JPH0873465A - アザ脂肪族架橋キノキサリン−2,3−ジオン - Google Patents
アザ脂肪族架橋キノキサリン−2,3−ジオンInfo
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- JPH0873465A JPH0873465A JP7189177A JP18917795A JPH0873465A JP H0873465 A JPH0873465 A JP H0873465A JP 7189177 A JP7189177 A JP 7189177A JP 18917795 A JP18917795 A JP 18917795A JP H0873465 A JPH0873465 A JP H0873465A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D241/00—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings
- C07D241/36—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D241/38—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atoms
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P25/04—Centrally acting analgesics, e.g. opioids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P25/08—Antiepileptics; Anticonvulsants
-
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- A61P25/20—Hypnotics; Sedatives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P25/28—Drugs for disorders of the nervous system for treating neurodegenerative disorders of the central nervous system, e.g. nootropic agents, cognition enhancers, drugs for treating Alzheimer's disease or other forms of dementia
-
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- C07D487/06—Peri-condensed systems
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【解決手段】 下記式I
〔式中、A1,A2は低級アルキリデンなど、A3は式
>N−A6−R5の基、A6は低級アルキレン又は直接
結合、nは0又は1、R1及びR2は水素、低級アルキ
ル、ニトロなど、R3は水素又はヒドロキシ、R5は水
素、低級アルキル、アリールなどを示す〕で表されるア
ザ脂肪族架橋キノキサリン−2,3−ジオンおよびそれ
らの塩。 【効果】 上記化合物は興奮性アミノ酸に関して拮抗作
用を有しそして抗けいれんおよび抗−神経変性医薬活性
成分として使用できる。
>N−A6−R5の基、A6は低級アルキレン又は直接
結合、nは0又は1、R1及びR2は水素、低級アルキ
ル、ニトロなど、R3は水素又はヒドロキシ、R5は水
素、低級アルキル、アリールなどを示す〕で表されるア
ザ脂肪族架橋キノキサリン−2,3−ジオンおよびそれ
らの塩。 【効果】 上記化合物は興奮性アミノ酸に関して拮抗作
用を有しそして抗けいれんおよび抗−神経変性医薬活性
成分として使用できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なアザ脂肪族架
橋キノキサリン−2,3−ジオンに関する。
橋キノキサリン−2,3−ジオンに関する。
【0002】
【課題を解決するための手段】本発明は、次式I:
【0003】
【化5】
【0004】(式中、A1 は低級アルキリデン又は式>
CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 は低級アル
キリデン又は式>CH−A4 −R4 (Ia)又は>C=
0(Ib)又は>CH(OH)−A5 −R4 (Ic)の
基であり、A3 は式>N−A6 −R5 (Id)の基であ
り、A4 は低級アルキレンであり、A5 およびA6 は互
いに独立に低級アルキレン又は直接結合であり、nは0
又は1であり、R1 およびR2 は互いに独立に水素、未
置換又は低級アルキル−および/又は低級アルカノイル
−置換アミノ、ニトロ、低級アルカノイル、遊離又はエ
ーテル化ヒドロキシ、遊離又はエステル化カルボキシ、
カルバモイル、シアノ、未置換又はハロゲン化低級アル
キル又はハロゲンであり、R3 は水素又はヒドロキシで
あり、R4 は遊離又はエステル化又はアミド化カルボキ
シ、遊離又はエステル化ホスホノ又は5−テトラゾリル
であり、そしてR5 は水素、低級アルキル、低級アルケ
ニル、低級アルキニル、アリール、低級アルカノイル、
遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、シアノ、
5−テトラゾリル、遊離又はエーテル化又はエステル化
ヒドロキシ又はジヒドロキシ−低級アルキルである)で
表わされる新規アザ脂肪族架橋キノキサリン−2,3−
ジオンおよびそれらの塩、新規化合物を含んでなる医薬
組成物並びに医薬有効成分としてのそれらの使用に関す
る。
CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 は低級アル
キリデン又は式>CH−A4 −R4 (Ia)又は>C=
0(Ib)又は>CH(OH)−A5 −R4 (Ic)の
基であり、A3 は式>N−A6 −R5 (Id)の基であ
り、A4 は低級アルキレンであり、A5 およびA6 は互
いに独立に低級アルキレン又は直接結合であり、nは0
又は1であり、R1 およびR2 は互いに独立に水素、未
置換又は低級アルキル−および/又は低級アルカノイル
−置換アミノ、ニトロ、低級アルカノイル、遊離又はエ
ーテル化ヒドロキシ、遊離又はエステル化カルボキシ、
カルバモイル、シアノ、未置換又はハロゲン化低級アル
キル又はハロゲンであり、R3 は水素又はヒドロキシで
あり、R4 は遊離又はエステル化又はアミド化カルボキ
シ、遊離又はエステル化ホスホノ又は5−テトラゾリル
であり、そしてR5 は水素、低級アルキル、低級アルケ
ニル、低級アルキニル、アリール、低級アルカノイル、
遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、シアノ、
5−テトラゾリル、遊離又はエーテル化又はエステル化
ヒドロキシ又はジヒドロキシ−低級アルキルである)で
表わされる新規アザ脂肪族架橋キノキサリン−2,3−
ジオンおよびそれらの塩、新規化合物を含んでなる医薬
組成物並びに医薬有効成分としてのそれらの使用に関す
る。
【0005】未置換又は低級アルキルによりおよび/又
は低級アルカノイルにより置換されたアミノは、例えば
アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミ
ノ、ジ−低級アルキルアミノ又はN−低級アルキル−N
−低級アルカノイルアミノである。遊離又はエーテル化
又はエステル化ヒドロキシは、例えば遊離ヒドロキシ、
又は低級アルカノールによりエーテル化されたヒドロキ
シ又は低級アルカン酸によりエステル化されたヒドロキ
シ、特にヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ又は低級
アルコキシであるが、しかし低級アルケニルオキシ又は
低級アルキニルオキシであってもよい。遊離又はエステ
ル化又はアミド化カルボキシは、例えばカルボキシ、低
級アルコキシカルボニル、カルボニル−低級アルコキシ
カルボニル、低級アルコキシカルボニル−低級アルコキ
シカルボニル、低級アルカノイルオキシ−低級アルコキ
シカルボニル;未置換又は低級アルキル、低級アルコキ
シ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフル
オロメチルにより置換されたフェニル−低級アルコキシ
カルボニル;カルバモイル、低級アルキルカルバモイ
ル、ヒドロキシ−低級アルキルカルバモイル、ジ−低級
アルキルカルバモイル、ジ−低級アルキルアミノ−低級
アルキルカルバモイル、アミノ−低級アルキルアミノ−
低級アルキルカルボニル、2−オキソイミダゾリジン−
1−イル−低級アルキルカルバモイル;低級アルキレン
アミノ−低級アルキルカルバモイル(これは未置換であ
るか又はアミノ−低級アルキルアミノにより又は2−オ
キソイミダゾリン−1−イルにより置換される)、例え
ばアミノ−低級アルキルアミノ−低級アルキレンカルバ
モイル又は2−オキソイミダゾリジン−1−イル−低級
アルキレンカルバモイル;オキサ−低級アルキレンアミ
ノ−低級アルキルカルバモイル、未置換又はカルボキシ
−又は低級アルコキシカルボニル−置換シクロアルキル
カルバモイル、シクロアルキル−低級アルキルカルバモ
イル;フェニル−低級アルキルカルボモイル(未置換又
は低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ンによりおよび/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている);N−フェニル−又はN−低級アルキル−N
−フェニルカルバモイル(これは未置換であるか又は低
級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、
ニトロ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、フェ
ニル、フェニルオキシによりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換される);又は遊離又はエーテル化N
−ヒドロキシカルボニル、例えばN−ヒドロキシカルバ
モイル、N−低級アルコキシカルバモイル、N−低級ア
ルケニルオキシカルバモイル、又はN−フェニル−低級
アルコキシ−又はN−フェニル−低級アルケニルオキシ
−カルバモイル(これは未置換であるか又は低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよ
び/又はトリフルオロメチルにより置換される)であ
る。
は低級アルカノイルにより置換されたアミノは、例えば
アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルカノイルアミ
ノ、ジ−低級アルキルアミノ又はN−低級アルキル−N
−低級アルカノイルアミノである。遊離又はエーテル化
又はエステル化ヒドロキシは、例えば遊離ヒドロキシ、
又は低級アルカノールによりエーテル化されたヒドロキ
シ又は低級アルカン酸によりエステル化されたヒドロキ
シ、特にヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ又は低級
アルコキシであるが、しかし低級アルケニルオキシ又は
低級アルキニルオキシであってもよい。遊離又はエステ
ル化又はアミド化カルボキシは、例えばカルボキシ、低
級アルコキシカルボニル、カルボニル−低級アルコキシ
カルボニル、低級アルコキシカルボニル−低級アルコキ
シカルボニル、低級アルカノイルオキシ−低級アルコキ
シカルボニル;未置換又は低級アルキル、低級アルコキ
シ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフル
オロメチルにより置換されたフェニル−低級アルコキシ
カルボニル;カルバモイル、低級アルキルカルバモイ
ル、ヒドロキシ−低級アルキルカルバモイル、ジ−低級
アルキルカルバモイル、ジ−低級アルキルアミノ−低級
アルキルカルバモイル、アミノ−低級アルキルアミノ−
低級アルキルカルボニル、2−オキソイミダゾリジン−
1−イル−低級アルキルカルバモイル;低級アルキレン
アミノ−低級アルキルカルバモイル(これは未置換であ
るか又はアミノ−低級アルキルアミノにより又は2−オ
キソイミダゾリン−1−イルにより置換される)、例え
ばアミノ−低級アルキルアミノ−低級アルキレンカルバ
モイル又は2−オキソイミダゾリジン−1−イル−低級
アルキレンカルバモイル;オキサ−低級アルキレンアミ
ノ−低級アルキルカルバモイル、未置換又はカルボキシ
−又は低級アルコキシカルボニル−置換シクロアルキル
カルバモイル、シクロアルキル−低級アルキルカルバモ
イル;フェニル−低級アルキルカルボモイル(未置換又
は低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ンによりおよび/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れている);N−フェニル−又はN−低級アルキル−N
−フェニルカルバモイル(これは未置換であるか又は低
級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、
ニトロ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、フェ
ニル、フェニルオキシによりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換される);又は遊離又はエーテル化N
−ヒドロキシカルボニル、例えばN−ヒドロキシカルバ
モイル、N−低級アルコキシカルバモイル、N−低級ア
ルケニルオキシカルバモイル、又はN−フェニル−低級
アルコキシ−又はN−フェニル−低級アルケニルオキシ
−カルバモイル(これは未置換であるか又は低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよ
び/又はトリフルオロメチルにより置換される)であ
る。
【0006】遊離又はエステル化ホスホノは、十分に又
は部分的にエステル化されることができそして例えばホ
スホノ、低級アルキルホスホノ、ジ−低級アルキルホス
ホノ又はトリ−低級アルキルホスホノである。以前およ
び以降において、低級基および化合物は、例えば7個ま
で、好ましくは4個までの炭素原子を含有する低級基お
よび化合物であると理解されるべきである。
は部分的にエステル化されることができそして例えばホ
スホノ、低級アルキルホスホノ、ジ−低級アルキルホス
ホノ又はトリ−低級アルキルホスホノである。以前およ
び以降において、低級基および化合物は、例えば7個ま
で、好ましくは4個までの炭素原子を含有する低級基お
よび化合物であると理解されるべきである。
【0007】アミノ−低級アルキルアミノ−低級アルキ
ルカルバモイルは、例えばN−(アミノ−C2 −C4 ア
ルキルアミノ−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、例
えばN〔2−(2−アミノエチルアミノ)エチル〕カル
バモイルである。アミノ−低級アルキルアミノ−低級ア
ルキレンカルバモイルは、例えばアミノ−C2 −C4 ア
ルキルアミノ−ピペリジノカルボニル、例えば4−(2
−アミノエチルアミノ)ピペリジノカルボニルである。
ルカルバモイルは、例えばN−(アミノ−C2 −C4 ア
ルキルアミノ−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、例
えばN〔2−(2−アミノエチルアミノ)エチル〕カル
バモイルである。アミノ−低級アルキルアミノ−低級ア
ルキレンカルバモイルは、例えばアミノ−C2 −C4 ア
ルキルアミノ−ピペリジノカルボニル、例えば4−(2
−アミノエチルアミノ)ピペリジノカルボニルである。
【0008】カルバキシ−低級アルコキシカルボニル
は、例えば、カルボキシ−C1 −C4アルコキシカルボ
ニル、例えばカルバモイルメトキシカルボニル、2−カ
ルボキシエトキシカルボニル、3−カルボキシプロピル
カルボニル又は4−カルボキシブチルオキシカルボニル
である。シクロアルキルカルバモイルは、例えばN−C
3 −C6 シクロアルキルカルバモイル、例えばシクロプ
ロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル、シク
ロペンチルカルバモイル又はシクロヘキシルカルバモイ
ルであるか、多環式シクロアルキルカルバモイル、例え
ばアダマンチルカルバモイルであってもよい。
は、例えば、カルボキシ−C1 −C4アルコキシカルボ
ニル、例えばカルバモイルメトキシカルボニル、2−カ
ルボキシエトキシカルボニル、3−カルボキシプロピル
カルボニル又は4−カルボキシブチルオキシカルボニル
である。シクロアルキルカルバモイルは、例えばN−C
3 −C6 シクロアルキルカルバモイル、例えばシクロプ
ロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル、シク
ロペンチルカルバモイル又はシクロヘキシルカルバモイ
ルであるか、多環式シクロアルキルカルバモイル、例え
ばアダマンチルカルバモイルであってもよい。
【0009】シクロアルキル−低級アルキルカルバモイ
ルは、例えばN−(C3 −C6 シクロアルキル)−C1
−C4 アルキルカルバモイル、例えばN−(シクロプロ
ピルメチル)カルバモイル、N−(シクロブチルメチル
カルバモイル、N−(シクロペンチルメチル)カルバモ
イル又はN−(シクロヘキシルメチル)カルバモイルで
ある。
ルは、例えばN−(C3 −C6 シクロアルキル)−C1
−C4 アルキルカルバモイル、例えばN−(シクロプロ
ピルメチル)カルバモイル、N−(シクロブチルメチル
カルバモイル、N−(シクロペンチルメチル)カルバモ
イル又はN−(シクロヘキシルメチル)カルバモイルで
ある。
【0010】ジヒドロキシ−低級アルキルは、例えば
β,γ−ジヒドロキシ−C3 −C4 アルキル、例えば
2,3−ジヒドロキシプロピルである。ジ−低級アルキ
ルアミンは、例えばN,N−ジ−C1 −C7 アルキルア
ミン、好ましくはN,N−ジ−C1 −C4 アルキル−ア
ミノ、例えば特にジメチルアミノ、又は第二にはジエチ
ルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ又
はジブチルアミノである。
β,γ−ジヒドロキシ−C3 −C4 アルキル、例えば
2,3−ジヒドロキシプロピルである。ジ−低級アルキ
ルアミンは、例えばN,N−ジ−C1 −C7 アルキルア
ミン、好ましくはN,N−ジ−C1 −C4 アルキル−ア
ミノ、例えば特にジメチルアミノ、又は第二にはジエチ
ルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ又
はジブチルアミノである。
【0011】ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカ
ルバモイルは、例えばN,N−ジ−C1 −C4 アルキル
アミノ−C2 −C4 −アルキルカルバモイル、例えばN
−(2−ジメチルアミノエチル)カルバモイルである。
ジ−低級アルキルカルバモイルは、例えばN,N−ジ−
C1 −C7 アルキルカルバモイル、例えばN,N−ジ−
C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えば特にジメチル
カルバモイルであり、又は第二にはジエチルカルバモイ
ル、ジプロピルカルバモイル、ジイソプロピルカルバモ
イル又はジブチルカルバモイルである。
ルバモイルは、例えばN,N−ジ−C1 −C4 アルキル
アミノ−C2 −C4 −アルキルカルバモイル、例えばN
−(2−ジメチルアミノエチル)カルバモイルである。
ジ−低級アルキルカルバモイルは、例えばN,N−ジ−
C1 −C7 アルキルカルバモイル、例えばN,N−ジ−
C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えば特にジメチル
カルバモイルであり、又は第二にはジエチルカルバモイ
ル、ジプロピルカルバモイル、ジイソプロピルカルバモ
イル又はジブチルカルバモイルである。
【0012】ジ−低級アルキルホスホノは、例えばジ−
C1 −C7 アルキルホスホノ、好ましくはジ−C1 −C
4 アルキルホスホノ、例えば特にジメチルホスホノであ
り、又は第二はジエチルホスホノ、ジプロピルホスホ
ノ、ジイソプロピルホスホノ又はジブチルホスホノであ
る。ハロゲンは例えば35までの原子番号を有するハロ
ゲン、例えば塩素又はフッ素そして又臭素である。
C1 −C7 アルキルホスホノ、好ましくはジ−C1 −C
4 アルキルホスホノ、例えば特にジメチルホスホノであ
り、又は第二はジエチルホスホノ、ジプロピルホスホ
ノ、ジイソプロピルホスホノ又はジブチルホスホノであ
る。ハロゲンは例えば35までの原子番号を有するハロ
ゲン、例えば塩素又はフッ素そして又臭素である。
【0013】ヒドロキシ−低級アルキルカルバモイル
は、例えばN−(ヒドロキシ−C2 −C4 アルキル)カ
ルバモイル、例えばヒドロキシメチルカルバモイル又は
2−ヒドロキシエチルカルバモイルである。低級アルカ
ノイルは、例えばN−C1 −C7 アルカノイル、特にN
−C1 −C 4 アルカノイル、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル又はイソブチリルである
が、C5 −C7 アルカノイル、例えばピバロイルであっ
てもよい。
は、例えばN−(ヒドロキシ−C2 −C4 アルキル)カ
ルバモイル、例えばヒドロキシメチルカルバモイル又は
2−ヒドロキシエチルカルバモイルである。低級アルカ
ノイルは、例えばN−C1 −C7 アルカノイル、特にN
−C1 −C 4 アルカノイル、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル又はイソブチリルである
が、C5 −C7 アルカノイル、例えばピバロイルであっ
てもよい。
【0014】低級アルカノイルアミノは、例えばN−C
1 −C7 アルカノイルアミノ、特にN−C1 −C4 アル
カノイルアミノ、例えばホルミルアミノ、アセチルアミ
ノ、ピロピオニルアミノ、ブチリルアミノ又はイソブチ
リルアミノであるが、C5 −C7 アルカノイルアミノ、
例えばピバノイルアミノであってもよい。N−低級アル
カノイル−N−低級アルキルアミノは、例えばN−C1
−C7 アルカノイル−N−C1 −C4 アルキルアミノ、
特にN−C1 −C4 −アルカノイル−N−C1 −C4 ア
ルキルアミノ、例えばN−ホルミル−N−メチルアミ
ノ、N−アセチル−N−メチルアミノ、N−アセチル−
N−エチルアミノ、N−エチル−N−プロピオニルアミ
ノ、N−メチル−N−プロピオニルアミノ、N−ブチリ
ル−N−メチルアミノ又はN−イソブチリル−N−メチ
ルアミノである。
1 −C7 アルカノイルアミノ、特にN−C1 −C4 アル
カノイルアミノ、例えばホルミルアミノ、アセチルアミ
ノ、ピロピオニルアミノ、ブチリルアミノ又はイソブチ
リルアミノであるが、C5 −C7 アルカノイルアミノ、
例えばピバノイルアミノであってもよい。N−低級アル
カノイル−N−低級アルキルアミノは、例えばN−C1
−C7 アルカノイル−N−C1 −C4 アルキルアミノ、
特にN−C1 −C4 −アルカノイル−N−C1 −C4 ア
ルキルアミノ、例えばN−ホルミル−N−メチルアミ
ノ、N−アセチル−N−メチルアミノ、N−アセチル−
N−エチルアミノ、N−エチル−N−プロピオニルアミ
ノ、N−メチル−N−プロピオニルアミノ、N−ブチリ
ル−N−メチルアミノ又はN−イソブチリル−N−メチ
ルアミノである。
【0015】低級アルカノイルオキシは、例えばN−C
1 −C7 アルカノイルオキシ、特にN−C1 −C4 アル
カノイルオキシ、例えばホルミルオキシ、アセトキシ、
ブチリルオキシ又はイソブチリルオキシルであるが、C
5 −C7 アルカノイルオキシ、例えばピバロイルオキシ
であってもよい。低級アルカノイルオキシ−低級アルコ
キシカルボニルは、例えばN−C1 −C 4 アルカノイル
オキシ−C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばアセ
トキシメトキシカルボニル、プロピオニルメトキシカル
ボニル、ブチリルオキシメトキシカルボニル又はピバロ
イルオキシメトキシカルボニルである。
1 −C7 アルカノイルオキシ、特にN−C1 −C4 アル
カノイルオキシ、例えばホルミルオキシ、アセトキシ、
ブチリルオキシ又はイソブチリルオキシルであるが、C
5 −C7 アルカノイルオキシ、例えばピバロイルオキシ
であってもよい。低級アルカノイルオキシ−低級アルコ
キシカルボニルは、例えばN−C1 −C 4 アルカノイル
オキシ−C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばアセ
トキシメトキシカルボニル、プロピオニルメトキシカル
ボニル、ブチリルオキシメトキシカルボニル又はピバロ
イルオキシメトキシカルボニルである。
【0016】低級アルコキシカルボニル−低級アルコキ
シカルボニルは、例えばC1 −C4アルコキシカルボニ
ル−C1 −C4 −アルコキシカルボニル、例えばメトキ
シカルボニルメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
エトキシカルボニル又は2−メトキシカルボニルエトキ
シカルボニルである。低級アルケニルは、例えばC3 −
C4 アルケニル、例えばアリル又はメタリルである。
シカルボニルは、例えばC1 −C4アルコキシカルボニ
ル−C1 −C4 −アルコキシカルボニル、例えばメトキ
シカルボニルメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
エトキシカルボニル又は2−メトキシカルボニルエトキ
シカルボニルである。低級アルケニルは、例えばC3 −
C4 アルケニル、例えばアリル又はメタリルである。
【0017】低級アルケニルオキシは、例えばC3 −C
4 アルケニルオキシ、例えばアリルオキシ又はメタリル
オキシである。N−低級アルケニルオキシカルバモイル
は、例えばN−C2 −C4 アルケニルオキシカルバモイ
ル、例えばN−ビニルオキシカルバモイル、N−アリル
オキシカルバモイル又はN−メタリルオキシカルバモイ
ルである。
4 アルケニルオキシ、例えばアリルオキシ又はメタリル
オキシである。N−低級アルケニルオキシカルバモイル
は、例えばN−C2 −C4 アルケニルオキシカルバモイ
ル、例えばN−ビニルオキシカルバモイル、N−アリル
オキシカルバモイル又はN−メタリルオキシカルバモイ
ルである。
【0018】低級アルキニルは、例えばC3 −C4 アル
キニル、例えばプロパルギルである。低級アルコキシ
は、例えばC1 −C7 アルコキシ、好ましくはC1 −C
4 アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、プロピルオ
キシ、イソプロピルオキシ又はブチルオキシであるが、
イゾチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ
又はC5 −C7 アルコキシ基、例えばペンチルオキシ、
ヘキシルオキシ、又はヘプチルオキシであってもよい。
キニル、例えばプロパルギルである。低級アルコキシ
は、例えばC1 −C7 アルコキシ、好ましくはC1 −C
4 アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、プロピルオ
キシ、イソプロピルオキシ又はブチルオキシであるが、
イゾチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ
又はC5 −C7 アルコキシ基、例えばペンチルオキシ、
ヘキシルオキシ、又はヘプチルオキシであってもよい。
【0019】N−低級アルコキシカルバモイルは、例え
ばN−C1 −C4 アルコキシカルバモイル、例えばメト
キシカルバモイル、エトキシカルバモイル、プロピルオ
キシカルバモイル、イソプロピルオキシカルバモイル、
ブチルオキシカルバモイル又は特に第三ブチルオキシカ
ルバモイルである。低級アルコキシカルボニルは、例え
ばC1 −C7 アルコキシカルボニル、好ましくはC1 −
C4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、
イソプロピルオキシカルボニル又はブチルオキシカルボ
ニルであるが、イソブチルオキシカルボニル、第二ブチ
ルオキシカルボニル、第三ブチルオキシカルボニル又は
ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
又はヘプチルオキシカルボニル基であってもよい。
ばN−C1 −C4 アルコキシカルバモイル、例えばメト
キシカルバモイル、エトキシカルバモイル、プロピルオ
キシカルバモイル、イソプロピルオキシカルバモイル、
ブチルオキシカルバモイル又は特に第三ブチルオキシカ
ルバモイルである。低級アルコキシカルボニルは、例え
ばC1 −C7 アルコキシカルボニル、好ましくはC1 −
C4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、
イソプロピルオキシカルボニル又はブチルオキシカルボ
ニルであるが、イソブチルオキシカルボニル、第二ブチ
ルオキシカルボニル、第三ブチルオキシカルボニル又は
ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
又はヘプチルオキシカルボニル基であってもよい。
【0020】低級アルキルは、例えばC1 −C7 アルキ
ル、好ましくはC1 −C4 アルキル、例えばメチル、又
は第二はエチル、プロピル又はブチルであるが、イソブ
チル、第二ブチル又はC5 −C7 アルキル基、例えばペ
ンチル、ヘキシル又はヘプチル基であってもよい。低級
アルキルアミノは、例えばN−C1 −C7 アルキルアミ
ノ、好ましくはN−C1 −C4 アルキルアミノ、例えば
特にメチルアミノ又は第二エチルアミノ、プロピルアミ
ノ、イソプロピルアミノ又はブチルアミノであるが、イ
ソブチルアミノ、第二ブチルアミノ、第三ブチルアミノ
又はC5 −C7 アルキルアミノ基、例えばペンチルアミ
ノ、ヘキシルアミノ又はヘプチルアミノ基であってもよ
い。
ル、好ましくはC1 −C4 アルキル、例えばメチル、又
は第二はエチル、プロピル又はブチルであるが、イソブ
チル、第二ブチル又はC5 −C7 アルキル基、例えばペ
ンチル、ヘキシル又はヘプチル基であってもよい。低級
アルキルアミノは、例えばN−C1 −C7 アルキルアミ
ノ、好ましくはN−C1 −C4 アルキルアミノ、例えば
特にメチルアミノ又は第二エチルアミノ、プロピルアミ
ノ、イソプロピルアミノ又はブチルアミノであるが、イ
ソブチルアミノ、第二ブチルアミノ、第三ブチルアミノ
又はC5 −C7 アルキルアミノ基、例えばペンチルアミ
ノ、ヘキシルアミノ又はヘプチルアミノ基であってもよ
い。
【0021】低級アルキルカルバモイルは、例えば、N
−C1 −C7 アルキルカルバモイル、好ましくはN−C
1 −C4 −アルキルカルバモイル、例えば特にメチルカ
ルバモイル、又は第二にはエチルカルバモイル、プロピ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、第三ブチ
ルカルバモイル又はC5 −C7 アルキルカルバモイル
基、例えばペンチルカルバモイル、ヘキシルカルバモイ
ル、又はヘプチルカルバモイルであってよい。
−C1 −C7 アルキルカルバモイル、好ましくはN−C
1 −C4 −アルキルカルバモイル、例えば特にメチルカ
ルバモイル、又は第二にはエチルカルバモイル、プロピ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、第三ブチ
ルカルバモイル又はC5 −C7 アルキルカルバモイル
基、例えばペンチルカルバモイル、ヘキシルカルバモイ
ル、又はヘプチルカルバモイルであってよい。
【0022】低級アルキレンは直鎖でも枝分れ鎖でもよ
くそして任意の位置で結合しておりそして、例えば直鎖
又は枝分れ鎖C1 −C7 アルキレン、好ましくはC1 −
C4−アルキレン、例えばメチレン、1,2−エチレ
ン、1,3−又は1,2−プロピレン、1,4,1,
3、又は2,3−ブチレン又は第二には1,5−,1,
4−又は2,5−ペンチレレンである。
くそして任意の位置で結合しておりそして、例えば直鎖
又は枝分れ鎖C1 −C7 アルキレン、好ましくはC1 −
C4−アルキレン、例えばメチレン、1,2−エチレ
ン、1,3−又は1,2−プロピレン、1,4,1,
3、又は2,3−ブチレン又は第二には1,5−,1,
4−又は2,5−ペンチレレンである。
【0023】低級アルキリデンは直鎖又は枝分れ鎖であ
ってよくそして所望の位置でジエミナルに結合しており
そして、例えば直鎖又は枝分れ鎖C1 −C7 −アルキレ
ン、好ましくはC1 −C4 アルキレン、例えば、メチレ
ン、1,1−エチレン、1,1−又は2,2−プロピリ
デン、1,1−又は2,2−ブチリデン又は第二には
1,1−又は、2,2−ペンチリデンである。
ってよくそして所望の位置でジエミナルに結合しており
そして、例えば直鎖又は枝分れ鎖C1 −C7 −アルキレ
ン、好ましくはC1 −C4 アルキレン、例えば、メチレ
ン、1,1−エチレン、1,1−又は2,2−プロピリ
デン、1,1−又は2,2−ブチリデン又は第二には
1,1−又は、2,2−ペンチリデンである。
【0024】N−低級アルキル−N−フェニル−カルバ
モイルは、例えば、N−C1 −C4アルキル−N−フェ
ニル−カルバモイル、例えば特にN−メチル−N−フェ
ニル−N−フェニル−カルバモイル又は第二にはN−エ
チル−N−フェニル−カルバモイル、N−プロピル−N
−フェニル−カルバモイル、N−イソプロピル−N−フ
ェニル−カルバモイル又はN−ブチル−N−フェニル−
カルバモイルであるが、N−イソブチル−N−フェニル
−カルバモイル、N−第二ブチル−N−フェニル−カル
バモイル又はN−第三ブチル−N−フェニル−カルバモ
イルであってもよい。
モイルは、例えば、N−C1 −C4アルキル−N−フェ
ニル−カルバモイル、例えば特にN−メチル−N−フェ
ニル−N−フェニル−カルバモイル又は第二にはN−エ
チル−N−フェニル−カルバモイル、N−プロピル−N
−フェニル−カルバモイル、N−イソプロピル−N−フ
ェニル−カルバモイル又はN−ブチル−N−フェニル−
カルバモイルであるが、N−イソブチル−N−フェニル
−カルバモイル、N−第二ブチル−N−フェニル−カル
バモイル又はN−第三ブチル−N−フェニル−カルバモ
イルであってもよい。
【0025】低級アルキルホスホノは、例えばC1 −C
7 アルキルホスホノ、好ましくはC 1 −C4 アルキルホ
スホノ、例えば特にメチルホスホノ又は第二にはエチル
ホスホノ、プロピルホスホノ、イソプロピルホスホノ、
又はブチルホスホノであるが、イソブチルホスホノ、第
二ブチルホスホノ、第三ブチルホスホノ又はC5 −C 7
アルキルホスホノ基、例えばペンチルホスホノ、ヘキシ
ルホスホノ又はヘプチルホスホノ基であってもよい。
7 アルキルホスホノ、好ましくはC 1 −C4 アルキルホ
スホノ、例えば特にメチルホスホノ又は第二にはエチル
ホスホノ、プロピルホスホノ、イソプロピルホスホノ、
又はブチルホスホノであるが、イソブチルホスホノ、第
二ブチルホスホノ、第三ブチルホスホノ又はC5 −C 7
アルキルホスホノ基、例えばペンチルホスホノ、ヘキシ
ルホスホノ又はヘプチルホスホノ基であってもよい。
【0026】オキサ−低級アルキレンアミン−低級アル
キルカルバモイルは、例えばN−(モリホリノ−C2 −
C4 アルキル)カルバモイル、例えば特にN−(2−モ
リホリノエチル)エチルカルバモイルである。2−オキ
サイミダゾリジン−1−低級アルキレンカルバモイル
は、例えばN−(2−オキサイミダゾリジン−1−イル
−C4 −C5 アルキレン)カルバモイル、例えばN−
〔4−(2−オキサイミダゾリジン−1−イル)ピペリ
ジノカルボニルである。
キルカルバモイルは、例えばN−(モリホリノ−C2 −
C4 アルキル)カルバモイル、例えば特にN−(2−モ
リホリノエチル)エチルカルバモイルである。2−オキ
サイミダゾリジン−1−低級アルキレンカルバモイル
は、例えばN−(2−オキサイミダゾリジン−1−イル
−C4 −C5 アルキレン)カルバモイル、例えばN−
〔4−(2−オキサイミダゾリジン−1−イル)ピペリ
ジノカルボニルである。
【0027】2−オキサイミダゾリジン−1−イル−低
級アルキルカルバモイルは、例えばN−(2−オキソイ
ミダゾリジン−1−イル−C2 −C5 アルキル)カルボ
モイル、例えばN−(2−オキソイミダゾリン−1−イ
ル)エチルカルバモイルである。N−フェニル−低級ア
ルコキシカルバモイル、例えばフェニル−C1 −C4 ア
ルコキシカルバモイル、例えばベンジルオキシカルバモ
イル又は1−フェニルエトキシカルバモイル(これらは
未置換又はC1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキ
シ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフル
オロメチルにより置換される)である。
級アルキルカルバモイルは、例えばN−(2−オキソイ
ミダゾリジン−1−イル−C2 −C5 アルキル)カルボ
モイル、例えばN−(2−オキソイミダゾリン−1−イ
ル)エチルカルバモイルである。N−フェニル−低級ア
ルコキシカルバモイル、例えばフェニル−C1 −C4 ア
ルコキシカルバモイル、例えばベンジルオキシカルバモ
イル又は1−フェニルエトキシカルバモイル(これらは
未置換又はC1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキ
シ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフル
オロメチルにより置換される)である。
【0028】N−フェニル−低級アルケニルオキシカル
バモイルは、例えばN−フェニル−C2 −C4 アルケニ
ルオキシカルバモイル、例えばN−フェニルビニルオキ
シカルバモイル又はN−(3−フェニルプロプ−2−エ
ニルオキシ)カルボモイルである。フェニル−低級アル
コキシカルボニルは、例えばフェニル−C1 −C4 アル
コキシカルボニル、例えばベンジルオキシカルボニル又
は1−フェニルエトキシカルボニル(これらは未置換又
はC1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、ヒドロ
キシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロメチル
により置換される)である。
バモイルは、例えばN−フェニル−C2 −C4 アルケニ
ルオキシカルバモイル、例えばN−フェニルビニルオキ
シカルバモイル又はN−(3−フェニルプロプ−2−エ
ニルオキシ)カルボモイルである。フェニル−低級アル
コキシカルボニルは、例えばフェニル−C1 −C4 アル
コキシカルボニル、例えばベンジルオキシカルボニル又
は1−フェニルエトキシカルボニル(これらは未置換又
はC1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、ヒドロ
キシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロメチル
により置換される)である。
【0029】フェニル−低級アルキルカルバモイルは、
例えばフェニル−C1 −C4 −アルキルカルバモイル、
例えばベンジルカルバモイル又は2−フェニルエチルカ
ルバモイル(これらは未置換又はC1 −C4 アルキル、
C1 −C4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりお
よび/又はトリフルオロメチルにより置換される)であ
る。
例えばフェニル−C1 −C4 −アルキルカルバモイル、
例えばベンジルカルバモイル又は2−フェニルエチルカ
ルバモイル(これらは未置換又はC1 −C4 アルキル、
C1 −C4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりお
よび/又はトリフルオロメチルにより置換される)であ
る。
【0030】トリ−低級アルキルホスホノは、例えばト
リ−C1 −C7 アルキルホスホノ、好ましくはトリ−C
1 −C4 アルキルホスホノ、例えば特にトリメチルホス
ホノ、又は第二にはトリエチルホスホノ、トリプロプル
ホスホノ、トリイソプロピルホスホノ、又はトリブチル
ホスホノである。酸性基を有する式Iの化合物は、例え
ば基R1 ,R2 ,R4 およびR5 の少なくとも1種がカ
ルボキシ、ホスホノ又はテトラゾリルであるか又はそれ
らを含有し、塩基との塩又は分子内塩を形成できる。式
Iの化合物は又は酸付加塩を形成してもよい。
リ−C1 −C7 アルキルホスホノ、好ましくはトリ−C
1 −C4 アルキルホスホノ、例えば特にトリメチルホス
ホノ、又は第二にはトリエチルホスホノ、トリプロプル
ホスホノ、トリイソプロピルホスホノ、又はトリブチル
ホスホノである。酸性基を有する式Iの化合物は、例え
ば基R1 ,R2 ,R4 およびR5 の少なくとも1種がカ
ルボキシ、ホスホノ又はテトラゾリルであるか又はそれ
らを含有し、塩基との塩又は分子内塩を形成できる。式
Iの化合物は又は酸付加塩を形成してもよい。
【0031】塩基を式Iの化合物の塩は、例えば医薬と
して許容し得る塩基とそれらの塩、例えば属Ia,I
b、およびIIbの金属から由来する非毒性の金属塩、例
えばアルキリ金属塩、特にナトリウム又はカリウム塩、
アルカリ土類金属塩、特にカルシウム又はマグネシウム
塩および又アンモニア又は有機アミン又は四級アンモニ
ウム塩基、例えば所望によりC−末端脂肪族アミン、特
にモノ−、ジ−又はトリ−低級アルキルアミン、例えば
メチル−、エチル−又はジエチル−アミン、モノ−、ジ
−又はトリ−(ヒドロキシ−低級アルキル)アミン、例
えばエタノール−、ジエタノール−又はトリエタノール
−アミン、トリス(ヒドロキシメチル)メチルアミン又
は2−ヒドロキシ−第三ブチルアミン、又はN−(ヒド
ロキシ−低級アルキル)−N,N−ジ−低級アルキルア
ミン又はN−(ポリヒドロキシ−低級アルキル)−N−
低級アルキルアミン、例えば2−(ジメチルアミン)エ
タノール又はD−グルカミン又はコリン又は四級脂肪族
水酸化アンモニウム、例えば水酸化テトラブチルアンモ
ニウムとのアンモニウム塩である。
して許容し得る塩基とそれらの塩、例えば属Ia,I
b、およびIIbの金属から由来する非毒性の金属塩、例
えばアルキリ金属塩、特にナトリウム又はカリウム塩、
アルカリ土類金属塩、特にカルシウム又はマグネシウム
塩および又アンモニア又は有機アミン又は四級アンモニ
ウム塩基、例えば所望によりC−末端脂肪族アミン、特
にモノ−、ジ−又はトリ−低級アルキルアミン、例えば
メチル−、エチル−又はジエチル−アミン、モノ−、ジ
−又はトリ−(ヒドロキシ−低級アルキル)アミン、例
えばエタノール−、ジエタノール−又はトリエタノール
−アミン、トリス(ヒドロキシメチル)メチルアミン又
は2−ヒドロキシ−第三ブチルアミン、又はN−(ヒド
ロキシ−低級アルキル)−N,N−ジ−低級アルキルア
ミン又はN−(ポリヒドロキシ−低級アルキル)−N−
低級アルキルアミン、例えば2−(ジメチルアミン)エ
タノール又はD−グルカミン又はコリン又は四級脂肪族
水酸化アンモニウム、例えば水酸化テトラブチルアンモ
ニウムとのアンモニウム塩である。
【0032】式Iの化合物の酸付加塩は、例えば適当な
鉱酸、例えばハロゲン化水素酸、硫酸又はリン酸例えば
塩化水素、臭化水素、スルフェート、硫酸水素塩又はホ
スフェートとそれらの医薬として許容し得る塩、又は適
当な脂肪族又は芳香族スルホン酸又はN−置換スルファ
ミン酸例えばメタンスルホネート、ベンゼンスルホネー
ト、p−トルエンスルホネート又はN−シクロヘキシル
スルファメート(サイクラメート)との塩である。
鉱酸、例えばハロゲン化水素酸、硫酸又はリン酸例えば
塩化水素、臭化水素、スルフェート、硫酸水素塩又はホ
スフェートとそれらの医薬として許容し得る塩、又は適
当な脂肪族又は芳香族スルホン酸又はN−置換スルファ
ミン酸例えばメタンスルホネート、ベンゼンスルホネー
ト、p−トルエンスルホネート又はN−シクロヘキシル
スルファメート(サイクラメート)との塩である。
【0033】全塩又は部分塩も含まれ、すなわち式Iの
酸の1モル当たり1,2又は3、好ましくは2当量を有
する塩、又は式Iの塩基の1モル当たり、酸の1,2、
又は3当量、好ましくは1当量を有する塩である。単離
又は精製の目的に達し、医薬として許容し得ない塩も使
用できる。ただ医薬として許容し得る、非毒性塩は治療
的に用いられるがしかし、それらは従って好ましい。
酸の1モル当たり1,2又は3、好ましくは2当量を有
する塩、又は式Iの塩基の1モル当たり、酸の1,2、
又は3当量、好ましくは1当量を有する塩である。単離
又は精製の目的に達し、医薬として許容し得ない塩も使
用できる。ただ医薬として許容し得る、非毒性塩は治療
的に用いられるがしかし、それらは従って好ましい。
【0034】式Iの化合物は価値ある薬理作用を有す
る。式Iの化合物は温血動物のN−メチル−D−アスパ
ラギン銀酸−感受性(NMDA−感受性)興奮性アミノ
酸レセプターに関して選択的非競合的拮抗作用を示す。
特に式Iの化合物はNMDA−レセプターのストリキニ
ーネ−未影響グリシン結合部位に結合することができ
る。本発明に従って得られる化合物およびその塩のNM
DAレセプター錯体のストリキニーネ−未置換グリシン
結合部位に対する結合能力は例えばボロン等、J.Ph
armacol.Molec.Pharmacol.S
ection 206,149〜154頁(1991)
およびカントン等、J.Phorm.Pharmaco
l.44,812〜816頁(1992)に従って実験
手順においてラットの皮質膜およびラットの海馬につい
て試験管内で測定できる。これらの実験手順において 3
(H)−5,7−ジクロロキヌル酸( 3H−DCKA)
がどの程度置き代えられているかが測定され、抑制小が
測定され、所望により、濃度数を測定することにより5
0%置換に対する要求(IC50)が測定される。50%
置換に対して要求される濃度(IC50)はナノモルとよ
り小さいミリモル範囲内にあり、すなわち数0.01〜
10μmol/Lの濃度である。このモデルにおいて、8,
9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアゾ−フ
ェナレン−3−N−フェニルアセタミドのIC50は0.
016μMol/Lと測定された。
る。式Iの化合物は温血動物のN−メチル−D−アスパ
ラギン銀酸−感受性(NMDA−感受性)興奮性アミノ
酸レセプターに関して選択的非競合的拮抗作用を示す。
特に式Iの化合物はNMDA−レセプターのストリキニ
ーネ−未影響グリシン結合部位に結合することができ
る。本発明に従って得られる化合物およびその塩のNM
DAレセプター錯体のストリキニーネ−未置換グリシン
結合部位に対する結合能力は例えばボロン等、J.Ph
armacol.Molec.Pharmacol.S
ection 206,149〜154頁(1991)
およびカントン等、J.Phorm.Pharmaco
l.44,812〜816頁(1992)に従って実験
手順においてラットの皮質膜およびラットの海馬につい
て試験管内で測定できる。これらの実験手順において 3
(H)−5,7−ジクロロキヌル酸( 3H−DCKA)
がどの程度置き代えられているかが測定され、抑制小が
測定され、所望により、濃度数を測定することにより5
0%置換に対する要求(IC50)が測定される。50%
置換に対して要求される濃度(IC50)はナノモルとよ
り小さいミリモル範囲内にあり、すなわち数0.01〜
10μmol/Lの濃度である。このモデルにおいて、8,
9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアゾ−フ
ェナレン−3−N−フェニルアセタミドのIC50は0.
016μMol/Lと測定された。
【0035】式Iの化合物およびその医薬として許容し
うる塩は、以下の疾患の如きグリシン結合部位の遮断に
応答する病気症状の予防および治療に対し極めて秀れて
適している;発作、低血糖、無酸素又は大脳麻すいの症
状から由来する神経変性疾患、虚血疾患、例えば虚血疾
患大脳虚血、心臓手術又は心臓停止における大脳虚血、
周産期の仮死、てんかん性発作、ハンチントン舞踏病、
アルツハイマー損傷およびパーキンソン病、筋萎縮性測
素硬化症、脊椎および大脳損傷および神経毒又は薬物乱
用による中毒症状および眼、血管および筋痙縮の虚血性
疾患、片頭痛又は局所もしくは全体的痙性、けいれん、
てんかん、および不安および痛み例えば三叉神経痛。
うる塩は、以下の疾患の如きグリシン結合部位の遮断に
応答する病気症状の予防および治療に対し極めて秀れて
適している;発作、低血糖、無酸素又は大脳麻すいの症
状から由来する神経変性疾患、虚血疾患、例えば虚血疾
患大脳虚血、心臓手術又は心臓停止における大脳虚血、
周産期の仮死、てんかん性発作、ハンチントン舞踏病、
アルツハイマー損傷およびパーキンソン病、筋萎縮性測
素硬化症、脊椎および大脳損傷および神経毒又は薬物乱
用による中毒症状および眼、血管および筋痙縮の虚血性
疾患、片頭痛又は局所もしくは全体的痙性、けいれん、
てんかん、および不安および痛み例えば三叉神経痛。
【0036】本発明に係る化合物の鎮痙作用は、電気シ
ョックにより又はメトラゾールにより誘発された痙攣に
関してそれらの高められた保護作用について、生体内例
えばマウスにおいて測定できる。例えばシコムズ等、N
aunyn−Schmildeberg’s Arc
h.Pharmacol.342,61〜66(199
0)に従い、マトラゾール誘発痙攣に対しのマウスモデ
ル、又は確立された電気ショックマウスモデルを用いる
ことができる。電気ショックマウスモデルにおいて、
8,9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアゾ
−フェナレン−3−N−フェニル−アセトアミドは、1
00mg/kgの投与(i.p.)で20%の保護を示す。
ョックにより又はメトラゾールにより誘発された痙攣に
関してそれらの高められた保護作用について、生体内例
えばマウスにおいて測定できる。例えばシコムズ等、N
aunyn−Schmildeberg’s Arc
h.Pharmacol.342,61〜66(199
0)に従い、マトラゾール誘発痙攣に対しのマウスモデ
ル、又は確立された電気ショックマウスモデルを用いる
ことができる。電気ショックマウスモデルにおいて、
8,9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアゾ
−フェナレン−3−N−フェニル−アセトアミドは、1
00mg/kgの投与(i.p.)で20%の保護を示す。
【0037】本発明は、例えば式I(式中、A1 はメチ
レン又は式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A
2 は低級アルキリデン又は式>C=0(Ib)の基であ
り、A3 は式>N−R6 −R5 (Id)の基であり、A
4 は低級アルキレンであり、A6 は低級アルキレン又は
直接結合であり、nは0又は1であり、R1 およびR 2
は互いに独立に水素、未置換又は低級アルキル−および
/又は低級アルカノイル−置換アミノ、遊離又はエーテ
ル化ヒドロキシ、未置換又はハロゲン化低級アルキル又
はハロゲンであり、R3 は水素又はヒドロキシであり、
R4 は遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシであ
り、そしてR5 は水素、アリール、低級アルカノイル、
遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、シアノ又
は遊離もしくはエーテル化ヒドロキシである)の化合物
およびそれらの塩、新規化合物を含有する医薬組成物お
よび医薬有効成分としてのそれらの使用に関する。
レン又は式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A
2 は低級アルキリデン又は式>C=0(Ib)の基であ
り、A3 は式>N−R6 −R5 (Id)の基であり、A
4 は低級アルキレンであり、A6 は低級アルキレン又は
直接結合であり、nは0又は1であり、R1 およびR 2
は互いに独立に水素、未置換又は低級アルキル−および
/又は低級アルカノイル−置換アミノ、遊離又はエーテ
ル化ヒドロキシ、未置換又はハロゲン化低級アルキル又
はハロゲンであり、R3 は水素又はヒドロキシであり、
R4 は遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシであ
り、そしてR5 は水素、アリール、低級アルカノイル、
遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、シアノ又
は遊離もしくはエーテル化ヒドロキシである)の化合物
およびそれらの塩、新規化合物を含有する医薬組成物お
よび医薬有効成分としてのそれらの使用に関する。
【0038】本発明は特に式I(式中、A1 はメチレン
又は式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 は
低級アルキリデン又は式>C=0(Ib)の基であり、
A3 は式>N−A6 −A5 (Id)の基であり、A4 は
低級アルキレンであり、A5 およびA6 は低級アルキレ
ン又は直接結合であり、nは0又は1であり、R1 およ
びR2 は互いに独立に水素、ニトロ、低級アルカノイ
ル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルカノイルア
ミノ、ジ−低級アルキルアミノ又はN−低級アルキル−
N−低級アルカノイルアミノ、カルボキシ、低級アルコ
キシカルボニル、カルバモイル、シアノ、ヒドロキシ、
低級アルコキシ、低級アルケニルオキシ、低級アルキニ
ルオキシ、低級アルキル、ポリハロ−低級アルキル又は
ハロゲンであり、R3 は水素又はヒドロキシであり、R
4 はカルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルボキ
シ−低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボ
ニル−低級アルコキシカルボニル、低級アルカノイルオ
キシ−低級アルコキシカルボニル;フェニル−低級アル
コキシカルボニル(これは未置換であるか又は低級アル
キル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりお
よび/又はトリフルオロメチルにより置換される);カ
ルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ヒドロキシ−
低級アルキルカルバモイル、ジ−低級アルキルカルバモ
イル、ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカルバモ
イル、アミノ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカル
バモイル、2−オキソイミダリジン−1−イル−低級ア
ルキルカルバモイル、アミノ−低級アルキルアミノ−低
級アルキレンカルバモイル、2−オキソイミダゾリジン
−1−イル−低級アルキレンカルバモイル、オキサ−低
級アルキレン−アミノ−低級アルキルカルバモイル;未
置換又はカルボキシ−又は低級アルコキシカルボニル−
置換シクロアルキルカルバモイル、シクロアルキル−低
級アルキルカルバモイル;フェニル−低級アルキルカル
バモイル(これは未置換である又は低級アルキル、低級
アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又は
トリフルオロメチルにより置換される);N−フェニル
又はN−低級アルキル−N−フェニルカルバモイル(こ
れは未置換であるか又は低級アルキル、低級アルコキ
シ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトロ、カルボキシ、低級
アルコキシカルボニル、フェニル、フェニルオキシによ
りおよび/又はトリフルオロメチルにより置換され
る);N−ヒドロキシカルバモイル、N−低級アルコキ
シカルバモイル、N−低級アルケニルオキシカルバモイ
ル;N−フェニル−低級アルコキシ−又はN−フェニル
−低級アルケニルオキシ−カルバモイル(これは未置換
であるか又は低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ
シ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロメチルに
より置換される);ホスホノ、低級アルキルホスホノ、
ジ−低級アルキルホスホノ、トリ−低級アルキルホスホ
ノ又は5−テトラゾリルであり、そしてR5 は水素、低
級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル;フェニ
ル(これは未置換又は低級アルキル、低級アルコキシ、
ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換されている);低級アルカノイル、カ
ルボキシ、低級アルコキシカルボニル;フェニル−低級
アルコキシカルボニル(これは未置換又は低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよ
び/又はトリフルオロメチルにより置換されている);
カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ジ−低級ア
ルキルカルバモイル;N−フェニル−又はN−低級アル
キル−N−フェニル−カルバモイル(これは未置換であ
るか又は低級アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロ
ゲン、ニトロ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニ
ル、フェニル、フェニルオキシによりおよび/又はトリ
フルオロメチルにより置換されている);シアノ、テト
ラゾリル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、低級
アルコキシ、低級アルケニルオキシ、低級アルキニルオ
キシ又はジヒドロキシ−低級アルキルである)の化合物
およびそれらの塩である。
又は式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 は
低級アルキリデン又は式>C=0(Ib)の基であり、
A3 は式>N−A6 −A5 (Id)の基であり、A4 は
低級アルキレンであり、A5 およびA6 は低級アルキレ
ン又は直接結合であり、nは0又は1であり、R1 およ
びR2 は互いに独立に水素、ニトロ、低級アルカノイ
ル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルカノイルア
ミノ、ジ−低級アルキルアミノ又はN−低級アルキル−
N−低級アルカノイルアミノ、カルボキシ、低級アルコ
キシカルボニル、カルバモイル、シアノ、ヒドロキシ、
低級アルコキシ、低級アルケニルオキシ、低級アルキニ
ルオキシ、低級アルキル、ポリハロ−低級アルキル又は
ハロゲンであり、R3 は水素又はヒドロキシであり、R
4 はカルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルボキ
シ−低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボ
ニル−低級アルコキシカルボニル、低級アルカノイルオ
キシ−低級アルコキシカルボニル;フェニル−低級アル
コキシカルボニル(これは未置換であるか又は低級アル
キル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりお
よび/又はトリフルオロメチルにより置換される);カ
ルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ヒドロキシ−
低級アルキルカルバモイル、ジ−低級アルキルカルバモ
イル、ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカルバモ
イル、アミノ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカル
バモイル、2−オキソイミダリジン−1−イル−低級ア
ルキルカルバモイル、アミノ−低級アルキルアミノ−低
級アルキレンカルバモイル、2−オキソイミダゾリジン
−1−イル−低級アルキレンカルバモイル、オキサ−低
級アルキレン−アミノ−低級アルキルカルバモイル;未
置換又はカルボキシ−又は低級アルコキシカルボニル−
置換シクロアルキルカルバモイル、シクロアルキル−低
級アルキルカルバモイル;フェニル−低級アルキルカル
バモイル(これは未置換である又は低級アルキル、低級
アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又は
トリフルオロメチルにより置換される);N−フェニル
又はN−低級アルキル−N−フェニルカルバモイル(こ
れは未置換であるか又は低級アルキル、低級アルコキ
シ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトロ、カルボキシ、低級
アルコキシカルボニル、フェニル、フェニルオキシによ
りおよび/又はトリフルオロメチルにより置換され
る);N−ヒドロキシカルバモイル、N−低級アルコキ
シカルバモイル、N−低級アルケニルオキシカルバモイ
ル;N−フェニル−低級アルコキシ−又はN−フェニル
−低級アルケニルオキシ−カルバモイル(これは未置換
であるか又は低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ
シ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロメチルに
より置換される);ホスホノ、低級アルキルホスホノ、
ジ−低級アルキルホスホノ、トリ−低級アルキルホスホ
ノ又は5−テトラゾリルであり、そしてR5 は水素、低
級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル;フェニ
ル(これは未置換又は低級アルキル、低級アルコキシ、
ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換されている);低級アルカノイル、カ
ルボキシ、低級アルコキシカルボニル;フェニル−低級
アルコキシカルボニル(これは未置換又は低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよ
び/又はトリフルオロメチルにより置換されている);
カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ジ−低級ア
ルキルカルバモイル;N−フェニル−又はN−低級アル
キル−N−フェニル−カルバモイル(これは未置換であ
るか又は低級アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロ
ゲン、ニトロ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニ
ル、フェニル、フェニルオキシによりおよび/又はトリ
フルオロメチルにより置換されている);シアノ、テト
ラゾリル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、低級
アルコキシ、低級アルケニルオキシ、低級アルキニルオ
キシ又はジヒドロキシ−低級アルキルである)の化合物
およびそれらの塩である。
【0039】本発明は更に特に式I(式中、A1 はC1
−C4 アルキリデン、例えばメチレン又は式>CH−A
4 −R4 (Ia)の基であり、A2 はC1 −C4 アルキ
リデン、例えばメチレン−又は式>CH−A4 −R
4(Ia)又は>C=0(Ib)の基であり、A3 は式
>N−A6 −R5 (Id)の基であり、A4 はC1 −C
4 アルキレンであり、A5 およびA6 は互いに独立にC
1 −C4 −アルキレン又直接結合であり、n=0であ
り、R1 およびR2 は互いに独立に水素、ニトロ、C1
−C7 アルカノイル、例えばプロピオニルアミノ、C1
−C7 −アルキルアミノ、例えばメチルアミノ、C 1 −
C7 アルカノイルアミノ、例えばアセトアミド、ジ−C
1 −C4 −アルキルアミノ、例えばジメチルアミノ、N
−C1 −C4 アルキル−N−C1 −C7 −アルカノイル
アミノ、例えばN−アセチル−N−メチルアミノ、ヒド
ロキシ、カルボキシ、C1 −C4 −アルコキシカルボニ
ル、例えばメトキシ−又はエトキシ−カルボニル、カル
バモイル、シアノ、C1 −C4 アルコキシ、例えばメト
キシ、C2 −C4 −アルケニルオキシ、例えばアリルオ
キシ、C2 −C4 アルキニルオキシ、例えばプロパレギ
ルオキシ、C1 −C4 −アルキル、例えばメチル、エチ
ル、トリフルオロメチル又はハロゲン例えばフッ素、塩
素又は臭素であり、R3 は水素又はヒドロキシであり、
R4 はカルボキシ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、
例えばメトキシ−又はエトキシ−カルボニル、カルボキ
シ−C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばカルボキ
シメトキシカルボニル、C1 −C4 アルコキシカルボニ
ル−C1 −C4アルコキシカルボニル、例えばメトキシ
−又はエトキシ−カルボニル、C1 −C 4 アルカノイル
オキシ−C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えば2−
アセトキシエトキシカルボニル;フェニル−C1 −C4
アルコキシカルボニル、例えばベンジルオキシカルボニ
ル、(これは未置換又はC1 −C4 アルキル、例えばメ
チル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロ
キシ、ハロゲン、例えば塩素によりおよび/又はトリフ
ルオロメチルにより置換される);カルバモイル、C1
−C7 アルキルカルバモイル、例えばメチル−又はブチ
ル−カルバモイル、ヒドロキシ−C1 −C4 アルキル−
カルバモイル、例えば2−ヒドロキシエチルカルバモイ
ル、ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばジメ
チル−又はジブチル−カルバモイル、ジ−C1 −C4 ア
ルキルアミノ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例え
ば2−(2−ジメチルアミノエチル)エチルカルバモイ
ル、アミノ−C1 −C4 アルキルアミノ−C1 −C4 ア
ルキルカルバモイル、例えば2−(2−アミノエチル)
エチルカルバモイル、2−オキソイミダゾリジン−1−
イル−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えば2−
(2−オキソイミダゾリジン−1−イル)−エチルカル
バモイル、2−オキソイミダゾリジン−1−イル−C1
−C4 アルキルカルバモイル、例えば2−(2−オキソ
イミダゾリジン−1−イル)−エチルカルバモイル、ア
ミノ−C1 −C4 アルキルアミノ−C1 −C 4 アルキレ
ンカルバモイル、例えば4−(2−アミノエチル)ピペ
リジノカルボニル、2−オキソイミダゾリジン−1−イ
ル−低級アルキレンカルバモイル、例えば4−(2−オ
キソイミダゾリジン−1−イル)ピペリジンカルボニ
ル、オキサ−C1 −C4 アルキレンアミン−C1 −C4
アルキルカルバモイル、例えば2−モルホリノエチルカ
ルバモイル、例えばメトキシカルボニル、フェニル、フ
ェニルオキシによりおよび/又はトリフルオロメチルに
より置換される);N−ヒドロキシカルバモイル、N−
C1 −C4 アルコキシカルバモイル、例えばN−第三ブ
チルオキシカルバモイル;N−フェニル−C1 −C4 ア
ルコキシカルバモイル例えばN−ベンジルオキシカルバ
モイル(これは未置換であるか又はC1 −C 4 アルキル
例えばメチル、C1 −C4 アルコキシ例えばメトキシ、
ヒドロキシ、ハロゲン、例えば塩素により、および/又
はトリフルオロメチルにより置換される);ホスホノ、
C1 −C7 アルキルホスホノ、好ましくはC1 −C4 ア
ルキルホスホノ、例えばメチルホスホノ、エチルホスホ
ノ、プロピルホスホノ、イソプロピルホスホノ、又はブ
チルホスホノ、イソブチルホスホノ、第二ブチルホスホ
ノ又は第三ブチルホスホノ、ジ−C1 −C7 アルキルホ
スホノ、好ましくはジ−C1 −C4 アルキルホスホノ、
例えば未置換又はカルボキシ−又はC1 −C4 アルコキ
シカルボニル置換シクロアルキルカルバモイル、例えば
シクロプロピルカルバモイル、N−(1−メトキシカル
ボニルシクロプロピル)カルバモイル、アダマンチルカ
ルバモイル、シクロアルキル−C1 −C4 アルキルカル
バモイル、例えばシクロプロピルメチルカルバモイル;
フェニル−C1 −C4 アルキルカルバモイル(これは未
置換であるか又はC1 −C4 アルキル、例えばメチル、
C1−C4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、
ハロゲン、例えば塩素によりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換される);N−フェニル−又はN−C
1 −C4 アルキル−N−フェニル−カルバモイル、例え
ばN−メチル−N−フェニルカルバモイル(これらは未
置換であるか又はC1 −C4 アルキル例えばメチル、C
1 −C4 −アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、
ハロゲン、例えば塩素又は臭素、ニトロ、カルボキシ、
C1 −C4 アルコキシカルボニル、ジメチルホスホノ、
ジエチルホスホノ、ジプロピルホスホノ、ジイソプロピ
ルホスホノ又はジブチルホスホノ、トリ−C1 −C7 ア
ルキルホスホノ、好ましくはトリ−C1 −C4 アルキル
ホスホノ、例えばトリメチルホスホノ、トリエチルホス
ホノ、トリプロピルホスホノ、トリイソプロピルホスホ
ノ又はトリブチルホスホノ、又は5−テトラゾリルであ
り、そしてR5 は水素、C1 −C4 アルキル、例えばメ
チル、C2 −C4 アルケニル、例えばアリル、C2 −C
4 アルキニル、例えばプロパルギル;フェニル(これは
未置換又はC1 −C4 アルキル、例えばメチルC1 −C
4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ン、例えば塩素によりおよび/又はトリフルオロメチル
により置換される);C1 −C4 アルカノイル、例えば
アセチル、カルボニル、C1 −C4 アルコキシカルボニ
ル、例えばメトキシ−又はエトキシ−カルボニル、カル
バモイル、C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばメ
チルカルバモイル、ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイ
ル、例えばジメチルカルバモイル;N−フェニル−又は
N−C1 −C4 アルキル−N−フェニル−カルバモイ
ル、例えばN−メチル−N−フェニル−カルバモイル、
これらは未置換又はC1 −C4 アルキル、例えばメチ
ル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキ
シ、ハロゲン、例えばフッ素又は塩素、ニトロ、カルボ
キシ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばメトキ
シカルボニル、フェニル、フェニルオキシによりおよび
/又はトリフルオロメチルにより置換される;シアノ、
テトラゾリル又はジヒドロキシ−C2 −C4 アルキル、
例えば2,3−ジヒドロキシプロピルである)の化合物
およびそれらの塩に関する。
−C4 アルキリデン、例えばメチレン又は式>CH−A
4 −R4 (Ia)の基であり、A2 はC1 −C4 アルキ
リデン、例えばメチレン−又は式>CH−A4 −R
4(Ia)又は>C=0(Ib)の基であり、A3 は式
>N−A6 −R5 (Id)の基であり、A4 はC1 −C
4 アルキレンであり、A5 およびA6 は互いに独立にC
1 −C4 −アルキレン又直接結合であり、n=0であ
り、R1 およびR2 は互いに独立に水素、ニトロ、C1
−C7 アルカノイル、例えばプロピオニルアミノ、C1
−C7 −アルキルアミノ、例えばメチルアミノ、C 1 −
C7 アルカノイルアミノ、例えばアセトアミド、ジ−C
1 −C4 −アルキルアミノ、例えばジメチルアミノ、N
−C1 −C4 アルキル−N−C1 −C7 −アルカノイル
アミノ、例えばN−アセチル−N−メチルアミノ、ヒド
ロキシ、カルボキシ、C1 −C4 −アルコキシカルボニ
ル、例えばメトキシ−又はエトキシ−カルボニル、カル
バモイル、シアノ、C1 −C4 アルコキシ、例えばメト
キシ、C2 −C4 −アルケニルオキシ、例えばアリルオ
キシ、C2 −C4 アルキニルオキシ、例えばプロパレギ
ルオキシ、C1 −C4 −アルキル、例えばメチル、エチ
ル、トリフルオロメチル又はハロゲン例えばフッ素、塩
素又は臭素であり、R3 は水素又はヒドロキシであり、
R4 はカルボキシ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、
例えばメトキシ−又はエトキシ−カルボニル、カルボキ
シ−C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばカルボキ
シメトキシカルボニル、C1 −C4 アルコキシカルボニ
ル−C1 −C4アルコキシカルボニル、例えばメトキシ
−又はエトキシ−カルボニル、C1 −C 4 アルカノイル
オキシ−C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えば2−
アセトキシエトキシカルボニル;フェニル−C1 −C4
アルコキシカルボニル、例えばベンジルオキシカルボニ
ル、(これは未置換又はC1 −C4 アルキル、例えばメ
チル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロ
キシ、ハロゲン、例えば塩素によりおよび/又はトリフ
ルオロメチルにより置換される);カルバモイル、C1
−C7 アルキルカルバモイル、例えばメチル−又はブチ
ル−カルバモイル、ヒドロキシ−C1 −C4 アルキル−
カルバモイル、例えば2−ヒドロキシエチルカルバモイ
ル、ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばジメ
チル−又はジブチル−カルバモイル、ジ−C1 −C4 ア
ルキルアミノ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例え
ば2−(2−ジメチルアミノエチル)エチルカルバモイ
ル、アミノ−C1 −C4 アルキルアミノ−C1 −C4 ア
ルキルカルバモイル、例えば2−(2−アミノエチル)
エチルカルバモイル、2−オキソイミダゾリジン−1−
イル−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えば2−
(2−オキソイミダゾリジン−1−イル)−エチルカル
バモイル、2−オキソイミダゾリジン−1−イル−C1
−C4 アルキルカルバモイル、例えば2−(2−オキソ
イミダゾリジン−1−イル)−エチルカルバモイル、ア
ミノ−C1 −C4 アルキルアミノ−C1 −C 4 アルキレ
ンカルバモイル、例えば4−(2−アミノエチル)ピペ
リジノカルボニル、2−オキソイミダゾリジン−1−イ
ル−低級アルキレンカルバモイル、例えば4−(2−オ
キソイミダゾリジン−1−イル)ピペリジンカルボニ
ル、オキサ−C1 −C4 アルキレンアミン−C1 −C4
アルキルカルバモイル、例えば2−モルホリノエチルカ
ルバモイル、例えばメトキシカルボニル、フェニル、フ
ェニルオキシによりおよび/又はトリフルオロメチルに
より置換される);N−ヒドロキシカルバモイル、N−
C1 −C4 アルコキシカルバモイル、例えばN−第三ブ
チルオキシカルバモイル;N−フェニル−C1 −C4 ア
ルコキシカルバモイル例えばN−ベンジルオキシカルバ
モイル(これは未置換であるか又はC1 −C 4 アルキル
例えばメチル、C1 −C4 アルコキシ例えばメトキシ、
ヒドロキシ、ハロゲン、例えば塩素により、および/又
はトリフルオロメチルにより置換される);ホスホノ、
C1 −C7 アルキルホスホノ、好ましくはC1 −C4 ア
ルキルホスホノ、例えばメチルホスホノ、エチルホスホ
ノ、プロピルホスホノ、イソプロピルホスホノ、又はブ
チルホスホノ、イソブチルホスホノ、第二ブチルホスホ
ノ又は第三ブチルホスホノ、ジ−C1 −C7 アルキルホ
スホノ、好ましくはジ−C1 −C4 アルキルホスホノ、
例えば未置換又はカルボキシ−又はC1 −C4 アルコキ
シカルボニル置換シクロアルキルカルバモイル、例えば
シクロプロピルカルバモイル、N−(1−メトキシカル
ボニルシクロプロピル)カルバモイル、アダマンチルカ
ルバモイル、シクロアルキル−C1 −C4 アルキルカル
バモイル、例えばシクロプロピルメチルカルバモイル;
フェニル−C1 −C4 アルキルカルバモイル(これは未
置換であるか又はC1 −C4 アルキル、例えばメチル、
C1−C4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、
ハロゲン、例えば塩素によりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換される);N−フェニル−又はN−C
1 −C4 アルキル−N−フェニル−カルバモイル、例え
ばN−メチル−N−フェニルカルバモイル(これらは未
置換であるか又はC1 −C4 アルキル例えばメチル、C
1 −C4 −アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、
ハロゲン、例えば塩素又は臭素、ニトロ、カルボキシ、
C1 −C4 アルコキシカルボニル、ジメチルホスホノ、
ジエチルホスホノ、ジプロピルホスホノ、ジイソプロピ
ルホスホノ又はジブチルホスホノ、トリ−C1 −C7 ア
ルキルホスホノ、好ましくはトリ−C1 −C4 アルキル
ホスホノ、例えばトリメチルホスホノ、トリエチルホス
ホノ、トリプロピルホスホノ、トリイソプロピルホスホ
ノ又はトリブチルホスホノ、又は5−テトラゾリルであ
り、そしてR5 は水素、C1 −C4 アルキル、例えばメ
チル、C2 −C4 アルケニル、例えばアリル、C2 −C
4 アルキニル、例えばプロパルギル;フェニル(これは
未置換又はC1 −C4 アルキル、例えばメチルC1 −C
4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ン、例えば塩素によりおよび/又はトリフルオロメチル
により置換される);C1 −C4 アルカノイル、例えば
アセチル、カルボニル、C1 −C4 アルコキシカルボニ
ル、例えばメトキシ−又はエトキシ−カルボニル、カル
バモイル、C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばメ
チルカルバモイル、ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイ
ル、例えばジメチルカルバモイル;N−フェニル−又は
N−C1 −C4 アルキル−N−フェニル−カルバモイ
ル、例えばN−メチル−N−フェニル−カルバモイル、
これらは未置換又はC1 −C4 アルキル、例えばメチ
ル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキ
シ、ハロゲン、例えばフッ素又は塩素、ニトロ、カルボ
キシ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばメトキ
シカルボニル、フェニル、フェニルオキシによりおよび
/又はトリフルオロメチルにより置換される;シアノ、
テトラゾリル又はジヒドロキシ−C2 −C4 アルキル、
例えば2,3−ジヒドロキシプロピルである)の化合物
およびそれらの塩に関する。
【0040】本発明は特に、例えば式I(式中、A1 は
式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 はC1
−C4 アルキリデン、例えばメチレン、1,1−エチリ
デン、1,1−又は2,2−プロピリデン又は1,1−
又は2,2−ブチリデン、又はカルボニルであり、A3
は式>N−A5 −R5 (Ic)の基であり、A4 は直鎖
又は枝分れ鎖C1 −C4 アルキレン、例えばメチレン、
1,1−エチリデン、1,1−又は2,2−プロピリデ
ン又は1,1−又は2,2−ブチリデンであり、A5 は
直鎖又は枝分れ鎖C1 −C4 アルキレン、例えばメチレ
ン、1,2−エチレン、1,3−又は1,2−プロピレ
ン又は1,4−,1,3−又は2,3−ブチレン又は直
接結合であり、nは0であり、R1 およびR2 は互いに
独立に水素、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、
C1 −C4 アルキル、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル又
は第三ブチル、トリフルオロメチル又は35までの含む
原子番号を有するハロゲン、例えば塩素、又はフッ素お
よび臭素であり、R3 は水素であり、R4 はカルボキ
シ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカル
ボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ブチルオキシ
カルボニル、、イソブニチルオキシカルボニル、第二ブ
チルオキシカルボニル又は第三ブチルオキシカルボニ
ル;フェニル−C1 −C4アルコキシカルボニル、例え
ばベンジルオキシカルボニル又は1−フェニルエトキシ
カルボニル(これらは、未置換であるか又はC1 −C4
アルキル、例えばメチル、C1 −C4 アルコキシ、例え
ばメトキシ、ヒドロキシ、35までの原子番号を有する
ハロゲン、例えば塩素によりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換される);カルバモイル、N−C1 −
C7 アルキルカルバモイル、好ましくはN−C1 −C4
アルキルカルバモイル、例えばメチルカルバモイル、エ
チルカルバモイル、プロピルカルバモイル、イソプロピ
ルカルバモイル、ブチルカルバモイル、イソブチルカル
バモイル、第二ブチルカルバモイル又は第三ブチルカル
バモイル;フェニルカルバモイル(これは未置換である
か又はC1 −C4 アルキル、例えばメチル、C1 −C4
アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、35までの
原子番号を有するハロゲン、例えば塩素によりおよび/
又はトリフルオロメチルにより置換される);N,N−
ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばジメチル
カルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジプロピルカル
バモイル、ジイソプロピルカルバモイル又はジブチルカ
ルバモイルであり、そしてR5 は水素、カルボキシ、C
1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボ
ニル、カルバモイル、N−C1 −C4 アルキルカルバモ
イル、例えばメチルカルバモイル;フェニルカルバモイ
ル(これは未置換であるか又はC1 −C4アルキル、例
えばメチル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、
ヒドロキシ、35までの原子番号を有するハロゲン、例
えば塩素によりおよび/又はトリフルオロメチルにより
置換される);N,N−ジ−C1 −C4 アルキルカルバ
モイル、例えば特にジメチルカルバモイル、シアノ、ヒ
ドロキシ、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、エ
トキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチル
オキシ、第二ブチルオキシ、又は第三ブチルオキシ、C
3 −C4 アルケニルオキシ、例えばアリルオキシ又はメ
タリルオキシ又はC3 −C4 アルキニルオキシ、例えば
プロパルギルオキシである)の化合物およびそれらの塩
に関する。
式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 はC1
−C4 アルキリデン、例えばメチレン、1,1−エチリ
デン、1,1−又は2,2−プロピリデン又は1,1−
又は2,2−ブチリデン、又はカルボニルであり、A3
は式>N−A5 −R5 (Ic)の基であり、A4 は直鎖
又は枝分れ鎖C1 −C4 アルキレン、例えばメチレン、
1,1−エチリデン、1,1−又は2,2−プロピリデ
ン又は1,1−又は2,2−ブチリデンであり、A5 は
直鎖又は枝分れ鎖C1 −C4 アルキレン、例えばメチレ
ン、1,2−エチレン、1,3−又は1,2−プロピレ
ン又は1,4−,1,3−又は2,3−ブチレン又は直
接結合であり、nは0であり、R1 およびR2 は互いに
独立に水素、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、
C1 −C4 アルキル、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル又
は第三ブチル、トリフルオロメチル又は35までの含む
原子番号を有するハロゲン、例えば塩素、又はフッ素お
よび臭素であり、R3 は水素であり、R4 はカルボキ
シ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロピルオキシカル
ボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ブチルオキシ
カルボニル、、イソブニチルオキシカルボニル、第二ブ
チルオキシカルボニル又は第三ブチルオキシカルボニ
ル;フェニル−C1 −C4アルコキシカルボニル、例え
ばベンジルオキシカルボニル又は1−フェニルエトキシ
カルボニル(これらは、未置換であるか又はC1 −C4
アルキル、例えばメチル、C1 −C4 アルコキシ、例え
ばメトキシ、ヒドロキシ、35までの原子番号を有する
ハロゲン、例えば塩素によりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換される);カルバモイル、N−C1 −
C7 アルキルカルバモイル、好ましくはN−C1 −C4
アルキルカルバモイル、例えばメチルカルバモイル、エ
チルカルバモイル、プロピルカルバモイル、イソプロピ
ルカルバモイル、ブチルカルバモイル、イソブチルカル
バモイル、第二ブチルカルバモイル又は第三ブチルカル
バモイル;フェニルカルバモイル(これは未置換である
か又はC1 −C4 アルキル、例えばメチル、C1 −C4
アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、35までの
原子番号を有するハロゲン、例えば塩素によりおよび/
又はトリフルオロメチルにより置換される);N,N−
ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばジメチル
カルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジプロピルカル
バモイル、ジイソプロピルカルバモイル又はジブチルカ
ルバモイルであり、そしてR5 は水素、カルボキシ、C
1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボ
ニル、カルバモイル、N−C1 −C4 アルキルカルバモ
イル、例えばメチルカルバモイル;フェニルカルバモイ
ル(これは未置換であるか又はC1 −C4アルキル、例
えばメチル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、
ヒドロキシ、35までの原子番号を有するハロゲン、例
えば塩素によりおよび/又はトリフルオロメチルにより
置換される);N,N−ジ−C1 −C4 アルキルカルバ
モイル、例えば特にジメチルカルバモイル、シアノ、ヒ
ドロキシ、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、エ
トキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチル
オキシ、第二ブチルオキシ、又は第三ブチルオキシ、C
3 −C4 アルケニルオキシ、例えばアリルオキシ又はメ
タリルオキシ又はC3 −C4 アルキニルオキシ、例えば
プロパルギルオキシである)の化合物およびそれらの塩
に関する。
【0041】本発明は最も特に式I(式中、A1 は式>
CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 はメチレン
であり、A3 は式>N−A5 −R5 (Ic)の基であ
り、A4 メチレンであり、nは0であり、A5 は直接結
合であり、基R1 およびR2 の一方はC1 −C4 アルキ
ル、例えばメチル、35までの原子番号を有するハロゲ
ン、例えば塩素、フッ素又は臭素でありそして他方は水
素、又はC1 −C4 アルキル、例えばメチル、又は35
までの原子番号を有するハロゲン、例えば塩素、フッ素
又は臭素であり、R3 は水素であり、R4 はカルボキ
シ、ホスホノ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、例え
ばメトキシカルボニル又はエトキシカルボニル、N−ヒ
ドロキシカルバモイル、N−C 1 −C4 アルキルカルバ
モイル、例えばブチル−又は第三ブチル−カルバモイ
ル、N,N−ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例
えばジブチルカルバモイル、N−(カルボキシ−C1 −
C4 −アルキル)カルバモイル、例えばカルボキシメチ
ルカルバモイル、N−(C1 −C4 アルコキシカルボニ
ル−C1 −C4 アルキル)−カルバモイル、例えばN−
メトキシカルボニルメチルカルバモイル又はN−エトキ
シカルボニルメチル−カルバモイル、N−(ヒドロキシ
−C2 −C4アルキル)カルバモイル、例えば2−ヒド
ロキシエチルカルバモイル、N−C1−C4 −アルコキ
シカルバモイル、例えばN−第三ブチルオキシカルバモ
イル、又はN−フェニルカルバモイル、N−(フェニル
−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、例えばベンジル
カルバモイル又は2−フェニルエチルカルバモイル、又
はN−(フェニル−C1 −C4 アルコキシ)カルボニル
例えばN−ベンジルオキシカルバモイル、基(これは未
置換であるか又はC1 −C4 −アルキル、例えばメチ
ル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、35まで
の原子番号を有するハロゲン、例えば塩素、トリフルオ
ロメチル、ニトロ、カルボキシによりおよび/又はC1
−C4 アルコキシカルボニル例えばメトキシカルボニル
又はエトキシカルボニルにより置換される)であり、そ
してR5 は水素である)化合物に関し好ましくは次式
I′:
CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 はメチレン
であり、A3 は式>N−A5 −R5 (Ic)の基であ
り、A4 メチレンであり、nは0であり、A5 は直接結
合であり、基R1 およびR2 の一方はC1 −C4 アルキ
ル、例えばメチル、35までの原子番号を有するハロゲ
ン、例えば塩素、フッ素又は臭素でありそして他方は水
素、又はC1 −C4 アルキル、例えばメチル、又は35
までの原子番号を有するハロゲン、例えば塩素、フッ素
又は臭素であり、R3 は水素であり、R4 はカルボキ
シ、ホスホノ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、例え
ばメトキシカルボニル又はエトキシカルボニル、N−ヒ
ドロキシカルバモイル、N−C 1 −C4 アルキルカルバ
モイル、例えばブチル−又は第三ブチル−カルバモイ
ル、N,N−ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例
えばジブチルカルバモイル、N−(カルボキシ−C1 −
C4 −アルキル)カルバモイル、例えばカルボキシメチ
ルカルバモイル、N−(C1 −C4 アルコキシカルボニ
ル−C1 −C4 アルキル)−カルバモイル、例えばN−
メトキシカルボニルメチルカルバモイル又はN−エトキ
シカルボニルメチル−カルバモイル、N−(ヒドロキシ
−C2 −C4アルキル)カルバモイル、例えば2−ヒド
ロキシエチルカルバモイル、N−C1−C4 −アルコキ
シカルバモイル、例えばN−第三ブチルオキシカルバモ
イル、又はN−フェニルカルバモイル、N−(フェニル
−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、例えばベンジル
カルバモイル又は2−フェニルエチルカルバモイル、又
はN−(フェニル−C1 −C4 アルコキシ)カルボニル
例えばN−ベンジルオキシカルバモイル、基(これは未
置換であるか又はC1 −C4 −アルキル、例えばメチ
ル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、35まで
の原子番号を有するハロゲン、例えば塩素、トリフルオ
ロメチル、ニトロ、カルボキシによりおよび/又はC1
−C4 アルコキシカルボニル例えばメトキシカルボニル
又はエトキシカルボニルにより置換される)であり、そ
してR5 は水素である)化合物に関し好ましくは次式
I′:
【0042】
【化6】
【0043】(式中、基R1 およびR2 の一方はC1 −
C4 アルキル、例えばメチル、35までの原子番号を有
するハロゲン、例えば塩素、フッ素又は臭素、又はニト
ロであり、そして他方は水素又はC1 −C4 アルキル、
例えばメチル、又は35までの原子番号を有するハロゲ
ン、例えば塩素、フッ素又は臭素であり、R3 は水素で
あり、そしてR4 はカルボキシ、C1 −C4 アルコキシ
カルボニル、例えばメトキシカルボニル又はエトキシカ
ルボニル、N−ヒドロキシカルバモイル、N−C1 −C
4 アルキルカルバモイル、例えばブチル−又は第三ブチ
ル−カルバモイル、N,N−ジ−C1 −C4 −アルキル
カルバモイル、例えばジブチルカルバモイル、N−(カ
ルボキシ−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、例えば
カルボキシメチルカルバモイル、N−(C1 −C4 アル
コキシカルボニル−C1 −C4 アルキル)カルバモイ
ル、例えばN−メトキシカルボニルメチルカルバモイル
又はN−エトキシカルボニルメチルカルバモイル、N−
(ヒドロキシ−C2 −C4 −アルキル)カルバモイル、
例えば2−ヒドロキシエチルカルバモイル、N−C1 −
C4 アルコキシカルバモイル、例えばN−第三ブトキシ
カルバモイル、又はN−フェニルカルバモイル、N−
(フェニル−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、例え
ばベンジルカルバモイル又は2−フェニルエチルカルバ
モイル、又はN−(フェニル−C1 −C4 アルコキシ)
カルバモイル、例えばN−ベンジルオキシカルバモイ
ル、基(これは未置換であるか又はC1 −C4 アルキ
ル、例えばメチル、C1 −C 4 アルコキシ、例えばメト
キシ、35までの原子番号を有するハロゲン、例えば塩
素、トリフルオロメチル、ニトロ、カルボキシによりお
よび/又はC1 −C4アルコキシカルボニル、例えばメ
トキシカルボニル又はエトキシカルボニルにより置換さ
れる)である)で表わされる化合物およびそれらの塩に
関する。
C4 アルキル、例えばメチル、35までの原子番号を有
するハロゲン、例えば塩素、フッ素又は臭素、又はニト
ロであり、そして他方は水素又はC1 −C4 アルキル、
例えばメチル、又は35までの原子番号を有するハロゲ
ン、例えば塩素、フッ素又は臭素であり、R3 は水素で
あり、そしてR4 はカルボキシ、C1 −C4 アルコキシ
カルボニル、例えばメトキシカルボニル又はエトキシカ
ルボニル、N−ヒドロキシカルバモイル、N−C1 −C
4 アルキルカルバモイル、例えばブチル−又は第三ブチ
ル−カルバモイル、N,N−ジ−C1 −C4 −アルキル
カルバモイル、例えばジブチルカルバモイル、N−(カ
ルボキシ−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、例えば
カルボキシメチルカルバモイル、N−(C1 −C4 アル
コキシカルボニル−C1 −C4 アルキル)カルバモイ
ル、例えばN−メトキシカルボニルメチルカルバモイル
又はN−エトキシカルボニルメチルカルバモイル、N−
(ヒドロキシ−C2 −C4 −アルキル)カルバモイル、
例えば2−ヒドロキシエチルカルバモイル、N−C1 −
C4 アルコキシカルバモイル、例えばN−第三ブトキシ
カルバモイル、又はN−フェニルカルバモイル、N−
(フェニル−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、例え
ばベンジルカルバモイル又は2−フェニルエチルカルバ
モイル、又はN−(フェニル−C1 −C4 アルコキシ)
カルバモイル、例えばN−ベンジルオキシカルバモイ
ル、基(これは未置換であるか又はC1 −C4 アルキ
ル、例えばメチル、C1 −C 4 アルコキシ、例えばメト
キシ、35までの原子番号を有するハロゲン、例えば塩
素、トリフルオロメチル、ニトロ、カルボキシによりお
よび/又はC1 −C4アルコキシカルボニル、例えばメ
トキシカルボニル又はエトキシカルボニルにより置換さ
れる)である)で表わされる化合物およびそれらの塩に
関する。
【0044】本発明は式Iおよび式I′(両式中、A1
は式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 はメ
チレンであり、A3 は式>N−A6 −R5 (Ic)の基
であり、A4 はメチレンであり、nは0であり、A6 は
直接結合であり、R1 およびR2 は互いに独立に水素又
は35までの原子番号を有するハロゲン、例えば塩素で
あり、R3 は水素であり、R4 はカルボキシ、C1 −C
4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソ
プロピルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、
イソブチルオキシカルボニル、第二ブチルオキシカルボ
ニル又は第三ブチルオキシカルボニル、又はN−フェニ
ルカルバモイル基(これは未置換であるか又はC1 −C
4 アルキル、例えばメチル、C1 −C4 アルコキシ、例
えばメトキシ、ヒドロキシ、35までの原子番号を有す
るハロゲン、例えば塩素によりおよび/又はトリフルオ
ロメチルにより置換される)であり、そしてR5 は水素
である)の化合物およびそれらの塩に関する。
は式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、A2 はメ
チレンであり、A3 は式>N−A6 −R5 (Ic)の基
であり、A4 はメチレンであり、nは0であり、A6 は
直接結合であり、R1 およびR2 は互いに独立に水素又
は35までの原子番号を有するハロゲン、例えば塩素で
あり、R3 は水素であり、R4 はカルボキシ、C1 −C
4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソ
プロピルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、
イソブチルオキシカルボニル、第二ブチルオキシカルボ
ニル又は第三ブチルオキシカルボニル、又はN−フェニ
ルカルバモイル基(これは未置換であるか又はC1 −C
4 アルキル、例えばメチル、C1 −C4 アルコキシ、例
えばメトキシ、ヒドロキシ、35までの原子番号を有す
るハロゲン、例えば塩素によりおよび/又はトリフルオ
ロメチルにより置換される)であり、そしてR5 は水素
である)の化合物およびそれらの塩に関する。
【0045】本発明は、実施例で言及される特に式Iの
化合物およびその塩に関し、特にその医薬として許容し
得る塩に関する。式Iの新規化合物の製法は例えば次の
如き、自体公知の方法に基づいて行なわれれる。次式I
I:
化合物およびその塩に関し、特にその医薬として許容し
得る塩に関する。式Iの新規化合物の製法は例えば次の
如き、自体公知の方法に基づいて行なわれれる。次式I
I:
【0046】
【化7】
【0047】(式中、X1 は式−A2 −(CH2 )n −
A−Y1 (IIa)又は−A2 (CH2 )n −CH=A4
−R4 (ここでY1 は離隔性脱離基である)で表わされ
る化合物を、内子内的に環化しそして所望により得られ
た化合物を式Iの異なる化合物に変え、プロセスに従っ
て得られる異性体混合物を成分に分離しそして好ましい
異性体を分離し、および/又はプロセスに従って得られ
る遊離化合物を塩に変換し又はプロセスに従って得られ
る塩を対応する遊離化合物に変換する。
A−Y1 (IIa)又は−A2 (CH2 )n −CH=A4
−R4 (ここでY1 は離隔性脱離基である)で表わされ
る化合物を、内子内的に環化しそして所望により得られ
た化合物を式Iの異なる化合物に変え、プロセスに従っ
て得られる異性体混合物を成分に分離しそして好ましい
異性体を分離し、および/又はプロセスに従って得られ
る遊離化合物を塩に変換し又はプロセスに従って得られ
る塩を対応する遊離化合物に変換する。
【0048】この文脈に関して、離隔性脱離基は、例え
ば、エステル化ヒドロキシ基、例えば鉱酸によってエス
テル化されたヒドロキシ、特にハロゲン原子、例えば塩
素、臭素又はヨウ素、又は脂肪族によってエステル化さ
れたエドロキシ基又は未置換もしくは置換芳香族スルホ
ン酸例えば低級アルカンスルホニルオキシ、例えばメタ
ンスルホニルオキシ、又は未置換又は置換ベンゼンスル
ホニルオキシ、例えばベンゼンスルホニルオキシ、ブロ
モベンゼンスルホニルオキシ又はトルエエンスルホニル
オキシである。
ば、エステル化ヒドロキシ基、例えば鉱酸によってエス
テル化されたヒドロキシ、特にハロゲン原子、例えば塩
素、臭素又はヨウ素、又は脂肪族によってエステル化さ
れたエドロキシ基又は未置換もしくは置換芳香族スルホ
ン酸例えば低級アルカンスルホニルオキシ、例えばメタ
ンスルホニルオキシ、又は未置換又は置換ベンゼンスル
ホニルオキシ、例えばベンゼンスルホニルオキシ、ブロ
モベンゼンスルホニルオキシ又はトルエエンスルホニル
オキシである。
【0049】式IIの分子内環化は、常法で、好ましくは
不活性有機溶剤、例えばテトラヒドロフラン、ジオン、
又はジメチルホルムアミド中、必要により塩基性縮合
剤、例えば第三脂肪族アミン、例えばトリエチルアミ
ン、又は第三環芳族窒素塩基、例えばピリジン又は金属
塩基、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸
塩又はアルカリ金属アミド、例えば水酸化ナトリウムも
又はカリウム、炭酸ナトリウム又はカリウム、又はナト
リミウムアミド又はカリウムアミドの存在下、例えば約
25°〜120°、好ましくは50〜120°の範囲内
の温度で好都合には加熱することによって行なわれる。
不活性有機溶剤、例えばテトラヒドロフラン、ジオン、
又はジメチルホルムアミド中、必要により塩基性縮合
剤、例えば第三脂肪族アミン、例えばトリエチルアミ
ン、又は第三環芳族窒素塩基、例えばピリジン又は金属
塩基、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸
塩又はアルカリ金属アミド、例えば水酸化ナトリウムも
又はカリウム、炭酸ナトリウム又はカリウム、又はナト
リミウムアミド又はカリウムアミドの存在下、例えば約
25°〜120°、好ましくは50〜120°の範囲内
の温度で好都合には加熱することによって行なわれる。
【0050】式IIの出発化合物は、例えば式III :
【0051】
【化8】
【0052】の化合物を式Y2 −A2 −(CH2 )−A
1 −Y1 (IV)又はY2 −A2 −(CH2 )n =A4 −
R4 (V)(式中、Y1 およびY2 は同一又は異なる離
隔性脱離基である)の化合物と反応させることにより同
一系内で形成されそして単離されることなく本発明に従
って環化される。プロセスに従って得られる化合物は常
法により式Iの他の化合物に変換できる。
1 −Y1 (IV)又はY2 −A2 −(CH2 )n =A4 −
R4 (V)(式中、Y1 およびY2 は同一又は異なる離
隔性脱離基である)の化合物と反応させることにより同
一系内で形成されそして単離されることなく本発明に従
って環化される。プロセスに従って得られる化合物は常
法により式Iの他の化合物に変換できる。
【0053】例えば、式I(式中、R4 および所望によ
り式5 )の化合物はカルボキシでありこれらは対応する
式I(式中、R4 および所望によりR5 はエステル化カ
ルボキシである)の対応する化合物にエステル化でき
る。同様に、式I(式中R4 およびR5 は遊離又はエス
テル化カルボキシである)の化合物はアミド化され対応
する式I(式中、R4 および所望によりR5 はアミド化
カルボキシである)の化合物を形成する。逆に式I(式
中、R4 および所望によりR5 はシアノ又はエステル化
もしくはアミド化カルボキシである)の化合物は、加水
分解され対応する式I(式中R4 および所望によりR5
はカルボキシである)の化合物を形成する。シアノ基R
5 をカルバモイルに加水分解することも可能である。
り式5 )の化合物はカルボキシでありこれらは対応する
式I(式中、R4 および所望によりR5 はエステル化カ
ルボキシである)の対応する化合物にエステル化でき
る。同様に、式I(式中R4 およびR5 は遊離又はエス
テル化カルボキシである)の化合物はアミド化され対応
する式I(式中、R4 および所望によりR5 はアミド化
カルボキシである)の化合物を形成する。逆に式I(式
中、R4 および所望によりR5 はシアノ又はエステル化
もしくはアミド化カルボキシである)の化合物は、加水
分解され対応する式I(式中R4 および所望によりR5
はカルボキシである)の化合物を形成する。シアノ基R
5 をカルバモイルに加水分解することも可能である。
【0054】式(R1 および/又はR2 は水素である)
の化合物において、水素原子は水素原子以外の基R1 お
よび/又はR2 によって置換され得る。例えば、低級ア
ルカノイルは、常法により、例えば三塩化アルミニウム
の存在下、反応性低級アルカン酸誘導体、例えば塩化ア
ルカン酸又はアルカン酸ニトリルを反応させることによ
り導入でき、そして低級アルカン酸ニトリルとの反応の
場合必要により三塩化ホウ素の存在下、好ましくはハロ
ゲン化炭化水素中、必要により沸点で行うことにより導
入できる。
の化合物において、水素原子は水素原子以外の基R1 お
よび/又はR2 によって置換され得る。例えば、低級ア
ルカノイルは、常法により、例えば三塩化アルミニウム
の存在下、反応性低級アルカン酸誘導体、例えば塩化ア
ルカン酸又はアルカン酸ニトリルを反応させることによ
り導入でき、そして低級アルカン酸ニトリルとの反応の
場合必要により三塩化ホウ素の存在下、好ましくはハロ
ゲン化炭化水素中、必要により沸点で行うことにより導
入できる。
【0055】更に、低級アルキル、低級アルケニル又は
低級アルキニル基R5 は常法により、例えば塩基性縮合
剤、例えばジメチルホルムアミド中ヨウ化テトラブチル
アンモニウムの存在下で導入できる。加えて、低級アル
ケニルR5 は常法により、特に四酸化オスミウムにより
ジヒドロキシ−低級アルキニルに変換できる。
低級アルキニル基R5 は常法により、例えば塩基性縮合
剤、例えばジメチルホルムアミド中ヨウ化テトラブチル
アンモニウムの存在下で導入できる。加えて、低級アル
ケニルR5 は常法により、特に四酸化オスミウムにより
ジヒドロキシ−低級アルキニルに変換できる。
【0056】式I(式中R5 は水素である)の生成化合
物において常法により、例えば低級アルキル化又は低級
アルカノイル化を行うことにより水素以外の基を導入し
又は遊離又はエステル化もしくはアミド化カルボキシ又
はカルボキシ−低級アルキルを導入することができる。
生成塩は自体公知の方法で、例えば塩基、例えばアルカ
リ金属水酸化物、金属炭酸塩もしくは金属水素炭酸塩、
又は当初に述べた他の塩形成塩基を用い又は酸、例えば
鉱酸、例えば塩酸又は当初に述べた塩形成酸を用いて処
理することにより遊離化合物に変換できる。
物において常法により、例えば低級アルキル化又は低級
アルカノイル化を行うことにより水素以外の基を導入し
又は遊離又はエステル化もしくはアミド化カルボキシ又
はカルボキシ−低級アルキルを導入することができる。
生成塩は自体公知の方法で、例えば塩基、例えばアルカ
リ金属水酸化物、金属炭酸塩もしくは金属水素炭酸塩、
又は当初に述べた他の塩形成塩基を用い又は酸、例えば
鉱酸、例えば塩酸又は当初に述べた塩形成酸を用いて処
理することにより遊離化合物に変換できる。
【0057】生成塩は自体公知の方法で別種の塩に変換
でき;例えば形成される無機塩が不溶性である適当な溶
剤中で異なる酸の適当な金属塩、例えばナトリウム、バ
リウム又は銀塩で処理することによる酸付加は反応平衡
から排除され、そして塩基性塩は遊離酸から遊離にしそ
して再たび塩に変換される。それらの塩を含めて式Iの
化合物は又、水和物の形でも得られ又は結晶化に対して
用いられる溶剤を含有する。
でき;例えば形成される無機塩が不溶性である適当な溶
剤中で異なる酸の適当な金属塩、例えばナトリウム、バ
リウム又は銀塩で処理することによる酸付加は反応平衡
から排除され、そして塩基性塩は遊離酸から遊離にしそ
して再たび塩に変換される。それらの塩を含めて式Iの
化合物は又、水和物の形でも得られ又は結晶化に対して
用いられる溶剤を含有する。
【0058】遊離形の新規化合物とそれらの塩の形の化
合物との間に密接な関係があることを考慮すれば、本明
細書中遊離化合物およびそれらの塩への言及は、適当で
かつ適切な場合、それぞれ対応する塩および遊離化合物
を含むものと理解すべきである。生成するジアステレオ
異性体およびラセミ体の混合物は、成分間の物理化学的
性質の差異に基づき、例えばクロマトグラフィーおよび
/又は分別結晶により分離できる。
合物との間に密接な関係があることを考慮すれば、本明
細書中遊離化合物およびそれらの塩への言及は、適当で
かつ適切な場合、それぞれ対応する塩および遊離化合物
を含むものと理解すべきである。生成するジアステレオ
異性体およびラセミ体の混合物は、成分間の物理化学的
性質の差異に基づき、例えばクロマトグラフィーおよび
/又は分別結晶により分離できる。
【0059】生成するラセミ体は公知方法に従い、例え
ば光学的に活性溶剤から再結晶することにより、微生物
の助けを貸りることにより、生成ジアステレオ異性体混
合物又はラセミ化合物と光学的に活性な補助化合物と式
Iの化学物中に存在する酸性、塩基性又は官能的に変性
可能な基に応じて反応させることにより、又光学活性
酸、塩基又は光学活性アルコールと反応させジアステレ
オ異性体塩又は官能性誘導体の混合体を形成し次いで所
望のエナンチオアーが適当な常法で遊離化されるジアス
テレオ異性体にそれを分離することにより光学対掌体に
分割できる。塩基、酸、および該目的に適当なアルコー
ルは、例えば光活アルカロイド塩基、例えばストリキニ
ン、シンコニン又はブルシン又はD又はL−(1−フェ
ニル)エチルアミン、3−ピペコリン、エチュドリン、
アンフェタミンおよび類似の合成的に入手できる、光学
活性カルボン酸又はスルホン酸、例えばキナ酸又はD−
もしくはL−ショウノウスルホン酸、および光学的に活
性なアルコール、例えばボルネオール又はD−又はL−
(1−フェニル)エタノールである。
ば光学的に活性溶剤から再結晶することにより、微生物
の助けを貸りることにより、生成ジアステレオ異性体混
合物又はラセミ化合物と光学的に活性な補助化合物と式
Iの化学物中に存在する酸性、塩基性又は官能的に変性
可能な基に応じて反応させることにより、又光学活性
酸、塩基又は光学活性アルコールと反応させジアステレ
オ異性体塩又は官能性誘導体の混合体を形成し次いで所
望のエナンチオアーが適当な常法で遊離化されるジアス
テレオ異性体にそれを分離することにより光学対掌体に
分割できる。塩基、酸、および該目的に適当なアルコー
ルは、例えば光活アルカロイド塩基、例えばストリキニ
ン、シンコニン又はブルシン又はD又はL−(1−フェ
ニル)エチルアミン、3−ピペコリン、エチュドリン、
アンフェタミンおよび類似の合成的に入手できる、光学
活性カルボン酸又はスルホン酸、例えばキナ酸又はD−
もしくはL−ショウノウスルホン酸、および光学的に活
性なアルコール、例えばボルネオール又はD−又はL−
(1−フェニル)エタノールである。
【0060】本発明は、プロセスの任意の工程で中間体
として得られる化合物を出発物質として用いそして残り
の工程を行うか、又は出発物質を塩の形で用いるか又は
特に反応条件下で形成するようなプロセスのこれらの形
態にも関する。本発明は新規出発物質(これは本発明の
化合物に対し特に開発された)、特に当初において好ま
しいものとして記載した式Iの化合物を生成する一群の
出発物質、それらの製法並びに中間体としてそれらの使
用に関する。
として得られる化合物を出発物質として用いそして残り
の工程を行うか、又は出発物質を塩の形で用いるか又は
特に反応条件下で形成するようなプロセスのこれらの形
態にも関する。本発明は新規出発物質(これは本発明の
化合物に対し特に開発された)、特に当初において好ま
しいものとして記載した式Iの化合物を生成する一群の
出発物質、それらの製法並びに中間体としてそれらの使
用に関する。
【0061】本発明は有効成分として本発明に係る化合
物又はその医薬として許容し得る塩およびそれらの製法
に関する。本発明は、有効成分として本発明に係る化合
物又はその医薬として許容し得る塩を含んでなる医薬組
成物並びにその製法に関する。本発明に係る化合物又は
その医薬として許容し得る塩を含んでなる、本発明に係
る医薬組成物は、経腸用、例えば経口および直腸用、並
びに温血動物に対する非経口投与用であり、該組成物は
薬理的に有効な成分単独又は医薬担体と共に含んでな
る。有効成分の日用量は、年令および個々の条件並びに
投与形成に依存する。新規医薬組成物は、例えば約10
%〜約80%、好ましくは約20〜約60%の有効成分
を含有する。経腸又は非経口投与用の本発明に係る医薬
組成物は、例えば単位用量形態、例えば糖剤、錠剤、カ
プセル剤又は坐剤およびアンプル剤である。これらは自
体公知方法により、例えば通常の混合、造粒、糖皮か
け、溶解又は凍結乾燥方法により製造される。例えば経
口投与用医薬製剤は、有効成分と固体担体を一緒にし、
所望により得られた混合物を造粒し次いで所望により又
は必要により適当な賦形剤を添加後、混合物又は顆粒を
加工して錠剤又は糖剤コアを形成する。
物又はその医薬として許容し得る塩およびそれらの製法
に関する。本発明は、有効成分として本発明に係る化合
物又はその医薬として許容し得る塩を含んでなる医薬組
成物並びにその製法に関する。本発明に係る化合物又は
その医薬として許容し得る塩を含んでなる、本発明に係
る医薬組成物は、経腸用、例えば経口および直腸用、並
びに温血動物に対する非経口投与用であり、該組成物は
薬理的に有効な成分単独又は医薬担体と共に含んでな
る。有効成分の日用量は、年令および個々の条件並びに
投与形成に依存する。新規医薬組成物は、例えば約10
%〜約80%、好ましくは約20〜約60%の有効成分
を含有する。経腸又は非経口投与用の本発明に係る医薬
組成物は、例えば単位用量形態、例えば糖剤、錠剤、カ
プセル剤又は坐剤およびアンプル剤である。これらは自
体公知方法により、例えば通常の混合、造粒、糖皮か
け、溶解又は凍結乾燥方法により製造される。例えば経
口投与用医薬製剤は、有効成分と固体担体を一緒にし、
所望により得られた混合物を造粒し次いで所望により又
は必要により適当な賦形剤を添加後、混合物又は顆粒を
加工して錠剤又は糖剤コアを形成する。
【0062】適当な担体は、特に充てん剤、例えばラク
トース、スクロース、マニトールもしくはソルビトー
ル、セルロース製品および/またはリン酸カルシウム、
例えばリン酸三石灰もしくはリン酸水素カルシウム、更
に結合剤、例えばとうもろこし、小麦、米を用いたデン
プンペーストもしくはポテトデンプン、ゼラチン、トラ
ガカント、メチルセルロースおよび/またはポリビニル
ピロリドン、所望により、崩壊剤、例えば上述のデンプ
ン、更にカルボキシメチルデンプン、架橋ポリビニルピ
ロリドン、寒天、アルギン酸もしくはその塩、例えばア
ルギン酸ナトリウムである。補助剤は、特に流動化剤、
流動調整剤および潤滑剤、例えばケイ酸、タルク、ステ
アリン酸、もしくはその塩、例えばステアリン酸マグネ
シウムもしくはカルシウムおよび/またはポリエチレン
グリコールである。糖被錠剤コアには、所望により腸溶
皮が設けられ、特にアラビアゴム、タルク、ポリビニル
ピロリドン、ポリエチレングリコールおよび/又は酸化
チタンを含有する濃厚糖液、適当な有機溶剤もしくは溶
剤混合物の塗布溶液を用いて適当なコーチングが設けら
れ、あるいはまた腸溶皮の製造に対しては、適当なセル
ロース製品、例えばアセチルセルロースフタレートもし
くはヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートの
溶液が用いられる。例えば異なる用量の有効成分を同一
視もしくは示すため、染料もしくは顔料が、錠剤もしく
は糖剤コーチングに添加できる。
トース、スクロース、マニトールもしくはソルビトー
ル、セルロース製品および/またはリン酸カルシウム、
例えばリン酸三石灰もしくはリン酸水素カルシウム、更
に結合剤、例えばとうもろこし、小麦、米を用いたデン
プンペーストもしくはポテトデンプン、ゼラチン、トラ
ガカント、メチルセルロースおよび/またはポリビニル
ピロリドン、所望により、崩壊剤、例えば上述のデンプ
ン、更にカルボキシメチルデンプン、架橋ポリビニルピ
ロリドン、寒天、アルギン酸もしくはその塩、例えばア
ルギン酸ナトリウムである。補助剤は、特に流動化剤、
流動調整剤および潤滑剤、例えばケイ酸、タルク、ステ
アリン酸、もしくはその塩、例えばステアリン酸マグネ
シウムもしくはカルシウムおよび/またはポリエチレン
グリコールである。糖被錠剤コアには、所望により腸溶
皮が設けられ、特にアラビアゴム、タルク、ポリビニル
ピロリドン、ポリエチレングリコールおよび/又は酸化
チタンを含有する濃厚糖液、適当な有機溶剤もしくは溶
剤混合物の塗布溶液を用いて適当なコーチングが設けら
れ、あるいはまた腸溶皮の製造に対しては、適当なセル
ロース製品、例えばアセチルセルロースフタレートもし
くはヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートの
溶液が用いられる。例えば異なる用量の有効成分を同一
視もしくは示すため、染料もしくは顔料が、錠剤もしく
は糖剤コーチングに添加できる。
【0063】他の経口投与医薬製剤は、ゼラチンから造
られる硬ゼラチンカプセル剤であり、更にまたゼラチン
および可塑剤、例えばグリセロールもしくはソルビトー
ルから造られる軟密閉カプセルである。硬ゼラチンカプ
セル剤は、顆粒の形態、例えば充てん剤、例えばラクト
ース、結合剤、例えばデンプンおよび/または滑剤例え
ばタルクまたはステアリン酸マグネシウムおよび所望に
より安定化剤との混合物中に有効成分を含有しうる。軟
カプセル剤中に、有効成分は好ましくは適当な液体、例
えば脂肪油、パラフィン油もしくは液体ポリエチレング
リコール中に懸濁もしくは溶解され、また安定剤を加え
ることもできる。
られる硬ゼラチンカプセル剤であり、更にまたゼラチン
および可塑剤、例えばグリセロールもしくはソルビトー
ルから造られる軟密閉カプセルである。硬ゼラチンカプ
セル剤は、顆粒の形態、例えば充てん剤、例えばラクト
ース、結合剤、例えばデンプンおよび/または滑剤例え
ばタルクまたはステアリン酸マグネシウムおよび所望に
より安定化剤との混合物中に有効成分を含有しうる。軟
カプセル剤中に、有効成分は好ましくは適当な液体、例
えば脂肪油、パラフィン油もしくは液体ポリエチレング
リコール中に懸濁もしくは溶解され、また安定剤を加え
ることもできる。
【0064】適当な直腸医薬製剤は、例えば坐剤であ
り、これは有効成分と坐剤基材との組合わせからなる。
適当な坐剤基材は、例えば中性もしくは合成トリグリセ
リド、パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコールも
しくは高級アルカノールである。更に有効成分と基材物
質の組合せを含有するゼラチン直腸カプセル剤も使用で
きる。適当な、基材物質は、例えば液体トリグリセリ
ド、ポリエチレングリコールまたはパラフィン系炭化水
素である。
り、これは有効成分と坐剤基材との組合わせからなる。
適当な坐剤基材は、例えば中性もしくは合成トリグリセ
リド、パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコールも
しくは高級アルカノールである。更に有効成分と基材物
質の組合せを含有するゼラチン直腸カプセル剤も使用で
きる。適当な、基材物質は、例えば液体トリグリセリ
ド、ポリエチレングリコールまたはパラフィン系炭化水
素である。
【0065】非経口投与用の適当な製剤は、特に水溶性
の形態、例えば水溶性塩中に有効成分を溶解した水溶溶
液であり、更にまた適当な親油性溶剤もしくはビヒク
ル、例えば脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂肪酸エス
テル、例えばオレイン酸エチルもしくはトリグリセリ
ド、又は粘度増加物質、例えばカルボキシメチルセルロ
ースナトリウム、ソルビトールおよび/またはデキスト
ランおよび所望により安定剤を含有する水性注入懸濁液
を用いた例えば適当な油性注入懸濁液の如き有効成分の
懸濁液である。
の形態、例えば水溶性塩中に有効成分を溶解した水溶溶
液であり、更にまた適当な親油性溶剤もしくはビヒク
ル、例えば脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂肪酸エス
テル、例えばオレイン酸エチルもしくはトリグリセリ
ド、又は粘度増加物質、例えばカルボキシメチルセルロ
ースナトリウム、ソルビトールおよび/またはデキスト
ランおよび所望により安定剤を含有する水性注入懸濁液
を用いた例えば適当な油性注入懸濁液の如き有効成分の
懸濁液である。
【0066】有効成分の用量は、温血動物の種、年令お
よび個々の条件および投与形式に依存する。通常の場
合、約75kgの体重の患者に対する経口投与の約日用量
は約10mg〜約500mgであると推定される。次の実施
例は本発明を説明する。温度は摂氏で与えられ、圧力は
ミリバール(mbar)で与えられる。
よび個々の条件および投与形式に依存する。通常の場
合、約75kgの体重の患者に対する経口投与の約日用量
は約10mg〜約500mgであると推定される。次の実施
例は本発明を説明する。温度は摂氏で与えられ、圧力は
ミリバール(mbar)で与えられる。
【0067】
例1 2.0g(4.07mmol) の5−アミノ−6,7−ジヒ
ドロ−キノキサリン−2,3−ジオンおよび1.98g
(6.1mmol)のフマル酸モノエチルエステルクロリド
を、80mlの無水ジオキサン中に懸濁させ次いで懸濁液
をアルゴン雰囲気中一夜加熱還流する。反応混合物を室
温に冷却しそして反応生成物を濾別しそして連続してジ
オキサン次いでジエチルエーテルで洗う。乾燥後、融点
300°超を有する2.56g(6.88mmol;理論値
の85%)の8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオキ
ソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,
3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸エチル
エステルを得る。 例2 492mg(2mmol)の5−アミノ−6,7−ジクロロ−
キノキサリン−2,3−ジオンおよび2.07g(10
mmol)のフマル酸モノベンジルエステルクロリドを20
mlの無水ジオキサン中に溶解し次いでアルゴン雰囲気中
一夜還流する。反応混合物を室温に冷却し;80mlのジ
エチルエーテルを添加しそして反応混合物を濾別しそし
てジエチルエーテルで洗浄する。粗製生成物を酢酸エチ
ルに吸収させ次いで再び10分間加熱還流する。混合物
を温い間に濾過し、次いで酢酸エチルおよびジエチルエ
ーテルで洗浄しそして乾燥させる。490mg(1.13
mmol;理論値の56%)の8,9−ジクロロ−2,4,
5−トリオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸ベンジルエステルを、融点295〜298°
(分解)を有する薄褐色固体形で得る。 例3 1.12g(34mmol)の8,9−ジクロロ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸エチルエステルを2
部のテトラヒドロフランと1部の水の混合物30ml中に
懸濁させ、次いで630mg(15mmol)の水酸化リチウ
ム一水和物を添加する。得られた溶液を室温で60時間
攪拌する。テトラヒドロフランを減圧下で除去する。極
めて小量の沈殿物が形成しこれを濾過して除去しそして
すてる。30mlの1N塩酸を撹拌しながら加え、次いで
得られた白色固体を濾別し、連続して水、アセトン次い
でジエチルエーテルで洗いそして乾燥させる。970mg
(2.82mmol、理論値の94%)の8,9−ジクロロ
−2,4,5−トリオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル酢酸を300°超の融点を有する白色固体
形で得る。 例4 688mg(2mmol)の8,9−ジクロロ−2,4,5−
トリオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢
酸、279mg(3mmol)のアニリン、767mg(4mmo
l)のN−(3−ジメチルアミノ)プロピル−N′−エ
チルカルボジイミド塩酸塩および541mg(4mmol)の
N−ヒドロキシベンゾトリアゾールを20mlのジエチル
ホルムアミド中に溶解し次いで室温でアルゴン下一夜撹
拌する。次いで反応混合物を600mlの水中に撹拌す
る。次いで10分間撹拌し、濾過し、水で洗浄しそして
高真下五酸化リンで乾燥する。770mg(1.84mmo
l;理論値の92%)の8,9−ジクロロ−2,4,5
−トリオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−フェニルアセトアミドを、300超の融点を有す
る薄褐色固体形で得る。 例5 例1に記載した方法と類似の方法で、融点300°超を
有する8,9−ジメチル−2,4,5−トリオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸エチルエ
ステルを得る。 例6 例3に記載した方法と類似の方法で、融点300°超を
有する8,9−ジメチル−2,4,5−トリオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸を得る。 例7 例4に記載した方法と類似の方法で、融点300°超を
有する8,9−ジメチル−2,4,5−トリオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−フェニ
ル−アセトアミドを例6に従って酸から得る。 例8 撹拌しながら、30g(122mmol)の5−アミノ−
6,7−ジクロロ−キノキサリン−2,3−ジオンを、
100mlのジメチルホルムアミド中32.7g(183
mmol)の4−ブロモクロトン酸メチルエステルと共に2
0℃で20時間加熱する。
ドロ−キノキサリン−2,3−ジオンおよび1.98g
(6.1mmol)のフマル酸モノエチルエステルクロリド
を、80mlの無水ジオキサン中に懸濁させ次いで懸濁液
をアルゴン雰囲気中一夜加熱還流する。反応混合物を室
温に冷却しそして反応生成物を濾別しそして連続してジ
オキサン次いでジエチルエーテルで洗う。乾燥後、融点
300°超を有する2.56g(6.88mmol;理論値
の85%)の8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオキ
ソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,
3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸エチル
エステルを得る。 例2 492mg(2mmol)の5−アミノ−6,7−ジクロロ−
キノキサリン−2,3−ジオンおよび2.07g(10
mmol)のフマル酸モノベンジルエステルクロリドを20
mlの無水ジオキサン中に溶解し次いでアルゴン雰囲気中
一夜還流する。反応混合物を室温に冷却し;80mlのジ
エチルエーテルを添加しそして反応混合物を濾別しそし
てジエチルエーテルで洗浄する。粗製生成物を酢酸エチ
ルに吸収させ次いで再び10分間加熱還流する。混合物
を温い間に濾過し、次いで酢酸エチルおよびジエチルエ
ーテルで洗浄しそして乾燥させる。490mg(1.13
mmol;理論値の56%)の8,9−ジクロロ−2,4,
5−トリオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸ベンジルエステルを、融点295〜298°
(分解)を有する薄褐色固体形で得る。 例3 1.12g(34mmol)の8,9−ジクロロ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸エチルエステルを2
部のテトラヒドロフランと1部の水の混合物30ml中に
懸濁させ、次いで630mg(15mmol)の水酸化リチウ
ム一水和物を添加する。得られた溶液を室温で60時間
攪拌する。テトラヒドロフランを減圧下で除去する。極
めて小量の沈殿物が形成しこれを濾過して除去しそして
すてる。30mlの1N塩酸を撹拌しながら加え、次いで
得られた白色固体を濾別し、連続して水、アセトン次い
でジエチルエーテルで洗いそして乾燥させる。970mg
(2.82mmol、理論値の94%)の8,9−ジクロロ
−2,4,5−トリオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル酢酸を300°超の融点を有する白色固体
形で得る。 例4 688mg(2mmol)の8,9−ジクロロ−2,4,5−
トリオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢
酸、279mg(3mmol)のアニリン、767mg(4mmo
l)のN−(3−ジメチルアミノ)プロピル−N′−エ
チルカルボジイミド塩酸塩および541mg(4mmol)の
N−ヒドロキシベンゾトリアゾールを20mlのジエチル
ホルムアミド中に溶解し次いで室温でアルゴン下一夜撹
拌する。次いで反応混合物を600mlの水中に撹拌す
る。次いで10分間撹拌し、濾過し、水で洗浄しそして
高真下五酸化リンで乾燥する。770mg(1.84mmo
l;理論値の92%)の8,9−ジクロロ−2,4,5
−トリオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−フェニルアセトアミドを、300超の融点を有す
る薄褐色固体形で得る。 例5 例1に記載した方法と類似の方法で、融点300°超を
有する8,9−ジメチル−2,4,5−トリオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸エチルエ
ステルを得る。 例6 例3に記載した方法と類似の方法で、融点300°超を
有する8,9−ジメチル−2,4,5−トリオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸を得る。 例7 例4に記載した方法と類似の方法で、融点300°超を
有する8,9−ジメチル−2,4,5−トリオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−フェニ
ル−アセトアミドを例6に従って酸から得る。 例8 撹拌しながら、30g(122mmol)の5−アミノ−
6,7−ジクロロ−キノキサリン−2,3−ジオンを、
100mlのジメチルホルムアミド中32.7g(183
mmol)の4−ブロモクロトン酸メチルエステルと共に2
0℃で20時間加熱する。
【0068】混合物を室温に放冷し、2lの氷水中に注
ぎ、15分間撹拌し、次いで濾過し、水で洗いそして乾
燥する。融点264〜268°を有する40.61g
(118mmol;理論値の97%)の8,9−ジクロロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステルを得る。 例9 例8で記載した方法と類似の方法で次の化合物を得る:
8,9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル酢酸メチルエステル、m.p.
303〜306°;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メ
チルエステル、m.p.>250°;4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メチルエ
ステル、m.p.244〜247°;8−ブロモ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
酢酸メチルエステルおよび8−トリフルオロメチル−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステル、m.p.150〜154°; 例10 14.15g(41.1mmol)の8,9−ジクロロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステルを200mlのメタノールに懸濁
させ;100mlの水性水酸化ナトリウム溶液を加え次い
で混合物を室温で1時間撹拌する。メタノールを減圧下
で除去する。60mlのジエチルエーテル各々2回用いて
水性相を洗い次いで撹拌しながら2N塩酸をゆっくり加
えてpH1に酸性化する。固体沈殿物を吸引濾別し、水で
洗いそして乾燥する。融点268〜272°を有する1
1.5g(34.8mmol、理論値の85%)の8,9−
ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イル酢酸を得る。 例11 例10に記載した方法と類似の方法で次の化合物を得
る:8,9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.p.285〜
287°;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.
p.239〜245°;4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.p.>260
°;8−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−
テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−
フェナレン−3−イル酢酸、m.p.>260°および
8−トリフルオロメチル−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.p.〜200
°。 例12 300mg(0.91mmol)の8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢
酸、0.12ml(1.36ml)のアニリン、384mg
(1.82mmolのN−(3−ジメチルアミノ)プロピル
−N′−エチル−カルボジイミド塩酸塩および246mg
(1.82mmol)のN−ヒドロキシベンゾトリアゾール
を10mlの無水ジメチルホルムアミド中空温で48時間
撹拌する。次いで反応混合物を250mlの氷水中に撹拌
する。混合物を濾過し、次いで水で洗い乾燥させる。3
10mg(1.84mmol;理論値の84%)の8,9−ジ
クロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−フェナレン−3−イ
ル−N−フェニル−アセトアミドを、300°を超える
融点を有する薄褐色固体形で得る。 例13 次の化合物を例2に記載した方法に類似して得る:8,
9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−N−フェニル−アセトアミド、m.p.
>300°;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−N−フェニル−ア
セトアミド、m.p.>260°;4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−N−フェニル−ア
セトアミド、m.p.>284〜290°;8−ブロモ
−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−
1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3
−フェニル−アセトアミド、m.p.>250°および
8−トリフルオロメチル−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−フェニル−アセトアミド、
m.p.>250°。 例14 例12で記載した方法と類似の方法で、8,9−ジクロ
ロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ
−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−
3−イル酢酸から出発し以下に掲げるそれらのアミドを
得ることも可能である:8,9−ジクロロ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−
ベンジル−アセトアミド、m.p.255〜260°;
8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル−N−(2−フェニル−エチ
ル)−アセトアミド、m.p.170〜175°;8,
9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル−N−(2−ヒドロキシ−エチル)
−アセトアミド、m.p.>250°;8,9−ジクロ
ロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ
−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−
3−イル−N−(エトキシ−カルバニルメチル)−アセ
トアミド、m.p.>250°;8,9−ジクロロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル−N−(カルボキシ−メチル)−アセトアミド、
m.p.>250°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−
(3−トリフルオロ−メチルフェニル)−アセトアミ
ド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N
−(4−クロロ−フェニル)−アセトアミド、m.p.
>300°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−(4−
メチル−フェニル)−アセトアミド、m.p.>300
°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N−(4−メトキシ−
フェニル)−アセトアミド、m.p.>300°;8,
9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル−N−(4−フェノキシ−フェニ
ル)−アセトアミド、m.p.>300°;8,9−ジ
クロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル−N−(3−ニトロ−フェニル)−アセト
アミド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−(4−エトキシ−カルボニルフェニル)アセトア
ミド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N−(4−トリフルオロ−メチルフェニル)−アセトア
ミド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N−ベンジルオキシ−アセトアミド、m.p.186〜
189°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,
3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−第三ブチルオ
キシ−アセトアミド、m.p.>300°;8,9−ジ
クロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル−N−(3−ビフェニル)−アセトアミ
ド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N
−(3−フェノキシ−フェニル)−アセトアミド、m.
p.262〜266°;8,9−ジクロロ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N,
N−ジメチル−アセトアミド、m.p.>300°;
8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル−N−ブチルアセトアミド;
8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル−N−第三−ブチル−アセトア
ミド、m.p.>260°;8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N,N−ジブチル−アセトアミド;8,9−ジクロロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル−N−(アダマンタン−1−イル)−アセトアミ
ド、m.p.>260°;8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N
−メチル−アセトアミド、m.p.>280°;7,8
−ジクロロ−4−{2−オキソ−2−〔4−(2−オキ
ソ−イミダゾリジン−1−イル)ピペリジン−1−イ
ル〕エチル}−5,6−ジヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−2,3−ジオン、m.
p.>260°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−メチル
−N−フェニル−アセトアミド、m.p.>280°;
8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル−N−〔2−(2−オキソイミ
ダゾリジン−1−イル〕エチル〕−アセトアミド、m.
p.>260°および8,9−ジクロロ−4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−
(2−モリホリノ−エチル)−アセトアミド、m.p.
>280°。 例15 ヘプタンに溶解した三塩化ホウ素の1モル溶液20.5
mlを、0℃でアルゴン下40mlの1,2−ジクロロエタ
ンに溶解した2.57g(9.33ml)の4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メ
チルエステルの溶液に添加する。10分後、先ず2.7
4g(20.5mmole)の三塩化アルミニウムを添加し次
いで2.75g(50mmole)のプロピオニトリルを添加
する。混合物を室温まで上昇せしめ次いで3時間加熱還
流する。混合物を室温に冷却し;50mlの2N塩酸を加
え次いで混合物を再たび1時間加熱還流する。室温に再
たび冷却した後、100mlの水を添え次いで混合物を各
々100mlのトリクロロメタンを用いて2回振とうし、
飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそして硫酸ナトリウム
で乾燥する。混合物を蒸発により濃縮乾固しそして15
mlのテトラヒドロフランに吸収させ;30mlの1N水酸
化ナトリウム溶液を加えそして混合物を一夜撹拌する。
次いで、20mlの水を添加しそして混合物を各々50ml
のジエチルエーテルで2回洗浄し、希塩酸でpH2に酸性
化しそして各々100mlの酢酸エチルを用い2回振とう
する。一緒にした抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥しそし
て蒸発により濃縮する。蒸発残留物を5mlの無水ジメチ
ルホルムアミドで乾燥し;211mg(2.27mmol)の
アニリン、435mg(2.27mmol)のN−(3−ジメ
チルアミノ)プロピル−N′−エチル−カルボジイミド
塩酸塩および348mg(2.27mmol)のN−ヒドロキ
シベンゾトリアゾールを加えそして混合物を室温で48
時間撹拌し、次いで400mlの水中に注ぎ、吸引濾過
し、水で洗いそして乾燥する。9−プロピオニル−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−フェニル−アセトアミドを得る、m.p.>30
0°。 例16 16.8g(80mmol)の三フッ化酢酸無水物を、0.
88g(11mmol)の硝酸アンモニウム、2.75g
(10mmol)の4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル酢酸メチルエステルおよび60mlの
トリクロロメタンの混合物に、窒素雰囲気下沸とう温度
で滴下する。混合物を更に2時間加熱還流し、次いで室
温に冷却し、氷水中に注ぎ、酢酸エチルで振とうするこ
とにより抽出し、水および飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しそして蒸発により濃縮
する。蒸発残留物を溶離液として酢酸エチルを用いシリ
カゲルでクロマトグラフィー処理する。1.07gの9
−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イル酢酸メチルエステルおよび0.43gの
7−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テト
ラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェ
ナレン−3−イル酢酸メチルエステルを得る。 例17 例10で記載した方法と類似の方法で、9−ニトロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステルおよび7−ニトロ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メ
チルエステルから、9−ニトロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.
p.>250°、および7−ニトロ−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.
p.>250°を得る。 例18 例12で記載した方法と類似の方法で、9−ニトロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸、m.p.>250°および7−ニトロ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
酢酸から、9−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N−フェニル−アセト
アミド、m.p.>256°、および7−ニトロ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−フェニル−アセトアミド、m.p.220〜24
0°(分解)を得る。 例19 2.31g(6.52mmol)の8−ブロモ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸エ
チルエステル、13.04mmolの臭化アリルおよび6.
52mmolのヨウ化テトラブチルアンモニウムを、20ml
の無水ジメチルホルムアミド中100°で5日間加熱す
る。ジメチルホルムアミドを減圧下で除去しそして残留
物を溶離液として酢酸エチルを用いシリカゲルでクロマ
トグラフィー処理する。1.81gの1−アリル−8−
ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−フェナレン−3−イ
ル酢酸メチルエステルを得る。 例20 例10に記載した方法に類似の方法で、1−アリル−8
−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イル酢酸から1−アリル−8−ブロモ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
酢酸メチルエステル、m.p.243〜245°を得
る。 例21 例12に記載した方法に類似の方法で、1−アリル−8
−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イル酢酸から、1−アリル−8−ブロモ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル−N−フェニル−アセトアミド、m.p.>250
°を得る。 例22 219mg(0.48mmol)の1−アリル−8−ブロモ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N−フェニル−アセトアミド、75mg(0.55mmol)
のN−メチルモルホリン−N−オキシドおよび四酸化オ
スミニウムの4%水性溶液0.4mlを、7mlの水、7ml
のジオキサンおよび1mlの第三ブタノールの混合物中で
16時間撹拌する。有機溶剤を除去する。冷水を残留物
に加え、次いで吸引濾過し、水で洗いそして乾燥する。
85mgの8−ブロモ−1−(2,3−ジヒドロキシプロ
ピル)−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル−N−フェニル−アセトアミド、m.p.
>250°を得る。 例23 2.49g(10.1mmol)の5−アミノ−6,7−ジ
クロロ−キノキサリン−2,3−ジオンおよび2.70
g(12.62mmol)のE−1,4−ジブロモ−2−ブ
テンを、60mlの無水ジメチルホルムアミド中アルゴン
雰囲気下100°で48時間加熱する。混合物を室温に
放冷し、700mlの氷水中に注ぎ、15分間撹拌し、濾
過し、水で洗い、乾燥しそして50mlのアセトンに吸収
させ、次いで20分間加熱還流し、室温に冷却し、濾過
しアセトンで洗浄しそして乾燥する。1.50g(5.
03mmol、理論値の50%)の7,8−ジクロロ−4−
ビニル−5,6−ビヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−2,3−ジオン、m.p.>
260°を得る。 例24 570mg(2.32ml)の5−アミノ−6,7−ジヒド
ロ−キノキサリン−2,3−ジオンおよび523mg
(4.63mmol)の塩化クロロアセチルを、撹拌しなが
ら16時間加熱還流する。混合物を室温に冷却し、次い
で濾過し、ジエチルエーテルで洗浄しそして乾燥する。
生成固体を、40mlの無水ジメチルホルムアミド中49
0mg(3.54mmol)の炭酸カリウムを用いて懸濁液と
し次いで室温で16時間撹拌し、次いで600mlの水お
よび15mlの濃塩酸の混合物中に注ぎ、水およびアセト
ンで洗い次いで50mlのエタノール中、懸濁液とする。
懸濁液を30分間加熱還流し、温かい間に濾過し、エタ
ノールおよびジエチルエーテルで洗いついで乾燥し、3
10mg(1.08mmol,47%の理論値)の7,8−ジ
クロロ−1H,6H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−2,3,5−トリオンを得る。 例25 2.45g(10mmol)の5−アミノ−6,7−ジクロ
ロ−キノキサリン−2,3−ジオンおよび7.7gの3
−ブロモプロプ−1−エンホスホン酸ジエチルエステル
を40mlの無水ジメチルホルムアミド中に溶解し次いで
90°で4日間加熱する。混合物を室温に放冷し次いで
500mlの氷水中に注ぎ;100mlの11N水酸化ナト
リウム溶液を加え次いで混合物を、各々500mlノジク
ロロメタンを用い2回洗う。水性相を希塩酸を用いてpH
1に酸性化し、次いで得られた沈殿物を濾過し、水で洗
いそして乾燥する。生成固体を0°で20mlのジクロロ
メタン中に懸濁させ、そして580mg(5.7mmol)の
トリメチルブロモシランを加える。混合物を室温で一夜
撹拌しそして減圧下で濃縮する。蒸発残留物を10mlの
メタノールを用いて懸濁液としそして100mlの0.1
N塩酸中に注ぐ。混合物を濾過し次いで水で洗浄しそし
て乾燥後、融点250°超を有する250mgの8,9−
ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イルメタンホスホン酸を得る。 例26 各々50mgの8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオキ
ソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,
3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸又はそ
の塩、例えばそのナトリウム塩は次の如く製造できる: 組成物(10000個の錠剤) 有効成分 500.0g ラクトース 500.0g ジャガイモデンプン 352.0g ゼラチン 8.0g タルク 60.0g ステアリン酸マグネシウム 10.0g シリカ(高分散) 20.0g エタノール 適量 ラウリル 有効成分をラクトースおよび292gのジャガイモデン
プンと混合し、混合物をゼラチンのエタノール性溶液で
湿潤させ次いで篩を通して粒状化する。乾燥後、残りの
ジャガイモデンプン、タルク、ステアリン酸マグネシウ
ムおよびシリカを混合し、混合物を圧縮し、各々有効成
分含有量50.0mgを有する145mgの錠剤を得、これ
は所望により、微細投与のため切り目を設けることもで
きる。 例27 可溶化剤として20%シクロデキストリンを含有し、有
効成分として3mgの8,9−ジオキソ−2,4,5−ト
リオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸
又は塩例えばそのナトリウム塩を含有する殺菌濾過水性
ゼラチン溶液を、加熱しながらかつ無菌条件下、1.0
mlの溶液が次の組成を有するように、防腐剤としてフェ
ノールを含有する殺菌ゼラチン溶液と混合する。
ぎ、15分間撹拌し、次いで濾過し、水で洗いそして乾
燥する。融点264〜268°を有する40.61g
(118mmol;理論値の97%)の8,9−ジクロロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステルを得る。 例9 例8で記載した方法と類似の方法で次の化合物を得る:
8,9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル酢酸メチルエステル、m.p.
303〜306°;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メ
チルエステル、m.p.>250°;4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メチルエ
ステル、m.p.244〜247°;8−ブロモ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
酢酸メチルエステルおよび8−トリフルオロメチル−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステル、m.p.150〜154°; 例10 14.15g(41.1mmol)の8,9−ジクロロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステルを200mlのメタノールに懸濁
させ;100mlの水性水酸化ナトリウム溶液を加え次い
で混合物を室温で1時間撹拌する。メタノールを減圧下
で除去する。60mlのジエチルエーテル各々2回用いて
水性相を洗い次いで撹拌しながら2N塩酸をゆっくり加
えてpH1に酸性化する。固体沈殿物を吸引濾別し、水で
洗いそして乾燥する。融点268〜272°を有する1
1.5g(34.8mmol、理論値の85%)の8,9−
ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イル酢酸を得る。 例11 例10に記載した方法と類似の方法で次の化合物を得
る:8,9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.p.285〜
287°;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.
p.239〜245°;4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.p.>260
°;8−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−
テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−
フェナレン−3−イル酢酸、m.p.>260°および
8−トリフルオロメチル−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.p.〜200
°。 例12 300mg(0.91mmol)の8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢
酸、0.12ml(1.36ml)のアニリン、384mg
(1.82mmolのN−(3−ジメチルアミノ)プロピル
−N′−エチル−カルボジイミド塩酸塩および246mg
(1.82mmol)のN−ヒドロキシベンゾトリアゾール
を10mlの無水ジメチルホルムアミド中空温で48時間
撹拌する。次いで反応混合物を250mlの氷水中に撹拌
する。混合物を濾過し、次いで水で洗い乾燥させる。3
10mg(1.84mmol;理論値の84%)の8,9−ジ
クロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−フェナレン−3−イ
ル−N−フェニル−アセトアミドを、300°を超える
融点を有する薄褐色固体形で得る。 例13 次の化合物を例2に記載した方法に類似して得る:8,
9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−N−フェニル−アセトアミド、m.p.
>300°;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−N−フェニル−ア
セトアミド、m.p.>260°;4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−N−フェニル−ア
セトアミド、m.p.>284〜290°;8−ブロモ
−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−
1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3
−フェニル−アセトアミド、m.p.>250°および
8−トリフルオロメチル−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−フェニル−アセトアミド、
m.p.>250°。 例14 例12で記載した方法と類似の方法で、8,9−ジクロ
ロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ
−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−
3−イル酢酸から出発し以下に掲げるそれらのアミドを
得ることも可能である:8,9−ジクロロ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−
ベンジル−アセトアミド、m.p.255〜260°;
8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル−N−(2−フェニル−エチ
ル)−アセトアミド、m.p.170〜175°;8,
9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル−N−(2−ヒドロキシ−エチル)
−アセトアミド、m.p.>250°;8,9−ジクロ
ロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ
−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−
3−イル−N−(エトキシ−カルバニルメチル)−アセ
トアミド、m.p.>250°;8,9−ジクロロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル−N−(カルボキシ−メチル)−アセトアミド、
m.p.>250°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−
(3−トリフルオロ−メチルフェニル)−アセトアミ
ド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N
−(4−クロロ−フェニル)−アセトアミド、m.p.
>300°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−(4−
メチル−フェニル)−アセトアミド、m.p.>300
°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N−(4−メトキシ−
フェニル)−アセトアミド、m.p.>300°;8,
9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル−N−(4−フェノキシ−フェニ
ル)−アセトアミド、m.p.>300°;8,9−ジ
クロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル−N−(3−ニトロ−フェニル)−アセト
アミド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−(4−エトキシ−カルボニルフェニル)アセトア
ミド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N−(4−トリフルオロ−メチルフェニル)−アセトア
ミド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N−ベンジルオキシ−アセトアミド、m.p.186〜
189°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,
3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−第三ブチルオ
キシ−アセトアミド、m.p.>300°;8,9−ジ
クロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル−N−(3−ビフェニル)−アセトアミ
ド、m.p.>300°;8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N
−(3−フェノキシ−フェニル)−アセトアミド、m.
p.262〜266°;8,9−ジクロロ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N,
N−ジメチル−アセトアミド、m.p.>300°;
8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル−N−ブチルアセトアミド;
8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル−N−第三−ブチル−アセトア
ミド、m.p.>260°;8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N,N−ジブチル−アセトアミド;8,9−ジクロロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル−N−(アダマンタン−1−イル)−アセトアミ
ド、m.p.>260°;8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N
−メチル−アセトアミド、m.p.>280°;7,8
−ジクロロ−4−{2−オキソ−2−〔4−(2−オキ
ソ−イミダゾリジン−1−イル)ピペリジン−1−イ
ル〕エチル}−5,6−ジヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−2,3−ジオン、m.
p.>260°;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−メチル
−N−フェニル−アセトアミド、m.p.>280°;
8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル−N−〔2−(2−オキソイミ
ダゾリジン−1−イル〕エチル〕−アセトアミド、m.
p.>260°および8,9−ジクロロ−4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−
(2−モリホリノ−エチル)−アセトアミド、m.p.
>280°。 例15 ヘプタンに溶解した三塩化ホウ素の1モル溶液20.5
mlを、0℃でアルゴン下40mlの1,2−ジクロロエタ
ンに溶解した2.57g(9.33ml)の4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メ
チルエステルの溶液に添加する。10分後、先ず2.7
4g(20.5mmole)の三塩化アルミニウムを添加し次
いで2.75g(50mmole)のプロピオニトリルを添加
する。混合物を室温まで上昇せしめ次いで3時間加熱還
流する。混合物を室温に冷却し;50mlの2N塩酸を加
え次いで混合物を再たび1時間加熱還流する。室温に再
たび冷却した後、100mlの水を添え次いで混合物を各
々100mlのトリクロロメタンを用いて2回振とうし、
飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄しそして硫酸ナトリウム
で乾燥する。混合物を蒸発により濃縮乾固しそして15
mlのテトラヒドロフランに吸収させ;30mlの1N水酸
化ナトリウム溶液を加えそして混合物を一夜撹拌する。
次いで、20mlの水を添加しそして混合物を各々50ml
のジエチルエーテルで2回洗浄し、希塩酸でpH2に酸性
化しそして各々100mlの酢酸エチルを用い2回振とう
する。一緒にした抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥しそし
て蒸発により濃縮する。蒸発残留物を5mlの無水ジメチ
ルホルムアミドで乾燥し;211mg(2.27mmol)の
アニリン、435mg(2.27mmol)のN−(3−ジメ
チルアミノ)プロピル−N′−エチル−カルボジイミド
塩酸塩および348mg(2.27mmol)のN−ヒドロキ
シベンゾトリアゾールを加えそして混合物を室温で48
時間撹拌し、次いで400mlの水中に注ぎ、吸引濾過
し、水で洗いそして乾燥する。9−プロピオニル−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−フェニル−アセトアミドを得る、m.p.>30
0°。 例16 16.8g(80mmol)の三フッ化酢酸無水物を、0.
88g(11mmol)の硝酸アンモニウム、2.75g
(10mmol)の4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル酢酸メチルエステルおよび60mlの
トリクロロメタンの混合物に、窒素雰囲気下沸とう温度
で滴下する。混合物を更に2時間加熱還流し、次いで室
温に冷却し、氷水中に注ぎ、酢酸エチルで振とうするこ
とにより抽出し、水および飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥しそして蒸発により濃縮
する。蒸発残留物を溶離液として酢酸エチルを用いシリ
カゲルでクロマトグラフィー処理する。1.07gの9
−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イル酢酸メチルエステルおよび0.43gの
7−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テト
ラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェ
ナレン−3−イル酢酸メチルエステルを得る。 例17 例10で記載した方法と類似の方法で、9−ニトロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステルおよび7−ニトロ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メ
チルエステルから、9−ニトロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.
p.>250°、および7−ニトロ−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸、m.
p.>250°を得る。 例18 例12で記載した方法と類似の方法で、9−ニトロ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸、m.p.>250°および7−ニトロ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
酢酸から、9−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N−フェニル−アセト
アミド、m.p.>256°、および7−ニトロ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−フェニル−アセトアミド、m.p.220〜24
0°(分解)を得る。 例19 2.31g(6.52mmol)の8−ブロモ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸エ
チルエステル、13.04mmolの臭化アリルおよび6.
52mmolのヨウ化テトラブチルアンモニウムを、20ml
の無水ジメチルホルムアミド中100°で5日間加熱す
る。ジメチルホルムアミドを減圧下で除去しそして残留
物を溶離液として酢酸エチルを用いシリカゲルでクロマ
トグラフィー処理する。1.81gの1−アリル−8−
ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−フェナレン−3−イ
ル酢酸メチルエステルを得る。 例20 例10に記載した方法に類似の方法で、1−アリル−8
−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イル酢酸から1−アリル−8−ブロモ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
酢酸メチルエステル、m.p.243〜245°を得
る。 例21 例12に記載した方法に類似の方法で、1−アリル−8
−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イル酢酸から、1−アリル−8−ブロモ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル−N−フェニル−アセトアミド、m.p.>250
°を得る。 例22 219mg(0.48mmol)の1−アリル−8−ブロモ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N−フェニル−アセトアミド、75mg(0.55mmol)
のN−メチルモルホリン−N−オキシドおよび四酸化オ
スミニウムの4%水性溶液0.4mlを、7mlの水、7ml
のジオキサンおよび1mlの第三ブタノールの混合物中で
16時間撹拌する。有機溶剤を除去する。冷水を残留物
に加え、次いで吸引濾過し、水で洗いそして乾燥する。
85mgの8−ブロモ−1−(2,3−ジヒドロキシプロ
ピル)−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル−N−フェニル−アセトアミド、m.p.
>250°を得る。 例23 2.49g(10.1mmol)の5−アミノ−6,7−ジ
クロロ−キノキサリン−2,3−ジオンおよび2.70
g(12.62mmol)のE−1,4−ジブロモ−2−ブ
テンを、60mlの無水ジメチルホルムアミド中アルゴン
雰囲気下100°で48時間加熱する。混合物を室温に
放冷し、700mlの氷水中に注ぎ、15分間撹拌し、濾
過し、水で洗い、乾燥しそして50mlのアセトンに吸収
させ、次いで20分間加熱還流し、室温に冷却し、濾過
しアセトンで洗浄しそして乾燥する。1.50g(5.
03mmol、理論値の50%)の7,8−ジクロロ−4−
ビニル−5,6−ビヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−2,3−ジオン、m.p.>
260°を得る。 例24 570mg(2.32ml)の5−アミノ−6,7−ジヒド
ロ−キノキサリン−2,3−ジオンおよび523mg
(4.63mmol)の塩化クロロアセチルを、撹拌しなが
ら16時間加熱還流する。混合物を室温に冷却し、次い
で濾過し、ジエチルエーテルで洗浄しそして乾燥する。
生成固体を、40mlの無水ジメチルホルムアミド中49
0mg(3.54mmol)の炭酸カリウムを用いて懸濁液と
し次いで室温で16時間撹拌し、次いで600mlの水お
よび15mlの濃塩酸の混合物中に注ぎ、水およびアセト
ンで洗い次いで50mlのエタノール中、懸濁液とする。
懸濁液を30分間加熱還流し、温かい間に濾過し、エタ
ノールおよびジエチルエーテルで洗いついで乾燥し、3
10mg(1.08mmol,47%の理論値)の7,8−ジ
クロロ−1H,6H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−2,3,5−トリオンを得る。 例25 2.45g(10mmol)の5−アミノ−6,7−ジクロ
ロ−キノキサリン−2,3−ジオンおよび7.7gの3
−ブロモプロプ−1−エンホスホン酸ジエチルエステル
を40mlの無水ジメチルホルムアミド中に溶解し次いで
90°で4日間加熱する。混合物を室温に放冷し次いで
500mlの氷水中に注ぎ;100mlの11N水酸化ナト
リウム溶液を加え次いで混合物を、各々500mlノジク
ロロメタンを用い2回洗う。水性相を希塩酸を用いてpH
1に酸性化し、次いで得られた沈殿物を濾過し、水で洗
いそして乾燥する。生成固体を0°で20mlのジクロロ
メタン中に懸濁させ、そして580mg(5.7mmol)の
トリメチルブロモシランを加える。混合物を室温で一夜
撹拌しそして減圧下で濃縮する。蒸発残留物を10mlの
メタノールを用いて懸濁液としそして100mlの0.1
N塩酸中に注ぐ。混合物を濾過し次いで水で洗浄しそし
て乾燥後、融点250°超を有する250mgの8,9−
ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラ
ヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナ
レン−3−イルメタンホスホン酸を得る。 例26 各々50mgの8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオキ
ソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,
3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸又はそ
の塩、例えばそのナトリウム塩は次の如く製造できる: 組成物(10000個の錠剤) 有効成分 500.0g ラクトース 500.0g ジャガイモデンプン 352.0g ゼラチン 8.0g タルク 60.0g ステアリン酸マグネシウム 10.0g シリカ(高分散) 20.0g エタノール 適量 ラウリル 有効成分をラクトースおよび292gのジャガイモデン
プンと混合し、混合物をゼラチンのエタノール性溶液で
湿潤させ次いで篩を通して粒状化する。乾燥後、残りの
ジャガイモデンプン、タルク、ステアリン酸マグネシウ
ムおよびシリカを混合し、混合物を圧縮し、各々有効成
分含有量50.0mgを有する145mgの錠剤を得、これ
は所望により、微細投与のため切り目を設けることもで
きる。 例27 可溶化剤として20%シクロデキストリンを含有し、有
効成分として3mgの8,9−ジオキソ−2,4,5−ト
リオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸
又は塩例えばそのナトリウム塩を含有する殺菌濾過水性
ゼラチン溶液を、加熱しながらかつ無菌条件下、1.0
mlの溶液が次の組成を有するように、防腐剤としてフェ
ノールを含有する殺菌ゼラチン溶液と混合する。
【0069】 有効成分 3mg ゼラチン 150.0mg フェノール 4.7mg 可溶化剤として20%のシクロデキストリン を有する蒸留水 1.0ml 例28 5mgの8,9−ジクロロ−2,4,5−トリクロロ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−フェナレン−3−イル酢酸又はその塩、例えば
ナトリウム塩を含んでなる注入用殺菌乾燥物質の製造の
ため、有効成分として先の例で述べた式Iの化合物の1
種5mgを20mgのマニトールおよび可溶化剤として20
%シクロデキストリンを含有する水性溶液1ml中の溶解
する。溶液を殺菌濾過しそして無菌条件下、2mlのマン
プルに導入し、凍結しそして凍結乾燥する。使用前に凍
結乾燥物を1mlの蒸留水又は1mlの生理食塩水に溶解す
る。溶液を筋肉内又は静脈内投与する。この調合は二重
室の使い捨て注射器内に導入できる。 例29 各々100mgの8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸又
はその塩、例えばそのナトリウム塩を含有する、10,
000個のフイルム塗布錠剤の製造に対しては、製造方
法は次の如くである: 有効成分 1000g とうもろこしデンプン 680g コロイド珪酸 200g ステアリン酸マグネシウム 20g ステアリン酸 50g ナトリウムカルボキシメチルデンプン 250g 水 適量 有効成分として、先の例で述べた式Iの化合物の1種、
50gのとうもろこしデンプンおよびコロイド珪酸を、
250gのとうもろこしでんおよび2.2kgの脱イオン
水から成るデンプンプーストを用いて加工し湿潤塊を形
成する。この塊を3mmメッシュ径の篩を通しそして45
℃の流動床乾燥器で30分間乾燥する。乾燥顆粒を1mm
メッシュ径の篩を通し、とうもろこしデンプン、ステア
リン酸マグネシウム、ステアリン酸およびナトリウムカ
ルボキシメチルデンプンの330gの予じめ篩別した混
合物(1mm篩)と混合し、次いで圧縮しわずかに両凸面
の錠剤を形成する。 例30 例26〜29で記載した方法と類似の方法で、例1〜2
5のいずれかに係る異なる化合物を含んでなる医薬組成
物を製造することも可能である。
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−フェナレン−3−イル酢酸又はその塩、例えば
ナトリウム塩を含んでなる注入用殺菌乾燥物質の製造の
ため、有効成分として先の例で述べた式Iの化合物の1
種5mgを20mgのマニトールおよび可溶化剤として20
%シクロデキストリンを含有する水性溶液1ml中の溶解
する。溶液を殺菌濾過しそして無菌条件下、2mlのマン
プルに導入し、凍結しそして凍結乾燥する。使用前に凍
結乾燥物を1mlの蒸留水又は1mlの生理食塩水に溶解す
る。溶液を筋肉内又は静脈内投与する。この調合は二重
室の使い捨て注射器内に導入できる。 例29 各々100mgの8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸又
はその塩、例えばそのナトリウム塩を含有する、10,
000個のフイルム塗布錠剤の製造に対しては、製造方
法は次の如くである: 有効成分 1000g とうもろこしデンプン 680g コロイド珪酸 200g ステアリン酸マグネシウム 20g ステアリン酸 50g ナトリウムカルボキシメチルデンプン 250g 水 適量 有効成分として、先の例で述べた式Iの化合物の1種、
50gのとうもろこしデンプンおよびコロイド珪酸を、
250gのとうもろこしでんおよび2.2kgの脱イオン
水から成るデンプンプーストを用いて加工し湿潤塊を形
成する。この塊を3mmメッシュ径の篩を通しそして45
℃の流動床乾燥器で30分間乾燥する。乾燥顆粒を1mm
メッシュ径の篩を通し、とうもろこしデンプン、ステア
リン酸マグネシウム、ステアリン酸およびナトリウムカ
ルボキシメチルデンプンの330gの予じめ篩別した混
合物(1mm篩)と混合し、次いで圧縮しわずかに両凸面
の錠剤を形成する。 例30 例26〜29で記載した方法と類似の方法で、例1〜2
5のいずれかに係る異なる化合物を含んでなる医薬組成
物を製造することも可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/495 AAM AAY
Claims (12)
- 【請求項1】 次式I: 【化1】 (式中、A1 は低級アルキリデン又は式>CH−A4 −
R4 (Ia)の基であり、 A2 は低級アルキリデン又は式>CH−A4 −R4 (I
a)又は>C=0(Ib)又は>CH(OH)−A5 −
R4 (Ic)の基であり、 A3 は式>N−A6 −R5 (Id)の基であり、 A4 は低級アルキレンであり、 A5 およびA6 は互いに独立に低級アルキレン又は直接
結合であり、 nは0又は1であり、 R1 およびR2 は互いに独立に水素、未置換又は低級ア
ルキル−および/又は低級アルカノイル−置換アミノ、
ニトロ、低級アルカノイル、遊離又はエーテル化ヒドロ
キシ、遊離又はエステル化カルボキシ、カルバモイル、
シアノ、未置換又はハロゲン化低級アルキル又はハロゲ
ンであり、 R3 は水素又はヒドロキシであり、 R4 は遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、遊
離又はエステル化ホスホノ又は5−テトラゾリルであ
り、そしてR5 は水素、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニル、アリール、低級アルカノイル、遊
離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、シアノ、5
−テトラゾリル、遊離又はエーテル化又はエステル化ヒ
ドロキシ又はジヒドロキシ−低級アルキルである)で表
わされる新規アザ脂肪族架橋キノキサリン−2,3−ジ
オン又はその塩。 - 【請求項2】 式I(式中、A1 は低級アルキリデン又
は式>CH−A4 −R4 (Ia)の基であり、 A2 は低級アルキリデン又は式>CH−A4 −R4 (I
a)又は>C=0(Ib)又は>CH(OH)−A5 −
R5 (Ic)の基であり、 A3 は式>N−A6 −A5 (Id)の基であり、 A4 は低級アルキレンであり、 A5 およびA6 は互いに独立に低級アルキレン又は直接
結合であり、 nは0又は1であり、 R1 およびR2 は互いに独立に水素、ニトロ、低級アル
カノイル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルカノ
イルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ又はN−低級アル
キル−N−低級アルカノイルアミノ、カルボキシ、低級
アルコキシカルボニル、カルバモイル、シアノ、ヒドロ
キシ、低級アルコキシ、低級アルケニルオキシ、低級ア
ルキニルオキシ、低級アルキル、ポリハロ−低級アルキ
ル又はハロゲンであり、 R3 は水素又はヒドロキシであり、 R4 はカルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルボ
キシ−低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカル
ボニル−低級アルコキシカルボニル、低級アルカノイル
オキシ−低級アルコキシカルボニル;フェニル−低級ア
ルコキシカルボニル(これは未置換であるか又は低級ア
ルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンにより
および/又はトリフルオロメチルにより置換される);
カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ヒドロキシ
−低級アルキルカルバモイル、ジ−低級アルキルカルバ
モイル、ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカルバ
モイル、アミノ−低級アルキルアミノ−低級アルキルカ
ルバモイル、2−オキソイミダリジン−1−イル−低級
アルキルカルバモイル、アミノ−低級アルキルアミノ−
低級アルキレンカルバモイル、2−オキソイミダゾリジ
ン−1−イル−低級アルキレンカルバモイル、オキサ−
低級アルキレン−アミノ−低級アルキルカルバモイル;
未置換又はカルボキシ−又は低級アルコキシカルボニル
−置換シクロアルキルカルバモイル、シクロアルキル−
低級アルキルカルバモイル;フェニル−低級アルキルカ
ルバモイル(これは未置換である又は低級アルキル、低
級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又
はトリフルオロメチルにより置換される);N−フェニ
ル又はN−低級アルキル−N−フェニルカルバモイル
(これは未置換であるか又は低級アルキル、低級アルコ
キシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトロ、カルボキシ、低
級アルコキシカルボニル、フェニル、フェニルオキシに
よりおよび/又はトリフルオロメチルにより置換され
る);N−ヒドロキシカルバモイル、N−低級アルコキ
シカルバモイル、N−低級アルケニルオキシカルバモイ
ル;N−フェニル−低級アルコキシ−又はN−フェニル
−低級アルケニルオキシ−カルバモイル(これは未置換
であるか又は低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキ
シ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロメチルに
より置換される);ホスホノ、低級アルキルホスホノ、
ジ−低級アルキルホスホノ、トリ−低級アルキルホスホ
ノ又は5−テトラゾリルであり、そしてR5 は水素、低
級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル;フェニ
ル(これは未置換又は低級アルキル、低級アルコキシ、
ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロ
メチルにより置換されている);低級アルカノイル、カ
ルボキシ、低級アルコキシカルボニル;フェニル−低級
アルコキシカルボニル(これは未置換又は低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよ
び/又はトリフルオロメチルにより置換されている);
カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ジ−低級ア
ルキルカルバモイル;N−フェニル−又はN−低級アル
キル−N−フェニル−カルバモイル(これは未置換であ
るか又は低級アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロ
ゲン、ニトロ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニ
ル、フェニル、フェニルオキシによりおよび/又はトリ
フルオロメチルにより置換されている);シアノ、テト
ラゾリル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、低級
アルコキシ、低級アルケニルオキシ、低級アルキニルオ
キシ又はジヒドロキシ−低級アルキルである)の請求項
1記載の化合物又はその塩。 - 【請求項3】 式I(式中、A1 はC1 −C4 アルキリ
デン、例えばメチレン又は式>CH−A4 −R4 (I
a)の基であり、 A2 はC1 −C4 アルキリデン、例えばメチレン−又は
式>CH−A4 −R4(Ia)又は>C=0(Ib)の
基であり、 A3 は式>N−A6 −R5 (Id)の基であり、 A4 はC1 −C4 アルキレンであり、 A5 およびA6 は互いに独立にC1 −C4 −アルキレン
又直接結合であり、 n=0であり、 R1 およびR2 は互いに独立に水素、ニトロ、C1 −C
7 アルカノイル、アミノ、C1 −C7 −アルキルアミ
ノ、C1 −C7 アルカノイルアミノ、ジ−C1 −C4 −
アルキルアミノ、N−C1 −C4 アルキル−N−C1 −
C7 −アルカノイルアミノ、ヒドロキシ、カルボキシ、
C1 −C4 −アルコキシカルボニル、カルバモイル、シ
アノ、C1 −C4 アルコキシ、C2 −C4 −アルケニル
オキシ、C 2 −C4 アルキニルオキシ、C1 −C4 −ア
ルキル、トリフルオロメチル又はハロゲンであり、 R3 は水素又はヒドロキシであり、 R4 はカルボキシ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、
カルボキシ−C1 −C 4 アルコキシカルボニル、C1 −
C4 アルコキシカルボニル−C1 −C4 −アルコキシカ
ルボニル、C1 −C4 アルカノイルオキシ−C1 −C4
アルコキシカルボニル;フェニル−C1 −C4 アルコキ
シカルボニル(これは未置換又はC1 −C4 アルキル、
C1 −C4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりお
よび/又はトリフルオロメチルにより置換される);カ
ルバモイル、C1 −C4 アルキルカルバモイル、ヒドロ
キシ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、ジ−C1 −C
4−アルキルカルバモイル、ジ−C1 −C4 アルキルア
ミノ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、アミノ−C1
−C4 アルキルアミノ−C1 −C4 アルキルカルバモイ
ル、2−オキソイミダゾリジン−1−イル−C1 −C4
アルキルカルバモイル、アミノ−C1 −C4 アルキルア
ミノ−C1 −C4 −アルキレンカルバモイル、2−オキ
ソイミダゾリジン−1−イル−低級アルキレンカルバモ
イル、オキサ−C1 −C4 アルキレン−アミノ−C1 −
C4 アルキルカルバモイル、未置換又はカルボキシ−又
はC1 −C4 アルコキシカルボニル−置換シクロアルキ
ルカルバモイル、アダマンチルカルバモイル、シクロア
ルキル−C1 −C4 アルキルカルバモイル;フェニル−
C1 −C4 −アルキルカルバモイル(これは未置換又は
C1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、ヒドロキ
シ、ハロゲンによりおよび/又はトリフルオロメチルに
置換される);N−フェニル−又はN−C1 −C 4 アル
キル−N−フェニル−カルバモイル(これは未置換又は
C1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、ヒドロキ
シ、ハロゲン、ニトロ、カルボキシ、C1−C4 アルコ
キシカルボニル、フェニル、フェニルオキシによりおよ
び/又はトリフルオロメチルにより置換される);N−
ヒドロキシカルバモイル、N−C1−C4 アルコキシカ
ルバモイル;N−フェニル−C1 −C4 アルコキシカル
バモイル(これは未置換又はC1 −C4 アルキル、C1
−C4 アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンによりおよび
/又はトリフルオロメチルにより置換される);ホスホ
ノ、C1 −C7 −アルキルホスホノ、ジ−C1 −C7 ア
ルキルホスホノ、トリ−C1 −C7 アルキルホスホノ又
は5−テトラゾリルであり、 R5 は水素、C1 −C4 アルキル、例えばメチル、C2
−C4 アルケニル、例えばアリル、C2 −C4 アルキニ
ル、例えばプロパルギル;フェニル(これは未置換又は
C1 −C4 アルキル、例えばメチルC1 −C4 アルコキ
シ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、例えば塩
素によりおよび/又はトリフルオロメチルにより置換さ
れる);C1 −C4 アルカノイル、例えばアセチル、カ
ルボニル、C1 −C4 アルコキシカルボニル、例えばメ
トキシ−又はエトキシ−カルボニル、カルバモイル、C
1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばメチルカルバモ
イル、ジ−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばジ
メチルカルバモイル;N−フェニル−又はN−C1 −C
4 アルキル−N−フェニル−カルバモイル、例えばN−
メチル−N−フェニル−カルバモイル(これらは未置換
又はC1 −C4 アルキル、例えばメチル、C1 −C4 ア
ルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、例
えばフッ素又は塩素、ニトロ、カルボキシ、C1 −C4
アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル、フ
ェニル、フェニルオキシによりおよび/又はトリフルオ
ロメチルにより置換される);シアノ、テトラゾリル又
はジヒドロキシ−C2 −C4 アルキル、例えば2,3−
ジヒドロキシプロピルである)の請求項1記載の化合物
又はその塩。 - 【請求項4】 式I(式中、A1 は式>CH−A4 −R
4 (Ia)の基であり、 A2 はメチレンであり、A3 は>N−A5 −R4 (I
c)の基であり、 A4 はメチレンであり、nは0であり、A5 は直接結合
であり、 基R1 およびR2 の一方はC1 −C4 アルキル、例えば
メチル、35までの原子番号を有するハロゲン、例えば
塩素、フッ素又は臭素でありそして他方は水素、又はC
1 −C4 アルキル、例えばメチル、又は35までの原子
番号を有するハロゲン、例えば塩素、フッ素又は臭素で
あり、 R3 は水素であり、 R4 はカルボキシ、ホスホノ、C1 −C4 アルコキシカ
ルボニル、例えばメトキシカルボニル又はエトキシカル
ボニル、N−ヒドロキシカルバモイル、N−C 1 −C4
アルキルカルバモイル、例えばブチル−又は第三ブチル
−カルバモイル、N,N−ジ−C1 −C4 アルキルカル
バモイル、例えばジブチルカルバモイル、N−(カルボ
キシ−C1 −C4 −アルキル)カルバモイル、例えばカ
ルボキシメチルカルバモイル、N−(C1 −C4 アルコ
キシカルボニル−C1 −C4 アルキル)−カルバモイ
ル、例えばN−メトキシカルボニルメチルカルバモイル
又はN−エトキシカルボニルメチル−カルバモイル、N
−(ヒドロキシ−C2 −C4アルキル)カルバモイル、
例えば2−ヒドロキシエチルカルバモイル、N−C1−
C4 −アルコキシカルバモイル、例えばN−第三ブチル
オキシカルバモイル、又はN−フェニルカルバモイル、
N−(フェニル−C1 −C4 アルキル)カルバモイル、
例えばベンジルカルバモイル又は2−フェニルエチルカ
ルバモイル、又はN−(フェニル−C1 −C4 アルコキ
シ)カルボニル例えばN−ベンジルオキシカルバモイ
ル、基(これは未置換であるか又はC1 −C4 −アルキ
ル、例えばメチル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメト
キシ、35までの原子番号を有するハロゲン、例えば塩
素、トリフルオロメチル、ニトロ、カルボキシによりお
よび/又はC1 −C4 アルコキシカルボニル例えばメト
キシカルボニル又はエトキシカルボニルにより置換され
る)である)の請求項1記載の化合物又はその塩。 - 【請求項5】 次式I′: 【化2】 (式中、基R1 およびR2 の一方はC1 −C4 アルキ
ル、例えばメチル、35までの原子番号を有するハロゲ
ン、例えば塩素、フッ素又は臭素、又はニトロであり、
そして他方は水素又はC1 −C4 アルキル、例えばメチ
ル、又は35までの原子番号を有するハロゲン、例えば
塩素、フッ素又は臭素であり、 R3 は水素であり、そしてR4 はカルボキシ、C1 −C
4 アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル又
はエトキシカルボニル、N−ヒドロキシカルバモイル、
N−C1 −C4 アルキルカルバモイル、例えばブチル−
又は第三ブチル−カルバモイル、N,N−ジ−C1 −C
4 −アルキルカルバモイル、例えばジブチルカルバモイ
ル、N−(カルボキシ−C1 −C4 アルキル)カルバモ
イル、例えばカルボキシメチルカルバモイル、N−(C
1 −C4 アルコキシカルボニル−C1 −C4 アルキル)
カルバモイル、例えばN−メトキシカルボニルメチルカ
ルバモイル又はN−エトキシカルボニルメチルカルバモ
イル、N−(ヒドロキシ−C2 −C4 −アルキル)カル
バモイル、例えば2−ヒドロキシエチルカルバモイル、
N−C1 −C4 アルコキシカルバモイル、例えばN−第
三ブトキシカルバモイル、又はN−フェニルカルバモイ
ル、N−(フェニル−C1 −C4 アルキル)カルバモイ
ル、例えばベンジルカルバモイル又は2−フェニルエチ
ルカルバモイル、又はN−(フェニル−C1 −C4 アル
コキシ)カルバモイル、例えばN−ベンジルオキシカル
バモイル、基(これらは未置換であるか又はC1 −C4
アルキル、例えばメチル、C1 −C4 アルコキシ、例え
ばメトキシ、35までの原子番号を有するハロゲン、例
えば塩素、トリフルオロメチル、ニトロ、カルボキシに
よりおよび/又はC1 −C4 アルコキシカルボニル、例
えばメトキシカルボニル又はエトキシカルボニルにより
置換される)である)の請求項1記載の化合物又はその
塩。 - 【請求項6】 式I(式中、A1 は式>CH−A4 −R
4 (Ia)の基であり、 A2 はメチレンであり、 A3 は式>N−A6 −R5 (Ic)の基であり、 A4 はメチレンであり、 nは0であり、 A6 は直接結合であり、 R1 およびR2 は互いに独立に水素又は35までの原子
番号を有するハロゲン、例えば塩素であり、 R3 は水素であり、 R4 はカルボキシ、C1 −C4 アルコキシカルボニル、
例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニ
ル、ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボ
ニル、第二ブチルオキシカルボニル又は第三ブチルオキ
シカルボニル、又はN−フェニルカルバモイル基(これ
は未置換であるか又はC1 −C4 アルキル、例えばメチ
ル、C1 −C4 アルコキシ、例えばメトキシ、ヒドロキ
シ、35までの原子番号を有するハロゲン、例えば塩素
によりおよび/又はトリフルオロメチルにより置換され
る)であり、そしてR5 は水素である)の請求項1記載
の化合物又はその塩。 - 【請求項7】 8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸エ
チルエステル;8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸ベ
ンジルエステル;8,9−ジクロロ−2,4,5−トリ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸又
は8,9−ジクロロ−2,4,5−トリオキソ−2,
3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−フェニル−ア
セトアミド又は各々の場合におけるそれらの塩。 - 【請求項8】 8,9−ジメチル−2,4,5−トリオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸エ
チルエステル;8,9−ジメチル−2,4,5−トリオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸;
8,9−ジメチル−2,4,5−トリオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸−N−フェニル−ア
セトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メチルエ
ステル;8,9−ジメチル−4,5−ジオキソ−2,
3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メチルエステ
ル;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル酢酸メチルエステル;
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル酢酸メチルエステル;8−ブロモ−4,5−ジオキ
ソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,
3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メチル
エステル;8−トリフルオロメチル−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メチルエ
ステル;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,
3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸;8,9−ジメ
チル−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒド
ロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン
−3−イル酢酸;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオキ
ソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,
3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸;4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
酢酸;8−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6
−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ
−フェナレン−3−イル酢酸;8−トリフルオロメチル
−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−
1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3
−イル酢酸;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−フェニ
ル−アセトアミド;8,9−ジメチル−4,5−ジオキ
ソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,
3a,6−トリアザ−フェナレン−3−N−フェニル−
アセトアミド;8,9−ジフルオロ−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−N−フェニル−ア
セトアミド;4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テト
ラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェ
ナレン−3−N−フェニル−アセトアミド;8−ブロモ
−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−
1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3
−フェニル−アセトアミド;8−トリフルオロメチル−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
フェニル−アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N
−ベンジル−アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N−(2−フェニル−エチル)−アセトアミド;8,9
−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テト
ラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェ
ナレン−3−イル−N−(2−ヒドロキシ−エチル)−
アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−(エト
キシ−カルボニルメチル)−アセトアミド;8,9−ジ
クロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル−N−(カルボキシ−メチル)−アセトア
ミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N−(3−トリフルオ
ロ−メチルフェニル)−アセトアミド;8,9−ジクロ
ロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ
−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−
3−イル−N−(4−クロロ−フェニル)−アセトアミ
ド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N−(4−メチル−フ
ェニル)−アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N
−(4−メトキシ−フェニル)−アセトアミド;8,9
−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テト
ラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェ
ナレン−3−イル−N−(4−フェノキシ−フェニル)
−アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−(3−
ニトロ−フェニル)−アセトアミド;8,9−ジクロロ
−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−
1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3
−イル−N−(4−エトキシ−カルボニルフェニル)ア
セトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−(4−
トリフルオロ−メチルフェニル)−アセトアミド;8,
9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル−N−ベンジルオキシ−アセトアミ
ド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N−tert−ブチル
オキシ−アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−
(3−ビフェニル)−アセトアミド;8,9−ジクロロ
−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−
1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3
−イル−N−(3−フェノキシ−フェニル)−アセトア
ミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N,N−ジメチル−ア
セトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−
2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−ブチル
−アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−第三ブ
チル−アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N,
N−ジブチル−アセトアミド;8,9−ジクロロ−4,
5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,
4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル
−N−(アダマンタン−1−イル)アセトアミド;8,
9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル−N−メチル−アセトアミド;7,
8−ジクロロ−4−{2−オキソ−2−〔4−(2−オ
キソ−イミダゾリジン−1−イル)ピペリジン−1−イ
ル〕エチル}−5,6−ジヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−2,3−ジオン;8,
9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル−N−メチル−N−フェニル−アセ
トアミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,
3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−〔2−(2−
オキソイミダゾリジン−1−イル〕エチル〕−アセトア
ミド;8,9−ジクロロ−4,5−ジオキソ−2,3,
5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−ト
リアザ−フェナレン−3−イル−N−(2−モルホリノ
−エチル)−アセトアミド;9−プロピロニル−4,5
−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4
H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−
N−フェニル−アセトアミド;9−ニトロ−4,5−ジ
オキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メ
チルエステル;7−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,
3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6
−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸メチルエステ
ル;9−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−
テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−
フェナレン−3−イル酢酸;7−ニトロ−4,5−ジオ
キソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−
1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル酢酸;
9−ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テト
ラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェ
ナレン−3−イル−N−フェニル−アセトアミド;7−
ニトロ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒ
ドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレ
ン−3−イル−N−フェニル−アセトアミド;1−アリ
ル−8−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−
テトラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−
フェナレン−3−イル酢酸メチルエステル;1−アリル
−8−ブロモ−4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テ
トラヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリアザ−フ
ェナレン−3−イル酢酸;1−アリル−8−ブロモ−
4,5−ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1
H,4H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−
イル−N−フェニル−アセトアミド;8−ブロモ−1−
(2,3−ジヒドロキシプロピル)−4,5−ジオキソ
−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,4H−1,3
a,6−トリアザ−フェナレン−3−イル−N−フェニ
ル−アセトアミド;7,8−ジクロロ−4−ビニル−
5,6−ジヒドロ−1H,4H−1,3a,6−トリア
ザ−フェナレン−2,3−ジオン;7,8−ジクロロ−
1H,6H−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−
2,3,5−トリオン又は8,9−ジクロロ−4,5−
ジオキソ−2,3,5,6−テトラヒドロ−1H,6H
−1,3a,6−トリアザ−フェナレン−3−イルメタ
ン−ホスホン酸又は各々の場合のそれらの塩。 - 【請求項9】 請求項1〜8のいずれか1項に記載の化
合物又はその医薬として許容し得る塩並びに通常の医薬
賦形剤および担体を含んでなる医薬組成物。 - 【請求項10】 次式I: 【化3】 (式中、A1 は低級アルキリデン又は式>CH−A4 −
R4 (Ia)の基であり、 A2 は低級アルキリデン又は式>CH−A4 −R4 (I
a)又は>C=0(Ib)又は>CH(OH)−A5 −
R4 (Ic)の基であり、 A3 は式>N−A6 −R5 (Id)の基であり、 A4 は低級アルキレンであり、 A5 およびA6 は互いに独立に低級アルキレン又は直接
結合であり、 nは0又は1であり、 R1 およびR2 は互いに独立に水素、未置換又は低級ア
ルキル−および/又は低級アルカノイル−置換アミノ、
ニトロ、低級アルカノイル、遊離又はエーテル化ヒドロ
キシ、遊離又はエステル化カルボキシ、カルバモイル、
シアノ、未置換又はハロゲン化低級アルキル又はハロゲ
ンであり、 R3 は水素又はヒドロキシであり、 R4 は遊離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、遊
離又はエステル化ホスホノ又は5−テトラゾリルであ
り、そしてR5 は水素、低級アルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニル、アリール、低級アルカノイル、遊
離又はエステル化又はアミド化カルボキシ、シアノ、5
−テトラゾリル、遊離又はエーテル化又はエステル化ヒ
ドロキシ又はジヒドロキシ−低級アルキルである)で表
わされる新規アザ脂肪族架橋キノキサリン−2,3−ジ
オン又はその塩の製造方法であって、 次式II: 【化4】 (式中、X1 は式−A2 −(CH2 )n −A1 −Y
1 (IIa)又は−A2 −(CH2 )n −CH=A4 −R
4 (IIb)の基であり(ここでY1 は離核性脱離基であ
る))で表わされる化合物を分子内で環化させ、次いで
所望により得られた化合物を式Iの別種の化合物に変換
し、プロセスに従って得ることのできる異性体の混合物
を成分に分離し次いで好ましい異性体を単離し、および
/又はプロセスに従って得ることのできる遊離化合物を
塩に変換し又はプロセスに従って得ることのできる塩を
対応する遊離化合物に変換する、前記方法。 - 【請求項11】 NMDA−感受性レセプターのグリシ
ン−拮抗遮断に応答する病的症状の治療における、請求
項1〜8のいずれか1項に記載の化合物の使用。 - 【請求項12】 発作、低血糖、無酸素又は大脳麻すい
の症状から由来する神経変性疾患、大脳てんかん性発
作、心臓手術又は心臓停止における大脳虚血、周産期の
仮死、てんかん性発作、ハンチントン舞踏病、アルツハ
イマー損傷およびパーキンソン病、筋萎縮性測素硬化
症、脊椎および大脳損傷および神経毒又は薬物乱用によ
る中毒症状および眼、血管および筋痙縮の虚血性疾患、
片頭痛又は局所もしくは全体的痙性、けいれん、てんか
ん、および不安および痛みおよび三叉神経痛の治療のた
めの請求項11記載の使用。
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