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JPH0782749B2 - Bused signal drive circuit - Google Patents

Bused signal drive circuit

Info

Publication number
JPH0782749B2
JPH0782749B2 JP61072195A JP7219586A JPH0782749B2 JP H0782749 B2 JPH0782749 B2 JP H0782749B2 JP 61072195 A JP61072195 A JP 61072195A JP 7219586 A JP7219586 A JP 7219586A JP H0782749 B2 JPH0782749 B2 JP H0782749B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
power supply
level
boosted
supply potential
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61072195A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS62227214A (en
Inventor
秀司 宮武
一康 藤島
正樹 熊野谷
秀人 日高
勝巳 堂阪
康弘 小西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP61072195A priority Critical patent/JPH0782749B2/en
Publication of JPS62227214A publication Critical patent/JPS62227214A/en
Publication of JPH0782749B2 publication Critical patent/JPH0782749B2/en
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ブーステッド信号駆動回路に関し、特にダ
イナミックRAMにおけるブーステッドワード線駆動回路
の改良に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a boosted signal drive circuit, and more particularly to improvement of a boosted word line drive circuit in a dynamic RAM.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

タニグチらによる文献「オートマチックセルフリフレッ
シュ機能内蔵の完全昇圧型64KダイナミックRAM」IEEE
ジャーナル オブ ソリッド ステート サーキッツ
固体回路−16、第5号 1981年10月(M.Taniguchi eta
l.,“Fully Boosted 64K Dynamic RAM with Automatic
and Self−Refresh."IEEE Journal of Solid−State Ci
rcuit,vol.sc−16,No5,Oct.1981)に示されるように、
ダイナミックRAMでは、動作マージンを確保するため
に、ダイナミックRAMの外部から供給される電源電圧
(電源電位)以上に昇圧されたブーステッドワード線が
用いられている。
Taniguchi et al., "Fully boosted 64K dynamic RAM with automatic self-refresh function" IEEE
Journal of Solid State Circuits
Solid State Circuit-16, No. 5, October 1981 (M. Taniguchi eta
l., “Fully Boosted 64K Dynamic RAM with Automatic
and Self-Refresh. "IEEE Journal of Solid-State Ci
rcuit, vol.sc-16, No5, Oct.1981),
In the dynamic RAM, a boosted word line boosted to a power supply voltage (power supply potential) supplied from the outside of the dynamic RAM is used to secure an operation margin.

第3図は従来のブーステッドワード線駆動回路を示す。
図中、1〜10はMOSトランジスタ、11、12は容量性素
子、a、b、cはノード、150は充放電回路で、上記MOS
トランジスタ1〜10及び容量性素子1により構成され、
ワード線である信号線を電源電位Vcc付近にまで充電
(ワード点駆動信号φWをHレベルにする時)するとと
もに、接地電位まで放電(ワード線駆動信号φWをLレ
ベルにする時)するためのものであり、MOSトランジス
タ5が充電用トランジスタとして機能し、MOSトランジ
スタ9が、放電用トランジスタとして機能するものであ
るが、また、容量性素子12は、上記信号線に一方の電極
が接続されるとともに、他方の電極にブースト信号φP
が供給されるブースト用容量性素子を構成しているもの
である。
FIG. 3 shows a conventional boosted word line drive circuit.
In the figure, 1 to 10 are MOS transistors, 11 and 12 are capacitive elements, a, b and c are nodes, and 150 is a charge / discharge circuit.
Comprised of transistors 1-10 and capacitive element 1,
To charge the signal line, which is a word line, to near the power supply potential Vcc (when the word point drive signal φW is set to the H level) and discharge it to the ground potential (when the word line drive signal φW is set to the L level). Although the MOS transistor 5 functions as a charging transistor and the MOS transistor 9 functions as a discharging transistor, the capacitive element 12 has one electrode connected to the signal line. Together with the boost signal φP on the other electrode
Is configured to form a boost capacitive element.

また、φRはプリチャージ信号、φTはワード線駆動ト
リガ信号、φFはブーストタイミングの前に出力される
信号を示している。
Further, φR is a precharge signal, φT is a word line drive trigger signal, and φF is a signal output before the boost timing.

次に、第4図の波形図を用いて上記した従来例の動作原
理について説明する。プリチャージ信号φRが高レベル
(略電源電位)の時は、ダイナミックRAMのいわゆるプ
リチャージ期間中で、放電用トランジスタであるMOSト
ランジスタ9は導通状態でワード線駆動信号φWが低レ
ベル(接地電位)、MOSトランジスタ1が導通状態であ
るとともにMOSトランジスタ2が非導通状態でノードa
は高レベル(略電源電位)、MOSトランジスタ6は導通
状態でノードbは低レル(接地電位)、MOSトランジス
タ10が導通状態でノードcは低レベル(接地電位)であ
る。この時、MOSトランジスタ3、4、5、7、8は非
導通状態である。
Next, the operation principle of the above-mentioned conventional example will be described with reference to the waveform chart of FIG. When the precharge signal φR is at a high level (substantially the power supply potential), the MOS transistor 9 which is a discharging transistor is in a conductive state during the so-called precharge period of the dynamic RAM, and the word line drive signal φW is at a low level (ground potential). , The MOS transistor 1 is conductive and the MOS transistor 2 is non-conductive, the node a
Is high level (approximately power supply potential), the MOS transistor 6 is conductive, the node b is low level (ground potential), and the MOS transistor 10 is conductive, node c is low level (ground potential). At this time, the MOS transistors 3, 4, 5, 7, 8 are non-conductive.

プリチャージ終了後、つまり、プリチャージ信号φRが
高レベルから低レベルになった後に、第4図の(b)に
示すように、ワード線駆動トリガ信号φTが低レベル
(接地電位)から高レベル(略電源電位)になると、MO
Sトランジスタ3が導通状態となるため、ノードcは電
源電位ノードに供給された電源電位Vccによって充電さ
れる。このため、MOSトランジスタ4が導通状態になる
が、MOSトランジスタ6も導通状態であり、MOSトランジ
スタ4のオン抵抗がMOSトランジスタ6のオン抵抗より
5倍以上に設定されているので、ノードbの電位は略接
地レベルに保たれている。これと同時にMOSトランジス
タ5が導通状態になり、ワード線自体の負荷容量(寄生
容量)とブースト用容量性素子12が電源電位ノードに供
給された電源電位Vccによって充電される。その結果、
ワード線駆動信号φWは、電源電位VccからMOSトランジ
スタ5のしきい値分差し引いた電位(高レベル、Hレベ
ル)まで上昇する。一方、ワード線駆動信号φWがHレ
ベルになることによって、MOSトランジスタ2は導通状
態となり、このとき、MOSトランジスタ1は非導通状態
になっている。ノードaの電位は低レベル(接地電位)
になり、このノードaの電位をゲート電極に受けている
MOSトランジスタ6は導通状態から非導通状態に変化す
る。この時、MOSトランジスタ4を介してノードbが充
電され、容量性素子11の容量結合によって、ノードcの
電位が電源電位Vcc以上に昇圧される。その結果、MOSト
ランジスタ5を介してワード線駆動信号φWが、電源電
位(Hレベル)にされる。
After the precharge is completed, that is, after the precharge signal φR is changed from the high level to the low level, the word line drive trigger signal φT is changed from the low level (ground potential) to the high level as shown in FIG. 4B. When (approximate power supply potential), MO
Since the S transistor 3 becomes conductive, the node c is charged by the power supply potential Vcc supplied to the power supply potential node. Therefore, the MOS transistor 4 is in the conductive state, but the MOS transistor 6 is also in the conductive state, and the ON resistance of the MOS transistor 4 is set to 5 times or more than the ON resistance of the MOS transistor 6, so that the potential of the node b is increased. Is maintained at approximately ground level. At the same time, the MOS transistor 5 becomes conductive, and the load capacitance (parasitic capacitance) of the word line itself and the boost capacitive element 12 are charged by the power supply potential Vcc supplied to the power supply potential node. as a result,
The word line drive signal φW rises to a potential (high level, H level) obtained by subtracting the threshold value of the MOS transistor 5 from the power supply potential Vcc. On the other hand, when the word line drive signal φW becomes H level, the MOS transistor 2 becomes conductive, and at this time, the MOS transistor 1 is non-conductive. The potential of node a is low level (ground potential)
And the gate electrode receives the potential of this node a.
The MOS transistor 6 changes from the conducting state to the non-conducting state. At this time, the node b is charged via the MOS transistor 4, and the potential of the node c is boosted to the power supply potential Vcc or higher due to the capacitive coupling of the capacitive element 11. As a result, the word line drive signal φW is set to the power supply potential (H level) via the MOS transistor 5.

この後、ワード線駆動トリガ信号φTが高レベルから低
レベルになり、第4図の(c)に示すように信号φFが
低レベル(接地電位)から高レベル(略電源電位)にな
ると、MOSトランジスタ7が導通状態になってノードb
の電位を低レベル(接地電位)にするとともに、MOSト
ランジスタ8が導通状態になってノードcの電位を低レ
ベル(接地電位)にする。
After that, when the word line drive trigger signal φT changes from the high level to the low level, and the signal φF changes from the low level (ground potential) to the high level (substantially the power supply potential) as shown in FIG. The transistor 7 becomes conductive and the node b
Is set to a low level (ground potential), and the MOS transistor 8 is turned on to set the potential of the node c to a low level (ground potential).

これにより、ワード線駆動信号φWが印加されているワ
ード線は電気的にフローティング状態(電気的に浮いた
状態)になる。
As a result, the word line to which the word line drive signal φW is applied is brought into an electrically floating state (an electrically floating state).

その後、第4図の(d)に示すようにブースト信号φP
が低レベル(接地電位)から高レベル(略電源電位)に
なり、ブースト用容量性素子12の容量結合によって、第
4図の(e)に示すようにワード線駆動信号φWは、電
源電位以上の電位(Hレベル)に昇圧される。
After that, as shown in FIG. 4 (d), the boost signal φP
Changes from a low level (ground potential) to a high level (approximately power supply potential), and due to the capacitive coupling of the boosting capacitive element 12, the word line drive signal φW is higher than the power supply potential as shown in (e) of FIG. Is raised to the potential (H level).

その後、信号φF及びブースト信号φPが高レベルから
低レベルに変化し、プリチャージ信号φRが低レベルか
ら高レベルに変化して放電用MOSトランジスタ9が導通
状態となって、ワード線自体の負荷容量とブースト用容
量性素子12の電荷が放電され、ワード線駆動信号φWは
低レベル(Lレベル、接地電位)にされ、上記したプリ
チャージ期間と同様な状態になる。
After that, the signal φF and the boost signal φP change from the high level to the low level, the precharge signal φR changes from the low level to the high level, the discharge MOS transistor 9 becomes conductive, and the load capacitance of the word line itself. Then, the charge of the boosting capacitive element 12 is discharged, the word line drive signal φW is set to a low level (L level, ground potential), and the same state as in the precharge period described above is brought about.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

ところで、通常のダイナミックRAMでは、ビット線が高
レベルに充電されていて(プリチャージ期間)多数のビ
ット線がセンス時(この時、ワード線駆動信号φWはH
レベルを維持している必要がある)に放電する。この場
合、前述したようにワード線が電気的にフローティング
状態であるため、ビット線とワード線との容量結合によ
り、第4図の(e)に破線で示すようにワード線駆動信
号φWのHレベルの電位が低下してしまう。
By the way, in a normal dynamic RAM, the bit lines are charged to a high level (precharge period) and a large number of bit lines are sensed (at this time, the word line drive signal φW is H level).
Must be maintained at the level) to discharge. In this case, since the word line is in an electrically floating state as described above, due to the capacitive coupling between the bit line and the word line, H of the word line drive signal φW as shown by the broken line in (e) of FIG. The level potential drops.

このため、上述のような従来のブーステッド信号駆動回
路の構成ではメモリセルの書き込み電圧(メモリセルか
ら記憶された情報を読み出してその読み出された情報に
基づいて情報を読み出したメモリセルに再書き込みした
時の電圧)が減少し、動作マージンが減少していた。
Therefore, in the configuration of the conventional boosted signal drive circuit as described above, the write voltage of the memory cell (the information stored in the memory cell is read out and the information is read out to the memory cell in which the information is read out based on the read out information). The voltage at the time of writing) decreased, and the operation margin decreased.

この発明は、上記した点に鑑みてなされたものであり、
例えば、センサ時のビット線とワード線との容量結合に
よって、ワード線におけるHレベルの電位となる電源電
位より高い電位に低下が生じても、この電源電位より高
い電位のHレベルの電位を回復することができるブース
テッド信号駆動回路を得ることを目的としているもので
ある。
This invention has been made in view of the above points,
For example, even if a potential higher than the power supply potential, which is the H level potential in the word line, decreases due to capacitive coupling between the bit line and the word line during the sensor, the H level potential higher than the power supply potential is recovered. The purpose of the invention is to obtain a boosted signal drive circuit that can be used.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係るブーステッド信号駆動回路は、Hレベル
の電位が電源電位より高い電位であるブーステッド信号
が供給されるブーステッド信号線と、上記ブーステッド
信号線の負荷容量より大きい容量からなり内部電源電位
出力ノードとLレベル電位ノードとの間に接続された容
量性素子、それぞれダイオード接続されるとともに上記
電源電位ノードと上記内部電源電位出力ノードとの間に
相互に直列に接続された複数のトランジスタ、該複数の
トランジスタのうちの1つのトランジスタの一方の主電
極と間欠的な信号が入力される信号入力ノードとの間に
接続された容量性素子とを有し、内部電源電位出力ノー
ドに上記電源電位より高い電位を出力する内部電源発生
回路と、上記ブーステッド信号線と上記内部電源電位出
力ノードとの間に接続され、上記ブーステッド信号線に
供給される信号をHレベルとする時に導通状態とされ、
上記ブーステッド信号線に供給される信号をLレベルと
する時に非導通状態とされる充電用トランジスタと、上
記ブーステッド信号線と上記Lレベル電位ノードとの間
に接続され、上記ブーステッド信号線に供給される信号
をHレベルとする時に非導通状態とされ、上記ブーステ
ッド信号線に供給される信号をLレベルとする時に導通
状態とされる放電用トランジスタとを備えるようにした
ものである。
A boosted signal drive circuit according to the present invention comprises a boosted signal line to which a boosted signal whose H level potential is higher than a power supply potential is supplied, and a capacitance larger than the load capacitance of the boosted signal line. Capacitive elements connected between the power supply potential output node and the L level potential node, and a plurality of capacitive elements, each of which is diode-connected and connected in series with each other between the power supply potential node and the internal power supply potential output node. A transistor and a capacitive element connected between one main electrode of one of the plurality of transistors and a signal input node to which an intermittent signal is input, and an internal power supply potential output node Between the internal power supply generation circuit that outputs a potential higher than the power supply potential and the boosted signal line and the internal power supply potential output node Is continued, the signal supplied to the boosted signal line is in a conductive state when an H level,
The boosting signal line is connected between the boosting signal line and the L level potential node, and the charging transistor is turned off when the signal supplied to the boosted signal line is at the L level. And a discharge transistor that is rendered non-conductive when the signal supplied to the H level is set to the H level and is rendered conductive when the signal supplied to the boosted signal line is set to the L level. .

また、この発明に係るブーステッド信号駆動回路は、H
レベルの電位が電源電位より高い電位であるブーステッ
ド信号が供給されるブーステッド信号線と、上記ブース
テッド信号線の負荷容量より大きい容量からなり内部電
源電位出力ノードとLレベル電位ノードとの間に接続さ
れた容量性素子、それぞれダイオード接続されるととも
に上記電源電位ノードと上記内部電源電位出力ノードと
の間に相互に直列に接続された複数のトランジスタ、該
複数のトランジスタのうちの1つのトランジスタの一方
の主電極と間欠的な信号が入力される信号入力ノードと
の間に接続された容量性素子とを有し、内部電源電位出
力ノードに上記電源電位より高い電位を出力する内部電
源発生回路と、上記ブーステッド信号線と上記内部電源
電位出力ノードとの間に接続され、上記ブーステッド信
号線に供給される信号をHレベルとする時に導通状態と
され、上記ブーステッド信号線に供給される信号をLレ
ベルとする時に非導通状態とされる第1の充電用トラン
ジスタを有する接続回路と、上記電源電位が供給される
電源電位ノードと上記ブーステッド信号線との間に接続
され、上記ブーステッド信号線に供給される信号をHレ
ベルとする時に導通状態とされ、上記ブーステッド信号
線に供給される信号をLレベルとする時に非導通状態と
される第2の充電用トランジスタ、上記ブーステッド信
号線と上記Lレベル電位ノードとの間に接続され、上記
ブーステッド信号線に供給される信号をHレベルとする
時に非導通状態とされ、上記ブーステッド信号線に供給
される信号をLレベルとする時に導通状態とされる放電
用トランジスタ、上記ブーステッド信号線に一方の電極
が接続されるとともに他方の電極にブースト信号が供給
されるブースト用容量性素子を有するブーステッド信号
発生回路とを備るようにしたものである。
Further, the boosted signal drive circuit according to the present invention is
Between a boosted signal line supplied with a boosted signal whose level potential is higher than the power source potential and a capacitance larger than the load capacitance of the boosted signal line, between the internal power source potential output node and the L level potential node. A capacitive element connected to the plurality of transistors, a plurality of transistors each being diode-connected and connected in series with each other between the power supply potential node and the internal power supply potential output node, and one transistor of the plurality of transistors. An internal power supply having a capacitive element connected between one of the main electrodes and a signal input node to which an intermittent signal is input, and outputting a potential higher than the power supply potential to the internal power supply potential output node. A circuit, connected between the boosted signal line and the internal power supply potential output node, and supplied to the boosted signal line. Signal when the signal is at the H level and when the signal supplied to the boosted signal line is at the L level is in the non-conductive state. A signal that is connected between a power supply potential node to be supplied and the boosted signal line, is rendered conductive when the signal supplied to the boosted signal line is at H level, and is supplied to the boosted signal line. A second charging transistor which is made non-conductive when L level is set to L level, and is connected between the boosted signal line and the L level potential node, and a signal supplied to the boosted signal line is set to H level. And a boosting signal that is turned off when the signal supplied to the boosted signal line is set to L level. It is obtained by the boosted signal generating circuit having a boosting capacitive element boost signal is supplied to the other electrode 備Ru so with one electrode connected to the Route.

また、この発明に係るブーステッド信号駆動回路は、H
レベルの電位が電源電位より高い電位であるブーステッ
ド信号が供給されるブーステッド信号線と、上記ブース
テッド信号線の負荷容量より大きい容量からなり内部電
源電位出力ノードとLレベル電位ノードとの間に接続さ
れた容量性素子、それぞれダイオード接続されるととも
に上記電源電位ノードと上記内部電源電位出力ノードと
の間に相互に直列に接続された複数のトランジスタ、該
複数のトランジスタのうちの1つのトランジスタの一方
の主電極と間欠的な信号が入力される信号入力ノードと
の間に接続された容量性素子とを有し、内部電源電位出
力ノードに上記電源電位より高い電位を出力する内部電
源発生回路と、上記ブーステッド信号線と上記内部電源
電位出力ノードとの間に接続され、上記ブーステッド信
号線に供給される信号をHレベルとする時に導通状態と
され、上記ブーステッド信号線に供給される信号をLレ
ベルとする時に非導通状態とされる充電用トランジスタ
と、上記ブーステッド信号線と上記Lレベル電位ノード
との間に接続され、上記ブーステッド信号線に供給され
る信号をHレベルとする時に非導通状態とされ、上記ブ
ーステッド信号線に供給される信号をLレベルとする時
に導通状態とされる放電用トランジスタと、一方の主電
極が上記ブーステッド信号線に接続され、ブースト信号
がHレベルの時に導通状態とされるトランジスタ、この
トランジスタの他方の主電極に一方の電極が接続される
とともに他方の電極に上記ブースト信号が供給される容
量性素子を有するスイッチドキャパシタ回路とを備える
ようにしたものである。
Further, the boosted signal drive circuit according to the present invention is
Between a boosted signal line supplied with a boosted signal whose level potential is higher than the power source potential and a capacitance larger than the load capacitance of the boosted signal line, between the internal power source potential output node and the L level potential node. A capacitive element connected to the plurality of transistors, a plurality of transistors each being diode-connected and connected in series with each other between the power supply potential node and the internal power supply potential output node, and one transistor of the plurality of transistors. An internal power supply having a capacitive element connected between one of the main electrodes and a signal input node to which an intermittent signal is input, and outputting a potential higher than the power supply potential to the internal power supply potential output node. A circuit, connected between the boosted signal line and the internal power supply potential output node, and supplied to the boosted signal line. Signal is made conductive when the signal is at the H level, and is made nonconductive when the signal supplied to the boosted signal line is set at the L level, the boosted signal line, and the L level potential node. Is connected between the boosted signal line and the boosted signal line when it is at H level, and is in a non-conductive state, and when the signal supplied to the boosted signal line is at an L level, it is in a conductive state. A transistor for discharging and a transistor whose one main electrode is connected to the boosted signal line and which is made conductive when the boost signal is at the H level. One electrode is connected to the other main electrode of this transistor and the other is connected to the other main electrode. And a switched capacitor circuit having a capacitive element to which the boost signal is supplied.

〔作用〕[Action]

この発明においては、内部電源発生回路が、信号線に信
号のHレベルの電位が電源電位より高い電位が供給され
ている際に、例え、この信号線におけるHレベルの電位
が低下しても充電用トランジスタを介してその低下分を
補うようになさしめる。
According to the present invention, the internal power supply generation circuit charges the signal line even when the H level potential of the signal line is lowered when the H level potential of the signal is higher than the power source potential. The transistor is used to compensate for the decrease.

〔実施例〕〔Example〕

以下に、この発明の一実施例を図に基づいて説明する。
第1図は、この発明の一実施例を示している。図中1〜
12は第3図に示したものと同一のものであり、250は充
電用MOSトランジスタ5及び放電用MOSトランジスタ9を
有する充放電回路150と他方の電極にブースト信号φP
が供給されるブースト用容量性素子12とにより構成され
たブーステッド信号発生回路、100はワード線駆動信号
φWのブーストと同時にもしくはその後に、内部電源発
生回路(詳細は後述)の内部電源電位出力ノードをワー
ド線駆動信号が供給される信号線に接続する接続回路で
あり、上記内部電源電位出力ノードと上記ワード線駆動
信号φWが供給される信号線(以下、信号線と称す)と
の間に、この信号線に供給される信号をHレベルとする
時に導通状態とされ、この信号線に供給される信号をL
レベルとする時に非導通状態とされる第1の充電用トラ
ンジスタ105を有するものであり、接続回路100はこの他
にMOSトランジスタ101〜104及び容量性素子106をも有し
ている。また、x,yはノードである。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. 1 in the figure
Reference numeral 12 is the same as that shown in FIG. 3, and 250 is a charge / discharge circuit 150 having a charging MOS transistor 5 and a discharging MOS transistor 9 and a boost signal φP on the other electrode.
Boosted signal generating circuit composed of a boosting capacitive element 12 to which is supplied, and 100 is an internal power supply potential output of an internal power supply generation circuit (details will be described later) at the same time as or after boosting the word line drive signal φW. A connection circuit for connecting a node to a signal line supplied with a word line drive signal, and between the internal power supply potential output node and a signal line supplied with the word line drive signal φW (hereinafter referred to as a signal line). When the signal supplied to this signal line is set to the H level, it is rendered conductive, and the signal supplied to this signal line is set to L level.
It has a first charging transistor 105 which is brought into a non-conducting state when being set to a level, and the connection circuit 100 also has MOS transistors 101 to 104 and a capacitive element 106 in addition to this. Also, x and y are nodes.

なお、内部電源発生回路は、内部電源電位出力ノードに
電源電位Vccより高い一定レベルの電位Vsを出力するも
ので、上記内部電源電位出力ノードと所定電位ノード
(接地電位ノード)との間に、上記信号線の負荷容量
(寄生容量)より大きい容量からなる容量性素子を有し
ている。
The internal power supply generation circuit outputs a constant level potential Vs higher than the power supply potential Vcc to the internal power supply potential output node, and between the internal power supply potential output node and a predetermined potential node (ground potential node), The capacitive element has a capacitance larger than the load capacitance (parasitic capacitance) of the signal line.

次に、第2図の波形図を用いて動作について説明する。Next, the operation will be described with reference to the waveform chart of FIG.

接続回路100以外の部分は、第3図に示したものと同じ
であるので、詳細な説明を省略して、主として接続回路
100について説明する。
Since the parts other than the connection circuit 100 are the same as those shown in FIG. 3, detailed description thereof will be omitted, and the connection circuit will be mainly described.
100 will be described.

まず、プリチャージ信号φRが高レベルの時には、MOS
トランジスタ101が導通状態であり、MOSトランジスタ10
3が信号φFが低レベルであることから非導通状態であ
るため、ノードxは高レベル(略電源電位)になってお
り、また、MOSトランジスタ104が導通状態であることか
ら、ノードyは低レベル(接地電位)になっている。こ
の時、ワード線駆動信号φWは低レベル(Lレベル)に
なっている。その後、ワード線駆動トリガ信号φTが低
レベルから高レベルに変化して、充放電回路150の充電
用MOSトランジスタ5が導通状態になり、ワード線自体
の負荷容量とブースト用容量性素子12が電源電位ノード
に供給された電源電位Vccによって充電され、ワード線
駆動信号φWが電源電位VccからMOSトランジスタ5のし
きい値分差し引いた電位(高レベル、Hレベル)まで上
昇するに伴い、ゲート電極にノードxにおける高レベル
が印加されて導通状態になっているMOSトランジスタ102
を介してノードyは高レベルに充電される。この時、MO
Sトランジスタ104はプリチャージ信号φRの低レベルに
よって非導通状態になっている。また、接続回路100に
おける充電用MOSトランジスタ105には、そのゲート電極
にノードyにおける高レベルの電位(略電源電位、但
し、電源電位より低い電位)が、一方の主電極にワード
線駆動信号φWのHレベルの電位(略電源電位、但し、
電源電位より低い電位)が、他方の主電極に内部電源発
生回路の内部電源電位出力ノードに現れた電源電位より
高い電位Vs(約8V)がそれぞれ印加された状態になって
いる。
First, when the precharge signal φR is at high level, the MOS
Transistor 101 is conducting and MOS transistor 10
3 is in the non-conducting state because the signal φF is at the low level, the node x is at the high level (approximately the power supply potential), and the MOS transistor 104 is in the conducting state, so that the node y is in the low state. It is at the level (ground potential). At this time, the word line drive signal φW is at a low level (L level). After that, the word line drive trigger signal φT changes from the low level to the high level, the charging MOS transistor 5 of the charging / discharging circuit 150 becomes conductive, and the load capacitance of the word line itself and the boosting capacitive element 12 become the power source. It is charged by the power supply potential Vcc supplied to the potential node, and as the word line drive signal φW rises to a potential (high level, H level) obtained by subtracting the threshold value of the MOS transistor 5 from the power supply potential Vcc, the gate electrode MOS transistor 102 which is in a conductive state when a high level is applied to the node x.
The node y is charged to a high level via. At this time, MO
The S transistor 104 is in a non-conductive state due to the low level of the precharge signal φR. Further, in the charging MOS transistor 105 in the connection circuit 100, the gate electrode thereof has a high-level potential at the node y (substantially the power supply potential, but a potential lower than the power supply potential), and one main electrode has the word line drive signal φW. H-level potential (approximately power supply potential,
A potential lower than the power supply potential) is applied to the other main electrode with a potential Vs (about 8 V) higher than the power supply potential appearing at the internal power supply potential output node of the internal power supply generation circuit.

ワード線駆動トリガ信号φTが高レベルから低レベルに
変化した後、第2図の(c)に示すように信号φFが低
レベルから高レベルに変化すると、MOSトランジスタ103
が導通状態になってノードxの電位を低レベル(接地電
位)にし、MOSトランジスタ102に非導通状態にして、ノ
ードyを電気的に浮いた状態とする。この後、第2図の
(d)に示すようにブースト信号φPが低レベルから高
レベルに変化すると、ノードyはブースト信号φPを他
方の電極に受けた容量性素子106は容量結合によって電
源電位Vcc以上の電位(例えば8V)に昇圧される。従っ
て、接続回路100の充電用MOSトランジスタ105は、その
ゲート電極に、電源電位Vccより高い電位が与えられて
いるので、導通状態となり、内部電源発生回路の内部電
源電位出力ノードに現れた電位Vsをワード線に駆動信号
φWが供給される信号線に対して充電可能状態となす。
この時、ワード線駆動信号φWはブースト用容量性素子
12の容量結合によって同時に電源電位Vcc以上の電位
(通常、7V)に昇圧される。
When the signal φF changes from the low level to the high level as shown in FIG. 2C after the word line drive trigger signal φT changes from the high level to the low level, the MOS transistor 103
Becomes conductive, the potential of the node x is set to a low level (ground potential), the MOS transistor 102 is made non-conductive, and the node y is electrically floated. After that, when the boost signal φP changes from the low level to the high level as shown in (d) of FIG. 2, the node y receives the boost signal φP at the other electrode, and the capacitive element 106 receives the power supply potential by capacitive coupling. It is boosted to a potential higher than Vcc (for example, 8V). Therefore, the charging MOS transistor 105 of the connection circuit 100 has a potential higher than the power supply potential Vcc applied to its gate electrode, so that it becomes conductive and the potential Vs appearing at the internal power supply potential output node of the internal power supply generation circuit is increased. Is set to a chargeable state for the signal line to which the drive signal φW is supplied to the word line.
At this time, the word line drive signal φW is a boost capacitive element.
At the same time, it is boosted to a potential higher than the power source potential Vcc (usually 7 V) by capacitive coupling of 12.

そして、センス後、ビット線との容量結合によってワー
ド線の電位が低下すると、接続回路100の充電用MOSトラ
ンジスタ105が導通状態になっていることから、第2図
の(e)に示すようにワード線駆動信号φWのHレベル
の電位は、内部電源発生回路によって接続回路100の充
電用MOSトランジスタ105を介して電源電位Vcc以上の高
い電位(約7V)に再充電されることになる。従って、メ
モリセルの書き込み電圧が減少することなく、メモリセ
ルに書き込まれることになるものである。この時、内部
電源発生回路の内部電源電位出力ノードに現れた電位Vs
は、第2図の(f)に示したように、内部電源電位出力
ノードに信号線であるワード線における負荷容量の数倍
以上の容量性素子を接続しているので、ほとんど低下し
ない。また、後で説明するように内部電源発生回路の内
部電源電位出力ノードには、電源電位より高い電位を補
充するようにしているので、内部電源電位出力ノードに
現れた電位Vsは、常に目的とするワード線駆動信号φW
のHレベルにおける電源電位Vcc以上の電位以上に保た
れているものである。
Then, after the sensing, when the potential of the word line is lowered due to capacitive coupling with the bit line, the charging MOS transistor 105 of the connection circuit 100 is in a conductive state. Therefore, as shown in (e) of FIG. The H level potential of the word line drive signal φW is recharged by the internal power supply generation circuit to a high potential (about 7V) higher than the power supply potential Vcc through the charging MOS transistor 105 of the connection circuit 100. Therefore, the write voltage is written in the memory cell without decreasing the write voltage of the memory cell. At this time, the potential Vs appearing at the internal power supply potential output node of the internal power supply generation circuit
As shown in (f) of FIG. 2, since the capacitive element which is several times or more the load capacitance of the word line which is the signal line is connected to the internal power supply potential output node, it hardly decreases. Further, as will be described later, since the internal power supply potential output node of the internal power supply generation circuit is supplemented with a potential higher than the power supply potential, the potential Vs appearing at the internal power supply potential output node is always the target. Word line drive signal φW
Of the power source potential Vcc or higher at the H level of the above.

その後、信号φF及びブースト信号φPが高レベルから
低レベルに変化し、プリチャージ信号φRが低レベルか
ら高レベルに変化して放電用MOSトランジスタ9が導通
状態となって、ワード線自体の負荷容量とブースト用容
量性素子12の電荷が放電され、ワード線駆動信号φWは
低レベル(Lレベル、接地電位)にされ、上記したプリ
チャージ期間と同様な状態になる。
After that, the signal φF and the boost signal φP change from the high level to the low level, the precharge signal φR changes from the low level to the high level, the discharge MOS transistor 9 becomes conductive, and the load capacitance of the word line itself. Then, the charge of the boosting capacitive element 12 is discharged, the word line drive signal φW is set to a low level (L level, ground potential), and the same state as in the precharge period described above is brought about.

第5図は、内部電源発生回路を示している。図中、20〜
23はMOSトランジスタ、24、25は容量性素子、26は電源
電位Vccより高い一定レベルの電位Vsが現れる内部電源
電位出力ノードと所定電位ノード(接地電位ノード)と
の間に接続されたワード線駆動信号φWが供給される信
号線の負荷容量(寄生容量)の数倍以上の容量からなる
容量性素子、φRはプリチャージ信号、φcpはプリチャ
ージ信号φRとは非同期な信号で、ダイナミックRAMの
電源投入直後から周期的に発生する信号である。V、W
はノードを示している。
FIG. 5 shows an internal power supply generation circuit. 20 in the figure
Reference numeral 23 is a MOS transistor, 24 and 25 are capacitive elements, and 26 is a word line connected between an internal power supply potential output node and a predetermined potential node (ground potential node) where a constant level potential Vs higher than the power supply potential Vcc appears. A capacitive element having a capacitance several times or more the load capacitance (parasitic capacitance) of the signal line to which the drive signal φW is supplied, φR is a precharge signal, and φcp is a signal asynchronous with the precharge signal φR. This is a signal that is periodically generated immediately after the power is turned on. V, W
Indicates a node.

次に、第5図に示した内部電源発生回路の動作原理を、
第6図の波形図を用いて説明する。ダイナミックRAMの
電源を投入すると、電源電位ノードに電源電位Vccが供
給され、MOSトランジスタ20,22が導通状態になるため、
ノードV、Wの電位はVcc−Vt(Vccは電源電位、VtはMO
Sトランジスタのしきい値電圧)になり、さらにMOSトラ
ンジスタ21,23が導通状態になって、内部電源発生回路
の内部電源電位出力ノードに現れる電位VsはVcc−2Vtに
なる。第6図の(a)に示すように信号φcpが低レベル
(接地電位)から高レベル(略電源電位)になると、こ
の信号φcpを一方の電極に受ける容量性素子25の容量結
合によりノードWの電位が2Vcc−Vtになろうとする。し
かし、MOSトランジスタ23が導通状態であるため、容量
性素子25の容量×電源電位ノードの電荷が内部電源電位
出力ノードに接続された容量性素子26に流れ込み、ノー
ドWの電位はVcc−2VtからVcc−Vtになる。
Next, the operation principle of the internal power supply generation circuit shown in FIG.
This will be described with reference to the waveform chart of FIG. When the power of the dynamic RAM is turned on, the power supply potential Vcc is supplied to the power supply potential node and the MOS transistors 20 and 22 become conductive,
The potentials of the nodes V and W are Vcc-Vt (Vcc is the power supply potential, Vt is MO
The threshold voltage of the S transistor), the MOS transistors 21 and 23 become conductive, and the potential Vs appearing at the internal power supply potential output node of the internal power supply generation circuit becomes Vcc-2Vt. As shown in FIG. 6 (a), when the signal φcp changes from low level (ground potential) to high level (substantially the power supply potential), node W is generated by capacitive coupling of the capacitive element 25 which receives this signal φcp in one electrode. Potential of 2Vcc-Vt is about to be reached. However, since the MOS transistor 23 is in the conductive state, the capacitance of the capacitive element 25 × the charge of the power supply potential node flows into the capacitive element 26 connected to the internal power supply potential output node, and the potential of the node W changes from Vcc−2Vt. It becomes Vcc-Vt.

一方、信号φcpが高レベルから低レベルに変化すると、
ノードWの電位は容量性素子25の容量結合によって−Vt
になろうとする。しかし、MOSトランジスタ22が導通状
態であるため、電源電位ノードに供給されている電源電
位VccによってVcc−Vtに再び充電される。信号φcpの1
サイクル中に内部電源電位出力信号ノードに現れるVsの
レベルが上昇する程度は、容量性素子25と容量性素子26
との比で決まる。ダイナミックRAMの場合、非常にわず
かであるが、通常、電源投入からのセットアップ時間が
あり、このセットアップ時間の間に電位Vsを2Vcc−2Vt
(約8V)まで上昇させることは可能である。さらに、こ
の内部電源発生回路は、MOSトランジスタ20、21及び容
量性素子24によって構成される回路によって、ダイナミ
ックRAMのサイクルごと、つまり、プリチャージ信号φ
Rが高レベルになるごとに、上記した信号φcpによる動
作と同様の動作原理によって、電位Vsの電位の減少分が
補償される構成になっているものである。
On the other hand, when the signal φcp changes from high level to low level,
The potential of the node W is -Vt due to the capacitive coupling of the capacitive element 25.
Trying to become. However, since the MOS transistor 22 is in the conductive state, the power supply potential Vcc supplied to the power supply potential node is charged again to Vcc-Vt. Signal φcp 1
To the extent that the level of Vs that appears at the internal power supply potential output signal node during the cycle rises, capacitive element 25 and capacitive element 26
It is decided by the ratio with. In the case of a dynamic RAM, there is usually a very small amount of setup time from power-on, and during this setup time the potential Vs is set to 2Vcc-2Vt.
It is possible to raise it up to (about 8V). Further, this internal power supply generation circuit uses a circuit composed of the MOS transistors 20 and 21 and the capacitive element 24 for each cycle of the dynamic RAM, that is, the precharge signal φ.
Every time R becomes high level, the reduction of the potential Vs is compensated by the same operation principle as the above-described operation by the signal φcp.

以上、この発明の一実施例について述べてきたが、以下
のこの発明の他の実施例について述べる。
While one embodiment of the present invention has been described above, another embodiment of the present invention will be described below.

第7図は、この発明の他の実施例を示している。図中、
200はスイッチドキャパシタ回路と呼ばれる回路であ
り、第1図に示した実施例におけるブースト用容量性素
子12と同様にワード線駆動信号φWのHレベルの電位を
電源電位Vcc以上に昇圧するためのものである。該回路2
00は、MOSトランジスタ32〜37及び容量性素子18、19に
よって構成されているものであり、MOSトランジスタ34
は、その一方の主電極がワード線駆動信号φWが供給さ
れる信号線に接続され、ブースト信号φpがHレベルの
時に導通状態とされるものであり、容量性素子19はこの
MOSトランジスタ34の他方の主電極に一方の電極が接続
されるとともに他方の電極に上記ブースト信号φpが供
給されるものである。d及びeはノードを示いている。
なお、第1図に示したものと同一符号は同一部分を示し
ているものである。
FIG. 7 shows another embodiment of the present invention. In the figure,
Reference numeral 200 denotes a circuit called a switched capacitor circuit, which is used for boosting the H level potential of the word line drive signal φW to the power source potential Vcc or higher as in the boosting capacitive element 12 in the embodiment shown in FIG. It is a thing. The circuit 2
00 is composed of MOS transistors 32 to 37 and capacitive elements 18 and 19, and MOS transistor 34
Has its one main electrode connected to a signal line to which the word line drive signal φW is supplied, and is rendered conductive when the boost signal φp is at the H level.
One electrode is connected to the other main electrode of the MOS transistor 34, and the boost signal φp is supplied to the other electrode. d and e indicate nodes.
The same reference numerals as those shown in FIG. 1 indicate the same parts.

次に、上記した他の実施例の動作について説明する。こ
の他の実施例において、スイッチドキャパシタ回路200
以外の部分は、上記した第1図に示した実施例のものと
同じであるので、詳細な説明を省略して、主としてスイ
ッチドキャパシタ回路200について説明する。
Next, the operation of the other embodiment described above will be described. In another embodiment, the switched capacitor circuit 200
Since the other parts are the same as those of the embodiment shown in FIG. 1 described above, the detailed description will be omitted and the switched capacitor circuit 200 will be mainly described.

まず、プリチャージ信号φRが高レベルの時には、MOS
トランジスタ36が導通状態であり、MOSトランジスタ37
が信号φFが低レベルであることから非導通状態である
ため、ノードdは高レベル(略電源電位)になってお
り、また、MOSトランジスタ33が導通状態であることか
ら、ノードeは低レベル(接地電位)になっている。こ
の時、MOSトランジスタ9,32,33が導通状態であるため、
ワード線駆動信号φWは低レベル(Lレベル)になって
いる。その後、プリチャージ信号φRが低レベルになっ
て後、ワード線駆動トリガ信号φTが低レベルから高レ
ベルに変化して、充放電回路150の充電用MOSトランジス
タ5が導通状態になり、ワード線自体の負荷容量が電源
電位ノードに供給された電源電位Vccによって充電さ
れ、ワード線駆動信号φWが電源電位VccからMOSトラン
ジスタ5のしきい値分差し引いた電位(高レベル、Hレ
ベル)まで上昇するに伴い、ゲート電極にノードdにお
ける高レベルが印加されて導通状態となっているMOSト
ランジスタ32を介してノードeは高レベルに充電され
る。この時、MOSトランジスタ33はプリチャージ信号φ
Rの低レベルによって非導通状態になっている。また、
MOSトランジスタ35には、そのゲート電極に電源電位が
印加されているため、ノードfの電位はVcc−Vtの高レ
ベルに充電されている。その結果、MOSトランジスタ34
には、そのゲート電極に高レベル(電源電位より低い電
位)、一方の主電極にワード線駆動信号φWのHレベル
の電位(略電源電位、但し、電源電位より低い電位)
が、他方の主電極に高レベル(Vcc−Vt)がそれぞれ印
加された状態になっている。
First, when the precharge signal φR is at high level, the MOS
Transistor 36 is conducting and MOS transistor 37
Is in a non-conductive state because the signal φF is at a low level, the node d is at a high level (approximately the power supply potential), and the MOS transistor 33 is in a conductive state, so that the node e is at a low level. (Ground potential). At this time, since the MOS transistors 9, 32, 33 are conductive,
The word line drive signal φW is at low level (L level). After that, after the precharge signal φR becomes low level, the word line drive trigger signal φT changes from low level to high level, the charging MOS transistor 5 of the charge / discharge circuit 150 becomes conductive, and the word line itself. Is charged by the power supply potential Vcc supplied to the power supply potential node, and the word line drive signal φW rises to a potential (high level, H level) obtained by subtracting the threshold value of the MOS transistor 5 from the power supply potential Vcc. Along with this, the node e is charged to a high level via the MOS transistor 32 which is in a conductive state by applying a high level at the node d to the gate electrode. At this time, the MOS transistor 33 outputs the precharge signal φ
The low level of R makes it non-conductive. Also,
Since the power supply potential is applied to the gate electrode of the MOS transistor 35, the potential of the node f is charged to the high level of Vcc-Vt. As a result, the MOS transistor 34
Is at a high level (potential lower than the power supply potential) on its gate electrode, and on one main electrode is an H level potential of the word line drive signal φW (almost power supply potential, but lower than the power supply potential).
However, the high level (Vcc-Vt) is applied to the other main electrode, respectively.

その後、ワード線駆動トリガ信号φTが低レベルになっ
て後、信号φFが低レベルから高レベルに変化すると、
MOSトランジスタ37は導通状態になり、ノードdの高レ
ベルの電位が接地電位に放電され、MOSトランジスタ32
が非導通状態になる。従って、ノードeは電気的に浮い
た状態となる。その後、ブースト信号φPが低レベルか
ら高レベルに変化すると、容量性素子18、19の容量結合
によってノードe、fの電位はそれぞれ電源電位Vcc以
上の高レベル(約8V)に昇圧される。容量性素子19の容
量はワード線の負荷容量の2倍以上に設定されているの
で、MOSトランジスタ34を介して、ノードfの高レベル
の電荷がワード線に流れ込むため、ワード線駆動信号φ
WのHレベルの電位は、電源電位Vcc以上の高レベル
(約7V)になる。
After that, when the signal φF changes from the low level to the high level after the word line drive trigger signal φT becomes the low level,
The MOS transistor 37 becomes conductive, the high-level potential of the node d is discharged to the ground potential, and the MOS transistor 32
Becomes non-conductive. Therefore, the node e is in an electrically floating state. After that, when the boost signal φP changes from the low level to the high level, the potentials of the nodes e and f are boosted to a high level (about 8V) which is higher than the power supply potential Vcc by the capacitive coupling of the capacitive elements 18 and 19. Since the capacitance of the capacitive element 19 is set to be at least twice the load capacitance of the word line, the high-level charge of the node f flows into the word line via the MOS transistor 34, so that the word line drive signal φ
The H level potential of W becomes a high level (about 7V) which is higher than the power source potential Vcc.

そして、センス後、ビット線との容量結合によってワー
ド線の電位が低下すると、接続回路100の充電用MOSトラ
ンジスタ105が導通状態になっていることから、ワード
線駆動信号φWのHレベルの電位は、内部電源発生回路
によって接続回路100の充電用MOSトランジスタ105を介
して電源電位Vcc以上の高い電位(約7V)に再充電され
ることになる。
Then, after sensing, when the potential of the word line decreases due to capacitive coupling with the bit line, the charging MOS transistor 105 of the connection circuit 100 is in a conductive state, so that the H-level potential of the word line drive signal φW is The internal power supply generation circuit recharges the battery through the charging MOS transistor 105 of the connection circuit 100 to a high potential (about 7 V) higher than the power supply potential Vcc.

その後、信号φF及びブースト信号φPが高レベルから
低レベルに変化し、プリチャージ信号φRが低レベルに
変化して放電用MOSトランジスタ9が導通状態となっ
て、ワード線自体の負荷容量の電荷が放電され、ワード
線駆動信号φWは低レベル(Lレベル、接地電位)にさ
れ、上記したプリチャージ期間と同様な状態になる。
After that, the signal φF and the boost signal φP change from the high level to the low level, the precharge signal φR changes to the low level, the discharge MOS transistor 9 becomes conductive, and the charge of the load capacitance of the word line itself is changed. The word line drive signal φW is discharged to a low level (L level, ground potential), and the same state as in the above precharge period is entered.

この種のスイッチドキャパシタ回路を設けた本発明の他
の実施例においても、第1図に示した実施例のものと同
様の効果を奏するものである。
Also in another embodiment of the present invention in which this type of switched capacitor circuit is provided, the same effect as that of the embodiment shown in FIG. 1 is obtained.

さらに、スイッチドキャパシタ回路200は、接続回路100
と同様の動作を行うので、接続回路100に代えて第8図
に示すようにノードeにゲート電極、ワード線駆動信号
φWが供給される信号線に一方の主電極(ソース電
極)、内部電源発生回路の内部電源電位出力ノードに他
方の主電極(ドレイン電極)が接続されたMOSトランジ
スタ301からなる接続回路300を設けても、その効果は変
わらない。
Furthermore, the switched capacitor circuit 200 is connected to the connection circuit 100.
Since the same operation as in the above is performed, instead of the connection circuit 100, as shown in FIG. 8, the gate electrode is connected to the node e, one main electrode (source electrode) is connected to the signal line to which the word line drive signal φW is supplied, and the internal power supply is connected. Even if the connection circuit 300 including the MOS transistor 301 having the other main electrode (drain electrode) connected to the internal power supply potential output node of the generation circuit is provided, the effect does not change.

また、上記各実施例においては、内部電源発生回路の内
部電源電位出力ノードと信号線との接続をブースト信号
φPが低レベルから高レベルに変化してワード線駆動信
号φWを昇圧するのと同時に行っているものを示した
が、ダイナミックRAMのサイクル内に入り、メモリセル
への電源電位レベルの書き込みが行われるタイミングで
あれば、ブースト信号φPが高レベルとなった後でも、
その効果は変わらない。
Further, in each of the above-described embodiments, the boost signal φP changes from the low level to the high level to boost the word line drive signal φW at the same time as the connection between the internal power supply potential output node of the internal power generation circuit and the signal line. Although what has been done is shown, at the timing of entering the cycle of the dynamic RAM and writing the power supply potential level to the memory cell, even after the boost signal φP becomes high level,
The effect remains the same.

また、上記各実施例においては、ダイナミックRAMのブ
ーステッドワード線駆動回路に適用した例について説明
したが、他のブーステッド信号駆動回路においても、レ
ベルの低減を補償できることは言うまでもない。
Further, in each of the above-mentioned embodiments, the example applied to the boosted word line drive circuit of the dynamic RAM has been described, but it goes without saying that the level reduction can be compensated for in other boosted signal drive circuits.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明に係るブーステッド信号駆動回
路によれば、Hレベルの電位が電源電位より高い電位で
あるブーステッド信号が供給されるブーステッド信号線
と、上記ブーステッド信号線の負荷容量より大きい容量
からなり内部電源電位出力ノードとLレベル電位ノード
との間に接続された容量性素子、それぞれダイオード接
続されるとともに上記電源電位ノードと上記内部電源電
位出力ノードとの間に相互に直列に接続された複数のト
ランジスタ、該複数のトランジスタのうちの1つのトラ
ンジスタの一方の主電極と間欠的な信号が入力される信
号入力ノードとの間に接続された容量性素子とを有し、
内部電源電位出力ノードに上記電源電位より高い電位を
出力する内部電源発生回路と、上記ブーステッド信号線
と上記内部電源電位出力ノードとの間に接続され、上記
ブーステッド信号線に供給される信号をHレベルとする
時に導通状態とされ、上記ブーステッド信号線に供給さ
れる信号をLレベルとする時に非導通状態とされる充電
用トランジスタと、上記ブーステッド信号線と上記Lレ
ベル電位ノードとの間に接続され、上記ブーステッド信
号線に供給される信号をHレベルとする時に非導通状態
とされ、上記ブーステッド信号線に供給される信号をL
レベルとする時に導通状態とされる放電用トランジスタ
とを備えるようにしたので、信号のHレベルの電位が電
源電位より高い電位がブーステッド信号線に供給されて
いる際に、例え、ブーステッド信号線におけるHレベル
の電位が低下しても、内部電源発生回路が充電用トラン
ジスタを介してその低下分を補うことができ、信号のH
レベルの電位を回復できるという効果が得られるもので
ある。
As described above, according to the boosted signal drive circuit of the present invention, the boosted signal line to which the boosted signal whose H level potential is higher than the power source potential is supplied, and the load of the boosted signal line are loaded. A capacitive element having a capacitance larger than the capacitance and connected between the internal power supply potential output node and the L level potential node, each being diode-connected, and mutually connected between the power supply potential node and the internal power supply potential output node. A plurality of transistors connected in series, and a capacitive element connected between one main electrode of one of the plurality of transistors and a signal input node to which an intermittent signal is input. ,
An internal power supply generation circuit that outputs a potential higher than the power supply potential to the internal power supply potential output node, and a signal that is connected between the boosted signal line and the internal power supply potential output node and is supplied to the boosted signal line. To the H level, the charging transistor is made conductive, and the signal supplied to the boosted signal line is made nonconductive when the signal is set to the L level, the boosted signal line, and the L level potential node. The signal supplied to the boosted signal line is turned off when the signal supplied to the boosted signal line is set to H level.
Since the discharging transistor is made conductive when the level is set to the level, when the potential of the signal at the H level higher than the power source potential is supplied to the boosted signal line, for example, the boosted signal Even if the H level potential on the line drops, the internal power supply generation circuit can compensate for the drop through the charging transistor, and the H level of the signal is reduced.
The effect that the level potential can be recovered is obtained.

また、この発明に係るブーステッド信号駆動回路によれ
ば、Hレベルの電位が電源電位より高い電位であるブー
ステッド信号が供給されるブーステッド信号線と、上記
ブーステッド信号線の負荷容量より大きい容量からなり
内部電源電位出力ノードとLレベル電位ノードとの間に
接続された容量性素子、それぞれダイオード接続される
とともに上記電源電位ノードと上記内部電源電位出力ノ
ードとの間に相互に直列に接続された複数のトランジス
タ、該複数のトランジスタのうちの1つのトランジスタ
の一方の主電極と間欠的な信号が入力される信号入力ノ
ードとの間に接続された容量性素子とを有し、内部電源
電位出力ノードに上記電源電位より高い電位を出力する
内部電源発生回路と、上記ブーステッド信号線と上記内
部電源電位出力ノードとの間に接続され、上記ブーステ
ッド信号線に供給される信号をHレベルとする時に導通
状態とされ、上記ブーステッド信号線に供給される信号
をLレベルとする時に非導通状態とされる第1の充電用
トランジスタを有する接続回路と、上記電源電位が供給
される電源電位ノードと上記ブーステッド信号線との間
に接続され、上記ブーステッド信号線に供給される信号
をHレベルとする時に導通状態とされ、上記ブーステッ
ド信号線に供給される信号をLレベルとする時に非導通
状態とされる第2の充電用トランジスタ、上記ブーステ
ッド信号線と上記Lレベル電位ノードとの間に接続さ
れ、上記ブーステッド信号線に供給される信号をHレベ
ルとする時に非導通状態とされ、上記ブーステッド信号
線に供給される信号をLレベルとする時に導通状態とさ
れる放電用トランジスタ、上記ブーステッド信号線に一
方の電極が接続されるとともに他方の電極にブースト信
号が供給されるブースト用容量性素子を有するブーステ
ッド信号発生回路とを備えるようにしたので、信号のH
レベルの電位が電源電位より高い電位がブーステッド信
号線に供給されている際に、例え、ブーステッド信号線
におけるHレベルの電位が低下しても、内部電源発生回
路が充電用トランジスタを介してその低下分を補うこと
ができ、信号のHレベルの電位を回復できるという効果
が得られるものである。
Further, according to the boosted signal drive circuit of the present invention, the boosted signal line to which the boosted signal whose H level potential is higher than the power source potential is supplied and the load capacitance of the boosted signal line are larger than the boosted signal line. A capacitive element formed of a capacitor and connected between the internal power supply potential output node and the L level potential node, each being diode-connected and connected in series between the power supply potential node and the internal power supply potential output node. And a capacitive element connected between one main electrode of one of the plurality of transistors and a signal input node to which an intermittent signal is input, and an internal power supply. An internal power supply generation circuit that outputs a potential higher than the power supply potential to the potential output node, the boosted signal line, and the internal power supply potential output node. Connected to the boosted signal line and brought into a conductive state when the signal supplied to the boosted signal line is at H level, and brought into a non-conductive state when the signal supplied to the boosted signal line is at L level. A connection circuit having a first charging transistor, a power supply potential node to which the power supply potential is supplied, and the boosted signal line, and a signal supplied to the boosted signal line is set to H level. Between the boosted signal line and the L level potential node, the second charging transistor is rendered conductive when the signal is supplied to the boosted signal line and is rendered non-conductive when the signal supplied to the boosted signal line is set to the L level. The signal supplied to the boosted signal line is brought into the non-conduction state when the signal supplied to the boosted signal line is set to the H level, and the signal supplied to the boosted signal line is set to the L level. A boosting signal generating circuit having a boosting capacitive element in which one electrode is connected to the boosted signal line and a boost signal is supplied to the other electrode. Since it was set to H
When a potential whose level potential is higher than the power source potential is supplied to the boosted signal line, even if the H level potential in the boosted signal line decreases, the internal power supply generation circuit passes through the charging transistor. The effect of being able to compensate for the decrease and recovering the H level potential of the signal is obtained.

また、この発明に係るブーステッド信号発生回路によれ
ば、Hレベルの電位が電源電位より高い電位であるブー
ステッド信号が供給されるブーステッド信号線と、上記
ブーステッド信号線の負荷容量より大きい容量からなり
内部電源電位出力ノードとLレベル電位ノードとの間に
接続された容量性素子、それぞれダイオード接続される
とともに上記電源電位ノードと上記内部電源電位出力ノ
ードとの間に相互に直列に接続された複数のトランジス
タ、該複数のトランジスタのうちの1つのトランジスタ
の一方の主電極と間欠的な信号が入力される信号入力ノ
ードとの間に接続された容量性素子とを有し、内部電源
電位出力ノードに上記電源電位より高い電位を出力する
内部電源発生回路と、上記ブーステッド信号線と上記内
部電源電位出力ノードとの間に接続され、上記ブーステ
ッド信号線に供給されるHレベルとする時に導通状態と
され、上記ブーステッド信号線に供給される信号をLレ
ベルとする時に非導通状態とされる充電用トランジスタ
と、上記ブーステッド信号線と上記Lレベル電位ノード
との間に接続され、上記ブーステッド信号線に供給され
る信号をHレベルとする時に非導通状態とされ、上記ブ
ーステッド信号線に供給される信号をLレベルとする時
に導通状態とされる放電用トランジスタと、一方の主電
極が上記ブーステッド信号線に接続され、ブースト信号
がHレベルの時に導通状態とされるトランジスタ、この
トランジスタの他方の主電極に一方の電極が接続される
とともに他方の電極に上記ブースト信号が供給される容
量性素子を有するスイッチドキャパシタ回路とを備える
ようにしたので、信号のHレベルの電位が電源電位より
高い電位がブーステッド信号線に供給されている際に、
例え、ブーステッド信号線におけるHレベルの電位が低
下しても、内部電源発生回路が充電用トランジスタを介
してその低下分を補うことができ、信号のHレベルの電
位を回復できるという効果が得られるものである。
Further, according to the boosted signal generating circuit of the present invention, the boosted signal line to which the boosted signal whose H level potential is higher than the power source potential is supplied and the load capacitance of the boosted signal line are larger than the boosted signal line. A capacitive element formed of a capacitor and connected between the internal power supply potential output node and the L level potential node, each being diode-connected and connected in series between the power supply potential node and the internal power supply potential output node. And a capacitive element connected between one main electrode of one of the plurality of transistors and a signal input node to which an intermittent signal is input, and an internal power supply. An internal power supply generation circuit that outputs a potential higher than the power supply potential to the potential output node, the boosted signal line, and the internal power supply potential output node. Connected between the boostered signal line and the boosted signal line and brought into the conductive state when the signal is supplied to the boosted signal line at the H level, and is brought into the non-conductive state when the signal supplied to the boosted signal line is set to the L level. Transistor, the boosted signal line, and the L level potential node are connected to each other, and when the signal supplied to the boosted signal line is set to the H level, the transistor is turned off and the boosted signal line is connected to the boosted signal line. A discharging transistor that is turned on when a supplied signal is at L level, a transistor that is connected to the boosted signal line when one main electrode is connected, and is turned on when a boost signal is at H level. One of the main electrodes of the switch is connected to one electrode and the boost signal is supplied to the other electrode of the switched capacitor. Since so and a capacitor circuit, when higher than the H-level potential is the power supply potential of the signal potential is supplied to the boosted signal line,
For example, even if the H-level potential of the boosted signal line drops, the internal power supply generation circuit can compensate for the drop through the charging transistor, and the H-level potential of the signal can be recovered. It is what is done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例によるブーステッド信号駆動
回路を示す図、第2図は第1図の回路動作を説明するた
めの波形図、第3図は従来のブーステッドワード線駆動
回路を示した図、第4図は第3図の回路動作を説明する
ための波形図、第5図は内部電源発生回路の一実施例を
示す図、第6図は第5図の動作原理を説明するための波
形図、第7図及び第8図はそれぞれ本発明の他の実施例
であるブーステッド信号駆動回路を示す図である。 図中、100は接続回路、105は第1の充電用MOSトランジ
スタ、250はブーステッド信号発生回路、150は充放電回
路、5は第2の充電用MOSトランジスタ、9は放電用MOS
トランジスタ、12はブースト用容量性素子、200はスイ
ッチドキャパシタ回路、34はトランジスタ、19は容量性
素子、Vsは内部電源発生回路の内部電源電位出力ノード
に現れる電位、26は内部電源発生回路の容量性素子であ
る。 なお、図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a diagram showing a boosted signal drive circuit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a waveform diagram for explaining the circuit operation of FIG. 1, and FIG. 3 is a conventional boosted word line drive circuit. FIG. 4, FIG. 4 is a waveform diagram for explaining the circuit operation of FIG. 3, FIG. 5 is a diagram showing an embodiment of the internal power supply generation circuit, and FIG. 6 is a diagram showing the operation principle of FIG. Waveform diagrams for explaining, FIG. 7 and FIG. 8 are views showing boosted signal drive circuits which are other embodiments of the present invention. In the figure, 100 is a connection circuit, 105 is a first charging MOS transistor, 250 is a boosted signal generation circuit, 150 is a charging / discharging circuit, 5 is a second charging MOS transistor, and 9 is a discharging MOS.
Transistor, 12 is a capacitive element for boosting, 200 is a switched capacitor circuit, 34 is a transistor, 34 is a capacitive element, Vs is a potential appearing at the internal power supply potential output node of the internal power supply generation circuit, and 26 is an internal power supply generation circuit. It is a capacitive element. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 日高 秀人 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 堂阪 勝巳 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 小西 康弘 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (56)参考文献 特開 昭57−18080(JP,A) 特開 昭57−133589(JP,A) 特開 昭59−38996(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Hideto Hidaka 4-1-1 Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture Mitsubishi Electric Corporation LSI Research Laboratory (72) Inventor Katsumi Dosaka 4 Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture 1-chome, Mitsubishi Electric Co., Ltd. LSI Research Laboratory (72) Inventor Yasuhiro Konishi 4-1-1, Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture Mitsubishi Electric Co., Ltd. LSI Research Laboratory (56) Reference JP 57 -18080 (JP, A) JP-A-57-133589 (JP, A) JP-A-59-38996 (JP, A)

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】Hレベルの電位が電源電位より高い電位で
あるブーステッド信号が供給されるブーステッド信号線
と、 上記ブーステッド信号線の負荷容量より大きい容量から
なり内部電源電位出力ノードとLレベル電位ノードとの
間に接続された容量性素子、それぞれダイオード接続さ
れるとともに上記電源電位ノードと上記内部電源電位出
力ノードとの間に相互に直列に接続された複数のトラン
ジスタ、該複数のトランジスタのうちの1つのトランジ
スタの一方の主電極と間欠的な信号が入力される信号入
力ノードとの間に接続された容量性素子とを有し、内部
電源電位出力ノードに上記電源電位より高い電位を出力
する内部電源発生回路と、 上記ブーステッド信号線と上記内部電源電位出力ノード
との間に接続され、上記ブーステッド信号線に供給され
る信号をHレベルとする時に導通状態とされ、上記ブー
ステッド信号線に供給される信号をLレベルとする時に
非導通状態とされる充電用トランジスタと、 上記ブーステッド信号線と上記Lレベル電位ノードとの
間に接続され、上記ブーステッド信号線に供給される信
号をHレベルとする時に非導通状態とされ、上記ブース
テッド信号線に供給される信号をLレベルとする時に導
通状態とされる放電用トランジスタとを備えたことを特
徴とするブーステッド信号駆動回路。
1. An internal power supply potential output node, which comprises a boosted signal line supplied with a boosted signal whose H level potential is higher than the power supply potential, and a capacitance larger than the load capacitance of the boosted signal line, and an L node. Capacitive element connected between the level potential node, a plurality of transistors diode-connected and connected in series between the power supply potential node and the internal power supply potential output node, and the plurality of transistors A capacitive element connected between one main electrode of one of the transistors and a signal input node to which an intermittent signal is input, and a potential higher than the power supply potential at the internal power supply potential output node. Is connected between the boosted signal line and the internal power supply potential output node, and the boosted signal is output. A charging transistor that is rendered conductive when the signal supplied to the line is at H level and is rendered non-conductive when the signal supplied to the boosted signal line is at L level; and the boosted signal line. It is connected between the boosted signal line and the L level potential node and is in a non-conducting state when the signal supplied to the boosted signal line is at the H level, and when the signal supplied to the boosted signal line is at the L level. A boosted signal drive circuit comprising: a discharge transistor that is made conductive.
【請求項2】上記ブーステッド信号線は、ダイナミック
RAMにおけるビット線と直交配置されたワード線である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のブーステ
ッド信号駆動回路。
2. The boosted signal line is dynamic
The boosted signal drive circuit according to claim 1, wherein the boosted signal drive circuit is a word line arranged orthogonal to a bit line in a RAM.
【請求項3】Hレベルの電位が電源電位より高い電位で
あるブーステッド信号が供給されるブーステッド信号線
と、 上記ブーステッド信号線の負荷容量より大きい容量から
なり内部電源電位出力ノードとLレベル電位ノードとの
間に接続された容量性素子、それぞれダイオード接続さ
れるとともに上記電源電位ノードと上記内部電源電位出
力ノードとの間に相互に直列に接続された複数のトラン
ジスタ、該複数のトランジスタのうちの1つのトランジ
スタの一方の主電極と間欠的な信号が入力される信号入
力ノードとの間に接続された容量性素子とを有し、内部
電源電位出力ノードに上記電源電位より高い電位を出力
する内部電源発生回路と、 上記ブーステッド信号線と上記内部電源電位出力ノード
との間に接続され、上記ブーステッド信号線に供給され
る信号をHレベルとする時に導通状態とされ、上記ブー
ステッド信号線に供給される信号をLレベルとする時に
非導通状態とされる第1の充電用トランジスタを有する
接続回路と、 上記電源電位が供給される電源電位ノードと上記ブース
テッド信号線との間に接続され、上記ブーステッド信号
線に供給される信号をHレベルとする時に導通状態とさ
れ、上記ブーステッド信号線に供給される信号をLレベ
ルとする時に非導通状態とされる第2の充電用トランジ
スタ、上記ブーステッド信号線と上記Lレベル電位ノー
ドとの間に接続され、上記ブーステッド信号線に供給さ
れる信号をHレベルとする時に非導通状態とされ、上記
ブーステッド信号線に供給される信号をLレベルとする
時に導通状態とされる放電用トランジスタ、上記ブース
テッド信号線に一方の電極が接続されるとともに他方の
電極にブースト信号が供給されるブースト用容量性素子
を有するブーステッド信号発生回路とを備えたことを特
徴とするブーステッド信号駆動回路。
3. An internal power supply potential output node and an L, which comprises a boosted signal line supplied with a boosted signal whose H level potential is higher than the power supply potential, and a capacitance larger than the load capacitance of the boosted signal line. Capacitive element connected between the level potential node, a plurality of transistors diode-connected and connected in series between the power supply potential node and the internal power supply potential output node, and the plurality of transistors A capacitive element connected between one main electrode of one of the transistors and a signal input node to which an intermittent signal is input, and a potential higher than the power supply potential at the internal power supply potential output node. Is connected between the boosted signal line and the internal power supply potential output node, and the boosted signal is output. A connection circuit having a first charging transistor which is rendered conductive when a signal supplied to the line is at an H level and is rendered non-conductive when a signal supplied to the boosted signal line is at an L level. The boosted signal line is connected between a power supply potential node to which the power supply potential is supplied and the boosted signal line, and is rendered conductive when a signal supplied to the boosted signal line is set to H level. A second charging transistor that is rendered non-conductive when the signal supplied to the L level is connected to the boosted signal line and the L level potential node, and is supplied to the boosted signal line. A discharging transistor that is rendered non-conductive when the signal that is set to the H level and is rendered conductive when the signal that is supplied to the boosted signal line is set to the L level, And a boosted signal generating circuit having a boosting capacitive element in which one electrode is connected to the boosted signal line and a boost signal is supplied to the other electrode. .
【請求項4】上記ブーステッド信号線は、ダイナミック
RAMにおけるビット線と直交配置されたワード線である
ことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のブーステ
ッド信号駆動回路。
4. The boosted signal line is dynamic.
4. The boosted signal drive circuit according to claim 3, wherein the boosted signal drive circuit is a word line arranged orthogonal to a bit line in a RAM.
【請求項5】Hレベルの電位が電源電位より高い電位で
あるブーステッド信号が供給されるブーステッド信号線
と、 上記ブーステッド信号線の負荷容量より大きい容量から
なり内部電源電位出力ノードとLレベル電位ノードとの
間に接続された容量性素子、それぞれダイオード接続さ
れるとともに上記電源電位ノードと上記内部電源電位出
力ノードとの間に相互に直列に接続された複数のトラン
ジスタ、該複数のトランジスタのうちの1つのトランジ
スタの一方の主電極と間欠的な信号が入力される信号入
力ノードとの間に接続された容量性素子とを有し、内部
電源電位出力ノードに上記電源電位より高い電位を出力
する内部電源発生回路と、 上記ブーステッド信号線と上記内部電源電位出力ノード
との間に接続され、上記ブーステッド信号線に供給され
る信号をHレベルとする時に導通状態とされ、上記ブー
ステッド信号線に供給される信号をLレベルとする時に
非導通状態とされる充電用トランジスタと、 上記ブーステッド信号線と上記Lレベル電位ノードとの
間に接続され、上記ブーステッド信号線に供給される信
号をHレベルとする時に非導通状態とされ、上記ブース
テッド信号線に供給される信号をLレベルとする時に導
通状態とされる放電用トランジスタと、 一方の主電極が上記ブーステッド信号線に接続され、ブ
ースト信号がHレベルの時に導通状態とされるトランジ
スタ、このトランジスタの他方の主電極に一方の電極が
接続されるとともに他方の電極に上記ブースト信号が供
給される容量性素子を有するスイッチドキャパシタ回路
とを備えたことを特徴とするブーステッド信号駆動回
路。
5. An internal power supply potential output node and an L, which is composed of a boosted signal line supplied with a boosted signal whose H level potential is higher than the power supply potential, and a capacitance larger than the load capacitance of the boosted signal line. Capacitive element connected between the level potential node, a plurality of transistors diode-connected and connected in series between the power supply potential node and the internal power supply potential output node, and the plurality of transistors A capacitive element connected between one main electrode of one of the transistors and a signal input node to which an intermittent signal is input, and a potential higher than the power supply potential at the internal power supply potential output node. Is connected between the boosted signal line and the internal power supply potential output node, and the boosted signal is output. A charging transistor that is rendered conductive when the signal supplied to the line is at H level and is rendered non-conductive when the signal supplied to the boosted signal line is at L level; and the boosted signal line. It is connected between the boosted signal line and the L level potential node and is in a non-conducting state when the signal supplied to the boosted signal line is at the H level, and when the signal supplied to the boosted signal line is at the L level. A discharging transistor which is made conductive, one main electrode of which is connected to the boosted signal line and which is made conductive when the boost signal is at the H level, and the other main electrode of which has one electrode And a switched capacitor circuit having a capacitive element connected to the other electrode to which the boost signal is supplied. Suteddo signal driving circuit.
【請求項6】上記ブーステッド信号線は、ダイナミック
RAMにおけるビット線と直交配置されたワード線である
ことを特徴とする特許請求の範囲第5項記載のブーステ
ッド信号駆動回路。
6. The boosted signal line is dynamic.
6. The boosted signal drive circuit according to claim 5, wherein the boosted signal drive circuit is a word line arranged orthogonal to a bit line in a RAM.
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