JPH0730251B2 - 耐光性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐光性の改善された高分子材料組成物に関
し、詳しくは、光安定剤の結合されたポリシロキサン化
合物を添加することによって、長期間に渡って耐光性の
改善された高分子材料組成物に関する。

〔従来の技術及びその問題点〕

ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ
塩化ビニル等の高分子材料は、光の作用により劣化し、
変色あるいは機械的強度の低下等を引き起こし、長期の
使用に耐えないことが知られている。

そこで、高分子材料の劣化を防止するために、従来から
種々の光安定剤が用いられている。これらの光安定剤と
しては、ヒンダードアミン系の光安定剤、ベンゾフェノ
ン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤が主と
して用いられているが、これらの光安定剤の多くは低分
子量の化合物であり、高分子材料の加工中あるいは高温
下での使用時に揮散したり、あるいは水、有機溶媒に抽
出され易い欠点を有しており、実用上不満足なものであ
った。

このため、光安定剤を高分子量化することも提案されて
おり、ある程度の改善が得られている。

例えば、特開昭52−141883号公報には、ポリアルキルピ
ペリジル基を有するグリコールのポリシリルエステル化
合物等の官能基を２個有する光安定剤から誘導される高
分子量の光安定剤が開示されている。しかしながら、該
公報記載の化合物は、２個の官能基を有するポリアルキ
ルピペリジン化合物から誘導されるものに限定され、他
の種類の高分子量の光安定剤は記載されていない。

また、高分子量の光安定剤として、光安定剤基を有する
ビニル化合物、例えば不飽和カルボン酸のエステル、ビ
ニルまたはアリルエーテル、アリルアミン化合物、スチ
レン系化合物等の重合体も提案されているが、これらの
不飽和化合物の重合体は分子量の調節が難しく、幅広い
分子量分布を有する混合物として得られ、低分子量の化
合物を必然的に含有するため、前記の低分子量の光安定
剤の欠点を完全に解消することは困難であった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、新規なタイプの高分子量の光安定剤を得
るために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（Ｉ）で表
される繰り返し単位を有するポリシロキサン化合物の水
素原子が活性であり、ビニルあるいはアリル化合物を容
易に付加することが可能であり、ビニルあるいはアリル
化合物として下記一般式（II）で表される光安定剤基を
有する化合物を用いることにより、下記一般式（III）
で表される繰り返し単位を有する高分子量の光安定剤を
容易に得ることができ、しかも該光安定剤は分子量の調
節が容易であり低分子量化合物を含有しないので、前記
の低分子量光安定剤には付随する欠点を解消できること
を知見した。

本発明は、上記知見に基づきなされたもので、高分子材
料100重量部に対して、下記一般式（Ｉ）で表される繰
り返し単位を５〜50有するポリシロキサン化合物と、下
記一般式（II）で表される化合物の少なくとも一種、ま
たは下記一般式（II）で表される化合物の少なくとも一
種及び他のα−オレフィン化合物の混合物との付加反応
生成物であって、分子中に下記一般式（III）で表され
る繰り返し単位を少なくとも一個有するポリシロキサン
化合物0.001〜５重量部を添加してなる、耐光性の改善
された高分子材料組成物を提供するものである。

〔上記各式中、R₁はアルキル基を示し、ｎは０または１
を示し、Ｘは次の一般式（IV）、（Ｖ）または（VI）の
何れかの基を示す。

（R₂は、水素原子、アルキル基またはアシル基を示し、
Ｙは酸素原子または−Ｎ（R₅）−を示し、R₅は水素原子
またはアルキル基を示す。R₃及びR₄は各々水素原子、ア
ルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｚは直接結合手ま
たは酸素原子を示す。）〕 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。

前記各式中、R₁、R₂、R₃、R₄及びR₅で表されるアルキル
基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチ
ル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等が
あげられ、R₂で表されるアシル基としては、例えば、ホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、ベンゾ
イル等があげられ、R₃及びR₄で表されるハロゲン原子と
しては、例えば、塩素原子、臭素原子、弗素原子があげ
られる。

前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有するポリ
シロキサン化合物は公知の化合物であり、各種の重合度
の化合物が市販されており、これをそのまま使用するこ
とができる。

また、前記一般式（IV）、（Ｖ）または（VI）の何れか
の基を有するビニルまたはアリル化合物である前記一般
式（II）で表される化合物は公知の化合物であり、その
代表例としては、例えば、2,2,6,6−テトラメチル−４
−アリロキシピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチル−
４−アリロキシピペリジン、2,2,6,6−テトラメチル−
ビニロキシピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４
−ビニロキシピペリジン、１−アセチル−2,2,6,6−テ
トラメチル−４−アリロキシピペリジン、2,2,6,6−テ
トラメチル−４−（Ｎ−ブチル−Ｎ−アリルアミノ）ピ
ペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−（Ｎ−メチ
ル−Ｎ−アリルアミノ）ピペリジン、２−ヒドロキシ−
４−ビニロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
アリロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−３
−アリル−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−５−ビニルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−
第三オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２
−ヒドロキシ−３−アリル−５−メチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
４−アリロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等があげ
られる。

また、必要に応じて、前記一般式（II）で表される化合
物と共に用いることのできる他のα−オレフィン化合物
としては、エチレン、プロピレン、ブテン、オクテン、
デセン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オク
タデセン、ビニルメチルエーテル、ビニルブチルエーテ
ル、アリルブチルエーテル、トリフルオロプロピレン等
があげられる。

本発明において安定剤として用いられる、前記一般式
（III）で表される繰り返し単位を有する化合物は、前
記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有するポリシ
ロキサン化合物と前記一般式（II）で表される化合物
（及び必要に応じて他のα−オレフィン化合物）とを、
塩化白金酸あるいはシロキサン系の触媒の存在下に、必
要に応じて、イソプロパノール、第二ブタノール、テト
ラヒドロフラン等の反応に不活性な溶媒中でまたは無溶
媒で反応させることにより容易に合成することができ
る。

反応は、室温〜約200℃の範囲で行い得るが、好ましく
は、約30℃〜約100℃で行われる。

次に、本発明で用いられる前記一般式（III）で表され
る繰り返し単位を有する化合物の具体的な合成例をあげ
るが、本発明は下記の合成例によって制限を受けるもの
ではない。

合成例−１ ポリメチルシロキサン/1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−
ビニロキシピペリジン付加物（安定剤No.1）の合成 重合度約30（分子量約1800）のポリメチルシロキサン
（ダウコーニング社製DC1107）1g及び1,2,2,6,6−ペン
タメチル−４−ビニロキシピペリジン3gを20mlのイソプ
ロパノールに溶解し、塩化白金酸50mgを加えた。50〜60
℃で１時間撹拌した後、イソプロパノールを留去した。
トルエンを加え、水洗、乾燥後活性炭で処理した。

分取型液体クロマトグラフィーで分取し、平均分子量45
00の淡灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、2850、1370、138
0、1020〜1160cm^-1に吸収が有り、また、生成物の窒素
含有率が4.2％であることから、Si−Ｈの約44％に1,2,
2,6,6−ペンタメチル−４−ビニロキシピペリジンが付
加した生成物（目的物）であることを確認した。

合成例−２ ポリメチルシロキサン/1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−
ビニロキシピペリジン付加物（安定剤No.2）の合成 重合度約30（分子量約1800）のポリメチルシロキサン1
2.8g、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ビニロキシピペ
リジン50g及びダウンコーニング社製シロキサン触媒150
mgをとり、60〜70℃で６時間撹拌した。

キシレンを加え、水洗、乾燥後１％の活性炭で処理し、
ろ過後脱溶媒して、平均分子量約7000の淡灰黄色粘稠液
体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、2850、1370、138
0、1020〜1160cm^-1に吸収が有り、また、生成物の窒素
含有率が5.3％であることから、Si−Ｈの約90％に1,2,
2,6,6−ペンタメチル−４−ビニロキシピペリジンが付
加した生成物（目的物）であることを確認した。

合成例−３ ポリメチルシロキサン/1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−
アリロキシピペリジン付加物（安定剤No.3）の合成 重合度約10（分子量約600）のポリメチルシロキサン32
g、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−アリロキシピペリジ
ン116g及びダウコーニング社製シロキサン触媒360mgを
とり、60〜70℃で６時間撹拌した。

キシレンを加え、水洗、乾燥後１％の活性炭で処理し、
ろ過後脱溶媒して、平均分子量約2600の淡灰黄色粘稠液
体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、2850、1370、138
0、1030〜1140cm^-1に吸収が有り、また、生成物の窒素
含有率が5.1％であることから、Si−Ｈの約90％に1,2,
2,6,6−ペンタメチル−４−アリロキシピペリジンが付
加した生成物（目的物）であることを確認した。

合成例−４ ポリメチルシロキサン/1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−
アリロキシピペリジン付加物（安定剤No.4）の合成 重合度約30（分子量約1800）のポリメチルシロキサン1g
及び1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−アリロキシピペリ
ジン3gを20mlのイソプロパノールに溶解し、塩化白金酸
50mgを加えた。50〜60℃で１時間撹拌した後、イソプロ
パノールを留去した。トルエンを加え、水洗、乾燥後活
性炭で処理した。

分取型液体クロマトグラフィーで分取し、分子量約4500
の淡灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、2850、1370、138
0、1030〜1140cm^-1に吸収が有り、また、生成物の窒素
含有率が4.0％であることから、Si−Ｈの約43％に1,2,
2,6,6−ペンタメチル−４−アリロキシピペリジンが付
加した生成物（目的物）であることを確認した。

合成例−５ ポリメチルシロキサン/1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−
アリロキシピペリジン／ドデセン共付加物（安定剤No.
5）の合成 重合度約30（分子量約1800）のポリメチルシロキサン1.
3g及び1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−アリロキシピペ
リジン1.3gを20mlのイソプロパノールに溶解し、塩化白
金酸50mgを加えた。60℃で15分間撹拌した後、この一部
をとり、合成例−３と同様に処理したところ、Si−Ｈの
約22％に1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ビニロキシピ
ペリジンが付加した反応物を得た。

赤外分光分析により2250cm^-1のSi−Ｈに基づく吸収が残
っていることを確認した後、この反応物に１−ドデセン
1gを加え、60℃で30分間撹拌した。イソプロパノールを
留去した後、トルエンで抽出した。水洗、乾燥後ナトリ
ウムボロハイドライドで処理し、再度水洗後脱溶媒する
ことによって分子量約3700の淡灰黄色粘稠液体の生成物
を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、2850、1370、138
0、1020〜1160cm^-1に吸収が有り、また、生成物の窒素
含有率が2.5％であることから、目的物であることを確
認した。

合成例−６ ポリメチルシロキサン/2,2,6,6−テトラメチル−４−
（Ｎ−ブチル−Ｎ−アリルアミノ）ピペリジン付加物
（安定剤No.6）の合成 重合度約18（分子量約1100）のポリメチルシロキサン1g
及び2,2,6,6−テトラメチル−４−（Ｎ−ブチル−Ｎ−
アリルアミノ）ピペリジン1gを15mlのイソプロパノール
に溶解し、塩化白金酸70mgを加えた。60〜80℃で５時間
撹拌し、イソプロパノールを留去した後、ベンゼンを加
えて水洗、乾燥後脱溶媒することによって分子量約3400
の淡灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、3300、1370〜138
0、1020〜1050cm^-1に吸収が有り、また、生成物の窒素
含有率が7.5％であることから、Si−Ｈの約51％に2,2,
6,6−テトラメチル−４−（Ｎ−ブチル−Ｎ−アリルア
ミノ）ピペリジンが付加した生成物（目的物）であるこ
とを確認した。

合成例−７ ポリメチルシロキサン/2−ヒドロキシ−４−アリロキシ
ベンゾフェノン付加物（安定剤No.7）の合成 重合度約18（分子量約1100）のポリメチルシロキサン0.
3g及び２−ヒドロキシ−４−アリロキシベンゾフェノン
0.3gを10mlのイソプロパノールに溶解し、塩化白金酸15
mgを加えた。40〜50℃で１時間撹拌し、イソプロパノー
ルを留去した後、ヘキサンを加えて水洗、乾燥後脱溶媒
することによって分子量約3500の淡灰黄色粘稠液体の生
成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、1640、1020〜1160
cm^-1に吸収が有り、Si−Ｈの約52％に２−ヒドロキシ−
４−アリロキシベンゾフェノンが付加した生成物（目的
物）であることを確認した。

合成例−８ ポリメチルシロキサン/2（２−ヒドロキシ−３−アリル
−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール付加物（安
定剤No.8）の合成 重合度約30（分子量約1800）のポリメチルシロキサン1g
及び２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−メチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール3gを20mlのイソプロパノー
ルに溶解し、塩化白金酸50mgを加えた。50〜60℃で１時
間撹拌し、イソプロパノールを留去した後、トルエンを
加えて水洗、乾燥後脱溶媒することによって分子量約30
00の淡灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、1540、750cm^-1に
吸収が有り、また、生成物の窒素含有率が6.3％である
ことから、Si−Ｈの約15％に２−（２−ヒドロキシ−３
−アリル−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールが
付加した生成物（目的物）であることを確認した。

本発明は、前記特定の光安定剤基を有するポリシロキサ
ン化合物を高分子材料用の安定剤として用いるものであ
り、その添加量は、高分子材料100重量部に対し通常0.0
01〜５重量部、好ましくは0.01〜３重量部である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフイン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニルデン、臭素化ポリ
エチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロ
ピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化
ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン
酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニト
リル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化
ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロ
ピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビ
ニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共
重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩
化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニ
ル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、
ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレ
ン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば
無水マレイン酸、Ｎ−フェニルマレイミド、ブタジエ
ン、アクリロニトリル等）との共重合体、アクリロニト
リル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル酸エス
テル−ブタジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレート等のメタクリレート樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、ポリ
アミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウレ
タン、繊維素系樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更に、
イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴ
ム等のゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であってもよ
い。また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた
架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発
泡させた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含され
る。

本発明の組成物には、前記一般式（III）で表される繰
り返し単位を有するポリシロキサン化合物と共に、他の
汎用の抗酸化剤、安定剤等の添加剤を併用することもで
きる。

これらの他の添加剤として特に好ましいものとしては、
フェノール系，硫黄系，ホスファイト系等の抗酸化剤、
他の光安定剤があげられる。

上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、2,6−ジ
−第３ブチル−ｐ−クレゾール、2,6−ジフェニル−４
−オクトキシフェノール、ステアリル−（3,5−ジ−メ
チル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコレート、ス
テアリル−β−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第３ブチ
ルフェニル）プロピオネート、ジステアリル−3,5−ジ
−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
2,4,6−トリス（３′,5′−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルチオ）1,3,5−トリアジン、ジステアリ
ル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３ブチル）ベ
ンジルマロネート、2,2′−メチレンビス（４−メチル
−６−第３ブチルフェノール）、4,4′−メチレンビス
（2,6−ジ−第３ブチルフェノール）、2,2′−メチレン
ビス〔６−（１−メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾー
ル〕、ビス〔3,5−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブ
チルフェニル）ブチリックアシド〕グリコールエステ
ル、4,4′−ブチリデンビス（６−第３ブチル−ｍ−ク
レゾール）、2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第３ブ
チルフェノール）、2,2′−エチリデンビス（４−第２
ブチル−６−第３ブチルフェノール）、1,1,3−トリス
（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフェニ
ル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６−
（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチルベンジ
ル）フェニル〕テレフタレート、1,3,5−トリス（2,6−
ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第３ブチル）ベンジル
イソシアヌレート、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6−トリメチルベ
ンゼン、テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メ
タン、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート、1,3,5−トリス
〔（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、２−ア
クチルチオ−4,6−ジ（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第３
ブチル）フェノキシ−1,3,5−トリアジン、4,4′−チオ
ビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）、2,2′−メ
チレンビス（６−第３ブチル−４−メチルフェノール）
モノアクリレート、トリエチレングリコールビス〔３−
（３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピオネート〕、3,9−ビス（1,1−ジメチル−２
−ヒドロキシエチル）2,4,8,10−テトラオキサスピロ
〔5,5〕ウンデカンビス〔３−（３−第３ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕等
があげられる。

また、上記硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリ
ル−，ジミリスチル−，ジステアリル−等のジアルキル
チオジプロピオネート及びブチル−，オクチル−，ラウ
リル−，ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の
多価アルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエス
テル（例えばペンタエリスリトールテトララウリルチオ
プロピオネート）があげられる。

また、上記ホスファイト系抗酸化剤としては、例えば、
トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスワァイ
ト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホ
スファイト、トリス（2,4−ジ−第３ブチルフェニル）
ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブ
トキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトール
ジホスファイト、テトラ（トリデシル）−1,1,3−トリ
ス（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）ブタンジホスファイト、テトラ（C₁₂〜₁₅混合ア
ルキル）−4,4′−イソプロピリデンジフェニルジホス
ファイト、テトラ（トリデシル）−4,4′−ブチリデン
ビス（３−メチル−６−第３ブチルフェノール）ジホス
ファイト、トリス（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）ホスファイト、トリス（モノ・ジ混合ノ
ニルフェニル）ホスファイト、水素化−4,4′−イソプ
ロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オク
チルフェニル）・ビス〔4,4′−ブチリデンビス（３−
メチル−６−第３ブチルフェノール）・1,6−ヘキサン
ジオールジホスファイトフェニル・4,4′−イソプロピ
リデンジフェノール・ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス（2,4−ジ−第３ブチルフェノール）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（2,6−ジ−第３
ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、トリス〔4,4′−イソプロピリデンビス
（２−第３ブチルフェノール）〕ホスファイト、フェニ
ル・ジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（1,3−
ジ−ステアロイルオキシイソプロピル）ホスファイト、
4,4′−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフェノ
ール）・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、9,10−ジ
−ハイドロ−９−オキサ−10−フォスファフェナンスレ
ン−10−オキサイド、テトラキス（2,4−ジ−第３ブチ
ルフェニル）−4,4′−ビフェニレンジホスナイト等が
あげられる。

また、上記の他の光安定剤としては、例えば、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、2,2′−ジ−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン
類、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′
−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′
−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ア
ミルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ
ール類、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニ
ルサリシレート、2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル3,5−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデ
シル−3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエ
ート等ベンゾエート類、2,2′−チオビス（４−ｔ−オ
クチルフェノール）Ni塩、〔2,2′−チオビス（４−ｔ
−オクチルフェノラート）〕−ｎ−ブチルアミンNi、
（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホ
スホン酸モノエチルエステルNi塩等のニッケル化合物
類、α−シアノ−β−メチル−β−（ｐ−メトキシフェ
ニル）アクリル類メチル等の置換アクリロニトリル類及
びＮ−２−エチルフェニル−Ｎ′−２−エトキシ−５−
第３ブチルフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチル
フェニル−Ｎ′−２−エトキシフェニルシュウ酸ジアミ
ド等のシュウ酸ジアニリド類があげられる。

本発明の組成物には、その他必要に応じて、重金属不活
性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、
エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、
難燃剤，滑剤、加工助剤等を添加することができる。

本発明の高分子材料組成物は、極めて多様な形で、例え
ば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種成型品とし
て使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤、接着剤、
パテ及び写真材料における基材として用いることができ
る。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１ ＜配＞ ポリプロピレン 100重量部 テトラキス〔メチレン−３（3,5−ジ第３ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン 0.1
ステアリン酸カルシウム 0.05 安定剤（表−１参照） 0.2 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成し、この
シートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行
った。また、80℃の熱水に24時間浸漬後のシートについ
ても耐光性試験を行った。その結果を下記表−１に示
す。

＊1:比較化合物Ａ ポリ（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ビニロキシピペ
リジン） 分子量:5,600 ＊2:比較化合物Ｂ ジメチルジクロロシラン/1−（２−ヒドロキシエチル）
−2,2,6,6−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン
重縮合物 分子量:1,400 ＊2:比較化合物Ｃ 1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ビニロキシピペリジン 実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。

本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分間混合し
た後、押し出し機でコンパンドを作成した（シリンダー
温度230℃、240℃、ヘッドダイス温度250℃、回転数20r
pm）。押し出しを10回繰り返し行った後、このコンパン
ドを用いて試験片を射出成形機で作成した（シリンダー
温度240℃、ノズル温度250℃、射出圧475kg/cm²）。

得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し１回及び５回のものについても
同様に試験した。その結果を下記表−２に示す。

＜配合＞ エチレン−プロピレン共重合体樹脂100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−２参照） 0.2 実施例３ ＜配合＞ ポリエチレン 100重量部 Ca−ステアレート 1.0 テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ第３ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン0.1
ジステアリルチオアジプロピオネート 0.3 安定剤（表−３参照） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートを用いてウエザオメーター中で耐光
性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その結果
を下記表−３に示す。

実施例４ ＜配合＞ ポリ塩化ビニル 100重量部 ジオクチルフタレート 48 エポキシ化大豆油 ２ トリスノニルフェニルホスファイト 0.2 Ca−ステアレート 0.1 Zn−ステアレート 0.1 安定剤（表−４参照） 0.2 上記配合物をロール上で混練し、厚さ1mmのシートを作
成した。このシートを用いてウエザオメーター中での耐
光性試験を行った。その結果を下記表−４に示す。

実施例５ ＜配合＞ ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100） 100重量部 Ba−ステアレート 0.7 Zn−ステアレート 0.3 2,6−第３ブチル−ｐ−クレゾール 0.1 安定剤（表−５参照） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、120℃で
５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作成した。この
シートを用いてフェードメーターにて50時間及び100時
間照射後の伸び残率を測定した。その結果を下記表−５
に示す。

実施例６ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用であ
る。本実施例においては金属顔料を含有するベースコー
ト及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料に
ついてその効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリルメチル100g、アクリル酸ｎ−ブチル66g、メ
タクリル酸−２−ヒドロキシエチル30g、メタクリル酸4
g、キシレン80g及びｎ−ブタノール20gをとり、110℃に
加熱撹拌しながらアゾビスイソブチロニトリル2g、ドデ
シルメルカプタン0.5g、キシレン80g及びｎ−ブタノー
ル20gからなる溶液を３時間で滴下した。その後同温度
で２時間撹拌し、樹脂固形分50％のアクリル樹脂溶液を
調整した。

上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メチロール
メラミン（三井東圧社製；ユーバン20SE60;樹脂固形分6
0％）2.5重量部、セルロースアセテートブチレート樹脂
（20％酢酸ブチル溶液）50重量部、アルミニウム顔料
（東洋アルミニウム社製；アルペースト1123N）5.5重量
部、キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部及び銅フタ
ロシアニンブルー0.2重量部をとりベースコート塗料と
した。

ｂ）トップコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メチロール
メラミン10重量部、キシレン10重量部、ブチルグリコー
ルアセテート４重量部及び安定剤（表−６参照）0.12重
量部（固形分に対し0.4％）をとり、トップコート塗料
とした。

プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が20μになるようにスプレーし、10分間放置後トップコ
ート塗料を乾燥膜厚が30μｍになるようにスプレーし
た。15分間放置後140℃で30分間焼付し試片とした。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を下記表−６に示
す。

〔発明の効果〕 本発明の高分子材料組成物は、安定性、特に耐光性が長
期間に渡って優れているものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高分子材料100重量部に対して、下記一般
   式（Ｉ）で表される繰り返し単位を５〜50有するポリシ
   ロキサン化合物と、下記一般式（II）で表される化合物
   の少なくとも一種、または下記一般式（II）で表される
   化合物の少なくとも一種及び他のα−オレフィン化合物
   の混合物との付加反応生成物であって、分子中に下記一
   般式（III）で表される繰り返し単位を少なくとも一個
   有するポリシロキサン化合物0.001〜５重量部を添加し
   てなる、耐光性の改善された高分子材料組成物。 〔上記各式中、R₁はアルキル基を示し、ｎは０または１
   を示し、Ｘは次の一般式（IV）、（Ｖ）または（VI）の
   何れかの基を示す。 （R₂は、水素原子、アルキル基またはアシル基を示し、
   Ｙは酸素原子または−Ｎ（R₅）−を示し、R₅は水素原子
   またはアルキル基を示す。R₃及びR₄は各々水素原子、ア
   ルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｚは直接結合手ま
   たは酸素原子を示す。）〕