JPH08228046A - 非モノリシックマルチレーザー源アレイ - Google Patents
非モノリシックマルチレーザー源アレイInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 それぞれが２つの異なるレーザービームを生
成する２つのモノリシックレーザーダイから構成した、
近接するレーザービームを発光するレーザービーム源の
アレイを提供する。 【解決手段】 本発明のレーザーアレイは、基板と、前
記基板に装着された複数のモノリシックレーザービーム
ダイと、前記モノリシックレーザービームダイの各々に
設けられ、それぞれ第１及び第２レーザービームを生成
する２つのレーザーストライプ（Laser Stripe）と、を
備え、前記２つのレーザストライプの各々が同時に作動
可能である。
成する２つのモノリシックレーザーダイから構成した、
近接するレーザービームを発光するレーザービーム源の
アレイを提供する。 【解決手段】 本発明のレーザーアレイは、基板と、前
記基板に装着された複数のモノリシックレーザービーム
ダイと、前記モノリシックレーザービームダイの各々に
設けられ、それぞれ第１及び第２レーザービームを生成
する２つのレーザーストライプ（Laser Stripe）と、を
備え、前記２つのレーザストライプの各々が同時に作動
可能である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザーダイオード
のアレイに関し、特に、近接した複数のビームを生成す
るマルチレーザー源を備え、好ましくは、前記複数のビ
ームが異なった波長又は偏りを有するレーザーダイオー
ドに関する。
のアレイに関し、特に、近接した複数のビームを生成す
るマルチレーザー源を備え、好ましくは、前記複数のビ
ームが異なった波長又は偏りを有するレーザーダイオー
ドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来フライングスポットスキャナは、ラ
スタ出力スキャナ（ＲＯＳ）とも呼ばれ、中心軸周りに
回転する多面多角形反射ミラーを有し、１本以上の輝度
変調させた光線を感光記録媒体上をライン走査方向（高
速走査方向）に反復走査する。一方、記録媒体は垂直方
向（処理方向又は低速方向）に移動し、これによりラス
タ走査パターンに従ってビームが記録媒体を走査する。
デジタル印刷は、各ビームを２進サンプル列にしたがっ
て連続的に輝度変調させることによって行われ、記録媒
体が走査される際、サンプル列によって表わされる画像
を露光する。
スタ出力スキャナ（ＲＯＳ）とも呼ばれ、中心軸周りに
回転する多面多角形反射ミラーを有し、１本以上の輝度
変調させた光線を感光記録媒体上をライン走査方向（高
速走査方向）に反復走査する。一方、記録媒体は垂直方
向（処理方向又は低速方向）に移動し、これによりラス
タ走査パターンに従ってビームが記録媒体を走査する。
デジタル印刷は、各ビームを２進サンプル列にしたがっ
て連続的に輝度変調させることによって行われ、記録媒
体が走査される際、サンプル列によって表わされる画像
を露光する。
【０００３】異なる波長のレーザーを備えたレーザーア
レイは産業的に重要な様々な用途がある。例えば、異な
った波長を持つ４本のビームを使用するカラーゼログラ
フィックプリンタは、１本のビームを使うプリンタより
も処理量（処理速度）が著しく高い。波長の異なった４
本のビームを使うプリンタは、互いに重なり合うビーム
を生成し、単一のラスタ出力多角形スキャナと１組の光
学レンズを用いて４本のビームを走査できるからであ
る。更に、波長選択フィルタを使ってビームを分光し、
各ビームをそれぞれ個別のゼログラフィ画像ステーショ
ンへと導く。各波長の潜像を現像し、現像した画像を単
一の記録媒体上に転写することによって全カラー画像が
得られる。このような装置は、Fisli の米国特許第5,24
3,359 号に開示されている。別の適用例では、異なった
波長の、互いに重なり合ったビームを分光せずに単一の
画像ステーションで画像化するものがある。この場合で
も、複数のビームを使用することによって、単一のビー
ムを使用する際よりも高い処理量を得ることができる。
このような装置は、Kovacsの米国特許第5,323,313 号に
開示されている。
レイは産業的に重要な様々な用途がある。例えば、異な
った波長を持つ４本のビームを使用するカラーゼログラ
フィックプリンタは、１本のビームを使うプリンタより
も処理量（処理速度）が著しく高い。波長の異なった４
本のビームを使うプリンタは、互いに重なり合うビーム
を生成し、単一のラスタ出力多角形スキャナと１組の光
学レンズを用いて４本のビームを走査できるからであ
る。更に、波長選択フィルタを使ってビームを分光し、
各ビームをそれぞれ個別のゼログラフィ画像ステーショ
ンへと導く。各波長の潜像を現像し、現像した画像を単
一の記録媒体上に転写することによって全カラー画像が
得られる。このような装置は、Fisli の米国特許第5,24
3,359 号に開示されている。別の適用例では、異なった
波長の、互いに重なり合ったビームを分光せずに単一の
画像ステーションで画像化するものがある。この場合で
も、複数のビームを使用することによって、単一のビー
ムを使用する際よりも高い処理量を得ることができる。
このような装置は、Kovacsの米国特許第5,323,313 号に
開示されている。
【０００４】近接して配置されるエミッタを有するダイ
オードレーザー装置は、１組のレンズを使用するだけで
よく、ビームを合成するための光学レンズの必要性を解
消するが、ビームが光学系を伝搬する際に起きる軸外の
歪曲を避けるため、個々のレーザーダイオードをできる
だけ近接させなければならない（好ましくは５０μｍ間
隔）。
オードレーザー装置は、１組のレンズを使用するだけで
よく、ビームを合成するための光学レンズの必要性を解
消するが、ビームが光学系を伝搬する際に起きる軸外の
歪曲を避けるため、個々のレーザーダイオードをできる
だけ近接させなければならない（好ましくは５０μｍ間
隔）。
【０００５】異なる波長を持つレーザー源は効果的であ
るが、その一方問題もある。例えば、所定数の光学レン
ズを通るレーザービームの焦点距離が波長によって変化
する。つまり異なる波長のマルチビームシステムにおい
て１組の光学レンズが使用された場合には、異なる波長
のレーザービームはそれぞれ異なった焦点距離を持つこ
とになる。プリンタにおいて全てのレーザービームが同
一面から照射される場合、焦点距離が異なると画像スポ
ットのための焦点面が数々発生する。このように焦点位
置が異なると、画像の位置合わせにおいて様々な問題を
生じ、非常に好ましくない。
るが、その一方問題もある。例えば、所定数の光学レン
ズを通るレーザービームの焦点距離が波長によって変化
する。つまり異なる波長のマルチビームシステムにおい
て１組の光学レンズが使用された場合には、異なる波長
のレーザービームはそれぞれ異なった焦点距離を持つこ
とになる。プリンタにおいて全てのレーザービームが同
一面から照射される場合、焦点距離が異なると画像スポ
ットのための焦点面が数々発生する。このように焦点位
置が異なると、画像の位置合わせにおいて様々な問題を
生じ、非常に好ましくない。
【０００６】ＲＯＳシステム及びマルチビームプリンタ
双方に関しては、Kitamuraによる米国特許第4,474,422
号に開示されている。上記Kitamuraの米国特許では、複
数のレーザーを対角線上に斜めに配置して（Kitamura米
国特許図１０ｂ参照）、複数のビームを単一の受光体上
に走査させる。各ビームはクロス走査方向にずれてお
り、これによって複数のラインが同時に受光体を走査す
る。Kitamura特許の目的は、個々のレーザーをレーザー
アレイ内で近接配置してコンパクトな構成とし、ピッチ
のばらつきを低減するものである。
双方に関しては、Kitamuraによる米国特許第4,474,422
号に開示されている。上記Kitamuraの米国特許では、複
数のレーザーを対角線上に斜めに配置して（Kitamura米
国特許図１０ｂ参照）、複数のビームを単一の受光体上
に走査させる。各ビームはクロス走査方向にずれてお
り、これによって複数のラインが同時に受光体を走査す
る。Kitamura特許の目的は、個々のレーザーをレーザー
アレイ内で近接配置してコンパクトな構成とし、ピッチ
のばらつきを低減するものである。
【０００７】Fisli の米国特許第5,243,359 号は、マル
チステーションプリンタにおいて複数のレーザービーム
の偏向に適したＲＯＳシステムを開示する。この特許で
は、多角ミラーは、最大発散角度が互いに平行で波長の
異なる複数のレーザビーム束を偏向させる。ビームはそ
の後、複数の光学フィルタによって分光され、それぞれ
対応する受光体上に導かれる。また、各ビームのパス長
をほぼ均一にすることによって、受光体上でほぼ同サイ
ズのスポットが得られる。これは、すべてのレーザーを
１つの統合ユニット内に配置することによって容易に実
行される。そのためユニット内において、レーザーダイ
オードはクロス走査方向（サジタル方向にオフセット）
に一列に配置される。
チステーションプリンタにおいて複数のレーザービーム
の偏向に適したＲＯＳシステムを開示する。この特許で
は、多角ミラーは、最大発散角度が互いに平行で波長の
異なる複数のレーザビーム束を偏向させる。ビームはそ
の後、複数の光学フィルタによって分光され、それぞれ
対応する受光体上に導かれる。また、各ビームのパス長
をほぼ均一にすることによって、受光体上でほぼ同サイ
ズのスポットが得られる。これは、すべてのレーザーを
１つの統合ユニット内に配置することによって容易に実
行される。そのためユニット内において、レーザーダイ
オードはクロス走査方向（サジタル方向にオフセット）
に一列に配置される。
【０００８】本願と同一出願人による米国特許出願第07
/948,530号（特願平5-153529号）は、最大発散角度が互
いに平行な、垂直方向に偏光され、異なった波長を持つ
複数のレーザービームを、同時に回転多角形ミラーが偏
向するＲＯＳ装置を開示する。ここで、前記ビームはそ
の後偏光ビーム分光器及び複数の２色ビーム分光器によ
り分光され、それぞれの画像ステーションへと導かれ
る。各ビームのパス長をほぼ同じにすることにより、同
じサイズのスポットを各受光体上に得ることができる。
これは、全てのレーザーを１つの総合ユニットに配置す
ることによって容易に行われる。レーザーダイオードは
クロス走査方向（サジタル方向にオフセット）に一列に
配置させ、そして、スポットの大きさ、エネルギーの均
一性、反り、直線形等のビーム特性の誤差を減少させる
ためには、さらに多角形ミラーの回転軸と平行な方向に
近接して収められるように製造しなければならない。即
ち、レーザービームをできるだけ多角形ミラーと同じ部
分に当たるように、レーザーダイオードはクロス走査方
向に可能な限り接近させる。
/948,530号（特願平5-153529号）は、最大発散角度が互
いに平行な、垂直方向に偏光され、異なった波長を持つ
複数のレーザービームを、同時に回転多角形ミラーが偏
向するＲＯＳ装置を開示する。ここで、前記ビームはそ
の後偏光ビーム分光器及び複数の２色ビーム分光器によ
り分光され、それぞれの画像ステーションへと導かれ
る。各ビームのパス長をほぼ同じにすることにより、同
じサイズのスポットを各受光体上に得ることができる。
これは、全てのレーザーを１つの総合ユニットに配置す
ることによって容易に行われる。レーザーダイオードは
クロス走査方向（サジタル方向にオフセット）に一列に
配置させ、そして、スポットの大きさ、エネルギーの均
一性、反り、直線形等のビーム特性の誤差を減少させる
ためには、さらに多角形ミラーの回転軸と平行な方向に
近接して収められるように製造しなければならない。即
ち、レーザービームをできるだけ多角形ミラーと同じ部
分に当たるように、レーザーダイオードはクロス走査方
向に可能な限り接近させる。
【０００９】本願と同一出願人による米国特許出願第08
/156,219号の「Offset Mounting ofNonmonolithic Mult
iwavelength Lasers 」は、レーザーダイオードが互い
に軸方向にオフセットした異なる波長のレーザービーム
を生成するＲＯＳの構造を開示する。最短波長を持つレ
ーザービームはＦθ走査レンズに最も近接させ、それぞ
れの受光体にビームを合焦させる。
/156,219号の「Offset Mounting ofNonmonolithic Mult
iwavelength Lasers 」は、レーザーダイオードが互い
に軸方向にオフセットした異なる波長のレーザービーム
を生成するＲＯＳの構造を開示する。最短波長を持つレ
ーザービームはＦθ走査レンズに最も近接させ、それぞ
れの受光体にビームを合焦させる。
【００１０】この米国特許出願は、２つのレーザー装着
面を接合するため熱伝導スペーサを使用し、スペーサの
幅がレーザー装着面の間隔を制御する。
面を接合するため熱伝導スペーサを使用し、スペーサの
幅がレーザー装着面の間隔を制御する。
【００１１】同出願人による米国特許出願第08/156,222
号の「Laser Diode Arrays With Close Beam Offsets」
は、サブマウント上に第１及び第２のモノリシックレー
ザーダイオードを搭載し、これら第１及び第２のレーザ
ーダイオードのレーザーストライプ（Laser Stripe）が
互いに近接してオフセットしたビームを生成する構成を
開示している。この米国特許出願の図７に示されている
ように、２つのレーザーダイオードを近接したビームオ
フセットでサブマウント上に並べることができる。しか
しこの米国特許出願は、近接したビームオフセットで３
つ以上のレーザーダイオードを同一平面に一直線に並べ
ることは開示していない。
号の「Laser Diode Arrays With Close Beam Offsets」
は、サブマウント上に第１及び第２のモノリシックレー
ザーダイオードを搭載し、これら第１及び第２のレーザ
ーダイオードのレーザーストライプ（Laser Stripe）が
互いに近接してオフセットしたビームを生成する構成を
開示している。この米国特許出願の図７に示されている
ように、２つのレーザーダイオードを近接したビームオ
フセットでサブマウント上に並べることができる。しか
しこの米国特許出願は、近接したビームオフセットで３
つ以上のレーザーダイオードを同一平面に一直線に並べ
ることは開示していない。
【００１２】マルチビームレーザー源とビームスプリッ
ト方法とを組み合わせ、ビームを複数のゼログラフィス
テーションにアドレスするラスタ出力スキャナ構造で
は、互いに近接した間隔でサジタル方向にオフセットし
た４本の並列ビームを用いる。これら４本のビームは、
それぞれ異なった波長を持たせることができる。あるい
は、４本のビームのうち、２本ずつが同じ波長を持ち、
さらにその２本のビームが互いに異なる偏光面を持つよ
うにしてもよい。
ト方法とを組み合わせ、ビームを複数のゼログラフィス
テーションにアドレスするラスタ出力スキャナ構造で
は、互いに近接した間隔でサジタル方向にオフセットし
た４本の並列ビームを用いる。これら４本のビームは、
それぞれ異なった波長を持たせることができる。あるい
は、４本のビームのうち、２本ずつが同じ波長を持ち、
さらにその２本のビームが互いに異なる偏光面を持つよ
うにしてもよい。
【００１３】レーザーダイオードアレイには、モノリシ
ックタイプと非モノリシックタイプの２種類がある。モ
ノリシックのレーザーダイオードアレイは、製造過程で
１つのユニット構造として生産されるレーザーストライ
プ（電流が流れるとレーザー光を発する素材からなる
層）のアレイである。これに対し、非モノリシックアレ
イは、単位アレイを構成しない構造であり、通常別設の
サブマウントと、このサブマウントにハンダやエポキシ
等で接合された複数のレーザーダイオードを備えてい
る。
ックタイプと非モノリシックタイプの２種類がある。モ
ノリシックのレーザーダイオードアレイは、製造過程で
１つのユニット構造として生産されるレーザーストライ
プ（電流が流れるとレーザー光を発する素材からなる
層）のアレイである。これに対し、非モノリシックアレ
イは、単位アレイを構成しない構造であり、通常別設の
サブマウントと、このサブマウントにハンダやエポキシ
等で接合された複数のレーザーダイオードを備えてい
る。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】モノリシック方法での
問題点は、各レーザー源を追加生成する度に生じる収率
の低減である。これは、追加レーザー源を生成するに
は、新たに結晶の再成長(regrowth)工程を必要すること
に起因する。４つのレーザー源を備えたアレイの場合、
３つの別々の再成長工程を要し、収率がかなり低くな
る。一方、４つの個別のレーザーダイオードを使って１
つのレーザーアレイを製造すると、労働力が増大し、更
に、４つのレーザーダイオードを配置する際、レーザー
源間の間隔を所望の最長間隔に設定するのも困難であ
る。
問題点は、各レーザー源を追加生成する度に生じる収率
の低減である。これは、追加レーザー源を生成するに
は、新たに結晶の再成長(regrowth)工程を必要すること
に起因する。４つのレーザー源を備えたアレイの場合、
３つの別々の再成長工程を要し、収率がかなり低くな
る。一方、４つの個別のレーザーダイオードを使って１
つのレーザーアレイを製造すると、労働力が増大し、更
に、４つのレーザーダイオードを配置する際、レーザー
源間の間隔を所望の最長間隔に設定するのも困難であ
る。
【００１５】従って、互いに隣接した間隔で、正確に配
置され、収率の低減を生じないレーザー源を備えたレー
ザーアレイが必要とされる。
置され、収率の低減を生じないレーザー源を備えたレー
ザーアレイが必要とされる。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、上記問
題を解決し、著しい収率の低減なしに複数のレーザー源
を互いに近接させて正確に配置したレーザーアレイの提
供にある。この目的を達成するために、本発明のレーザ
アレイは、基板と、前記基板に装着された複数のモノリ
シックレーザービームダイと、前記モノリシックレーザ
ービームダイの各々に設けられ、それぞれ第１及び第２
レーザービームを生成する２つのレーザーストライプ
（Laser Stripe）と、を備え、前記２つのレーザストラ
イプの各々が同時に作動可能である。
題を解決し、著しい収率の低減なしに複数のレーザー源
を互いに近接させて正確に配置したレーザーアレイの提
供にある。この目的を達成するために、本発明のレーザ
アレイは、基板と、前記基板に装着された複数のモノリ
シックレーザービームダイと、前記モノリシックレーザ
ービームダイの各々に設けられ、それぞれ第１及び第２
レーザービームを生成する２つのレーザーストライプ
（Laser Stripe）と、を備え、前記２つのレーザストラ
イプの各々が同時に作動可能である。
【００１７】特に実施の形態では、２つのモノリシック
レーザーダイを用い、各レーザーダイがそれぞれの２つ
のレーザービームを生成する（各モノリシックレーザー
ダイはデュアルビームダイとも呼ばれる）。この構成に
より、レーザーアレイは近接する４本のレーザービーム
を発光することができる。各デュアルビームダイは、並
列再成長処理（または、デュアルビームチップを生成す
るためのその他の処理）をほどこしたレーザーウェーハ
又はチップから生成され、これによって２つの近接した
レーザーストライプが形成される。即ち、各デュアルビ
ームダイは、それぞれがレーザービームを発光する２つ
のレーザーストライプを含む。各ダイの２つのストライ
プの間隔は、約５０μｍと非常に近接している。各デュ
アルビームダイの内側のストライプ（最端ストライプ）
は、それぞれの端部が互いに非常に近接して配置され
る。これは、ダイの最端ストライプがもう一方のダイの
最端ストライプとなるように端面を平行に正方切断する
ことによって行われる。各レーザーダイの最端ストライ
プの端面が互いに近接するように、例えばヒートシンク
等の基板に搭載する。この方法により２つのレーザーダ
イの内側ストライプが互いに近接するように（例えば５
０μｍ）配置させることが可能になる。
レーザーダイを用い、各レーザーダイがそれぞれの２つ
のレーザービームを生成する（各モノリシックレーザー
ダイはデュアルビームダイとも呼ばれる）。この構成に
より、レーザーアレイは近接する４本のレーザービーム
を発光することができる。各デュアルビームダイは、並
列再成長処理（または、デュアルビームチップを生成す
るためのその他の処理）をほどこしたレーザーウェーハ
又はチップから生成され、これによって２つの近接した
レーザーストライプが形成される。即ち、各デュアルビ
ームダイは、それぞれがレーザービームを発光する２つ
のレーザーストライプを含む。各ダイの２つのストライ
プの間隔は、約５０μｍと非常に近接している。各デュ
アルビームダイの内側のストライプ（最端ストライプ）
は、それぞれの端部が互いに非常に近接して配置され
る。これは、ダイの最端ストライプがもう一方のダイの
最端ストライプとなるように端面を平行に正方切断する
ことによって行われる。各レーザーダイの最端ストライ
プの端面が互いに近接するように、例えばヒートシンク
等の基板に搭載する。この方法により２つのレーザーダ
イの内側ストライプが互いに近接するように（例えば５
０μｍ）配置させることが可能になる。
【００１８】上記プロセスにより、非常に接近した間隔
（５０μｍ）で線形に配置される４つのレーザー源（レ
ーザーストライプ）を有するレーザーアレイが生成され
る。このレーザーアレイをレーザー源のラインがサジタ
ル方向（多角形ミラーの回転軸と平行な方向）に伸びる
ようにして印刷装置に配置することによって、レーザー
源がサジタル方向に互いに間隔を置いて配置される。
（５０μｍ）で線形に配置される４つのレーザー源（レ
ーザーストライプ）を有するレーザーアレイが生成され
る。このレーザーアレイをレーザー源のラインがサジタ
ル方向（多角形ミラーの回転軸と平行な方向）に伸びる
ようにして印刷装置に配置することによって、レーザー
源がサジタル方向に互いに間隔を置いて配置される。
【００１９】レーザー源より発せられるレーザービーム
が波長及び／又は偏光特性により分光されるようにレー
ザー源を製造することが好ましい。第１実施の形態で
は、各レーザー源がそれぞれ異なる波長を有するレーザ
ービームを出力する。第２実施の形態では４つのレーザ
ー源を２つずつのグループに分け、第１のグループの波
長を第２のグループの波長と異ならせる。各グループに
おいて、それぞれのレーザー源は異なる偏光度を有す
る。
が波長及び／又は偏光特性により分光されるようにレー
ザー源を製造することが好ましい。第１実施の形態で
は、各レーザー源がそれぞれ異なる波長を有するレーザ
ービームを出力する。第２実施の形態では４つのレーザ
ー源を２つずつのグループに分け、第１のグループの波
長を第２のグループの波長と異ならせる。各グループに
おいて、それぞれのレーザー源は異なる偏光度を有す
る。
【００２０】モノリシックの各デュアルビームチップ上
に特殊な金属被覆（metallization）のパターンを形成
することによってチップ上に近接し合ったストライプを
設けることを可能にする。これによって、ダイを分割・
切断した後、個別にアドレスできる近接したストライプ
の形成を可能にする一方、それぞれのダイの内側のスト
ライプが互いに近接し合った配置を実現する。
に特殊な金属被覆（metallization）のパターンを形成
することによってチップ上に近接し合ったストライプを
設けることを可能にする。これによって、ダイを分割・
切断した後、個別にアドレスできる近接したストライプ
の形成を可能にする一方、それぞれのダイの内側のスト
ライプが互いに近接し合った配置を実現する。
【００２１】発明のその他の目的及び効果は、以下の実
施の形態において図面をもちいて説明する。
施の形態において図面をもちいて説明する。
【００２２】
【発明の実施の形態】図１は、４つの受光体４、６、
８、１０を有するマルチカラー印刷装置２を示す。印刷
装置２では、互いに異なる波長に変調された４本の平行
なレーザービーム束１４、１６、１８、２０を単一の回
転多角形ミラーによって走査させる。レーザービーム１
４、１６、１８、２０は、例えばそれぞれ６４５ｎｍ、
７５５ｎｍ、６９５ｎｍ、８２５ｎｍの波長を有する。
走査ビームは、単一の結像補正光学レンズ３０（例えば
Ｆθレンズ）に透過される。この結像補正光学レンズ３
０においてビームは合焦され、多角ミラーの角度誤差や
ぐらつきによる誤差が補正される。
８、１０を有するマルチカラー印刷装置２を示す。印刷
装置２では、互いに異なる波長に変調された４本の平行
なレーザービーム束１４、１６、１８、２０を単一の回
転多角形ミラーによって走査させる。レーザービーム１
４、１６、１８、２０は、例えばそれぞれ６４５ｎｍ、
７５５ｎｍ、６９５ｎｍ、８２５ｎｍの波長を有する。
走査ビームは、単一の結像補正光学レンズ３０（例えば
Ｆθレンズ）に透過される。この結像補正光学レンズ３
０においてビームは合焦され、多角ミラーの角度誤差や
ぐらつきによる誤差が補正される。
【００２３】結像補正光学レンズ３０からの４本のレー
ザービームは、第１光学フィルタ３２へ入力される。こ
の光学フィルタ３２は、波長選択多層フィルムを備える
２色ミラー（あるいは波長選択ビーム分光器）であり、
ここでレーザービーム１４、１６は、透過され、ビーム
１８、２０は反射される。通過したレーザービーム１４
及び１６は、第１ミラー３４で反射され、第２光学フィ
ルタ３６へ導かれる。このフィルタ３６において、レー
ザービーム１４はフィルタ３６を透過して第２ミラー３
８により受光体１０に導かれる。一方、レーザービーム
１６はフィルタ３６で反射され、第３ミラー４０及び第
４ミラー４２により受光体８へ導かれる。
ザービームは、第１光学フィルタ３２へ入力される。こ
の光学フィルタ３２は、波長選択多層フィルムを備える
２色ミラー（あるいは波長選択ビーム分光器）であり、
ここでレーザービーム１４、１６は、透過され、ビーム
１８、２０は反射される。通過したレーザービーム１４
及び１６は、第１ミラー３４で反射され、第２光学フィ
ルタ３６へ導かれる。このフィルタ３６において、レー
ザービーム１４はフィルタ３６を透過して第２ミラー３
８により受光体１０に導かれる。一方、レーザービーム
１６はフィルタ３６で反射され、第３ミラー４０及び第
４ミラー４２により受光体８へ導かれる。
【００２４】レーザービーム１８及び２０は、第１光学
フィルタ３２で反射されて第３光学フィルタ４４へと入
力される。この第３光学フィルタ４４において、レーザ
ービーム２０は通過され、一方、レーザービーム１８は
反射される。レーザービーム２０は第５ミラー４６によ
り受光体４へ反射され、レーザービーム１８は第６ミラ
ー４８及び第７ミラー５０により受光体６へ導かれる。
フィルタ３２で反射されて第３光学フィルタ４４へと入
力される。この第３光学フィルタ４４において、レーザ
ービーム２０は通過され、一方、レーザービーム１８は
反射される。レーザービーム２０は第５ミラー４６によ
り受光体４へ反射され、レーザービーム１８は第６ミラ
ー４８及び第７ミラー５０により受光体６へ導かれる。
【００２５】本発明のレーザーアレイを効果的に使用し
た印刷装置７０のもう１つの実施の形態を図２に示す。
この印刷装置７０は、異なる波長を持つ２組のレーザー
ビーム対を生成する。各レーザービーム対の一方の光線
の偏光面が他方の光線の偏光面と直角になるようにビー
ムを回転させ、各組内の２つのビームの識別及び分光を
可能にする。ビームは、光線の波長特性に従って多角形
ミラー１１２より後段の光学系（ポストポリゴンオプテ
ィクス：postpolygon optics）により更に分光される。
この構成により、４本のビームを使うラスタ出力スキャ
ナは２種類の異なる波長だけを必要とする。
た印刷装置７０のもう１つの実施の形態を図２に示す。
この印刷装置７０は、異なる波長を持つ２組のレーザー
ビーム対を生成する。各レーザービーム対の一方の光線
の偏光面が他方の光線の偏光面と直角になるようにビー
ムを回転させ、各組内の２つのビームの識別及び分光を
可能にする。ビームは、光線の波長特性に従って多角形
ミラー１１２より後段の光学系（ポストポリゴンオプテ
ィクス：postpolygon optics）により更に分光される。
この構成により、４本のビームを使うラスタ出力スキャ
ナは２種類の異なる波長だけを必要とする。
【００２６】多角形ミラー１１２により４本のレーザー
ビーム１１４、１１６、１１８、１２０を反射する。レ
ーザービーム１１６、１１８は第１の波長を有する第１
ビーム対であり、レーザービーム１１４、１２０は第２
の波長を有する第２ビーム対である。各ビーム対の一方
のビームは、もう一方のビームと直角な偏光面を持つ
（例えば、ビーム１１４、１１６のビーム極性、ビーム
１１８、１２０のビーム極性とする。また、ビーム１１
６、１１８は６４５ｎｍの波長を持ち、ビーム１１４、
１２０は８２５ｎｍの波長を持つ）。
ビーム１１４、１１６、１１８、１２０を反射する。レ
ーザービーム１１６、１１８は第１の波長を有する第１
ビーム対であり、レーザービーム１１４、１２０は第２
の波長を有する第２ビーム対である。各ビーム対の一方
のビームは、もう一方のビームと直角な偏光面を持つ
（例えば、ビーム１１４、１１６のビーム極性、ビーム
１１８、１２０のビーム極性とする。また、ビーム１１
６、１１８は６４５ｎｍの波長を持ち、ビーム１１４、
１２０は８２５ｎｍの波長を持つ）。
【００２７】多角形ミラー１１２で偏向され、補正光学
レンズ３０を通過した後、ビーム１１４、１１６、１１
８、１２０はミラー６０で反射され、多角形ミラーのぐ
らつき等を補正する運動補償光学レンズ６２へ導かれ
る。ビーム１１４、１１６、１１８、１２０は更にミラ
ー６４で反射され、偏光分光器６６へと導かれる。偏光
分光器６６としては、例えばプリズムや偏光選択多層フ
ィルムを備えた分光器を用いて、ビームの偏向に応じて
ビームを通過あるいは反射させる。ビーム１１４、１１
６、１１８、１２０は、図１と同様の各受光体１０、
８、６、４に導かれる。図２における印刷装置も図１の
印刷装置同様、ビームが光学系を伝達する際の軸から外
れた歪曲を避けるためには、互いに近接したレーザービ
ーム束を生成するレーザー源が備えられる必要がある。
レンズ３０を通過した後、ビーム１１４、１１６、１１
８、１２０はミラー６０で反射され、多角形ミラーのぐ
らつき等を補正する運動補償光学レンズ６２へ導かれ
る。ビーム１１４、１１６、１１８、１２０は更にミラ
ー６４で反射され、偏光分光器６６へと導かれる。偏光
分光器６６としては、例えばプリズムや偏光選択多層フ
ィルムを備えた分光器を用いて、ビームの偏向に応じて
ビームを通過あるいは反射させる。ビーム１１４、１１
６、１１８、１２０は、図１と同様の各受光体１０、
８、６、４に導かれる。図２における印刷装置も図１の
印刷装置同様、ビームが光学系を伝達する際の軸から外
れた歪曲を避けるためには、互いに近接したレーザービ
ーム束を生成するレーザー源が備えられる必要がある。
【００２８】上記実施の形態で、互いに直角に偏光した
第１の波長を持つ２本のビームλ1と、互いに直角に偏
光した第２の波長を持つ２本のビームλ2 の計４本のビ
ーム束を分光する手順を説明した。これら４本のビーム
をそれぞれ（λ1 Ｐ）（λ1Ｓ）（λ2 Ｐ）（λ2 Ｓ）
とする。上記第２の実施の形態では、まず第１の分光器
６６において偏光に応じて、（λ1 Ｐ）、（λ2 Ｐ）の
第１ビーム対と（λ1Ｓ）、（λ2 Ｓ）の第２ビーム対
の２組に分光する。これら２つのビーム対を更に第２、
第３の光学フィルタ３６及び４４で波長に応じて分け４
本の個別なビームに分光する。別の方法として、始めに
波長により分光し、次に偏光特性により分光することで
４本のビーム束を分光してもよい。その場合は、第１の
分光器６６で（λ1 Ｐ）及び（λ1 Ｓ）の第１ビーム対
と（λ2 Ｐ）及び（λ2 Ｓ）の第２ビーム対に分光す
る。これら２組を第２、第３の光学フィルタ３６、４４
でそれぞれ偏光に応じて分光し、最終的に４本の個別な
ビームに分光する。
第１の波長を持つ２本のビームλ1と、互いに直角に偏
光した第２の波長を持つ２本のビームλ2 の計４本のビ
ーム束を分光する手順を説明した。これら４本のビーム
をそれぞれ（λ1 Ｐ）（λ1Ｓ）（λ2 Ｐ）（λ2 Ｓ）
とする。上記第２の実施の形態では、まず第１の分光器
６６において偏光に応じて、（λ1 Ｐ）、（λ2 Ｐ）の
第１ビーム対と（λ1Ｓ）、（λ2 Ｓ）の第２ビーム対
の２組に分光する。これら２つのビーム対を更に第２、
第３の光学フィルタ３６及び４４で波長に応じて分け４
本の個別なビームに分光する。別の方法として、始めに
波長により分光し、次に偏光特性により分光することで
４本のビーム束を分光してもよい。その場合は、第１の
分光器６６で（λ1 Ｐ）及び（λ1 Ｓ）の第１ビーム対
と（λ2 Ｐ）及び（λ2 Ｓ）の第２ビーム対に分光す
る。これら２組を第２、第３の光学フィルタ３６、４４
でそれぞれ偏光に応じて分光し、最終的に４本の個別な
ビームに分光する。
【００２９】上述のような印刷装置では、レーザー源か
ら生成されるビームが互いに近接し、サジタル方向（即
ち多角形ミラーの回転軸と平行な方向）にオフセットす
るようなレーザーアレイを用いるのが望しい。特に本実
施の形態では、レーザーアレイは５０μｍの間隔を置い
た複数のビームを生成する。
ら生成されるビームが互いに近接し、サジタル方向（即
ち多角形ミラーの回転軸と平行な方向）にオフセットす
るようなレーザーアレイを用いるのが望しい。特に本実
施の形態では、レーザーアレイは５０μｍの間隔を置い
た複数のビームを生成する。
【００３０】完全にモノリシックな並列再成長技術を用
いて４本のレーザービームを発生するレーザーアレイを
生成することは可能である。この方法は、同一基板上に
異なる４つのレーザー源を生成するために３つの再成長
工程を要する。しかし、このような並列再成長で生成さ
れたレーザーアレイは、各成長工程ごとに収率の損失を
招き、全体としてかなりの収率損失になる。各追加レー
ザー源を生成するのに個別の再成長過程が必要なため、
レーザー源を追加する度に収率の低減となる。このよう
に、４つのレーザー源を有するアレイには３つの再成長
工程が必要となり、そのため、収率がかなり低くなる。
一方、４つの個別のレーザーダイオードダイを用い、純
粋なハイブリッド技法で４つのレーザー源を有するアレ
イを製造することは、非常に労働力を必要とする。更
に、個別のレーザーダイを使用する際にレーザー源の間
隔を所望の最小間隔に設定することは困難でもある。
いて４本のレーザービームを発生するレーザーアレイを
生成することは可能である。この方法は、同一基板上に
異なる４つのレーザー源を生成するために３つの再成長
工程を要する。しかし、このような並列再成長で生成さ
れたレーザーアレイは、各成長工程ごとに収率の損失を
招き、全体としてかなりの収率損失になる。各追加レー
ザー源を生成するのに個別の再成長過程が必要なため、
レーザー源を追加する度に収率の低減となる。このよう
に、４つのレーザー源を有するアレイには３つの再成長
工程が必要となり、そのため、収率がかなり低くなる。
一方、４つの個別のレーザーダイオードダイを用い、純
粋なハイブリッド技法で４つのレーザー源を有するアレ
イを製造することは、非常に労働力を必要とする。更
に、個別のレーザーダイを使用する際にレーザー源の間
隔を所望の最小間隔に設定することは困難でもある。
【００３１】そこで本発明は、ハイブリッド方法とモノ
リシック技術を組み合わせて、４つのレーザー源を有す
るレーザーアレイを製造し、収率の損失を低減する。
リシック技術を組み合わせて、４つのレーザー源を有す
るレーザーアレイを製造し、収率の損失を低減する。
【００３２】図３は、本発明の実施の形態にかかるレー
ザーアレイ８２の正面図である。レーザーアレイ８２は
ヒートシンク等の基板８４とその基板上に搭載した２つ
のモノリシックレーザービームダイ８６ａ、８６ｂを含
む。各レーザービームダイは、一列に並ぶ２つの発光ス
トライプを有する。２つの発光ストライプは、それぞれ
異なる波長で、且つ偏光が同一の２本のレーザービーム
を生成する。図示しないが、別の方法としては、レーザ
ーストライプの第１対が同一の波長λ1 で偏光面の異な
る２本のレーザービーム８８ａ、８８ｂを出力し、レー
ザーストライプの第２対が同一の第２波長λ2 で偏光面
の異なる２本のレーザービーム８８ｃ、８８ｄを出力し
てもよい。
ザーアレイ８２の正面図である。レーザーアレイ８２は
ヒートシンク等の基板８４とその基板上に搭載した２つ
のモノリシックレーザービームダイ８６ａ、８６ｂを含
む。各レーザービームダイは、一列に並ぶ２つの発光ス
トライプを有する。２つの発光ストライプは、それぞれ
異なる波長で、且つ偏光が同一の２本のレーザービーム
を生成する。図示しないが、別の方法としては、レーザ
ーストライプの第１対が同一の波長λ1 で偏光面の異な
る２本のレーザービーム８８ａ、８８ｂを出力し、レー
ザーストライプの第２対が同一の第２波長λ2 で偏光面
の異なる２本のレーザービーム８８ｃ、８８ｄを出力し
てもよい。
【００３３】ダイ８６ａはビーム８８ａ及び８８ｂをそ
れぞれ発光する２つのストライプを備え、ダイ８６ｂは
ビーム８８ｃ及び８８ｄをそれぞれ発光する２つのスト
ライプを備えている。各レーザービームダイ上のレーザ
ーストライプは、所定の距離Ａだけ離れている。この実
施の形態において、距離Ａは約５０μｍである。各レー
ザービームダイ８６ａ、８６ｂは、周知の並列再成長工
程とそれに引き続く処理工程で形成される。あるいは、
レーザーストライプ間に所望のオフセットを設定するそ
の他の技術を用いてもよい。レーザービームダイ８６ａ
及び８６ｂを基板８４上に搭載する際、それぞれのレー
ザービームダイの内側の隣接し合うレーザーストライプ
が距離Ｄだけオフセットするように、ダイを配置しなけ
ればならない。本実施の形態では、ビーム８８ａ〜８８
ｄの間隔が均等となるように、オフセットＤをオフセッ
トＡと等しく設定する。
れぞれ発光する２つのストライプを備え、ダイ８６ｂは
ビーム８８ｃ及び８８ｄをそれぞれ発光する２つのスト
ライプを備えている。各レーザービームダイ上のレーザ
ーストライプは、所定の距離Ａだけ離れている。この実
施の形態において、距離Ａは約５０μｍである。各レー
ザービームダイ８６ａ、８６ｂは、周知の並列再成長工
程とそれに引き続く処理工程で形成される。あるいは、
レーザーストライプ間に所望のオフセットを設定するそ
の他の技術を用いてもよい。レーザービームダイ８６ａ
及び８６ｂを基板８４上に搭載する際、それぞれのレー
ザービームダイの内側の隣接し合うレーザーストライプ
が距離Ｄだけオフセットするように、ダイを配置しなけ
ればならない。本実施の形態では、ビーム８８ａ〜８８
ｄの間隔が均等となるように、オフセットＤをオフセッ
トＡと等しく設定する。
【００３４】個別のレーザービームダイを基板８４上に
正確に位置させ、各ダイの内側のストライプを他方のダ
イの内側端部と近接させて配置することにより所望オフ
セットＤを得る。例えば、ビーム８８ｂを発光するスト
ライプはダイ８６ａの側面部に近接し、ビーム８８ｃを
発光するストライプはダイ８６ｂの側面部に近接する。
レーザーストライプのダイ側面部に対する正確な配置
は、Kovacs et al. の米国特許出願第08/156,222号に開
示されるいくつかの方法で行われる。この米国特許に示
されるように、周知の半導体製造技術で作られたレーザ
ーストライプのウェーハから単一のダイを正方切断す
る。ダイ側面部に対するストライプの正確な配置は、レ
ーザーストライプに対し、正確に決定された距離でつけ
られた刻線に沿ってダイを正方切断することによって行
われる。
正確に位置させ、各ダイの内側のストライプを他方のダ
イの内側端部と近接させて配置することにより所望オフ
セットＤを得る。例えば、ビーム８８ｂを発光するスト
ライプはダイ８６ａの側面部に近接し、ビーム８８ｃを
発光するストライプはダイ８６ｂの側面部に近接する。
レーザーストライプのダイ側面部に対する正確な配置
は、Kovacs et al. の米国特許出願第08/156,222号に開
示されるいくつかの方法で行われる。この米国特許に示
されるように、周知の半導体製造技術で作られたレーザ
ーストライプのウェーハから単一のダイを正方切断す
る。ダイ側面部に対するストライプの正確な配置は、レ
ーザーストライプに対し、正確に決定された距離でつけ
られた刻線に沿ってダイを正方切断することによって行
われる。
【００３５】上記米国特許出願に示すように、所望オフ
セットＤを得るためのレーザービームダイ８６ａ及び８
６ｂの基板８４上への適切な配置は、各レーザービーム
ダイに検出可能な機能を設け、この検出可能機能の間が
所定の距離を維持できるようにレーザービーム８８ａ、
８８ｂを装着することにより行われる。この検出可能機
能は、レーザーストライプと、各レーザービームダイ８
６ａ、８６ｂにエッチングした溝９０、又は各レーザー
ビームダイの側端を含む。更に、同米国特許出願に開示
される方法により、一方のダイの最端のレーザーストラ
イプが他方のダイの端面に近接するように、レーザービ
ームダイを分割する。刻線マークをレーザーストライプ
から任意の距離につけ、そのマークに微少量の圧力を加
え、亀裂を生じさせる。この亀裂は、レーザーストライ
プの軸と適切な距離をあけて、平行であり、原子公差内
に保持できる程度の亀裂である。この近接分割は一般に
並列再成長後に行われる。分割後に再成長処理を行おう
とすると、小さく正方切断された多数のレーザーダイを
再成長用の反応器に戻す必要性が生じ、またレーザース
トライプをこれら多数の小さなダイ上に正確に位置させ
る技法が必要となり、非実用的だからである。多数の小
さなダイの多数処理過程は、事実上不可能である。
セットＤを得るためのレーザービームダイ８６ａ及び８
６ｂの基板８４上への適切な配置は、各レーザービーム
ダイに検出可能な機能を設け、この検出可能機能の間が
所定の距離を維持できるようにレーザービーム８８ａ、
８８ｂを装着することにより行われる。この検出可能機
能は、レーザーストライプと、各レーザービームダイ８
６ａ、８６ｂにエッチングした溝９０、又は各レーザー
ビームダイの側端を含む。更に、同米国特許出願に開示
される方法により、一方のダイの最端のレーザーストラ
イプが他方のダイの端面に近接するように、レーザービ
ームダイを分割する。刻線マークをレーザーストライプ
から任意の距離につけ、そのマークに微少量の圧力を加
え、亀裂を生じさせる。この亀裂は、レーザーストライ
プの軸と適切な距離をあけて、平行であり、原子公差内
に保持できる程度の亀裂である。この近接分割は一般に
並列再成長後に行われる。分割後に再成長処理を行おう
とすると、小さく正方切断された多数のレーザーダイを
再成長用の反応器に戻す必要性が生じ、またレーザース
トライプをこれら多数の小さなダイ上に正確に位置させ
る技法が必要となり、非実用的だからである。多数の小
さなダイの多数処理過程は、事実上不可能である。
【００３６】図４は、本発明の実施の形態による近接し
たレーザーストライプのワイヤボンディングを示す。本
発明の前記実施の形態において、レーザーストライプ間
の距離が５０μｍと極小なため、最端レーザーストライ
プと内側のストライプとの最大幅距離、又は同一チップ
上にある２つのレーザーストライプを分離させる領域の
最大幅距離も極小である（約２０μｍ）。１ミルの金製
ワイヤでできた典型的なボールボンディングは、約３ミ
ルのボールである。しかし上述のように分離領域の最大
幅が２０μｍとすると、従来のボールボンディングには
狭すぎる。従って、本発明は図４に示すように特別な金
属被覆パターンを使用する。
たレーザーストライプのワイヤボンディングを示す。本
発明の前記実施の形態において、レーザーストライプ間
の距離が５０μｍと極小なため、最端レーザーストライ
プと内側のストライプとの最大幅距離、又は同一チップ
上にある２つのレーザーストライプを分離させる領域の
最大幅距離も極小である（約２０μｍ）。１ミルの金製
ワイヤでできた典型的なボールボンディングは、約３ミ
ルのボールである。しかし上述のように分離領域の最大
幅が２０μｍとすると、従来のボールボンディングには
狭すぎる。従って、本発明は図４に示すように特別な金
属被覆パターンを使用する。
【００３７】図４において、レーザーストライプ８９ａ
〜８９ｄは、金属被覆パターン７２によりそれぞれボー
ルボンディング位置（パッド）７４、７６、７８、８０
に接続されている。実線９２、９４は、金属被覆パター
ン７２のブレークを表し、これによって各レーザースト
ライプ８９ａ〜８９ｄをそれぞれ対応のボールボンディ
ング位置７４、７６、７８、８０へ接続する。各ボール
ボンディング位置７４、７６、７８、８０へそれぞれ金
属配線を取り付け、レーザーストライプを電源及び制御
装置（図示せず）に接続する。具体的には、パッド７４
をストライプ８９ａへ、パッド７６をストライプ８９ｂ
へ、パッド７８をストライプ８９ｃへ、そしてパッド８
０をストライプ８９ｄへそれぞれ接続する。パッド７６
とレーザーストライプ８９ｂの金属配線接続は、レーザ
ーストライプ８９ａと非常に狭いブリッジによって交差
している。レーザーストライプの一般的長さは約３０ミ
ルであり、ブリッジの幅は最大で約０．５ミルである。
ブリッジからレーザーストライプ８９ａに流れ込む電流
は、ストライプに与える影響を極僅かにしているため、
パッド７６からレーザー８９ｂへの作用は、レーザー８
９ａの操作にほとんど影響しない。同様に、パッド７８
からレーザー８９ｃへの電流作用は、レーザー８９ｄの
作用にほとんど影響しない。従って、図４に示す４つの
パッド接続システムはレーザー８９ａ、８９ｂ、８９
ｃ、８９ｄの完全に独立した操作を可能とする。
〜８９ｄは、金属被覆パターン７２によりそれぞれボー
ルボンディング位置（パッド）７４、７６、７８、８０
に接続されている。実線９２、９４は、金属被覆パター
ン７２のブレークを表し、これによって各レーザースト
ライプ８９ａ〜８９ｄをそれぞれ対応のボールボンディ
ング位置７４、７６、７８、８０へ接続する。各ボール
ボンディング位置７４、７６、７８、８０へそれぞれ金
属配線を取り付け、レーザーストライプを電源及び制御
装置（図示せず）に接続する。具体的には、パッド７４
をストライプ８９ａへ、パッド７６をストライプ８９ｂ
へ、パッド７８をストライプ８９ｃへ、そしてパッド８
０をストライプ８９ｄへそれぞれ接続する。パッド７６
とレーザーストライプ８９ｂの金属配線接続は、レーザ
ーストライプ８９ａと非常に狭いブリッジによって交差
している。レーザーストライプの一般的長さは約３０ミ
ルであり、ブリッジの幅は最大で約０．５ミルである。
ブリッジからレーザーストライプ８９ａに流れ込む電流
は、ストライプに与える影響を極僅かにしているため、
パッド７６からレーザー８９ｂへの作用は、レーザー８
９ａの操作にほとんど影響しない。同様に、パッド７８
からレーザー８９ｃへの電流作用は、レーザー８９ｄの
作用にほとんど影響しない。従って、図４に示す４つの
パッド接続システムはレーザー８９ａ、８９ｂ、８９
ｃ、８９ｄの完全に独立した操作を可能とする。
【００３８】以上、実施の形態に基づいて本発明を説明
したが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
く、本発明の原理と範囲内にあるすべての変形、代用
物、均等物を含むことは、当業者であれば自明である。
たとえば、本発明はファクシミリ、複写機、プリンタを
含むすべてのタイプの印刷装置に適用可能である。ま
た、実施の形態では複数の光ビームの各々を個別の感光
ドラム表面などの受像位置に導くが、複数の走査ビーム
を受光するのにエンドレスベルトのような単一の受像位
置を用いたプリント装置にも適用できる。
したが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
く、本発明の原理と範囲内にあるすべての変形、代用
物、均等物を含むことは、当業者であれば自明である。
たとえば、本発明はファクシミリ、複写機、プリンタを
含むすべてのタイプの印刷装置に適用可能である。ま
た、実施の形態では複数の光ビームの各々を個別の感光
ドラム表面などの受像位置に導くが、複数の走査ビーム
を受光するのにエンドレスベルトのような単一の受像位
置を用いたプリント装置にも適用できる。
【００３９】
【発明の効果】本発明では、異なる波長及び／又異なる
偏りを持つ４本のビームを発するレーザーダイアレイを
提供する。このアレイは、２つの近接したレーザービー
ムダイを有し、各ダイが２つのレーザーストライプを有
する。金属被覆パターンにより互いに近接した各レーザ
ーストライプを接続することにより、非モノリシックの
高収率なマルチレーザー源アレイを実現する。
偏りを持つ４本のビームを発するレーザーダイアレイを
提供する。このアレイは、２つの近接したレーザービー
ムダイを有し、各ダイが２つのレーザーストライプを有
する。金属被覆パターンにより互いに近接した各レーザ
ーストライプを接続することにより、非モノリシックの
高収率なマルチレーザー源アレイを実現する。
【図１】 本発明によるレーザーアレイを用いたラスタ
出力スキャナ装置の概略図である。
出力スキャナ装置の概略図である。
【図２】 本発明によるレーザーアレイを用いた第２ラ
スタ出力スキャナ装置の概略図である。
スタ出力スキャナ装置の概略図である。
【図３】 図１及び図２のＲＯＳシステムに用いた本発
明のレーザービームチップの正面図であり、サブマウン
トに搭載されたレーザービームチップを示す図である。
明のレーザービームチップの正面図であり、サブマウン
トに搭載されたレーザービームチップを示す図である。
【図４】 本発明の実施の形態にかかるレーザーストラ
イプの金属配線パッドを示すの概略図である。
イプの金属配線パッドを示すの概略図である。
７２ 金属被覆パターン、７４，７６，７８，８０ パ
ッド、８２ アレイ、８４ 基板、８６ａ，８６ｂ レ
ーザービームダイ、８８ａ，８８ｂ，８８ｃ，８８ｄ
レーザービーム、８９ａ，８９ｂ，８９ｃ，８９ｄ レ
ーザーストライプ、９０ 溝、９２，９４ ブレーク。
ッド、８２ アレイ、８４ 基板、８６ａ，８６ｂ レ
ーザービームダイ、８８ａ，８８ｂ，８８ｃ，８８ｄ
レーザービーム、８９ａ，８９ｂ，８９ｃ，８９ｄ レ
ーザーストライプ、９０ 溝、９２，９４ ブレーク。
Claims (1)
- 【請求項１】 印刷装置用発光装置のレーザーアレイで
あって、 基板と、 前記基板に装着された複数のモノリシックレーザービー
ムダイと、 前記モノリシックレーザービームダイの各々に設けら
れ、それぞれ第１及び第２レーザービームを生成する２
つのレーザーストライプと、を備え、 前記２つのレーザーストライプの各々が同時に作動可能
であるレーザーアレイ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US350536 | 1982-02-19 | ||
| US08/350,536 US5638393A (en) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | Nonmonolithic multiple laser source arrays |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08228046A true JPH08228046A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=23377147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7310812A Pending JPH08228046A (ja) | 1994-12-07 | 1995-11-29 | 非モノリシックマルチレーザー源アレイ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5638393A (ja) |
| JP (1) | JPH08228046A (ja) |
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1994
- 1994-12-07 US US08/350,536 patent/US5638393A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-11-29 JP JP7310812A patent/JPH08228046A/ja active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5638393A (en) | 1997-06-10 |
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|
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