JPH0742671A - Cryopump with louver blind type baffle - Google Patents
Cryopump with louver blind type baffleInfo
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- JPH0742671A JPH0742671A JP19128493A JP19128493A JPH0742671A JP H0742671 A JPH0742671 A JP H0742671A JP 19128493 A JP19128493 A JP 19128493A JP 19128493 A JP19128493 A JP 19128493A JP H0742671 A JPH0742671 A JP H0742671A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、核融合実験装置やプラ
ズマ科学実験装置の中性粒子注入装置(NBI)に使用
される水素に対して大きな排気速度を有するクライオポ
ンプに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cryopump having a large pumping speed for hydrogen, which is used in a neutral particle injection device (NBI) for a nuclear fusion experimental device and a plasma science experimental device.
【0002】[0002]
【従来の技術】中性粒子注入装置用の水素に対して数十
万1/s〜数百万1/sの大排気速度を有するクライオ
ポンプでは、排気速度を大きくとるために大型のクライ
オパネルが必要である。該クライオパネルは、通常、外
部から放射される輻射熱(熱線)により加熱されないよ
うに外側シールド板で蔽われ、また気体分子は通過でき
るがガス流入口から入射する輻射熱を遮ぎる構造の複数
のルーバーブラインド型バッフルを備えている。2. Description of the Related Art In a cryopump having a large pumping speed of hundreds of thousands / s to several millions / s for hydrogen for a neutral particle injecting apparatus, a large cryopanel is used to increase the pumping speed. is necessary. The cryopanel is usually covered with an outer shield plate so as not to be heated by radiant heat (heat rays) radiated from the outside, and a plurality of louvers having a structure capable of passing gas molecules but blocking radiant heat incident from a gas inlet. It is equipped with a blind type baffle.
【0003】従来は、大排気速度を得るために大きな面
積のクライオパネルで水素を凝縮により排気を行ってい
た。大面積のクライオパネルの冷却には、水素が凝縮す
るのに必要な低温が必要であるために液体ヘリウムが使
用されてきた。また、クライオパネルの輻射シールドや
バッフルの冷却には、液体窒素が使用されている。Conventionally, in order to obtain a high pumping speed, hydrogen has been exhausted by condensing hydrogen with a cryopanel having a large area. Liquid helium has been used to cool large area cryopanels because of the low temperatures required for hydrogen to condense. Liquid nitrogen is used for cooling the radiation shield of the cryopanel and the baffle.
【0004】水素に対する排気速度を大きくする手段と
しては、水素の通過確率の大きなルーバーブラインド型
のバッフルが知られている。(一例として、特開昭61
−169682号公報参照)。A louver blind type baffle, which has a high probability of passing hydrogen, is known as a means for increasing the exhaust rate of hydrogen. (As one example, JP-A-61
No. 169682).
【0005】図3は、ルーバーブラインド型クライオポ
ンプの概略構造図を示したもので、(a)は正面図、
(b)は横断面図、(c)は要部斜視図である。このク
ライオポンプは、液体窒素で冷却された80Kシールド
11の中に、垂直方向に通常複数列のクライオパネル1
2を配置し、その周囲を、液体窒素で冷却された垂直方
向のルーバー型のバッフル13で取り囲む構造となって
いる。上記クライオパネル12は中空になっており、内
部に液体ヘリウム14が充填または循環しており、この
液体ヘリウム14によって3.2〜4.2K程度に冷却
されている。FIG. 3 is a schematic structural diagram of a louver blind type cryopump, in which (a) is a front view,
(B) is a cross-sectional view and (c) is a perspective view of a main part. This cryopump has a cryopanel 1 normally arranged in a plurality of rows in the vertical direction in an 80K shield 11 cooled by liquid nitrogen.
2 are arranged, and the periphery thereof is surrounded by a vertical louver type baffle 13 cooled by liquid nitrogen. The cryopanel 12 is hollow, and liquid helium 14 is filled or circulated therein, and is cooled to about 3.2 to 4.2K by the liquid helium 14.
【0006】クライオパネル12の形状には、種々の形
状のものがあり、垂直に配置された中空のパイプと銅や
アルミニュウム等の熱伝導率の高い材質のパネルとで構
成されており、中空パイプ内に液体ヘリウムを充填また
は循環させて冷却する方式なども知られている。There are various shapes of the cryopanel 12, and the cryopanel 12 is composed of a vertically arranged hollow pipe and a panel made of a material having a high thermal conductivity such as copper or aluminum. There is also known a system in which liquid helium is filled or circulated in the inside to cool it.
【0007】図4は、ルーバーブラインド型クライオポ
ンプが水素を排気する過程を示した説明図で、図中、図
3に記載した符号と同一の符号は同一ないし同類部分を
示すものとする。図4において、真空装置に導入された
水素は真空容器1内を通過し、他の真空装置(例えばト
ーラス型の核融合プラズマ実験装置)へと注入される。
真空容器1内を通過中に散乱された水素は、図に示すよ
うにクライオポンプ2に入射し、シールド11やバッフ
ル13に衝突後、液体ヘリウムで冷却されたクライオパ
ネル12で凝縮排気される。しかし、クライオポンプ2
に入射した總ての水素がクライオパネル11に捕捉、排
気されるわけではない。FIG. 4 is an explanatory view showing a process in which a louver blind type cryopump exhausts hydrogen. In the figure, the same reference numerals as those shown in FIG. 3 indicate the same or similar parts. In FIG. 4, hydrogen introduced into the vacuum device passes through the vacuum container 1 and is injected into another vacuum device (for example, a torus-type fusion plasma experimental device).
The hydrogen scattered while passing through the vacuum container 1 enters the cryopump 2 as shown in the figure, collides with the shield 11 and the baffle 13, and is condensed and exhausted by the cryopanel 12 cooled with liquid helium. However, the cryopump 2
The total amount of hydrogen that has entered is not captured by the cryopanel 11 and exhausted.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上記した従来のルーバ
ーブラインド型クライオポンプには、次のような問題点
があった。The above-mentioned conventional louver blind type cryopump has the following problems.
【0009】(i)排気速度が大きく、排気効率が大き
いため、同一排気速度の他の方式のクライオポンプより
も小型化が可能である。このクライオポンプの排気効率
を決定する一つの要因は、クライオポンプの形状であ
る。クライオポンプが水素を排気する過程は、先ず、図
5におけるBの部分(吸気口に相当する。)に入射し、
次いで、両側のルーバーブラインド型のバッフル13を
通過した後、クライオパネル12(液体Heの場合)又
はクライオソープションパネル(ヘリウム冷凍機を使用
した場合)に入射した水素のみが排気される。しかし、
80Kシールド11の底部11aは、水素の排気には寄
与していないために、底部11aに到達した水素は、そ
こで反射し、一部はバッフル13に入射し、クライオパ
ネル12に到達した分子は排気されるが、残りは再び入
口(吸気口)Bに戻ってしまう。(I) Since the pumping speed is high and the pumping efficiency is high, the size of the cryopump can be made smaller than that of other cryopumps having the same pumping speed. One factor that determines the exhaust efficiency of this cryopump is the shape of the cryopump. In the process in which the cryopump exhausts hydrogen, first, the light enters the portion B (corresponding to the intake port) in FIG.
Then, after passing through the louver blind type baffles 13 on both sides, only hydrogen that has entered the cryopanel 12 (in the case of liquid He) or the cryosorption panel (in the case of using a helium refrigerator) is exhausted. But,
Since the bottom portion 11a of the 80K shield 11 does not contribute to the exhaust of hydrogen, the hydrogen that reaches the bottom portion 11a is reflected there, and a part of the hydrogen enters the baffle 13, and the molecules that reach the cryopanel 12 are exhausted. However, the rest returns to the inlet (intake port) B again.
【0010】(ii) そこで、ルーバーブラインド型のク
ライオポンプの排気速度を大きくする方法(手段)とし
ては、バッフル形状を最適化する方法がとられている
が、バッフルの形状の改善のみによる排気速度の改善に
は限界がある。(Ii) Therefore, as a method (means) for increasing the exhaust speed of the louver blind type cryopump, a method for optimizing the shape of the baffle is taken, but the exhaust speed is only improved by improving the shape of the baffle. There is a limit to the improvement.
【0011】(iii) 排気速度を大きくするもう一つの方
法(手段)は、バッフル13の長さDを大きくし、排気
に寄与する部分を増やし、排気速度を向上させる方法で
あるが、これではクライオポンプ自体が大きくなってし
まう。(Iii) Another method (means) for increasing the exhaust speed is to increase the length D of the baffle 13 to increase the portion that contributes to the exhaust, thereby improving the exhaust speed. The cryopump itself becomes large.
【0012】本発明は、上記した従来技術の問題点を解
決するもので、ポンプを大きくすることなく、排気速度
を向上させるようにしたルーバーブラインド型バッフル
を備えたクライオポンプを提供することを目的としてい
る。The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a cryopump having a louver blind type baffle capable of improving the exhaust speed without increasing the size of the pump. I am trying.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、気体分子は通過できるがガス流入口か
ら入射する輻射熱を遮ぎるルーバーブラインド型バッフ
ルを備えたクライオパネルによって、流入した水素分子
を凝縮又は吸着するようにしたクライオポンプにおい
て、並設されたクライオパネルのガス流入口に対向する
背面シールド板の内側に、バッフルとクライオパネルと
からなる流入した水素分子を吸着させる手段を設けたこ
とを特徴とし、上記水素分子を吸着させる手段として、
並設されたクライオパネルのガス流入口と対向する背面
シールド板の内側に、該背面シールド板と平行に、80
Kバッフルを備えたクライオパネルを配置したことを特
徴としている。In order to achieve the above object, the present invention provides a cryopanel equipped with a louver blind type baffle which allows gas molecules to pass therethrough but blocks radiant heat incident from a gas inlet. In a cryopump configured to condense or adsorb the hydrogen molecules, a means for adsorbing the inflowing hydrogen molecules consisting of a baffle and a cryopanel inside the rear shield plate facing the gas inlet of the cryopanels arranged in parallel. As a means for adsorbing the hydrogen molecule,
Inside the rear shield plate facing the gas inlet of the cryopanels arranged side by side, in parallel with the rear shield plate,
It features a cryopanel equipped with a K-baffle.
【0014】また、クライオパネルの表面に吸着剤を接
着したクライオソープションパネルを用いることもでき
る。It is also possible to use a cryosorption panel in which an adsorbent is adhered to the surface of the cryopanel.
【0015】[0015]
【作用】本発明は、上記のように、従来水素の排気に寄
与しなかった、並設されたクライオパネルのガス流入口
と対向する背面シールド板の内側に、バッフルとクライ
オパネルとからなる水素分子を吸着させる手段を設けて
いるので、水素を排気する排気面が大きくなり、排気速
度が大きくなる。According to the present invention, as described above, the hydrogen comprising the baffle and the cryopanel is provided inside the rear shield plate facing the gas inlet of the cryopanels arranged in parallel, which does not conventionally contribute to the exhaust of hydrogen. Since the means for adsorbing the molecules is provided, the exhaust surface for exhausting hydrogen becomes large and the exhaust speed becomes high.
【0016】[0016]
【実施例】次に、本発明の実施例を図面と共に説明す
る。図1は、本発明の一実施例を示すクライオポンプの
要部断面図であって、図中、図3〜図5に記載した符号
と同一の符号は、同一ないし同類部分を示すものとす
る。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of a cryopump showing an embodiment of the present invention, in which the same reference numerals as those shown in FIGS. 3 to 5 indicate the same or similar parts. .
【0017】図には、真空容器(図4の1)内に設置さ
れたクライオポンプ(図4の2)の一部が示されてお
り、図3に示すように、80Kシールド11の中に垂直
方向に複数列(図1では2列)配置されたクライオパネ
ル12は、周囲を垂直方向のルーバー型のバッフル13
で取り囲むように構成されている点は、従来例(図3)
と変りはないが、本実施例(本発明)では、並設された
クライオパネル12のガス流入口に相当する吸気口Bと
対向する背面シールド板21の内側に、該背面シールド
板21と平行に、80Kバッフル23を備えたクライオ
パネル22が新たに配置されている。なお、上記80K
バッフル23は、吸気口Bからクライオパネル22が見
えないように設計されている。In the figure, a part of the cryopump (2 in FIG. 4) installed in the vacuum container (1 in FIG. 4) is shown. As shown in FIG. The cryopanels 12 arranged in a plurality of rows (two rows in FIG. 1) in the vertical direction have a louver-type baffle 13 in the vertical direction.
The conventional example (Fig. 3) is that it is surrounded by
However, in the present embodiment (the present invention), the inside of the rear shield plate 21 facing the intake port B corresponding to the gas inlet of the cryopanel 12 arranged in parallel is parallel to the rear shield plate 21. In addition, a cryopanel 22 having an 80K baffle 23 is newly arranged. The above 80K
The baffle 23 is designed so that the cryopanel 22 cannot be seen from the intake port B.
【0018】次に、作用について説明すると、吸気口B
に入射した水素分子は、バッフル13かバッフル23の
何れかに到達し、ここで散乱され、一部はクライオパネ
ル22に到達して排気され、残りはバッフル23で反射
され、クライオパネル22とは逆方向に反射される。こ
の反射された分子の一部は吸気口Bに戻ってしまうが、
残りの分子は再びバッフル13,23の何れかに入射
し、一部は排気される。水素分子はこのようなプロセス
を繰り返し、排気されるか、吸気口Bに戻ってしまう。
バッフル23とその後ろのクライオパネル22により、
排気に寄与する部分が増えるために排気速度が大きくな
る。Next, the operation will be described. Intake port B
The hydrogen molecules incident on reach either the baffle 13 or the baffle 23, are scattered here, a part reaches the cryopanel 22 and is exhausted, and the rest is reflected by the baffle 23. It is reflected in the opposite direction. Some of the reflected molecules will return to the intake port B,
The rest of the molecules are incident on one of the baffles 13 and 23 again, and a part thereof is exhausted. The hydrogen molecules repeat such a process and are either exhausted or return to the intake port B.
By the baffle 23 and the cryopanel 22 behind it,
The exhaust speed increases because the portion that contributes to the exhaust increases.
【0019】例えば、45度ルーバーバッフル13でバ
ッフルの間隔が等間隔の場合、気体分子がこのバッフル
を通過できる確率は0.44程度である。図1において
吸気口の幅aと深さdが等しい場合は、従来形状の場合
での排気確率(捕捉係数)は約0.54であり、クライ
オパネル12での水素の捕捉係数が1.0の場合では、
吸気口Bに入射した水素分子の内の54%が排気される
ことになる。For example, in the case of 45 degree louver baffle 13 with equal baffle intervals, the probability that gas molecules can pass through this baffle is about 0.44. In FIG. 1, when the width a of the intake port is equal to the depth d, the exhaust probability (capture coefficient) of the conventional shape is about 0.54, and the hydrogen capture coefficient of the cryopanel 12 is 1.0. In case of
54% of the hydrogen molecules that have entered the intake port B are exhausted.
【0020】ところが、シールド底部(背部)でも水素
が排気できるようにした本発明の場合では、同じ形状
(吸気口Bの幅a=深さd)でも、底部のバッフル23
の通過確率がルーバーブラインドバッフル13と同じ
0.44の場合の捕捉率は、該シールド底部で排気され
る分、捕捉率が大きくなるため、約0.70と計算さ
れ、従来型のクライオポンプより約30%も排気速度を
大きくすることができる。逆に水素の排気速度が同じで
あれば、本発明の方がクライオポンプ自体の大きさを小
型化できるため、NBI装置そのものも小型化でき、装
置全体の製造コストを下げる効果もでてくる。However, in the case of the present invention in which hydrogen can be exhausted even at the shield bottom (back), the bottom baffle 23 has the same shape (the width a of the intake port B = the depth d).
When the passage probability is 0.44, which is the same as that of the louver blind baffle 13, the trapping rate is calculated to be about 0.70 because the trapping rate increases as the air is exhausted at the bottom of the shield. The pumping speed can be increased by about 30%. On the contrary, if the pumping speed of hydrogen is the same, the size of the cryopump itself can be made smaller in the present invention, so that the NBI device itself can be made smaller and the manufacturing cost of the entire device can be reduced.
【0021】図2は、本発明の他の実施例を示す図1と
同様の要部断面図であり、図中、図1に記載した符号と
同一の符号は同一ないし同類部分を示すものとする。こ
の実施例では、吸気口Bと対向する背面シールド板21
の内側に、該シールド板21と平行に配置されるクライ
オパネル22に、シエブロン型のバッフル33が取付け
られている。このものも、吸気口Bからクライオパネル
22が直接見えない形状になっている。FIG. 2 is a sectional view of a principal part similar to FIG. 1 showing another embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals as those shown in FIG. 1 indicate the same or similar parts. To do. In this embodiment, the rear shield plate 21 facing the intake port B
A sieve baffle 33 is attached to the inside of the cryopanel 22 arranged in parallel with the shield plate 21. This one also has a shape such that the cryopanel 22 cannot be directly seen from the intake port B.
【0022】上記した二つの実施例において、ルーバー
ブラインドバッフル13の角度θは45度以外の角度で
もよいし、角度が一定である必要もない。該バッフル1
3のピッチPも一定間隔である必要はなく、吸気口Bか
らクライオパネル12が見えないようにさえなっていれ
ばよい。また、吸気口の幅aと奥行きdの比率も任意の
値でよい。In the above-mentioned two embodiments, the angle θ of the louver blind baffle 13 may be an angle other than 45 degrees, and the angle need not be constant. The baffle 1
The pitch P of 3 does not have to be a constant interval as long as the cryopanel 12 cannot be seen from the intake port B. Further, the ratio of the width a of the intake port to the depth d may be any value.
【0023】また、クライオポンプの冷却方法として、
液体窒素、液体ヘリウムを使用しても良いし、20K以
下に冷却できるヘリウム冷凍機で冷却してもよい。20
K以下のヘリウムガスを循環させて冷却するタイプのク
ライオポンプでもよい。As a method for cooling the cryopump,
Liquid nitrogen or liquid helium may be used, or it may be cooled by a helium refrigerator capable of cooling to 20K or less. 20
A cryopump of a type in which helium gas of K or less is circulated for cooling may be used.
【0024】また、20K以下に冷却できるヘリウム冷
凍機の場合は、クライオパネルの表面に活性炭等の吸着
剤を接着したクライオソープションパネルによる吸着排
気となる。In the case of a helium refrigerator capable of cooling to 20K or less, adsorption and exhaust are performed by a cryosorption panel having an adsorbent such as activated carbon adhered to the surface of the cryopanel.
【0025】さらに、クライオパネルの冷却方法として
液体ヘリウムを使用し、クライオパネルの表面に吸着剤
を接着したクライオソープションパネルを使用すれば、
ヘリウムガスも排気することができる。即ち、このクラ
イオポンプでは、冷却方法とクライオパネルの構造を目
的に合った方式をとることにより水素以外の気体、例え
ば、ヘリウム、重水素、トリチュウム等の20Kでは凝
縮によっては排気できない気体にも適用できるし、窒素
や酸素、アルゴン等の20Kで凝縮によって排気できる
気体に適用することも可能である。Further, if liquid helium is used as a cooling method for the cryopanel and a cryosorption panel having an adsorbent adhered to the surface of the cryopanel is used,
Helium gas can also be exhausted. That is, this cryopump is applied to gases other than hydrogen, such as helium, deuterium, and tritium, which cannot be exhausted by condensation at 20K, by adopting a cooling method and a structure suitable for the structure of the cryopanel. It is also possible to apply it to a gas such as nitrogen, oxygen, or argon that can be exhausted by condensation at 20K.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ルーバーブラインド型バッフルを備えたクライオパネル
によって、流入した水素分子を凝縮又は吸着するように
したクライオポンプにおいて、並設されたクライオパネ
ルの吸気口と対向する背面シールド板の内側に、バッフ
ルとクライオパネルとからなる水素分子を吸着させる手
段を設けたことにより、次のような効果を奏することが
できる。As described above, according to the present invention,
A cryopump equipped with a louver blind type baffle to condense or adsorb inflowing hydrogen molecules. By providing the means for adsorbing hydrogen molecules consisting of, the following effects can be achieved.
【0027】(i)従来、水素の排気作用に寄与しなか
った背面シールド板の内側に位置するシールド底部でも
水素の排気ができるために、排気速度を大きくすること
ができる。(I) Since the hydrogen can be exhausted even at the shield bottom located inside the back shield plate which has not conventionally contributed to the exhausting action of hydrogen, the exhaust speed can be increased.
【0028】(ii) 排気速度が大きいために、同一排気
速度の場合では、従来方式よりもクライオポンプの大き
さを小型化できる。(Ii) Since the pumping speed is high, when the pumping speed is the same, the size of the cryopump can be made smaller than that of the conventional system.
【0029】(iii) クライオポンプが小型化できるため
に、NBI等の真空装置も小型化でき、装置の製造コス
トを低減することができる。(Iii) Since the cryopump can be downsized, the vacuum device such as NBI can also be downsized, and the manufacturing cost of the device can be reduced.
【0030】また、クライオパネルの表面に吸着剤を接
着したクライオソープションパネルを用いることによ
り、ヘリウムガスも排気することができる。Helium gas can also be exhausted by using a cryosorption panel in which an adsorbent is adhered to the surface of the cryopanel.
【図1】本発明の一実施例を示すクライオポンプの要部
断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a main part of a cryopump showing an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の他の実施例を示すクライオポンプの要
部断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a main part of a cryopump showing another embodiment of the present invention.
【図3】従来のルーバーブラインド型クライオポンプの
(a)は要部平面図、(b)は要部横断図、(c)は要
部斜視図である。3A is a plan view of relevant parts of a conventional louver blind cryopump, FIG. 3B is a cross-sectional view of relevant parts, and FIG. 3C is a perspective view of relevant parts.
【図4】従来のルーバーブラインド型クライオポンプの
水素排気過程を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a hydrogen exhaust process of a conventional louver blind cryopump.
【図5】従来例の要部説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a main part of a conventional example.
1 真空容器 2 クライオポンプ 11 シールド 12 バッフル 21 背面シールド板 22 クライオパネル 23,33 バッフル B 吸気口(ガス流入口) 1 Vacuum Container 2 Cryopump 11 Shield 12 Baffle 21 Back Shield Plate 22 Cryopanel 23, 33 Baffle B Intake Port (Gas Inlet)
Claims (3)
入射する輻射熱を遮ぎるルーバーブラインド型バッフル
を備えたクライオパネルによって、流入した水素分子を
凝縮又は吸着するようにしたクライオポンプにおいて、
並設されたクライオパネルのガス流入口と対向する背面
シールド板の内側に、バッフルとクライオパネルとから
なる流入した水素分子を吸着させる手段を設けたことを
特徴とするルーバーブラインド型バッフルを備えたクラ
イオポンプ。1. A cryopump configured to condense or adsorb inflowing hydrogen molecules by a cryopanel equipped with a louver blind type baffle that allows gas molecules to pass but shields radiant heat incident from a gas inlet.
A louver blind type baffle characterized in that a means for adsorbing inflowing hydrogen molecules consisting of a baffle and a cryopanel was provided inside the back shield plate facing the gas inlet of the cryopanels arranged in parallel. Cryo pump.
と対向する背面シールド板の内側に、該背面シールド板
と平行に、80Kバッフルを備えたクライオパネルを配
置したことを特徴とする請求項1記載のルーバーブライ
ンド型バッフルを備えたクライオポンプ。2. A cryopanel equipped with a 80K baffle is arranged inside the rear shield plate facing the gas inlet of the cryopanels arranged in parallel, in parallel with the rear shield plate. A cryopump provided with the louver blind type baffle according to 1.
たクライオソープションパネルを用いたことを特徴とす
る請求項1又は請求項2記載のルーバーブラインド型バ
ッフルを備えたクライオポンプ。3. A cryopump equipped with a louver blind type baffle according to claim 1, wherein a cryosorption panel having an adsorbent adhered to the surface of the cryopanel is used.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19128493A JPH0742671A (en) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | Cryopump with louver blind type baffle |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19128493A JPH0742671A (en) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | Cryopump with louver blind type baffle |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0742671A true JPH0742671A (en) | 1995-02-10 |
Family
ID=16272009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19128493A Pending JPH0742671A (en) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | Cryopump with louver blind type baffle |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0742671A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013234670A (en) * | 2013-07-22 | 2013-11-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Cryopump and method for manufacturing the same |
-
1993
- 1993-08-02 JP JP19128493A patent/JPH0742671A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013234670A (en) * | 2013-07-22 | 2013-11-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Cryopump and method for manufacturing the same |
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