JPH0741931A - プラズマ溶射装置 - Google Patents
プラズマ溶射装置Info
- Publication number
- JPH0741931A JPH0741931A JP5185829A JP18582993A JPH0741931A JP H0741931 A JPH0741931 A JP H0741931A JP 5185829 A JP5185829 A JP 5185829A JP 18582993 A JP18582993 A JP 18582993A JP H0741931 A JPH0741931 A JP H0741931A
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- JP
- Japan
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- plasma
- nozzle portion
- nozzle
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- plasma jet
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Abstract
(57)【要約】
【目的】陽電極がプラズマ溶射によって損傷を受けない
ようにする。 【構成】ノズル部24の内壁面に耐アーク性材料よりな
る導電性のスリーブ30が設けられる。
ようにする。 【構成】ノズル部24の内壁面に耐アーク性材料よりな
る導電性のスリーブ30が設けられる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、固体素地表面によ溶
融した粉末を噴射させ皮膜を形成させる装置に関する。
融した粉末を噴射させ皮膜を形成させる装置に関する。
【0002】
【従来の技術】プラズマ溶射装置は、粉末状のセラミッ
クス、または金属、プラスチックなどの溶射材料をプラ
ズマで加熱、溶融させて液状微粒子とし、この液状微粒
子をプラズマジェットで固体素地材の表面に高速で衝突
させ(溶射させ)、固体素地に皮膜を形成させるための
ものである。固体材料を被覆することによって耐環性や
耐摩耗性、電気的絶縁性などを向上させる。
クス、または金属、プラスチックなどの溶射材料をプラ
ズマで加熱、溶融させて液状微粒子とし、この液状微粒
子をプラズマジェットで固体素地材の表面に高速で衝突
させ(溶射させ)、固体素地に皮膜を形成させるための
ものである。固体材料を被覆することによって耐環性や
耐摩耗性、電気的絶縁性などを向上させる。
【0003】図3は従来のプラズマ溶射装置の構成を示
す系統図である。プラズマトーチ1によって、液状微粒
子の混入するプラズマジェット4を成膜させたい固体素
地2の表面に向けて射出させる。プラズマトーチ1の陽
極端子20Aおよび陰極端子22Aには配線13A、1
3Bを介して電源18が電気的に接続されている。電源
18は直流電源18Aと高周波電源18Bよりなる。ま
た、ガス吹付け部15が、ガスボンベ9から配管12A
を介してプラズマトーチ1のガス供給口15Aに配管接
続されている。さらに、粉末投入部14が、原料粉末5
を収納した粉末容器7から配管12Bを介してプラズマ
トーチ1の粉末供給口14Aに配管接続されている。ま
た、配管12Bにはガスボンベ8が配管接続されてい
る。 図4は図3のプラズマトーチ1の構成を示す断面
図である。プラズマトーチ1は陰極端子22Aを備えた
陰電極22を軸中心に備えている。陰電極22の外周に
絶縁体21を介して陽電極20が配されている。陽電極
20は陽極端子20Aを備えるとともに、ノズル部24
を形成している。前述のように、プラズマトーチ1には
ガス供給口15Aが設けられてあり、作動ガス10が陰
電極22の先端部22Bに吹き付けられる。また、プラ
ズマトーチ1には粉末供給口14Aが設けられてあり、
原料粉末5がプラズマジェット4に投入される。
す系統図である。プラズマトーチ1によって、液状微粒
子の混入するプラズマジェット4を成膜させたい固体素
地2の表面に向けて射出させる。プラズマトーチ1の陽
極端子20Aおよび陰極端子22Aには配線13A、1
3Bを介して電源18が電気的に接続されている。電源
18は直流電源18Aと高周波電源18Bよりなる。ま
た、ガス吹付け部15が、ガスボンベ9から配管12A
を介してプラズマトーチ1のガス供給口15Aに配管接
続されている。さらに、粉末投入部14が、原料粉末5
を収納した粉末容器7から配管12Bを介してプラズマ
トーチ1の粉末供給口14Aに配管接続されている。ま
た、配管12Bにはガスボンベ8が配管接続されてい
る。 図4は図3のプラズマトーチ1の構成を示す断面
図である。プラズマトーチ1は陰極端子22Aを備えた
陰電極22を軸中心に備えている。陰電極22の外周に
絶縁体21を介して陽電極20が配されている。陽電極
20は陽極端子20Aを備えるとともに、ノズル部24
を形成している。前述のように、プラズマトーチ1には
ガス供給口15Aが設けられてあり、作動ガス10が陰
電極22の先端部22Bに吹き付けられる。また、プラ
ズマトーチ1には粉末供給口14Aが設けられてあり、
原料粉末5がプラズマジェット4に投入される。
【0004】図4において、陽電極20と陰電極22の
間に電圧を印加して、陰電極22の先端部22Bにプラ
ズマアークを発生させる。このプラズマアークに作動ガ
ス10、例えばアルゴンガスを吹き付け、矢印25方向
にプラズマジェット4を射出させる。そのとき、プラズ
マジェット4中には原料粉末5が投入され、原料粉末5
はプラズマ熱によって溶融し液体微粒子になる。プラズ
マジェット4は液体微粒子とともにノズル部24から外
部に射出される。
間に電圧を印加して、陰電極22の先端部22Bにプラ
ズマアークを発生させる。このプラズマアークに作動ガ
ス10、例えばアルゴンガスを吹き付け、矢印25方向
にプラズマジェット4を射出させる。そのとき、プラズ
マジェット4中には原料粉末5が投入され、原料粉末5
はプラズマ熱によって溶融し液体微粒子になる。プラズ
マジェット4は液体微粒子とともにノズル部24から外
部に射出される。
【0005】図3に戻り、高周波電源18Bは直流電源
18Aからの直流電流をプラズマトーチ1の電極間に流
すためのアークトリガ用のものである。高周波電源18
Bによって、高電圧を電極間に重畳させ一旦電極間を絶
縁破壊させる。電極間が絶縁破壊すれば導電性になるの
で直流電源18Aの電圧が低くても数十ボルト、数千ア
ンペアの大電流が電極間に流れ、高温のプラズマが発生
する。ガスボンベ9には、作動ガス10が充填されてい
る。また、ガスボンベ8にはキャリアガス6、例えばア
ルゴンガスが充填されている。キャリアガス6は、その
風圧で原料粉末5を粉末供給口14Aへ送り、プラズマ
ジェット4中に投入させるためのものである。
18Aからの直流電流をプラズマトーチ1の電極間に流
すためのアークトリガ用のものである。高周波電源18
Bによって、高電圧を電極間に重畳させ一旦電極間を絶
縁破壊させる。電極間が絶縁破壊すれば導電性になるの
で直流電源18Aの電圧が低くても数十ボルト、数千ア
ンペアの大電流が電極間に流れ、高温のプラズマが発生
する。ガスボンベ9には、作動ガス10が充填されてい
る。また、ガスボンベ8にはキャリアガス6、例えばア
ルゴンガスが充填されている。キャリアガス6は、その
風圧で原料粉末5を粉末供給口14Aへ送り、プラズマ
ジェット4中に投入させるためのものである。
【0006】図3において、プラズマトーチ1にギャッ
プ長Gを介して固体素地2が対向して配されている。プ
ラズマジェット4はギャップ長Gを進むとともに半径方
向にも広がりを見せ、固体素地2の表面に直径Dの範囲
の円形皮膜17を形成する。原料粉末5として溶融温度
が2300°KのアルミナAl2 O3 粉末を用いた場合、
数千アンペアの直流電流によって数万°Kプラズマジェ
ット4を発生させ、アルミナ粉末を溶射させる。例え
ば、ギャツプ長Gを10cmとしておけば、固体素地2の
表面に直径D10cm位の円形のセラミック皮膜17を形
成することができる。この皮膜17を形成した後に、エ
ッジング加工によって皮膜17の周囲形状を希望の形に
仕上げる。
プ長Gを介して固体素地2が対向して配されている。プ
ラズマジェット4はギャップ長Gを進むとともに半径方
向にも広がりを見せ、固体素地2の表面に直径Dの範囲
の円形皮膜17を形成する。原料粉末5として溶融温度
が2300°KのアルミナAl2 O3 粉末を用いた場合、
数千アンペアの直流電流によって数万°Kプラズマジェ
ット4を発生させ、アルミナ粉末を溶射させる。例え
ば、ギャツプ長Gを10cmとしておけば、固体素地2の
表面に直径D10cm位の円形のセラミック皮膜17を形
成することができる。この皮膜17を形成した後に、エ
ッジング加工によって皮膜17の周囲形状を希望の形に
仕上げる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような従来の装置は、陽電極がプラズマジェットの熱
によって損傷されるという問題があった。陽電極は、通
電と陰電極を囲む容器とを兼ねているので、導電性およ
び加工性の両者から一般に銅CU が用いられている。し
かし銅は融点が1358°Kと低いので、数万度のプラ
ズマジェットが吹き付けられる度に陽電極のノズル部内
壁面がその熱によって損傷を受けていた。何回もプラズ
マ溶射が行われると、ノズル部が変形し陽電極全体を交
換する必要が生じていた。陽電極全体を融点の高い耐ア
ーク性の材料で形成することも考えられるが、この材料
が高価である上に必ずしも加工性がよいとは限らず実用
的ではなかった。
たような従来の装置は、陽電極がプラズマジェットの熱
によって損傷されるという問題があった。陽電極は、通
電と陰電極を囲む容器とを兼ねているので、導電性およ
び加工性の両者から一般に銅CU が用いられている。し
かし銅は融点が1358°Kと低いので、数万度のプラ
ズマジェットが吹き付けられる度に陽電極のノズル部内
壁面がその熱によって損傷を受けていた。何回もプラズ
マ溶射が行われると、ノズル部が変形し陽電極全体を交
換する必要が生じていた。陽電極全体を融点の高い耐ア
ーク性の材料で形成することも考えられるが、この材料
が高価である上に必ずしも加工性がよいとは限らず実用
的ではなかった。
【0008】この発明の目的は、陽電極がプラズマ溶射
によって損傷を受けないようにすることにある。
によって損傷を受けないようにすることにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明によれば、プラズマを発生させるための
電極対と、この電極対に並列接続される電源と、プラズ
マに作動ガスを吹き付けプラズマジェットを形成させる
ガス吹付け部と、プラズマジェットに原料粉末を投入す
る粉末投入部と、プラズマ熱によって溶融した原料粉末
をプラズマジェットとともに射出させるノズル部とによ
り構成されたものにおいて、ノズル部の内壁面に耐アー
ク性材料よりなる被いが、設けられたことを特徴とする
ものとし、かかる構成において被いがノズル部と着脱可
能であるものとする。また、上記構成において被いが導
電性を備えたスリーブよりなり、ノズル部に嵌合されて
なるものとする、又は、被いが絶縁性のスリーブと、こ
のスリーブのプラズマ点弧側の端部に設けられた導電性
のリングとによりなり、ノズル部に嵌合されてなるもの
とする。
めに、この発明によれば、プラズマを発生させるための
電極対と、この電極対に並列接続される電源と、プラズ
マに作動ガスを吹き付けプラズマジェットを形成させる
ガス吹付け部と、プラズマジェットに原料粉末を投入す
る粉末投入部と、プラズマ熱によって溶融した原料粉末
をプラズマジェットとともに射出させるノズル部とによ
り構成されたものにおいて、ノズル部の内壁面に耐アー
ク性材料よりなる被いが、設けられたことを特徴とする
ものとし、かかる構成において被いがノズル部と着脱可
能であるものとする。また、上記構成において被いが導
電性を備えたスリーブよりなり、ノズル部に嵌合されて
なるものとする、又は、被いが絶縁性のスリーブと、こ
のスリーブのプラズマ点弧側の端部に設けられた導電性
のリングとによりなり、ノズル部に嵌合されてなるもの
とする。
【0010】
【作用】ノズル部の内壁面に耐アーク性材料よりなる被
いを設けることより、プラズマジェットが通過しても耐
アーク性材料が保護するので陽電極は全く損傷を受けな
い。耐アーク性材料はノズル部だけに限られるので、材
料価格や加工性の問題も解消される。
いを設けることより、プラズマジェットが通過しても耐
アーク性材料が保護するので陽電極は全く損傷を受けな
い。耐アーク性材料はノズル部だけに限られるので、材
料価格や加工性の問題も解消される。
【0011】かかる構成において、被いをノズル部に着
脱可能にしたことにより、被いがプラズマジェットの熱
によって例え損傷を受けても、被いを新しいものと交換
すればよいので、ノズル部の射出穴を常に一定の形状に
保つこときができる。また、被いを導電性のスリーブよ
り形成し、ノズル部に嵌合させたことにより、ノズル部
の内壁面を耐アーク性材料で被うことができる。
脱可能にしたことにより、被いがプラズマジェットの熱
によって例え損傷を受けても、被いを新しいものと交換
すればよいので、ノズル部の射出穴を常に一定の形状に
保つこときができる。また、被いを導電性のスリーブよ
り形成し、ノズル部に嵌合させたことにより、ノズル部
の内壁面を耐アーク性材料で被うことができる。
【0012】さらに、被いを絶縁性のスリーブと、プラ
ズマ点孤側の導電性のリングとにより構成し、ノズル部
に嵌合させたことにより、導電性のリングが陽電極側と
なってプラズマを形成させる。一方、絶縁性のスリーブ
を設けたことにより、被いの値段を安価することができ
る。
ズマ点孤側の導電性のリングとにより構成し、ノズル部
に嵌合させたことにより、導電性のリングが陽電極側と
なってプラズマを形成させる。一方、絶縁性のスリーブ
を設けたことにより、被いの値段を安価することができ
る。
【0013】
【実施例】以下この発明を実施例に基づいて説明する。
図1はこの発明の実施例にかかるプラズマ溶射装置の構
成を示す要部断面図である。耐アーク性材料よりなる導
電性のスリーブ30がプラズマトーチ1のノズル部24
に嵌合され、ボルト32を介して着脱可能に陽電極20
に取り付けられている。粉末供給口14Aは、スリーブ
30にも明けられている。その他は、図4の従来の構成
と同じである。同じ部分には同一参照符号を用いること
により詳細な説明は省略する。
図1はこの発明の実施例にかかるプラズマ溶射装置の構
成を示す要部断面図である。耐アーク性材料よりなる導
電性のスリーブ30がプラズマトーチ1のノズル部24
に嵌合され、ボルト32を介して着脱可能に陽電極20
に取り付けられている。粉末供給口14Aは、スリーブ
30にも明けられている。その他は、図4の従来の構成
と同じである。同じ部分には同一参照符号を用いること
により詳細な説明は省略する。
【0014】図1において、スリーブ30がノズル部2
4の被い役目をする。すなわち、陽電極20と陰電極2
2との間で最初に発生するプラズマアーク31の陽電極
20側の足はスリーブ30の左側内面上にあり、その後
に形成される。プラズマジェット4に対してもスリーブ
30によってノズル24が保護されている。スリーブ3
0を形成する導電性の耐アーク性材料としては、例え
ば、タングステンW(融点3660°K)、タンタルT
a(融点3250°K)、炭化チタンTiC(3400〜
3500°K)などがあり、銅よりはるかに高い融点を
有している。そのために、プラズマジェット4がスリー
ブ30に触れても、ほとんど損傷が生じない。例え、多
数回の溶射によってスリーブ30が損傷を受けたとして
も、スリーブ30を新しいものと交換すれば、常にノズ
ル部24の射出穴を一定の形に保つことができる。これ
によって、固体素地に形成させる皮膜の品質を常時最良
の状態に管理することができる。
4の被い役目をする。すなわち、陽電極20と陰電極2
2との間で最初に発生するプラズマアーク31の陽電極
20側の足はスリーブ30の左側内面上にあり、その後
に形成される。プラズマジェット4に対してもスリーブ
30によってノズル24が保護されている。スリーブ3
0を形成する導電性の耐アーク性材料としては、例え
ば、タングステンW(融点3660°K)、タンタルT
a(融点3250°K)、炭化チタンTiC(3400〜
3500°K)などがあり、銅よりはるかに高い融点を
有している。そのために、プラズマジェット4がスリー
ブ30に触れても、ほとんど損傷が生じない。例え、多
数回の溶射によってスリーブ30が損傷を受けたとして
も、スリーブ30を新しいものと交換すれば、常にノズ
ル部24の射出穴を一定の形に保つことができる。これ
によって、固体素地に形成させる皮膜の品質を常時最良
の状態に管理することができる。
【0015】図2は、この発明の異なる実施例にかかる
プラズマ溶射装置の構成を示す要部断面図である。絶縁
性のスリーブ33の左端部に導電性のリング35が接合
されている。この絶縁のスリーブ33と導電性のリング
35とは取付け金具34に接合され、ボルト32を介し
て陽電極20に固定されている。その他は図1の構成と
同じである。
プラズマ溶射装置の構成を示す要部断面図である。絶縁
性のスリーブ33の左端部に導電性のリング35が接合
されている。この絶縁のスリーブ33と導電性のリング
35とは取付け金具34に接合され、ボルト32を介し
て陽電極20に固定されている。その他は図1の構成と
同じである。
【0016】図2において、絶縁性のスリーブ33と導
電性のリング35は、いずれも耐アーク性の材料よりな
り、ノズル部24の被いの役目をする。すなわち、最初
に発生するプラズマアーク31の陽電極20側の足は、
導電性のリング34上にあり、その後に形成されるプラ
ズマジェット4に対しては絶縁性のスリーブ33がノズ
ル部24を保護している。絶縁性のスリーブ33の材料
としては、例えば、アルミナAl2 O3 (融点2300°
K)、ジルコニアZrO2 (融点2950°K)などがあ
り、銅よりはるかに高い融点を有している。なお、取付
け金具34は、プラズマジェット4に直接触れないので
耐アーク性材料でなくてもよい。絶縁性のスリーブ33
の材料は、図1における導電性の耐アーク性スリーブ材
料より一般に価格が一桁以上安価である。そのために、
図2は、ノズル部24の被いとして非常にコストの低減
された構成である。
電性のリング35は、いずれも耐アーク性の材料よりな
り、ノズル部24の被いの役目をする。すなわち、最初
に発生するプラズマアーク31の陽電極20側の足は、
導電性のリング34上にあり、その後に形成されるプラ
ズマジェット4に対しては絶縁性のスリーブ33がノズ
ル部24を保護している。絶縁性のスリーブ33の材料
としては、例えば、アルミナAl2 O3 (融点2300°
K)、ジルコニアZrO2 (融点2950°K)などがあ
り、銅よりはるかに高い融点を有している。なお、取付
け金具34は、プラズマジェット4に直接触れないので
耐アーク性材料でなくてもよい。絶縁性のスリーブ33
の材料は、図1における導電性の耐アーク性スリーブ材
料より一般に価格が一桁以上安価である。そのために、
図2は、ノズル部24の被いとして非常にコストの低減
された構成である。
【0017】
【発明の効果】ノズル部の内壁面の耐アーク性材料より
なる被いを、例えばスリーブ状に設けたことにより、陽
電極の損傷を受けることが全くなくなり、プラズマ溶射
の設備費が大幅に低減された。かかる構成において、被
いをノズル部に着脱可能にしたことにより、ノズル部の
射出穴を常に一定に保つことができ、固体素地に形成さ
せる皮膜の品質を常時最良の状態に管理することができ
る。
なる被いを、例えばスリーブ状に設けたことにより、陽
電極の損傷を受けることが全くなくなり、プラズマ溶射
の設備費が大幅に低減された。かかる構成において、被
いをノズル部に着脱可能にしたことにより、ノズル部の
射出穴を常に一定に保つことができ、固体素地に形成さ
せる皮膜の品質を常時最良の状態に管理することができ
る。
【0018】かかる構成において、被いの一部を絶縁性
のスリーブにしたことにより、被いの価格が安価になり
プラズマ溶射の設備費がさらに低減された。
のスリーブにしたことにより、被いの価格が安価になり
プラズマ溶射の設備費がさらに低減された。
【図1】この発明の実施例にかかるプラズマ溶射装置の
構成を示す要部断面図
構成を示す要部断面図
【図2】この発明の異なる実施例にかかるプラズマ溶射
装置の構成を示す要部断面図
装置の構成を示す要部断面図
【図3】従来のプラズマ溶射装置の構成を示す系統図
【図4】図3のプラズマトーチの構成を示す断面図
1:プラズマトーチ、4:プラズマジェット、20:陽
電極、22:陰電極、24:ノズル部、14:粉末供給
口、32:ボルト、31:プラズマアーク、30:導電
性のスリーブ、33:絶縁性のスリーブ、34:取付け
金具、35:導電性のリング、
電極、22:陰電極、24:ノズル部、14:粉末供給
口、32:ボルト、31:プラズマアーク、30:導電
性のスリーブ、33:絶縁性のスリーブ、34:取付け
金具、35:導電性のリング、
Claims (4)
- 【請求項1】プラズマを発生させるための電極対と、こ
の電極対に並列接続される電源と、プラズマに作動ガス
を吹き付けプラズマジェットを形成させるガス吹付け部
と、プラズマジェットに原料粉末を投入する粉末投入部
と、プラズマ熱によって溶融した原料粉末をプラズマジ
ェットとともに射出させるノズル部とにより構成された
ものにおいて、ノズル部の内壁面に耐アーク性材料より
なる被いが、設けられたことを特徴とするプラズマ溶射
装置。 - 【請求項2】請求項1記載のものにおいて、被いがノズ
ル部と着脱可能であることを特徴とするプラズマ溶射装
置。 - 【請求項3】請求項1又は2記載のものにおいて、被い
が導電性を備えたスリーブよりなり、ノズル部に嵌合さ
れてなることを特徴とするプラズマ溶射装置。 - 【請求項4】請求項1又は2記載のものにおいて、被い
が絶縁性のスリーブと、このスリーブのプラズマ点弧側
の端部に設けられた導電性のリングとによりなり、ノズ
ル部に嵌合されてなることを特徴とするプラズマ溶射装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5185829A JPH0741931A (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | プラズマ溶射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5185829A JPH0741931A (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | プラズマ溶射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0741931A true JPH0741931A (ja) | 1995-02-10 |
Family
ID=16177607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5185829A Pending JPH0741931A (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | プラズマ溶射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0741931A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101340439B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2013-12-11 | 지에스플라텍 주식회사 | 플라즈마 용융로의 플라즈마 토치 결합부 구조, 이를 포함하는 플라즈마 용융로, 및 플라즈마 용융로의 보수 방법 |
JP2016068058A (ja) * | 2014-10-01 | 2016-05-09 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 微粒子生成装置 |
-
1993
- 1993-07-28 JP JP5185829A patent/JPH0741931A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101340439B1 (ko) * | 2013-10-02 | 2013-12-11 | 지에스플라텍 주식회사 | 플라즈마 용융로의 플라즈마 토치 결합부 구조, 이를 포함하는 플라즈마 용융로, 및 플라즈마 용융로의 보수 방법 |
JP2016068058A (ja) * | 2014-10-01 | 2016-05-09 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 微粒子生成装置 |
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