JPH08327570A - Sample holder - Google Patents
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- JPH08327570A JPH08327570A JP7130678A JP13067895A JPH08327570A JP H08327570 A JPH08327570 A JP H08327570A JP 7130678 A JP7130678 A JP 7130678A JP 13067895 A JP13067895 A JP 13067895A JP H08327570 A JPH08327570 A JP H08327570A
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- analysis
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- height
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Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は試料ホルダの改良に関
し、特に表面分析などを行う分析装置を用いて試料の表
面分析などをしようとするその表面の高さ位置を正確に
調整できるようにしたものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement of a sample holder, and more particularly, to enabling the height position of the surface of a sample to be accurately adjusted by using an analyzer for surface analysis. It is a thing.
【0002】[0002]
【従来の技術】先ず、表面分析などを行うことができる
分析装置の一例を図4乃至図11を参照して説明する。
図4は分析装置の一つである現用のオージェ電子分光分
析装置の概念的構成図であり、図5は試料ステージにセ
ットした試料の設定位置を調整するための調整装置であ
り、図6はオージェ電子分光分析装置にセットした試料
の設定位置の不備に伴う深さ方向分析における誤差発生
の説明図であり、図7はオージェ電子分光分析装置にセ
ットした試料の設定位置変化に伴う誤差の発生を模式的
に示した説明図であり、図8は図4に示したオージェ電
子分光分析装置にセットするための現用の試料ホルダに
高さが高い試料を装着した状態を示していて、同図Aは
その平面図、同図Bは同図AのA−A線上における断面
側面図であり、図9は図4に示したオージェ電子分光分
析装置にセットするための現用の試料ホルダに高さが低
い試料を装着した状態を示していて、同図Aはその平面
図、同図Bは同図AのA−A線上における断面側面図で
あり、図10は表面分析しようとする試料の一例である
磁気ヘッド装置の斜視図であり、そして図11は図10
に示した磁気ヘッド装置を装着した現用の試料ホルダの
断面側面図である。2. Description of the Related Art First, an example of an analyzer capable of surface analysis will be described with reference to FIGS.
FIG. 4 is a conceptual configuration diagram of a current Auger electron spectroscopic analyzer which is one of the analyzers, FIG. 5 is an adjusting device for adjusting the set position of the sample set on the sample stage, and FIG. 6 is FIG. 7 is an explanatory diagram of the error generation in the depth direction analysis due to the improper setting position of the sample set in the Auger electron spectroscopic analysis device, and FIG. 7 shows the error occurrence due to the change of the setting position of the sample set in the Auger electron spectroscopic analysis device. FIG. 8 is a schematic diagram showing a state in which a high-height sample is mounted on a current sample holder for setting in the Auger electron spectroscopy analyzer shown in FIG. 4. FIG. 9A is a plan view of the same, FIG. 9B is a cross-sectional side view taken along the line AA of FIG. 9A, and FIG. 9A is a height of a current sample holder for setting in the Auger electron spectroscopic analyzer shown in FIG. A sample with a low FIG. A is a plan view of the same, FIG. B is a sectional side view taken along the line AA in FIG. A, and FIG. 10 shows a magnetic head device as an example of a sample to be surface-analyzed. 11 is a perspective view, and FIG. 11 is FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional side view of a current sample holder equipped with the magnetic head device shown in FIG.
【0003】先ず、図4を参照して、断面などの表面を
観察或いは分析(以下、単に「分析」と記す)できるオ
ージェ電子分光分析装置の構成及びその動作を説明す
る。このオージェ電子分光分析装置50としては、例え
ば、日本電子株式会社製のJAMP−30型を挙げるこ
とができる。このオージェ電子分光分析装置50は分析
しようとする物質である試料に電子を照射すると、試料
の分析しようとする表面(以下、単に「分析面」と略記
する)から特性X線などと共に二次電子、反射電子、オ
ージェ電子が放出される。このオージェ電子は固体表面
の元素の種類に固有のエネルギを持つため、エネルギを
測定することにより試料の元素分析を行うことができ
る。First, referring to FIG. 4, the structure and operation of an Auger electron spectroscopic analyzer capable of observing or analyzing a surface such as a cross section (hereinafter simply referred to as "analysis") will be described. Examples of the Auger electron spectroscopic analyzer 50 include JAMP-30 type manufactured by JEOL Ltd. When the Auger electron spectroscopic analyzer 50 irradiates a sample, which is a substance to be analyzed, with electrons, secondary electrons are emitted from a surface of the sample to be analyzed (hereinafter simply referred to as “analysis surface”) along with characteristic X-rays. , Reflected electrons, and Auger electrons are emitted. Since the Auger electrons have energy specific to the type of element on the solid surface, elemental analysis of the sample can be performed by measuring the energy.
【0004】図4に示したように、オージェ電子分光分
析装置50には分析室51と、試料を交換するために分
析室51に隣接して配置された試料交換室52とが設け
られている。分析室51にはチタンゲッターポンプ5
3、ベーキングヒータ54からなる分析室イオンポンプ
55が設けられ、分析時は分析室51内は10-6乃至1
0-7Paの超高真空とされる。分析室51内には後記の
試料ホルダ10が設置される試料ステージ56が設けら
れ、この試料ステージ56は、図5に示した試料の設定
位置を正確に調整する設定位置調整装置80により、水
平面内のX、Y軸方向、垂直なZ軸方向、Z軸周りの回
転方向、試料面を水平面から傾斜させる傾斜方向に移動
できるように構成されている。As shown in FIG. 4, the Auger electron spectroscopy analyzer 50 is provided with an analysis chamber 51 and a sample exchange chamber 52 arranged adjacent to the analysis chamber 51 for exchanging samples. . Titanium getter pump 5 in analysis room 51
3. An analysis room ion pump 55 consisting of a baking heater 54 is provided, and the inside of the analysis room 51 is 10 −6 to 1 during analysis.
An ultrahigh vacuum of 0 -7 Pa is used. A sample stage 56, on which the sample holder 10 described later is installed, is provided in the analysis chamber 51. The sample stage 56 is adjusted by the setting position adjusting device 80 for accurately adjusting the setting position of the sample shown in FIG. It is configured so that it can be moved in the X and Y axis directions, the vertical Z axis direction, the rotation direction around the Z axis, and the tilt direction in which the sample surface is tilted from the horizontal plane.
【0005】分析室51内にはオージェ電子励起用の電
子線を発生する電子銃57と、試料Sから放出された信
号を検出するための二次電子検出器58、オージェ電子
検出器59及び試料Sをスパッタするためのイオン銃6
0が臨み、これらの作用中心軸は試料ステージ56上の
標準物質(例えば、シリコンウエハ上に形成された熱酸
化膜SiO2 )を用いて試料面上で1点(分析点)で交
わるように予め調整されている。通常の分析の際はこの
分析点に分析したい試料面が位置するように試料ステー
ジ56の位置調整が行われる。An electron gun 57 for generating an electron beam for Auger electron excitation, a secondary electron detector 58 for detecting a signal emitted from the sample S, an Auger electron detector 59 and a sample are provided in the analysis chamber 51. Ion gun 6 for sputtering S
0 appears, and these action center axes intersect at one point (analysis point) on the sample surface using a standard substance (for example, a thermal oxide film SiO 2 formed on a silicon wafer) on the sample stage 56. It is adjusted in advance. During normal analysis, the position of the sample stage 56 is adjusted so that the sample surface to be analyzed is located at this analysis point.
【0006】電子銃57には電子銃室イオンポンプ61
が連絡され、この電子銃室イオンポンプ61にて真空に
された電子銃57から射出された電子ビームはファラデ
ーカップ62を介して試料ステージ56上の試料Sに照
射され、そこから放出されたオージェ電子はオージェ電
子検出器59により検出され、プリアンプ63で増幅さ
れて所要の測定がなされるように構成されている。The electron gun 57 has an electron gun chamber ion pump 61.
The electron beam emitted from the electron gun 57, which is evacuated by the electron gun chamber ion pump 61, is irradiated onto the sample S on the sample stage 56 via the Faraday cup 62, and the auger emitted from the sample S is emitted. The electrons are detected by the Auger electron detector 59, amplified by the preamplifier 63, and the required measurement is performed.
【0007】分析室51と試料交換室52との間には、
開閉バルブ64が設けられ、この開閉バルブ64によっ
て分析室51と試料交換室52との連通、遮断が行われ
る。試料交換室52にはバルブ65を介してターボモレ
キュラポンプ66、ロータリーポンプ67が連結され、
これらによって試料交換室52は10-6Pa程度の真空
まで減圧される。Between the analysis chamber 51 and the sample exchange chamber 52,
An opening / closing valve 64 is provided, and the opening / closing valve 64 connects and disconnects the analysis chamber 51 and the sample exchange chamber 52. A turbo molecular pump 66 and a rotary pump 67 are connected to the sample exchange chamber 52 via a valve 65.
By these, the sample exchange chamber 52 is depressurized to a vacuum of about 10 −6 Pa.
【0008】試料交換室52には試料交換装置68が配
設されており、試料交換室52の扉(不図示)を開くこ
とで、前記試料交換装置68の試料交換棒69を用いて
外部から試料ホルダ10を着脱できるようになってい
る。試料交換装置68は前記扉が閉じられた状態で外部
からマグネットなどを用いた遠隔操作によって操作さ
れ、試料ステージ56に対して試料ホルダ10の交換を
行うように構成されている。A sample exchanging device 68 is disposed in the sample exchanging chamber 52. By opening a door (not shown) of the sample exchanging chamber 52, a sample exchanging rod 69 of the sample exchanging device 68 is used to externally open the sample exchanging device 68. The sample holder 10 can be attached and detached. The sample exchange device 68 is configured to exchange the sample holder 10 with respect to the sample stage 56 by being operated from the outside by remote operation using a magnet or the like with the door closed.
【0009】また、オージェ電子分光分析装置50に
は、適宜、ピラニゲージ70、イオンゲージ71、バル
ブ72が配設されている。Further, the Auger electron spectroscopic analyzer 50 is appropriately provided with a Pirani gauge 70, an ion gauge 71, and a valve 72.
【0010】試料ホルダ10の交換に際しては、試料交
換室52内を大気圧として試料交換室52の扉を開け、
試料交換装置68の試料交換棒69の先端に新たに交換
する試料ホルダ10の試料交換棒取付け雌ねじ(不図
示)を用いて装着し、それを試料交換室52内に入れて
扉を閉じる。次に、試料交換室52を減圧してから試料
交換室52と分析室51との間の開閉バルブ64を開
け、遠隔操作にて試料交換装置68の試料交換棒69を
開閉バルブ64を通って分析室51内に延ばし、試料ホ
ルダ10を試料ステージ56上に載せる。その後は試料
交換棒69を試料交換室52内に退避させ、開閉バルブ
64を閉じて分析室51内を超高真空に減圧する。ま
た、試料ホルダ10を前記試料ステージ56から取り出
す場合は前記の手順と逆の手順を採って行う。When replacing the sample holder 10, the inside of the sample exchange chamber 52 is set to atmospheric pressure and the door of the sample exchange chamber 52 is opened.
The sample exchange rod 69 of the sample exchange device 68 is attached to the tip end of the sample holder 10 by using the sample exchange rod attachment female screw (not shown) of the sample holder 10 to be newly exchanged, and it is put into the sample exchange chamber 52 and the door is closed. Next, after decompressing the sample exchange chamber 52, the open / close valve 64 between the sample exchange chamber 52 and the analysis chamber 51 is opened, and the sample exchange rod 69 of the sample exchange device 68 is remotely operated through the open / close valve 64. The sample holder 10 is extended into the analysis chamber 51, and the sample holder 10 is placed on the sample stage 56. After that, the sample exchange rod 69 is retracted into the sample exchange chamber 52, the opening / closing valve 64 is closed, and the inside of the analysis chamber 51 is depressurized to an ultrahigh vacuum. Further, when the sample holder 10 is taken out from the sample stage 56, the procedure reverse to the above procedure is performed.
【0011】次に、図8を参照して、前記オージェ電子
分光分析装置50に用いられている試料ホルダ10の構
造を説明する。この試料ホルダ10は、上面から見て外
形がほぼ長方形をし、水平面11Aが形成された基台1
1とその一端部には基台11の水平面11Aに対して垂
直面12Aを形成して立ち上がった台部12と基台11
の他端部にはコイル状のスプリング16の基端部を固定
するスプリング固定ブロック13がビス止めされてい
る。そして、前記台部12の上面には、前記垂直面12
Aと同一垂直面を形成する垂直面14Aが形成され、そ
して前記基台11の水平面11Aと平行に形成されたコ
の字型の高さ規制薄板15とから構成された試料固定板
14が一体的に形成されている。前記高さ規制薄板15
の厚さは0.2〜0.4mm程度である。更に前記スプ
リング16が装着された杆17の基部が前記スプリング
固定ブロック13の中央部に遊嵌し、その杆17の先端
部には前記試料固定板14の垂直面12Aと平行な垂直
面18Aが形成された試料抑え板18が固定されてお
り、この試料抑え板18はスプリング16の弾性力で常
時試料固定板14の方に押圧されている。Next, the structure of the sample holder 10 used in the Auger electron spectroscopy analyzer 50 will be described with reference to FIG. The sample holder 10 has a substantially rectangular outer shape when viewed from above, and a base 1 on which a horizontal surface 11A is formed.
1 and one end thereof, a vertical surface 12A is formed with respect to a horizontal surface 11A of the base 11, and the base 12 and the base 11 are raised.
A spring fixing block 13 for fixing the base end of the coiled spring 16 is screwed to the other end of the. The vertical surface 12 is formed on the upper surface of the base 12.
A vertical surface 14A forming the same vertical surface as A is formed, and a sample fixing plate 14 composed of a U-shaped height regulating thin plate 15 formed in parallel with the horizontal surface 11A of the base 11 is integrated. Has been formed. The height control thin plate 15
Has a thickness of about 0.2 to 0.4 mm. Further, the base of the rod 17 on which the spring 16 is mounted is loosely fitted in the central portion of the spring fixing block 13, and the tip of the rod 17 has a vertical surface 18A parallel to the vertical surface 12A of the sample fixing plate 14. The formed sample holding plate 18 is fixed, and the sample holding plate 18 is constantly pressed toward the sample fixing plate 14 by the elastic force of the spring 16.
【0012】図8において、試料ホルダ10の左端中央
部には試料交換棒取付け雌ねじ19が形成されており、
この試料交換棒取付け雌ねじ19に試料交換棒69(図
4)をねじ込んで取り付け、前記のように、試料Sを装
着した試料ホルダ10をオージェ電子分光分析装置50
の試料交換室52から試料ステージ56の上面にセット
し、或いはこれから取り出せるような構造になってい
る。In FIG. 8, a sample exchange rod mounting female screw 19 is formed at the center of the left end of the sample holder 10.
A sample exchange rod 69 (FIG. 4) is screwed into and attached to the female screw 19 for attaching the sample exchange rod, and as described above, the sample holder 10 on which the sample S is attached is attached to the Auger electron spectroscopy analyzer 50.
The sample exchange chamber 52 can be set on the upper surface of the sample stage 56 or can be taken out therefrom.
【0013】符号Saは試料であって、試料Saをこの
試料ホルダ10に装着する場合には、図8においてスプ
リング16を収縮させるように試料抑え板18を右方に
移動させ、即ち、試料固定板14から開き、この間に試
料Saを挿入し、そして試料抑え板18をスプリング1
6の弾性力で前記試料固定板14の方に移動させ、前記
台部12の垂直面12Aと試料固定板14の垂直面14
Aとから一体的に形成された垂直面と試料抑え板18の
垂直面18Aとの間に挟み、固定する。この場合、試料
Saの厚みによってスプリング16が伸縮する。更に試
料ホルダ10に分析しようとする試料Saを装着する場
合には、分析面を上面にして、その分析面を高さ規制薄
板15の上面と同一面になるように装着することが望ま
しいことであるが、その試料の分析面の幅が高さ規制薄
板15より広い場合は、その分析面を高さ規制薄板15
の下面に当接させ、試料の分析面の幅が高さ規制薄板1
5のコの字の幅より狭い場合は、その分析面を高さ規制
薄板15のコの字部から臨ませ、高さ規制薄板15の上
面と同一の高さになるように装着する。この理由は後記
する。Reference numeral Sa is a sample. When the sample Sa is mounted on the sample holder 10, the sample holding plate 18 is moved to the right so as to contract the spring 16 in FIG. 8, that is, the sample is fixed. Open from the plate 14, insert the sample Sa between them, and attach the sample holding plate 18 to the spring 1
6 is moved toward the sample fixing plate 14 by the elastic force of 6, and the vertical surface 12A of the base 12 and the vertical surface 14 of the sample fixing plate 14 are moved.
It is sandwiched and fixed between a vertical surface integrally formed from A and the vertical surface 18A of the sample pressing plate 18. In this case, the spring 16 expands and contracts depending on the thickness of the sample Sa. Further, when mounting the sample Sa to be analyzed on the sample holder 10, it is desirable to mount the analysis surface on the upper side and the analysis surface on the same plane as the upper surface of the height regulating thin plate 15. However, when the width of the analysis surface of the sample is wider than the height regulating thin plate 15, the analysis surface is set to the height regulating thin plate 15.
The width of the analysis surface of the sample is brought into contact with the lower surface of the
If the width is smaller than the width of the U-shape of 5, the analysis surface is mounted so as to face the U-shape of the height-regulating thin plate 15 and be flush with the upper surface of the height-regulating thin plate 15. The reason for this will be described later.
【0014】試料ステージ56にセットされた試料ホル
ダ10上の試料の分析面は前記試料ステージ56を調整
することにより所定の設定面出しが行われる。試料ステ
ージ56はX軸、Y軸、Z軸方向に移動できるばかり
か、図示していないが、試料ステージ56にはZ軸回り
に回転自在なテーブルが設けられており、そのテーブル
の上面が試料ステージ56の試料ホルダ10の所定の設
定位置とされている。試料ステージ56に試料ホルダ1
0がセットされた後、試料交換棒69をネジを解く方向
に回転して試料交換棒取付け雌ねじ19との螺合を解
き、試料交換棒69を、図4に示したように、試料交換
室52に後退させる。The analysis surface of the sample on the sample holder 10 set on the sample stage 56 is subjected to a predetermined set surface adjustment by adjusting the sample stage 56. Not only is the sample stage 56 movable in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions, but the sample stage 56 is provided with a table rotatable about the Z-axis, and the upper surface of the table is the sample. It is set to a predetermined setting position of the sample holder 10 of the stage 56. Sample holder 1 on the sample stage 56
After 0 is set, the sample exchange rod 69 is rotated in a direction to unscrew the screw so as to be unscrewed from the female screw 19 for mounting the sample exchange rod, and the sample exchange rod 69 is moved to the sample exchange chamber as shown in FIG. Retreat to 52.
【0015】試料ステージ56にセットされた試料ホル
ダ10上の試料の分析面がオージェ電子分光分析装置5
0の分析点に位置するように、図5に示したように、オ
ージェ電子分光分析装置50自体に備えつけられている
調整装置80によって行われる。この設定位置の調整
は、時間を要する操作であり、以下の手順で行われる。The analysis surface of the sample on the sample holder 10 set on the sample stage 56 is the Auger electron spectroscopic analyzer 5.
As shown in FIG. 5, the adjustment device 80 provided in the Auger electron spectroscopic analysis device 50 itself is positioned so as to be located at the analysis point 0. This adjustment of the set position is a time-consuming operation and is performed in the following procedure.
【0016】オージェ電子分光分析装置50に付属して
いる走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、試料の分析
面から適当な目印(例えば、表面の付着塵埃、傷など)
になるものを見つけ出す。この目印を基準とし、分析時
の傾斜角度を中心として±5°の範囲で試料を傾斜さ
せ、移動するSEM像を観察しながら高さを合わせて行
き、SEM像が動かなくなるまでこれを繰り返す。つま
り、試料の分析面が所定の分析点上に無い場合は、試料
を傾斜させるとその分析面がZ軸方向に移動するので、
これがなくなれば位置調整が行われたとすることができ
る。Using a scanning electron microscope (SEM) attached to the Auger electron spectroscopic analyzer 50, an appropriate mark (for example, dust adhering to the surface, scratches, etc.) can be seen from the analysis surface of the sample.
Find out what becomes. Using this mark as a reference, the sample is tilted in the range of ± 5 ° around the tilt angle at the time of analysis, the height is adjusted while observing the moving SEM image, and this is repeated until the SEM image does not move. That is, when the analysis surface of the sample is not on a predetermined analysis point, tilting the sample moves the analysis surface in the Z-axis direction.
If this disappears, it can be considered that the position adjustment has been performed.
【0017】実際の位置調整は、調整装置80のX軸つ
まみ81、Y軸つまみ82、Z軸つまみ83、傾斜つま
み84を用いてそれぞれ試料ステージ56をX軸、Y
軸、Z軸、傾斜方向に移動させることで行われる。例え
ば、試料の分析面を40°傾斜させて分析する場合は、
先ず、傾斜つまみ84で試料ステージ56を35°(4
0°−5°)に傾斜させ、SEM像を観察して目印が中
央(分析点)に来るようにX軸つまみ81及びY軸つま
み82で合わせる。次に、傾斜つまみ84で試料ステー
ジ56を45°(40°+5°)に傾斜させ、SEM像
がずれた分を高さを調整するZ軸つまみ83で合わせ
る。この操作は少なくとも10数回繰り返さなければな
らず、最終的にはSEM倍率を3000倍にして、傾斜
角を移動させた時、SEM像は分析点と一致して動かな
くなるようにする。この操作の過程では高さが変化する
ため、常にフォーカスと非点を合わせ、像をクリアな状
態にして調整することが必要である。For actual position adjustment, the X-axis knob 81, the Y-axis knob 82, the Z-axis knob 83, and the tilt knob 84 of the adjusting device 80 are used to move the sample stage 56 to the X-axis and Y-axis, respectively.
It is performed by moving in the axis, Z axis, and tilt directions. For example, when analyzing the sample with the analysis surface inclined by 40 °,
First, with the tilt knob 84, the sample stage 56 is moved to 35 ° (4
(0 ° -5 °), observe the SEM image, and align with the X-axis knob 81 and the Y-axis knob 82 so that the mark comes to the center (analysis point). Next, the sample stage 56 is tilted at 45 ° (40 ° + 5 °) by the tilt knob 84, and the deviation of the SEM image is adjusted by the Z-axis knob 83 for adjusting the height. This operation must be repeated at least ten or more times, and finally the SEM magnification is set to 3000 times so that when the tilt angle is moved, the SEM image does not move in agreement with the analysis point. Since the height changes in the process of this operation, it is necessary to always adjust the focus and the astigmatism to make the image clear.
【0018】ところで、オージェ電子分光分析特有の分
析法として深さ方向分析がある。これは前記のイオン銃
60を用いてイオンエッチングを併用しながら、試料S
の深さ方向の情報を得るものであるが、この分析を行う
際は位置調整は特に重要になり、分析点に試料位置が一
致しない場合、次のような弊害が生じる。By the way, there is depth direction analysis as an analysis method peculiar to Auger electron spectroscopy. This is the sample S using the ion gun 60 together with ion etching.
The position adjustment is particularly important when performing this analysis, and if the sample position does not match the analysis point, the following adverse effects occur.
【0019】今、図6Aに示したように、厚み方向に
A、Bの組成の異なる2種類の層を有する試料Sの分析
について考える。図6Bは試料Sの分析表面位置がオー
ジェ電子分光分析装置50の分析点と一致している状態
であり、この場合は図6Cに示したように、或る深さに
てA、Bの組成の違いをはっきり示したプロファイルを
得ることができる。Now, let us consider analysis of a sample S having two types of layers having different compositions of A and B in the thickness direction as shown in FIG. 6A. FIG. 6B shows a state in which the analysis surface position of the sample S coincides with the analysis point of the Auger electron spectroscopic analysis device 50. In this case, as shown in FIG. 6C, the composition of A and B at a certain depth. It is possible to obtain a profile that clearly shows the difference.
【0020】しかし、図6Dに示したように、試料Sの
分析表面位置がオージェ電子分光分析装置50の分析点
と一致していない場合(この図6Dの例では、試料Sが
分析点に対して高すぎる場合を示している)、斜め方向
から照射されるイオンビームと電子ビームの照射が試料
Sの分析表面で合致せず、電子ビームはイオンビームに
よるエッチングのエッジ部分を照射することとなる。そ
の結果得られるプロファイルは図6Eのように深さ分解
能が低下したものとなり、正確な情報が得られなくなっ
てしまう。However, as shown in FIG. 6D, when the analysis surface position of the sample S does not coincide with the analysis point of the Auger electron spectroscopy analyzer 50 (in the example of FIG. 6D, the sample S is relative to the analysis point). However, the irradiation of the ion beam and the irradiation of the electron beam obliquely does not coincide with each other on the analysis surface of the sample S, and the electron beam irradiates the edge portion of the etching by the ion beam. . As a result, the profile has a reduced depth resolution as shown in FIG. 6E, and accurate information cannot be obtained.
【0021】図7はこの誤差の発生を模式的に示した説
明図である。一例として図7に示したように、電子ビー
ムは100μmの幅で垂直に照射され、イオンビームは
水平から35°傾いた角度で照射されて試料表面上に5
00μm幅のエッチング面を形成する。ここで、図7の
中で(0)で示したように、所定の分析点上に試料の分
析面が位置する時は、電子ビームはイオンビームの50
0μm幅のエッチング面の中央に位置する。FIG. 7 is an explanatory view schematically showing the occurrence of this error. As an example, as shown in FIG. 7, the electron beam is vertically irradiated with a width of 100 μm, and the ion beam is irradiated at an angle inclined by 35 ° from the horizontal direction, and 5
An etching surface having a width of 00 μm is formed. Here, as shown by (0) in FIG. 7, when the analysis surface of the sample is located on a predetermined analysis point, the electron beam is 50
It is located at the center of the etched surface having a width of 0 μm.
【0022】図7の中で(+)で示したように、試料の
分析面が分析点より120μm高くなると、電子ビーム
はその試料のエッチングされた部分のエッジに達してし
まい、正確な分析ができなくなる。同様に、図7の中で
(−)で示したように、試料の分析面が分析点より12
0μm低くなると、電子ビームはその試料のエッチング
された部分の前記エッジとは反対側のエッジに達してし
まい、これもまた正確な分析ができなくなる。従って、
この例においては、試料の分析面を分析点に対して少な
くとも上下120μm未満の誤差内に入るように位置調
整をする必要がある。As shown by (+) in FIG. 7, when the analysis surface of the sample is 120 μm higher than the analysis point, the electron beam reaches the edge of the etched portion of the sample, and accurate analysis is not possible. become unable. Similarly, as shown by (-) in FIG. 7, the analysis surface of the sample is 12 degrees from the analysis point.
At 0 μm lower, the electron beam reaches the edge of the etched part of the sample opposite to the said edge, which again does not allow accurate analysis. Therefore,
In this example, it is necessary to adjust the position of the analysis surface of the sample so that it falls within an error of less than 120 μm above and below the analysis point.
【0023】このように、試料ホルダ10をオージェ電
子分光分析装置50の試料ステージ56に設置した後で
分析に先立って試料の分析面の位置調整をする必要があ
る。図8に示した構造の試料ホルダ10では、これに試
料Saを装着する場合、試料Saを固定板14の高さ規
制薄板15の上面と試料Saの分析面との高さを合わせ
る操作は目視によって行うが、調整装置80のZ軸つま
み83で調整可能な±1.5mmの範囲内に合わせなけ
ればならない。試料Saの分析面の高さ合わせは重要
で、この調整が正確に行われていなければ、前記オージ
ェ電子分光分析装置50内での位置調整が困難となる。
前記のようにZ軸つまみ83による調整可能な範囲は固
定板14の高さ規制薄板15の上面を基準として±1.
5mmの範囲であるため、試料Saを試料ホルダ10に
装着、固定する段階で、前記のように、固定板14の高
さ規制薄板15の上面と試料Saの分析面とが一致して
いるか、分析面が高さ規制薄板15の下面に当接してい
ないと機械的に調整可能な範囲から外れてしまう場合が
ある。As described above, after the sample holder 10 is installed on the sample stage 56 of the Auger electron spectroscopy analyzer 50, it is necessary to adjust the position of the analysis surface of the sample prior to the analysis. In the sample holder 10 having the structure shown in FIG. 8, when the sample Sa is mounted on the sample holder 10, the operation of aligning the sample Sa with the height of the upper surface of the height regulating thin plate 15 of the fixed plate 14 and the analysis surface of the sample Sa is visually performed. However, it must be adjusted within a range of ± 1.5 mm which can be adjusted by the Z-axis knob 83 of the adjusting device 80. It is important to adjust the height of the analysis surface of the sample Sa, and if this adjustment is not performed accurately, it becomes difficult to adjust the position in the Auger electron spectroscopy analyzer 50.
As described above, the adjustable range by the Z-axis knob 83 is ± 1. With reference to the upper surface of the height regulating thin plate 15 of the fixed plate 14.
Since it is in the range of 5 mm, at the stage of mounting and fixing the sample Sa on the sample holder 10, as described above, whether the upper surface of the height regulating thin plate 15 of the fixing plate 14 and the analysis surface of the sample Sa match, If the analysis surface is not in contact with the lower surface of the height-regulating thin plate 15, it may be out of the mechanically adjustable range.
【0024】[0024]
【発明が解決しようとする課題】試料の分析面の高さ合
わせにおいて、図8に示したように、試料Saの高さ
(長さ)寸法が基台11の水平面11Aから固定板14
の高さ規制薄板15の下面までの高さ(図8における寸
法X)と同一であれば問題がないが、図9に示したよう
に、前記寸法Xよりも高さが低い試料Sbを基台11の
水平面11Aから浮かせた状態で、その試料Sbの上面
である分析面と固定板14の高さ規制薄板15の下面と
を合わせる作業は大変難しいことであり、また試料Sb
の固定も不安定なものとなる。このような高さが低い試
料Sbを試料ホルダ10に固定する場合には、インジュ
ウムなどの柔らかい金属を試料Sbの下に敷き、高さを
調整するようにしているが、この調整方法の場合でも、
インジュウムを折り畳み、重ねる操作を何回も繰り返し
て高さを調整し、高さ位置合わせを行わなければならな
い。この調整方法は時間が掛かる上に分析面を一致させ
ることが難しいという問題点があった。When the height of the analysis surface of the sample is adjusted, as shown in FIG. 8, the height (length) of the sample Sa is from the horizontal surface 11A of the base 11 to the fixing plate 14.
There is no problem as long as it is the same as the height (dimension X in FIG. 8) to the lower surface of the height regulating thin plate 15, but as shown in FIG. It is very difficult to align the analysis surface, which is the upper surface of the sample Sb, with the lower surface of the height regulating thin plate 15 of the fixed plate 14 in a state of being floated from the horizontal surface 11A of the table 11, and the sample Sb
The fixation of is also unstable. When fixing such a sample Sb having a low height to the sample holder 10, a soft metal such as indium is laid under the sample Sb to adjust the height, but even in the case of this adjusting method as well. ,
It is necessary to repeat the operation of folding and stacking the indium to adjust the height and perform height alignment. This adjustment method has a problem that it takes time and it is difficult to match the analysis surfaces.
【0025】また、図8及び図9に示したようなブロッ
ク状で試料が平滑な試料の場合は、固定板14に試料面
を押しつければ比較的簡単に固定できるが、実際には試
料面が平滑な試料ばかりを分析するのではない。その一
例として図10に示したような基板Spに固定されてい
る磁気ヘッドSmを挙げることができる。この磁気ヘッ
ドSmを前記試料ホルダ10に装着、固定した場合の断
面図を図11に示した。磁気ヘッドSmは基台11の部
分A、B間に段差があり、実際に分析しようとする分析
面は矢印で示す磁気ヘッドSmの磁気ギャップ部である
部分Cである。このような試料である磁気ヘッドSm
も、その分析面である部分Cの面を固定板14の高さ規
制薄板15のコの字部分の間から臨ませ、高さ規制薄板
15の上面を合わせなければならないが、固定板14と
接触させる平滑な面がない状態で前記高さ合わせを行う
ことが極めて困難である。この発明はこのような問題を
解決しようとするものであって、分析しようとする試料
の高さやその他の形状がどのようなものであっても、正
確に、かつ容易に装着、固定できる試料ホルダを得るこ
とを目的とするものである。In the case of a block-shaped sample having a smooth surface as shown in FIGS. 8 and 9, it can be fixed relatively easily by pressing the sample surface against the fixing plate 14, but in reality, the sample surface is Does not analyze only smooth samples. As an example thereof, a magnetic head Sm fixed to the substrate Sp as shown in FIG. 10 can be cited. FIG. 11 shows a cross-sectional view when the magnetic head Sm is mounted and fixed on the sample holder 10. The magnetic head Sm has a step between the portions A and B of the base 11, and the analysis surface to be actually analyzed is the portion C which is the magnetic gap portion of the magnetic head Sm indicated by the arrow. A magnetic head Sm which is such a sample
Also, the surface of the portion C, which is the analysis surface, must be made to face from between the U-shaped portions of the height regulating thin plate 15 of the fixing plate 14, and the upper surface of the height regulating thin plate 15 must be aligned. It is extremely difficult to perform the height adjustment without a smooth surface to be brought into contact with. The present invention is intended to solve such a problem, and can accurately and easily mount and fix a sample holder regardless of the height or other shape of the sample to be analyzed. The purpose is to obtain.
【0026】[0026]
【課題を解決するための手段】それ故、この発明の試料
ホルダは、水平基準となる水平面が形成された基台と、
この基台の一端部に前記水平面に垂直に形成された基準
垂直面が形成された固定板と、この固定板の上端に、そ
の基準垂直面に対して直角に、そして一体的に形成され
た高さ規制薄板と、前記基台の水平面上に設けられ、前
記固定板の基準垂直面に一端縁を摺動しながら、前記基
台の水平面に平行に上下動でき、前記基台の面積より小
なる面積の試料載置台と、この前記試料載置台の下方に
在り、前記基台の下面から貫通して設けられ、前記試料
載置台を微細に上下動させる上下動微細調節装置と、前
記固定板の垂直面に試料を押圧する試料抑え板と、この
試料抑え板の背面に一端が固定され、他端が前記基台の
他端部に形成された固定部材に遊嵌した杆と、前記試料
抑え板の背面と前記固定部材との間の前記杆に装着され
たコイル状スプリングとから構成して、前記課題を解決
した。Therefore, the sample holder of the present invention comprises a base on which a horizontal plane serving as a horizontal reference is formed,
A fixed plate having a reference vertical surface formed perpendicular to the horizontal plane at one end of the base, and a fixed plate formed at the upper end of the fixed plate at a right angle to the reference vertical surface and integrally with the fixed plate. A height-regulating thin plate and a horizontal plane of the base are provided. While sliding one end edge on a reference vertical plane of the fixed plate, the vertical movement of the base can be made parallel to the horizontal plane of the base, A sample mounting table having a small area, a vertical movement fine adjustment device located below the sample mounting table and penetrating from a lower surface of the base, and vertically moving the sample mounting table in a fine manner. A sample pressing plate for pressing the sample against the vertical surface of the plate, one end fixed to the back surface of the sample pressing plate, the other end loosely fitted to a fixing member formed at the other end of the base, Coil-shaped sprue mounted on the rod between the back surface of the sample holding plate and the fixing member. And constituted by a grayed, solved the above problems.
【0027】[0027]
【作用】従って、この発明の試料ホルダによれば、試料
の高さ寸法、分析面の形状、その他の形状の如何を問わ
ず、分析しようとする試料を試料載置台に載置し、そし
て試料抑え板の押圧力で押圧しながら、試料載置台の下
面から上下動微細調節装置で微細調節し、高さ規制薄板
で高さ位置を規制することにより、分析面の高さの正確
な位置出しができる。Therefore, according to the sample holder of the present invention, the sample to be analyzed is mounted on the sample mounting table irrespective of the height dimension of the sample, the shape of the analysis surface, or any other shape. Accurate positioning of the height of the analysis surface by finely adjusting from the lower surface of the sample mounting table with the vertical movement fine adjustment device while controlling the height position with the height control thin plate while pressing with the pressing force of the holding plate You can
【0028】[0028]
【実施例】次に、図1乃至図3を参照して、この発明の
試料ホルダを説明する。図1はこの発明の試料ホルダの
一実施例に試料を装着し、固定した状態を示していて、
同図Aはその平面図、同図Bは同図AのA−A線上にお
ける断面側面図であり、図2は図1に示したこの発明の
試料ホルダを構成する試料載置台と上下動微細調節装置
との構造を説明するための図であって、同図Aは試料載
置台と上下動微細調節装置の結合構造を示す断面図、同
図Bは上下動微細調節装置の一端部を示す側面図、そし
て同図Cは上下動微細調節装置の他端面を示す底面図で
あり、そして図3は図1に示したこの発明の試料ホルダ
に複数の試料を装着し、固定した状態を示した断面側面
図である。なお、従来技術の試料ホルダ10の構成部分
と同一の構成部分には同一の符号を付して説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the sample holder of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a state in which a sample is mounted and fixed on one embodiment of the sample holder of the present invention.
2A is a plan view thereof, and FIG. 2B is a cross-sectional side view taken along the line AA of FIG. 2A. FIG. 2A and FIG. 3A and 3B are views for explaining the structure of the adjusting device, FIG. A being a cross-sectional view showing the coupling structure of the sample mounting table and the vertical fine adjustment device, and FIG. B being one end of the vertical fine adjusting device. FIG. 3 is a side view and FIG. 3C is a bottom view showing the other end surface of the vertical movement fine adjustment device, and FIG. 3 shows a state in which a plurality of samples are mounted and fixed on the sample holder of the present invention shown in FIG. FIG. The same components as those of the conventional sample holder 10 will be designated by the same reference numerals.
【0029】先ず、図1及び図2を参照して、この発明
の試料ホルダの実施例を説明する。この発明の試料ホル
ダ1は、上面から見て外形がほぼ長方形をし、水平基準
となる水平面11Aが形成された基台11が中心部材と
なっていて、この基台11の一端部には前記水平面11
Aに対して垂直に形成された基準垂直面12Aが形成さ
れている。また、この基準垂直面12Aと同一の基準垂
直面14Aが形成された試料固定板14が前記基台11
と一体的に形成されている。更にこの試料固定板14の
上端に、その基準垂直面14Aに対して直角にコの字型
の高さ規制薄板15が一体的に形成されている。この高
さ規制薄板15の厚さは0.2〜0.4mm程度であ
る。First, an embodiment of the sample holder of the present invention will be described with reference to FIGS. The sample holder 1 of the present invention has a substantially rectangular outer shape when viewed from the top, and a base 11 on which a horizontal plane 11A serving as a horizontal reference is formed is a central member, and one end of the base 11 has the above-mentioned structure. Horizontal 11
A reference vertical surface 12A formed perpendicular to A is formed. In addition, the sample fixing plate 14 having the same reference vertical surface 14A as the reference vertical surface 12A is the base 11
And are formed integrally with it. Further, a U-shaped height regulating thin plate 15 is integrally formed at the upper end of the sample fixing plate 14 at a right angle to the reference vertical surface 14A. The height regulating thin plate 15 has a thickness of about 0.2 to 0.4 mm.
【0030】そして、この発明の試料ホルダ1には、前
記基台11の面積より小面積の金属製試料載置台2が前
記基台11の水平面11A上に設けられており、前記台
部12の基準垂直面12Aから前記試料固定板14の基
準垂直面14Aにその一端縁を摺動させながら基台11
の水平面11Aと平行に上下動できるように構成されて
いる。なお、試料載置台2の前記一端縁とは反対側の端
縁部には、この試料載置台2の前記上下動の平行移動を
安定に確保するために1本または複数本の案内杆3を基
台11を貫通して上下に滑動できるように植設すること
が望ましい。In the sample holder 1 of the present invention, a metal sample mounting table 2 having an area smaller than that of the base 11 is provided on the horizontal surface 11A of the base 11, and The base 11 is slid at its one end from the reference vertical surface 12A to the reference vertical surface 14A of the sample fixing plate 14.
It is configured so that it can move up and down in parallel with the horizontal plane 11A. In addition, one or a plurality of guide rods 3 are provided at an end portion of the sample mounting table 2 opposite to the one end edge in order to stably ensure the parallel movement of the vertical movement of the sample mounting table 2. It is desirable to plant it so that it can slide up and down through the base 11.
【0031】また、この試料載置台2の下面中央部に
は、前記基台11に貫通雌ねじ4が形成されており、こ
の貫通雌ねじ4に基台11の下面から基台11を貫通、
螺合した雄ねじの上下動微細調節装置5が連結されてい
て、この上下動微細調節装置5を回動させることにより
試料載置台2を微細に上下動させることができる。A penetrating female screw 4 is formed on the base 11 at the center of the lower surface of the sample mounting table 2, and the penetrating female screw 4 penetrates the base 11 from the lower surface of the base 11.
The vertically moving fine adjustment device 5 of the screwed male screw is connected, and by rotating the vertically movement fine adjustment device 5, the sample mounting table 2 can be finely moved up and down.
【0032】更にまた、前記固定板14の垂直面14A
に試料Sを押圧するための試料抑え板18が配設されて
おり、この試料抑え板18は、この背面に一端が固定さ
れ、他端が前記基台11の他端部の水平面11A上にビ
ス止めされているスプリング固定ブロック13に形成さ
れた長穴に遊嵌した杆17と、この杆17に装着され、
前記試料抑え板18に押圧力を与え、基端部が前記スプ
リング固定ブロック13に固定されたコイル状のスプリ
ング16とで保持されている。そのスプリング16は試
料抑え板18をその弾性力で常時試料固定板14の方に
押圧している。Furthermore, the vertical surface 14A of the fixed plate 14
A sample pressing plate 18 for pressing the sample S is disposed on the back surface of the base 11. The sample pressing plate 18 has one end fixed to the back surface and the other end on the horizontal surface 11A at the other end of the base 11. A rod 17 loosely fitted in an elongated hole formed in a spring fixing block 13 fixed with a screw, and attached to the rod 17,
A pressing force is applied to the sample pressing plate 18, and the base end portion is held by the coil-shaped spring 16 fixed to the spring fixing block 13. The spring 16 constantly presses the sample holding plate 18 toward the sample fixing plate 14 by its elastic force.
【0033】前記試料載置台2と上下動微細調節装置5
と構造及び両者の連結構造を図2に断面図で示した。金
属製の試料載置台2の下面中央部に上下動微細調節装置
5が連結されている。試料載置台2の下面中央部には、
図2Aに示したように、鍔2A付きの連結穴2Bが形成
されており、この連結穴2Bに、図2Bに示した上下動
微細調節装置5の平型頭部5Aが遊嵌されている。上下
動微細調節装置5の平型頭部5Aと雄ねじ部5Bとの間
には括れ5Cが形成されており、この括れ5Cに前記連
結穴2Bの鍔2Aが嵌まり込んで、試料載置台2と上下
動微細調節装置5とが離れないように連結している。こ
の上下動微細調節装置5の下面には、図2Cに示したよ
うに、直径方向に細溝5Dが形成されていて、この細溝
5Dにドライバなどのネジ回しの先端を挿入して時計方
向に、或いは反時計方向に微細に回動することにより上
下動微細調節装置5が上下動し、従って、前記試料載置
台2を微細に上下動させることができる。The sample mounting table 2 and the vertical movement fine adjustment device 5
The structure and the connecting structure between the two are shown in a sectional view in FIG. A vertical movement fine adjustment device 5 is connected to the central portion of the lower surface of the metal sample mounting table 2. At the center of the lower surface of the sample mounting table 2,
As shown in FIG. 2A, a connection hole 2B with a flange 2A is formed, and the flat head 5A of the vertical movement fine adjustment device 5 shown in FIG. 2B is loosely fitted in the connection hole 2B. . A constriction 5C is formed between the flat head portion 5A of the vertical movement fine adjustment device 5 and the male screw portion 5B. The collar 2A of the connection hole 2B is fitted into the constriction 5C, and the sample mounting table 2 is attached. And the vertical fine adjustment device 5 are connected so as not to separate from each other. As shown in FIG. 2C, a fine groove 5D is formed in the diametrical direction on the lower surface of the vertical movement fine adjustment device 5, and the tip of a screwdriver such as a screwdriver is inserted into the fine groove 5D in the clockwise direction. The vertical movement fine adjustment device 5 is vertically moved by finely rotating it in the counterclockwise direction, and thus the sample mounting table 2 can be finely moved up and down.
【0034】図1において、試料ホルダ1の左端中央部
には試料交換棒取付け雌ねじ19が形成されており、こ
の試料交換棒取付け雌ねじ19に試料交換棒69(図
4)をねじ込んで取付け、試料Sを装着した試料ホルダ
1をオージェ電子分光分析装置50の試料交換室52か
ら試料ステージ56の上面にセットし、或いはこれから
取り出せるような構造になっている。In FIG. 1, a sample exchange rod mounting female screw 19 is formed in the center of the left end of the sample holder 1. The sample exchange rod 69 (FIG. 4) is screwed into this sample exchange rod mounting female screw 19 to mount the sample. The structure is such that the sample holder 1 equipped with S can be set on the upper surface of the sample stage 56 from the sample exchange chamber 52 of the Auger electron spectroscopic analyzer 50 or taken out therefrom.
【0035】次に、分析のための試料Sをこの試料ホル
ダ1に装着、固定する方法を説明する。図1において、
分析しようとする試料Sの高さ(長さ)に応じて試料載
置台2を上下動微細調節装置5を用いて予め所定の高さ
位置に近い高さ位置に調整しておき、次に、スプリング
16を収縮させるように試料抑え板18を右方に移動さ
せ、即ち、試料固定板14から開き、この間に試料S
を、その分析面を上向きにして前記試料載置台2の上に
載置して挿入し、そしてその後、試料抑え板18をスプ
リング16の弾性力で前記試料固定板14の方に移動さ
せ、前記台部12の垂直面12Aと試料固定板14の垂
直面14Aとから一体的に形成された垂直面と試料抑え
板18の垂直面18Aとの間に挟み、固定する。この場
合、試料Sの厚みによってスプリング16が伸縮する。Next, a method of mounting and fixing the sample S for analysis on the sample holder 1 will be described. In FIG.
According to the height (length) of the sample S to be analyzed, the sample mounting table 2 is adjusted in advance to a height position close to a predetermined height position by using the vertical movement fine adjustment device 5, and then, The sample holding plate 18 is moved to the right so as to contract the spring 16, that is, opened from the sample fixing plate 14, and the sample S
Is mounted on the sample mounting table 2 with its analysis surface facing upward, and then the sample pressing plate 18 is moved toward the sample fixing plate 14 by the elastic force of the spring 16. The vertical surface formed integrally with the vertical surface 12A of the base 12 and the vertical surface 14A of the sample fixing plate 14 and the vertical surface 18A of the sample restraining plate 18 are sandwiched and fixed. In this case, the spring 16 expands and contracts depending on the thickness of the sample S.
【0036】次に、試料Sの分析面を上薄板15の上面
と同一面になるように装着することが望ましいことであ
るが、その試料の分析面の幅が高さ規制薄板15コの字
の幅より広い場合は、その分析面を高さ規制薄板15の
下面に当接させ、試料の分析面の幅が高さ規制薄板15
のコの字の幅より狭い場合は、その分析面を高さ規制薄
板15のコの字部から臨ませ、高さ規制薄板15の上面
と同一の高さになるように前記上下動微細調節装置5を
回動させて微調節する。このようにして試料Sは試料載
置台2に載置され、試料ホルダ1の所定の高さ位置に装
着、固定することができる。Next, it is desirable to mount the sample S so that the analysis surface of the sample S is flush with the upper surface of the upper thin plate 15. The width of the analysis surface of the sample S is the height-regulating thin plate 15. If the width of the analysis surface of the sample is larger than the width of the height control thin plate 15, the analysis surface is brought into contact with the lower surface of the height control thin plate 15.
If the width of the U-shape is narrower, the analysis surface is exposed from the U-shape of the height-regulating thin plate 15, and the vertical movement fine adjustment is performed so that the height is the same as the upper surface of the height-regulating thin plate 15. The device 5 is rotated for fine adjustment. In this way, the sample S is mounted on the sample mounting table 2 and can be mounted and fixed at a predetermined height position of the sample holder 1.
【0037】このようにして所定の高さ位置に試料Sが
装着、固定された試料ホルダ1は、次に試料交換棒69
を用いて試料交換室52から試料ステージ56にセット
され、試料ホルダ1上の試料の分析面は更に調整装置8
0を用い、既に説明した方法で前記試料ステージ56を
X軸、Y軸、Z軸方向に移動させ、そしてZ軸回りに回
動して調整することにより所定の設定面出しが行われ
る。Z軸方向の高さ位置調整は±1.5mmの範囲で行
うことができるので、前記試料抑え板18の厚みは吸収
することができる。試料ステージ56に試料ホルダ10
がセットされた後、試料交換棒69をネジを解く方向に
回転して試料交換棒取付け雌ねじ19との螺合を解き、
試料交換棒69を、図4に示したように、試料交換室5
2に後退させる。The sample holder 1 having the sample S mounted and fixed at the predetermined height position in this manner is then replaced by the sample exchange rod 69.
Is set from the sample exchange chamber 52 to the sample stage 56, and the analysis surface of the sample on the sample holder 1 is further adjusted by the adjusting device 8
By using 0, the sample stage 56 is moved in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions by the method already described, and is then rotated around the Z-axis for adjustment, whereby a predetermined set surface is obtained. Since the height position adjustment in the Z-axis direction can be performed within a range of ± 1.5 mm, the thickness of the sample pressing plate 18 can be absorbed. The sample holder 56 is attached to the sample stage 56.
After setting, the sample exchange rod 69 is rotated in the direction of unscrewing to unscrew the sample exchange rod mounting female screw 19,
As shown in FIG. 4, the sample exchange rod 69 is attached to the sample exchange chamber 5 as shown in FIG.
Set back to 2.
【0038】図3に示したように、この試料ホルダ1に
は、試料の高さが同等の物であるならば、一回に複数個
の試料Sc、Sdを前記と同様な方法によって装着、固
定することができる。As shown in FIG. 3, if the sample holders 1 have the same height, a plurality of samples Sc and Sd are mounted at once by the same method as described above. Can be fixed.
【0039】以上の実施例では、この発明の試料ホルダ
をオージェ電子分光分析装置に用いる試料ホルダとして
説明したが、他にX線光電子分光装置、電子プローブ微
小部分分析装置などにも使用することができる。In the above embodiments, the sample holder of the present invention has been described as a sample holder used in an Auger electron spectroscopy analyzer, but it can also be used in an X-ray photoelectron spectrometer, an electron probe micro-partial analyzer, etc. it can.
【0040】[0040]
【発明の効果】以上、説明したように、この発明の試料
ホルダを用いることにより、以下に記す数々の優れた効
果が得られた。 1.試料の高さ寸法が高さ規制薄板の高さ位置より短い
場合でも、試料固定板の前記高さ規制薄板面との高さ合
わせが容易になる。 2.試料の高さ位置の調整に雄ねじの上下動微細調節装
置を用いたことで、微細な高さの相違まで調整すること
ができる。 3.従来の横方向からの固定に加えて下方からも試料を
固定することによって、振動や熱的衝撃による移動や試
料を傾斜させる場合の落下を防ぎ、所定の位置ずれが生
じないようにしっかりと固定することができる。 4.試料の分析面の高さ位置調整は、金属製の試料載置
台と雄ねじからなる上下動微細調節装置を用いて行うた
め、超高真空においても、分析室を汚染することなく試
料の分析面を固定できる。 5.試料の高さが同等の物であれば、一回に数個の試料
を載置、固定することができる。As described above, by using the sample holder of the present invention, various excellent effects described below were obtained. 1. Even when the height dimension of the sample is shorter than the height position of the height-regulating thin plate, the height adjustment of the sample fixing plate with the height-regulating thin plate surface becomes easy. 2. By using the male screw vertical movement fine adjustment device to adjust the height position of the sample, it is possible to adjust even minute differences in height. 3. By fixing the sample from below in addition to the conventional lateral fixing, it prevents movement due to vibration or thermal shock or dropping when tilting the sample, and firmly fixes it so that it does not cause a predetermined displacement. can do. 4. Since the height position of the analysis surface of the sample is adjusted using the vertical movement fine adjustment device consisting of the metal sample mounting table and the male screw, the analysis surface of the sample can be adjusted without contaminating the analysis chamber even in ultra-high vacuum. Can be fixed. 5. If the heights of the samples are the same, several samples can be placed and fixed at one time.
【図1】 この発明の試料ホルダの一実施例に試料を装
着し、固定した状態を示していて、同図Aはその平面
図、同図Bは同図AのA−A線上における断面側面図で
ある。FIG. 1 shows a state in which a sample is mounted and fixed on an embodiment of a sample holder of the present invention, FIG. 1A is a plan view thereof, and FIG. 1B is a cross-sectional side view on line AA of FIG. 1A. It is a figure.
【図2】 図1に示したこの発明の試料ホルダを構成す
る試料載置台と上下動微細調節装置との構造を説明する
ための図であって、同図Aは試料載置台と上下動微細調
節装置の結合構造を示す断面図、同図Bは上下動微細調
節装置の一端部を示す側面図、そして同図Cは上下動微
細調節装置の他端面を示す底面図である。FIG. 2 is a view for explaining the structure of a sample mounting table and a vertical movement fine adjustment device which constitute the sample holder of the present invention shown in FIG. 1, and FIG. 2A shows the sample mounting table and the vertical movement fine adjustment device. FIG. 6 is a sectional view showing a coupling structure of the adjusting device, FIG. 9B is a side view showing one end of the vertical movement fine adjusting device, and FIG. 7C is a bottom view showing the other end face of the vertical movement fine adjusting device.
【図3】 図1に示したこの発明の試料ホルダに複数の
試料を装着し、固定した状態を示した断面側面図であ
る。FIG. 3 is a sectional side view showing a state in which a plurality of samples are mounted and fixed on the sample holder of the present invention shown in FIG.
【図4】 分析装置の一つである現用のオージェ電子分
光分析装置の概念的構成図である。FIG. 4 is a conceptual configuration diagram of a current Auger electron spectroscopy analyzer which is one of the analyzers.
【図5】 試料ステージにセットした試料の設定位置を
調整するための調整装置である。FIG. 5 is an adjusting device for adjusting the set position of the sample set on the sample stage.
【図6】 オージェ電子分光分析装置にセットした試料
の設定位置の不備に伴う深さ方向分析における誤差発生
の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of an error occurrence in the depth direction analysis due to the improper setting position of the sample set in the Auger electron spectroscopy analyzer.
【図7】 オージェ電子分光分析装置にセットした試料
の設定位置変化に伴う誤差の発生を模式的に示した説明
図である。FIG. 7 is an explanatory diagram schematically showing the occurrence of an error due to a change in the setting position of the sample set in the Auger electron spectroscopy analyzer.
【図8】 図4に示したオージェ電子分光分析装置にセ
ットするための現用の試料ホルダに高さが高い試料を装
着した状態を示していて、同図Aはその平面図、同図B
は同図AのA−A線上における断面側面図である。8 shows a state in which a high sample is mounted on an active sample holder for setting in the Auger electron spectroscopic analyzer shown in FIG. 4, and FIG. 8A is its plan view and FIG.
FIG. 3B is a sectional side view taken along the line AA in FIG.
【図9】 図4に示したオージェ電子分光分析装置にセ
ットするための現用の試料ホルダに高さが低い試料を装
着した状態を示していて、同図Aはその平面図、同図B
は同図AのA−A線上における断面側面図である。9 shows a state in which a low sample is mounted on a current sample holder for setting in the Auger electron spectroscopic analyzer shown in FIG. 4, FIG.
FIG. 3B is a sectional side view taken along the line AA in FIG.
【図10】 表面分析しようとする試料の一例である磁
気ヘッド装置の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a magnetic head device which is an example of a sample to be surface-analyzed.
【図11】 図10に示した磁気ヘッド装置を装着した
現用の試料ホルダの断面側面図である。11 is a cross-sectional side view of a current sample holder equipped with the magnetic head device shown in FIG.
1 この発明の試料ホルダ 2 試料載置台 3 案内杆 4 貫通雌ねじ 5 上下動微細調節装置 11 基台 11A 基台11の水平面 12 台部 13 スプリング固定ブロック 14 試料固定板 15 試料固定板14の高さ規制薄板 16 スプリング 17 杆 S 分析しようとする試料 Sc 分析しようとする試料 Sd 分析しようとする試料 1 sample holder 2 of this invention 2 sample mounting table 3 guide rod 4 penetrating female screw 5 vertical fine adjustment device 11 base 11A horizontal surface of base 11 12 base portion 13 spring fixing block 14 sample fixing plate 15 height of sample fixing plate 14 Regulation thin plate 16 Spring 17 Rod S Sample to be analyzed Sc Sample to be analyzed Sd Sample to be analyzed
Claims (1)
と、 前記基台の一端部に前記水平面に垂直に形成された基準
垂直面が形成された固定板と、 前記固定板の上端に、その基準垂直面に対して直角に、
そして一体的に形成された高さ規制薄板と、 前記基台の水平面上に設けられ、前記固定板の基準垂直
面に一端縁を摺動しながら、前記基台の水平面に平行に
上下動でき、前記基台の面積より小なる面積の試料載置
台と、 前記試料載置台の下方に在り、前記基台の下面から貫通
して設けられ、前記試料載置台を微細に上下動させる上
下動微細調節装置と、 前記固定板の垂直面に試料を押圧する試料抑え板と、 前記試料抑え板の背面に一端が固定され、他端が前記基
台の他端部に形成された固定部材に遊嵌した杆と、 前記試料抑え板の背面と前記固定部材との間の前記杆に
装着されたコイル状スプリングとから構成されていると
を特徴とする試料ホルダ。1. A base on which a horizontal plane serving as a horizontal reference is formed, a fixing plate having a reference vertical plane formed perpendicular to the horizontal plane on one end of the base, and an upper end of the fixing plate. , At a right angle to the reference vertical plane,
The height-regulating thin plate integrally formed with the base is provided on the horizontal plane of the base, and can slide up and down in parallel with the horizontal plane of the base while sliding one end edge on the reference vertical plane of the fixed plate. A sample mounting table having an area smaller than the area of the base, and a vertical movement finer that is provided below the sample mounting table and penetrates from the lower surface of the base to finely move the sample mounting table up and down. An adjusting device, a sample holding plate that presses the sample against the vertical surface of the fixing plate, and one end fixed to the back surface of the sample holding plate, the other end of which is attached to a fixing member formed at the other end of the base. A sample holder, comprising: a fitted rod; and a coiled spring mounted on the rod between the back surface of the sample pressing plate and the fixing member.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7130678A JPH08327570A (en) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | Sample holder |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7130678A JPH08327570A (en) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | Sample holder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08327570A true JPH08327570A (en) | 1996-12-13 |
Family
ID=15040003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7130678A Pending JPH08327570A (en) | 1995-05-29 | 1995-05-29 | Sample holder |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08327570A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005294182A (en) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Jeol Ltd | Bulk section sample holder |
JP2009135078A (en) * | 2007-10-29 | 2009-06-18 | Tokyo Institute Of Technology | Sample holder for focused ion beam processing, and focused ion beam device |
CN111707539A (en) * | 2020-06-22 | 2020-09-25 | 中国人民解放军空军工程大学 | Test fixture for applying compressive stress to plate and using method thereof |
CN117647487A (en) * | 2024-01-29 | 2024-03-05 | 宁德思客琦智能装备有限公司 | Welding quality detection device for battery cell sealing nails |
-
1995
- 1995-05-29 JP JP7130678A patent/JPH08327570A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN111707539A (en) * | 2020-06-22 | 2020-09-25 | 中国人民解放军空军工程大学 | Test fixture for applying compressive stress to plate and using method thereof |
CN111707539B (en) * | 2020-06-22 | 2023-03-21 | 中国人民解放军空军工程大学 | Test fixture for applying compressive stress to plate and application method thereof |
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CN117647487B (en) * | 2024-01-29 | 2024-04-12 | 宁德思客琦智能装备有限公司 | Welding quality detection device for battery cell sealing nails |
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