては、通常の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印
刷時に加わる荷重に耐えうるものである必要がある。代
表的なものとしては、アルミ、銅、鉄、などの金属板、
ポリエステルフィルムやポリプロピレンフィルムなどの
プラスチックフィルムあるいはコート紙、ゴムシートな
どが挙げられる。The substrate of the lithographic printing plate used in the present invention must be one that can withstand the flexibility attached to an ordinary lithographic printing machine and the load applied during printing. Typical examples are metal plates made of aluminum, copper, iron, etc.,
Examples thereof include plastic films such as polyester film and polypropylene film, coated paper, and rubber sheets.
【0094】また、該基板は上記の素材が複合されたも
のであってもよいし、これらの基板上にはハレーション
防止、画像の染色や印刷特性向上のためにプライマー層
が水なし平版印刷版に好ましく積層される。The substrate may be a combination of the above materials, and a waterless planographic printing plate having a primer layer for preventing halation, dyeing an image and improving printing characteristics on these substrates. Is preferably laminated.
【0095】次にプライマー層について説明する。Next, the primer layer will be described.
【0096】プライマー層としては、例えば、特開昭6
0−22903号公報に提案されている種々の感光性ポ
リマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめたも
の、特開平4−322181号公報に提案されているメ
タクリル系含リンモノマを感光層を積層する前に露光し
て硬化せしめたもの、特開平2−7049号公報に提案
されているメタクリル系エポキシ化合物を感光層を積層
する前に露光して硬化せしめたもの、特開昭62−50
760号公報に提案されているエポキシ樹脂を熱硬化せ
しめたもの、特開昭63−133151号公報に提案さ
れているゼラチンを硬膜せしめたもの、特開平1−28
2270号公報や特開平2−21072号公報に提案さ
れているウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることが
できる。この他にもカゼインを硬膜させたものも有効で
ある。As the primer layer, for example, Japanese Patent Laid-Open No.
Various photosensitive polymers proposed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 0-22903 are exposed and cured before laminating a photosensitive layer, and a methacrylic phosphorus-containing monomer proposed in JP-A-4-322181 is used as a photosensitive layer. Of the methacrylic epoxy compound proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 7049/1990, which is exposed and cured before being laminated. Fifty
Heat-cured epoxy resin proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 760, gelatin hardened in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-133151, Japanese Patent Laid-Open No. 1-28.
2270 and Japanese Patent Laid-Open No. 2-21072 can be used. Other than this, a casein-hardened casein is also effective.
【0097】さらにプライマー層を柔軟化させる目的
で、前記プライマー層にガラス転移温度が室温以下であ
るポリウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴ
ム、カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル/ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロ
ニトリル/ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アク
リレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、などのポリマを添加してもよい。For the purpose of further softening the primer layer, polyurethane, polyamide, styrene / butadiene rubber, carboxy-modified styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, carboxy-modified acrylonitrile / having a glass transition temperature of room temperature or lower is added to the primer layer. Polymers such as butadiene rubber, polyisoprene rubber, acrylate rubber, polyethylene, chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene may be added.
【0098】その添加割合は任意であり、フィルム層を
形成できる範囲出有れば、添加剤だけでプライマー層形
成してもよい。また、これらのプライマー層には前記の
目的に沿って、染料、pH指示薬、露光焼出し剤、フォ
トクロ化合物、光重合開始剤、接着助剤(例えば、重合
性モノマ、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタネ
ートカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、ジ
ルコニアカップリング剤、ボロンカップリング剤な
ど)、白色顔料やシリカ粒子などの添加剤を含有させる
ことができる。The addition ratio is arbitrary, and the primer layer may be formed only by the additive as long as it is within a range in which the film layer can be formed. In addition, for these primer layers, a dye, a pH indicator, an exposure printing-out agent, a photochromic compound, a photopolymerization initiator, an adhesion aid (for example, a polymerizable monomer, a diazo resin, a silane coupling agent) can be used in accordance with the above purpose. Agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, zirconia coupling agents, boron coupling agents, etc.), white pigments, and additives such as silica particles.
【0099】本発明に用いられるプライマー層の膜厚は
乾燥重量で0.1〜20g/m2 の範囲が好ましく、1
〜10g/m2 の範囲がさらに好ましい。The film thickness of the primer layer used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 20 g / m 2 in terms of dry weight.
The range of 10 g / m 2 is more preferable.
【0100】以上に説明された構成の水なし平版印刷版
原版のインキ反発性層の表面には、該インキ反発性層を
保護する目的で適当な保護層をコーティングにより該イ
ンキ反発性層上に形成したり、保護フィルムをラミネー
トすることも可能である。また、該保護層中には感光層
を曝光(露光光源以外の光で、本来非照射部分に光が照
射されることを意味する)から保護する目的で、光退色
性物質を含有せしめることもできる。On the surface of the ink repellent layer of the waterless lithographic printing plate precursor having the above-mentioned constitution, a suitable protective layer is coated on the ink repellent layer for the purpose of protecting the ink repellent layer. It can also be formed or laminated with a protective film. In addition, the protective layer may contain a photobleaching substance for the purpose of protecting the photosensitive layer from exposure to light (meaning that the non-irradiated portion is originally irradiated with light other than the exposure light source). it can.
【0101】保護フィルムの具体例としては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタ
レート、セロファンなどが挙げられる。また、これらの
保護フィルムは画像露光時の焼枠における真空密着性を
改良するために、表面をマット処理したり、シリカ粒子
などを含むプラスチック層を上記保護フィルムの表面に
塗布積層することも好ましく行なわれる。Specific examples of the protective film include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate and cellophane. Further, in order to improve the vacuum adhesion in the baking frame at the time of image exposure, it is also preferable that these protective films are matt-treated on the surface or a plastic layer containing silica particles or the like is applied and laminated on the surface of the protective film. Done.
【0102】次に本発明における水なし平版印刷版原版
の製造方法について説明する。基板上にリバースロール
コーター、エアーナイフコーター、メーヤバーコーター
などの通常のコータ、あるいはホエラーのような回転塗
布装置を用い、必要に応じてプライマ層組成物を塗布し
100〜300℃数分間硬化したのち、感光層組成物塗
液を塗布、50〜150℃の温度で数分間乾燥および必
要に応じて熱キュアし、その上にシリコーンガム組成物
を塗布し、50〜150℃の温度で数分間熱処理してゴ
ム硬化させて形成する。しかるのちに、必要に応じて保
護フィルムをラミネートする。Next, a method for producing a waterless planographic printing plate precursor according to the invention will be described. An ordinary coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, and a Mayer bar coater, or a spin coater such as a whaler was used to apply a primer layer composition to the substrate as needed, followed by curing at 100 to 300 ° C. for several minutes. After that, the photosensitive layer composition coating liquid is applied, dried at a temperature of 50 to 150 ° C. for several minutes and thermally cured if necessary, and the silicone gum composition is applied thereon, and the temperature of 50 to 150 ° C. for a few minutes. It is formed by heat treatment and rubber curing. After that, a protective film is laminated if necessary.
【0103】次に本発明で言う水なし平版印刷版原版の
露光現像工程について説明する。Next, the exposure and development step of the waterless planographic printing plate precursor according to the invention will be described.
【0104】本発明で言う水なし平版印刷版原版は、好
ましくはポジティブワーキンク用の版材として用いられ
る。該版材は真空密着されたポジフィルムを通じて、通
常の露光光源により画像露光する。この露光工程で用い
られる光源としては、例えば高圧水銀灯、カーボンアー
ク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯などが挙
げられる。このような通常の露光を行なったのち版面を
下記に説明する現像液を含んだ現像パッドやブラシでこ
すると、未露光部のシリコーンゴム層が除去されて感光
層が露出し、インキ受容部(画線部)が露出し刷版とな
る。The waterless planographic printing plate precursor according to the invention is preferably used as a plate material for positive working. The plate material is image-exposed with a usual exposure light source through a positive film which is vacuum-contacted. Examples of the light source used in this exposure step include a high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, and a fluorescent lamp. After such normal exposure, the plate surface is rubbed with a developing pad or a brush containing a developer described below, the silicone rubber layer in the unexposed area is removed and the photosensitive layer is exposed, and the ink receiving part ( The image area) is exposed and becomes a printing plate.
【0105】本発明で用いられる現像液としては、公知
のものが使用でき、感光層を適当に溶解もしくは膨潤さ
せるものが好ましい。例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキ
サン、ヘプタン、“アイソパー”E,H,G(ESSO
製イソパラフィン系炭化水素の商品名)、ガソリン、灯
油など)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン、な
ど)、ハロゲン化炭化水素類(トリクレンなど)などの
少なくとも1種類以上の混合溶媒に下記の極性溶媒を少
なくとも1種類添加したものが好ましく用いられる。As the developing solution used in the present invention, a known developing solution can be used, and a developing solution capable of appropriately dissolving or swelling the photosensitive layer is preferable. For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, "isopar" E, H, G (ESSO
(Product name of isoparaffin hydrocarbons made from gasoline, gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (tricrene, etc.), etc. The thing which added at least 1 type of polar solvent is used preferably.
【0106】アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、1、3−ブチレングリコール、2、3−ブチレング
リコール、ヘキシレングリコール、2−エチル−1、3
−ヘキサンジオール、など) エーテル類(エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコール、モノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−
2−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコール
モノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリ
プロピレングリールモノメチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフランなど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジアセトンアルコールなど) エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアエテートなど) カルボン酸(2−エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、2−エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸など)Alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol,
Tripropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butylene glycol, hexylene glycol, 2-ethyl-1,3
-Hexanediol, etc.) Ethers (ethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol, monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol mono-
2-ethylhexyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, dioxane,
Tetrahydrofuran, etc. Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, etc.) Esters (ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, Diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether ateate, etc.) Carboxylic acid (2-ethylbutyric acid, caproic acid, caprylic acid, 2-ethylhexanoic acid, capric acid, oleic acid,
(Lauric acid, etc.)
【0107】また、上記の有機溶剤系現像液組成には水
を添加したり、公知の界面活性剤を添加することも自由
に行なわれる。また、さらにアルカリ剤、例えば炭酸ナ
トリウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを添
加することもできる。It is also possible to freely add water or a known surfactant to the above organic solvent type developer composition. Further, an alkaline agent, for example, sodium carbonate, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium borate or the like can be added.
【0108】またこれらの現像液にはクリスタルバイオ
レット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行なうことができ
る。Further, well-known basic dyes such as crystal violet, Victoria pure blue, and Astrazone red, acid dyes, and oil-soluble dyes may be added to these developers to dye the image area simultaneously with development. it can.
【0109】また、本研究に用いられる水なし平版印刷
版を現像する際には、例えば東レ(株) にて市販されて
いるような自動現像機を用い、上記の現像液で版面を前
処理した後に水道水などでシャワーしながら回転ブラシ
で版面を擦ることによって、好適に現像することができ
る。また、上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版面
に噴霧することによっても現像が可能である。When developing the waterless planographic printing plate used in this study, an automatic developing machine commercially available from, for example, Toray Co., Ltd. is used, and the plate surface is pretreated with the above developing solution. After that, the plate surface is rubbed with a rotating brush while showering with tap water or the like, so that suitable development can be performed. Further, it is possible to develop by spraying hot water or steam on the plate surface instead of the above developing solution.
【0110】[0110]
【実施例】以下に実施例により、本発明をさらに詳細に
説明する。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.
【0111】実施例1〜19 通常の方法で脱脂した厚さ0.3mmのアルミ板(住友軽
金属(株)製)に、下記のプライマー組成物を塗布し、
200℃、2分間熱処理して5g/m2 のプライマー層
を塗設した。 <固形成分:塗布濃度12%> (1)ポリウレタン樹脂(“サンプレン”LQ−SZ18 ;三洋化成工業(株 )製) 75重量% (2)ブロックイソシアネート(“タケネート”B830;武田薬品(株)製) 15重量% (3)エポキシ・尿素樹脂 10重量% <溶剤成分> (4)ジメチルホルムアミドExamples 1 to 19 An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm (manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) degreased by a usual method was coated with the following primer composition,
After heat treatment at 200 ° C. for 2 minutes, a primer layer of 5 g / m 2 was applied. <Solid component: coating concentration 12%> (1) Polyurethane resin (“Samprene” LQ-SZ18; Sanyo Chemical Industry Co., Ltd.) 75% by weight (2) Blocked isocyanate (“Takenate” B830; Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) ) 15% by weight (3) Epoxy / urea resin 10% by weight <Solvent component> (4) Dimethylformamide
【0112】続いてこの上に、下記の組成を有する感光
性組成物を120℃、1分間乾燥して3g/m2 の感光
層を塗設した。 <固形成分:塗布濃度15%> (1)アジピン酸とヘキサン−1,6−ジオール、2,2−ジメチルプロパン− 1,3−ジオールとのポリエステルポリオールとイソホロンジイソシアネートと の反応によって得られたポリウレタン 49−α重量% (2)ペンタオキシプロピレンジアミン/グリシジルメタクリレート/メチルグ リシジルエーテル=1/3/1mol比付加反応物 15重量% (3)m−キシリレンジアミン/グリシジルメタクリレート/メチルグリシジル エーテル=1/2/2mol比付加反応物 15重量% (4)CH2 =CHCOO-(CH2 ) 9 -OCOCH=CH 2 8重量% (5)トリオキシプロピレンジアミン/グリシジルメタクリレート/3−グリシ ドキシプロピルトリメトキシシラン=1/3/1mol比付加反応物 2重量% (6)光増感剤(表1〜5参照) α重量% (7)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルフォン酸塩 0.5重量% (8)マレイン酸 0.5重量% <溶剤成分> (9)プロピレングリコールモノメチルエーテルSubsequently, a photosensitive composition having the following composition was dried thereon at 120 ° C. for 1 minute to form a photosensitive layer of 3 g / m 2 on the surface. <Solid component: coating concentration 15%> (1) Polyurethane obtained by reaction of polyester polyol of adipic acid with hexane-1,6-diol and 2,2-dimethylpropane-1,3-diol and isophorone diisocyanate 49-α wt% (2) pentaoxypropylene diamine / glycidyl methacrylate / methyl glycidyl ether = 1/3/1 mol ratio addition reaction product 15 wt% (3) m-xylylenediamine / glycidyl methacrylate / methyl glycidyl ether = 1 / 2/2 mol ratio addition product 15 wt% (4) CH 2 = CHCOO- (CH 2) 9 -OCOCH = CH 2 8 wt% (5) trioxypropylene diamine / glycidyl methacrylate / 3-glycine de trimethoxy Methoxysilane = 1/3/1 mol ratio Addition reaction product 2% by weight (6) Light enhancement Agent (Table 1-5 see) alpha wt% (7) Victoria Pure Blue BOH naphthalenesulfonic acid salt 0.5 wt% (8) 0.5 wt% maleic <Solvent Component> (9) Propylene glycol monomethyl ether
【0113】続いて、この感光層の上に下記組成の縮合
反応架橋性シリコーンゴム層組成物をバーコータで塗布
し、115℃、2分間加熱硬化して、2g/m2 のシリ
コーンゴム層を塗設した。 <固形成分:8%> (1)両末端水酸基ポリジメチルシロキサン(重合度〜700) 90重量% (2)トリス(メチルエチルケトキシム)ビニルシラン 9.8重量% (3)ジブチル錫ジラウレート 0.2重量% <溶剤成分> (4)“アイソパー”ESubsequently, a condensation reaction crosslinkable silicone rubber layer composition having the following composition was coated on the photosensitive layer with a bar coater and heated and cured at 115 ° C. for 2 minutes to coat a silicone rubber layer of 2 g / m 2. I set it up. <Solid component: 8%> (1) Polydimethylsiloxane with hydroxyl groups at both ends (degree of polymerization: up to 700) 90% by weight (2) Tris (methylethylketoxime) vinylsilane 9.8% by weight (3) Dibutyltin dilaurate 0.2% by weight <Solvent component> (4) "Isopar" E
【0114】上記のようにして得られた積層板に、厚さ
12ミクロンの片面マット化二軸延伸ポリプロピレンフ
ィルムをマット化されていない面がシリコーンゴム層と
接するようにしてカレンダーローラーを用いてラミネー
トし、ポジ型の水なし平版印刷用原版を得た。On the laminated plate obtained as described above, a 12-micron-thick, single-sided matted biaxially oriented polypropylene film was laminated using a calendar roller so that the non-matted surface was in contact with the silicone rubber layer. Then, a positive type waterless planographic printing plate precursor was obtained.
【0115】画像評価は200線/インチ1〜99%の
網点を有するポジフィルムと光学濃度差0.15であるグレ
ースケール(G/S)、およびモデルごみ(繊維屑、フ
ィルム屑など)、モデルフィルムエッジを張込み用のポ
リエステルフィルム上に張込み、ヌアーク社製 FT261V
UNDS ULTRA-PLUS FIIPTOP PLATEMAKER 真空露光機を用
いて、30秒間真空密着したのち、30カウント露光
し、ラミネートフィルムを剥離した。Image evaluation is a positive film having a halftone dot of 200 lines / inch 1 to 99%, a gray scale (G / S) having an optical density difference of 0.15, and model dust (fiber dust, film dust, etc.), model film Extend the edge on the polyester film for staking, Nuark FT261V
UNDS ULTRA-PLUS FIIPTOP PLATEMAKER A vacuum exposure machine was used for 30 seconds of vacuum contact, followed by 30 count exposure and peeling of the laminate film.
【0116】その後自動現像機(東レ(株)製: TWL
1160)を用いて、液温40度のPP−F前処理液
(東レ(株)製: 自動現像機用前処理液)中で1分間処
理し、液温25度の純水中で現像ブラシにより未露光部
のシリコーンゴム層を剥離除去し刷版とした。After that, an automatic processor (manufactured by Toray Industries, Inc .: TWL)
1160) for 1 minute in a PP-F pretreatment liquid (Toray Industries, Inc .: pretreatment liquid for automatic developing machine) having a liquid temperature of 40 ° C., and a developing brush in pure water having a liquid temperature of 25 ° C. The silicone rubber layer in the unexposed area was peeled off and removed to obtain a printing plate.
【0117】結果を表3に示す。The results are shown in Table 3.
【0118】[0118]
【表3】 比較例1〜9 光増感剤組成のみを下記表4に変更し、他は実施例と同
様にして水なし平版印刷版を作製し、同様に自動現像機
で現像し刷版とした。[Table 3] Comparative Examples 1 to 9 Only the composition of the photosensitizer was changed to Table 4 below, and a waterless lithographic printing plate was prepared in the same manner as in the other examples, and similarly developed with an automatic processor to obtain a printing plate.
【0119】結果を表5に示す。The results are shown in Table 5.
【0120】[0120]
【表4】 [Table 4]
【表5】 [Table 5]
【0121】[0121]
【発明の効果】本発明の水なし平版印刷版原版は、感光
層中に特定の構造を有する三種の光増感剤を、好ましく
は特定の組成範囲で組合わせで含有するため、単純な加
成性では説明できない飛躍的な感度向上効果を発現し、
またハイライト部からシャドウ部に渡って優れた画像再
現性示しかつ、フィルムエッジやゴミなどの焼き飛ばし
性が向上する。The waterless lithographic printing plate precursor of the present invention contains three kinds of photosensitizers having a specific structure in the photosensitive layer, preferably in combination in a specific composition range, so that a simple addition is possible. Expressing a dramatic improvement in sensitivity that cannot be explained by syntheticity,
Further, excellent image reproducibility is exhibited from the highlight portion to the shadow portion, and the burn-off property of film edges and dust is improved.
Claims (6)
撥層をこの順に設けてなる水なし平版印刷用原版におい
て、該感光層が下記(I)、(II)および(III)群の
各群の各々から少なくとも1種ずつ選ばれた光増感剤を
含有することを特徴とする水なし平版印刷版原版。 (I) ビス(アルキルアミノ)ベンゾフェノン (II) チオキサントン誘導体 (III )400nmを越えた波長領域に吸収極大を持つ
化合物1. A waterless planographic printing plate comprising at least a photosensitive layer and an ink repellent layer provided in this order on a substrate, wherein the photosensitive layer is one of the following groups (I), (II) and (III). A waterless planographic printing plate precursor comprising at least one photosensitizer selected from each. (I) Bis (alkylamino) benzophenone (II) Thioxanthone derivative (III) Compound having absorption maximum in a wavelength region exceeding 400 nm
ける組成範囲が、 (I) 0.1〜 5重量% (II) 0.1〜20重量% (III )0.1〜15重量% であることを特徴とする請求項1記載の水なし平版印刷
版原版。2. The composition range of (I), (II) and (III) in the photosensitive layer is (I) 0.1 to 5% by weight (II) 0.1 to 20% by weight (III) 0.1. The waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the content is 1 to 15% by weight.
特徴とする請求項1記載の水なし平版印刷版原版。 (I) ビス(アルキルアミノ)ベンゾフェノン (II) チオキサントン誘導体 (III )アクリドン誘導体3. The waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, wherein (III) is an acridone derivative. (I) Bis (alkylamino) benzophenone (II) Thioxanthone derivative (III) Acridone derivative
ドンであることを特徴とする請求項3記載の水なし平版
印刷版原版。4. The waterless planographic printing plate precursor according to claim 3, wherein (III) is 2-chloro-N-butylacridone.
ノン (II) 2,4−ジエチルチオキサントン (III )2−クロル−N−ブチルアクリドン であることを特徴とする請求項1記載の水なし平版印刷
版原版。5. (I), (II) and (III) are (I) 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone (II) 2,4-diethylthioxanthone (III) 2-chloro-N-, respectively. The waterless planographic printing plate precursor according to claim 1, which is butyl acridone.
ける組成範囲が、 (I) 1〜 5重量% (II) 3〜15重量% (III )2〜10重量% であることを特徴とする請求項5記載の水なし平版印刷
版原版。6. The composition range of (I), (II) and (III) in the photosensitive layer is (I) 1 to 5% by weight (II) 3 to 15% by weight (III) 2 to 10% by weight. The waterless planographic printing plate precursor according to claim 5, wherein
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17520495A JPH0882922A (en) | 1994-07-11 | 1995-07-11 | Original plate of waterless planographic printing plate |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6-158791 | 1994-07-11 | ||
JP15879194 | 1994-07-11 | ||
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-
1995
- 1995-07-11 JP JP17520495A patent/JPH0882922A/en active Pending
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