JPH07316296A - 含硫黄ポリマー粒子の製造方法 - Google Patents
含硫黄ポリマー粒子の製造方法Info
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- JPH07316296A JPH07316296A JP6110916A JP11091694A JPH07316296A JP H07316296 A JPH07316296 A JP H07316296A JP 6110916 A JP6110916 A JP 6110916A JP 11091694 A JP11091694 A JP 11091694A JP H07316296 A JPH07316296 A JP H07316296A
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- sulfur
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- mol
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 再帰反射性を有した道路区画線、導光板等の
用途に好適に利用できる高屈折率の含硫黄ポリマー粒子
の製造方法を提供する。 【構成】 下記一般式（Ｉ）で表されるジチオール化合
物４５〜５５モル％、及び、１分子当たり少なくとも２
個の反応性不飽和基を有する化合物５５〜４５モル％
を、これら自体は溶解しかつこれらを重合させて得られ
る重合体は溶解しない溶媒中で、高分子分散剤を添加し
て反応させることを特徴とする含硫黄ポリマー粒子の製
造方法。 式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、同一若しくは異なって、水素、炭
素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル
基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を表す。ｎは１
〜３の整数を表す。
用途に好適に利用できる高屈折率の含硫黄ポリマー粒子
の製造方法を提供する。 【構成】 下記一般式（Ｉ）で表されるジチオール化合
物４５〜５５モル％、及び、１分子当たり少なくとも２
個の反応性不飽和基を有する化合物５５〜４５モル％
を、これら自体は溶解しかつこれらを重合させて得られ
る重合体は溶解しない溶媒中で、高分子分散剤を添加し
て反応させることを特徴とする含硫黄ポリマー粒子の製
造方法。 式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、同一若しくは異なって、水素、炭
素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル
基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を表す。ｎは１
〜３の整数を表す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光コネクター用マイク
ロレンズ、光スイッチ、光ファイバー、光回路における
光分岐、接合回路、光多重分岐回路、光度調器、発光ダ
イオード用集光レンズ、再帰反射性を有した道路区画
線、導光板等の用途に好適に利用できる高屈折率の含硫
黄ポリマー粒子の製造方法に関する。
ロレンズ、光スイッチ、光ファイバー、光回路における
光分岐、接合回路、光多重分岐回路、光度調器、発光ダ
イオード用集光レンズ、再帰反射性を有した道路区画
線、導光板等の用途に好適に利用できる高屈折率の含硫
黄ポリマー粒子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック光学材料は、無機ガラスに
比べ軽量で割れにくく、成形性にも優れることから、近
年は眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学素子として急速
に普及してきている。
比べ軽量で割れにくく、成形性にも優れることから、近
年は眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学素子として急速
に普及してきている。
【０００３】上記プラスチック光学材料として、現在広
く用いられているものとしては、例えば、ポリメタクリ
ル酸メチル、ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート等の樹脂が挙げられる。これらは、軽量で耐衝撃性
に優れ、染色も容易で、切削、研磨等の加工性も良好で
ある等の優れた性質を有しているが、屈折率（ｎ）が無
機ガラスの１．５２に比べて１．５０と低いため、例え
ば、ガラスレンズと同等の光学物性を得るには、レンズ
の中心厚、コバ厚及び曲率等を大きくする必要があり、
このため全体に肉厚になることを避けられないという欠
点を有していた。
く用いられているものとしては、例えば、ポリメタクリ
ル酸メチル、ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート等の樹脂が挙げられる。これらは、軽量で耐衝撃性
に優れ、染色も容易で、切削、研磨等の加工性も良好で
ある等の優れた性質を有しているが、屈折率（ｎ）が無
機ガラスの１．５２に比べて１．５０と低いため、例え
ば、ガラスレンズと同等の光学物性を得るには、レンズ
の中心厚、コバ厚及び曲率等を大きくする必要があり、
このため全体に肉厚になることを避けられないという欠
点を有していた。
【０００４】また、高屈折率を有する透明粒子（ビー
ズ）は、例えば、液晶表示パネルの輝度を向上させる導
光板（特開平４−２９２８９号公報）や再帰反射性を有
した道路区画線（特公昭５１−６６９３号公報）といっ
た分野で望まれている。従来、このような高屈折率の透
明ビーズとしては、鉛、チタニウム、バリウム等を成分
として配合して作られるガラスビーズが使用されてお
り、その製造原価は非常に高く、安価な高屈折率の有機
高分子からなる透明ビーズに対する要望は強いものであ
った。
ズ）は、例えば、液晶表示パネルの輝度を向上させる導
光板（特開平４−２９２８９号公報）や再帰反射性を有
した道路区画線（特公昭５１−６６９３号公報）といっ
た分野で望まれている。従来、このような高屈折率の透
明ビーズとしては、鉛、チタニウム、バリウム等を成分
として配合して作られるガラスビーズが使用されてお
り、その製造原価は非常に高く、安価な高屈折率の有機
高分子からなる透明ビーズに対する要望は強いものであ
った。
【０００５】重合体の主鎖構造に硫黄原子や芳香族環を
導入することにより、高屈折率の重合体が得られること
は、特開昭６３−２７７２４４号公報、特開平２−５８
００１号公報等に開示されている。特開昭６３−２７７
２４４号公報では、ジビニル化合物と芳香族ジチオール
化合物を反応させて、また、特開平２−５８００１号公
報では、ジチオール化合物と多価アクリル化合物等の１
分子当たり少なくとも２個の反応性不飽和基を有する化
合物を反応させて、高屈折率の重合体を得ている。
導入することにより、高屈折率の重合体が得られること
は、特開昭６３−２７７２４４号公報、特開平２−５８
００１号公報等に開示されている。特開昭６３−２７７
２４４号公報では、ジビニル化合物と芳香族ジチオール
化合物を反応させて、また、特開平２−５８００１号公
報では、ジチオール化合物と多価アクリル化合物等の１
分子当たり少なくとも２個の反応性不飽和基を有する化
合物を反応させて、高屈折率の重合体を得ている。
【０００６】上記の重合反応に使用されるジチオール化
合物の大部分、また、一部のジビニル化合物は室温で固
体であるため、上記重合反応は、溶液重合又は液状成分
を過剰とした系での塊状重合しか行われていなかった。
このため、高屈折率重合体を構成する単量体を、懸濁重
合法等により反応させて、高屈折率の重合体粒子を得る
方法は知られていなかった。
合物の大部分、また、一部のジビニル化合物は室温で固
体であるため、上記重合反応は、溶液重合又は液状成分
を過剰とした系での塊状重合しか行われていなかった。
このため、高屈折率重合体を構成する単量体を、懸濁重
合法等により反応させて、高屈折率の重合体粒子を得る
方法は知られていなかった。
【０００７】また、特開昭６１−１９６０２号公報に
は、単量体は溶解するが、その重合体は溶解しないよう
な溶媒を重合液として使用し、生成する重合体を微粒子
の形で析出させる分散重合法が開示されている。この系
で得られているのは、ビニル系重合体粒子であり、この
方法は、高屈折率の重合体粒子を得ることを目的とした
ものではなかった。
は、単量体は溶解するが、その重合体は溶解しないよう
な溶媒を重合液として使用し、生成する重合体を微粒子
の形で析出させる分散重合法が開示されている。この系
で得られているのは、ビニル系重合体粒子であり、この
方法は、高屈折率の重合体粒子を得ることを目的とした
ものではなかった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に鑑
み、高屈折率の含硫黄ポリマーからなる粒子の製造方法
を提供することを目的とする。
み、高屈折率の含硫黄ポリマーからなる粒子の製造方法
を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、下記一
般式（Ｉ）で表されるジチオール化合物４５〜５５モル
％、及び、１分子当たり少なくとも２個の反応性不飽和
基を有する化合物５５〜４５モル％を、これら自体は溶
解しかつこれらを重合させて得られる重合体は溶解しな
い溶媒中で、高分子分散剤を添加して反応させ、含硫黄
ポリマー粒子を製造するところに存する。
般式（Ｉ）で表されるジチオール化合物４５〜５５モル
％、及び、１分子当たり少なくとも２個の反応性不飽和
基を有する化合物５５〜４５モル％を、これら自体は溶
解しかつこれらを重合させて得られる重合体は溶解しな
い溶媒中で、高分子分散剤を添加して反応させ、含硫黄
ポリマー粒子を製造するところに存する。
【００１０】
【化２】
【００１１】式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、同一若しくは異なっ
て、水素、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３の
アルコキシル基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を
表す。ｎは１〜３の整数を表す。
て、水素、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３の
アルコキシル基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を
表す。ｎは１〜３の整数を表す。
【００１２】上記一般式（Ｉ）で表わされるジチオール
化合物としては特に限定されず、例えば、１，４−ベン
ゼンジチオール、１，３−ベンゼンジチオール、１，２
−ベンゼンジチオール、２−メチル−１，４−ベンゼン
ジチオール、２−エチル−１，４−ベンゼンジチオー
ル、２−メトキシ−１，４−ベンゼンジチオール、２−
クロロ−１，４−ベンゼンジチオール、ジメルカプトジ
フェニルスルフィド、ビス−（４−メルカプト−３−メ
チルフェニル）スルフィド、ビス−（４−メルカプト−
３−メトキシフェニル）スルフィド、ビス−（４−メル
カプト−３−クロロフェニル）スルフィド、３，４′−
ジメルカプトジフェニルスルフィド、１，４−ビス−
（４−メルカプトフェニルチオ）ベンゼン等が挙げら
れ、これらの１種又は２種以上が使用される。
化合物としては特に限定されず、例えば、１，４−ベン
ゼンジチオール、１，３−ベンゼンジチオール、１，２
−ベンゼンジチオール、２−メチル−１，４−ベンゼン
ジチオール、２−エチル−１，４−ベンゼンジチオー
ル、２−メトキシ−１，４−ベンゼンジチオール、２−
クロロ−１，４−ベンゼンジチオール、ジメルカプトジ
フェニルスルフィド、ビス−（４−メルカプト−３−メ
チルフェニル）スルフィド、ビス−（４−メルカプト−
３−メトキシフェニル）スルフィド、ビス−（４−メル
カプト−３−クロロフェニル）スルフィド、３，４′−
ジメルカプトジフェニルスルフィド、１，４−ビス−
（４−メルカプトフェニルチオ）ベンゼン等が挙げら
れ、これらの１種又は２種以上が使用される。
【００１３】上記ジチオール化合物の配合量は、全モノ
マー中の４５〜５５モル％である。４５モル％未満では
高屈折率の重合体が得られず、５５モル％を超えると重
合体の重合度が上がらず重合過程で重合体粒子（ビー
ズ）を得ることができないため、上記範囲に限定され
る。
マー中の４５〜５５モル％である。４５モル％未満では
高屈折率の重合体が得られず、５５モル％を超えると重
合体の重合度が上がらず重合過程で重合体粒子（ビー
ズ）を得ることができないため、上記範囲に限定され
る。
【００１４】本発明で使用される１分子当たり少なくと
も２個の反応性不飽和基を有する化合物としては、例え
ば、ジアリルフタレート、ジアリルサクシネート、ジア
リルアジペート、ジグリコールビスアリルカーボネー
ト、ジアリルマレエート、ジアリルフマレート等のアリ
ル基含有化合物；ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡポリエトキシジ（メタ）アクリレ
ート、ビスフェノールＡテトラブロモジ（メタ）アクリ
レート、ビスフェノールＡポリエトキシテトラブロモジ
（メタ）アクリレート、９，９−ビス（４−（メタ）ア
クリロイルオキシフェニル）フルオレン、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロイルチオフェニル）スルフィド
等の（メタ）アクリレート化合物；ジアリリデンペンタ
エリスリット、ジアリリデンペンタエリスリトール、ジ
アリリデンテトラメチロールシクロヘキサノン等のアリ
リデン化合物；ｏ−ジビニルベンゼン、ｍ−ジビニルベ
ンゼン、ｐ−ジビニルベンゼン等のビニル化合物等が挙
げられ、これらの１種又は２種以上が使用される。
も２個の反応性不飽和基を有する化合物としては、例え
ば、ジアリルフタレート、ジアリルサクシネート、ジア
リルアジペート、ジグリコールビスアリルカーボネー
ト、ジアリルマレエート、ジアリルフマレート等のアリ
ル基含有化合物；ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡポリエトキシジ（メタ）アクリレ
ート、ビスフェノールＡテトラブロモジ（メタ）アクリ
レート、ビスフェノールＡポリエトキシテトラブロモジ
（メタ）アクリレート、９，９−ビス（４−（メタ）ア
クリロイルオキシフェニル）フルオレン、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロイルチオフェニル）スルフィド
等の（メタ）アクリレート化合物；ジアリリデンペンタ
エリスリット、ジアリリデンペンタエリスリトール、ジ
アリリデンテトラメチロールシクロヘキサノン等のアリ
リデン化合物；ｏ−ジビニルベンゼン、ｍ−ジビニルベ
ンゼン、ｐ−ジビニルベンゼン等のビニル化合物等が挙
げられ、これらの１種又は２種以上が使用される。
【００１５】本発明の重合反応に使用される溶媒は、上
記単量体は溶解するが、生成する重合体は溶解しない溶
媒が使用される。上記溶媒としては、例えば、メチルア
ルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等の
アルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテ
ルアルコール類；エチルエーテル、トリオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；酢
酸メチル、酢酸エチル等の有機酸エステル；アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類；水等が挙げられ、こ
れらの１種又は２種以上が使用される。
記単量体は溶解するが、生成する重合体は溶解しない溶
媒が使用される。上記溶媒としては、例えば、メチルア
ルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等の
アルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテ
ルアルコール類；エチルエーテル、トリオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；酢
酸メチル、酢酸エチル等の有機酸エステル；アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類；水等が挙げられ、こ
れらの１種又は２種以上が使用される。
【００１６】本発明においては、上記溶媒に高分子分散
剤を添加した後、上記単量体を添加して重合させる。上
記高分子分散剤としては、例えば、（メタ）アクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、フマール酸、マレイン
酸、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸−β−ヒドロ
キシエチル、（メタ）アクリル酸−β−ヒドロキシプロ
ピル、（メタ）アクリル酸−γ−ヒドロキシエチル、ジ
エチレングリコールモノ（メタ）アクリル酸エステル、
グリセリンモノ（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ−メチ
ロール（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル、酪酸ビニル、（メタ）アクリルアミド、ビ
ニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾー
ル、エチレンイミン等の（共）重合体；ポリオキシエチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシエチレンアル
キルアミド、セルロース類、ポリビニルアルコール等の
親水性ポリマー及びこれら親水性ポリマーとスチレン、
α−メチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル等との
共重合体、ブロックポリマー、グラフトポリマー等が挙
げられる。上記高分子分散剤は、重合体粒子表面への親
和性及び吸着性が高く、溶媒への溶解性の高いものが選
択される。
剤を添加した後、上記単量体を添加して重合させる。上
記高分子分散剤としては、例えば、（メタ）アクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、フマール酸、マレイン
酸、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸−β−ヒドロ
キシエチル、（メタ）アクリル酸−β−ヒドロキシプロ
ピル、（メタ）アクリル酸−γ−ヒドロキシエチル、ジ
エチレングリコールモノ（メタ）アクリル酸エステル、
グリセリンモノ（メタ）アクリル酸エステル、Ｎ−メチ
ロール（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル、酪酸ビニル、（メタ）アクリルアミド、ビ
ニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾー
ル、エチレンイミン等の（共）重合体；ポリオキシエチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシエチレンアル
キルアミド、セルロース類、ポリビニルアルコール等の
親水性ポリマー及びこれら親水性ポリマーとスチレン、
α−メチルスチレン、（メタ）アクリロニトリル等との
共重合体、ブロックポリマー、グラフトポリマー等が挙
げられる。上記高分子分散剤は、重合体粒子表面への親
和性及び吸着性が高く、溶媒への溶解性の高いものが選
択される。
【００１７】上記高分子分散剤の分子量は、分散効果や
重合系の粘度を適切にする観点から、１００００〜３０
００００が好ましい。また、上記高分子分散剤の添加量
は、全モノマー１００重量部に対して、０．５〜２５重
量部が好ましく、２〜１５重量部がより好ましい。
重合系の粘度を適切にする観点から、１００００〜３０
００００が好ましい。また、上記高分子分散剤の添加量
は、全モノマー１００重量部に対して、０．５〜２５重
量部が好ましく、２〜１５重量部がより好ましい。
【００１８】本発明の含硫黄ポリマー粒子は、上記高分
子分散剤を含む溶媒に、上記一般式（Ｉ）で表されるジ
チオール化合物及び１分子当たり少なくとも２個の反応
性不飽和基を有する化合物を添加して重合させることに
より得られる。
子分散剤を含む溶媒に、上記一般式（Ｉ）で表されるジ
チオール化合物及び１分子当たり少なくとも２個の反応
性不飽和基を有する化合物を添加して重合させることに
より得られる。
【００１９】上記重合反応における重合開始剤は、使用
する溶媒に可溶であれば特に限定されず、例えば、過酸
化ベンゾイル、過酸化−ｔ−ブチル、ラウロイルパーオ
キサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、
２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシク
ロヘキサンカルボニル、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド
等が挙げられる。上記重合開始剤の添加量は、上記１分
子当たり少なくとも２個の反応性不飽和基を有する化合
物の添加量に対し、０．１〜１０モル％が好ましく、
０．５〜５モル％がより好ましい。また、重合開始剤を
使用する代わりに、紫外線等の活性エネルギー線の照射
により重合を開始することもできる。
する溶媒に可溶であれば特に限定されず、例えば、過酸
化ベンゾイル、過酸化−ｔ−ブチル、ラウロイルパーオ
キサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、
２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシク
ロヘキサンカルボニル、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド
等が挙げられる。上記重合開始剤の添加量は、上記１分
子当たり少なくとも２個の反応性不飽和基を有する化合
物の添加量に対し、０．１〜１０モル％が好ましく、
０．５〜５モル％がより好ましい。また、重合開始剤を
使用する代わりに、紫外線等の活性エネルギー線の照射
により重合を開始することもできる。
【００２０】上記の重合反応終了後は、遠心分離、デカ
ンテーション等の操作により、重合体スラリーを回収
し、洗浄、乾燥することにより本発明の含硫黄ポリマー
粒子を得ることができる。
ンテーション等の操作により、重合体スラリーを回収
し、洗浄、乾燥することにより本発明の含硫黄ポリマー
粒子を得ることができる。
【００２１】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものでは
ない。
説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものでは
ない。
【００２２】実施例１含硫黄ポリマー粒子の合成 ５００ｍｌナスフラスコに、溶媒としてテトラヒドロフ
ラン１８０ｍｌとメタノール１２０ｍｌを入れ、さらに
高分子分散剤としてポリビニルピロリドン（重量平均分
子量４万）を６ｇ仕込んだ。次いで減圧蒸留により精製
したｐ−ジビニルベンゼン１９．５ｇ（０．１５モ
ル）、ジメルカプトジフェニルスルフィド３７．５ｇ
（０．１５モル）及び重合開始剤として４，４′−アゾ
ビスイソブチロニトリル０．４５ｇをフラスコに加え
た。攪拌しながら窒素ガスをパージし、少量流しながら
１時間放置した。この後６０℃の恒温水槽中で攪拌しな
がら、１０時間重合を行った。得られた分散液を冷却
し、遠心分離機にて重合体粒子を回収した。この粒子を
メタノールにて充分洗浄し、減圧乾燥させた。収率は８
０％であった。
ラン１８０ｍｌとメタノール１２０ｍｌを入れ、さらに
高分子分散剤としてポリビニルピロリドン（重量平均分
子量４万）を６ｇ仕込んだ。次いで減圧蒸留により精製
したｐ−ジビニルベンゼン１９．５ｇ（０．１５モ
ル）、ジメルカプトジフェニルスルフィド３７．５ｇ
（０．１５モル）及び重合開始剤として４，４′−アゾ
ビスイソブチロニトリル０．４５ｇをフラスコに加え
た。攪拌しながら窒素ガスをパージし、少量流しながら
１時間放置した。この後６０℃の恒温水槽中で攪拌しな
がら、１０時間重合を行った。得られた分散液を冷却
し、遠心分離機にて重合体粒子を回収した。この粒子を
メタノールにて充分洗浄し、減圧乾燥させた。収率は８
０％であった。
【００２３】屈折率の測定 得られた含硫黄ポリマー粒子をジクロロメタンに溶解
し、平滑な製膜板の上に流延させてキャストフィルムを
作製し、このフィルムをエリプソメーター（溝尻光学社
製、ＤＶＡ−３６ＶＷ型）にて屈折率を測定した。ま
た、得られた含硫黄ポリマー粒子の平均粒径をコールタ
ーカウンター（コールターエレクトロニクス社製、コー
ルターマルチサイズＩＩ）にて測定した。結果を表１に
示した。
し、平滑な製膜板の上に流延させてキャストフィルムを
作製し、このフィルムをエリプソメーター（溝尻光学社
製、ＤＶＡ−３６ＶＷ型）にて屈折率を測定した。ま
た、得られた含硫黄ポリマー粒子の平均粒径をコールタ
ーカウンター（コールターエレクトロニクス社製、コー
ルターマルチサイズＩＩ）にて測定した。結果を表１に
示した。
【００２４】実施例２〜５ モノマー組成及び配合量を表１のように変えたこと以外
は、実施例１と同様にして含硫黄ポリマー粒子を得た。
得られた含硫黄ポリマー粒子の屈折率を測定し、表１に
示した。
は、実施例１と同様にして含硫黄ポリマー粒子を得た。
得られた含硫黄ポリマー粒子の屈折率を測定し、表１に
示した。
【００２５】比較例１ ５００ｍｌナスフラスコに、溶媒としてメタノール３２
０ｍｌを入れ、さらに高分子分散剤としてポリビニルピ
ロリドン（重量平均分子量４万）を６ｇ仕込み完全に溶
解させた。次いでスチレン３２ｇ（０．２５モル）、
４，４′−アゾビスイソブチロニトリル０．２ｇを添加
した。攪拌しながら窒素ガスをパージし、少量流しなが
ら１時間放置した。この後６０℃の恒温水槽中で攪拌し
ながら、１５時間重合を行った。得られた分散液を冷却
し、遠心分離機にて重合体粒子を回収した。この重合体
粒子をメタノールにて充分洗浄し、減圧乾燥させた。収
率は９５％であった。上記重合体粒子の屈折率を実施例
１と同様にして測定し、表１に示した。
０ｍｌを入れ、さらに高分子分散剤としてポリビニルピ
ロリドン（重量平均分子量４万）を６ｇ仕込み完全に溶
解させた。次いでスチレン３２ｇ（０．２５モル）、
４，４′−アゾビスイソブチロニトリル０．２ｇを添加
した。攪拌しながら窒素ガスをパージし、少量流しなが
ら１時間放置した。この後６０℃の恒温水槽中で攪拌し
ながら、１５時間重合を行った。得られた分散液を冷却
し、遠心分離機にて重合体粒子を回収した。この重合体
粒子をメタノールにて充分洗浄し、減圧乾燥させた。収
率は９５％であった。上記重合体粒子の屈折率を実施例
１と同様にして測定し、表１に示した。
【００２６】比較例２ スチレンの代わりにメタクリル酸メチルを４５ｇ（０．
２５モル）使用したこと以外は、比較例１と同様にして
重合を行い、得られた重合体の屈折率を測定した。結果
を表１に示した。
２５モル）使用したこと以外は、比較例１と同様にして
重合を行い、得られた重合体の屈折率を測定した。結果
を表１に示した。
【００２７】比較例３ 表１のモノマー組成で仕込んだこと以外は、実施例１と
同様にして反応させた。回収したポリマーは、低分子量
体であり、粒子成長しておらず、キャストしてもフィル
ムにできなかった。
同様にして反応させた。回収したポリマーは、低分子量
体であり、粒子成長しておらず、キャストしてもフィル
ムにできなかった。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【発明の効果】本発明の構成は上述のとおりであり、再
帰反射性を有した道路区画線等に好適に使用することが
できる高屈折率の含硫黄ポリマー粒子を提供することが
できる。
帰反射性を有した道路区画線等に好適に使用することが
できる高屈折率の含硫黄ポリマー粒子を提供することが
できる。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表されるジチオール
化合物４５〜５５モル％、及び、１分子当たり少なくと
も２個の反応性不飽和基を有する化合物５５〜４５モル
％を、これら自体は溶解しかつこれらを重合させて得ら
れる重合体は溶解しない溶媒中で、高分子分散剤を添加
して反応させることを特徴とする含硫黄ポリマー粒子の
製造方法。 【化１】 式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、同一若しくは異なって、水素、炭
素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル
基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を表す。ｎは１
〜３の整数を表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11091694A JP3524150B2 (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | 含硫黄ポリマー粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11091694A JP3524150B2 (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | 含硫黄ポリマー粒子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07316296A true JPH07316296A (ja) | 1995-12-05 |
| JP3524150B2 JP3524150B2 (ja) | 2004-05-10 |
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ID=14547890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11091694A Expired - Fee Related JP3524150B2 (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | 含硫黄ポリマー粒子の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3524150B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011225644A (ja) * | 2010-04-15 | 2011-11-10 | Osaka Gas Chem Kk | 熱可塑性樹脂およびその製造方法 |
| JP2011236415A (ja) * | 2010-04-15 | 2011-11-24 | Osaka Gas Chem Kk | 熱可塑性樹脂およびその製造方法 |
| WO2014155807A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 反射粒子、粒子分散液、表示媒体、及び表示装置 |
-
1994
- 1994-05-25 JP JP11091694A patent/JP3524150B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2011225644A (ja) * | 2010-04-15 | 2011-11-10 | Osaka Gas Chem Kk | 熱可塑性樹脂およびその製造方法 |
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| WO2014155807A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 反射粒子、粒子分散液、表示媒体、及び表示装置 |
| JP2014189760A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Fujifilm Corp | 反射粒子、粒子分散液、表示媒体、及び表示装置 |
| US9822201B2 (en) | 2013-03-28 | 2017-11-21 | Fujifilm Corporation | Reflective particle, particle dispersion liquid, display medium, and display device |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3524150B2 (ja) | 2004-05-10 |
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