JPH0850206A - 光学補償シート、液晶表示装置及びカラー液晶表示装置 - Google Patents
光学補償シート、液晶表示装置及びカラー液晶表示装置Info
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- JPH0850206A JPH0850206A JP7157028A JP15702895A JPH0850206A JP H0850206 A JPH0850206 A JP H0850206A JP 7157028 A JP7157028 A JP 7157028A JP 15702895 A JP15702895 A JP 15702895A JP H0850206 A JPH0850206 A JP H0850206A
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Abstract
した光学補償シート、液晶表示装置及びカラー液晶表示
装置を提供する。 【構成】 透明支持体及びその上に設けられた光学異方
層からなる光学補償シートであって、該光学異方層が、
ディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の
複屈折を有する層であり、そして該ディスコティック構
造単位の円盤面が、透明支持体面に対して傾いており、
且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体
面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化
していることを特徴とする光学補償シート、該シートを
有する液晶表示装置及びカラー液晶表示装置。
Description
光学補償シートを有する液晶表示装置及びカラーの液晶
表示装置に関する。
ーおよびワードプロセッサー等のOA機器の表示装置と
しては、CRT(cathode ray tube)がこれまで主に使
用されてきた。最近、液晶表示装置(以下LCDと称
す)が、薄型で、軽量、また消費電力が小さいことから
CRTの代わりに広く使用されている。LCDは、一般
に液晶セルとその両側に設けられた一対の偏光板からな
る。このようなLCDの多くはねじれネマチック液晶が
用いられている。
旋光モードに分けることができる。複屈折モードを利用
する超ねじれ(スーパーツィスティッド)ネマチック液
晶表示装置(以下STN−LCDと称す)は、90度を
超えるねじれ角及び急峻な電気光学特性を有するスーパ
ーツィスティッドネマチック液晶を用いている。このた
め、このようなSTN−LCDは、時分割駆動による大
容量の表示が可能である。しかしながら、STN−LC
Dは、応答速度が遅い(数百ミリ秒)、階調表示が困難
との問題があることから、能動素子を使用した液晶表示
装置(例、TFT−LCD及びMIM−LCD)の表示
特性に比べて劣っている。TFT−LCD及びMIM−
LCDにおいては、90度のねじれ角および正の複屈折
を有するねじれネマティック液晶が、画像を表示するた
めに使用されている。TN−LCDの表示モードでは、
高速応答性(数十ミリ秒)及び高いコントラストが得ら
れる。従って、旋光モードは、複屈折モードや他のモー
ドに比べて多くの点で有利である。しかしながら、TN
−LCDは、表示色や表示コントラストが液晶表示装置
を見る時の角度によって変化するため(視野角特性)、
その表示特性はCRTのレベルには至っていない。
野角の拡大)、一対の偏光板と液晶セルとの間に位相差
板(光学補償シート)を設けるとの提案が、特開平4−
229828号公報及び特開平4−258923号公報
に記載されている。上記公報で提案されている位相差板
は、液晶セルに対して垂直方向の位相差はほぼ0である
ため真正面からは何ら光学的作用を与えないが、傾けた
時に位相差が発現し、これで液晶セルで発生する位相差
を補償するものである。この位相差が、表示画像の着色
や消失等の好ましくない視野角特性をもたらしている。
このような光学補償シートとしては、ネマチック液晶の
正の複屈折を補償するように負の複屈折を有し、かつ光
軸が傾いているシートが有効である。
76304A1には、負の複屈折を有し、かつ光軸が傾
いてい光学補償シートが開示されている。即ち、上記シ
ートは、ポリカーボネートやポリエステル等のポリマー
を延伸することにより製造され、そしてシートの法線か
ら傾いた主屈折率の方向を持つ。延伸処理により上記シ
ートを製造するには、極めて複雑な延伸処理が必要とさ
れるため、大面積の光学補償シートを開示されている方
法で製造することは極めて困難である。
いる。例えば、特開平3−9326号公報及び特開平3
−291601号公報には、液晶性を有するポリマーを
支持フィルム上の配向膜表面に塗布することにより得ら
れる光学補償シートが開示されている。しかしながら、
液晶性を有するポリマーは、配向膜上で充分な配向を示
さないため、全ての方向において視野角をほとんど拡大
することができない。また特開平5−215921号公
報には、支持体と液晶性及び正の複屈折を有する重合性
棒状化合物からなる光学補償シート(複屈折板)が開示
されている。この光学補償シートは、重合性棒状化合物
の溶液を支持体に塗布、加熱硬化することにより得られ
る。しかしながら、この液晶性を有するポリマーは、複
屈折を持たないため、全方向視野角をほとんど拡大する
ことができない。
に製造することができかつ視野角が拡大した光学補償シ
ートを提供することにある。また、本発明の目的は、容
易に製造することができ、そして負の負屈折を有しかつ
シートの法線から傾斜した方向にレターデーションの最
小値を有する光学補償シートを提供することにある。さ
らに、本発明の目的は、視野角が拡大し、そして視角変
化による、コントラスト低下、階調または黒白反転、お
よび色相変化等がほとんど発生することのない光学補償
シートを有する液晶表示装置を提供することにある。さ
らに、本発明の目的は、視野角が拡大し、そして視角変
化による、コントラスト低下、階調または黒白反転、お
よび色相変化等がほとんど発生することのない光学補償
シートを有するカラー液晶表示装置を提供することにあ
る。
びその上に設けられた光学異方層からなる光学補償シー
トであって、該光学異方層は、ディスコティック構造単
位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であ
り、そして該ディスコティック構造単位の円盤面(以
下、単に「面」とも言う)が、透明支持体面に対して傾
いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と
透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向に
おいて変化していることを特徴とする光学補償シートに
ある。
のとおりである。 1)該角度が、光学異方層の深さ方向において光学異方
層の底面からの距離の増加と共に増加している上記光学
補償シート。 2)該角度が、5〜85度の範囲で変化する上記光学補
償シート。 3)該角度の最小値が、0〜85度の範囲(好ましくは
5〜40度)にあり、その最大値が5〜90度の範囲
(好ましくは30〜85度)にある上記光学補償シー
ト。 4)該角度の最小値と最大値との差が、5〜70度の範
囲(好ましくは10〜60度)にある上記光学補償シー
ト。 5)該角度が、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層
の底面からの距離の増加と共に連続的に変化(好ましく
は増加)している上記光学補償シート。 6)光学異方層が、さらにセルロースエステルを含んで
いる上記光学補償シート。 7)光学異方層が、さらにセルロースアセテートブチレ
ートを含んでいる上記光学補償シート。 8)光学異方層のヘイズが、5.0以下である上記光学
補償シート。 9)光学異方層が、モノドメインまたは0.1μm以下
のサイズの多数のドメインを形成している上記光学補償
シート。 10)透明支持体が、光学的に負の一軸性を有し、かつ
該透明支持体面の法線方向に光軸を有し、さらに下記の
条件: 20≦{(nx+ny)/2−nz}×d≦400 (但し、nx及びnyは支持体の面内の主屈折率を表わ
し、nzは厚み方向の主屈折率を表わし、dは、支持体
の厚さを表わし、そして上記式の単位はnmである)を
満足する上記光学補償シート。 11)光学異方層と透明支持体との間に、配向膜(好ま
しくはポリマーの硬化膜)が形成されている上記光学補
償シート。 12)光学異方層と配向膜との間に、下塗層が形成され
ている上記10)の光学補償シート。 13)光学異方層上に、保護層が形成されている上記の
光学補償シート。 14)光学異方層が、光学補償シートの法線方向から傾
いた方向に、0以外のレターデーションの絶対値の最小
値を有する上記光学補償シート。 15)透明支持体が、80%以上の光透過率を有しかつ
その光軸を支持体の法線方向に有する上記光学補償シー
ト。 16)該配向膜が、ラビング処理されたポリマー層であ
る上記11)光学補償シート。 17)該配向膜が、無機化合物を斜め蒸着することによ
り得られる蒸着膜である上記11)光学補償シート。
板と、その基板間に封入されたねじれ配向したネマチッ
ク液晶とからなる液晶セル、液晶セルの両側に設けられ
た一対の配向板、及び液晶セルと配向板との間に設けら
れた光学補償シートからなる液晶表示装置において、該
光学補償シートが、透明支持体およびその上に設けられ
た光学異方層からなり、そして該光学異方層は、ディス
クティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折
を有する層であり、さらに該ディスコティック構造単位
の円盤面と、透明支持体面に対して傾いており、かつ該
ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面との
なす角度が、光学異方層の深さ方向において変化してい
ることを特徴とする液晶表示装置にもある。
とおりである。 1)該角度が、光学異方層の深さ方向において光学異方
層の底面からの距離の増加と共に増加している上記液晶
表示装置。 2)該角度が、5〜85度の範囲で変化する上記液晶表
示装置。 3)該角度の最小値が、0〜85度の範囲(好ましくは
5〜40度)にあり、その最大値が5〜90度の範囲
(好ましくは30〜85度)にある上記液晶表示装置。 4)光学異方層が、さらにセルロースエステル(好まし
くはセルロースアセテートブチレート)を含んでいる上
記液晶表示装置。 5)光学異方層と透明支持体との間に、配向膜が形成さ
れている上記液晶表示装置。 6)光学異方層が、光学補償シートの法線方向から傾い
た方向に、0以外のレターデーションの絶対値の最小値
を有する上記液晶表示装置。 7)液晶セルの基板が、一方向にラビング処理された配
向表面を有し、かつ光学補償シートが、そのレターデー
ションの最小値の方向を液晶セル上に正投影した時の方
向と、該光学補償シートに近い液晶セルの基板表面のラ
ビング方向とのなす角が90〜270度となるように液
晶セル上に配置されている上記6)の液晶表示装置。 8)1枚又は2枚の光学補償シートが、液晶セルの一方
の側に設けられているか、あるいは2枚が液晶セルの両
側に設けられているの液晶表示装置。
びカラーフィルタを有する一対の基板と、その基板間に
封入されたねじれ配向したネマチック液晶とからなる液
晶セル、液晶セルの両側に設けられた一対の配向板、及
び液晶セルと配向板との間に設けられた光学補償シート
からなるカラー液晶表示装置において、該光学補償シー
トが、透明支持体及びその上に設けられた光学異方層か
らなり、そして該光学異方層は、ディスクティック構造
単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であ
り、さらに該ディスコティック構造単位の円盤面が、透
明支持体面に対して傾いており、かつ該ディスコティッ
ク構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光
学異方層の深さ方向において変化していることを特徴と
するカラー液晶表示装置にもある。
下記のとおりである。 1)該角度が、光学異方層の深さ方向において光学異方
層の底面からの距離の増加と共に増加している上記カラ
ー液晶表示装置。 2)該角度が、5〜85度の範囲で変化する上記カラー
液晶表示装置。 3)該角度の最小値が、0〜85度の範囲(好ましくは
5〜40度)にあり、その最大値が5〜90度の範囲
(好ましくは30〜85度)にある上記カラー液晶表示
装置。 4)光学異方層が、さらにセルロースエステル(好まし
くはセルロースアセテートブチレート)を含んでいる上
記カラー液晶表示装置。 5)光学異方層と透明支持体との間に、配向膜が形成さ
れている上記カラー液晶表示装置。 6)一対の基板の一方が、(透明)画素電極を有し、そ
してもう一方の基板が、対向透明電極とカラーフィルタ
を有する上記カラー液晶表示装置。 7)(透明)画素電極が、非線形能動素子としてTFT
(thin-film-transistor)またはMIM(metal-insulator
-metal) を有する上記6)のカラー液晶表示装置。 8)一対の偏光板の二個の吸収軸が、互いに直角の関係
にある、ノーマリーホワイトモードで使用される上記カ
ラー液晶表示装置。 9)一対の偏光板の二個の吸収軸が、互いに平行の関係
にある、ノーマリーブラックモードで使用される上記カ
ラー液晶表示装置。 10)光学異方層が、光学補償シートの法線方向から傾
いた方向に、0以外のレターデーションの絶対値の最小
値を有する上記カラー液晶表示装置。 11)液晶セルの基板が、一方向にラビング処理された
配向表面を有し、かつ光学補償シートが、そのレターデ
ーションの最小値の方向を液晶セル上に正投影した時の
方向と、該光学補償シートに近い液晶セルの基板表面の
ラビング方向とのなす角が90〜270度となるように
液晶セル上に配置されている上記10)の液晶表示装
置。
びその上に設けられた光学異方層からなる光学補償シー
トであって、光学異方層は、ディスクティック構造単位
を有する化合物からなる負の複屈折を有する層である。
ディスクティック構造単位を有する化合物の例として
は、モノマー等の低分子量のディスコティック液晶性化
合物または重合性ディスコティック液晶性化合物の重合
により得られるポリマーを挙げることができる。ディス
コティック化合物は、一般に、ディスコティック液晶相
(即ち、ディスコティックネマチック相)を有する化合
物とディスコティック液晶相を持たない化合物に大別す
ることができる。ディスコティック化合物は一般に負の
複屈折を有する。本発明は、ディスコティック化合物の
負の複屈折性を利用し、そしてディスコティック構造単
位を、該ディスコティック構造単位の面(円盤面)と透
明支持体面との角度が光学異方層の深さ方向に変化する
ように傾けて配置することにより達成したものである。
びその上に設けられたディスクティック構造単位を有す
る化合物からなる光学異方層からなり、さらに配向膜を
透明支持体と光学異方層を設けることが好ましい。配向
膜は、光学異方層を複数設ける場合は、光学異方層上に
設けても良い。また下塗層(接着層)を透明基板と配向
膜との間に設けることが好ましい。保護層を光学異方層
上と基板の裏面に設けても良い。
であるかぎりどのような材料でも使用することができ
る。光透過率が80%以上を有する材料が好ましく、特
に正面から見た時に光学的等方性を有するものが好まし
い。従って、透明支持体は、小さい固有複屈折を有する
材料から製造することが好ましい。このような材料とし
ては、ゼオネックス(日本ゼオン(株)製)、ARTO
N(日本合成ゴム(株)製)及びフジタック(富士写真
フイルム(株)製)などの市販品を使用することができ
る。さらに、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリ
スルフォン及びポリエーテルスルホンなどの固有複屈折
率の大きい素材であっても、溶液流延、溶融押し出し等
の条件、さらには縦、横方向に延伸状検討を適宜設定す
ることにより、得ることができる。
nx、ny、厚み方向の主屈折率をnz、フイルムの厚
さをdとしたとき、三軸の主屈折率の関係がnz<ny
=nx(負の一軸性)を満足し、式{(nx+ny)/
2−nz}×dで表されるレタデーションが、20nm
から400nm(好ましくは30〜150nm)である
ことが好ましい。但し、nxとnyの値は厳密に等しい
必要はなく、ほぼ等しければ充分である。具体的には、
|nx−ny|/|nx−nz|≦0.2であれば実用
上問題はない。|nx−ny|×dで表される正面レタ
ーデーションは、50nm以下であることが好ましく、
20nm以下であることがさらに好ましい。上記のn
x、ny、nz及びdの関係を図1に示す。
配向膜との接着強度を増大させるためいに設けることが
好ましい。下塗層の形成は、一般に表面処理した透明支
持体の表面に塗布により形成する。表面処理としては、
化学処理、機械処理、コロナ放電処理、火焔処理、UV
処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処
理、及びオゾン酸化処理を挙げることができる。グロー
放電処理が好ましい。下塗層の構成としても種々の工夫
が行われており、第1層として高分子フィルムによく密
着する層(以下、下塗第1層と略す)を設け、その上に
第2層として配向膜とよく密着する親水性の樹脂層(以
下、下塗第2層と略す)を塗布する所謂重層法と、疎水
性基と親水性基との両方を含有する樹脂層を一層のみ塗
布する単層法とがある。
化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中
から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体;ポリエ
チレンイミン;エポキシ樹脂;グラフト化ゼラチン;ニ
トロセルロース;ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロ
ピレン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−
エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、
塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化イソブチレン共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニ
ル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニ
ル−スチレン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル
−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合
体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビ
ニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレ
イン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エ
ステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、内部可塑化ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−メ
タクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン−アクリ
ロニトリル共重合体、塩化ビニリデンーアクリル酸エス
テル共重合体、クロロエチルビニルエーテル−アクリル
酸エステル共重合体及びポリクロロプレンなどの含ハロ
ゲン合成樹脂;ポリエチレン、ポリプロピエン、ポリブ
テン、ポリ−3−メチルブテン及びポリ−1,2−ブタ
ジエンなどのα−オレフィン共重合体;エチレン−プロ
ピレン共重合体、エチレン−ビニルエーテル共重合体、
エチレン−プロピレン−1,4−ヘキサジエン共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ブテン−1−プロ
ビレン共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合
体、およびこれらの共重合体とハロゲン含有樹脂とのブ
レンド物;アクリル酸メチルエステル−アクリロニトリ
ル共重合体、アクリル酸エチルエステル−スチレン共重
合体、メタクリル酸メチルエステル−アクリロニトリル
共重合体、ポリメタクリル酸メチルエステル、メタクリ
ル酸メチルエステル−スチレン共重合体、メチクリル酸
ブチルエステル−スチレン共重合体、ポリアクリル酸メ
チル、ポリ−α−クロルアクリル酸メチル、ポリアクリ
ル酸メトキシエチルエステル、ポリアクリル酸グリシジ
ルエステル、ポリアクリル酸ブチルエステル、ポリアク
リル酸メチルエステル、ポリアクリル酸エチルエステ
ル、アクリル酸−アクリル酸ブチル共重合体、アクリル
酸エステル−ブタジエン−スチレン共重合体及びメタク
ルル酸エステル−ブタジエン−スチレン共重合体などの
アクリル樹脂;ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレ
ン、スチレン−フマル酸ジメチル共重合体、スチレン−
無水マレイン酸共重合体、スチレン−ブタジエン共重合
体、スチレン−アクリロニトリル共重合及びスチレン−
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体等のスチレン系
樹脂;ポリ−2,6−ジメチルフェニレンオキサイド;
ポリビニルカルバゾール;ポリ−p−キシリレン;ポリ
ビニルホルマール;ポリビニルアセタール;ポリビニル
ブチラール;ポリビニルフタレート;3酢酸セルロー
ス;酪酸セルロース;酪酢酸セルロース;セルロースフ
タレート;ナイロン6;ナイロン66;ナイロン12;
メトキシメチル−6−ナイロン;ナイロン−6,10−
ポリカプラミド;ポリ−N−ブチル−ナイロン−6−ポ
リエチレンセバケート;ポリブチレングルタレート;ポ
リヘキサメチレンアジペート;ポリブチレンイソフタレ
ート;ポリエチレンテレフタレート;ポリエチレンアジ
ペート;ポリエチレンアジペートテレフタレート;ポリ
エチレン−2,6−ナフタレート;ポリジエチレングリ
コールテレフタレート;ポリエチレンオキシベンゾエー
ト;ビスフェノールA−イソフタレート;ポリアクリロ
ニトリル;ビスフェノールA−アジペート;ポリヘキサ
メチレン−m−ベンゼンジスルホンアミド;ポリテトラ
メチレンヘキサメチレンカーボネート;ポリジメチルシ
ロキサン;ポリエチレンメチレンビス−4−フェニレン
カボーネート;及びビスフェノールA−ポリカーボネー
ト等のを挙げることができる。これらのオリゴマーもし
くはポリマーについてはE.H.Immergut”P
olymer Handbook”、IV、187−2
31、Intersciense Pub.New Y
ork、1966に詳しく記載されている。下塗第2層
での材料としては、ゼラチンを挙げることができる。
させ、親水性下塗ポリマーと界面混合させることによっ
て良好な密着性が得られるように下塗層が形成される。
本発明に使用する親水性下塗ポリマーとしては、水溶性
ポリマー、セルロースエステル、ラテックスポリマー、
水溶性ポリエステルなどを使用することができる。水溶
性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、カゼ
イン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニ−
ルアルコール、ポリアクリル酸共重合体及び無水マレイ
ン酸共重合体などを挙げることができ、セルロースエス
テルとしては、カルボキシメチルセルロース及びヒドロ
キシエチルセルロースを挙げることができる。ラテック
スポリマーとしては、塩化ビニル含有共重合体、塩化ビ
ニリデン含有共重合体、アクリル酸エステル含有共重合
体、酢酸ビニル含有共重合体及びブタジエン含有共重合
体を挙げることができる。この中でも最も好ましいのは
ゼラチンである。ゼラチンとしては、いわゆる石灰処理
ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラチン、ゼラチ
ン誘導体及び変性ゼラチンなどの、一般に用いられてい
るものを使用することができる。これらのゼラチンのう
ち、最も好ましく用いられるのは石灰処理ゼラチン、酸
処理ゼラチンである。こらのゼラチンは、その作製工程
における種々の不純物、例えば0.11〜20000p
pmの金属類(Na,K,Li,Rb,Ca,Mg,B
a,Ce,Fe,Sn,Pb,Al,Si,Ti,A
u,Ag,Zn,Niなどの金属、及びそのイオンな
ど)、イオン(F- ,Cl- ,Br- ,I- ,硫酸イオ
ン、硝酸イオン、酢酸イオン、アンモニウムイオンな
ど)を含有していてもよい。特に石灰処理ゼラチンにお
いては、CaやMgのイオンを含有するのが一般的であ
り、その含有量は10〜3000ppmが一般的であ
り、下塗の塗布性能の点から1000ppm以下が好ま
しく、更に好ましくは500ppm以下である。
具体例を下記に挙げる。
じて各種の添加剤を含有させることができる。例えば界
面活性剤、耐電防止剤、顔料、塗布助剤等を挙げること
ができる。また本発明の下塗層には、公知の種々のゼラ
チン硬化剤を用いることができる。ゼラチン硬化剤とし
ては、クロム塩(クロム明ばんなど)、アルデヒド類
(ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒドなど)、イ
ソシアネート類、エピクロルヒドリン樹脂及びポリアマ
イド−エピクロルヒドリン樹脂、シアヌルクロリド系化
合物、ビニルスルホンあるいはスルホニル系化合物、カ
ルバモイルアンモニウム塩系化合物、アミジニウム塩系
化合物、カルボジイミド化合物及びピリジニウム塩系化
合物などを挙げることができる。
なわない程度に無機または、有機の微粒子をマット剤と
して含有させることができる。無機微粒子のマット剤と
しては、シリカ(SiO2 )、二酸化チタン(TiO
2 )、炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウムなどを使用
することができる。有機の微粒子マット剤としては、ポ
リメチルメタクリレート、セルロースアセテートプロピ
オネート、ポリスチレン及び米国特許第4142894
号に記載されているポリマーなどを用いることができ
る。これらの微粒子マット剤の平均粒径は0.01〜1
0μmのものが好ましい。より好ましくは、0.05〜
5μmである。また、その含有量は、0.5〜600m
g/m2 が好ましく、更に1〜400mg/m2 が好ま
しい。
塗層上に設けられる。配向膜は、その上に設けられる液
晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するよう
に機能する。そしてこの配向が、光学補償シートから傾
いた光軸を与える。配向膜は、光学異方層に配向性を付
与できるものであれば、どのような層でも良い。配向膜
の好ましい例としては、有機化合物(好ましくはポリマ
ー)のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着
層、及びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリ
コサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライ
ド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェ
ット法(LB膜)により形成される累積膜、あるいは電
場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙
げることができる。
メチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重
合体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニル
アルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、
スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共
重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、
ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及び
シランカップリング剤等の化合物を挙げることができ
る。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリ
スチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリ
ビルアルコール及びアルキル基(炭素原子数6以上が好
ましい)を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙
げることができる。これらのポリマーの層を配向処理す
ることにより得られる配向膜は、液晶性ディスコティッ
ク化合物を斜めに配向させることができる。
ルは特に好ましく、液晶性ディスコティック化合物を均
一に配向させる能力に優れている。これは配向膜表面の
アルキル鎖とディスコティック液晶のアルキル側鎖との
強い相互作用のためと推察される。また、アルキル基
は、炭素原子数6〜14が好ましく、更に、−S−、-
(CH3)C(CN)-または-(C2H5)N-CS-S-を介してポリビニル
アルコールに結合していることが好ましい。上記アルキ
ル変性ポリビニルアルコールは、未端にアルキル基を有
するものであり、けん化度80%以上、重合度200以
上が好ましい。また、上記側鎖にアルキル基を有するポ
リビニルアルコールは、クラレ(株)製のMP103、
MP203、R1130などの市販品を利用することが
できる。
ているポリイミド膜(好ましくはフッ素原子含有ポリイ
ミド)も有機配向膜として好ましい。これはポリアミッ
ク酸(例えば、日立化成(株)製のLQ/LXシリー
ズ、日産化学(株)製のSEシリーズ等)を支持体面に
塗布し、100〜300℃で0.5〜1時間焼成した
後、ラビングすることにより得られる。更に、本発明の
配向膜は、上記ポリマーに反応性基を導入することによ
り、あるいは上記ポリマーをイソシアネート化合物及び
エポキシ化合物などの架橋剤と共に使用して、これらの
ポリマーを硬化させることにより得られる硬化膜である
ことが好ましい。
配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用
することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガー
ゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊
維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方
法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが
均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度
ラビングを行うことにより実施される。
は、SiOを代表とし、TiO2 、ZnO2 等の金属酸
化物、あるいやMgF2 等のフッ化物、さらにAu、A
l、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電
率のものであれば斜方蒸着物質として用いることがで
き、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜
は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム
(支持体)を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィル
ムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸
着膜を形成することができる。
る方法として、支持体上の光学異方層をディスコティッ
ク液晶層を形成し得る温度に加熱しながら、電場あるい
は磁場を付与する方法を挙げることができる。
配向膜上に形成される。本発明の光学異方層は、ディス
クティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折
を有する層である。即ち、光学異方層は、モノマー等の
低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層または重
合性の液晶性ディスコティック化合物の重合(硬化)に
より得られるポリマーの層である。本発明のディスクテ
ィック(円盤状)化合物の例としては、C.Destr
adeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、1
11頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導
体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cr
yst.122巻、141頁(1985年)、Phys
ics lett,A,78巻、82頁(1990)に
記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの
研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1
984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.
M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commu
n.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの
研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2
655頁(1994年)に記載されているアザクラウン
系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げる
ことができる。上記ディスクティック(円盤状)化合物
は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアル
キル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がそ
の直鎖として放射線状に置換された構造であり、液晶性
を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるもの
が含まれる。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一
定の配向を付与できるものであれば上記記載に限定され
るものではない。また、本発明において、円盤状化合物
から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物であ
る必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティツク液
晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、
光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶
性を失ったものも含まれる。
を下記に示す。
に、透明支持体上に配向膜を設け、次いで配向膜上に光
学異方層を形成することにより作製されることが好まし
い。
構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層
であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透
明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構造
単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の
深さ方向に変化している。
(傾斜角)は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光
学異方層の底面からの距離の増加と共に増加または減少
している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加するこ
とが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続的増
加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加
と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠
的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方
向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜
角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加
または減少していることが好ましい。更に、傾斜角は全
体として増加していることが好ましく、特に連続的に変
化することが好ましい。
を、模式的に図2に示す。光学異方層23は、透明支持
体21上に形成された配向膜22上に設けられている。
光学異方層23を構成する液晶性ディスコティック化合
物23a、23b、23cは、ディスコティック構造単
位Pa、Pb、Pcが透明支持体21の面に平行な面2
1a、21b、21cから傾斜し、そしてそれらの傾斜
角θa、θb、θc(ディスコティック構造単位の面と
透明支持体の面とのなす角)が、光学異方層の底面から
の深さ(厚さ)方向の距離の増加と共に、順に増加して
いる。24は透明支持体の法線を表わす。上記液晶性デ
ィスコティック化合物は平面分子であり、それ故分子中
にはただ一個の平面、即ち円盤面(例、21a、21
b、21c)を持つ。
(特に10〜80度の範囲)で変化していることが好ま
しい。上記傾斜角の最小値は、0〜85度の範囲(特に
5〜40度)にあり、またその最大値が5〜90度の範
囲(特に30〜85度)にあることが好ましい。図2に
おいて、支持体側のディスコティック構造単位の傾斜角
(例、θa)が、ほぼ最小値に対応し、そしてディスコ
ティック構造単位の傾斜角(例、θc)が、ほぼ最大値
に対応している。さらに、傾斜角の最小値と最大値との
差が、5〜70度の範囲(特に10〜60度)にあるこ
とが好ましい。
ク化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜
上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチッ
ク相形成温度まで加熱し、その後配向状態(ディスコテ
ィックネマチック相)を維持して冷却することにより得
られる。あるいは、上記光学異方層は、ディスコティッ
ク化合物及び他の化合物(更に、例えば重合性モノマ
ー、光重合開始剤)を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に
塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相
形成温度まで加熱したのち重合させ(UV光の照射等に
より)、さらに冷却することにより得られる。本発明に
用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティッ
クネマティック液晶相−固相転移温度としては、70〜
300℃が好ましく、特に70〜170℃が好ましい。
の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配
向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理
方法の選択することにより、調整することができる。ま
た、表面側(空気側)のディスコティック単位の傾斜角
は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコテ
ィック化合物とともに使用する他の化合物(例、可塑
剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー)を選択
することにより調整することができる。更に、傾斜角の
変化の程度も上記選択により調整することができる。
ーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、
液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えら
れるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化
合物も使用することができる。これらの中で、重合性モ
ノマー(例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル
基及びメタクリロイル基を有する化合物)が好ましい。
上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に
1〜50重量%(好ましくは5〜30重量%)の量にて
使用される。
化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物
に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマー
でも使用することができる。ポリマー例としては、セル
ロースエステルを挙げることができる。セルロースエス
テルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピ
ルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙
げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコテ
ィック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティ
ック化合物に対して一般に0.1〜10重量%(好まし
くは0.1〜8重量%、特に0.1〜5重量%)の量に
て使用される。セルロースアセテートブチレート(酢酸
酪酸セルロース)のブチリル化度は、30%以上、特に
30〜80%の範囲が好ましい。またアセチル化度は3
0%以上、特に30〜80%の範囲が好ましい。セルロ
ースアセテートブチレートの粘度(ASTM D−81
7−72に従う測定により得られる値)は、0.01〜
20秒の範囲が好ましい。
る光学異方層(光学補償シート)を備えた(カラー)液
晶表示装置は、極めて拡大された視野角を有し、そして
白黒画像の反転、あるいは表示画像の諧調あるいは着色
の発生がほとんどないものである。
おいて、より高度に視野角が拡大した理由については以
下のように推定される。例えば、本発明のカラー液晶表
示装置において、偏光子と検光子の透過軸がほぼ直交し
ているノーマリーホワイトのモード(TN−LCDで広
く採用されているモード)では、黒表示状態にある部分
は液晶に電圧が印加されている状態であり、視角を大き
くするのに伴って、この黒表示部からの光の透過率が著
しく増大し、コントラストの急激な低下を招いている。
この黒表示状態(電圧印加時)においては、TN液晶セ
ル内部の液晶分子は、図3に示すように配列している。
基板表面近傍に存在するTN液晶分子33は、基板31
aの表面とほぼ平行に存在しており、そしてTN液晶分
子33は、基板31aの表面から離れるに従って徐々に
傾いて、表面と垂直になる。更に基板31aの表面から
離れるに従って、TN液晶分子33は、反対方向に徐々
に傾いて、最後には基板31bの表面とほぼ平行とな
る。従って、黒表示におけるTN−LCDの液晶セル
は、セル表面から徐々に傾く光軸(Reが最小値を示す
方向)を有する二個の正の光学異方体とセル表面の法線
に平行な光軸を有する二個の正の光学異方体との積層体
とみなすことができる。このため、本発明の光学異方層
のディスコティック構造単位面の傾斜角の変化及び負の
複屈折により、電圧印加時のTN液晶セル内部の液晶分
子の傾斜等により発生する位相差を補償することができ
る。従って、変化する傾斜角を有する光学異方層(光学
補償シート)を備えたカラー液晶表示装置は、視角を大
きくして表示装置を斜めから見た場合でも、白黒画像の
反転、あるいは表示画像の諧調あるいは着色の発生がほ
とんどないものである。
%以下である。従って、上記光学異方層を有する光学補
償シートも、透明支持体のヘイズが低いことから、一般
に5.0%以下を有する。上記ヘイズは、ASTN−D
1003−52に従って測定される。光学異方層のヘイ
ズが高いと、黒表示部において散乱によると思われる光
洩れが起こり、結果としてコントラストが低下する。こ
の傾向は、入射光が法線方向および画像の上方向に傾い
た場合に顕著である。したがって、これを防ぐために
は、上記ヘイズは5%以下が好ましく、さらに3%以下
が好ましく、特に1%以下であることが好ましい。一般
にヘイズは、表面が粗であること(細かな凹凸、キズ)
あるいは内部の不均一性(屈折率の異なる微少部分の存
在)に起因するのものであり、それを低くするために
は、光学補償シートの表面を平滑にし、内部の屈折率の
不均一性を小さくすることが必要となる。本発明の光学
補償シートは、平滑な表面及び均一な内部を有する光学
異方層が形成されているので、低いヘイズを有する。更
にヘイズを低下させるために、例えば、光学異方層の上
に保護層、または粘着層を形成すること、あるいは光学
異方層の形成条件を適当に選択することが好ましい。光
学補償シートまたは光学異方層の平滑な表面は、上記の
ようにして容易に得ることができる。
に制限はないが、製膜能の観点からポリマーが好まし
く、円盤状化合物を溶解しない溶剤に可溶であることが
好ましい。ポリマーの具体例としては、ゼラチン、メチ
ルセルロース、アルギン酸、ペクチンアラビアゴム、プ
ルラン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンゼンスルホン
酸ソーダ、カラギナン、ポリエチレングリコール等の水
溶性高分子を挙げることができる。上記粘着層を、上記
保護層の代わりに光学異方層上に設けることができる。
粘着層は、一般に光学補償シートを液晶表示装置に組み
込む際に形成される。粘着層の材料としては、特に制限
はなく、アクリル系、SBR系、シリコンゴム系等の透
明な接着剤、ないし粘着剤を用いることができる。構成
部材の光学特性の劣化防止の観点から、硬化や乾燥の際
に高温のプロセスを要しないものが好ましく、長時間の
硬化処理や乾燥時間を要しないものが好ましい。光学補
償シートの平滑な表面は、光学異方層の表面に粘着層ま
たは保護層形成用塗布液を平滑な表面を有するように塗
布することにより得ることができ、これによりヘイズを
低下させることができる。本発明では、生産性の観点か
ら保護層よりむしろ粘着層の塗設が好ましい。光学異方
層の形成条件は、ディスコティック化合物を含む組成
(ディスコティック化合物の組み合わせや、併用する他
の化合物の種類や量)により適宜選択される。その条件
としては、ディスコティックネマチック層を形成するた
めの加熱温度あるいは加熱時間、加熱後の冷却速度、層
厚そして塗布方法等を挙げることができる。また、円盤
状化合物は、該化合物の性質、塾成条件等により、複数
の異なるドメインを形成する場合があり、これが層内部
の不均一性に起因するヘイズとなる。このようなヘイズ
の低減には、円盤状化合物をモノドメインとする事、あ
るいは複数のドメインを形成しても、その1つ1つのド
メインサイズを0.1μm以下、好ましくは0.08μ
m以下とすることにより、可視光に影響を及ぼさなくす
ることができる。
法線方向から傾いた方向に、0以外のレターデーション
の絶対値の最小値を有する(光軸を持たない)。本発明
の光学異方層を含む光学補償シートの代表的な構成例を
図4に示す。図4において、透明支持体41、配向膜4
2そしてディスコティック化合物の層(光学異方層)4
3が、順に積層され、光学補償シートを構成している。
Rは配向膜のラビング方向を示す。n1 n2 及びn3
は、光学補償シートの三軸方向の屈折率を表わし、正面
から見た場合にn1 ≦n3 ≦n2 の関係を満足する。β
は、Re(レターデーション)の最小値を示す方向の光
学異方層の法線44からの傾きである。TN−LCD及
びTFT−LCDの視野角特性を改善するために、Re
の絶対値の最小値を示す方向が、光学異方層の法線44
から5〜50度(傾きの平均値)傾いていることが好ま
しく、更に10〜40度が好ましい(上記β)。更に、
上記シートは、下記の条件: 50≦[(n3 +n2 )/2−n1 ]×D≦400(n
m) (但し、Dはシートの厚さ)を満足することが好まし
く、更に下記の条件: 100≦[(n3 +n2 )/2−n1 ]×D≦400
(nm)
スコティック化合物及び前述の他の化合物を溶剤に溶解
することにより作製することができる。上記溶剤の例と
しては、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジ
メチルスルフォキシド(DMSO)及びピリジン等の極
性溶剤;ベンゼン及びヘキサン等の無極性溶剤;クロロ
ホルム及びジクロロメタン等のアルキルハライド類;酢
酸メチル及び酢酸ブチル等のエステル類;アセトン及び
メチルエチルケトン等のケトン類;及びテトラヒドロフ
ラン及び1,2−ジメトキシエタン等のエーテル類を挙
げることができる。アルキルハライド類及びケトン類が
好ましい。溶剤は単独でも、組合わせて使用しても良
い。
ーティング、押出コーティング、ロールコーティング、
ディップコーティング、スピンコーティング、印刷コー
ティング、スプレーコーティング及びスライドコーティ
ングを挙げることができる。本発明では、ディスコティ
ック化合物のみの混合物の場合は蒸着法も使用すること
ができる。本発明では、連続塗布が好ましい。従ってカ
ーテンコーティング、押出コーティング、ロールコーテ
ィング及びスライドコーティングが好ましい。上記光学
異方層は、前述したように、上記塗布溶液を配向膜上に
塗布し、乾燥し、次いでガラス転移温度以上に加熱し
(その後所望により硬化させ)、冷却することにより得
られる。
において、液晶セルによる複屈折を補償するものである
から、光学異方素子の波長分散は、液晶セルと等しいこ
とが好ましい。すなわち、光学異方素子の450、55
0μmの光によるレタデーションをそれぞれR450 、R
550 とすれば、波長分散を表すR450 /R550 値は、
1.0以上であることが好ましい。
5に示す。図5において、透明電極を備えた一対の基板
とその基板間に封入されたねじれ配向したネマチック液
晶とからなる液晶セルTNC、液晶セルの両側に設けら
れた一対の偏光板A、B、液晶セルと偏光板との間に配
置された光学補償シートRF1 、RF2 及びバックライ
トBLが、組み合わされて液晶表示装置を構成してい
る。光学補償シートは一方のみ配置しても良い(即ち、
RF1 またはRF2 )。R1 は光学補償シートRF1
の、正面から見た場合のラビング方向を示し、R2 は光
学補償シートRF2のラビング方向を示す。液晶セルT
NCの実線の矢印は、液晶セルの偏光板B側の基板のラ
ビング方向を表わし、液晶セルTNCの点線の矢印は、
液晶セルの偏光板A側の基板のラビング方向を表わす。
PA及びPBは、それぞれ偏光板A、Bの偏光軸を表わ
す。
償シートと液晶セルは下記のように配置されることが好
ましい。図6は、レターデーションの最小値の方向と液
晶セルの基板のラビング方向との関係を示す図である。
一対の偏光板63a、63bが、液晶セル61の両側に
配置され、そして光学補償シート62が偏光板63aと
液晶セル61との間に配置されている。光学補償シート
は、一般に、光学異方層が液晶セルの表面と接するよう
に配置される。62Mは、光学補償シート62のレター
デーションの絶対値の最小値の方向を液晶セル上に正投
影した時の方向である。この方向は、一般に光学補償シ
ートの配向膜のラビング方向に対応する。61Raは、
液晶セル61の上側基板のラビング方向を表わし、61
Rbは、液晶セル61の下側基板のラビング方向を表わ
す。
を液晶セル上に正投影した時の方向62Mと液晶セルの
上側基板のラビング方向61Raとのなす角(α)は、
90〜270度の範囲にあることが好ましい。即ち、上
記角(α)は、図7のように定義することができる。図
7は、図6をz軸方向から見た時に得られる図である。
図7において、61Ra、61Rb及び62Mは、図6
におけると同義である。角(α)は、レターデーション
の最小値を示す正投影方向62Mと上側基板のラビング
方向61Raとの角度を示す。この配置は、光学補償シ
ートを2枚使用する場合にも適用することができる。1
枚の光学補償シートを使用する場合、レターデーション
の最小値を示す正投影方向62Mは、主視角方向である
こと(シートをセルの上側に設けた場合)、または反視
角方向であること(シートをセルの下側に設けた場合)
が好ましい。主視角方向とは、液晶セル中の液晶分子の
平均のツイスト方向であり、従ってTN液晶分子を図6
のz軸の方向からみて反時計方向に90度ねじられた場
合に、x軸のマイナス方向である。反視角方向とは、主
視角方向と反対の方向である。
び9に示すように、一対の光学補償シートが液晶セルの
両側に設けられることが好ましい。図8では、一対の偏
光板83a、83bが、液晶セル81の両側に配置さ
れ、そして光学補償シート82aが偏光板83aと液晶
セル81との間に配置され、かつ光学補償シート82b
が偏光板83bと液晶セル81との間に配置されてい
る。82Maは、光学補償シート82aのレターデーシ
ョンの絶対値の最小値の方向を液晶セル上に正投影した
時の方向であり、82Mbは、光学補償シート82bの
レターデーションの絶対値の最小値の方向を液晶セル上
に正投影した時の方向である。81Raは、液晶セル8
1の上側基板のラビング方向を表わし、81Rbは、液
晶セル81の下側基板のラビング方向を表わす。84は
光源を表わす。
を液晶セル上に正投影した時の方向82Maと液晶セル
の上側基板のラビング方向81Raとのなす角(α1)
及び82Mbと81Rbとなす角(α2)は、135〜
225度の範囲にあることが好ましい。即ち、上記角
(α1とα2)は、図9のように定義することができ
る。図9は、図8をz軸方向から見た時に得られる図で
ある。図9において、81Ra、81Rb、82Ma及
び82Mbは、図8におけると同義である。角(α1)
は、レターデーションの最小値を示す正投影方向82M
aと上側基板のラビング方向81Raとの角度であり、
角(α2)は、レターデーションの最小値を示す正投影
方向82Mbと下側基板のラビング方向81Rbとの角
度である。レターデーションの最小値を示す正投影方向
82Maと82Mbとのなす角(β1)は、90〜18
0度の範囲が好ましい。
及び11に示すように、2枚の光学補償シートを液晶セ
ルの一方の側に設けても良い。図10では、一対の偏光
板103a、103bが、液晶セル101の両側に配置
され、そして光学補償シート102a、102bが、偏
光板103aと液晶セル101との間に配置されてい
る。102Maは、光学補償シート102aのレターデ
ーションの絶対値の最小値の方向を液晶セル上に正投影
した時の方向であり、102Mbは、光学補償シート1
02bのレターデーションの絶対値の最小値の方向を液
晶セル上に正投影した時の方向である。101Raは、
液晶セル101の上側基板のラビング方向を表わし、1
01Rbは、液晶セル101の下側基板のラビング方向
を表わす。104は光源を表わす。
を液晶セル上に正投影した時の方向102Maと液晶セ
ルの上側基板のラビング方向101Raとのなす角(α
3)135〜225度の範囲にあることが好ましく、1
02Mbと101Rbとなす角(α4)は、−45〜4
5度の範囲にあることが好ましい。即ち、上記角(α3
とα4)は、図11のように定義することができる。図
11は、図10をz軸方向から見た時に得られる図であ
る。図11において、101Ra、101Rb、102
Ma及び102Mbは、図10におけると同義である。
角(α3)は、レターデーションの最小値を示す正投影
方向102Maと上側基板のラビング方向101Raと
の角度であり、角(α4)は、レターデーションの最小
値を示す正投影方向102Mbと下側基板のラビング方
向101Rbとの角度である。レターデーションの最小
値を示す正投影方向102Maと102Mbとのなす角
(β1)は、0〜120度の範囲が好ましい。
晶セルの基板のラビング方向との関係は、カラー液晶表
示装置にも適用することができる。本発明のカラー液晶
表示装置の代表的構成例を図12に示す。図12におい
て、対向透明電極122とカラーフィルタ125を備え
たガラス基板124a、画素電極123とTFT126
を備えたガラス基板124b、この2枚の基板間に封入
されたねじれ配向したネマチック液晶121とからなる
液晶セル、液晶セルの両側に設けられた一対の偏光板1
28a、128b、及び液晶セルと偏光板との間に配置
された一対の光学補償シート127a、127bが、組
み合わせられてカラー液晶表示装置を構成している。光
学補償シートは一方のみ配置しても良い(即ち、127
aまたは127b)。
ーフィルターとしては、色純度、寸法精度、さらには耐
熱性の高いものであればどのようなものでも使用するこ
とができる。好ましい例としては、染色フィルター、印
刷フィルター、電着フィルターあるいは顔料分散フィル
タ等を挙げることができる。これらは、小林駿介編著
「カラー液晶デスプレイ」(産業図書、172〜173
頁、237〜251頁)、あるいは日経マイクロデバイ
ス編「フラットパネル・ディスプレイ1994」(日経
BP社、216頁)等に記載されている。例えば、染色
フィルターは、ゼラチンやカゼイン、PVA等の基質に
重クロム酸塩を加えて感光性を付与し、ファトリソグラ
ッフィー法によってパターンニングした後、染色して得
ることができる。
いる液晶としては、例えば日本学術振興会第142委員
会編「液晶デバイスハンドブック」(日刊工業新聞社、
107頁〜213頁)記載のネマティック液晶が好まし
い。この液晶分子の長軸は、液晶セルの上下基板間でほ
ぼ90℃ツイスト配向したものであるので、入射した直
線偏光は印加電界がない場合には、液晶セルの旋光性に
よって90℃偏光方向を変えて液晶セルから出射するこ
とになる。しきい値以上の充分高い電界を印加した時に
は、液晶分子の長軸が電界方向に向きを変え、電極面に
垂直に並ぶため、旋光性は殆ど消失する。したがって、
この旋光の効果を充分に発揮させるためには、ツイスト
角は70〜100℃が好ましく、80℃〜90℃がさら
に好ましい。
ィスクリネーション)を少なくするため、液晶分子にあ
らかじめプレチルト角を与えておくことが好ましい。プ
レチルト角は5℃以下が好ましく、さらに、2℃〜4℃
が好ましい。上記ツイスト角、プレチルト角について
は、岡野光治、小林駿介共編「液晶応用編」(培風館、
16頁〜28頁)に記載されている。
晶セルにおける液晶層の厚みdとの積(△n・d)の値
は、例えば日本学術振興会第142委員会編「液晶デバ
イスハンドブック」(日刊工業新聞社、329頁〜33
7頁)に記載されているように、dが大きくなればコン
トラストは改良されるものの、応答速度が遅く、また視
野角も小さくなるため、0.3〜1.0μmの範囲が好
ましく、0.3〜0.6μmの範囲がより好ましい。
信号は、例えば日本学術振興会第142委員会編「液晶
デバイスハンドブック」(日刊工業新聞社、387頁〜
465頁)、あるいは岡野光治、小林駿介共編「液晶
応用編」(倍風館、85頁〜105頁)等に記載されて
いるように、5Hz〜100Hzの交流で、電圧は20
V以下、好ましくは8V以下の信号である。たとえばノ
ーマリーホワイトモードでは、印加電圧が0〜1.5V
で明表示、1.5V〜3.0Vで中間調表示、3.0V
以上で暗表示を行なうことが一般的である。
装置で使用することができる偏光板の材料は特に限定さ
れることはなく、どのような材料でも使用することがで
きる。一般に、偏光板は、偏光子とその両側に設けられ
た保護フィルムとからなる。偏光子は、例えば、延伸ポ
リビニルアルコール等の親水性ポリマーにヨウ素または
染料で処理して得られる。保護フィルムは、一般にトリ
アセチルセルロースを延伸処理して得ることができる。
保護フィルムは、一般に0〜200nmのレタデーショ
ン(Re)、好ましくは0〜100nmのReを有す
る。Reは、透明支持体で規定しように、{(nx+n
y)/2ーnz}×dで表される。
を塗設した120μm厚さを有するトリアセチルセルロ
ースのフィルム(富士写真フイルム(株)製)上に直鎖
アルキル変性ポリビニルアルコール(MP203;クラ
レ(株)製)を塗布し、80℃温風にて乾燥させた後、
ラビング処理を行い、配向膜を形成した。面内の主屈折
率をnx、ny、厚さ方向の屈折率nz、厚さをdとし
た時、トリアセチルセルロースフィルムの|nx−ny
|×d、{(nx+ny)/2−nz}×dを決定した
(図1参照)。厚さを、マイクロメータを用いて測定
し、そして種々の方向からのReを、エリプソメータ
(AEP−100、(株)島津製作所製)により測定
し、上記|nx−ny|×d、{(nx+ny)/2−
nz}×dを決定した。上記トリアセチルセルロースフ
ィルムの|nx−ny|×dは3nmで、{(nx+n
y)/2−nz}×dは60nmであった。従って、上
記トリアセチルセルロースフィルムはほぼ負に一軸性で
あり、その光軸がほぼフイルム方線方向にあった。
ティック化合物TE−8(8、m=4)(前記化合物例
番号)1.6g、フェノキシジエチレングリコールアク
リレート(M101;東亜合成(株)製)0.4g、セ
ルロースアセテートブチレート(CAB531−1;イ
ーストマンケミカル社製)0.05g、及び光重合開始
剤(イルガキュア−907;チバ・ガイギー社製)0.
01gを、3.65gのメチルエチルケトンに溶解して
得られた塗布液を、ワイヤーバーで塗布(#4バー)
し、金属の枠に貼りつけて固定して120℃の高温槽中
で3分間加熱し、デイスコティック化合物を配向させた
後、室温まで放冷して、厚さ1.8μmのディスコティ
ック化合物を含む層(光学異方層)形成した。こうし
て、光学異方層を有する本発明の光学補償シート(OC
S−A)を作製した。
−A)をミクロトームを用いてラビング方向で深さに沿
って切断し、極めて薄いフィルム(サンプル)を作製し
た。このサンプルをOsO4 の雰囲気中に48時間放置
して、染色した。得られた染色フィルムを、透過型電子
顕微鏡(TEM)によって観察し、その顕微鏡写真を得
た。染色フィルムでは、ディスコティック化合物TE−
8(8、m=4)のアクリロイル基が染色され、写真の
像として認められた。この写真から、光学異方層のディ
スコティック化合物は透明支持体の表面から傾いてお
り、かつその傾斜角が、光学異方層の底部から深さ方向
の距離の増加と共に、5〜65度にかけて連続的増加し
ていることが、認められた。
を塗設した120μm厚さを有するトリアセチルセルロ
ースのフィルム(富士写真フイルム(株)製)上に直鎖
アルキル変性ポリビニルアルコール(MP203;クラ
レ(株)製)を塗布し、40℃温風にて乾燥させた後、
ラビング処理を行い、配向膜を形成した。上記トリアセ
チルセルロースフィルムの|nx−ny|×dは3nm
で、{(nx+ny)/2−nz}×dは70nmであ
った。これらの値は、実施例1と同様にして決定され
た。従って、上記トリアセチルセルロースフィルムは、
ほぼ負に一軸性であり、その光軸はほぼフイルム方線方
向にあった。
ティック化合物TE−8(8、m=4)(前記化合物例
番号)1.6g、フェノキシジエチレングリコールアク
リレート(M101;東亜合成(株)製)0.4g、セ
ルロースアセテートブチレート(CAB531−1;イ
ーストマンケミカル社製)0.05g、及び光重合開始
剤(イルガキュア−907;チバ・ガイギー社製)0.
01gを、3.65gのメチルエチルケトンに溶解して
得られた塗布液を、ワイヤーバーで塗布(#4バー)
し、金属の枠に貼りつけて固定して120℃の高温槽中
で3分間加熱し、デイスコティック化合物を配向させた
後、120℃のまま高圧水銀灯を用いて1分間UV照射
し、室温まで放冷して、厚さ1.8μmのディスコティ
ック化合物を含む層(光学異方層)を有する本発明の光
学補償シート(OCS−B)を作製した。
シート(OCS−B)について、ラビング軸を含み位相
差板面に垂直な面において、あらゆる方向からのレター
デション値をエリプソメーター(AEP−100;島津
製作所製)で測定し、更に、測定部分のディスコティッ
ク化合物を除去した後の支持体の光学特性を同様に測定
した。これらの測定により、光学異方層の光学特性(R
eと測定角の関係)は、図13に示すようになった。図
13の結果をシュミレートしたところ、得られた光学異
方層は負の複屈折を有し、そしたディスコティック化合
物の面が支持体表面から傾いており、その傾き(チルト
角)が20度から50度まで連続的に変化していること
がわかった。
を塗設した100μm厚さを有するトリアセチルセルロ
ースのフィルム(富士写真フイルム(株)製)上に直鎖
アルキル変性ポリビニルアルコール(MP203;クラ
レ(株)製)を塗布し、80℃温風にて乾燥させた後、
ラビング処理を行い、配向膜を形成した。上記トリアセ
チルセルロースフィルムの|nx−ny|×dは6nm
で、{(nx+ny)/2−nz}×dは40nmであ
った。これらの値は、実施例1と同様にして決定され
た。従って、上記トリアセチルセルロースフィルムは、
ほぼ負に一軸性であり、その光軸はほぼフイルム方線方
向にあった。
ティック化合物TE−8(8、m=4)(前記化合物例
番号)1.8g、エチレングリコール変性トリメチロー
ルプロパントリアクリレート(V#360;大阪有機化
学工業(株)製)0.2g、セルロースアセテートブチ
レート(CAB551−0.2;イーストマンケミカル
社製)0.04g、光重合開始剤(イルガキュア−90
7;チバ・ガイギー社製)0.06g及び増感剤(カヤ
キュアーDETX、日本化薬(株)製)0.02gを、
3.43gのメチルエチルケトンに溶解して得られた塗
布液を、ワイヤーバーで塗布(#3バー)し、金属の枠
に貼りつけて固定して120℃の高温槽中で3分間加熱
し、デイスコティック化合物を配向させた後、120℃
のまま高圧水銀灯(120W/cm)を用いて1秒間U
V照射し、室温まで放冷して、厚さ1.8μmのディス
コティック化合物を含む層(光学異方層)を有する本発
明の光学補償シート(OCS−C)を作製した。
シート(OCS−C)について、ラビング軸を含み位相
差板面に垂直な面において、あらゆる方向からのレター
デション値をエリプソメーター(AEP−100;島津
製作所製)で測定し、更に、測定部分のディスコティッ
ク化合物を除去した後の支持体の光学特性を同様に測定
した。これらの測定により、得られた光学異方層は負の
複屈折を有し、そしたディスコティック化合物の面が支
持体表面から傾いており、その傾き(チルト角)が20
度から70度まで連続的に変化していることがわかっ
た。
を塗設した110μm厚さを有するトリアセチルセルロ
ースのフィルム(富士写真フイルム(株)製)上に直鎖
アルキル変性ポリビニルアルコール(MP203;クラ
レ(株)製)を塗布し、40℃温風にて乾燥させた後、
ラビング処理を行い、配向膜を形成した。トリアセチル
セルロースフィルムの|nx−ny|×dは3nmで、
{(nx+ny)/2−nz}×dは50nmであっ
た。これらの値は、実施例1と同様にして決定された。
従って、上記トリアセチルセルロースフィルムは、ほぼ
負に一軸性であり、その光軸はほぼフイルム方線方向に
あった。
ティック化合物TE−8(8、m=4)(前記化合物例
番号)1.75g、α−アクロレイン−ω−フェノキシ
−ポリオキシエチレン(AMP60G;新中村化学工業
(株)製)0.25g、セルロースアセテートブチレー
ト(CAB500−5;イーストマンケミカル社製)
0.05g、及び光重合開始剤(イルガキュア−90
7;チバ・ガイギー社製)0.01gを、3.43gの
メチルエチルケトンに溶解して得られる塗布液を、ワイ
ヤーバーで塗布(#3バー)し、金属の枠に貼りつけて
固定して120℃の高温槽中で3分間加熱し、デイスコ
ティック化合物を配向させた後、120℃のまま高圧水
銀灯(120W/cm)を用いて1秒間UV照射し、室
温まで放冷して、厚さ1.8μmのディスコティック化
合物を含む層(光学異方層)を有する本発明の光学補償
シート(OCS−D)を作製した。
シート(OCS−D)について、ラビング軸を含み位相
差板面に垂直な面において、あらゆる方向からのレター
デション値をエリプソメーター(AEP−100;島津
製作所製)で測定し、更に、測定部分のディスコティッ
ク化合物を除去した後の支持体の光学特性を同様に測定
した。これらの測定により、得られた光学異方層は負の
複屈折を有し、そしたディスコティック化合物の面が支
持体表面から傾いており、その傾き(チルト角)が20
度から40度まで連続的に変化していることがわかっ
た。
を塗設した100μm厚さを有するトリアセチルセルロ
ースのフィルム(富士写真フイルム(株)製)上に直鎖
アルキル変性ポリビニルアルコール(MP203;クラ
レ(株)製)を塗布し、40℃温風にて乾燥させた後、
ラビング処理を行い、配向膜を形成した。上記トリアセ
チルセルロースフィルムの|nx−ny|×dは3nm
で、{(nx+ny)/2−nz}×dは40nmであ
った。これらの値は、実施例1と同様にして決定され
た。従って、上記トリアセチルセルロースフィルムは、
ほぼ負に一軸性であり、その光軸はほぼフイルム方線方
向にあった。
ティック化合物TE−8(8、m=4)(前記化合物例
番号)1.6g、フェノキシジエチレングリコールアク
リレート(M101;東亜合成(株)製)0.4g、セ
ルロースアセテートブチレート(CAB531−1;イ
ーストマンケミカル社製)0.05g、及び光重合開始
剤(イルガキュア−907;チバ・ガイギー社製)0.
01gを、3.65gのメチルエチルケトンに溶解して
得られる塗布液を、ワイヤーバーで塗布(#4バー)
し、金属の枠に貼りつけて固定して120℃の高温槽中
で3分間加熱し、デイスコティック化合物を配向させた
後、120℃のまま高圧水銀灯を用いて1分間UV照射
し、室温まで放冷して、厚さ1.0μmのディスコティ
ック化合物を含む層(光学異方層)を有する本発明の光
学補償シート(OCS−F)を作製した。
シート(OCS−F)について、ラビング軸を含み位相
差板面に垂直な面において、あらゆる方向からのレター
デション値をエリプソメーター(AEP−100;島津
製作所製)で測定し、更に、測定部分のディスコティッ
ク化合物を除去した後の支持体の光学特性を同様に測定
した。これらの測定により、得られた光学異方層のRe
の最小値の方向がシートの法線から33度傾いており、
その最小値は10nmであり、そして厚さ(深さ)方向
のReは110nmであることがわかった。更に、上記
測定より得られた光学異方層は負の複屈折を有し、そし
たディスコティック化合物の面が支持体表面から傾いて
おり、その傾き(チルト角)が20度から50度まで連
続的に変化していることがわかった。
トリアセチルセルロースのフィルム上に設けられた配向
膜上に、前述した液晶性ディスコティック化合物TE−
8−(3)(前記化合物例番号)にメチルエチルケトン
を加え、全体として10wt%とした溶液を、スピンコ
ートにより2000rpmにて塗布を行った。次いで、
塗布層を180℃まで加熱し、熱処理した後、室温まで
冷却し、厚さ1.0μmのディスコティック化合物を含
む層(光学異方層)を有する光学補償シート(OCS−
G)を作製した。
(OCS−G)について、ラビング軸を含み位相差板面
に垂直な面において、あらゆる方向からのレターデショ
ン値をエリプソメーター(AEP−100;島津製作所
製)で測定し、更に、測定部分のディスコティック化合
物を除去した後の支持体の光学特性を同様に測定した。
これらの測定により、得られた光学異方層は負の複屈折
を有し、そしたディスコティック化合物の面が支持体表
面から傾いていることがわかった。
トリアセチルセルロースのフィルム上に設けられた配向
膜上に、前述した液晶性ディスコティック化合物TE−
6(前記化合物例番号)にメチルエチルケトンを加え、
全体として10wt%とした溶液を、スピンコートによ
り2000rpmにて塗布を行った。次いで、塗布層を
170℃まで加熱し、熱処理した後、室温まで冷却し、
厚さ1.0μmのディスコティック化合物を含む層(光
学異方層)を有する光学補償シート(OCS−H)を作
製した。
(OCS−H)について、ラビング軸を含み位相差板面
に垂直な面において、あらゆる方向からのレターデショ
ン値をエリプソメーター(AEP−100;島津製作所
製)で測定し、更に、測定部分のディスコティック化合
物を除去した後の支持体の光学特性を同様に測定した。
これらの測定により、得られた光学異方層は負の複屈折
を有し、そしたディスコティック化合物の面が支持体表
面から傾いていることがわかった。
5及び比較例1〜2で得られた光学補償シートについて
光学特性を下記のように評価した。 (1)光学異方層のディスコティック化合物の面の角度
変化及びReの最小値の方向の傾き角は、上記の様に決
定した。 (2)ヘイズ ヘイズの決定はASTN−D 1003−52に基づい
て行なった。即ち、濁度計(NDH−1001DO;日
本電色工業(株)製)を用いて測定した。 (3)ドメインのサイズ 光学異方層に形成されたドメインのサイズを、偏光顕微
鏡を用いて測定した。上記結果を表1に示す。
角で、かつ4.5μmのギャップサイズとなる様に挟み
込まれた液晶セルの一方の表面に、実施例2〜4(それ
ぞれ実施例6〜8)及び比較例1〜2(それぞれ比較例
3〜4)で作成した光学補償シートを2枚積層して貼り
付け、液晶表示装置を作製した(図10参照)。但し、
下側の光学補償シートのレターデーションの最小値を示
す投影方向(ラビング方向、図11の102Ma)と上
側基板のラビング方向(図11の101Ra)とのなす
角(α3)が180度となり、そして上側の光学補償シ
ートのレターデーションの最小値を示す投影方向(ラビ
ング方向、図11の102Mb)と上側基板のラビング
方向(図11の101Rb)とのなす角(α4)が0度
となるように、上記積層体を液晶セル上に配置した。さ
らに、一対の偏光板を、光学補償シートを有する液晶セ
ルの両側に、二つの偏光軸が直交するように貼りつけ
た。上記偏光板の保護フィルムは40nmのレターデー
ション(前記と同様{(nx+ny)/2−nz}×d
で定義される値)を有するトリアセチルセルロースのフ
ィルムを用いた。得られたTN−LCDは、ノーマリー
ホワイトモード用に設定した。比較例5として、上記光
学補償シートを持たないTN−LCDも作製した。
の電圧を、0から5Vで印加し、正面方向および上/下
および左/右方向へ傾いた方向からのコントラストを、
分光計(LCD−5000,大塚電子(株)製)を用い
て測定し、正面コントラスト(T0V/T5V)およびコン
トラストが10以上となる上/下および左/右の視野角
を求めた。得られた結果を、表2に示す。
光学補償シートは、視野角を広げる効果があり、正面コ
ントラストを低下させることなく、視野角を広げる事が
出来る。
8)を90℃の捻れ角で、かつ4.5μmのギャップサ
イズとなる様に挟み込まれた液晶セルの両面に、実施例
5で作成した光学補償シートを2貼り付け、液晶表示装
置を作製した(図8参照)。但し、上側の光学補償シー
トのレターデーションの最小値を示す投影方向(ラビン
グ方向、図9の82Ma)と上側基板のラビング方向
(図9の81Ra)とのなす角(α1)が180度とな
り、そして下側の光学補償シートのレターデーションの
最小値を示す投影方向(ラビング方向、図9の82M
b)と下側基板のラビング方向(図9の81Rb)との
なす角(α2)が180度となるように、上記光学補償
シートを液晶セル上に配置した。さらに、一対の偏光板
を、光学補償シートを有する液晶セルの両側に、二つの
偏光軸が直交するように貼りつけた。
の電圧を、1から5Vで印加し、正面方向および上/下
および左/右方向へ傾いた方向からのコントラストを、
分光計(LCD−5000,大塚電子(株)製)を用い
て測定し、正面コントラスト(T0V/T5V)およびコン
トラストが10以上となる上/下および左/右の視野角
を求めた。得られた視野角特性を図14に示す。図14
の実線および点線は等コントラスト線を表わす。白黒表
示におけるコントラスト(T1V/T5V)が10又は10
0を示した時の法線に対する角度を視野角とした。
T型液晶カラーテレビ6E−C3の偏光板を剥がして、
液晶セルを挟むようにして、実施例2及び3(それぞれ
実施例10及び11)で得られた用いた光学補償シート
2枚を装着した。その後、一番外側に全体を挟むように
して、偏光板2枚を偏光軸が互いに直交するように貼り
付け、本発明のカラー液晶表示装置を作成した。
晶カラーテレビ6E−C3の偏光板を剥がし、実施例1
0で用いたものと同じ偏光板2枚を、液晶セルを挟むよ
うにして、偏光軸が互いに直交するように貼り付け、カ
ラー液晶表示装置を作成した。
表示、黒表示を行い、上下左右でのコントラスト比が1
0:1となる視角を測定した。即ち、得られたカラー液
晶表示装置に矩形波の電圧を印加し、正面方向および上
/下および左/右方向へ傾いた方向からのコントラスト
を、分光計(LCD−5000,大塚電子(株)製)を
用いて測定し、コントラストが10となる上/下および
左/右の視野角を求めた。得られた結果を、表3に示
す。
11のカラー液晶表示装置は、比較例6のものに比べ
て、白黒表示におけるコントラストから見た視野角が大
幅に拡大されていることがわかる。また比較例6のカラ
ー液晶表示装置にビデオ信号を入力しフルカラーの画像
を表示させると、上から見ると画像が白っぽく、全体に
黄色味を帯びており、また下からみると黒表示部はすぐ
に反転した。左右から見ると黒表示部での反転はない
が、全体にコントラストが低下して、黄色味を帯びてお
り、視野角を大きくした時の画質の低下は著しい。一
方、実施例10及び11で得られたカラー液晶表示装置
では、下から見た場合、視野角を大きくしたときに黒表
示部での反転がみられたが、上及び左右から見た場合
は、黒表示部での反転は見られず、また画像の黄変も僅
かであり、視野角増加による画質の低下は、少なかっ
た。
液晶セルを有する液晶表示装置及びカラー液晶表示装置
は、視野角が大きく拡大しており、視野角の増加に伴う
黒表示部の反転、諧調の反転、画像の着色等の発生が大
きく低減されており、優れた視野角特性を示す。特にT
FTのような非線形能動素子を有する液晶表示装置の視
角特性を著しく改善することが可能で、視認性のすぐれ
た高品位の液晶表示装置を提供することができる。ま
た、本発明の光学補償シートをMIMなどの3端子素
子、TFDなどの2端子素子を用いたアクティブマトリ
クス液晶表示素子に適用しても優れた効果が得られるこ
とは言うまでもない。
率nx、ny、厚み方向の主屈折率nzの関係を概略的
に示す図である。
示す図である。
示す図である。
及び三軸の主屈折率の関係を概略的に示す図である。
示す図である。
におけるレターデーションの最小値の方向と液晶セルの
基板のラビング方向との関係を示す図である。
図である。
示装置におけるレターデーションの最小値の方向と液晶
セルの基板のラビング方向との関係を示す図である。
図である。
いた液晶表示装置におけるレターデーションの最小値の
方向と液晶セルの基板のラビング方向との関係を示す図
である。
られる図である。
表的構造を示す図である。
−B)の光学異方層のReと視野角の関係を示すグラフ
である。
表示装置のコントラストに関する視野角特性を示すグラ
フである。
物 Pa、Pb、Pc ディスコティック構造単位の面 21a、21b、21c 透明支持体21の面に平行な
面 θa、θb、θc 傾斜角 24 透明支持体の法線 31a 31b 基板 33 TN液晶分子
Claims (8)
- 【請求項1】 透明支持体及びその上に設けられた光学
異方層からなる光学補償シートであって、該光学異方層
が、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる
負の複屈折を有する層であり、そして該ディスコティッ
ク構造単位の円盤面が、透明支持体面に対して傾いてお
り、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支
持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において
変化していることを特徴とする光学補償シート。 - 【請求項2】 該角度が、光学異方層の深さ方向におい
て光学異方層の底面からの距離の増加と共に増加してい
る請求項1に記載の光学補償シート。 - 【請求項3】 該光学異方層が、さらにセルロースエス
テルを含んでいる請求項1に記載の光学補償シート。 - 【請求項4】 透明支持体が、光学的に負の一軸性を有
し、かつ該透明支持体面の法線方向に光軸を有し、さら
に下記の条件: 20≦{(nx+ny)/2−nz}×d≦400 (但し、nx及びnyは支持体の面内の主屈折率を表わ
し、nzは厚み方向の主屈折率を表わし、dは、支持体
の厚さを表わし、そして上記式の単位はnmである)を
満足する請求項1に記載の光学補償シート。 - 【請求項5】 光学異方層と透明支持体との間に、配向
膜が形成されている請求項1に記載の光学補償シート。 - 【請求項6】 配向膜がポリマーの硬化膜からなる請求
項5に記載の光学補償シート。 - 【請求項7】 一対の透明電極付きの基板と、その基板
間に封入されたねじれ配向したネマチック液晶とからな
る液晶セル、液晶セルの両側に設けられた一対の配向
板、及び液晶セルと配向板との間に設けられた光学補償
シートからなる液晶表示装置において、 該光学補償シートが、透明支持体およびその上に設けら
れた光学異方層からなり、そして該光学異方層は、ディ
スコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈
折を有する層であり、さらに該ディスコティック構造単
位の円盤面が、透明支持体面に対して傾いており、且つ
該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面と
のなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化して
いることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項8】 透明電極、画素電極およびカラーフィル
タを有する一対の基板と、その基板間に封入されたねじ
れ配向したネマチック液晶とからなる液晶セル、液晶セ
ルの両側に設けられた一対の配向板、及び液晶セルと配
向板との間に設けられた光学補償シートからなるカラー
液晶表示装置において、 該光学補償シートが、透明支持体およびその上に設けら
れた光学異方層からなり、そして該光学異方層は、ディ
スクティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈
折を有する層であり、さらに該ディスコティック構造単
位の円盤面が、透明支持体面に対して傾いており、且つ
該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面と
のなす角度が、光学異方層の深さ方向に変化しているこ
とを特徴とするカラー液晶表示装置。
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