JPH0873476A - ホスホン酸誘導体およびそれを含んでなる医薬 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】骨形成促進作用を有する新規化合物の提供。 【構成】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、環Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を
示し、Ｙは環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基を
示し、Ｑ₁は一般式−Ｘ−Ｐ(Ｏ)(ＯＲ¹)(ＯＲ²)（式
中、Ｘは結合手または２価基を示し、Ｒ¹およびＲ²は同
一または異なって水素あるいは低級アルキルを示すか、
または互いに結合して環を形成していてもよい）で表さ
れる基を示し、Ｑ₂は水素、置換されていてもよい炭化
水素基または置換されていてもよい複素環残基を示す。
但し、式−ＣＯＮ(Ｑ₁)(Ｑ₂)で表される基はａまたはｂ
位の炭素原子に結合している］で表される化合物または
その塩。 【効果】骨形成促進作用。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、骨形成促進作用を有す
るホスホン酸誘導体あるいはその塩、その製造法および
その用途に関する。

【０００２】

【従来の技術】骨粗鬆症は、骨の量的減少がある程度以
上になって、そのために何らかの症状または危険を起こ
している病的状態あるいは疾患である。その主要症状は
脊椎の後彎、腰背骨ならびに椎体、大腿骨頸部、橈骨下
端、肋骨、上腕骨上端等の骨折である。骨組織では、常
に骨形成と骨吸収による骨破壊がバランスを保ちながら
繰り返されており、骨形成では骨芽細胞が、骨吸収では
破骨細胞が中心的な役割を担っている。その骨形成と骨
吸収による骨破壊のバランスがくずれ骨吸収が骨形成よ
りも強く起きるとき、骨の量的減少を伴い骨粗鬆症が起
きる。従来、骨粗鬆症の予防治療薬としては、エストロ
ゲン剤、カルシトニン、ビスホスホネ−ト等の骨吸収抑
制物質が主に使用されてきた。しかしながら、これらの
骨吸収抑制剤を投与する場合、投与対象が限定された
り、効果が不確実である場合もあり、十分な効果が得ら
れていない。従って、骨粗鬆症の予防治療薬として、減
少した骨量を積極的に増加させる骨形成促進剤が望まれ
ている。

【０００３】ヨ−ロッパ特許公開公報ＥＰ−５２４０２
３−Ａ１には、

【化１０】 が骨形成促進剤として記載されている。また、特開平３
−２３２８８０号，特開平４−３６４１７９号には、
３，４−ジヒドロ−２−ベンゾチオピラン−１−カルボ
キサミド誘導体、１，２，４，５−テトラヒドロ−３−
ベンゾチエピン−２−カルボキサミド誘導体が骨粗鬆症
治療剤として開示されている。一方、特開平１−２３０
５７０号、特開平３−２３２８６４号には、３，４−ジ
ヒドロナフタレン−２−カルボキサミド誘導体、２，３
−ジヒドロ−１−ベンズオキセピン−４−カルボキサミ
ド誘導体が開示されているが、カルボキサミドのＮ−置
換基として、ホスホン酸を含む置換フェニル基を有する
ものは知られていない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、骨形成促進
作用を有するホスホン酸誘導体、その製造法、およびそ
れを有効成分として含有してなる骨形成促進剤を提供す
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、骨に直接
作用して骨形成を促進する、より一般的な薬剤の開発を
目的として鋭意研究を行った。その結果、下記一般式
（Ｉ）で表されるホスホン酸誘導体が、骨形成促進作用
に直接関係する骨芽細胞機能を活性化し石灰化を促進す
ることを見いだし本発明を完成した。

【０００６】すなわち本発明は、（１）一般式（Ｉ）

【化１１】 ［式中、環Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を
示し、Ｙは環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基を
示し、Ｑ₁は一般式

【化１２】 （式中、Ｘは結合手または２価基を示し、Ｒ¹およびＲ²
は同一または異なって水素あるいは低級アルキルを示す
か、または互いに結合して環を形成していてもよい）で
表される基を示し、Ｑ₂は水素、置換されていてもよい
炭化水素基または置換されていてもよい複素環残基を示
す。但し、式−ＣＯＮ(Ｑ₁)(Ｑ₂)で表される基はａ位ま
たはｂ位の炭素原子に結合している］で表される化合物
またはその塩、（２）Ｘが２価の炭化水素基であり、か
つＹは環Ｂが５ないし７員環を形成する２価の基である
上記（１）記載の化合物、（３）Ｑ₁が式

【化１３】 （式中、Ｅ'は２価の芳香族炭化水素基を示し、Ｗ'は結
合手またはアルキレン鎖を示し、Ｒ¹およびＲ²は同一ま
たは異なって水素あるいは低級アルキルを示すか、また
は互いに結合して環を形成していてもよい）で表される
基である上記（１）記載の化合物。 （４）２価の芳香族炭化水素基が２価の単環式芳香族炭
化水素基である上記（３）記載の化合物、（５）２価の
単環式芳香族炭化水素基がフェニレン基である上記
（４）記載の化合物、（６）Ｒ¹およびＲ²がともに鎖状
の低級アルキルである上記（１）記載の化合物、（７）
低級アルキルが炭素数１ないし６の低級アルキルである
上記（６）記載の化合物、

【０００７】（８）Ｒ¹およびＲ²がともにエチルである
上記（１）記載の化合物、（９）Ｒ¹およびＲ²がともに
メチルである上記（１）記載の化合物、（１０）Ｒ¹お
よびＲ²が互いに結合して−Ｚ−（Ｚは側鎖を有してい
てもよい鎖長２ないし４の炭素鎖を示す）を形成する上
記（１）記載の化合物、（１１）Ｚが−(ＣＨ₂)₃−であ
る上記（１０）記載の化合物、（１２）Ｑ₂が水素また
は低級アルキルである上記（１）記載の化合物、（１
３）Ｙがアルキレン鎖である上記（１）記載の化合物、
（１４）アルキレン鎖が−(ＣＨ₂)₂−である上記（１
３）記載の化合物、（１５）式−ＣＯＮ(Ｑ₁)(Ｑ₂)で表
される基がａ位の炭素原子に結合している上記（１）記
載の化合物、（１６）環Ａがアルキル基または芳香族炭
化水素基で置換されたベンゼン環である上記（１）記載
の化合物、（１７）一般式（Ｉ）が、一般式（Ｉ'）

【化１４】 ［式中、Ｗ'は結合手またはアルキレン鎖を示し、その
他の記号は上記（１）記載のものと同意義である］で表
される上記（１）記載の化合物、（１８）７−シクロヘ
キシル−Ｎ−（４−ジエトキシホスホリルメチルフェニ
ル）−３，４−ジヒドロナフタレン−２−カルボキサミ
ドである上記（１）記載の化合物、（１９）７−フェニ
ル−Ｎ−（４−ジエトキシホスホリルメチルフェニル）
−３，４−ジヒドロナフタレン−２−カルボキサミドで
ある上記（１）記載の化合物、（２０）７−フェニル−
Ｎ−（４−ジメトキシホスホリルメチルフェニル）−
３，４−ジヒドロナフタレン−２−カルボキサミドであ
る上記（１）記載の化合物、

【０００８】（２１）一般式（II）

【化１５】 ［式中、Ｙは環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基
を示し、環Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を
示す。但し、−ＣＯＯＨ基はａ位またはｂ位の炭素原子
に結合している］で表される化合物またはその反応性誘
導体と一般式（III）

【化１６】 ［式中、Ｑ₁'は一般式（ii）

【化１７】 （式中、Ｘは結合手または２価の基を示し、Ｒ³および
Ｒ⁴は同一または異なって低級アルキルを示す）を示
し、Ｑ₂は水素、置換されていてもよい炭化水素基また
は置換されていてもよい複素環残基を示す］で表される
化合物とを反応させ、ついで必要によりホスホン酸エス
テル加水分解反応に付すことを特徴とする一般式（I）

【化１８】 ［式中、環Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を
示し、Ｙは環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基を
示し、Ｑ₁は一般式（i）

【化１９】 （式中、Ｘは結合手または２価の基を示し、Ｒ¹および
Ｒ²は同一または異なって水素あるいは低級アルキルを
示すか、または互いに結合して環を形成していてもよ
い）を示し、Ｑ₂は水素、置換されていてもよい炭化水
素基または置換されていてもよい複素環残基を示す。但
し、式−ＣＯＮ(Ｑ₁)(Ｑ₂)で表される基はａ位またはｂ
位の炭素原子に結合している］で表される化合物または
その塩の製造法、（２２）上記（１）記載の化合物を含
有してなる医薬組成物、（２３）上記（１）記載の化合
物を含有してなる骨形成促進剤、（２４）上記（１）記
載の化合物を含有してなる骨折治癒促進剤、および（２
５）上記（１）記載の化合物を含有してなる骨粗鬆症の
治療もしくは予防剤に関するものである。

【０００９】一般式（Ｉ）（以下、一般式（Ｉ'）をあ
わせて一般式（Ｉ）と称する）および（II）中、環Ａは
置換基を有していてもよく、このような置換基としては
例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、置換されていてもよ
いアルキル、置換されていてもよい水酸基、置換されて
いてもよいチオ−ル基、置換されていてもよいアミノ
基、置換されていてもよいアシル、エステル化されてい
てもよいカルボキシル基または置換されていてもよい芳
香族環基が用いられる。環Ａの置換基としてのハロゲン
の例としてはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげら
れ、とりわけフッ素および塩素が好ましい。

【００１０】環Ａの置換基としての置換されていてもよ
いアルキルにおけるアルキルとしては炭素数１〜１０の
アルキルが挙げられ、直鎖状、分枝状、環状のいずれで
もよい。直鎖状および分枝状のアルキルとしては、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン
チル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシルなどのＣ_1-10アルキル、
好ましくは低級（Ｃ_1-6）アルキルが挙げられる。環状
アルキルとしては、シクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどの
Ｃ_3-7シクロアルキルなどがあげられる。該置換されて
いてもよいアルキルにおける置換基としては、ハロゲン
（例、フッ素，塩素、ヨウ素）、ニトロ基、水酸基、チ
オール基、アミノ基、カルボキシル基などが挙げられ
る。

【００１１】環Ａの置換基としての置換されていてもよ
い水酸基としては、水酸基およびこの水酸基に適宜の置
換基、特に水酸基の保護基として用いられるものを有し
た、例えばアルコキシ、アルケニルオキシ、アラルキル
オキシ、アシルオキシなどに加えてアリ−ルオキシがあ
げられる。該アルコキシとしては、炭素数１〜１０のア
ルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチ
ルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプ
チルオキシ、ノニルオキシ、シクロブチルオキシ、シク
ロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシなど）が好ま
しく、さらに好ましくは炭素数１〜６程度のものであ
る。該アルケニルオキシとしては、アリル(allyl)オキ
シ、クロチルオキシ、２ーペンテニルオキシ、３−ヘキ
セニルオキシ、２−シクロペンテニルメトキシ、２−シ
クロヘキセニルメトキシなど炭素数２〜１０のものが、
該アラルキルオキシとしては、例えばフェニル−Ｃ_1-4
アルキルオキシ（例、ベンジルオキシ、フェネチルオキ
シなど）があげられる。該アシルオキシとしては、炭素
数２〜４のアルカノイルオキシ（例、アセチルオキシ、
プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオ
キシなど）が好ましい。該アリ−ルオキシとしてはフェ
ノキシ、４−クロロフェノキシなどがあげられる。

【００１２】環Ａの置換基としての置換されていてもよ
いチオ−ル基としては、チオ−ル基およびこのチオ−ル
基に適宜の置換基、特にチオ−ル基の保護基として用い
られるものを有した、例えばアルキルチオ、アラルキル
チオ、アシルチオなどがあげられる。該アルキルチオと
しては、炭素数１〜１０のアルキルチオ（例、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅ
ｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、
ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、ノニ
ルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シク
ロヘキシルチオなど）が好ましい。該アラルキルチオと
しては、例えばフェニル−Ｃ_1-4アルキルチオ（例、ベ
ンジルチオ、フェネチルチオなど）があげられる。該ア
シルチオとしては、炭素数２〜４のアルカノイルチオ
（例、アセチルチオ、プロピオニルチオ、ブチリルチ
オ、イソブチリルチオなど）が好ましい。

【００１３】環Ａの置換基としての置換されていてもよ
いアミノ基の置換基としては、炭素数１〜１０の鎖状も
しくは環状のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、
芳香族基またはアシル基が挙げられ、これらの置換基が
１または２個アミノ基（−ＮＨ₂基）に置換していても
よい。該アルキルとしては、例えば、メチル、エチル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、
ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル、ヘキシル、オクチル、ノニル、デシルなどのＣ
_1-10アルキル、好ましくは、低級（Ｃ_1-6）アルキル、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチルなどのＣ_3-7シクロアルキ
ルなどが、該アルケニルとしては、例えば、アリル（al
lyl）、クロチル、２−ペンテニル、３−ヘキセニル、
２−シクロペンテニルメチル、２−シクロヘキセニルメ
チルなど、該芳香族基としては、フェニル、ナフチル、
アントリル、ピリジルなどが、該アシルとしては、ホル
ミル、または炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１
０のアルケニルまたは芳香族基とカルボニル基の結合し
たものが挙げられ、例えば、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピ
バロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイ
ル、シクロブタンカルボニル、シクロペンタンカルボニ
ル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘプタンカルボ
ニル、クロトニル、２−シクロヘキセンカルボニル、ベ
ンゾイル、ニコチノイル等が挙げられる。

【００１４】環Ａの置換基としての置換されていてもよ
いアシルにおけるアシルとしては、ホルミルまたは炭素
数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニルま
たは芳香族基とカルボニル基の結合したもの（例、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタ
ノイル、オクタノイル、シクロブタンカルボニル、シク
ロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シ
クロヘプタンカルボニル、クロトニル、２−シクロヘキ
センカルボニル、ベンゾイル、ニコチノイル等）があげ
られる。該置換されていてもよいアシルにおける置換基
としては、ハロゲン（例、フッ素，塩素，臭素，ヨウ
素）、ニトロ基、水酸基、チオール基、アミノ基、カル
ボキシル基などが挙げられる。環Ａの置換基としてのエ
ステル化されていてもよいカルボキシル基のエステル体
としては、低級アルコキシカルボニル基またはアリ−ル
オキシカルボニル基が挙げられ、好ましくはメトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、フェノキシカルボニル、１−ナフトキシカルボニル
などが挙げられる。

【００１５】環Ａの置換基としての置換されていてもよ
い芳香族環基における芳香族環基としては、フェニル、
ナフチル、アントリル等Ｃ_{6〜 14}芳香族炭化水素残基、
ピリジル、フリル、チエニル、イミダゾリル、チアゾリ
ル等の複素芳香族残基があげられる。これらの芳香族環
基の置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、低級
（Ｃ_1-6）アルキル、水酸基、チオ−ル基、アミノ基、
カルボキシル基などが挙げられる。かかるＡ環のこれら
の置換基は、１〜４個同一または異なって環のいずれの
位置に置換していてもよい。環Ａ上の置換基が互いに隣
接しているときは、隣接する置換基が連結して、−（Ｃ
Ｈ₂）_m−または−Ｏ−（ＣＨ₂）_n−Ｏ−（ｍおよびｎ
は、それぞれ３〜５の整数（好ましくは２〜３）および
１〜３（好ましくは１または２）の整数を示す）で示さ
れる環を形成していてもよい。環Ａは好ましくは、無置
換またはアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基また
は芳香族炭化水素基を置換基として有するベンゼン環で
ある。

【００１６】一般式（Ｉ），（I'）および（II）中、Ｙ
で表される、環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基
としては、環Ｂが５ないし８員環を形成するものであれ
ばいずれでもよいが、好ましくは、環Ｂが５ないし７員
環を形成するものが挙げられる。そのような基として
は、例えば、（1）−(ＣＨ₂)_a1−Ｏ−(ＣＨ₂)_a2−（ａ₁
およびａ₂は同一または異なって０，１，２または３を
示す。但し、ａ₁およびａ₂との和は３以下である）、−
(ＣＨ₂)_a3−Ｏ−(ＣＨ₂)_a4−(ＣＨ＝ＣＨ)−(ＣＨ₂)_a5
−もしくは−(ＣＨ₂)_a5−(ＣＨ＝ＣＨ)−(ＣＨ₂)_a4−Ｏ
−(ＣＨ₂)_a3−（ａ₃，ａ₄およびａ₅はそれぞれ同一また
は異なって０または１を示す。但し、ａ₃，ａ₄およびａ
₅の和は１以下である）、−Ｏ−(ＣＨ＝Ｃ＝ＣＨ)−、
−(ＣＨ＝Ｃ＝ＣＨ)−Ｏ−、（2）−(ＣＨ₂)_b1−Ｓ−
(ＣＨ₂)_b2−（ｂ₁およびｂ₂は同一または異なって０，
１，２または３を示す。但し、ｂ₁およびｂ₂との和は３
以下である）、−(ＣＨ₂)_b3−Ｓ−(ＣＨ₂)_b4−(ＣＨ＝
ＣＨ)−(ＣＨ₂)_b5−もしくは−(ＣＨ₂)_b5−(ＣＨ＝Ｃ
Ｈ)−(ＣＨ₂)_b4−Ｓ−(ＣＨ₂)_b3−（ｂ₃，ｂ₄およびｂ₅
はそれぞれ同一または異なって０または１を示す。但
し、ｂ₃，ｂ₄およびｂ₅の和は１以下である）、−Ｓ−
(ＣＨ＝Ｃ＝ＣＨ)−、−(ＣＨ＝Ｃ＝ＣＨ)−Ｓ−、
（3）−(ＣＨ₂)_d1−（ｄ₁は１，２，３または４を示
す）、−(ＣＨ₂)_d2−(ＣＨ＝ＣＨ)−(ＣＨ₂)_d3−（ｄ₂
およびｄ₃は同一または異なって０，１または２を示
す。但し、ｄ₂およびｄ₃の和は２以下である）、−ＣＨ
＝Ｃ＝ＣＨ−、（4）−(ＣＨ₂)_e1−ＮＨ−(ＣＨ₂)_e2−
（ｅ₁およびｅ₂は同一または異なって０，１，２または
３を示す。但し、ｅ₁およびｅ₂との和は３以下であ
る）、−(ＣＨ₂)_e3−ＮＨ−(ＣＨ₂)_e4−(ＣＨ＝ＣＨ)−
(ＣＨ₂)_e5−もしくは−(ＣＨ₂)_e5−(ＣＨ＝ＣＨ)−(Ｃ
Ｈ₂)_e4−ＮＨ−(ＣＨ₂)_e3−（ｅ₃，ｅ₄およびｅ₅はそれ
ぞれ同一または異なって０または１を示す。但し、
ｅ₃，ｅ₄およびｅ₅の和は１以下である）、−ＮＨ−(Ｃ
Ｈ＝Ｃ＝ＣＨ)−、−(ＣＨ＝Ｃ＝ＣＨ)−ＮＨ−、−(Ｃ
Ｈ₂)_e6−(Ｎ＝ＣＨ)−(ＣＨ₂)_e7−もしくは−(ＣＨ₂)_e7
−(ＣＨ＝Ｎ)−(ＣＨ₂)_e6−（ｅ₆およびｅ₇は同一また
は異なって０，１または２を示す。但し、ｅ₆およびｅ₇
との和は２以下である）、−(ＣＨ₂)_e8−(Ｎ＝Ｎ)−(Ｃ
Ｈ₂）_e9−（ｅ₈およびｅ₉は同一または異なって０，１
または２を示す。ｅ₈およびｅ₉との和は２以下である）
などが挙げられる。具体的には、例えば、−Ｏ−、−Ｏ
−ＣＨ₂−、−Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ
−、−Ｓ−、−Ｓ−ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、
−Ｓ−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ₂）_k−（ｋは１〜３の整
数）で表されるアルキレン鎖、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＨ−、
−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−（それぞれ、
環Ａを起点とした結合を示す）などの２価の基が挙げら
れるが、好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｏ−
ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｓ−、−Ｓ−ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂
−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）_k−（ｋは１〜３の整数）で表
されるアルキレン鎖、−ＣＨ＝ＣＨ−などが挙げられ、
さらに好ましくは、−（ＣＨ₂）₂−などが挙げられる。
また、該２価の基は、置換基を有していてもよく、該置
換基としては、該２価の基に結合可能であればいずれで
もよいが、例えば低級（Ｃ_1-3）アルキル（例、メチ
ル、エチル、プロピルなど）、オキソ、水酸基などが挙
げられる。さらに、該２価の基としては、−Ｏ−Ｃ(Ｏ)
−（環Ａを起点とした結合を示す）などのようなもので
もよい。

【００１７】一般式（ｉ）および一般式（ii）中、Ｘで
表される２価の基としては、例えば、−Ｅ−Ｗ−（式
中、Ｅは、２価の脂環族炭化水素基、脂環族−脂肪族炭
化水素基、芳香脂肪族炭化水素基（アラルキル基）、芳
香族炭化水素基または芳香族複素環基を示し、Ｗは結合
手または置換基を有していてもよい鎖長１ないし４原子
の炭素鎖を示す）で表されるものが挙げられ、一般式
（ｉ）および一般式（ii）は、それぞれ一般式（ｉ'）
および一般式（ii'）で表される。

【化２０】

【化２１】

【００１８】一般式（ｉ'）および（ii'）中、Ｅにおけ
る２価の脂環族炭化水素基としては、たとえばシクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチルなど炭素数３〜７の飽和脂環族炭化
水素基および１−シクロペンテニル、２−シクロペンテ
ニル、３−シクロペンテニル、１−シクロヘキセニル、
２−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニル、１−シ
クロヘプテニル、２−シクロヘプテニル、３−シクロヘ
プテニル、２，４−シクロヘプタジエニルなど炭素数５
〜７の不飽和脂環族炭化水素基などから導かれる２価の
残基が挙げられる。Ｅにおける脂環族−脂肪族炭化水素
基としては、上記脂環族炭化水素基と脂肪族炭化水素基
とが結合したものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基と
しては、たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ
−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ
ｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチ
ル、オクチルなど炭素数１〜８の飽和脂肪族炭化水素
基、たとえばエテニル、１−プロペニル、２−プロペニ
ル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−
メチル−１−プロペニル、１−ペンテニル、２ーペンテ
ニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、３−メチル−
２−ブテニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、２，
４−ヘキサジエニル、５−ヘキセニル、１−ヘプテニ
ル、１−オクテニル、エチニル、１−プロピニル、２−
プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニ
ル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニ
ル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、３−ヘキシニ
ル、２，４−ヘキサジイニル、５−ヘキシニル、１−ヘ
プチニル、１−オクチニルなど炭素数２〜８の不飽和脂
肪族炭化水素基などから導かれる２価の残基が挙げられ
る。該脂環族−脂肪族炭化水素基としては、好ましく
は、炭素数４〜９のもの、たとえばシクロプロピルメチ
ル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シク
ロペンチルメチル、２−シクロペンテニルメチル、３−
シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチル、２−
シクロヘキセニルメチル、３−シクロヘキセニルメチ
ル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピル、
シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルなどから
導かれる２価の残基が挙げられる。

【００１９】Ｅにおける芳香脂肪族炭化水素基として
は、たとえばベンジル、フェネチル、１−フェニルエチ
ル、３−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、１
−フェニルプロピルなど炭素数７〜９のフェニルアルキ
ル、α−ナフチルメチル、α−ナフチルエチル、β−ナ
フチルメチル、β−ナフチルエチルなど炭素数１１〜１
３のナフチルアルキルなどから導かれる２価の残基が挙
げられる。Ｅにおける芳香族炭化水素基としては、たと
えばフェニル、ナフチル（α−ナフチル，β−ナフチ
ル）などから導かれる２価の残基が挙げられる。Ｅにお
ける芳香族複素環基としては、例えば、２−ピリジル、
３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、４−
ピリミジニル、５−ピリミジニル、６−ピリミジニル、
３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２−ピラジニ
ル、２−ピロリル、３−ピロリル、２−イミダゾリル、
４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、３−ピラゾリ
ル、４−ピラゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリ
ル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリ
ル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサ
ゾリル、１，２，４−トリアゾ−ル−３−イル、１，
２，３−トリアゾ−ル−４−イル、テトラゾ−ル−５−
イル、ベンズイミダゾ−ル−２−イル、インド−ル−３
−イル、ベンゾピラゾ−ル−３−イル、１Ｈ−ピロロ
［２，３−ｂ］ピラジン−２−イル、１Ｈ−ピロロ
［２，３−ｂ］ピリジン−６−イル、１Ｈ−イミダゾ
［４，５−ｂ］ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
［４，５−ｃ］ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
［４，５−ｂ］ピラジン−２−イル等から導かれる２価
の基が挙げられる。Ｘで示される２価の基としては、好
ましくは、２価の炭化水素基が挙げられる。

【００２０】一般式（ｉ'）中、Ｅは、−Ｗ−Ｐ(Ｏ)(Ｏ
Ｒ¹)(ＯＲ²）で表される基の他に、その任意の位置に置
換基を１〜２個有していてもよい。また同様に、一般式
（ii'）中、Ｅは、−Ｗ−Ｐ(Ｏ)(ＯＲ³)(ＯＲ⁴）で表さ
れる基の他に、その任意の位置に置換基を１〜２個有し
ていてもよい。かかる置換基としては、脂肪族鎖式炭化
水素基、脂環式炭化水素基、アリール基、芳香族複素環
基、非芳香族複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、置換
されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアシ
ル基、置換されていてもよい水酸基、置換されていても
よいチオール基、エステル化されていてもよいカルボキ
シル基、エステル化されていてもよいホスホノ基などが
挙げられる。該脂肪族鎖式炭化水素基としては、直鎖状
または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基、例えばアルキル
基、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニ
ル基、好ましくは炭素数２〜１０のアルケニル基、アル
キニル基、好ましくは炭素数２〜６のアルキニル基など
が挙げられる。該アルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、１−
エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１，１−ジ
メチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメ
チルブチル、２−エチルブチル、ヘキシル、ペンチル、
オクチル、ノニル、デシルなどが挙げられる。該アルケ
ニル基としては、例えばビニル、アリル、イソプロペニ
ル、１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１
−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−エチル
−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ペン
テニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテ
ニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキセニル、
２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５
−ヘキセニルなどが挙げられる。該アルキニル基として
は、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニ
ル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−
ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペ
ンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキ
シニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニルなどが挙げら
れる。

【００２１】該脂環式炭化水素基としては、飽和または
不飽和の脂環式炭化水素基、例えばシクロアルキル基、
シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル基などが挙
げられる。該シクロアルキル基の好適な例としては、例
えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビ
シクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．
２］オクチル、ビシクロ［３．２．１］オクチル、ビシ
クロ［３．２．２］ノニル、ビシクロ［３．３．１］ノ
ニル、ビシクロ［４．２．１］ノニル、ビシクロ［４．
３．１］デシルなどが挙げられる。該シクロアルケニル
基の好適な例としては、例えば２−シクロペンテン−１
−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘ
キセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルなど
が挙げられる。該シクロアルカジエニル基の好適な例と
しては、例えば２，４−シクロペンタジエン−１−イ
ル、２，４−シクロヘキサジエン−１−イル、２，５−
シクロヘキサジエン−１−イルなどが挙げられる。該ア
リール基とは、単環式または縮合多環式芳香族炭化水素
基を意味し、好適な例としては、例えばフェニル、ナフ
チル、アントリル、フェナントリル、アセナフチレニル
などが挙げられ、なかでもフェニル、１−ナフチル、２
−ナフチルなどが好ましい。該芳香族複素環基の好適な
例としては、例えばフリル、チエニル、ピロリル、オキ
サゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、イミダゾリル、ピラゾリル、１，２，３−オキサ
ジアゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，
４−オキサジアゾリル、フラザニル、１，２，３−チア
ジアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４
−チアジアゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，
２，４−トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリ
ダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニルな
どの芳香族単環式複素環基；例えばベンゾフラニル、イ
ソベンゾフラニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、インドリ
ル、イソインドリル、１Ｈ−インダゾリル、ベンゾイミ
ダゾリル、ベンゾオキサゾリル、１，２−ベンゾイソオ
キサゾリル、ベンゾチアゾリル、１，２−ベンゾイソチ
アゾリル、１Ｈ−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソ
キノリル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニ
ル、フタラジニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリ
ジニル、カルバゾリル、α−カルボリニル、β−カルボ
リニル、γ−カルボリニル、アクリジニル、フェノキサ
ジニル、フェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサ
チイニル、チアントレニル、フェナトリジニル、フェナ
トロリニル、インドリジニル、ピロロ［１，２−ｂ］ピ
リダジニル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジル、イミダ
ゾ［１，２−ａ］ピリジル、イミダゾ［１，５−ａ］ピ
リジル、イミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジニル、イミダ
ゾ［１，２−ａ］ピリミジニル、１，２，４−トリアゾ
ロ［４，３−ａ］ピリジル、１，２，４−トリアゾロ
［４，３−ｂ］ピリダジニルなどの芳香族縮合複素環基
などが挙げられる。

【００２２】該非芳香族複素環基の好適な例としては、
例えばオキシラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チ
エタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラ
ニル、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル、モルホリ
ニル、チオモルホリニル、ピペラジニルなどが挙げられ
る。該ハロゲン原子の例としてはフッ素、塩素、臭素お
よびヨウ素があげられ、とりわけフッ素および塩素が好
ましい。該置換されていてもよいアミノ基としては、炭
素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニ
ル、芳香族基または炭素数２〜１０のアシル基が１また
は２個アミノ基（−ＮＨ₂基）に置換したもの（例、メ
チルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジブチルアミノ、ジアリルアミノ、シクロヘキ
シルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニ
ルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ベン
ゾイルアミノ等）があげられる。該置換されていてもよ
いアシルとしては、ホルミルまたは炭素数１〜１０のア
ルキル、炭素数２〜１０のアルケニルあるいは芳香族基
とカルボニル基の結合したもの（例、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレ
リル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オク
タノイル、シクロブタンカルボニル、シクロペンタンカ
ルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘプタン
カルボニル、クロトニル、２−シクロヘキセンカルボニ
ル、ベンゾイル、ニコチノイル等）があげられる。該置
換されていてもよい水酸基としては、水酸基およびこの
水酸基に適宜の置換基、特に水酸基の保護基として用い
られるものを有した、例えばアルコキシ、アルケニルオ
キシ、アラルキルオキシ、アシルオキシ、アリールオキ
シなどがあげられる。該アルコキシとしては、炭素数１
〜１０のアルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅ
ｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、
イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオ
キシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシ、シクロブチルオ
キシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシな
ど）が好ましい。該アルケニルオキシとしては、アリル
（allyl）オキシ、クロチルオキシ、２ーペンテニルオ
キシ、３−ヘキセニルオキシ、２−シクロペンテニルメ
トキシ、２−シクロヘキセニルメトキシなど炭素数２〜
１０のものが、該アラルキルオキシとしては、例えばフ
ェニル−Ｃ_1-4アルキルオキシ（例、ベンジルオキシ、
フェネチルオキシなど）があげられる。該アシルオキシ
としては、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ（例、ア
セチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、
イソブチリルオキシなど）が好ましい。

【００２３】該アリールオキシとしてはフェノキシ、４
−クロロフェノキシなどがあげられる。該置換されてい
てもよいチオ−ル基としては、チオ−ル基およびこのチ
オ−ル基に適宜の置換基、特にチオ−ル基の保護基とし
て用いられるものを有した、例えばアルキルチオ、アラ
ルキルチオ、アシルチオなどがあげられる。該アルキル
チオとしては、炭素数１〜１０のアルキルチオ（例、メ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチ
オ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチ
ルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチ
オ、ノニルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチ
オ、シクロヘキシルチオなど）が好ましい。該アラルキ
ルチオとしては、例えばフェニル−Ｃ_1-4アルキルチオ
（例、ベンジルチオ、フェネチルチオなど）があげられ
る。該アシルチオとしては、炭素数２〜４のアルカノイ
ルチオ（例、アセチルチオ、プロピオニルチオ、ブチリ
ルチオ、イソブチリルチオなど）が好ましい。該エステ
ル化されていてもよいカルボキシル基のエステル体とし
ては、カルボキシル基と炭素数１〜６のアルキル基の結
合したもの、例えばメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、
ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカ
ルボニル等、カルボキシル基と炭素数３〜６のアルケニ
ル基の結合したもの、アリル（allyl）オキシカルボニ
ル、クロチルオキシカルボニル、２−ペンテニルオキシ
カルボニル、３−ヘキセニルオキシカルボニル等、カル
ボニル基とアラルキル基の結合したもの、例えばベンジ
ルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等が
挙げられる。該エステル化されていてもよいホスホノ基
としては、Ｐ(Ｏ)(ＯＲ⁵)(ＯＲ⁶) ［式中、Ｒ⁵およびＲ
⁶は、下記Ｒ¹およびＲ²と同様なものが挙げられる］で
表されるものが挙げられる。

【００２４】一般式（ｉ'）および（ii'）中、Ｅで表さ
れる２価の脂環族炭化水素基、脂環族−脂肪族炭化水素
基、芳香脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または芳
香族複素環基における置換基は、さらにそれぞれ適当な
置換基を１個以上、好ましくは１〜３個置換可能な位置
に有していてもよい。かかる置換基としては、例えば低
級（Ｃ_1-6）アルキル基（例、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ヘキシルなど）、低級アルケニル基（例、ビ
ニル、アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、２−
メチル−１−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニ
ル、３−ブテニル、２−エチル−１−ブテニル、３−メ
チル−２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３
−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−
ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルなど）、
低級アルキニル基（例、エチニル、１−プロピニル、２
−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチ
ニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニ
ル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニ
ル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル
など）、シクロアルキル基（例、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチルなど）、アリール基（例、フェニル、１−ナフチ
ル、２−ナフチルなど）、芳香族複素環基、非芳香族複
素環基、アラルキル基、アミノ基、Ｎ−モノ置換アミノ
基（例、メチルアミノ、エチルアミノ、シクロヘキシル
アミノ、フェニルアミノなど）、Ｎ，Ｎ−ジ置換アミノ
基（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルア
ミノ、ジアリルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミ
ノ等）、アミジノ基、アシル基、カルバモイル基、Ｎ−
モノ置換カルバモイル基（例、メチルカルバモイル、エ
チルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイル、フェ
ニルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル
基（例、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイ
ル、ジブチルカルバモイル、ジアリルカルバモイル、Ｎ
−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル等）、スルファモ
イル基、Ｎ−モノ置換スルファモイル基（例、メチルス
ルファモイル、エチルスルファモイル、シクロヘキシル
スルファモイル、フェニルスルファモイルなど）、Ｎ，
Ｎ−ジ置換スルファモイル基（例、ジメチルスルファモ
イル、ジエチルスルファモイル、ジブチルスルファモイ
ル、ジアリルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニ
ルスルファモイル等）、カルボキシル基、低級アルコキ
シカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル等）、ヒドロキシル基、低級アルコキシ基
（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ等）、低級アルケニル
オキシ基（例、アリル（allyl）オキシ、クロチルオキ
シ、２−ペンテニルオキシ、３−ヘキセニルオキシ
等）、シクロアルキルオキシ基（例、シクロプロピルオ
キシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シ
クロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシなど）、低
級アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ、プロ
ピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチル
チオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペ
ンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘ
キシルチオなど）、アラルキルチオ基、アリ−ルチオ
基、スルホ基、シアノ基、アジド基、ハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、ニトロ基、ニト
ロソ基、エステル化されていてもよいホスホノ基などが
挙げられる。

【００２５】該アラルキル基とは、アリール基（例、フ
ェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなど）を置換基と
して有するアルキル基（例、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ヘキシルなど）が挙げられる。該アラルキル
チオ基とは、アラルキル基を置換基として有するチオー
ル基を意味し、該アラルキル基としては、前記と同様な
ものが挙げられる。該アリールチオとは、アリール基
（例、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなど）を
置換基として有するチオール基が挙げられる。該芳香族
複素環基、非芳香族複素環基、アシル、エステル化され
ていてもよいホスホノ基としては、例えば、前記Ｅで表
される脂環族炭化水素基、脂環族−脂肪族炭化水素基、
芳香脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または芳香族
複素環基における置換基として示したものと同様なもの
が挙げられる。

【００２６】一般式（ｉ'）または（ii'）中、Ｗで表さ
れる置換基を有していてもよい鎖長１ないし４原子の炭
素鎖における炭素鎖としては、直鎖部分を構成する原子
数が１ないし４原子である２価の鎖であればいずれでも
よく、置換基を有していてもよい。該直鎖部分を構成す
る２価の鎖としては、例えば−(ＣＨ₂)_k1−（ｋ₁は１〜
４の整数）で表されるアルキレン鎖、−(ＣＨ₂)_k2−(Ｃ
Ｈ＝ＣＨ)−(ＣＨ₂)_k3−（ｋ₂およびｋ₃は同一または異
なって０，１または２を示す。但し、ｋ₂とｋ₃との和は
４以下である）で表されるアルケニレン鎖などが挙げら
れる。該置換基としては、直鎖部分を構成する２価の鎖
に結合可能なものであればいずれでもよいが、例えば、
炭素数１〜６の低級アルキル（例、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、
ネオペンチル、ヘキシルなど）、低級（Ｃ_3-7）シクロ
アルキル（例、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなど）、エ
ステル化されていてもよいホスホノ基、エステル化され
ていてもよいカルボキシル基、水酸基などが挙げられる
が、好ましくは、炭素数１〜６の低級アルキル（好まし
くは、Ｃ_1-3アルキル）が挙げられる。該エステル化さ
れていてもよいホスホノ基としては、Ｐ(Ｏ)(ＯＲ⁷)(Ｏ
Ｒ⁸) ［式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は、下記Ｒ¹およびＲ²で示
されたものと同様なものが挙げられる］で表されるもの
が挙げられる。該エステル化されていてもよいカルボキ
シル基のエステル体としては、カルボキシル基と炭素数
１〜６のアルキル基の結合したもの、例えばメトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニ
ル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカ
ルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。

【００２７】一般式（ｉ'）および（ii'）中、Ｅとして
は、２価の芳香族炭化水素基（好ましくは、単環式芳香
族炭化水素基（例、ｏ−フェニレン，ｍ−フェニレン，
ｐ−フェニレンなど））が好ましい。一般式（ｉ'）お
よび（ii'）中、Ｗとしては、アルキレン鎖が好まし
い。一般式（ｉ'）としては、

【化２２】 で表されるもの［式中、Ｅ'は芳香族炭化水素基を示
し、Ｗ'は結合手またはアルキレン鎖を示し、Ｒ¹および
Ｒ²は下記するのと同意義を示す］が好ましく、さらに
好ましくは、

【化２３】 である。−Ｗ'−Ｐ(Ｏ)(ＯＲ¹)(ＯＲ²)の置換位置とし
ては、オルト、メタ、パラ位のいずれであってもよい
が、パラ位が好ましい。

【００２８】一般式（ii'）としては、

【化２４】 で表されるもの［式中、Ｅ'は芳香族炭化水素基を示
し、Ｗ'は結合手またはアルキレン鎖を示し、Ｒ³および
Ｒ⁴は下記するのと同意義を示す］が好ましく、さらに
好ましくは、

【化２５】 −Ｗ'−Ｐ(Ｏ)(ＯＲ³)(ＯＲ⁴)の置換位置としては、オ
ルト、メタ、パラ位のいずれであってもよいが、パラ位
が好ましい。

【００２９】一般式（ｉ）および（ｉ'）中、Ｒ¹および
Ｒ²で表される低級アルキル基としては、直鎖状もしく
は分枝鎖状の炭素数１〜６の低級アルキル（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、
イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシルなど）、低級
（Ｃ_3-7）シクロアルキル（例、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチルなど）などが挙げられるが、好ましくは、鎖状の
炭素数１〜６の低級アルキル、さらに好ましくは炭素数
１〜３の低級アルキルが挙げられる。Ｒ¹およびＲ²とし
ては、同一であっても異なっていてもよいが、同一であ
ることが好ましい。またＲ¹およびＲ²は互いに結合して
環を形成していてもよく、例えば、Ｒ¹およびＲ²が結合
して−Ｚ−（Ｚは側鎖を有していてもよい鎖長２ないし
４原子の炭素鎖を示す）で表されるものが挙げられる。
一般式（ii）および（ii’）中、Ｒ³およびＲ⁴で表され
る低級アルキル基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状の
炭素数１〜６の低級アルキル（例、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、
ネオペンチル、ヘキシルなど）、低級（Ｃ_3-7）シクロ
アルキル（例、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなど）など
が挙げられるが、好ましくは、鎖状の炭素数１〜６の低
級アルキル、さらに好ましくは炭素数１〜３の低級アル
キルが挙げられる。Ｒ³およびＲ⁴としては、同一であっ
ても異なっていてもよいが、同一であることが好まし
い。またＲ³およびＲ⁴は互いに結合して環を形成してい
てもよく、例えば、Ｒ³およびＲ⁴が結合して−Ｚ−（Ｚ
は側鎖を有していてもよい鎖長２ないし４原子の炭素鎖
を示す）で表されるものが挙げられる。

【００３０】Ｚとしては、Ｗで表される炭素鎖として挙
げられたもののうち、鎖長２ないし４原子のものが挙げ
られ、例えば、Ｒ¹とＲ²とが、またはＲ³とＲ⁴とが互い
に結合して、−(ＣＨ₂)₂−、−(ＣＨ₂)₃−、−(ＣＨ₂)₄
−、−ＣＨ(ＣＨ₃)−ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)−ＣＨ(Ｃ
Ｈ₃)−、−ＣＨ₂−Ｃ(ＣＨ₃)₂−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｃ
Ｈ(Ｃ₂Ｈ₅)−ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₃)−ＣＨ₂−ＣＨ(Ｃ
Ｈ₃)−などを形成したものが挙げられ、好ましくは、−
(ＣＨ₂)₂−、−(ＣＨ₂)₃−、−(ＣＨ₂)₄−などが挙げら
れ、さらに好ましくは、−(ＣＨ₂)₃−が挙げられる。ま
たＺは側鎖を有していてもよく、該側鎖としては炭素数
１〜４の低級アルキル（例、メチル，エチル，プロピ
ル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓｅｃ−ブチ
ル，ｔｅｒｔ−ブチル）などが挙げられる。さらに該側
鎖は置換基を有していてもよく、例えば該側鎖は、水酸
基、ハロゲンなどで置換されていてもよい。

【００３１】一般式（Ｉ）および（III）中、Ｑ₂で表さ
れる置換されていてもよい炭化水素基における炭化水素
基としては、脂肪族炭化水素残基、脂環族炭化水素残
基、脂環族−脂肪族炭化水素残基、芳香脂肪族炭化水素
残基（アラルキル基）、芳香族炭化水素残基が挙げられ
る。該脂肪族炭化水素残基としては、たとえばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキ
シル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチルなど炭素数１
〜８の飽和脂肪族炭化水素残基、たとえばエテニル、１
−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブ
テニル、３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、
１−ペンテニル、２ーペンテニル、３−ペンテニル、４
−ペンテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ヘキセ
ニル、３−ヘキセニル、２，４−ヘキサジエニル、５−
ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−オクテニル、エチニ
ル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、
２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペ
ンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキ
シニル、３−ヘキシニル、２，４−ヘキサジイニル、５
−ヘキシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニルなど炭
素数２〜８の不飽和脂肪族炭化水素残基などが挙げられ
る。該脂環族炭化水素残基としては、たとえばシクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチルなど炭素数３〜７の飽和脂環族炭化
水素残基および１−シクロペンテニル、２−シクロペン
テニル、３−シクロペンテニル、１−シクロヘキセニ
ル、２−シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニル、１
−シクロヘプテニル、２−シクロヘプテニル、３−シク
ロヘプテニル、２，４−シクロヘプタジエニルなど炭素
数５〜７の不飽和脂環族炭化水素残基などが挙げられ
る。該脂環族−脂肪族炭化水素残基としては上記脂環族
炭化水素残基と脂肪族炭化水素残基とが結合したものの
うち、炭素数４〜９のもの、たとえばシクロプロピルメ
チル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シ
クロペンチルメチル、２−シクロペンテニルメチル、３
−シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチル、２
−シクロヘキセニルメチル、３−シクロヘキセニルメチ
ル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピル、
シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルなどが挙
げられる。該芳香脂肪族炭化水素残基としては、たとえ
ばベンジル、フェネチル、１−フェニルエチル、３−フ
ェニルプロピル、２−フェニルプロピル、１−フェニル
プロピルなど炭素数７〜９のフェニルアルキル、α−ナ
フチルメチル、α−ナフチルエチル、β−ナフチルメチ
ル、β−ナフチルエチルなど炭素数１１〜１３のナフチ
ルアルキルなどが挙げられる。該芳香族炭化水素残基と
しては、たとえばフェニル、ナフチル（α−ナフチル，
β−ナフチル）などが挙げられる。

【００３２】上記一般式（Ｉ）および（II）中、Ｑ₂で
表される置換されていてもよい複素環残基における複素
環残基としては、たとえば１個の硫黄原子、窒素原子ま
たは酸素原子を含む５〜７員複素環残基、２〜４個の窒
素原子を含む５〜６員複素環残基、１〜２個の窒素原子
および１個の硫黄原子または酸素原子を含む５〜６員複
素環残基が挙げられ、これらの複素環残基は２個以下の
窒素原子を含む６員環、ベンゼン環または１個の硫黄原
子を含む５員環と縮合していてもよい。該複素環残基と
しては、芳香複素環残基が好ましく、例えば、２−ピリ
ジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニ
ル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、６−ピリミ
ジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２−ピ
ラジニル、２−ピロリル、３−ピロリル、２−イミダゾ
リル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、３−ピラ
ゾリル、４−ピラゾリル、イソチアゾリル、イソオキサ
ゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾ
リル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキ
サゾリル、１，２，４−トリアゾ−ル−３−イル、１，
２，３−トリアゾ−ル−４−イル、テトラゾ−ル−５−
イル、ベンズイミダゾ−ル−２−イル、インド−ル−３
−イル、ベンゾピラゾ−ル−３−イル、１Ｈ−ピロロ
［２，３−ｂ］ピラジン−２−イル、１Ｈ−ピロロ
［２，３−ｂ］ピリジン−６−イル、１Ｈ−イミダゾ
［４，５−ｂ］ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
［４，５−ｃ］ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
［４，５−ｂ］ピラジン−２−イル等が挙げられる。

【００３３】上記一般式（Ｉ）および（II）中、Ｑ₂で
表される炭化水素基および複素環残基は、その任意の位
置に置換基を１〜３個有していてもよい。かかる置換基
としては、脂肪族鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素基、
アリール基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、
置換されていてもよいアシル基、置換されていてもよい
水酸基、置換されていてもよいチオール基、エステル化
されていてもよいカルボキシル基、エステル化されてい
てもよいホスホノ基などが挙げられる。該脂肪族鎖式炭
化水素基としては、直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化
水素基、例えばアルキル基、好ましくは炭素数１〜１０
のアルキル基、アルケニル基、好ましくは炭素数２〜１
０のアルケニル基、アルキニル基、好ましくは炭素数２
〜６のアルキニル基などが挙げられる。該アルキル基と
しては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−
ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅ
ｒｔ−ペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソ
ヘキシル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチル
ブチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、
ヘキシル、ペンチル、オクチル、ノニル、デシルなどが
挙げられる。該アルケニル基としては、例えばビニル、
アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、２−メチル
−１−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−
ブテニル、２−エチル−１−ブテニル、３−メチル−２
−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペ
ンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニ
ル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニ
ル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルなどが挙げられ
る。該アルキニル基としては、例えばエチニル、１−プ
ロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニ
ル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、
３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２
−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−
ヘキシニルなどが挙げられる。

【００３４】該脂環式炭化水素基としては、飽和または
不飽和の脂環式炭化水素基、例えばシクロアルキル基、
シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル基などが挙
げられる。該シクロアルキル基の好適な例としては、例
えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビ
シクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．
２］オクチル、ビシクロ［３．２．１］オクチル、ビシ
クロ［３．２．２］ノニル、ビシクロ［３．３．１］ノ
ニル、ビシクロ［４．２．１］ノニル、ビシクロ［４．
３．１］デシルなどが挙げられる。該シクロアルケニル
基の好適な例としては、例えば２−シクロペンテン−１
−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘ
キセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルなど
が挙げられる。該シクロアルカジエニル基の好適な例と
しては、例えば２，４−シクロペンタジエン−１−イ
ル、２，４−シクロヘキサジエン−１−イル、２，５−
シクロヘキサジエン−１−イルなどが挙げられる。該ア
リール基とは、単環式または縮合多環式芳香族炭化水素
基を意味し、好適な例としては、例えばフェニル、ナフ
チル、アントリル、フェナントリル、アセナフチレニル
などが挙げられ、なかでもフェニル、１−ナフチル、２
−ナフチルなどが好ましい。該芳香族複素環基の好適な
例としては、例えばフリル、チエニル、ピロリル、オキ
サゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、イミダゾリル、ピラゾリル、１，２，３−オキサ
ジアゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，
４−オキサジアゾリル、フラザニル、１，２，３−チア
ジアゾリル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４
−チアジアゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，
２，４−トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリ
ダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニルな
どの芳香族単環式複素環基；例えばベンゾフラニル、イ
ソベンゾフラニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、インドリ
ル、イソインドリル、１Ｈ−インダゾリル、ベンゾイミ
ダゾリル、ベンゾオキサゾリル、１，２−ベンゾイソオ
キサゾリル、ベンゾチアゾリル、１，２−ベンゾイソチ
アゾリル、１Ｈ−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソ
キノリル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニ
ル、フタラジニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリ
ジニル、カルバゾリル、α−カルボリニル、β−カルボ
リニル、γ−カルボリニル、アクリジニル、フェノキサ
ジニル、フェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサ
チイニル、チアントレニル、フェナトリジニル、フェナ
トロリニル、インドリジニル、ピロロ［１，２−ｂ］ピ
リダジニル、ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジル、イミダ
ゾ［１，２−ａ］ピリジル、イミダゾ［１，５−ａ］ピ
リジル、イミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジニル、イミダ
ゾ［１，２−ａ］ピリミジニル、１，２，４−トリアゾ
ロ［４，３−ａ］ピリジル、１，２，４−トリアゾロ
［４，３−ｂ］ピリダジニルなどの芳香族縮合複素環基
などが挙げられる。

【００３５】該非芳香族複素環基の好適な例としては、
例えばオキシラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チ
エタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラ
ニル、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル、モルホリ
ニル、チオモルホリニル、ピペラジニルなどが挙げられ
る。該ハロゲン原子の例としてはフッ素、塩素、臭素お
よびヨウ素があげられ、とりわけフッ素および塩素が好
ましい。該置換されていてもよいアミノ基としては、炭
素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニ
ル、芳香族基または炭素数２〜１０のアシル基が１また
は２個アミノ基（−ＮＨ₂基）に置換したもの（例、メ
チルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジブチルアミノ、ジアリルアミノ、シクロヘキ
シルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニ
ルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ベン
ゾイルアミノ等）があげられる。該置換されていてもよ
いアシルとしては、ホルミルまたは炭素数１〜１０のア
ルキル、炭素数２〜１０のアルケニルあるいは芳香族基
とカルボニル基の結合したもの（例、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレ
リル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オク
タノイル、シクロブタンカルボニル、シクロペンタンカ
ルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘプタン
カルボニル、クロトニル、２−シクロヘキセンカルボニ
ル、ベンゾイル、ニコチノイル等）があげられる。該置
換されていてもよい水酸基としては、水酸基およびこの
水酸基に適宜の置換基、特に水酸基の保護基として用い
られるものを有した、例えばアルコキシ、アルケニルオ
キシ、アラルキルオキシ、アシルオキシ、アリールオキ
シなどがあげられる。該アルコキシとしては、炭素数１
〜１０のアルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅ
ｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、
イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオ
キシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシ、シクロブチルオ
キシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシな
ど）が好ましい。該アルケニルオキシとしては、アリル
（allyl）オキシ、クロチルオキシ、２ーペンテニルオ
キシ、３−ヘキセニルオキシ、２−シクロペンテニルメ
トキシ、２−シクロヘキセニルメトキシなど炭素数１〜
１０のものが、該アラルキルオキシとしては、例えばフ
ェニル−Ｃ_1-4アルキルオキシ（例、ベンジルオキシ、
フェネチルオキシなど）があげられる。該アシルオキシ
としては、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ（例、ア
セチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、
イソブチリルオキシなど）が好ましい。

【００３６】該アリールオキシとしてはフェノキシ、４
−クロロフェノキシなどがあげられる。該置換されてい
てもよいチオ−ル基としては、チオ−ル基およびこのチ
オ−ル基に適宜の置換基、特にチオ−ル基の保護基とし
て用いられるものを有した、例えばアルキルチオ、アラ
ルキルチオ、アシルチオなどがあげられる。該アルキル
チオとしては、炭素数１〜１０のアルキルチオ（例、メ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチ
オ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチ
ルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチ
オ、ノニルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチ
オ、シクロヘキシルチオなど）が好ましい。該アラルキ
ルチオとしては、例えばフェニル−Ｃ_1-4アルキルチオ
（例、ベンジルチオ、フェネチルチオなど）があげられ
る。該アシルチオとしては、炭素数２〜４のアルカノイ
ルチオ（例、アセチルチオ、プロピオニルチオ、ブチリ
ルチオ、イソブチリルチオなど）が好ましい。該エステ
ル化されていてもよいカルボキシル基のエステル体とし
ては、カルボキシル基と炭素数１〜６のアルキル基の結
合したもの、例えばメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、
ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカ
ルボニル等、カルボキシル基と炭素数３〜６のアルケニ
ル基の結合したもの、アリル（allyl）オキシカルボニ
ル、クロチルオキシカルボニル、２−ペンテニルオキシ
カルボニル、３−ヘキセニルオキシカルボニル等、カル
ボニル基とアラルキル基の結合したもの、例えばベンジ
ルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等が
挙げられる。該エステル化されていてもよいホスホノ基
としては、Ｐ(Ｏ)(ＯＲ⁹)(ＯＲ¹⁰) ［式中、Ｒ⁹および
Ｒ¹⁰は前記Ｒ¹およびＲ²で定義したのと同様なものが挙
げられる］で表されるものが挙げられる。

【００３７】上記一般式（Ｉ）および（III）中、Ｑ₂で
表される置換されていてもよい炭化水素残基および置換
されていてもよい複素環残基における置換基は、さらに
それぞれ適当な置換基を１個以上、好ましくは１〜３個
置換可能な位置に有していてもよい。かかる置換基とし
ては、例えば低級（Ｃ_1-6）アルキル基（例、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチル、ネオペンチル、ヘキシルなど）、低級アル
ケニル基（例、ビニル、アリル、イソプロペニル、１−
プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ブテニ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−エチル−１−ブ
テニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ペンテニル、
２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４
−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキ
セニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセ
ニルなど）、低級アルキニル基（例、エチニル、１−プ
ロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニ
ル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、
３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２
−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−
ヘキシニルなど）、シクロアルキル基（例、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチルなど）、アリール基（例、フェニ
ル、１−ナフチル、２−ナフチルなど）、芳香族複素環
基、非芳香族複素環基、アラルキル基、アミノ基、Ｎ−
モノ置換アミノ基（例、メチルアミノ、エチルアミノ、
シクロヘキシルアミノ、フェニルアミノなど）、Ｎ，Ｎ
−ジ置換アミノ基（例、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジブチルアミノ、ジアリルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ
−フェニルアミノ等）、アミジノ基、アシル基、カルバ
モイル基、Ｎ−モノ置換カルバモイル基（例、メチルカ
ルバモイル、エチルカルバモイル、シクロヘキシルカル
バモイル、フェニルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ置
換カルバモイル基（例、ジメチルカルバモイル、ジエチ
ルカルバモイル、ジブチルカルバモイル、ジアリルカル
バモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル
等）、スルファモイル基、Ｎ−モノ置換スルファモイル
基（例、メチルスルファモイル、エチルスルファモイ
ル、シクロヘキシルスルファモイル、フェニルスルファ
モイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ置換スルファモイル基（例、
ジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル、ジ
ブチルスルファモイル、ジアリルスルファモイル、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルスルファモイル等）、カルボキシ
ル基、低級アルコキシカルボニル基（例、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソ
ブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ヘキシルオキシカルボニル等）、ヒドロキシル基、
低級アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ
−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ
等）、低級アルケニルオキシ基（例、アリル（allyl）
オキシカルボニル、クロチルオキシカルボニル、２−ペ
ンテニルオキシカルボニル、３−ヘキセニルオキシカル
ボニル等）、シクロアルキルオキシ基（例、シクロプロ
ピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキ
シ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシな
ど）、低級アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イ
ソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチル
チオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチル
チオ、ヘキシルチオなど）、アラルキルチオ基、アリ−
ルチオ基、スルホ基、シアノ基、アジド基、ハロゲン原
子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、ニトロ基、ニ
トロソ基、エステル化されていてもよいホスホノ基など
が挙げられる。

【００３８】該アラルキル基とは、アリール基（例、フ
ェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなど）を置換基と
して有するアルキル基（例、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ヘキシルなど）が挙げられる。該アラルキル
チオ基とは、アラルキル基を置換基として有するチオー
ル基を意味し、該アラルキル基としては、前記と同様な
ものが挙げられる。該アリールチオとは、アリール基
（例、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなど）を
置換基として有するチオール基が挙げられる。該芳香族
複素環基、非芳香族複素環基、アシルとしては、前記Ｑ
₂で表される置換されていてもよい炭化水素および複素
環残基における置換基として示したのと同様なものが挙
げられる。該エステル化されていてもよいホスホノ基と
しては、Ｐ(Ｏ)(ＯＲ¹¹)(ＯＲ¹²) ［式中、Ｒ¹¹および
Ｒ¹²は前記Ｒ¹およびＲ²で定義したのと同様なものが挙
げられる］で表されるものが挙げられる。上記一般式
（Ｉ）および（III）中、Ｑ₂としては、水素、炭素数１
〜６の低級アルキル（例、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、
ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル、ヘキシルなど）、低級（Ｃ_3-7）シクロアルキル
（例、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなど）などが好ま
しく、さらに好ましくは、水素、炭素数１〜６の低級ア
ルキル（好ましくは炭素数１〜３の低級アルキル）が挙
げられる。

【００３９】一般式（Ｉ）中、−ＣＯＮ(Ｑ₁)(Ｑ₂)基
は、ａ位またはｂ位のどちらに結合していてもよいが、
ａ位に結合しているものがより好ましい。上記一般式
（Ｉ）で表される化合物としては、一般式（Ｉ'）

【化２６】 ［式中、環Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を
示し、Ｙは環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基を
示し、Ｗ'は結合手またはアルキレン鎖を示し、Ｒ¹およ
びＲ²は同一または異なって水素あるいは低級アルキル
を示すか、または互いに結合して環を形成していてもよ
い］で表される化合物が好ましい。

【００４０】本発明の化合物の具体例としては、次のよ
うなものが挙げられる。 ・７−シクロヘキシル−Ｎ−（４−ジエトキシホスホリ
ルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−カルボキサミド、 ・７−シクロヘキシル−Ｎ−（４−ジメトキシホスホリ
ルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−カルボキサミド、 ・Ｎ−（４−ジエトキシホスホリルメチルフェニル）ナ
フタレン−２−カルボキサミド、 ・Ｎ−（４−ジエトキシホスホリルメチルフェニル）−
６，７−メチレンジオキシ−２−オキソクロメン−３−
カルボキサミド、 ・７−シクロヘキシル−Ｎ−（４−トリメチレンジオキ
シホスホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフ
タレン−２−カルボキサミド、 ・７−シクロヘキシル−Ｎ−（４−テトラメチレンジオ
キシホスホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナ
フタレン−２−カルボキサミド、 ・Ｎ−（４−ジエトキシホスホリルメチルフェニル）−
３，４−ジヒドロナフタレン−２−カルボキサミド、 ・７−フェニル−Ｎ−（４−トリメチレンジオキシホス
ホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタレン
−２−カルボキサミド、 ・７−フェニル−Ｎ−（４−テトラメチレンジオキシホ
スホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタレ
ン−２−カルボキサミドなど。

【００４１】本発明の一般式（Ｉ）（一般式（Ｉ'）を
含む）で表される化合物の塩としては、薬理学的に許容
される塩が好ましく、例えば無機塩基との塩、有機塩基
との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性または酸
性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基との塩の
好適な例としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩な
どのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩な
どのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミニウム塩、ア
ンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基との塩の好適
な例としては、例えばトリメチルアミン、トリエチルア
ミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシ
ルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジアミンなどと
の塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例としては、
例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸などとの
塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例としては、例
えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、シュウ
酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ
酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエ
ンスルホン酸などとの塩が挙げられる。塩基性アミノ酸
との塩の好適な例としては、例えばアルギニン、リジ
ン、オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性アミノ酸と
の塩の好適な例としては、例えばアスパラギン酸、グル
タミン酸などとの塩が挙げられる。

【００４２】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物ま
たはその塩（以下、略して一般式（Ｉ）で表される化合
物という場合、その塩および一般式（Ｉ'）で表される
化合物およびその塩を含むものとする）は、単独で、ま
たは薬学的に許容される担体と配合し、錠剤、カプセル
剤、顆粒剤、散剤などの固形製剤；またはシロップ剤、
注射剤などの液状製剤として経口または非経口的に投与
することができる。薬学的に許容される担体としては、
製剤素材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が
用いられ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、
崩壊剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化
剤、等張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合され
る。また必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘
味剤などの製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の
好適な例としては、例えば乳糖、白糖、Ｄ-マンニトー
ル、デンプン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸などが
挙げられる。滑沢剤の好適な例としては、例えばステア
リン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タル
ク、コロイドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な
例としては、例えば結晶セルロース、白糖、Ｄ-マンニ
トール、デキストリン、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニル
ピロリドンなどが挙げられる。崩壊剤の好適な例として
は、例えばデンプン、カルボキシメチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロースカルシウム、クロスカルメロ
ースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウム
などが挙げられる。溶剤の好適な例としては、例えば注
射用水、アルコール、プロピレングリコール、マクロゴ
ール、ゴマ油、トウモロコシ油などが挙げられる。溶解
補助剤の好適な例としては、例えばポリエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、Ｄ-マンニトール、安息
香酸ベンジル、エタノール、トリスアミノメタン、コレ
ステロール、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、
クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。懸濁化剤の好適
な例としては、例えばステアリルトリエタノールアミ
ン、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリルアミノプロピオ
ン酸、レシチン、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼト
ニウム、モノステアリン酸グリセリン、などの界面活性
剤；例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、カルボキシメチルセルロースナトリウム、メチルセ
ルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの
親水性高分子などが挙げられる。等張化剤の好適な例と
しては、例えば塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ-マン
ニトールなどが挙げられる。緩衝剤の好適な例として
は、例えばリン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩など
の緩衝液などが挙げられる。無痛化剤の好適な例として
は、例えばベンジルアルコールなどが挙げられる。防腐
剤の好適な例としては、例えばパラオキシ安息香酸エス
テル類、クロロブタノール、ベンジルアルコール、フェ
ネチルアルコール、デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙
げられる。抗酸化剤の好適な例としては、例えば亜硫酸
塩、アスコルビン酸などが挙げられる。

【００４３】本発明は、さらに一般式（Ｉ）で表される
化合物またはその塩の製造法を提供する。一般式（Ｉ）
で表される化合物またはその塩は自体公知の方法によっ
て製造できる。例えば下記の方法にしたがって製造でき
る。下記の一般式（II），（III），（Ｉ−1）および
（Ｉ−2）で表される化合物の塩は、化合物（Ｉ）と同
様なものが用いられる。また、下記各反応において、原
料化合物は、置換基としてアミノ基、カルボキシル基、
ヒドロキシル基を有する場合、これらの基にペプチド化
学などで一般的に用いられるような保護基が導入された
ものであってもよく、反応後に必要に応じて保護基を除
去することにより目的化合物を得ることができる。アミ
ノ基の保護基としては、例えば置換基を有していてもよ
いＣ_1-6アルキルカルボニル（例えば、ホルミル、メチ
ルカルボニル、エチルカルボニルなど）、フェニルカル
ボニル、Ｃ_1-6アルキルオキシカルボニル（例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、フェニ
ルオキシカルボニル（例えば、ベンズオキシカルボニル
など）、Ｃ_7-10アラルキルオキシカルボニル（例えば、
ベンジルオキシカルボニルなど）、トリチル、フタロイ
ルなどが用いられる。これらの置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、
Ｃ_1-6アルキルカルボニル（例えば、アセチル、プロピ
オニル、ブチリルなど）、ニトロ基などが用いられ、置
換基の数は１ないし３個程度である。カルボキシル基の
保護基としては、例えば置換基を有していてもよいＣ
_1-6アルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、tert−ブチルなど）、フェニル、
トリチル、シリルなどが用いられる。これらの置換基と
しては、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素など）、Ｃ_1-6アルキルカルボニル（例えば、ホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリルなど）、ニ
トロ基などが用いられ、置換基の数は１ないし３個程度
である。

【００４４】ヒドロキシル基の保護基としては、例えば
置換基を有していてもよいＣ_1-6アルキル（例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert
−ブチルなど）、フェニル、Ｃ_7-10アラルキル（例え
ば、ベンジルなど）、Ｃ_1-6アルキルカルボニル（例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニルなど）、フェニ
ルオキシカルボニル、Ｃ_7-10アラルキルオキシカルボニ
ル（例えば、ベンジルオキシカルボニルなど）、ピラニ
ル、フラニル、シリルなどが用いられる。これらの置換
基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素など）、Ｃ_1-6アルキル、フェニル、Ｃ_7-10
アラルキル、ニトロ基などが用いられ、置換基の数は１
ないし４個程度である。また、保護基の導入および除去
方法としては、それ自体公知またはそれに準じる方法
〔例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガ
ニック・ケミストリー（J.F.W.McOmieら、 プレナムプレ
ス社）に記載の方法〕が用いられるが、除去方法として
は、例えば酸、塩基、還元、紫外光、ヒドラジン、フェ
ニルヒドラジン、Ｎ−メチルジチオカルバミン酸ナトリ
ウム、テトラブチルアンモニウムフルオリド、酢酸パラ
ジウムなどで処理する方法が用いられる。

【００４５】［Ａ法］

【化２７】 ［式中の各記号は、前記と同意義を有する］ 本法では化合物 (II) をホスホン酸エステル誘導体 (II
I) と反応させることにより化合物 (I-1) を製造する。
(II) と (III) の縮合反応は通常のペプチド合成手段に
より行われる。該ペプチド合成手段は、任意の公知の方
法に従えばよく、例えば M.Bodansky および M.A.Ondet
ti著、ペプチド・シンセシス(Peptide Synthesis), イン
タ−サイエンス、ニュ−ヨーク、１９６６年； F.M.Fi
nn 及びK.Hofmann 著ザ・プロテインズ(The Protein
s)、第２巻、H.Nenrath,R.L.Hill編集、アカデミック
プレス インク．、ニュ−ヨ−ク、１９７６年； 泉屋
信夫他著“ペプチド合成の基礎と実験”、丸善（株）、
１９８５年などに記載された方法、例えば、アジド法、
クロライド法、酸無水物法、混酸無水物法、ＤＣＣ法、
活性エステル法、ウッドワ−ド試薬Ｋを用いる方法、カ
ルボニルジイミダゾ−ル法、酸化還元法、ＤＣＣ／ＨＯ
ＮＢ法などの他、シアノリン酸ジエチル(DEPC)を用いる
方法等があげられる。本縮合反応は溶媒中で行うことが
できる。溶媒としては、例えば無水または含水のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ピリ
ジン、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、アセトニトリルあるいはこれらの適
宜の混合物があげられる。反応温度は、通常約−２０℃
〜約５０℃、好ましくは約−１０℃〜約３０℃である。
反応時間は約１〜約１００時間、好ましくは約２〜約４
０時間である。このようにして得られるホスホン酸エス
テル誘導体 (I-1) は公知の分離精製手段例えば濃縮、
減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグ
ラフィーなどにより単離精製することができる。

【００４６】［Ｂ法］

【化２８】 ［式中、Ｑ₁''は式−Ｘ−Ｐ(Ｏ)(ＯＨ)₂を示し、その他
の記号は、前記と同意義を有する］ 本法ではＡ法で製造されたホスホン酸エステル誘導体
(I-1) を加水分解反応に付すことにより対応するホスホ
ン酸 (I-2) を製造する。 本反応は塩酸、臭化水素酸等の無機酸類または、ハロゲ
ン化トリアルキルケイ素類を用いて、反応により悪影響
を及ぼさない溶媒中で行われる。塩酸または臭化水素酸
等の無機酸類を用いる場合溶媒としてはメタノ−ル、エ
タノ−ル、２−メトキシエタノ−ル、エチレングリコ−
ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等のアルコ−ル類、水、
あるいはこれらの混合溶媒が用いられる。酸の使用量は
通常大過剰であり、反応温度は、約０℃〜約１５０℃，
好ましくは約３０℃〜約１００℃、反応時間は約１〜約
５０時間である。クロロトリメチルケイ素、ブロモトリ
メチルケイ素、ヨウ化トリメチルケイ素等のハロゲン化
アルキルケイ素類を用いる場合、溶媒としては四塩化炭
素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロ
エタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン等のハロ
ゲン化炭素類、アセトニトリルあるいはこれらの混合溶
媒等が用いられる。ハロゲン化アルキルケイ素類の使用
量は化合物 (I-1) に対して約１〜約１０当量好ましく
は約２〜約５当量である。反応温度は約−３０℃〜約１
００℃、好ましくは約−１０℃〜約５０℃、反応時間
は、約３０分〜約１００時間である。このようにして得
られるホスホン酸を塩に導くには、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、アンモニアや
有機アミン等の塩基を用いて常法により処理する。この
ようにして得られるホスホン酸誘導体 (I-2) は公知の
分離精製手段例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、
再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製
することができる。

【００４７】Ａ法の原料化合物 (II) は、文献公知の化
合物をそのまま利用するか、もしくは文献、特許［例、
オ−ガニック シンセシス(Organic Synthesis)、２６
巻、２８頁（１９４６年）、公開特許公報 平１−２３
０５７０号（１９８９年）、ビュレチン ドウ ラ ソ
シエテ シミカ ドウ ラ フランス(Bull. Soc. Chi
m. Fr.)、５１２頁（１９５０年）、オ−ガニック シ
ンセシス(Organic Synthesis)、Collective vol.３巻、
１６５頁（１９５５年）］等に記載の方法またはそれら
に準ずる方法により容易に合成することができる。例え
ば、一般式（II）中、一般式（II−１）で表される化合
物は［Ｃ−１］および［Ｃ−２］法に従って製造され
る。［Ｃ−１法］

【化２９】 ［式中、Ｇは低級アルキル基を、Ｙ'は環Ｂが５ないし
８員環を形成する、不飽和結合を含まない２価の基を示
し、他の記号は前記と同意義を有する］ Ｇで表される低級アルキル基としては、Ｒ¹，Ｒ²として
例示した低級アルキル基のうち炭素数１〜４のものが挙
げられる。本法では、まず一般式（IV）で表される化合
物をポリリン酸と共に加熱するか、あるいは化合物（I
V）を塩化チオニル、オキサリル クロリド、オキシ塩
化リンまたは五塩化リン等で酸クロリドとした後、通常
のフリーデル−クラフツ(Friedel-Crafts)反応により環
化して化合物（Ｖ）を製造する。ついで化合物（Ｖ）を
塩基の存在下、炭酸エステルと反応させケトエステル
（VI）を製造する。化合物（VI）は、接触水素添加また
は水素化ホウ素ナトリウム等による還元反応により化合
物（VII）とする。化合物（VII）は、エステル加水分解
反応に付した後、酸と共に加熱することにより不飽和カ
ルボン酸（II−1）を製造する。Ｃ法の合成中間体であ
る化合物（Ｖ）の多くは、文献公知であり例えば、ケミ
カル アンド ファ−マシュ−ティカル ビュレチン(C
hem. Pharm. Bull.)、２６巻、５０４頁（１９７８
年）、ケミカル アンド ファ−マシュ−ティカルビュ
レチン(Chem. Pharm. Bull.)、３１巻、２３４９頁（１
９８３年）、ケミカル アンド ファ−マシュ−ティカ
ル ビュレチン(Chem. Pharm. Bull.)、３２巻、１３０
頁（１９８４年）、日本農芸化学雑誌(J. Agr. Chem. S
oc. Japan)、２６巻、２８頁（１９４６年）等に記載さ
れている。これらの化合物は、Ｃ−１法により化合物
（II−1）とすることができる。

【００４８】［Ｃ−２法］

【化３０】 ［式中の各記号は前記と同意義を有する。］ 本法では、まず一般式（Ｖ）で表される化合物を自体公
知の方法によりシアノヒドリン（VIII）とした後、（VI
II）を脱水反応に付し（IX）を製造する。化合物（IX）
は自体公知の酸またはアルカリ加水分解反応に付し、化
合物（II−２）を製造する。

【００４９】一般式（III）中、Ｒ³，Ｒ⁴が互いに結合
して環を形成している化合物（III−１）は、例えばＤ
法に従って製造できる。［Ｄ法］

【化３１】 ［式中、各記号は前記と同意義を有する］ 本法では一般式（Ｘ）で表される化合物をクロル化剤と
反応させた後、ジオ−ル（XI）との反応により化合物
（XII）とする。ついで化合物（XII）を還元反応に付
し、化合物（III−１）を製造する。

【００５０】化合物（Ｘ）のクロル化は、適当な溶媒中
もしくは無溶媒で行われる。該溶媒としては、例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなど
のエ−テル類、ピリジン、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラ
クロロエタンおよびこれらの混合溶媒が挙げられる。ク
ロル化剤としては塩化チオニル、オキサリル クロリ
ド、オキシ塩化リン、五塩化リンなど、好ましくは塩化
チオニル、オキサリル クロリドが挙げられる。本反応
は、触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの存在下に
有利に行われる。反応温度は約−１００℃〜約１５０
℃、好ましくは約−８０℃〜約１００℃であり、クロル
化剤の使用量は化合物（Ｘ）に対し約１〜約１０モル当
量、好ましくは約１〜約５モル当量である。反応時間は
通常約０．５〜約１０時間である。ついでジオ−ル（X
I）との反応により化合物（XII）を製造する。本反応
は、適宜の溶媒中塩基の存在下に行われる。該溶媒とし
ては例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタンなどのエ−テル類、アセトニトリル、クロロホ
ルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，
１，２，２−テトラクロロエタン及びこれらの混合溶媒
があげられる。該塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水
素ナトリウムなどのアルカリ金属塩、ピリジン、トリエ
チルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類、
水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの適宜の塩基の
存在下に行われ、これら塩基の使用量は化合物（Ｘ）に
対し約１〜約５モル当量程度が、ジオ−ルの使用量は化
合物（Ｘ）に対し約１〜約５モル当量が好ましい。本反
応は通常約−８０゜Ｃ〜約１５０℃、好ましくは約−８
０℃〜約８０℃で、約１〜約５０時間かけて行われる。

【００５１】化合物（XII）の還元反応は、自体公知の
方法で行うことができる。例えば、金属水素化物による
還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランおよび置
換ボランによる還元、接触水素添加等が用いられる。す
なわち、この反応は化合物（XII）を還元剤で処理する
ことにより行われる。還元剤としては、水素化ホウ素ア
ルカリ金属（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム等）、水素化アルミニウムリチウムなどの金
属水素錯化合物、水素化ナトリウムなどの金属水素化
物、有機スズ化合物（水素トリフェニルスズ等）、ニッ
ケル化合物、亜鉛化合物などの金属および金属塩、パラ
ジウム、白金、ロジウムなどの遷移金属触媒と水素とを
用いる接触還元剤およびジボランなどが挙げられるが、
パラジウム、白金、ロジウムなどの遷移金属触媒と水素
とを用いる接触還元により有利に行われる。この反応
は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で行われる。該
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエ
−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、などのエ−
テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、2-メトキシエタノ−ルなどのアルコ−ル
類、N,N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類、あるい
はこれらの混合溶媒などが還元剤の種類により適宜選択
して用いられる。反応温度は約−２０℃〜約１５０℃，
とくに約０℃〜約１００℃が好適であり、反応時間は、
約１〜約２４時間程度である。このようにして得られる
化合物（III−１）は公知の分離精製手段例えば濃縮、
減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグ
ラフィーなどにより単離精製することができる。

【００５２】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物ま
たはその塩は、強い骨形成促進作用を有するので、人お
よび動物（例、マウス、ラット、ネコ、イヌ、ウサギ、
ウシ、ブタなど）における種々の代謝性骨疾患、例えば
骨粗鬆症の予防ならびに治療のために使用される。本発
明の一般式（Ｉ）で表される化合物またはその塩は、低
毒性で安全に使用することができる。例えば後述の実施
例１の化合物を１００ｍｇ／ｋｇの割合でマウスに経口
投与、または５０ｍｇ／ｋｇの割合で腹腔内投与して
も、死亡例を認めなかった。また、実施例４５の化合物
を３００ｍｇ／ｋｇの割合でマウスに経口投与、または
２００ｍｇ／ｋｇの割合で腹腔内投与しても、死亡例を
認めなかった。本発明の一般式(Ｉ)で表される化合物ま
たはその塩は、骨形成促進剤として、例えば骨粗鬆症予
防治療剤および骨折治癒促進剤として使用することがで
きる。一般式（Ｉ）で表される化合物またはその塩の１
日当たりの投与量は、患者の状態や体重、投与の方法に
より異なるが、経口投与の場合成人（体重５０Ｋｇ）１
人当たり活性成分［一般式（Ｉ）で表される化合物また
はその塩］として約５から１０００ｍｇ、好ましくは約
１０から６００ｍｇであり、さらに好ましくは約１５〜
１５０ｍｇであり、１日当たり１から３回にわけて投与
する。

【００５３】

【発明の効果】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物
またはその塩は、強い骨形成促進作用を有するので、人
および動物における種々の代謝性骨疾患、例えば骨粗鬆
症の予防ならびに治療のために有利に使用できる。以下
に試験例、参考例、実施例を示し、本願発明をさらに詳
しく説明する。しかし、これらは、単なる例であって本
発明を何ら限定するものではない。

【００５４】試験例 骨形成促進作用 正常ラットの大腿骨骨髄より調製した間質細胞を用い、
アルカリフォスファタ−ゼ活性を骨形成の指標として測
定した。すなわち、Maniatopoulos らの方法［セル テ
ィシュ リサ−チ（Cell Tissue Research）、２５４
巻、３１７頁（１９８８年）］に従って、７週齢雄性ス
プラ−グ ドウリ−(Spraque-Dawley) ラットの大腿骨
骨髄より間質細胞を調製し、石灰化した骨様組織を形成
させるためデキサメタゾン(10^-7M) および β-グリセロ
リン酸(10^-2M) を含む α-MEM(minimum essential medi
um) 液中において培養した。１週間後、 confluent に
達した細胞に化合物(10^-7M および 10^-5M) を添加し、
上述の培養液中においてさらに１０−１４日間培養し
た。細胞をリン酸緩衝液で洗浄後、0.2% Nonidet P-40
を加えホモゲナイズし、3000 rpmで１０分間遠心後の上
清を用い、Lowry らの方法［ジャ−ナル オブ バイオ
ロジカル ケミストリ−(Journal of BiologicalChemis
try)、２０７巻、１９頁（１９５４年）］に従い、アル
カリフォスファタ−ゼ活性を測定した。測定値は、表１
に mean ± SE で表示した。統計処理は、Student's t-
test により行った。

【００５５】

【表１】

【００５６】このように本発明の一般式（Ｉ）で表され
る化合物またはその塩は、優れた骨芽細胞活性化作用を
有し、骨粗鬆症を含む代謝性骨疾患の予防、治療薬とし
て有用である。また、このような作用を有する骨形成促
進剤は、整形外科領域における骨折、骨欠損および変形
性関節疾患などの骨疾患への治療にも応用できる。さら
に、歯科領域においては歯周疾患による歯周組織欠損の
修復、人工歯根の安定化、顎堤形成および口蓋裂の修復
などの効果も期待できる。

【００５７】以下、参考例および実施例において室温は
約１５〜２５℃を意味する。 参考例１ 粉末無水塩化アルミニウム（１６．０ｇ）の１，２−ジ
クロロエタン（１６０ｍｌ）懸濁液に氷冷下、エチルス
クシニル クロリド（１９．８ｇ）を、ついでフェニル
シクロヘキサン（１６．０ｇ）を滴下した。還流下に
２．５時間加熱した後、反応混合物を６ＮＨＣｌ（５０
ｍｌ）に注ぎ、１時間かきまぜた。有機層を分取し、水
層はジクロロメタンで抽出した。有機層をあわせ３ＮＨ
Ｃｌ、水、飽和食塩水の順に洗浄、乾燥(MgSO₄)後溶媒
を留去した。残留物油状物はシリカゲル カラムクロマ
トグラフィ−に付し、酢酸エチル−ヘキサン（１：９，
ｖ／ｖ）で溶出する部分より、３−（４−シクロヘキシ
ルベンゾイル）プロピオン酸エチル（１４．３ｇ，５０
％）を得た。ヘキサンから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 ５４−５５℃。

【００５８】参考例２ 参考例１と同様にして、ｏ−キシレンとエチルスクシニ
ル クロリドとの反応により３−（３，４−ジメチルベ
ンゾイル）プロピオン酸エチルを油状物として得た。NM
R(δ ppm in CDCl₃): 1.26(3H,t,J=7.0Hz), 2.31(6H,
s), 2.74(2H,t,J=6.7Hz), 3.28(2H,t,J=6.7Hz), 4.16(2
H,q,J=7.0Hz), 7.18-7.26(1H,m), 7.69-7.75(2H,m)。 参考例３ ３−（４−シクロヘキシルベンゾイル）プロピオン酸エ
チル（１９．６ｇ）のメタノ−ル（１５０ｍｌ）溶液に
２ＮＫＯＨ（１０２ｍｌ）を加え、室温で１．５時間か
きまぜた。反応混合物を水（２００ｍｌ）に注ぎ、濃塩
酸で酸性化し酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水
洗、乾燥(MgSO₄)後溶媒を留去し、３−（４−シクロヘ
キシルベンゾイル）プロピオン酸（１０．８ｇ，６１
％）を得た。イソプロピルエ−テルから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １４０−１４１℃。

【００５９】参考例４ 参考例３と同様にして、３−（３，４−ジメチルベンゾ
イル）プロピオン酸エチルより３−（３，４−ジメチル
ベンゾイル）プロピオン酸を得た。イソプロピルエ−テ
ルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １３１−１
３２℃。 参考例５ 無水こはく酸（３３．０２ｇ）、粉末無水塩化アルミニ
ウム（８８．０ｇ）、ニトロベンゼン（５０ｍｌ）およ
び１，２−ジクロロエタン（１５０ｍｌ）の混合物に氷
冷下、イソプロピルベンゼン（４０．０ｇ）を滴下し
た。還流下に２時間加熱した後、反応混合物を氷水に注
ぎ、濃塩酸（８０ｍｌ）を加え１時間かきまぜた後、有
機層を分取し、水層はジクロロメタンで抽出した。有機
層をあわせ水洗、乾燥(MgSO₄)後溶媒を留去した。残留
結晶をヘキサンでろ取し、３−（４−イソプロピルベン
ゾイル）プロピオン酸（３０．９ｇ，４３％）を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。淡褐色プリズム
晶。融点 １４２−１４４℃。

【００６０】参考例６ ３−（４−シクロヘキシルベンゾイル）プロピオン酸
（１０．７ｇ）、パラジウム−炭素（５％，５０％ｗｅ
ｔ，３．０ｇ）および酢酸（１００ｍｌ）の混合物に過
塩素酸(HClO₄)（２．３ｍｌ）を加え、室温、１気圧で
接触還元反応に付した。不溶物をろ別、ろ液は減圧下に
濃縮した。残留物に水（１００ｍｌ）を加えて、酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO₄)後
溶媒を留去し、４−（４−シクロヘキシルフェニル）酪
酸（１０．４ｇ，１００％）を油状物として得た。NMR
(δ ppm in CDCl₃): 1.35-1.82(10H,m), 2.00(2H,t,J=7
Hz),2.35(2H,t,J=7Hz), 2.47(1H,broad s), 2.62(2H,t,
J=7Hz), 7.12(4H,s), 9.06(1H,broad s)。 参考例７ 参考例６と同様にして、３−（４−イソプロピルベンゾ
イル）プロピオン酸を接触還元反応に付し、４−（４−
イソプロピルフェニル）酪酸を得た。ヘキサンから再結
晶した。無色プリズム晶。融点 ５０−５１℃。

【００６１】参考例８ 参考例６と同様にして、３−（３，４−ジメチルベンゾ
イル）プロピオン酸を接触還元反応に付し、４−（３，
４−ジメチルフェニル）酪酸を得た。ジクロロメタン−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 ５０
−５１℃。 参考例９ ４−（４−シクロヘキシルフェニル）酪酸（１０．２
ｇ）、塩化チオニル（７．４ｇ）およびトルエン（５０
ｍｌ）の混合物にピリジン（１滴）を加え、１．５時間
還流下に加熱後、減圧下に溶媒を留去した。残留物をジ
クロロメタン（２０ｍｌ）に溶かし、この溶液を粉末無
水塩化アルミニウム（８．３ｇ）のジクロロメタン（１
００ｍｌ）懸濁液に氷冷下に滴下した。室温で３時間か
きまぜた後、反応混合物を１．２Ｎ ＨＣｌ（１５０ｍ
ｌ）に注ぎ、３０分間かきまぜた。有機層を分取し、水
層はジクロロメタンで抽出した。有機層をあわせ水、飽
和食塩水の順に洗浄、乾燥(MgSO₄)後溶媒を留去した。
残留物油状物はシリカゲルカラムクロマトグラフィ−に
付し、酢酸エチル−ヘキサン（１：１０，ｖ／ｖ）で溶
出する部分より、７−シクロヘキシル−１−テトラロン
（９．４ｇ，１００％）を油状物として得た。NMR(δ p
pm in CDCl₃): 1.40-1.79(10H,m), 2.10(2H,m), 2.52(1
H,broad s), 2.64(2H,t,J=6Hz), 2.92(2H,t,J=6Hz), 7.
16(1H,d,J=9Hz), 7.33(1H,dd,J=8&2Hz), 7.90(1H,d,J=2
Hz)。

【００６２】参考例１０ 参考例９と同様にして、４−（４−イソプロピルフェニ
ル）酪酸より、７−イソプロピル−１−テトラロンを油
状物として得た。NMR(δ ppm in CDCl₃): 1.25(6H,d,J=
7Hz), 2.11(2H,m), 2.64(2H,t,J=6.8Hz), 2.89-2.96(3
H,m), 7.18(1H,d,J=8.0Hz), 7.35(1H,dd,J=8.0&2.2Hz),
7.91(1H,d,J=2.2Hz)。 参考例１１ 参考例９と同様にして、４−（３，４−ジメチルフェニ
ル）酪酸より、６，７−ジメチル−１−テトラロンを得
た。ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
４７−４８℃。 参考例１２ ７−シクロヘキシル−１−テトラロン（９．４ｇ）、ナ
トリウムメトキシド（８．９ｇ）および炭酸ジメチル
（６５ｍｌ）の混合物を、窒素気流下３０分加熱還流し
た。冷却後析出結晶をろ取し、酢酸エチル（２５０ｍ
ｌ）に懸濁し、６ＮＨＣｌ（５０ｍｌ）を加えた。有機
層を分取し、水層は酢酸エチルで抽出した。有機層をあ
わせ水、飽和食塩水の順に洗浄、乾燥(MgSO₄)後溶媒を
留去し、７−シクロヘキシル−１−テトラロン−２−カ
ルボン酸メチル（８．６ｇ，７４％）を油状物として得
た。NMR(δ ppm in CDCl₃): 1.37-1.80(10H,m), 2.27-
2.77(4H,m), 2.54(1H,broad s), 2.80(3H,m), 2.99(1H,
t,J=6Hz), 7.10-7.40(2H,m),7.65(0.5H,d,J=2Hz), 7.89
(0.5H,d,J=2Hz)。

【００６３】参考例１３ 参考例１２と同様にして、７−イソプロピル−１−テト
ラロンより７−イソプロピル−１−テトラロン−２−カ
ルボン酸メチルを油状物としてを得た。NMR(δppm in C
DCl₃): 1.21-1.29(6H,m), 2.35-3.03(5H,m), 3.61(1/4
H,dd,J=10.0&5.2Hz), 3.78(3/4H,s), 3.82(9/4H,s), 7.
07-7.92(3H,m), 12.47(3/4H,s)。 参考例１４ 参考例１２と同様にして、６，７−ジメチル−１−テト
ラロンより６，７−ジメチル−１−テトラロン−２−カ
ルボン酸メチルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結
晶した。無色プリズム晶。融点 ８０−８１℃。 参考例１５ 参考例１２と同様にして、５，７−ジメチル−１−テト
ラロンより５，７−ジメチル−１−テトラロン−２−カ
ルボン酸メチルを油状物として得た。NMR(δ ppm in CD
Cl₃): 2.26(3H,s), 2.32(3H,s), 2.30-3.00(4H,m), 3.5
8(1/2H,dd,J=10.0&5.0Hz), 3.77(3/2H,s), 3.82(3/2H,
s), 7.03(1/2H,s), 7.20(1/2H,s), 7.51(1/2H,s), 12.4
0(1/2H,s)。

【００６４】参考例１６ ７−シクロヘキシル−１−テトラロン−２−カルボン酸
メチル（８．６ｇ）をジクロロメタン（４０ｍｌ）−メ
タノ−ル（５０ｍｌ）に溶かし、水素化ホウ素ナトリウ
ム（１．１３ｇ）を室温で少量づつ加えた。反応混合物
を水（８０ｍｌ）に注ぎ、ジクロロメタンで抽出した。
ジクロロメタン層を水、飽和食塩水の順に洗浄、乾燥(M
gSO₄)後溶媒を留去した。残留油状物をメタノ−ル（４
０ｍｌ）に溶かし、２Ｎ ＮａＯＨ（４５ｍｌ）を室温
で滴下し１時間かきまぜた。反応液をエ−テルで洗浄
し、水層を濃塩酸で酸性化してジクロロメタンで抽出し
た。ジクロロメタン層を水、飽和食塩水の順に洗浄、乾
燥(MgSO₄)後溶媒を留去した。残留油状物にジオキサン
（２５ｍｌ）および濃塩酸（４．２ｍｌ）を加え、９０
℃で４０分間かきまぜた後、減圧下に濃縮した。残留物
に水を加えて、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を
水、飽和食塩水の順に洗浄、乾燥(MgSO₄)後溶媒を留去
し、７−シクロヘキシル−３，４−ジヒドロナフタレン
−２−カルボン酸（１．５７ｇ，２０％）を得た。エタ
ノ−ルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １７９
−１８０℃。

【００６５】参考例１７ 参考例１６と同様にして、７−イソプロピル−１−テト
ラロン−２−カルボン酸メチルより７−イソプロピル−
３，４−ジヒドロナフタレン−２−カルボン酸を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融
点 １６０−１６２℃。 参考例１８ 参考例１６と同様にして、６，７−ジメチル−１−テト
ラロン−２−カルボン酸メチルより３，４−ジヒドロ−
６，７−ジメチルナフタレン−２−カルボン酸を得た。
クロロホルム−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 ２２２−２２３℃。 参考例１９ 参考例１６と同様にして、５，７−ジメチル−１−テト
ラロン−２−カルボン酸メチルより３，４−ジヒドロ−
５，７−ジメチルナフタレン−２−カルボン酸を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融
点 １９４−１９５℃。

【００６６】参考例２０ ４−ニトロベンジルホスホン酸（３７．４０ｇ）、塩化
チオニル（１５０ｍｌ）およびをＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（５滴）の混合物を５時間還流下に加熱した後
減圧下に濃縮した。残留物をテトラヒドロフラン（５０
０ｍｌ）に溶かし、エチレングリコ−ル（１０．６９
ｇ）のアセトニトリル（９０ｍｌ）溶液を−７８℃で１
５分間かけて滴下した。ついでピリジン（２８．６１
ｇ）を−７８℃で１５分間かけて滴下し、混合物を室温
で１５時間かきまぜた。不溶物をろ別し、ろ液を減圧下
に濃縮、残留物はクロロホルム（４００ｍｌ）に溶解し
た。また、先にろ別した不溶物は、水（８００ｍｌ）−
クロロホルム（２００ｍｌ）に分配し、クロロホルム層
を分取した。クロロホルム層を合わせ、１ＮＨＣｌ、
水、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩水、水の
順に洗浄、乾燥(MgSO₄)後、活性炭処理を行い溶媒を留
去、２−（４−ニトロベンジル）−１，３，２−ジオキ
サホスホラン−２−オキシド（８．８６ｇ，２１％）を
得た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶した。無色板状
晶。融点 １４４−１４５℃。

【００６７】参考例２１ オキサリル クロリド（２２．０９ｇ）を４−ニトロベ
ンジルホスホン酸（１７．９９ｇ）、ピリジン（１３．
７６ｇ）およびテトラヒドロフラン（５００ｍｌ）の混
合物に−７８℃で滴下した。この混合物を−７８℃で３
０分間、室温で１．５時間かきまぜた後、不溶の固体を
ろ別した。ろ液は減圧下に濃縮し、残留する油状物をテ
トラヒドロフラン（５００ｍｌ）に溶解した。この溶液
に１，３−プロパンジオ−ル（２．５８ｇ）のアセトニ
トリル（３０ｍｌ）溶液を−７８℃で１５分間かけて滴
下した。ついでピリジン（５．６２ｇ）を−７８℃で５
分間かけて滴下し、混合物を室温で１５時間かきまぜ
た。不溶物をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮、残留物はシ
リカゲル カラムクロマトグラフィ−に付し、酢酸エチ
ル−クロロホルム−メタノ−ル（１０：１０：１，ｖ／
ｖ）で溶出する部分より２−（４−ニトロベンジル）−
１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシド
（５．６２ｇ，２６％）を得た。エタノ−ル−ヘキサン
から再結晶した。無色針状晶。融点 １４４−１４５
℃。

【００６８】参考例２２ 参考例２０と同様にして、４−ニトロベンジルホスホン
酸および２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオ−ル
より、５，５−ジメチル−２−（４−ニトロベンジル）
−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドを
得た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶した。無色板状
晶。融点 １７６−１７７℃。 参考例２３ 参考例２０と同様にして、４−ニトロベンジルホスホン
酸および２，４−ペンタンジオ−ルより、４，６−ジメ
チル−２−（４−ニトロベンジル）−１，３，２−ジオ
キサホスホリナン−２−オキシドを得た。エタノ−ル−
ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点 １５２−
１５３℃。 参考例２４ 参考例２０と同様にして、４−ニトロベンジルホスホン
酸および１，４−ブタンジオ−ルより、２−（４−ニト
ロベンジル）−１，３，２−ジオキサホスフェパン−２
−オキシドを得た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶し
た。無色針状晶。融点 １３６−１３７℃。

【００６９】参考例２５ 参考例２０と同様にして、４−ニトロベンジルホスホン
酸および２−メチル−１，３−プロパンジオ−ルより、
５−メチル−２−（４−ニトロベンジル）−１，３，２
−ジオキサホスホリナン−２−オキシドを得た。エタノ
−ル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１７０−１７１℃。 参考例２６ 参考例２０と同様にして、４−ニトロベンジルホスホン
酸および２−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジ
オ−ルより、５−エチル−５−メチル−２−（４−ニト
ロベンジル）−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２
−オキシドを得た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 １８４−１８５℃。 参考例２７ 参考例２０と同様にして、４−ニトロベンジルホスホン
酸および２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオ−ル
より、５，５−ジエチル−２−（４−ニトロベンジル）
−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドを
得た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １５９−１６０℃。

【００７０】参考例２８ 参考例２０と同様にして、４−ニトロベンジルホスホン
酸および２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジ
オ−ルより、５−ブチル−５−エチル−２−（４−ニト
ロベンジル）−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２
−オキシドを得た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 １１１−１１２℃。 参考例２９ ２−（４−ニトロベンジル）−１，３，２−ジオキサホ
スホラン−２−オキシド（８．５６ｇ）、パラジウム−
炭素（５％，５０％ｗｅｔ，４．０ｇ）およびメタノ−
ル（３００ｍｌ）の混合物を室温、１気圧で接触還元反
応に付した。不溶物をろ別、ろ液は減圧下に濃縮し、２
−（４−アミノベンジル）−１，３，２−ジオキサホス
ホラン−２−オキシド（４．２５ｇ，５７％）を得た。
エタノ−ル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １８３−１８４℃。 参考例３０ 参考例２９と同様にして、２−（４−ニトロベンジル）
−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドを
接触還元反応に付し、２−（４−アミノベンジル）−
１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドを得
た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶した。無色針状
晶。融点 １７２−１７３℃。

【００７１】参考例３１ 参考例２９と同様にして、５，５−ジメチル−２−（４
−ニトロベンジル）−１，３，２−ジオキサホスホリナ
ン−２−オキシドを接触還元反応に付し、２−（４−ア
ミノベンジル）−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオ
キサホスホリナン−２−オキシドを得た。エタノ−ル−
ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点 １５２−
１５３℃。 参考例３２ 参考例２９と同様にして、４，６−ジメチル−２−（４
−ニトロベンジル）−１，３，２−ジオキサホスホリナ
ン−２−オキシドを接触還元反応に付し、２−（４−ア
ミノベンジル）−４，６−ジメチル−１，３，２−ジオ
キサホスホリナン−２−オキシドを得た。エタノ−ル−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １６
０−１６１℃。 参考例３３ 参考例２９と同様にして、２−（４−ニトロベンジル）
−１，３，２−ジオキサホスフェパン−２−オキシドを
接触還元反応に付し、２−（４−アミノベンジル）−
１，３，２−ジオキサホスフェパン−２−オキシドを得
た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズ
ム状晶。融点 １２８−１２９℃。

【００７２】参考例３４ 参考例２９と同様にして、５−メチル−２−（４−ニト
ロベンジル）−１，３，２−ジオキサホスホリナン−２
−オキシドを接触還元反応に付し、２−（４−アミノベ
ンジル）−５−メチル−１，３，２−ジオキサホスホリ
ナン−２−オキシドを得た。エタノ−ル−ヘキサンから
再結晶した。無色針状晶。融点 １５８−１５９℃。 参考例３５ 参考例２９と同様にして、５−エチル−５−メチル−２
−（４−ニトロベンジル）−１，３，２−ジオキサホス
ホリナン−２−オキシドを接触還元反応に付し、２−
（４−アミノベンジル）−５−エチル−５−メチル−
１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドを得
た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶した。無色針状
晶。融点 １３０−１３１℃。 参考例３６ 参考例２９と同様にして、５，５−ジエチル−２−（４
−ニトロベンジル）−１，３，２−ジオキサホスホリナ
ン−２−オキシドを接触還元反応に付し、２−（４−ア
ミノベンジル）−５，５−ジエチル−１，３，２−ジオ
キサホスホリナン−２−オキシドを得た。エタノ−ル−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １２
８−１２９℃。 参考例３７ 参考例２９と同様にして、５−ブチル−５−エチル−２
−（４−ニトロベンジル）−１，３，２−ジオキサホス
ホリナン−２−オキシドを接触還元反応に付し、２−
（４−アミノベンジル）−５−ブチル−５−エチル−
１，３，２−ジオキサホスホリナン−２−オキシドを得
た。エタノ−ル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点 ９０−９１℃。

【００７３】参考例３８ セサモ−ル（８．２８ｇ）、オルトギ酸エチル（５３．
５８ｇ）およびベンゼン（１２０ｍｌ）の混合物に粉末
無水塩化アルミニウム（１２．０ｇ）を加え、室温で１
時間かきまぜた後、５％塩酸（１８０ｍｌ）に注ぎ室温
で３０分間かきまぜた。不溶物をろ別し、エ−テルで抽
出した。エ−テル層は、水洗、乾燥(MgSO₄) 後溶媒を留
去した。残留物は、シリカゲル カラムクロマトグラフ
ィ−に付し、酢酸エチル−ヘキサン（１：８，ｖ／ｖ）
で溶出する部分より、２−ヒドロキシ−４，５−メチレ
ンジオキシベンズアルデヒド（３．４８ｇ，３５％）を
得た。融点 １２８−１２９℃。 参考例３９ ２−ヒドロキシ−４，５−メチレンジオキシベンズアル
デヒド（１．１６ｇ）、マロン酸ジエチル（１．３４
ｇ）、ピペリジン（０．３ｇ）、酢酸（０．０３５ｍ
ｌ）およびエタノ−ル（３０ｍｌ）の混合物を還流下に
４時間かきまぜた。冷却後、析出結晶をろ取し、６，７
−メチレンジオキシ−２−オキソ−１−ベンゾピラン−
３−カルボン酸エチル（１．２９ｇ，７０％）を得た。
融点 ２００−２０１℃。 参考例４０ ６，７−メチレンジオキシ−２−オキソ−１−ベンゾピ
ラン−３−カルボン酸エチル（０．２６ｇ）のメタノ−
ル（２０ｍｌ）懸濁液に２ＮＫＯＨ（１．５ｍｌ）を加
え、室温で２時間かきまぜた。反応混合物を水に注ぎ、
塩酸で酸性化し、析出結晶をろ取して６，７−メチレン
ジオキシ−２−オキソ−１−ベンゾピラン−３−カルボ
ン酸（０．１ｇ，４４％）を得た。Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド−水から再結晶した。黄色プリズム晶。融点
２７９−２８０℃。

【００７４】参考例４１ ５−ニトロー２−チオフェンカルボキシアルデヒド
（１．０ｇ）およびエタノール（３０ｍｌ）の混合物に
水素化ホウ素ナトリウム（０．２４ｇ）を０℃で加え、
同温度で４０分間かきまぜた。反応混合物を水に注いで
ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層は、水洗
後乾燥(MgSO₄)、溶媒を留去し、２−ヒドロキシメチル
−５−ニトロチオフェン（０．５ｇ，４９％）を得た。
NMR(δ ppmin CDCl₃): 2.75(1H,br s), 4.88(2H,d,J=
5.2Hz), 6.93(1H,d,J=4.2Hz), 7.81(1H,d,J=4.2Hz)。 参考例４２ ２−ヒドロキシメチル−５−ニトロチオフェン（１７．
７ｇ）およびトルエン（１５０ｍｌ）の混合物に三臭化
リン(PBr₃)（１０．４５ｇ）を滴下、７０℃で１．５時
間かきまぜた。反応混合物を水に注いでエーテルで抽出
した。エーテル層は、水洗後乾燥(MgSO₄)、溶媒を留去
し、残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィーに
付した。クロロホルムで溶出する部分より、２−ブロモ
メチル−５−ニトロチオフェン（２２．４３ｇ，９２
％）を油状物として得た。 NMR(δppm in CDCl₃): 4.63
(2H,s), 7.07(1H,d,J=4.2Hz), 7.78(1H,d,J=4.2Hz)。 参考例４３ ２−ブロモメチル−５−ニトロチオフェン（１０．０
ｇ）およびトリエチルホスファイト[(C₂H₅O)₃P]（８．
４９ｍｌ）の混合物を還流下に３時間かきまぜた。反応
混合物を減圧下に濃縮し残留物をシリカゲル カラムク
ロマトグラフィーに付した。クロロホルム−メタノール
（１０：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分より、２−ジエト
キシホスホリルメチル−５−ニトロチオフェン（１１．
９１ｇ，９５％）を油状物として得た。 NMR(δ ppm in
CDCl₃): 1.27-1.38(6H,m), 3.36(2H,d,J=21.6Hz), 4.0
5-4.21(4H,m), 6.95-6.99(1H,m), 7.79-7.82(1H,m)。

【００７５】参考例４４ 参考例２９と同様にして、２−ジエトキシホスホリルメ
チル−５−ニトロチオフェンを接触還元反応に付し、５
−アミノ−２−ジエトキシホスホリルメチルチオフェン
を油状物として得た。 NMR(δ ppm in CDCl₃): 1.29(6
H,t,J=7Hz), 3.18(2H,d,J=20.2Hz), 3.40-3.90(2H,br
s), 4.06(2H,q,J=7Hz), 4.10(2H,q,J=7Hz), 6.04(1H,d,
J=3.4Hz), 6.52(1H,m)。 参考例４５ 参考例４３と同様にして、１−ブロモメチル−４−ニト
ロナフタレンとトリメチルホスファイト[(CH₃O)₃P]との
反応により、（４−ニトロ−１−ナフチル）メチルホス
ホン酸ジメチルを得た。エタノール−ヘキサンから再結
晶した。黄色プリズム晶。融点 １２８−１２９℃。 参考例４６ 参考例２９と同様にして、（４−ニトロ−１−ナフチ
ル）メチルホスホン酸ジメチルを接触還元反応に付し、
（４−アミノ−１−ナフチル）メチルホスホン酸ジメチ
ルを油状物として得た。 NMR(δ ppm in CDCl₃): 3.23
(2H,br s), 3.55(2H,d,J=22Hz), 3.55(3H,s), 3.61(3H,
s), 6.75(1H,dd,J=8&1Hz), 7.28(1H,dd,J=8&4Hz), 7.43
-7.58(2H,m), 7.82-7.87(1H,m), 8.00-8.05(1H,m)。 参考例４７ 参考例４３と同様にして、１−ブロモメチル−４−ニト
ロナフタレンとトリエチルホスファイト[(C₂H₅O)₃P]と
の反応により、（４−ニトロ−１−ナフチル）メチルホ
スホン酸ジエチルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶した。黄色プリズム晶。融点 ７３−７４℃。

【００７６】参考例４８ 参考例２９と同様にして、（４−ニトロ−１−ナフチ
ル）メチルホスホン酸ジエチルを接触還元反応に付し、
（４−アミノ−１−ナフチル）メチルホスホン酸ジエチ
ルを油状物として得た。 NMR(δ ppm in CDCl₃): 1.15
(6H,t,J=7Hz), 3.39(2H,br s), 3.53(2H,d,J=21Hz), 3.
83-3.98(4H,m), 6.74(1H,dd,J=8&1Hz), 7.28(1H,dd,J=8
&4Hz), 7.41-7.57(2H,m), 7.81-7.86(1H,m), 8.03-8.08
(1H,m)。 参考例４９ 参考例４３と同様にして、２−ブロモメチル−５−ニト
ロチオフェンとトリメチルホスファイト[(CH₃O)₃P]との
反応により、２−ジメトキシホスホリルメチル−５−ニ
トロチオフェンを油状物として得た。 NMR(δ ppm in C
DCl₃): 3.38(2H,d,J=22Hz), 3.76(3H,s), 3.81(3H,s),
6.95-6.99(1H,m), 7.79-7.81(1H,m)。 参考例５０ 参考例２９と同様にして、２−ジメトキシホスホリルメ
チル−５−ニトロチオフェンを接触還元反応に付し、５
−アミノ−２−ジメトキシホスホリルメチルチオフェン
を油状物として得た。 NMR(δ ppm in CDCl₃): 3.20(2
H,d,J=20Hz), 3.70(3H,s), 3.76(3H,s), 6.03-6.05(1H,
m), 6.51-6.54(1H,m)。 参考例５１ 参考例１と同様にして、tert-ブチルベンゼンとエチル
スクシニルクロリドとの反応により、４−（４−tert
-ブチルフェニル）−４−オキソ酪酸エチルを油状物と
して得た。 NMR(δ ppm in CDCl₃): 1.27(3H,t,J=7Hz),
1.34(9H,s), 2.75(2H,t,J=6.6Hz), 3.30(2H,t,J=6.6H
z), 4.16(2H,q,J=7Hz), 7.48(2H,d,J=8Hz), 7.93(2H,d,
J=8Hz)。

【００７７】参考例５２ 参考例３と同様にして、４−（４−tert-ブチルフェニ
ル）−４−オキソ酪酸エチルを加水分解反応に付し、４
−（４−tert-ブチルフェニル）−４−オキソ酪酸を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。淡褐色プリ
ズム晶。融点１２４−１２５℃。 参考例５３ 参考例６と同様にして、４−（４−tert-ブチルフェニ
ル）−４−オキソ酪酸を接触還元反応に付し、４−（４
−tert-ブチルフェニル）酪酸を得た。ヘキサンから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 ５８−５９℃。 参考例５４ 参考例９と同様にして、４−（４−tert-ブチルフェニ
ル）酪酸より、７−tert-ブチル−１−テトラロンを得
た。イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点 １０１−１０２℃。 参考例５５ 参考例１２と同様にして、７−tert-ブチル−１−テト
ラロンより、７−tert-ブチル−１−テトラロン−２−
カルボン酸メチルを油状物として得た。 NMR(δppm in
CDCl₃): 1.32(2.7H,s), 1.34(6.3H,s), 2.29-2.60(2H,
m), 2.74-3.03(2H,m), 3.61(0.3H,dd,J=10&5Hz), 3.79
(0.9H,s), 7.11(0.7H,d,J=8Hz), 7.19(0.3H,d,J=8Hz),
7.37(0.7H,dd,J=8&2Hz), 7.55(0.3H,dd,J=8&2.2Hz), 7.
84(0.7H,d,J=2Hz), 8.06(0.3H,d,J=2.2Hz), 12.49(0.7
H,s)。

【００７８】参考例５６ 参考例１６と同様にして、７−tert-ブチル−１−テト
ラロン−２−カルボン酸メチルより３，４−ジヒドロ−
７−tert-ブチルナフタレン−２−カルボン酸を得た。
イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １８５−１８６℃。 参考例５７ 参考例１と同様にして、ビフェニルとエチル スクシニ
ルクロリドとの反応により、４−（４−フェニルフェニ
ル）−４−オキソ酪酸エチルを得た。酢酸エチル−ヘキ
サンから再結晶した。黄色プリズム晶。融点 １００−
１０１℃。参考例５８ 参考例３と同様にして、４−（４−フェニルフェニル）
−４−オキソ酪酸エチルを加水分解反応に付し、４−
（４−フェニルフェニル）−４−オキソ酪酸を得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。
融点 １８７−１８９℃。 参考例５９ 参考例６と同様にして、４−（４−フェニルフェニル）
−４−オキソ酪酸を接触還元反応に付し、４−（４−フ
ェニルフェニル）酪酸を得た。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １２０−１２１
℃。

【００７９】参考例６０ 参考例９と同様にして、４−（４−フェニルフェニル）
酪酸より、７−フェニル−１−テトラロンを得た。イソ
プロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融
点 ６８−６９℃。 参考例６１ 参考例１２と同様にして、７−フェニル−１−テトラロ
ンより、７−フェニル−１−テトラロン−２−カルボン
酸メチルを油状物として得た。 NMR(δ ppm inCDCl₃):
2.35-2.64(2H,m), 2.86(1.4H,t,J=8Hz), 3.00-3.15(0.6
H,m), 3.67(0.3H,dd,J=10&4.8Hz), 3.80(0.9H,s), 3.84
(2.1H,s), 7.23-7.77(7H,m), 8.06(0.7H,dd,J=1.6Hz),
8.30(0.3H,d,J=1.8Hz), 12.48(0.7H,s)。 参考例６２ 参考例１６と同様にして、７−フェニル−１−テトラロ
ン−２−カルボン酸メチルより３，４−ジヒドロ−７−
フェニルナフタレン−２−カルボン酸を得た。エタノー
ルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 ２０８−２
０９℃。 参考例６３ 参考例１と同様にして、インダンとエチル スクシニル
クロリドとの反応により、４−（５−インダニル）−４
−オキソ酪酸エチルを得た。イソプロピルエーテルから
再結晶した。無色プリズム晶。融点 ５１−５２℃。 参考例６４ 参考例３と同様にして、４−（５−インダニル）−４−
オキソ酪酸エチルを加水分解反応に付し、４−（５−イ
ンダニル）−４−オキソ酪酸を得た。酢酸エチル−ヘキ
サンから再結晶した。無色針状晶。融点 １２５−１２
６℃。

【００８０】参考例６５ 参考例６と同様にして、４−（５−インダニル）−４−
オキソ酪酸を接触還元反応に付し、４−（５−インダニ
ル）酪酸を得た。ヘキサンから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点 ５７−５８℃。 参考例６６ 参考例９と同様にして、４−（５−インダニル）酪酸よ
り、２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ベ
ンゾ［ｆ］インデン−５−オン（構造式下記）を油状物
として得た。 NMR(δ ppm in CDCl₃): 2.00-2.16(4H,
m), 2.59-2.66(2H,m), 2.87-2.95(6H,m), 7.10(1H,s),
7.89(1H,s)。

【化３２】 参考例６７ 参考例１２と同様にして、２，３，５，６，７，８−ヘ
キサヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｆ］インデン−５−オンよ
り、２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−５−オキ
ソ−１Ｈ−ベンゾ［ｆ］インデン−６−カルボン酸メチ
ル（構造式下記）を得た。ヘキサンから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 ７３−７５℃。

【化３３】 参考例６８ 参考例１６と同様にして、２，３，５，６，７，８−ヘ
キサヒドロ−５−オキソ−１Ｈ−ベンゾ［ｆ］インデン
−６−カルボン酸メチルより２，３，５，６，−テトラ
ヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｆ］インデン−７−カルボン酸
（構造式下記）を得た。酢酸エチルから再結晶した。無
色結晶。融点 ２２７−２２８℃。

【化３４】

【００８１】実施例１ ７−シクロヘキシル−３，４−ジヒドロナフタレン−２
−カルボン酸（０．５１ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ）（１５ｍｌ）溶液に、氷冷下シアノリ
ン酸ジエチル（ＤＥＰＣ）（０．３６ｇ）を加え３０分
間かきまぜた。ついで４−アミノベンジルホスホン酸ジ
エチル（０．５４ｇ）およびトリエチルアミン（０．２
２ｇ）をこの順に加え、氷冷下に２時間かきまぜた後、
反応混合物を水に注いで酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層は、水洗、乾燥(MgSO₄)後溶媒を留去した。残留
物はシリカゲル カラムクロマトグラフィ−に付し、酢
酸エチル−ヘキサン（１：２，ｖ／ｖ）で溶出する部分
より７−シクロヘキシル−Ｎ−（４−ジエトキシホスホ
リルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタレン−
２−カルボキサミド（０．４３ｇ，４５％）を得た。無
色プリズム晶。融点１３７−１３８℃。 実施例２ ヨ−ドトリメチルシラン［（ＣＨ₃）₃ＳｉＩ］（０．４
５８ｇ）を７−シクロヘキシル−Ｎ−（４−ジエトキシ
ホスホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタ
レン−２−カルボキサミド（０．５ｇ）の四塩化炭素
（１０ｍｌ）の懸濁液に０℃で加えた。この混合物を０
℃で１時間、ついで室温で１５時間かきまぜた後減圧下
に濃縮した。残留物にメタノ−ル（６ｍｌ）を加え、１
ＮＨＣｌで酸性化し室温で３０分間かきまぜた。析出結
晶をろ取し、メタノ−ル−水から再結晶、７−シクロヘ
キシル−Ｎ−（４−ホスホノメチルフェニル）−３，４
−ジヒドロナフタレン−２−カルボキサミド（０．２８
ｇ，６３％）を得た。淡黄色プリズム晶。融点 ２０３
−２０５℃。

【００８２】実施例３ オキサリル クロリド（０．３０５ｇ）を７−シクロヘ
キシル−３，４−ジヒドロナフタレン−２−カルボキサ
ミド（０．５ｇ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶
液に加え、ついでＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１
滴）を加えた。この混合物を室温で１時間かきまぜた後
減圧下に濃縮した。残留物をテトラヒドロフラン（２０
ｍｌ）に溶かし、この溶液を３−アミノベンジルホスホ
ン酸ジエチル（０．５４ｇ）、トリエチルアミン（０．
２２３ｇ）およびテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混
合物に滴下した。室温で２時間かきまぜた後、反応混合
物を水に注ぎ、クロロホルムで抽出した。クロロホルム
層は、水洗、乾燥(MgSO₄)後溶媒を留去し、残留物はシ
リカゲル カラムクロマトグラフィ−に付した。クロロ
ホルム−メタノ−ル（２０：１，ｖ／ｖ）で溶出する部
分より７−シクロヘキシル−Ｎ−（３−ジエトキシホス
ホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタレン
−２−カルボキサミド（０．２３ｇ，２４％）を得た。
無色結晶。融点５４−５６℃。 実施例４ 実施例３と同様にして、７−シクロヘキシル−３，４−
ジヒドロナフタレン−２−カルボキサミドと２−アミノ
ベンジルホスホン酸ジエチルとの反応により、７−シク
ロヘキシル−Ｎ−（２−ジエトキシホスホリルメチルフ
ェニル）−３，４−ジヒドロナフタレン−２−カルボキ
サミド（５３％）を得た。エタノ−ル−水から再結晶し
た。無色結晶。融点 １０２−１０３℃。 実施例５〜実施例１８ 実施例３と同様にして表２の化合物を得た。

【００８３】

【表２】 実施例１９〜実施例３０ 実施例３と同様にして表３の化合物を得た。

【００８４】

【表３】 実施例３１〜実施例３３ 実施例３と同様にして表４の化合物を得た。

【００８５】

【表４】 実施例３４〜実施例３７ 実施例３と同様にして表５の化合物を得た。

【００８６】

【表５】 実施例３８〜実施例４４ 実施例３と同様にして表６の化合物を得た。

【００８７】

【表６】 実施例４５〜実施例４６ 実施例１と同様にして表７の化合物を得た。

【００８８】

【表７】 実施例４７〜７６ 実施例３と同様にして表８、９および１０の化合物を得
た。

【００８９】

【表８】

【００９０】

【表９】

【００９１】

【表１０】

【００９２】製剤例 本発明における一般式（Ｉ）で表される化合物またはそ
の塩を有効成分として含有する骨形成促進剤（例、骨粗
鬆症予防治療剤、骨折治癒促進剤など）は、例えば、次
のような処方によって製造することができる。 １．カプセル剤 （１）実施例１で得られた化合物 １０ｍｇ （２）ラクトース ９０ｍｇ （３）微結晶セルロース ７０ｍｇ （４）ステアリン酸マグネシウム １０ｍｇ １カプセル １８０ｍｇ （１）、（２）と（３）および（４）の１／２を混和し
た後、顆粒化する。これに残りの（４）を加えて全体を
ゼラチンカプセルに封入する。 ２．錠剤 （１）実施例３２で得られた化合物 １０ｍｇ （２）ラクトース ３５ｍｇ （３）コーンスターチ １５０ｍｇ （４）微結晶セルロース ３０ｍｇ （５）ステアリン酸マグネシウム ５ｍｇ １錠 ２３０ｍｇ （１）、（２）、（３）、（４）の２／３および（５）
の１／２を混和後、顆粒化する。これに残りの（４）お
よび（５）をこの顆粒に加えて錠剤に加圧成型する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｆ 9/655 9155−4Ｈ 9/6553 9155−4Ｈ 9/6561 Ｚ 9155−4Ｈ 9/6574 Ｚ 9155−4Ｈ

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、環Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を
   示し、Ｙは環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基を
   示し、Ｑ₁は一般式（i） 【化２】 （式中、Ｘは結合手または２価基を示し、Ｒ¹およびＲ²
   は同一または異なって水素あるいは低級アルキルを示す
   か、または互いに結合して環を形成していてもよい）で
   表される基を示し、Ｑ₂は水素、置換されていてもよい
   炭化水素基または置換されていてもよい複素環残基を示
   す。但し、式−ＣＯＮ(Ｑ₁)(Ｑ₂)で表される基はａ位ま
   たはｂ位の炭素原子に結合している］で表される化合物
   またはその塩。
2. 【請求項２】Ｘが２価の炭化水素基であり、かつＹは環
   Ｂが５ないし７員環を形成する２価の基である請求項１
   記載の化合物。
3. 【請求項３】Ｑ₁が式 【化３】 （式中、Ｅ'は２価の芳香族炭化水素基を示し、Ｗ'は結
   合手またはアルキレン鎖を示し、Ｒ¹およびＲ²は同一ま
   たは異なって水素あるいは低級アルキルを示すか、また
   は互いに結合して環を形成していてもよい）で表される
   基である請求項１記載の化合物。
4. 【請求項４】２価の芳香族炭化水素基が２価の単環式芳
   香族炭化水素基である請求項３記載の化合物。
5. 【請求項５】２価の単環式芳香族炭化水素基がフェニレ
   ン基である請求項４記載の化合物。
6. 【請求項６】Ｒ¹およびＲ²がともに鎖状の低級アルキル
   である請求項１記載の化合物。
7. 【請求項７】低級アルキルが炭素数１ないし６の低級ア
   ルキルである請求項６記載の化合物。
8. 【請求項８】Ｒ¹およびＲ²がともにエチルである請求項
   １記載の化合物。
9. 【請求項９】Ｒ¹およびＲ²がともにメチルである請求項
   １記載の化合物。
10. 【請求項１０】Ｒ¹およびＲ²が互いに結合して−Ｚ−
    （Ｚは側鎖を有していてもよい鎖長２ないし４の炭素鎖
    を示す）を形成する請求項１記載の化合物。
11. 【請求項１１】Ｚが−(ＣＨ₂)₃−である請求項１０記載
    の化合物。
12. 【請求項１２】Ｑ₂が水素または低級アルキルである請
    求項１記載の化合物。
13. 【請求項１３】Ｙがアルキレン鎖である請求項１記載の
    化合物。
14. 【請求項１４】アルキレン鎖が−(ＣＨ₂)₂−である請求
    項１３記載の化合物。
15. 【請求項１５】式−ＣＯＮ(Ｑ₁)(Ｑ₂)で表される基がａ
    位の炭素原子に結合している請求項１記載の化合物。
16. 【請求項１６】環Ａがアルキル基または芳香族炭化水素
    基で置換されたベンゼン環である請求項１記載の化合
    物。
17. 【請求項１７】一般式（Ｉ）が、一般式（Ｉ'） 【化４】 ［式中、Ｗ'は結合手またはアルキレン鎖を示し、その
    他の記号は請求項１で記載されたものと同意義である］
    で表される請求項１記載の化合物。
18. 【請求項１８】７−シクロヘキシル−Ｎ−（４−ジエト
    キシホスホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナ
    フタレン−２−カルボキサミドである請求項１記載の化
    合物。
19. 【請求項１９】７−フェニル−Ｎ−（４−ジエトキシホ
    スホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタレ
    ン−２−カルボキサミドである請求項１記載の化合物。
20. 【請求項２０】７−フェニル−Ｎ−（４−ジメトキシホ
    スホリルメチルフェニル）−３，４−ジヒドロナフタレ
    ン−２−カルボキサミドである請求項１記載の化合物。
21. 【請求項２１】一般式（II） 【化５】 ［式中、Ｙは環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基
    を示し、環Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を
    示す。但し、−ＣＯＯＨ基はａ位またはｂ位の炭素原子
    に結合している］で表される化合物またはその反応性誘
    導体と一般式（III） 【化６】 ［式中、Ｑ₁'は一般式（ii） 【化７】 （式中、Ｘは結合手または２価の基を示し、Ｒ³および
    Ｒ⁴は同一または異なって低級アルキルを示す）を示
    し、Ｑ₂は水素、置換されていてもよい炭化水素基また
    は置換されていてもよい複素環残基を示す］で表される
    化合物とを反応させ、ついで必要によりホスホン酸エス
    テル加水分解反応に付すことを特徴とする一般式（I） 【化８】 ［式中、環Ａは置換基を有していてもよいベンゼン環を
    示し、Ｙは環Ｂが５ないし８員環を形成する２価の基を
    示し、Ｑ₁は一般式（i） 【化９】 （式中、Ｘは結合手または２価の基を示し、Ｒ¹および
    Ｒ²は同一または異なって水素あるいは低級アルキルを
    示すか、または互いに結合して環を形成していてもよ
    い）を示し、Ｑ₂は水素、置換されていてもよい炭化水
    素基または置換されていてもよい複素環残基を示す。但
    し、式−ＣＯＮ(Ｑ₁)(Ｑ₂)で表される基はａ位またはｂ
    位の炭素原子に結合している］で表される化合物または
    その塩の製造法。
22. 【請求項２２】請求項１記載の化合物を含有してなる医
    薬組成物。
23. 【請求項２３】請求項１記載の化合物を含有してなる骨
    形成促進剤。
24. 【請求項２４】請求項１記載の化合物を含有してなる骨
    折治癒促進剤。
25. 【請求項２５】請求項１記載の化合物を含有してなる骨
    粗鬆症の治療もしくは予防剤。