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JPH08335622A - 基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送装置

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Publication number
JPH08335622A
JPH08335622A JP7140653A JP14065395A JPH08335622A JP H08335622 A JPH08335622 A JP H08335622A JP 7140653 A JP7140653 A JP 7140653A JP 14065395 A JP14065395 A JP 14065395A JP H08335622 A JPH08335622 A JP H08335622A
Authority
JP
Japan
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substrate
wafer
fork
transfer
transfer device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7140653A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoru Osawa
哲 大沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Tohoku Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Tohoku Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd, Tokyo Electron Tohoku Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP7140653A priority Critical patent/JPH08335622A/ja
Priority to KR1019970708444A priority patent/KR19990021969A/ko
Priority to US08/952,977 priority patent/US6032083A/en
Priority to PCT/JP1996/001442 priority patent/WO1996041371A1/ja
Priority to EP96919988A priority patent/EP0836225A1/en
Priority to TW085106744A priority patent/TW309502B/zh
Publication of JPH08335622A publication Critical patent/JPH08335622A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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Abstract

(57)【要約】 【目的】正確にオートティーチングを行うことができ、
かつ基板支持部材に対し、基板が常に位置関係を確認し
ながら高い信頼性で基板を搬送することができ、さらに
安価に製作することができる基板搬送装置を提供するこ
と。 【構成】複数の基板を支持するウエハボード21とキャ
リアCとの間で基板を搬送する基板搬送装置であり、ウ
エハボード21との間で移載作業を行うことが可能な第
1の移載作業位置およびキャリアCとの間で移載作業を
行うことが可能な第2の移載作業位置の間で移動可能な
搬送装置本体52と、この搬送装置本体52に対して進
退可能に設けられ、ウエハボート21およびキャリヤC
の基板支持部との間で基板の受け渡しを行うためのフォ
ーク59a,59bと、このフォークの両側部に取り付
けられ、フォークと一体的に進退移動し、基板までの距
離および基板の水平面内の位置を検出する静電容量セン
サー70a,70bとを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハなどの基
板を搬送するための基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体の製造プロセスにおいて
は、基板としての半導体ウェハを熱処理する工程があ
り、最近では、効率良く所要の熱処理を達成するため
に、多数のウエハをバッチ処理する熱処理装置が用いら
れている。このような熱処理装置においては、通常、多
数のウエハを搭載した石英製のウエハボートが熱処理容
器内に収容され、この熱処理容器内でウエハの熱処理が
行われる。この熱処理に際しては、まず、テフロンなど
の樹脂製のウエハキャリアに収容されたウエハがウエハ
ボートに移載されて熱処理に供され、所定の熱処理がな
された後はウエハボートからウエハキャリアに移載され
る。
【0003】この際のウエハの搬送は、ウエハキャリア
とウエハボートとの間に設けられた搬送装置によって行
われる。この搬送装置においては、制御機構により予め
定められた動作パターンに従って搬送装置本体が上下方
向および旋回方向に移動されて移載作業位置に位置され
ると共に、当該装置本体に設けられた被処理物担持部材
であるウエハ担持用フォークが水平な前後方向に移動さ
れ、このような動作によってウエハがウエハキャリアと
ウエハボートとの間で搬送され移載される。
【0004】実際の移載作業においては、搬送装置のフ
ォークが、設置されたキャリアやウエハボートなどの基
板保持部材の対象位置に対し、あるいは移載すべきウエ
ハに対し、適正な位置関係をもって、ウエハの配置動作
および取り出し動作を行うことが必要である。
【0005】しかるに、ウエハキャリアやウエハボート
の設置位置、設置姿勢およびウエハ支持溝の状態は常に
全く同一の状態にある訳ではない。すなわち、ウエハキ
ャリアやウエハボートが傾斜した状態に設置されること
があり、また、これら自体においても種々の変位が生ず
るおそれがある。例えば、ウエハボートにおいては、熱
処理工程などにおいて熱変形が生ずるおそれがあり、熱
処理時に付着した汚染物質の除去のためのクリーニング
処理によってウエハボートに変形や歪みが生ずることも
あり、更にそれ自体が固有の変位を有しているウエハボ
ートが交換される場合もある。また、キャリアにおいて
も、その材質が樹脂であることから、全体的にあるいは
局部的に変形が生じやすい。
【0006】このような各種の変位がウエハ支持部材に
生じている場合またはウエハ支持部材におけるウエハの
支持状態が不適性な場合には、基本的動作パターンに従
って制御される移載装置のフォークの動作位置が、実際
には移載されるウエハに対して相対的に変位した状態で
あるため、所期の移載動作が十分に実行されないことと
なる。例えば、ウエハの取り出し動作においては、対象
ウエハを所期の状態でフォーク上に載置させることがで
きない事態が生じたり、ウエハの配置動作においては、
ウエハ支持部材の支持溝内にウエハを正確にあるいは全
く挿入することができない事態が生ずる。
【0007】以上のような事情から、キャリアやウエハ
ボートなどが新たに設置されたときには、これらに適合
した移載動作が実行されるよう、ティーチングと呼ばれ
る作業が行われる。
【0008】このティーチングは、ウエハボートの各ウ
エハ溝の座標値および対応するキャリアのウエハ支持部
の座標値を予め装置に設定する作業であり、これに基づ
いて搬送装置の基本的動作パターンの調整が行われる。
【0009】この場合に、ウエハボートの溝幅が3mm
でありウエハの厚さが1mmであってクリアランスが上
下1mmと非常に小さく、しかもウエハと溝とが擦れる
ことは絶対に防止されなくてはならないため、ティーチ
ングには±0.1mmの高精度が要求される。
【0010】また、ウエハボートに搭載されるウエハの
数が125〜180枚と多くなっているため、1回のテ
ィーチングにおける作業回数が極めて多いものとなり、
また、プロセスによってボートが熱変形したり、ボート
が洗浄された場合毎にティーチングをやり直す必要があ
るため、作業頻度が高い。
【0011】このようなティーチング作業は、従来、作
業者の目視により行われており、許容可能な精度のデー
タを与えるまでこの作業を何回か繰り返している。しか
し、繰り返し作業を行ってある程度の精度が得られたと
しても、目視による確認であるため、上述した要求され
る±0.1mmの高精度を実現することは実質的に不可
能である。また、ティーチング作業は目視によって状況
を確認しながらフォークを実際に微少距離ずつ移動させ
ることによって試行錯誤的に実行されているため時間が
かかり、装置が休止している時間が長くなって効率が悪
い。さらに、ティーチングを行う作業者の習熟度などに
よりその結果が大きく左右されるために再現性が低い。
さらにまた、ウエハボートに搭載されたウエハの位置を
正しく認識する必要があるが、熱処理装置などの半導体
ウエハ処理装置は、通常、その内部空間が非常に狭く、
必要な箇所の確認をするために無理な姿勢をとらざるを
得ず、作業環境が悪いという問題がある。
【0012】このため、作業者によらずにティーチング
を行うオートティーチングが開発されている。オートテ
ィーチングとしては、例えばウエハボートの溝に位置検
出用の穴をあけ、穴の位置を光学センサーによって検出
し、これによりボートの位置を把握し、特に高い精度が
必要なZ方向の位置決めを行う技術が知られている。
【0013】しかしながら、ボートは石英で製作される
ことが多いため、光学センサーによる検出が難しく安定
した検出を行うことができない。また、石英の光の透過
率、反射率が洗浄やプロセスのために変化したり、ボー
トが熱変形した場合には対応することができない。さら
に、このようなボートを製作するために多大な加工費が
必要である。
【0014】一方、上記ティーチングとは別の観点で、
自動的にウエハを移載する搬送装置においては、移載さ
れるウエハの有無を検知するためのセンサーが必要とさ
れる。すなわち、搬送装置のフォークが例えばウエハボ
ートに挿入された際には、該フォークの上方にウエハが
存在するか否かを検知する必要がある。
【0015】さらに、上述のような熱処理装置は、高価
なウエハを対象としており、また、ウエハボートも高価
なものであるため、事故の発生は防止しなければならな
いが、ウエハとボートのウエハ溝との距離が適切でない
場合、フォークがボートに当たってボートを押し倒した
り引き倒したりすることや、ウエハをボートの溝の部分
で擦ってしまうこと、およびウエハまたはフォークを破
損してしまうことなどの事故を招く恐れがあり、そのた
め事故発生を未然に防止する対策が必要である。
【0016】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であって、正確にオートティーチングを行うことがで
き、また自動的にウエハを搬送する装置として必要なウ
エハの有無を検知する機構を備え、かつウエハボート、
ウエハキャリアなどの基板支持部材に対し、基板が常に
適正な位置関係を維持しているか否かを確認しながら高
い信頼性で基板を搬送することができ、さらに安価に製
作することができる基板搬送装置を提供することを目的
とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、第1に、複数の基板を支持する第1の基板
支持部材と第2の基板支持部材との間で基板を搬送する
基板搬送装置であって、前記第1の基板支持部材との間
で移載作業を行うことが可能な第1の移載作業位置およ
び第2の基板支持部材との間で移載作業を行うことが可
能な第2の移載作業位置の間で移動可能な搬送装置本体
と、この搬送装置本体に対して進退可能に設けられ、前
記第1および第2の基板支持部材の基板支持部との間で
基板の受け渡しを行うためのフォークと、このフォーク
の両側部に取り付けられ、前記フォークと一体的に進退
移動し、基板までの距離および基板の水平面内の位置を
検出する非接触型センサーと、を具備する基板搬送装置
を提供する。
【0018】第2に、複数の基板を支持する第1の基板
支持部材と第2の基板支持部材との間で基板を搬送する
基板搬送装置であって、前記第1の基板支持部材との間
で移載作業を行うことが可能な第1の移載作業位置およ
び第2の基板支持部材との間で移載作業を行うことが可
能な第2の移載作業位置の間で移動可能な搬送装置本体
と、この搬送装置本体に対して進退可能に、かつ垂直方
向に重なるように設けられ、前記第1および第2の基板
支持部材の基板支持部との間で基板の受け渡しを行うた
めの複数のフォークと、前記複数のフォークのうち少な
くとも1つの一方の側部、および他のフォークのうち少
なくとも1つの前記一方の側部と反対側の他の側部に取
り付けられ、これらフォークと一体的に進退移動し、基
板までの距離および基板の水平面内の位置を検出する少
なくとも2つの非接触型センサーと、を具備する基板搬
送装置を提供する。
【0019】
【作用】本発明によれば、第1および第2の基板支持部
材の基板支持部との間で基板の受け渡しを行うためのフ
ォークの両側に、フォークと一体的に進退移動し、基板
までの距離および基板の水平面内の位置を検出する非接
触型センサーを取り付け、基板までの距離および基板の
水平面内の位置を検出するようにしたので、フォークと
対象基板との相対位置を三次元データとして把握するこ
とができる。したがって高精度でオートティーチングを
行うことができる。また、センサーにより基板までの距
離を検出することにより、基板の有無の検知および基板
とフォークとの位置関係が正確に保たれているか否かを
確認することができ、高い信頼性で基板を搬送すること
ができる。さらに、センサーをフォークの両側に取り付
けるだけでよいので、製作が容易であり安価である。
【0020】
【実施例】以下、添付図面を参照して、本発明について
詳細に説明する。ここでは、基板として半導体ウエハを
用い、基板支持部材としてウエハキャリア及びウエハボ
ートを用いた例について示す。
【0021】図1は、本発明に係る基板搬送装置を適用
した熱処理装置の一例を示す斜視図であり、図2はこの
熱処理装置における半導体ウエハの移動を説明するため
の斜視図である。
【0022】この熱処理装置10は、基本的に、ウエハ
を熱処理するための熱処理容器27と、ウエハを搭載し
たウエハボート21を熱処理容器27に対して搬出入す
るためのボートエレベータ23と、ウエハを収容したキ
ャリアCをストックするキャリアストッカ17と、キャ
リアCのウエハをウエハボート21に移載するための移
載装置20とを備えている。この熱処理装置10におい
ては、例えば25枚のウエハWを収容したキャリアCが
出入口12において方向変更機構13上に載置され、こ
の方向変更機構13によりキャリアCの向きが90°変
更される。次いで、このキャリアCは、キャリア移送機
構14によって移送ステージ15に搬入され、またはキ
ャリアエレベータ16によりキャリアストッカ17に搬
入される。その後、移送ステージ15上のキャリアC内
のウエハWは、移載装置20によりウエハボート21に
移載される。なお、図2の参照符号29は出入口12を
開閉するオートドアを示す。
【0023】所定の枚数のウエハWが支持されたウエハ
ボート21は、ウエハボートエレベータ23により上昇
され、キャップ25が開かれて開放された下端から当該
熱処理容器27内に挿入される。次いで、キャップ25
によって容器27の下端が閉じられ、この熱処理容器2
7内において、ヒータ28からの熱によりウエハWの熱
処理がなされる。
【0024】そして、所定の熱処理が終了した後に、ウ
エハボート21は熱処理容器27から下降して元の位置
に移動され、このウエハボート21上のウエハWが、搬
送装置20により、移送ステージ15上のキャリアCに
移載される。
【0025】ウエハボート21またはキャリアCにおい
ては、多数のウエハWを間隙を介して重なる状態に支持
するための支持溝が一定のピッチで互いに離間して形成
されている。ここに、例えばウエハボート21における
支持溝の開口幅は、例えば厚み0.725mmの直径8
インチのウエハの場合には例えば2mmとされ、また厚
み0.65mmの直径6インチのウエハの場合には例え
ば1.5mmとされている。
【0026】図3は、本発明の一実施例に係る搬送装置
を用いてウエハをウエハキャリヤ及びウエハボートの間
で移載する状態を示す斜視図である。この図に示すよう
に、搬送装置20は、移送ステージ15上のウエハキャ
リアCとウエハエレベータ23上のウエハボート21の
間に位置している。
【0027】ウエハボートエレベータ23は、ウエハボ
ート21が載置される載置台34と、載置台34に固定
され鉛直に配置されたボールネジ32と、ボールネジ3
2を回転させるモータ35と、鉛直に配置され、載置台
34をガイドするリニアガイド33と、リニアガイドを
33支持する支持板31とを備えている。そして、モー
タ35によりボールネジ32を回転させることにより、
載置台34がリニアガイド33に沿って上下動する。こ
の上下動によって、基板を収納したウエハボート21が
熱処理容器27にロードされ、熱処理容器27からアン
ロードされる。
【0028】ウエハボート21は、石英等の耐熱性及び
耐食性に優れた材料からなり、例えば、125〜180
の溝41Aを有する4本の支柱41と、これら4本の支
柱41の上下端部を固定する一対の円板42と、下方の
円板42の下方に取り付けられた保温筒43と、この保
温筒43の下端に設けられたフランジ44とを具備して
いる。
【0029】このウエハボート21が熱処理容器27内
にロードされた時、フランジ44がマニホールドのフラ
ンジと接触し、これによって熱処理容器27内が密閉さ
れる。
【0030】搬送装置20は、ウエハが載置されるアー
ム部51と、アーム部51を水平面内のθ方向に沿って
回動可能に支持する支持台52と、アーム部51をθ方
向に沿って回動させるモータ53と、支持台52を上下
動させる駆動機構54とを備えている。駆動機構54
は、支持台52に固定され鉛直に配置されたボールネジ
55と、ボールネジ55を回転させるモータ56と、鉛
直に配置され、支持台52をガイドするリニアガイド5
7と、リニアガイド57を支持する支持板58とを備え
ている。そして、モータ56によりボールネジ55を回
転させることにより、支持台52がリニアガイド58に
沿って上下動、すなわちZ方向に移動する。アーム部5
1は、上部51a及び下部51bを有しており、これら
は基部60上に支持されている。アーム部51の上部5
1aは5個のフォーク59aを有しており、下部51b
は1個のフォーク59bを有している。5個のフォーク
59aはモータ61により一括して前後方向すなわち図
中r方向に沿って進出退入可能となっており、フォーク
59bはモータ62によりr方向に沿って進出退入可能
となっている。これらフォーク59a,59bはウエハ
担持部材として機能するものであり、ウエハWが移載さ
れる際にウエハWを担持する。なお、モータ61、62
は基部60内に内蔵されている。
【0031】このような搬送装置20は、支持台52の
Z方向移動、アーム部51のθ方向移動、及びフォーク
59a,59bのr方向の移動により、所望の位置にお
いてウエハWの受け取り及び受け渡しができるようにな
っている。
【0032】フォーク59a,59bの両側には、後述
するセンサーヘッドが取り付けられており、その検出信
号がメインコントローラ63に出力され、メインコント
ローラ63から搬送装置20の各駆動部に制御信号が出
力される。
【0033】次に、図4および図5を参照して、搬送装
置20の動作を、キャリアC内に収納支持されたウエハ
Wの取り出し動作を例にとって説明する。なお、ここで
は便宜上、フォーク59bのみについて説明するが、フ
ォーク59aについても同様に動作される。また、フォ
ーク59bの両側には後述するセンサーヘッド71a、
71bが取り付けられている。
【0034】キャリアCに収容されたウエハを取り出す
際には、まず、駆動機構54により支持台52のZ方向
位置を調節し、さらにモータ53によりθ方向の位置を
調節して、アーム部51をキャリアCに正対させる。次
いで、フォーク59bを進出させてウエハWを受け取
り、フォーク59bを退入させる。
【0035】次に、図6および図7を参照して、フォー
ク59bの詳細な構造について説明する。なお、フォー
ク59aについてもフォーク59bと全く同様に構成さ
れる。
【0036】図6はフォーク59bの平面図であり、図
7はそのコントローラへの接続状態を示す図である。フ
ォーク59bは、その本体が例えばアルミナまたは炭化
珪素よりなり、その上面には、ウエハWを例えば4点で
保持する保持部材72が設けられている。
【0037】フォーク59bの両側に取り付けられたセ
ンサーヘッド71a、71bはそれぞれアンプ73a,
73bに接続されており、これらセンサーヘッド71
a、71bとアンプ73a、73bとによって、非接触
センサーとして静電容量センサー70a、70bが構成
されている。
【0038】静電容量センサー70a、70bは、これ
ら先端に形成されたセンサー部74a、74bのそれぞ
れとウエハWとの間の容量を計測し、その値に応じてア
ンプ73から距離に対応する信号として出力され、イン
ターフェイス81に入力される。インターフェイス81
ではアンプ73から出力された距離に対応する信号を前
もって与えられている値あるいはメインコントローラか
ら与えられる基準に従って解釈し、ウエハWの有無の情
報、ウエハWとフォークとが適切な距離を保っているか
否かの情報、およびオートティーチングのための情報を
ON/OFF信号としてメインコントローラ63へ出力
する。そして、このメインコントローラ63ではこれら
入力された情報に基づいて搬送装置20の駆動系へ制御
信号を出力し、搬送装置20の動作を制御する。
【0039】図8はウエハWにセンサーヘッドを接近さ
せた場合のセンサー出力の変化を示すグラフである。検
出原理上、検出値は距離の逆数に比例するため、近距離
側では距離の変化が少なくても出力が大きく変化する
が、このことは図8からも確認される。したがって、近
距離側で精度の高い測定が実現される。図8からはセン
サからウエハまでの距離が4〜5mmまで高精度の測定
が行うことができることを確認することができる。
【0040】図9はセンサーヘッドをウエハ下方1.6
mm、2.1mm離れた位置に保った状態からフォーク
を前後軸方向に沿って駆動し、センサーヘッドをウエハ
の下から引き出す動作中のセンサー出力を示すグラフで
ある。この図から、いずれの場合にも、センサーヘッド
がウエハの外周を通過する際に、センサー出力が変化す
ることがわかる。すなわち、センサーにスレッシュホー
ルド値を設定しておけば、ウエハの外周部の位置がフォ
ークの前後軸方向の移動量として計測されることにな
る。
【0041】以上により、本来垂直方向の距離を計測す
るセンサーが水平方向の駆動軸との強調動作によって水
平方向の位置を計測することに使用可能であることがわ
かる。
【0042】なお、センサーヘッドの厚さは、フォーク
を移動した際に他の部材に当たらないようにする観点か
ら、フォークの厚さと同等以下であることが好ましい。
したがって、フォークの厚さは通常1.05〜2mmで
あるから、センサーヘッドの厚さは1〜2mm程度が好
ましい。
【0043】メインコントローラ63は、センサー70
a、70bの信号に基づいてインターフェイス81によ
って得られるウエハWの有無の情報、ウエハWとフォー
クとが適切な距離を保っているか否かの情報、およびオ
ートティーチングのための情報を処理して、搬送装置2
0の動作を制御するものである。メインコントローラ6
3は、図10に示すように、信号処理ユニット91、入
力部92、RAM93、メモリー部94、CPU95、
出力部96、移載装置制御装置97、マニアルキー10
5、修正情報メモリー部106、ディスク107などを
備えている。なお、参照符号98はバスラインである。
また、メインコントローラ63には異常信号発生機構1
00およびアラーム発生機構101が接続されており、
異常検出可能となっている。
【0044】通常の移替え動作において、ウエハの有無
またはウエハが適当な位置を保っていることがインター
フェイス81からの信号により保証されている場合、移
替え動作が続行される。
【0045】インターフェイス81からの信号が異常な
場合、つまりウエハがあるべき状態でない場合や、ウエ
ハが適切な位置にない場合、メインコントローラ63は
動作を中止し、装置を停止させる。装置を停止させた
後、メインコントローラ63はインタフェース81の信
号を再度読み込み、異常の原因を表示画面(図示せず)
に表示し、オペレータの指示を待つ。
【0046】次に、搬送装置20によるオートティーチ
ングについて説明する。オートティーチングを実現する
ためには、ウエハ搬送装置と対象ウエハとの相対一を三
次元データとして取り込む必要がある。すなわち、 Z方向データ:垂直方向 X方向データ:フォークの前後軸方向 Y方向データ:θ方向 である。
【0047】静電容量センサーを使用した場合、Z方向
データは直接測定することができる。一方、X方向、Y
方向の位置のデータ化は以下のようにして行う。すなわ
ち、ウエハがオフセットしていれば、センサーが検出す
る外周の位置がずれるが、正規の位置に対するずれ量か
らウエハのオフセット量を逆に求める。具体的には、 (1)X方向データ=2つの外周位置のデータの平均値
(2つのセンサのX方向データの平均値) (2)Y方向データ=(2つの外周位置のデータの差)
/1.218 つまり、(2つのセンサのX方向データの差)/1.2
18このことを図11および図12に示す。
【0048】図11はX方向の位置をデータ化する方法
を示すものであり、一方がオフセットしておらず他方が
X方向に18.417mmオフセットしている状態を示
している。図12の(a)〜(d)はY方向の位置をデ
ータ化する方法を示すものであり、(a)〜(d)はX
方向データの差がそれぞれ0.609mm、1.218
mm、1.827mm、2.436mmであり、これら
からY方向のオフセット量を求めると、それぞれ0.5
mm、1mm、1.5mm、2mmとなる。
【0049】以上は、搬送装置の移載用フォーク一枚に
つき、その両側にセンサーを設けた場合について示した
が、複数のフォークのうち少なくとも1つの一方の側
部、および他のフォークのうち少なくとも1つの前記一
方の側部と反対側の他の側部に取り付けられるようにし
てもよい。例えば、図13に示すように上述のフォーク
59bには一方の側部のみにセンサーヘッド71cを取
り付けるようにし、フォーク59aのうち少なくとも1
つに、図14に示すように、上記一方の側部とは反対側
の側部のみにセンサーヘッド71dを取り付けるように
することができる。このようにすることにより、センサ
ーの数を削減することができる。
【0050】このような構成の搬送装置によりオートテ
ィーチングを行う際には、低い位置にあるほうのセンサ
ーを上昇させて使用することにより、両側にセンサーを
設けた場合と同様に2種類のデータを取り込むことがで
きる。
【0051】この際のティーチング動作を図15に示
す。(a)に示すように、複数枚のフォーク59a(n
枚葉側)を安全な状態でそれぞれウエハの下方に挿入す
る(ステップ1)。センサー出力を確認し(ステップ
2)、その値が所定範囲であればウエハとの距離を計算
し(ステップ3)、その値が所定範囲に達していなけれ
ばフォークを例えば5mm上昇させ(ステップ4)、再
びステップ2を実行し、これを所定値に達するまで繰り
返す。次に、フォークを所定の高さまで移動しZ方向デ
ータ(Z−data/n)を求める(ステップ5)。そ
の後、フォーク59aを前後軸方向に中間地点まで移動
させ(ステップ6)、その際のセンサー出力を把握する
(ステップ7)。そして、そのデータに基づいてウエハ
外周位置を計算し、X方向データ(X−data/n)
を求める(ステップ8)。
【0052】(b)に示すように、フォーク59b(1
枚葉側)についても安全な状態でウエハの下方に挿入し
(ステップ9)、センサー出力を確認し(ステップ1
0)、その値が所定範囲であればウエハとの距離を計算
し(ステップ11)、その値が所定範囲に達していなけ
ればフォークを例えば5mm上昇させ(ステップ1
2)、再びステップ10を実行し、これを所定値に達す
るまで繰り返す。そして、フォークを所定の高さまで移
動しZ方向データ(Z−data/1)を求める(ステ
ップ13)。その後、フォーク59bを前後軸方向に中
間地点まで移動させ(ステップ14)、その際のセンサ
ー出力を把握する(ステップ15)。そして、そのデー
タに基づいてウエハ外周位置を計算し、X方向データ
(X−data/1)を求める(ステップ16)。
【0053】この際のデータ化は以下のようにして行
う。 ウエハの高さZ=(Z−data/n+Z−data/1)/2 ウエハの位置X=(X−data/n+X−data/1)/2+X0 ウエハの位置Y=(X−data/n−X−data/1)/1.218 +Y0 次に、ティーチング終了後、本発明の搬送装置による実
際のウエハの搬送動作の概略について、図16および図
17を参照して説明する。ここでは、フォーク59bの
動作について説明するが、フォーク59aについても同
様に動作される。
【0054】まず、予めメインコントローラ63に設定
された基本動作に従って、移載装置20のアーム51を
上下方向(Z方向)に移動させ、これにより、フォーク
59bのレベルが、キャリアC内に収容された移載すべ
き対象ウエハWに適合したレベルとされると共に、アー
ム51をθ方向に旋回させ、アーム51をキャリアCに
正対する状態、すなわちフォーク59bの前進方向の移
動線上にキャリアCの正面中心が存在する状態にする。
これにより、アーム51がキャリアCに対して移載作業
位置状態となり、この状態からフォーク59bを前進さ
せ、対象ウエハWの下方に挿入する(ステップ21)。
【0055】この状態で、センサ70a、70bにより
フォーク59bとウエハWとの距離を検出する(ステッ
プ22)。メインコントローラー63において、上述し
たように、この検出された情報と、予め記憶された設定
情報とに基づいて演算処理が行われる(ステップ2
3)。
【0056】そして、演算処理の結果、検出値が設定値
の範囲内であれば、フォーク59bを僅かに上昇し、こ
れにより、ウエハWが掬い上げられてフォーク上に担持
される(ステップ24)。
【0057】演算処理の結果、検出値が設定値の範囲外
であれば、移載装置を停止し(ステップ25)、アラー
ムを発生する(ステップ26)。そして、適宜の調整が
行われた後、装置の動作が再開される。
【0058】フォーク59bとウエハWとの距離が設定
範囲内であることが確認され、ウエハWがフォーク59
bに載せられた後は、2つのセンサ−70a、70bに
よりウエハWの傾斜を検出する(ステップ27)。
【0059】メインコントローラー63において、セン
サーからの傾斜情報と、予め記憶された設定情報とに基
づいて演算処理が行われる(ステップ28)。演算処理
の結果、検出値が設定値の範囲内であれば、フォーク5
9bを後退させ、対象ウエハWをキャリアCから取り出
す(ステップ29)。
【0060】演算処理の結果、検出値が設定値の範囲外
であれば、移載装置を停止し(ステップ30)、アラー
ムを発生する(ステップ31)。そして、適宜の調整が
行われた後、装置の動作が再開される。
【0061】次いで、対象ウェハWをキャリアCから取
り出し、フォーク59b上にウエハを載せた状態とした
後、アーム51を上下方向(Z方向)に移動させ、フォ
ーク59bのレベルをウエハボート21における対象ウ
エハWを配置すべき支持溝に適合したレベルにすると共
に、アーム51を旋回させてウエハボート21に正対す
る状態とする。この状態からフォーク59bを前進さ
せ、ウエハWを載せたフォーク59bがウエハボート2
1内に挿入される(ステップ32)。この際にセンサ7
0a、70bによりフォーク上のウエハが存在すること
を検出することによって、ウエハの脱落がなくて移載作
業の続行が可能であることが確認される。
【0062】次に、フォーク59bを所定の距離だけ僅
かに下降させ(ステップ33)、次いでセンサ70a、
70bによりフォーク59bとウエハWとの距離を検出
する(ステップ34)。
【0063】メインコントローラー63において、この
検出された情報と、予め記憶された設定情報とに基づい
て演算処理が行われる(ステップ35)。演算処理の結
果、検出値が設定値の範囲内であれば、フォーク59b
を所定量下降させ、所定量未満の場合は再度フォークを
下げ、下降量が設定値になるまで繰り返して設定値の範
囲内になってから下降される。これにより対象ウエハW
がウエハボート21の支持溝上に残り、ウエハボート2
1に対象ウエハWが配置される(ステップ36)。
【0064】その後、フォーク59bを後退させ、ウェ
ハーボート21から引き抜く(ステップ37)。同様の
動作により、次のウエハWについての搬送および移載動
作が実行され、この一連の動作が繰り返されることによ
り、キャリアCからウエハボートへウエハWが移載され
る。ここに、キャリアCおよびウエハボートにウエハを
入れる際には、通常上から順に行われ、抜き出す場合に
は、通常下から順に行われる。
【0065】また、センサーからの信号を解釈するコン
トローラがインターフェイス81とメインコントローラ
63と2つあるのは、図8に示すアナログデータを解釈
するのに時間がかかるためであり、通常の動作時はメイ
ンコントローラがアナログデータを解釈していたのでは
動作が間に合わない。したがって、インターフェイス8
1でON/OFF信号に変換し、このON/OFF信号
に従って動作するようにする。オートティーチング時
は、速度を犠牲にしてもメインコントローラで制御し動
作させる。
【0066】なお、本発明に係る搬送装置は、その具体
的構成が上記の実施例に限定されるものではなく、例え
ばハンドリングアーム、ウエハ担持用フォークの形状、
駆動機構などは適宜のものを用いることができる。更
に、ウエハ支持体は、キャリアあるいはウエハボートと
称されるものに限定されるものではなく、種々のウエハ
支持体に適用することができる。更に、本発明は、半導
体ウエハ以外の板状の被処理物、例えばLCD、その他
の基板を搬送する装置にも適用することができる。
【0067】
【発明の効果】本発明によれば、正確にオートティーチ
ングを行うことができ、かつウエハボート、ウエハキャ
リアなどの基板支持部材に対し、基板が常に適正な位置
関係を維持しているか否かを確認しながら高い信頼性で
基板を搬送することができ、さらに安価に製作すること
ができる基板搬送装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基板搬送装置が適用される半導体ウエ
ハの熱処理装置の一例を示す斜視図。
【図2】図1の熱処理装置における半導体ウエハの搬送
を説明するための斜視図。
【図3】本発明の一実施例に係る搬送装置を用いてウエ
ハをウエハキャリヤおよびウエハボートの間で移載する
状態を示す斜視図。
【図4】本発明の一実施例に係る搬送装置によりウエハ
キャリアからウエハを取り出す動作を説明するための斜
視図。
【図5】同様にウエハキャリアからウエハを取り出す動
作を説明するための側面図。
【図6】本発明の搬送装置に用いられるフォークの構成
を示す平面図。
【図7】本発明の搬送装置に用いられるフォークに取り
付けられた静電容量センサーのコントローラへの接続状
態を示す図。
【図8】本発明の搬送装置に用いられる静電容量センサ
ーおいて、ウエハにセンサーヘッドを接近させた場合の
センサー出力の変化を示すグラフ。
【図9】本発明の搬送装置に用いられる非接触センサー
としての静電容量センサーおいて、センサーヘッドをウ
エハ下方に所定長離隔した位置に保った状態からフォー
クを前後軸方向に沿って駆動し、センサーヘッドをウエ
ハの下から引き出す動作中のセンサー出力を示すグラ
フ。
【図10】非接触センサーの情報に基づいて基板搬送装
置を制御するためのメインコントローラを示すブロック
図。
【図11】本発明の搬送装置によりオートティーチング
を行う際における、X方向の位置をデータ化する方法を
示す図。
【図12】本発明の搬送装置によりオートティーチング
を行う際における、Y方向の位置をデータ化する方法を
示す図。
【図13】本発明に用いられるフォークの他の例を示す
図。
【図14】本発明に用いられるフォークのさらに他の例
を示す図。
【図15】図13および図14に示すフォークを用いて
オートティーチングを行う際のフローを説明するための
フローチャート。
【図16】本発明に基づいてキャリアからウエハを取り
出す際のフローの概略を説明するフローチャート。
【図17】本発明に基づいてウエハをウエハボートに収
容する際のフローを説明するフローチャート。
【符号の説明】
10……熱処理装置、20……搬送装置、21……ウエ
ハボート、52……支持台、59a,59b……フォー
ク、63……メインコントローラ、70a,70b……
静電容量センサー、71a,71b,71c,71d…
…センサーヘッド、C……キャリア、W……半導体ウエ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の基板を支持する第1の基板支持部
    材と第2の基板支持部材との間で基板を搬送する基板搬
    送装置であって、 前記第1の基板支持部材との間で移載作業を行うことが
    可能な第1の移載作業位置および第2の基板支持部材と
    の間で移載作業を行うことが可能な第2の移載作業位置
    の間で移動可能な搬送装置本体と、 この搬送装置本体に対して進退可能に設けられ、前記第
    1および第2の基板支持部材の基板支持部との間で基板
    の受け渡しを行うためのフォークと、 このフォークの両側部に取り付けられ、前記フォークと
    一体的に進退移動し、基板までの距離および基板の水平
    面内の位置を検出する非接触型センサーと、 を具備する基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 複数の基板を支持する第1の基板支持部
    材と第2の基板支持部材との間で基板を搬送する基板搬
    送装置であって、 前記第1の基板支持部材との間で移載作業を行うことが
    可能な第1の移載作業位置および第2の基板支持部材と
    の間で移載作業を行うことが可能な第2の移載作業位置
    の間で移動可能な搬送装置本体と、 この搬送装置本体に対して進退可能に、かつ垂直方向に
    重なるように設けられ、前記第1および第2の基板支持
    部材の基板支持部との間で基板の受け渡しを行うための
    複数のフォークと、 前記複数のフォークのうち少なくとも1つの一方の側
    部、および他のフォークのうち少なくとも1つの前記一
    方の側部と反対側の他の側部に取り付けられ、これらフ
    ォークと一体的に進退移動し、基板までの距離および基
    板の水平面内の位置を検出する少なくとも2つの非接触
    型センサーと、 を具備する基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 前記非接触型センサーは静電容量センサ
    ーであることを特徴とする請求項1または請求項2に記
    載の基板搬送装置。
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