JPH08292573A - 光開始剤、感光性組成物、感光材料及びレリーフパターンの製造法 - Google Patents
光開始剤、感光性組成物、感光材料及びレリーフパターンの製造法Info
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Abstract
た感光性組成物、感光材料及びレリーフパターンの製造
法を提供する。 【構成】 (a)下記一般式(I) 【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R
9、R10、R11、R12、R13、R14及びR15は各々独立
に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原
子、トリハロメチル基又は炭素数1〜5のアルコキシ基
を示す)で表される芳香族ヘキサアリールビスイミダゾ
ール化合物及び(b)芳香族メルカプト化合物を組み合
わせてなる光開始剤、これを用いた感光性組成物、感光
材料及びレリーフパターンの製造法。
Description
物、感光材料及びレリーフパターンの製造法に関する。
れ自体でフォトパターニング性を兼備しているものは感
光性ポリイミドと呼ばれ、半導体の表面保護膜等に用い
られている。感光性ポリイミドには、いくつかの感光性
付与方式が提案されており、代表的なものとしては、例
えば、ポリアミド酸のヒドロキシアクリレートとのエス
テルとしたもの(特公昭55−41422号公報)、ポ
リアミド酸にアミノアクリレートのようなものを配合し
感光性基を塩結合で導入するもの(特開昭54−145
794号公報)等が知られている。これらの材料は、ポ
リアミド酸自体が剛直なために、スピンコート等によっ
て作製する膜状態では、従来の紫外線硬化塗料やドライ
フィルムレジストと比較して、低感度となる欠点があ
り、特に、硬化後膜厚が5μm以上の厚膜用感光性ポリ
イミドにおいては、良好なパターニング性が得られない
問題があった。
な従来技術の問題点を解消し、優れた感光特性を示す光
開始剤、これを用いた感光性組成物、感光材料及びレリ
ーフパターンの製造法を提供するものである。
般式(I)
9、R10、R11、R12、R13、R14及びR15は各々独立
に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原
子、トリハロメチル基又は炭素数1〜5のアルコキシ基
を示す)で表される芳香族ヘキサアリールビスイミダゾ
ール化合物及び(b)芳香族メルカプト化合物を組み合
わせてなる光開始剤に関する。
で表される芳香族ヘキサアリールビスイミダゾール化合
物、(b)芳香族メルカプト化合物及び(c)常圧にお
いて100℃以上の沸点を有する付加重合性化合物を含
有してなる感光性組成物に関する。また、本発明は、
(a)上記一般式(I)で表される芳香族ヘキサアリー
ルビスイミダゾール化合物、(b)芳香族メルカプト化
合物、(d)ポリアミド酸及び(e)化学線により2量
化又は重合可能な炭素炭素二重結合とアミノ基又はその
四級化塩とを有する化合物を含有してなる感光材料に関
する。また、本発明は、前記感光性組成物又は前記感光
材料の塗膜の上から活性光線を像状に照射し、未照射部
を現像除去し、加熱することを特徴とするレリーフパタ
ーンの製造法に関する。
(I)で表される芳香族ヘキサアリールビスイミダゾー
ル化合物及び(b)芳香族メルカプト化合物を必須成分
とする。上記一般式(I)中、R1、R2、R3、R4、R
5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R
14及びR15は各々独立に、水素原子、炭素数1〜5のア
ルキル基、ハロゲン原子、トリハロメチル基又は炭素数
1〜5のアルコキシ基である。ハロゲン原子としては、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、本発明
の組成物を、半導体、マルチチップモジュール等の層間
絶縁膜、保護膜等に用いた場合、チップに悪影響(例え
ば、イオンになる汚染等)を及ぼさない点からフッ素原
子が好ましい。トリハロメチル基としては、トリフルオ
メチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基等
が挙げられ、上記と同様の理由からトリフルオメチル基
が好ましい。
般式(I)で表される芳香族ヘキサアリールビスイミダ
ゾール化合物としては、例えば、2,2′,4,4′,
5,5′−ヘキサアリルビスイミダゾール、2,2′−
ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テ
トラフェニルビスイミダゾール、2,2′−ビス(o−
フルオロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェ
ニルビスイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフル
オロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフ
ェニルビスイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロ
フェニル)−4,4′,5,5′−テトラ−(p−メト
キシフェニル)ビスイミダゾール、2,2′−ビス(o
−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ−
(m−メトキシフェニル)ビスイミダゾール、2,2′
−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−
テトラ−(3,4−ジメトキシフェニル)ビスイミダゾ
ール等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を
組み合わせて使用される。
メルカプト化合物としては、ベンゼン又は複素環を母核
とし、メルカプト基を1つ又は2つ有するもの等が挙げ
られ、メルカプト基を2つ有する場合には、一方のメル
カプト基が、アルキル、アラルキル又はフェニル置換さ
れていてもよく、また、アルキレン基を介在した二量体
又はジスルフィドの形をとった二量体でもよい。このよ
うな(b)芳香族メルカプト化合物としては、例えば、
2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベン
ゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール等
が好ましいものとして挙げられる。これらは単独で又は
2種類以上を組み合わせて使用される。
合量は、特に制限はなく、(a)成分及び(b)成分の
総量100重量部に対して、5〜95重量部とすること
が好ましい。この配合量が、5重量部未満では、感度が
劣る傾向があり、95重量部を超えると、現像液に不溶
となる傾向がある。また、本発明の光開始剤における
(b)成分の配合量としては、特に制限はなく、(a)
成分及び(b)成分の総量100重量部に対して、5〜
95重量部とすることが好ましい。この配合量が、5重
量部未満では、未露光部でも現像液に不溶となる傾向が
あり、95重量部を超えると、感度が劣る傾向がある。
開始剤及び(c)常圧において100℃以上の沸点を有
する付加重合性化合物を必須成分とする。
加重合性化合物は、常圧において100℃以上の沸点を
有するものである必要がある。常圧において沸点が10
0℃未満のものでは、系内に含有する溶剤を乾燥等によ
り除去する際又は活性光線を照射する際に、前記付加重
合性化合物が揮散してしまう。
圧において100℃以上の沸点を有する付加重合性化合
物としては、例えば、多価アルコールとα,β−不飽和
カルボン酸とを縮合して得られる化合物等が挙げられ
る。このような化合物としては、例えば、エチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート(ジアクリレート又はジ
メタクリレートの意味、以下同じ)、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、1,2−プロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ジ(1,2−プロピレングリ
コール)ジ(メタ)アクリレート、トリ(1,2−プロ
ピレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、テトラ
(1,2−プロピレングリコール)ジ(メタ)アクリレ
ート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジ
エチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルア
ミノプロピル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノプ
ロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオール
ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、スチレン、ジビニルベンゼン、4−
ビニルトルエン、4−ビニルピリジン、N−ビニルピロ
リドン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
1,3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシ
プロパン、メチレンビスアクリルアミド、N,N−ジメ
チルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド等
が挙げられ、これらは単独で又は2種類以上を組み合わ
せて使用される。
沸点を有する付加重合性化合物は、光開始剤等と均一な
組成物とするために、通常用いられる有機溶剤に可溶な
ものであることが好ましい。有機溶剤としては、例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、クロロ
ホルム、メタノール、エタノール、1−プロパノール、
2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、
t−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、キシレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクト
ン、ジメチルスルホキシド、エチレンカーボネート、プ
ロピレンカーボネート、スルホラン等が挙げられ、これ
らは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
の光開始剤の配合量は、特に制限はなく、前記本発明の
光開始剤及び(c)成分の総量100重量部に対して、
1〜15重量部とすることが好ましい。この配合量が、
1重量部未満では、感度が劣る傾向があり、15重量部
を超えると、感度が劣る傾向があり、現像性が劣る傾向
がある。また、本発明の感光性組成物における(c)成
分の配合量は、特に制限はなく、前記本発明の光開始剤
及び(c)成分の総量100重量部に対して、85〜9
9重量部とすることが好ましい。この配合量が、85重
量部未満では、感度が劣る傾向があり、現像性が劣る傾
向がある。また、99重量部を超えると、感度が劣る傾
向がある。
明の光開始剤の(a)成分及び(b)成分の配合順番と
しては、(a)成分及び(b)成分を予め混合してか
ら、(c)成分に添加し、配合することができ、また、
(c)成分に(a)成分を添加した後、別途(b)成分
を添加し、配合することもでき、また、(c)成分に
(b)成分を添加した後、別途(a)成分を添加し、配
合することもできる。
て、他の光開始剤を含有することができる。他の光開始
剤としては、例えば、ミヒラーズケトン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、2−t−ブチルアントラキノ
ン、2−エチルアントラキノン、4,4′−ビス(ジエ
チルアミノ)ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾ
フェノン、チオキサントン、2,2−ジメトキシ−2−
フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)
フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、ベン
ジル、ジフェニルジスルフィド、フェナンスレンキノ
ン、2−イソプロピルチオキサントン、リボフラビンテ
トラブチレート、N−フェニルジエタノールアミン、2
−(o−エトキシカルボニル)オキシイミノ−1,3−
ジフェニルプロパンジオン、1−フェニル−2−(o−
エトキシカルボニル)オキシイミノプロパン−1−オ
ン、3,3′,4,4′−テトラ(t−ブチルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン、N−(p−シアノフェ
ニル)グリシン、N−(p−メチルスルホニルフェニ
ル)グリシン等が挙げられ、これらは単独で又は2種類
以上を組み合わせて使用される。
く、前記本発明の光開始剤及び(c)成分の総量100
重量部に対して、1〜10重量部とすることが好まし
い。
の接着性、耐薬品性、フィルム性等の特性を改良するた
めに、必要に応じて、高分子量有機重合体を含有するこ
とができる。高分子量有機重合体としては、例えば、
(イ)コポリエステル(多価アルコール(ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリ
コール等)と多価カルボン酸(テレフタル酸、イソフタ
ル酸、セバシン酸、アジピン酸等)から製造したコポリ
エステル)、(ロ)ビニルポリマ(メタクリル酸、アク
リル酸、メタクリル酸又はアクリル酸のアルキルエステ
ル(メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アク
リレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ジメチ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート等のビニル単量体のホモポリ
マ又はコポリマ))、(ハ)ポリホルムアルデヒド、
(ニ)ポリウレタン、(ホ)ポリカーボネート(ヘ)ポ
リアミド酸(ト)セルロースエステル(メチルセルロー
ス、エチルセルロース等)などが挙げられ、これらは単
独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
えば、GPC測定し、ポリスチレン換算したもの)は、
10,000〜700,000であることが好ましい。
この重量平均分子量が、10,000未満では、膜の強
度、耐熱性等が低下する傾向があり、700,000を
超えると、現像性、作業性等が低下する傾向がある。
発明の感光性組成物の総量の、20〜80重量%とする
ことが好ましい。この配合量が、20重量%未満では、
現像性、塗膜性等が劣る傾向があり、80重量%を超え
ると、感度、耐熱性等が劣る傾向がある。
応じて、染料、顔料等の着色物質を含有することができ
る。着色物質としては、例えば、フクシン、クリスタル
バイオレット、メチルオレンジ、ナイルブルー2B、ビ
クトリアピュアブルー、マラカイトグリーン、ナイトグ
リーンB、スピロンブルー等が挙げられ、これらは単独
で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
応じて、増感色素を含有することができる。増感色素と
しては、例えば、7−ジエチルアミノクマリン、3,
3′−カルボニルビス(7−ジエチルアミノ)クマリ
ン、3,3′−カルボニルビス(7−ジメトキシ)クマ
リン、3−チエニルカルボニルー7ージエチルアミノク
マリン、3−ベンゾイルクマリン、3−ベンゾイル−7
−メトキシクマリン、3−(4′−メトキシベンゾイ
ル)クマリン、3,3′−カルボニルビス−5,7−
(ジメトキシ)クマリン、ベンザルアセトフェノン、
4′−ジメチルアミノベンザルアセトフェノン、4′−
アセトアミノベンザル−4−メトキシアセトフェノン等
が挙げられ、これらは単独で又は2種類以上を組み合わ
せて使用される。
て、有機溶剤(前記したもの)可塑剤、接着促進剤、重
合禁止剤等の感光性樹脂組成物に用いることが知られて
いる他の添加物を含有することができる。
剤及び(d)ポリアミド酸、(e)化学線により2量化
又は重合可能な炭素炭素二重結合とアミノ基又はその四
級化塩とを有する化合物を必須成分とする。
ミド酸は、例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミ
ン化合物を材料とした付加重合等によって得ることがで
きる。
ば、ピロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,
4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,
2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、2,3,5,6−ピリジンテトラカルボン酸二無水
物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二
無水物、4,4′−スルホニルジフタル酸二無水物、m
−ターフェニル−3,3″,4,4″−テトラカルボン
酸二無水物、p−ターフェニル−3,3″,4,4″−
テトラカルボン酸二無水物、4,4′−オキシジフタル
酸二無水物、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
−2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロ
パン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフ
ェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2′−ビス[4−
(2,3−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパ
ン二無水物、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
−2,2′−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル]プロパン二無水物等が挙げられ、これ
らは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
ジアミン〔p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジ
アミン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレンジア
ミン、1,5−ジアミノナフタレン、ベンジジン、3,
3′−ジメチルベンジジン、3,3′−ジメトキシベン
ジジン、4,4′(又は3,4′−、3,3′−、2,
4′−)−ジアミノジフェニルメタン、4,4′(又は
3,4′−、3,3′−、2,4′−)−ジアミノジフ
ェニルエーテル、4,4′(又は3,4′−、3,3′
−、2,4′−)−ジアミノジフェニルスルフォン、
4,4′(又は3,4′−、3,3′−、2,4′−)
−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ベンゾフ
ェノンジアミン、3,3′−ベンゾフェノンジアミン、
4,4′−ジ(4−アミノフェノキシ)フェニルスルフ
ォン、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェ
ニル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビ
ス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、3,
3−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、
3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、4,4′−ジ(3−アミノフェノ
キシ)フェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニ
ルスルホン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)プ
ロパン等〕、複素環式ジアミン〔2,6−ジアミノピリ
ジン、2,4−ジアミノピリミジン、2,4−ジアミノ
−s−トリアジン、2,7−ジアミノベンゾフラン、
2,7−ジアミノカルバゾール、3,7−ジアミノフェ
ノチアジン、2,5−ジアミノ−1,3,4−チアジア
ゾール、2,4−ジアミノ−6−フェニル−s−トリア
ジン等〕、脂肪族ジアミン〔トリメチレンジアミン、テ
トラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、2,
2−ジメチルプロピレンジアミン、下記に示すジアミノ
ポリシロキサン等〕などが挙げられ、これらは単独で又
は2種類以上を組み合わせて使用される。
る)
により2量化又は重合可能な炭素炭素二重結合とアミノ
基又はその四級化塩とを有する化合物としては、例え
ば、
わせて使用される。
酸の有するカルボキシル基1モルに対して、(e)化学
線により2量化又は重合可能な炭素炭素二重結合とアミ
ノ基又はその四級化塩とを有する化合物1モルとなる量
で用いることが好ましい。
開始剤の配合量は、特に制限はなく、(d)ポリアミド
酸100重量部に対して、1〜300重量部とすること
が好ましく、10〜20重量部とすることがより好まし
い。この配合量が、1重量部未満では、光反応性が低下
し、感度が劣る傾向があり、300重量部を超えると、
保存安定性が劣る傾向がある。
(b)成分、(d)成分及び(e)成分の配合順番とし
ては、(d)成分に、他の(a)成分、(b)成分及び
(e)成分をいずれの順番で配合してもよく、また、
(e)成分に、他の(a)成分、(b)成分及び(d)
成分をいずれの順番で配合してもよい。
化合物を含有させることが好ましい。(f)ビスアジド
化合物としては、例えば、
なく、ポリアミド酸100重量部に対して、0.01〜
10重量部とすることが好ましい。この配合量が、0.
01重量部未満では、感度が劣る傾向があり、10重量
部を超えると、保存安定性が劣る傾向がある。
記本発明の感光性組成物に使用できる他の光開始剤を含
有することができる。
明の感光性組成物又は本発明の感光材料を用いて得られ
た塗膜の上から、活性光線又は化学線を像状に照射し、
未照射部を現像除去することにより製造できる。
印刷法、回転塗布法等の方法により、シリコーンウエー
ハ、金属基板、ガラス基板、セラミック基板等の基材上
に塗布し、溶剤の大部分を加熱乾燥することにより得ら
れる。照射する活性光線又は化学線としては、例えば、
紫外線、遠紫外線、可視光、電子線、X線等が挙げられ
る。未照射部を現像除去する現像液としては、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン等の良溶媒やこれらと
低級アルコール、水、芳香族炭化水素等の貧溶媒との混
合溶媒が使用できる。また、現像後は、必要に応じて、
貧溶媒等でリンスを行い、100℃前後で乾燥し、パタ
ーンを安定なものとすることができる。
酸二無水物とを等モルで常法により反応させて得られ
た、ポリアミド酸のN−メチル−2−ピロリドン溶液1
0g(固形分20重量%)、ジメチルアミノエチルメタ
クリレート1.8g、表1に示した芳香族ビスイミダゾ
ール化合物、表1に示した芳香族メルカプト化合物及び
表1に示したビスアジド化合物を配合した後、攪拌混合
し、感光材料を得た。
後、シリコンウエハ上に回転塗布し、次いで、ホットプ
レート上で100℃で200秒間加熱し、溶剤を乾燥さ
せて、膜厚が20ミクロンの感光性塗膜を得た。得られ
た感光性塗膜上に、フォトマスクを介し、超高圧水銀灯
を光源とするミラープロジェクション露光機でパターン
露光を行った。このときの露光量は、100mJ/cm2であ
った。
チルアルコールの混合溶液(容積比4/1)で浸漬現像
を行い、さらに、エタノールでリンスした。現像後のパ
ターン形状を拡大鏡にて観察し、結果を表1に示した。
また、得られた残膜率(膜厚を初期の膜厚で割った値)
と最小開口スルーホール径(開口径)を表1に合わせて
示した。残膜率は、大きい程効果性等の特性が優れ、最
小開口スルーホール径が小さい程解像度等の特性が優れ
る。
の感光性組成物は、比較例の感光性組成物と比較して、
感光特性に優れたものである。
で100℃で15分間、200℃で20分間、350℃
で60分間加熱し、膜厚が10ミクロンの、良好なポリ
イミドのレリーフパターンが得られた。
始能に基づく感光特性を示し、感光性組成物及び感光材
料に好適である。請求項2記載の感光性組成物は、優れ
た感光特性を示す。請求項3記載の感光材料は、耐熱
性、形状等の特性に優れたレリーフパターンを得ること
ができる。請求項4記載の感光材料は、請求項3記載の
感光材料の効果を奏し、さらに高い感度、機械特性に優
れたレリーフパターンを得ることができる。請求項5記
載のレリーフパターンの製造法は、耐熱性、形状等の特
性が良好なレリーフパターンを製造することができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 (a)下記一般式(I) 【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R
9、R10、R11、R12、R13、R14及びR15は各々独立
に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原
子、トリハロメチル基又は炭素数1〜5のアルコキシ基
を示す)で表される芳香族ヘキサアリールビスイミダゾ
ール化合物及び(b)芳香族メルカプト化合物を組み合
わせてなる光開始剤。 - 【請求項2】 (a)下記一般式(I) 【化2】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R
9、R10、R11、R12、R13、R14及びR15は各々独立
に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原
子、トリハロメチル基又は炭素数1〜5のアルコキシ基
を示す)で表される芳香族ヘキサアリールビスイミダゾ
ール化合物、(b)芳香族メルカプト化合物及び(c)
常圧において100℃以上の沸点を有する付加重合性化
合物を含有してなる感光性組成物。 - 【請求項3】 (a)下記一般式(I) 【化3】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R
9、R10、R11、R12、R13、R14及びR15は各々独立
に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原
子、トリハロメチル基又は炭素数1〜5のアルコキシ基
を示す)で表される芳香族ヘキサアリールビスイミダゾ
ール化合物、(b)芳香族メルカプト化合物、(d)ポ
リアミド酸及び(e)化学線により2量化又は重合可能
な炭素炭素二重結合とアミノ基又はその四級化塩とを有
する化合物を含有してなる感光材料。 - 【請求項4】 さらに、(f)ビスアジド化合物を含有
する請求項3記載の感光材料。 - 【請求項5】 請求項2記載の感光性組成物又は請求項
3若しくは4記載の感光材料の塗膜の上から活性光線を
像状に照射し、未照射部を現像除去し、加熱することを
特徴とするレリーフパターンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09710495A JP3480116B2 (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | 感光材料及びレリーフパターンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP09710495A JP3480116B2 (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | 感光材料及びレリーフパターンの製造法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08292573A true JPH08292573A (ja) | 1996-11-05 |
JP3480116B2 JP3480116B2 (ja) | 2003-12-15 |
Family
ID=14183307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP09710495A Expired - Lifetime JP3480116B2 (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | 感光材料及びレリーフパターンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3480116B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001095032A1 (en) * | 2000-06-02 | 2001-12-13 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and photosensitive material using the same |
WO2010061579A1 (ja) | 2008-11-28 | 2010-06-03 | 関東化学株式会社 | 架橋型ヘキサアリールビスイミダゾール新規化合物およびその誘導体、該化合物の製造方法、ならびに該製造方法に用いられる前駆体化合物 |
US9834723B2 (en) | 2014-03-28 | 2017-12-05 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | Pentaarylbiimidazole compound and production method for said compound |
-
1995
- 1995-04-21 JP JP09710495A patent/JP3480116B2/ja not_active Expired - Lifetime
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