JPH08104004A - インクジェット記録ヘッド - Google Patents
インクジェット記録ヘッドInfo
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- JPH08104004A JPH08104004A JP24163394A JP24163394A JPH08104004A JP H08104004 A JPH08104004 A JP H08104004A JP 24163394 A JP24163394 A JP 24163394A JP 24163394 A JP24163394 A JP 24163394A JP H08104004 A JPH08104004 A JP H08104004A
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- JP
- Japan
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- ink
- piezoelectric substrate
- recording head
- nozzle
- nozzle plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Ink Jet (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡易な構成でインクミスト発生効率を向上す
る。 【構成】 ノズルプレート1は、板状で、複数のノズル
2が所定ピッチで列状に形成されている。基板部材6
は、ノズルプレート1に対向する側の表面に、ノズル2
より径が大きい球面形状の凹面61がノズル2と同一ピ
ッチで形成されている。また、基板部材6上の凹面61
を含むノズル列に対向する帯状領域及び右方領域に、チ
タン薄膜40が形成されている。チタン薄膜40上の所
定領域に水熱合成法によりPZTが析出されて圧電基板
3が形成され、圧電基板3の上面に個別電極5が形成さ
れる。ノズルプレート1は、基板部材6に対し、ノズル
2が凹面61に対向するように位置設定されて配置さ
れ、所定間隔の隙間を有して固定される。この隙間に
は、インク7が満たされている。
る。 【構成】 ノズルプレート1は、板状で、複数のノズル
2が所定ピッチで列状に形成されている。基板部材6
は、ノズルプレート1に対向する側の表面に、ノズル2
より径が大きい球面形状の凹面61がノズル2と同一ピ
ッチで形成されている。また、基板部材6上の凹面61
を含むノズル列に対向する帯状領域及び右方領域に、チ
タン薄膜40が形成されている。チタン薄膜40上の所
定領域に水熱合成法によりPZTが析出されて圧電基板
3が形成され、圧電基板3の上面に個別電極5が形成さ
れる。ノズルプレート1は、基板部材6に対し、ノズル
2が凹面61に対向するように位置設定されて配置さ
れ、所定間隔の隙間を有して固定される。この隙間に
は、インク7が満たされている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ファクシミリ、複写機
やプリンタ等に適用されるインクジェット記録装置に用
いられるインクジェット記録ヘッドに関するものであ
る。
やプリンタ等に適用されるインクジェット記録装置に用
いられるインクジェット記録ヘッドに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、インクジェット記録ヘッドのノズ
ルからインクを吐出して用紙に印字するインクジェット
記録装置が実用化されており、最近では、インクを霧状
にしてノズルから吐出することにより濃度階調表現が可
能になされたインクジェット記録ヘッドが提案されてい
る(特開平5−38809号公報)。
ルからインクを吐出して用紙に印字するインクジェット
記録装置が実用化されており、最近では、インクを霧状
にしてノズルから吐出することにより濃度階調表現が可
能になされたインクジェット記録ヘッドが提案されてい
る(特開平5−38809号公報)。
【0003】この従来のインクジェット記録ヘッドで
は、圧電基板の表面及び裏面に電極が設けられ、この電
極の交差領域に対峙する位置にノズルが設けられたノズ
ルプレートが圧電基板に直付けされて構成されている。
そして、電極間に圧電基板の共振周波数に等しい周期で
変化する電圧を選択的に印加することのできる高周波電
源を備え、電圧印加によって圧電基板を共振させ、イン
ク中に超音波を発生させて、ノズルのインク表面に表面
波を発生させる。この表面波の振幅が所定レベル以上に
なると、ノズルからインクミストが吐出されて濃度階調
画像が得られるようになっている。更に、音響レンズを
備え、圧電基板から発生した超音波をノズルに集中させ
てノズル面積に比べて大きい面積の圧電基板で発生する
超音波エネルギーを使用可能にすることによってインク
ミスト発生効率を向上し、圧電基板の駆動電圧を低下さ
せている。
は、圧電基板の表面及び裏面に電極が設けられ、この電
極の交差領域に対峙する位置にノズルが設けられたノズ
ルプレートが圧電基板に直付けされて構成されている。
そして、電極間に圧電基板の共振周波数に等しい周期で
変化する電圧を選択的に印加することのできる高周波電
源を備え、電圧印加によって圧電基板を共振させ、イン
ク中に超音波を発生させて、ノズルのインク表面に表面
波を発生させる。この表面波の振幅が所定レベル以上に
なると、ノズルからインクミストが吐出されて濃度階調
画像が得られるようになっている。更に、音響レンズを
備え、圧電基板から発生した超音波をノズルに集中させ
てノズル面積に比べて大きい面積の圧電基板で発生する
超音波エネルギーを使用可能にすることによってインク
ミスト発生効率を向上し、圧電基板の駆動電圧を低下さ
せている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平5−38809号公報記載のインクジェット記録ヘ
ッドでは、ノズル毎に音響レンズを必要とするために、
ノズル数が増大したりノズル密度が向上すると、精度良
く音響レンズを取り付けるための手間が増大し、製造工
程も複雑なものになってしまう。
開平5−38809号公報記載のインクジェット記録ヘ
ッドでは、ノズル毎に音響レンズを必要とするために、
ノズル数が増大したりノズル密度が向上すると、精度良
く音響レンズを取り付けるための手間が増大し、製造工
程も複雑なものになってしまう。
【0005】本発明は、上記問題を解決するもので、簡
易な構成でインクミスト発生効率の高いインクジェット
記録ヘッドを提供することを目的とする。
易な構成でインクミスト発生効率の高いインクジェット
記録ヘッドを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、厚さ方向にインク吐出口が穿設されたノ
ズルプレートと、このノズルプレートに並設され、上記
インク吐出口に対向して両面に電極が配設された圧電基
板とを備え、上記電極間に上記圧電基板の共振周波数に
等しい周期で変化する電圧を印加し、上記インク吐出口
から霧状のインクを吐出するようになされたインクジェ
ット記録ヘッドにおいて、上記圧電基板は、一定厚さを
有する薄膜状で、少なくとも電極配設位置に上記インク
吐出口側に凹状に曲げられた凹部が形成されている(請
求項1)。
に、本発明は、厚さ方向にインク吐出口が穿設されたノ
ズルプレートと、このノズルプレートに並設され、上記
インク吐出口に対向して両面に電極が配設された圧電基
板とを備え、上記電極間に上記圧電基板の共振周波数に
等しい周期で変化する電圧を印加し、上記インク吐出口
から霧状のインクを吐出するようになされたインクジェ
ット記録ヘッドにおいて、上記圧電基板は、一定厚さを
有する薄膜状で、少なくとも電極配設位置に上記インク
吐出口側に凹状に曲げられた凹部が形成されている(請
求項1)。
【0007】また、上記凹部は、湾曲面からなる(請求
項2)。
項2)。
【0008】また、上記インク吐出口は、一方向に所定
ピッチで穿設された複数のノズルからなり、上記凹部
は、上記ノズル列に平行な溝形状になっている(請求項
3)。
ピッチで穿設された複数のノズルからなり、上記凹部
は、上記ノズル列に平行な溝形状になっている(請求項
3)。
【0009】また、請求項1〜3のいずれかに記載のイ
ンクジェット記録ヘッドにおいて、上記凹部が形成され
たチタンを備え、上記圧電基板は、上記チタンの表面と
化学結合してなる薄膜状のPZTで形成されている(請
求項4)。
ンクジェット記録ヘッドにおいて、上記凹部が形成され
たチタンを備え、上記圧電基板は、上記チタンの表面と
化学結合してなる薄膜状のPZTで形成されている(請
求項4)。
【0010】
【作用】請求項1記載の発明によれば、電極間に圧電基
板の共振周波数に等しい周期で変化する電圧が印加され
ると、圧電基板が共振する。薄膜状の圧電基板は、イン
ク吐出口側に凹状に曲げられているので、共振による振
動エネルギーがインク吐出口近傍に集中する。従って、
霧状インクの発生効率が向上する。
板の共振周波数に等しい周期で変化する電圧が印加され
ると、圧電基板が共振する。薄膜状の圧電基板は、イン
ク吐出口側に凹状に曲げられているので、共振による振
動エネルギーがインク吐出口近傍に集中する。従って、
霧状インクの発生効率が向上する。
【0011】また、請求項2記載の発明によれば、電極
間に圧電基板の共振周波数に等しい周期で変化する電圧
が印加されると、圧電基板が共振する。薄膜状の圧電基
板は、インク吐出口側に凹状に湾曲面が形成されている
ので、共振による振動エネルギーがインク吐出口近傍に
集中する。従って、霧状インクの発生効率が向上する。
間に圧電基板の共振周波数に等しい周期で変化する電圧
が印加されると、圧電基板が共振する。薄膜状の圧電基
板は、インク吐出口側に凹状に湾曲面が形成されている
ので、共振による振動エネルギーがインク吐出口近傍に
集中する。従って、霧状インクの発生効率が向上する。
【0012】また、請求項3記載の発明によれば、電極
間に圧電基板の共振周波数に等しい周期で変化する電圧
が印加されると、各ノズルに対向する電極間の圧電基板
が共振する。薄膜状の圧電基板は、ノズル列に平行な溝
形状になっているので、共振による振動エネルギーがノ
ズル近傍に集中する。従って、霧状インクの発生効率が
向上する。
間に圧電基板の共振周波数に等しい周期で変化する電圧
が印加されると、各ノズルに対向する電極間の圧電基板
が共振する。薄膜状の圧電基板は、ノズル列に平行な溝
形状になっているので、共振による振動エネルギーがノ
ズル近傍に集中する。従って、霧状インクの発生効率が
向上する。
【0013】また、請求項4記載の発明によれば、チタ
ンの凹部に薄膜状のPZTからなる圧電基板が化学結合
している。従って、圧電基板とチタンとの結合力が大き
くなるとともに、結合力のばらつきが低減される。ま
た、圧電基板の形状のばらつきも低減される。従って、
特に複数のインク吐出口を有する場合に、各インク吐出
口で均等な霧状インクの発生効率が得られる。
ンの凹部に薄膜状のPZTからなる圧電基板が化学結合
している。従って、圧電基板とチタンとの結合力が大き
くなるとともに、結合力のばらつきが低減される。ま
た、圧電基板の形状のばらつきも低減される。従って、
特に複数のインク吐出口を有する場合に、各インク吐出
口で均等な霧状インクの発生効率が得られる。
【0014】
【実施例】本発明に係るインクジェット記録ヘッドの第
1実施例について、図1を用いて説明する。図1は第1
実施例の構成を示す図で、(a)は基板部材の凹面の形
状及びそのノズルとの位置関係を示す平面図、(b)は
(a)のB−B断面図である。
1実施例について、図1を用いて説明する。図1は第1
実施例の構成を示す図で、(a)は基板部材の凹面の形
状及びそのノズルとの位置関係を示す平面図、(b)は
(a)のB−B断面図である。
【0015】このインクジェット記録ヘッドは、ノズル
プレート1と基板部材6などから構成されている。
プレート1と基板部材6などから構成されている。
【0016】ノズルプレート1は、厚さ約15μmを有
する板状で、その板面の一方向に所定ピッチを有して複
数のノズル2が厚さ方向に貫通するように形成され、例
えば電鋳法等によって作製されている。なお、ノズルプ
レート1として、ガラス製のものを用いてもよい。
する板状で、その板面の一方向に所定ピッチを有して複
数のノズル2が厚さ方向に貫通するように形成され、例
えば電鋳法等によって作製されている。なお、ノズルプ
レート1として、ガラス製のものを用いてもよい。
【0017】基板部材6は、例えばガラス等の絶縁材料
で形成された板状で、ノズルプレート1に対向する側の
表面に、球面形状の凹面61がノズル2と同一ピッチで
形成されている。この凹面61は、好ましくは、後述す
る圧電基板3の焦点がノズル2近傍に位置するように形
成されている。
で形成された板状で、ノズルプレート1に対向する側の
表面に、球面形状の凹面61がノズル2と同一ピッチで
形成されている。この凹面61は、好ましくは、後述す
る圧電基板3の焦点がノズル2近傍に位置するように形
成されている。
【0018】また、基板部材6上の凹面61を含むノズ
ル列に対向する帯状領域及び図1(a)中、右方領域
に、チタン薄膜40が蒸着やスパッタリング等の方法に
よって形成されている。このチタン薄膜40は、共通電
極4として作用するようになっている。
ル列に対向する帯状領域及び図1(a)中、右方領域
に、チタン薄膜40が蒸着やスパッタリング等の方法に
よって形成されている。このチタン薄膜40は、共通電
極4として作用するようになっている。
【0019】圧電基板3は、チタン薄膜40上の所定領
域に形成されたチタン酸ジルコン酸鉛(以下、PZTと
いう)の薄膜からなり、厚さ方向に分極されている。
域に形成されたチタン酸ジルコン酸鉛(以下、PZTと
いう)の薄膜からなり、厚さ方向に分極されている。
【0020】ここで、圧電基板3の製造方法について図
2、図3を用いて説明する。図2は圧電基板及び電極の
製造方法を示す説明図である。図3は水熱合成法により
チタン薄膜にPZTを析出させる方法を示す説明図であ
る。
2、図3を用いて説明する。図2は圧電基板及び電極の
製造方法を示す説明図である。図3は水熱合成法により
チタン薄膜にPZTを析出させる方法を示す説明図であ
る。
【0021】まず、基板部材6の表面に感光性レジスト
9が塗布され(図2(a))、圧電基板3を形成すべき
位置の感光性レジスト9がフォトエッチングにより除去
される(図2(b))。本実施例では、凹面61の領域
及び図1(b)中、凹面61の右方領域が除去される。
次いで、チタン薄膜40の感光性レジスト9が除去され
た位置に水熱合成法によりPZTを析出させて、圧電基
板3が形成される(図2(c))。
9が塗布され(図2(a))、圧電基板3を形成すべき
位置の感光性レジスト9がフォトエッチングにより除去
される(図2(b))。本実施例では、凹面61の領域
及び図1(b)中、凹面61の右方領域が除去される。
次いで、チタン薄膜40の感光性レジスト9が除去され
た位置に水熱合成法によりPZTを析出させて、圧電基
板3が形成される(図2(c))。
【0022】続いて、圧電基板3が形成された基板部材
6の各圧電基板3の上面、すなわち凹面61上及び凹面
61から図1(a)中、右方領域に、スパッタリングや
蒸着等により個別電極(例えばNi膜)5が形成され、
基板部材6表面に絶縁処理が行われて終了する(図2
(d))。
6の各圧電基板3の上面、すなわち凹面61上及び凹面
61から図1(a)中、右方領域に、スパッタリングや
蒸着等により個別電極(例えばNi膜)5が形成され、
基板部材6表面に絶縁処理が行われて終了する(図2
(d))。
【0023】チタン薄膜40へのPZTの析出は、チタ
ン薄膜40の所定位置、すなわち感光性レジスト9が除
去された位置にPZTの結晶核を形成する第1の工程
と、上記結晶核にPZTの結晶を成長させる第2の工程
とからなる。また、第2の工程を複数回繰り返してPZ
Tの厚みが所望の厚みに制御される。
ン薄膜40の所定位置、すなわち感光性レジスト9が除
去された位置にPZTの結晶核を形成する第1の工程
と、上記結晶核にPZTの結晶を成長させる第2の工程
とからなる。また、第2の工程を複数回繰り返してPZ
Tの厚みが所望の厚みに制御される。
【0024】第1の工程は、PbとZrとのモル比Pb
/Zrが略2.29となるように硝酸鉛(Pb(NO3)2)、
オキシ塩化ジルコニウム(ZrOCl2・8H2O)及び水酸化カ
リウム(KOH(8N))を所定の比率で混合した水溶液12
とチタン薄膜40が蒸着された基板部材6とをオートク
レーブ11内に入れ、更にこのオートクレーブ11をシ
リコンオイル13で満たされた恒温槽14内の浴室に入
れ、所定の温度プロファイル(例えば150℃+48時
間)により加熱して行われる。
/Zrが略2.29となるように硝酸鉛(Pb(NO3)2)、
オキシ塩化ジルコニウム(ZrOCl2・8H2O)及び水酸化カ
リウム(KOH(8N))を所定の比率で混合した水溶液12
とチタン薄膜40が蒸着された基板部材6とをオートク
レーブ11内に入れ、更にこのオートクレーブ11をシ
リコンオイル13で満たされた恒温槽14内の浴室に入
れ、所定の温度プロファイル(例えば150℃+48時
間)により加熱して行われる。
【0025】また、第2の工程は、Pb、Zr及びTi
のモル比がPb:Zr:Ti=110:52:48とな
るように硝酸鉛、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化チタ
ン(TiCl4)及び水酸化カリウム(KOH(4N))を所定の比
率で混合した水溶液12と上記第1工程を経たチタン薄
膜40が蒸着された基板部材6とをオートクレーブ11
内に入れ、更にこのオートクレーブ11をシリコンオイ
ル13で満たされた恒温槽14内の浴室に入れ、所定の
温度プロファイル(例えば120℃+24時間)により
加熱して行われる。
のモル比がPb:Zr:Ti=110:52:48とな
るように硝酸鉛、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化チタ
ン(TiCl4)及び水酸化カリウム(KOH(4N))を所定の比
率で混合した水溶液12と上記第1工程を経たチタン薄
膜40が蒸着された基板部材6とをオートクレーブ11
内に入れ、更にこのオートクレーブ11をシリコンオイ
ル13で満たされた恒温槽14内の浴室に入れ、所定の
温度プロファイル(例えば120℃+24時間)により
加熱して行われる。
【0026】上記水熱合成法によって、所定の高温高圧
下の水溶液12にチタン薄膜40が蒸着された基板部材
6を浸漬させることにより、チタン薄膜40の所定位置
に膜厚一定のPZTの結晶が形成され、基板部材6を蒸
留水で洗浄してPZTの形成は終了する。
下の水溶液12にチタン薄膜40が蒸着された基板部材
6を浸漬させることにより、チタン薄膜40の所定位置
に膜厚一定のPZTの結晶が形成され、基板部材6を蒸
留水で洗浄してPZTの形成は終了する。
【0027】図1に戻って、各個別電極5とチタン薄膜
40からなる共通電極4間には、不図示の高周波電圧源
が接続されている。この高周波電圧源は、任意の個別電
極5と共通電極4間に、圧電基板3の厚さで決まる共振
周波数に等しい周期で変化する高周波電圧を選択的に印
加するものである。
40からなる共通電極4間には、不図示の高周波電圧源
が接続されている。この高周波電圧源は、任意の個別電
極5と共通電極4間に、圧電基板3の厚さで決まる共振
周波数に等しい周期で変化する高周波電圧を選択的に印
加するものである。
【0028】ノズルプレート1は、基板部材6に対し、
凹面61にノズル2が対向するように位置設定されて配
置されるとともに、所定間隔の隙間を有して固定されて
いる。この間隔は、本実施例では、約15μmになって
いる。そして、この隙間は、不図示のインク溜りに連通
され、インク7が満たされている。
凹面61にノズル2が対向するように位置設定されて配
置されるとともに、所定間隔の隙間を有して固定されて
いる。この間隔は、本実施例では、約15μmになって
いる。そして、この隙間は、不図示のインク溜りに連通
され、インク7が満たされている。
【0029】以上のような構成のインクジェット記録ヘ
ッドにおいて、共通電極4と個別電極5間に、高周波電
圧源からの出力電圧が印加されると、圧電基板3が共振
し、インク7中に超音波が発生する。この超音波がイン
ク7中を伝播し、ノズル2内のインク表面に表面波振動
が生じる。この表面波の振幅が所定レベル以上になる
と、インクミスト8がノズル2から吐出される。
ッドにおいて、共通電極4と個別電極5間に、高周波電
圧源からの出力電圧が印加されると、圧電基板3が共振
し、インク7中に超音波が発生する。この超音波がイン
ク7中を伝播し、ノズル2内のインク表面に表面波振動
が生じる。この表面波の振幅が所定レベル以上になる
と、インクミスト8がノズル2から吐出される。
【0030】このとき、圧電基板3が凹面61を有する
形状になっているので、圧電基板3から法線方向に出力
される振動エネルギーがノズル2に集中して印加される
ことから、インクミスト8の発生効率が向上することと
なる。
形状になっているので、圧電基板3から法線方向に出力
される振動エネルギーがノズル2に集中して印加される
ことから、インクミスト8の発生効率が向上することと
なる。
【0031】なお、インクミスト8は、電圧供給中、生
じるので、供給時間に比例した濃度の画像が得られる。
従って、高周波電圧の印加時間を制御することによっ
て、濃度階調を有する画像が得られることとなる。
じるので、供給時間に比例した濃度の画像が得られる。
従って、高周波電圧の印加時間を制御することによっ
て、濃度階調を有する画像が得られることとなる。
【0032】このように、圧電基板3をノズル2側に凹
面61を有する形状にしたので、インクミスト8の発生
効率を向上することができる。従って、インクミスト8
の発生量を低下させることなく、高周波電圧源の出力電
圧レベルを低減することができる。
面61を有する形状にしたので、インクミスト8の発生
効率を向上することができる。従って、インクミスト8
の発生量を低下させることなく、高周波電圧源の出力電
圧レベルを低減することができる。
【0033】また、圧電基板3を凹面形状とし、別途部
品を付加することなくノズル2に振動エネルギーを集中
可能にしたので、簡易な構成で効率向上が実現できる。
品を付加することなくノズル2に振動エネルギーを集中
可能にしたので、簡易な構成で効率向上が実現できる。
【0034】また、上記のように水熱合成法により基板
部材6の所定位置にPZTを析出させて圧電基板3を形
成しているので、基板部材6上の圧電基板3の位置精度
が向上する。また、圧電基板3は、化学結合によりチタ
ン薄膜40に結合されているので、その結合力が強く、
かつ、素子間のバラツキも少なくなる。
部材6の所定位置にPZTを析出させて圧電基板3を形
成しているので、基板部材6上の圧電基板3の位置精度
が向上する。また、圧電基板3は、化学結合によりチタ
ン薄膜40に結合されているので、その結合力が強く、
かつ、素子間のバラツキも少なくなる。
【0035】また、図1(b)に示すように、チタン薄
膜40の蒸着領域を凹面61から右方に延設し、PZT
の形成領域を延設することにより、個別電極5とチタン
薄膜40(共通電極4)間を確実に絶縁することができ
る。
膜40の蒸着領域を凹面61から右方に延設し、PZT
の形成領域を延設することにより、個別電極5とチタン
薄膜40(共通電極4)間を確実に絶縁することができ
る。
【0036】次に、本発明に係るインクジェット記録ヘ
ッドの第2実施例について図4、図5を用いて説明す
る。図4は第2実施例のインクジェット記録ヘッドに用
いられる基板部材を示す斜視図である。図5は第2実施
例の構成を示す図で、(a)は圧電基板の電極とノズル
との位置関係を示す平面図、(b)は(a)のB−B断
面図である。
ッドの第2実施例について図4、図5を用いて説明す
る。図4は第2実施例のインクジェット記録ヘッドに用
いられる基板部材を示す斜視図である。図5は第2実施
例の構成を示す図で、(a)は圧電基板の電極とノズル
との位置関係を示す平面図、(b)は(a)のB−B断
面図である。
【0037】第2実施例では、第1実施例のように各ノ
ズルに対向して凹面が形成されるのではなく、ノズル列
に沿って溝状の凹面が形成されるとともに、各ノズルに
対向して電極対が形成されている。
ズルに対向して凹面が形成されるのではなく、ノズル列
に沿って溝状の凹面が形成されるとともに、各ノズルに
対向して電極対が形成されている。
【0038】基板部材6は、チタンで形成された板状
で、ノズルプレート1に対向する側の表面に、例えば円
柱側面形状を有する溝状の凹面62が形成されている。
この基板部材6は、共通電極4として作用している。
で、ノズルプレート1に対向する側の表面に、例えば円
柱側面形状を有する溝状の凹面62が形成されている。
この基板部材6は、共通電極4として作用している。
【0039】この凹面62上の帯状領域及び図5(b)
中、右方領域に、PZTからなる圧電基板3が、第1実
施例と同様の水熱合成法によって形成され、この圧電基
板3上に、スパッタリングや蒸着等により個別電極5が
形成されている。個別電極5は、ノズル2の直径と同一
寸法または多少大きい寸法の幅を有する帯状で、ノズル
列に直交する方向にノズル2と同一ピッチで形成されて
いる。
中、右方領域に、PZTからなる圧電基板3が、第1実
施例と同様の水熱合成法によって形成され、この圧電基
板3上に、スパッタリングや蒸着等により個別電極5が
形成されている。個別電極5は、ノズル2の直径と同一
寸法または多少大きい寸法の幅を有する帯状で、ノズル
列に直交する方向にノズル2と同一ピッチで形成されて
いる。
【0040】そして、ノズルプレート1は、基板部材6
に対し、ノズル列が凹面62の最深部に対向するように
位置設定されて配置される。
に対し、ノズル列が凹面62の最深部に対向するように
位置設定されて配置される。
【0041】以上のような構成により、凹面62の溝幅
に亘って個別電極5の電極幅分の圧電基板3からの振動
エネルギーが各ノズル2に印加されるので、インクミス
ト8の発生効率を向上することができる。
に亘って個別電極5の電極幅分の圧電基板3からの振動
エネルギーが各ノズル2に印加されるので、インクミス
ト8の発生効率を向上することができる。
【0042】なお、第2実施例では、同一ノズルに印加
される圧電基板3の面積が第1実施例に比べて小さいの
で、上記発生効率の向上分は、第1実施例の場合に比べ
て小さくなる。しかし、第1実施例の場合よりも、ノズ
ル2の高密度化を容易に実現することができる。
される圧電基板3の面積が第1実施例に比べて小さいの
で、上記発生効率の向上分は、第1実施例の場合に比べ
て小さくなる。しかし、第1実施例の場合よりも、ノズ
ル2の高密度化を容易に実現することができる。
【0043】他の実施例 (1)第1実施例において、チタン薄膜40の蒸着領
域、すなわちPZTの形成領域を凹面61のみとして
も、同様の効果が得られる。この場合には、個別電極5
とチタン薄膜40(共通電極4)間を確実に絶縁してお
けばよい。
域、すなわちPZTの形成領域を凹面61のみとして
も、同様の効果が得られる。この場合には、個別電極5
とチタン薄膜40(共通電極4)間を確実に絶縁してお
けばよい。
【0044】(2)第1実施例において、凹面61の形
状は、球面形状に限られず、例えば、ノズル2近傍に焦
点を有するような種々の2次曲面形状でもよい。また、
図6〜図8に示すような形状でもよい。図6は凹面61
を円錐の先端部のような形状にしている。図7は四角錐
の先端部のような形状にしている。図8は図7における
四角錐の先端が平坦な底面を有する形状にしている。こ
れらの場合でも、振動エネルギーがノズル2に集中する
ので、インクミスト8の発生効率向上が図れる。
状は、球面形状に限られず、例えば、ノズル2近傍に焦
点を有するような種々の2次曲面形状でもよい。また、
図6〜図8に示すような形状でもよい。図6は凹面61
を円錐の先端部のような形状にしている。図7は四角錐
の先端部のような形状にしている。図8は図7における
四角錐の先端が平坦な底面を有する形状にしている。こ
れらの場合でも、振動エネルギーがノズル2に集中する
ので、インクミスト8の発生効率向上が図れる。
【0045】(3)第1実施例において、基板部材6を
金属材料で形成してもよい。この場合には、基板部材6
全体が共通電極4として作用することとなる。また、金
属材料をチタンとすれば、チタン薄膜40の形成工程を
省略することができる。
金属材料で形成してもよい。この場合には、基板部材6
全体が共通電極4として作用することとなる。また、金
属材料をチタンとすれば、チタン薄膜40の形成工程を
省略することができる。
【0046】(4)第2実施例において、第1実施例と
同様に、基板部材6をガラスなどの絶縁材料で形成して
もよい。この場合には、凹面62及びその右方領域に、
チタン薄膜を形成すれば、同様の効果が得られる。
同様に、基板部材6をガラスなどの絶縁材料で形成して
もよい。この場合には、凹面62及びその右方領域に、
チタン薄膜を形成すれば、同様の効果が得られる。
【0047】(5)第2実施例において、凹面62の形
状は、円柱側面形状に限られず、例えば、ノズル2近傍
に焦点を有するような種々の2次曲面柱の側面形状でも
よい。また、図9、図10に示すような形状でもよい。
図9は凹面62を傾斜平面からなる溝のような形状にし
ている。図10は図9における溝の中央が平坦な底面を
有する形状にしている。これらの場合でも、振動エネル
ギーがノズル2に集中するので、インクミスト8の発生
効率向上が図れる。
状は、円柱側面形状に限られず、例えば、ノズル2近傍
に焦点を有するような種々の2次曲面柱の側面形状でも
よい。また、図9、図10に示すような形状でもよい。
図9は凹面62を傾斜平面からなる溝のような形状にし
ている。図10は図9における溝の中央が平坦な底面を
有する形状にしている。これらの場合でも、振動エネル
ギーがノズル2に集中するので、インクミスト8の発生
効率向上が図れる。
【0048】(6)上記各実施例において、ノズルプレ
ート1として、図11、図12に示すように、ノズル2
に代えて微小幅のスリット20が穿設されたものを用い
てもよい。図11では、ノズルプレート1は、基板部材
6に対し、スリット20が各凹面61の中心を結ぶ線に
対向するように位置設定して配置している。また、図1
2では、ノズルプレート1は、基板部材6に対し、スリ
ット20が凹面62の最深部に対向するように位置設定
して配置している。そして、インクミストはスリット2
0の各電極に対向する位置から発生する。
ート1として、図11、図12に示すように、ノズル2
に代えて微小幅のスリット20が穿設されたものを用い
てもよい。図11では、ノズルプレート1は、基板部材
6に対し、スリット20が各凹面61の中心を結ぶ線に
対向するように位置設定して配置している。また、図1
2では、ノズルプレート1は、基板部材6に対し、スリ
ット20が凹面62の最深部に対向するように位置設定
して配置している。そして、インクミストはスリット2
0の各電極に対向する位置から発生する。
【0049】このように、スリット20を穿設すればよ
いので、ノズルプレート1を簡易に作製することができ
る。また、ノズルプレート1は、基板部材6に対して図
11、図12中、左右方向に位置合わせすればよいの
で、ノズルが穿設されている場合に比べて、ノズルプレ
ート1の位置設定を容易に行える。
いので、ノズルプレート1を簡易に作製することができ
る。また、ノズルプレート1は、基板部材6に対して図
11、図12中、左右方向に位置合わせすればよいの
で、ノズルが穿設されている場合に比べて、ノズルプレ
ート1の位置設定を容易に行える。
【0050】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、薄膜状の圧電基板に、インク吐出口側に凹状に
曲げられた凹部を形成するようにしたので、共振による
振動エネルギーをインク吐出口近傍に集中させることが
できる。従って、霧状インクの発生効率向上が図れる。
よれば、薄膜状の圧電基板に、インク吐出口側に凹状に
曲げられた凹部を形成するようにしたので、共振による
振動エネルギーをインク吐出口近傍に集中させることが
できる。従って、霧状インクの発生効率向上が図れる。
【0051】また、請求項2の発明によれば、薄膜状の
圧電基板に、インク吐出口側に凹状に曲げられた湾曲面
を形成するようにしたので、共振による振動エネルギー
をインク吐出口近傍に集中させることができる。従っ
て、霧状インクの発生効率向上が図れる。
圧電基板に、インク吐出口側に凹状に曲げられた湾曲面
を形成するようにしたので、共振による振動エネルギー
をインク吐出口近傍に集中させることができる。従っ
て、霧状インクの発生効率向上が図れる。
【0052】また、請求項3の発明によれば、凹部は、
上記ノズル列に平行な溝形状にしたので、圧電基板の共
振による振動エネルギーがノズル近傍に集中させること
ができる。従って、霧状インクの発生効率向上が図れ
る。
上記ノズル列に平行な溝形状にしたので、圧電基板の共
振による振動エネルギーがノズル近傍に集中させること
ができる。従って、霧状インクの発生効率向上が図れ
る。
【0053】また、請求項4の発明によれば、チタンの
凹部側に薄膜状のPZTからなる圧電基板を化学結合す
るようにしたので、圧電基板とチタンとの結合力を大き
くするとともに、結合力のばらつきを低減することがで
きる。また、圧電基板の形状のばらつきも低減できる。
従って、特に複数のインク吐出口を有する場合に、均等
な霧状インクの発生効率を有するように構成できる。
凹部側に薄膜状のPZTからなる圧電基板を化学結合す
るようにしたので、圧電基板とチタンとの結合力を大き
くするとともに、結合力のばらつきを低減することがで
きる。また、圧電基板の形状のばらつきも低減できる。
従って、特に複数のインク吐出口を有する場合に、均等
な霧状インクの発生効率を有するように構成できる。
【図1】本発明に係るインクジェット記録ヘッドの第1
実施例の構成を示す図で、(a)は基板部材の凹面の形
状及びそのノズルとの位置関係を示す平面図、(b)は
(a)のB−B断面図である。
実施例の構成を示す図で、(a)は基板部材の凹面の形
状及びそのノズルとの位置関係を示す平面図、(b)は
(a)のB−B断面図である。
【図2】(a)(b)(c)(d)は圧電基板及び電極
の製造方法を示す説明図である。
の製造方法を示す説明図である。
【図3】水熱合成法によりチタン薄膜にPZTを析出さ
せる方法を示す説明図である。
せる方法を示す説明図である。
【図4】第2実施例のインクジェット記録ヘッドに用い
られる基板部材を示す斜視図である。
られる基板部材を示す斜視図である。
【図5】第2実施例の構成を示す図で、(a)は圧電基
板の電極とノズルとの位置関係を示す平面図、(b)は
(a)のB−B断面図である。
板の電極とノズルとの位置関係を示す平面図、(b)は
(a)のB−B断面図である。
【図6】第1実施例の凹面形状の他の例を示す図で、
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
【図7】第1実施例の凹面形状の他の例を示す図で、
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
【図8】第1実施例の凹面形状の他の例を示す図で、
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
【図9】第2実施例の凹面形状の他の例を示す図で、
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
【図10】第2実施例の凹面形状の他の例を示す図で、
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図であ
る。
【図11】ノズルプレートの他の例を示す平面図で、第
1実施例の基板部材の凹面とスリットとの位置関係を示
している。
1実施例の基板部材の凹面とスリットとの位置関係を示
している。
【図12】ノズルプレートの他の例を示す平面図で、第
2実施例の基板部材の凹面とスリットとの位置関係を示
している。
2実施例の基板部材の凹面とスリットとの位置関係を示
している。
1 ノズルプレート 2 ノズル 3 圧電基板 4 共通電極 5 個別電極 6 基板部材 61,62 凹面 7 インク 8 インクミスト 9 感光性レジスト 11 オートクレーブ 12 硝酸鉛、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化チタン
及び水酸化カリウムからなる水溶液 13 シリコンオイル 14 恒温槽 40 チタン薄膜
及び水酸化カリウムからなる水溶液 13 シリコンオイル 14 恒温槽 40 チタン薄膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 剛史 大阪市中央区玉造1丁目2番28号 三田工 業株式会社内 (72)発明者 堀 節夫 大阪市中央区玉造1丁目2番28号 三田工 業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項1】 厚さ方向にインク吐出口が穿設されたノ
ズルプレートと、このノズルプレートに並設され、上記
インク吐出口に対向して両面に電極が配設された圧電基
板とを備え、上記電極間に上記圧電基板の共振周波数に
等しい周期で変化する電圧を印加し、上記インク吐出口
から霧状のインクを吐出するようになされたインクジェ
ット記録ヘッドにおいて、上記圧電基板は、一定厚さを
有する薄膜状で、少なくとも電極配設位置に上記インク
吐出口側に凹状に曲げられた凹部が形成されていること
を特徴とするインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項2】 上記凹部は、湾曲面からなることを特徴
とする請求項1記載のインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項3】 上記インク吐出口は、一方向に所定ピッ
チで穿設された複数のノズルからなり、上記凹部は、上
記ノズル列に平行な溝形状になっていることを特徴とす
る請求項1記載のインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載のインク
ジェット記録ヘッドにおいて、上記凹部が形成されたチ
タンを備え、上記圧電基板は、上記チタンの表面と化学
結合してなる薄膜状のPZTで形成されていることを特
徴とするインクジェット記録ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24163394A JPH08104004A (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | インクジェット記録ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24163394A JPH08104004A (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | インクジェット記録ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08104004A true JPH08104004A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17077226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24163394A Pending JPH08104004A (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | インクジェット記録ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08104004A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6836940B2 (en) * | 1995-07-14 | 2005-01-04 | Seiko Epson Corporation | Process for producing a laminated ink-jet recording head |
US7314269B2 (en) | 2005-12-28 | 2008-01-01 | Fujifilm Corporation | Image forming apparatus and method |
JP2008006644A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Fujifilm Corp | ミスト吐出ヘッド及びこれを備えた画像形成装置、液体吐出装置 |
-
1994
- 1994-10-05 JP JP24163394A patent/JPH08104004A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6836940B2 (en) * | 1995-07-14 | 2005-01-04 | Seiko Epson Corporation | Process for producing a laminated ink-jet recording head |
US7314269B2 (en) | 2005-12-28 | 2008-01-01 | Fujifilm Corporation | Image forming apparatus and method |
JP2008006644A (ja) * | 2006-06-28 | 2008-01-17 | Fujifilm Corp | ミスト吐出ヘッド及びこれを備えた画像形成装置、液体吐出装置 |
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