JPH072936A - アイソタクチツクポリオレフイン製造のための方法及び触媒 - Google Patents
アイソタクチツクポリオレフイン製造のための方法及び触媒Info
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- JPH072936A JPH072936A JP93192983A JP19298393A JPH072936A JP H072936 A JPH072936 A JP H072936A JP 93192983 A JP93192983 A JP 93192983A JP 19298393 A JP19298393 A JP 19298393A JP H072936 A JPH072936 A JP H072936A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 触媒成分は式:
R”(CpR2C4R4)(CpR’2C4R’4)MeQk
〔式中(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)は置
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、;R”はインデ
ニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間の
構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒドロ
カルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載さ
れる立体的剛性メタロセンである。さらに1個のR及び
R’はインデニル環の橋頭炭素に隣接する中心部位の、
炭素数が1−20のヒドロカルビル基である。本発明は
開示されている触媒成分の1種類か又はそれ以上の使用
を含む、アイソタクチックポリオレフィンの製造法及び
触媒成分の製造法も含む。 【効果】 選考技術より立体規則性の高いアイソタクチ
ックポリマーを与える触媒を得ることができる。
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、;R”はインデ
ニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間の
構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒドロ
カルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載さ
れる立体的剛性メタロセンである。さらに1個のR及び
R’はインデニル環の橋頭炭素に隣接する中心部位の、
炭素数が1−20のヒドロカルビル基である。本発明は
開示されている触媒成分の1種類か又はそれ以上の使用
を含む、アイソタクチックポリオレフィンの製造法及び
触媒成分の製造法も含む。 【効果】 選考技術より立体規則性の高いアイソタクチ
ックポリマーを与える触媒を得ることができる。
Description
【0001】
【0002】
【発明の分野】本発明はアイソタクチックポリオレフィ
ンの製造に有用なメタロセン触媒成分に関する。触媒成
分は、2個の置換インデニル環が金属ヒドロカルビル又
は金属ハライドに錯体化している架橋メタロセンを含
む。本発明はさらに開示されている1種類か又はそれ以
上の触媒成分の使用を含むアイソタクチックポリオレフ
ィンの製造法、ならびに触媒成分の製造法も含む。
ンの製造に有用なメタロセン触媒成分に関する。触媒成
分は、2個の置換インデニル環が金属ヒドロカルビル又
は金属ハライドに錯体化している架橋メタロセンを含
む。本発明はさらに開示されている1種類か又はそれ以
上の触媒成分の使用を含むアイソタクチックポリオレフ
ィンの製造法、ならびに触媒成分の製造法も含む。
【0003】
【先行技術の説明】本発明は炭素数が3か又はそれ以上
のオレフィンを重合してアイソタクチック立体化学的配
置を有するポリマーを製造するための触媒及び方法を示
す。触媒及び方法はアイソタクチックポリプロピレンを
形成するプロピレンの重合において特に有用である。ア
イソタクチック構造は典型的に、メチル基が連続モノマ
ー単位の第3炭素原子に、ポリマーの主鎖を通る仮定平
面の同一側で結合していると記載され、例えばメチル基
はすべてが平面の上にあるか又はすべてが下にある。F
ischer投影式を用い、アイソタクチックポリプロ
ピレンの立体化学配列は以下のように記載される:
のオレフィンを重合してアイソタクチック立体化学的配
置を有するポリマーを製造するための触媒及び方法を示
す。触媒及び方法はアイソタクチックポリプロピレンを
形成するプロピレンの重合において特に有用である。ア
イソタクチック構造は典型的に、メチル基が連続モノマ
ー単位の第3炭素原子に、ポリマーの主鎖を通る仮定平
面の同一側で結合していると記載され、例えばメチル基
はすべてが平面の上にあるか又はすべてが下にある。F
ischer投影式を用い、アイソタクチックポリプロ
ピレンの立体化学配列は以下のように記載される:
【0004】
【化3】
【0005】構造を記載する他の方法はNMR分光学の
使用による。アイソタクチックペンタド(isotac
tic pentad)に関するBoveyのNMR命
名法は...mmmm...であり、各“m”は“メ
ソ”ディヤード又は平面の同一側にある連続メチル基を
示す。文献において既知の通り、鎖の構造中の変動又は
反転はポリマーのアイソタクチック度及び結晶度を低下
させる。
使用による。アイソタクチックペンタド(isotac
tic pentad)に関するBoveyのNMR命
名法は...mmmm...であり、各“m”は“メ
ソ”ディヤード又は平面の同一側にある連続メチル基を
示す。文献において既知の通り、鎖の構造中の変動又は
反転はポリマーのアイソタクチック度及び結晶度を低下
させる。
【0006】アイソタクチック構造と対照的にシンジオ
タクチックポリマーは、鎖中の連続モノマー単位の第3
炭素原子に結合するメチル基がポリマーの平面の交互の
側に存在する構造である。Fischer投影式を用い
ると、シンジオタクチックポリマーの構造は:
タクチックポリマーは、鎖中の連続モノマー単位の第3
炭素原子に結合するメチル基がポリマーの平面の交互の
側に存在する構造である。Fischer投影式を用い
ると、シンジオタクチックポリマーの構造は:
【0007】
【化4】
【0008】と示される。
【0009】NMR命名法では、このペンタドは...
rrr...と記載され、各“r”は“ラセミ”ディヤ
ード、すなわち平面の交互の側の連続メチル基を示す。
鎖中のrディヤードのパーセンテージがポリマーのシン
ジオタクチック度を決定する。シンジオタクチックポリ
マーはアイソタクチックポリマーと同様に結晶であり、
キシレンに不溶性である。この結晶度は、キシレンに溶
解性のアタクチックポリマーからシンジオタクチック及
びアイソタクチックポリマーの両方を区別する。アタク
チックポリマーはポリマー鎖中の繰り返し単位の立体配
置の規則的順列を示さず、基本的にワックス状生成物を
形成する。
rrr...と記載され、各“r”は“ラセミ”ディヤ
ード、すなわち平面の交互の側の連続メチル基を示す。
鎖中のrディヤードのパーセンテージがポリマーのシン
ジオタクチック度を決定する。シンジオタクチックポリ
マーはアイソタクチックポリマーと同様に結晶であり、
キシレンに不溶性である。この結晶度は、キシレンに溶
解性のアタクチックポリマーからシンジオタクチック及
びアイソタクチックポリマーの両方を区別する。アタク
チックポリマーはポリマー鎖中の繰り返し単位の立体配
置の規則的順列を示さず、基本的にワックス状生成物を
形成する。
【0010】触媒は3種類すべてのポリマーを製造する
ことが可能であるが、触媒はアタクチックポリマーの非
常に少ないアイソタクチック又はシンジオタクチックポ
リマーを主に製造することが望ましい。アイソタクチッ
クポリオレフィンを製造する触媒は欧州特許出願第87
870132.5号(1988年10月5日公開の公開
番号0 284 708)及び米国特許第4,794,
096号ならびに第4,975,403号に記載されて
いる。この出願及びこれらの特許は、アイソタクチック
ポリマーの形成のためのオレフィンの重合に用いられ、
高度のアイソタクチックポリプロピレンの製造に特に有
用なキラール立体的剛性メタロセン触媒成分を開示し
た。
ことが可能であるが、触媒はアタクチックポリマーの非
常に少ないアイソタクチック又はシンジオタクチックポ
リマーを主に製造することが望ましい。アイソタクチッ
クポリオレフィンを製造する触媒は欧州特許出願第87
870132.5号(1988年10月5日公開の公開
番号0 284 708)及び米国特許第4,794,
096号ならびに第4,975,403号に記載されて
いる。この出願及びこれらの特許は、アイソタクチック
ポリマーの形成のためのオレフィンの重合に用いられ、
高度のアイソタクチックポリプロピレンの製造に特に有
用なキラール立体的剛性メタロセン触媒成分を開示し
た。
【0011】
【発明の概略】本発明は、アイソ特異的触媒、触媒の製
造法、及び触媒を用いたアイソタクチックポリオレフィ
ン、特にアイソタクチックポリプロピレンの重合法を示
す。本発明により示される新規触媒成分は、式
造法、及び触媒を用いたアイソタクチックポリオレフィ
ン、特にアイソタクチックポリプロピレンの重合法を示
す。本発明により示される新規触媒成分は、式
【0012】
【化5】 R”(CpR2C4R4)(CpR’2C4R’4)MeQk 〔式中(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)は置
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、;R”はインデ
ニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間の
構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒドロ
カルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載さ
れる立体的剛性メタロセンである。さらに1個のR及び
R’はインデニル環の橋頭炭素に隣接する中心部位の、
炭素数が1−20のヒドロカルビル基である。
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、;R”はインデ
ニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間の
構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒドロ
カルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載さ
れる立体的剛性メタロセンである。さらに1個のR及び
R’はインデニル環の橋頭炭素に隣接する中心部位の、
炭素数が1−20のヒドロカルビル基である。
【0013】本発明はアイソタクチックポリオレフィ
ン、特にアイソタクチックポリプロピレンの製造法を示
し、それは上式により記載される触媒成分の少なくとも
1種類を用い、オレフィンモノマーを含む重合反応領域
への触媒の導入を含む。さらにメタロセンと反応してカ
チオン性メタロセンを形成することができるアルモキサ
ンなどの助触媒及び/又はイオン性化合物を反応領域に
導入することができる。さらに触媒成分は、反応領域に
それを導入する前、及び/又は反応器内の反応条件の安
定化の前に予備−重合させることもできる。
ン、特にアイソタクチックポリプロピレンの製造法を示
し、それは上式により記載される触媒成分の少なくとも
1種類を用い、オレフィンモノマーを含む重合反応領域
への触媒の導入を含む。さらにメタロセンと反応してカ
チオン性メタロセンを形成することができるアルモキサ
ンなどの助触媒及び/又はイオン性化合物を反応領域に
導入することができる。さらに触媒成分は、反応領域に
それを導入する前、及び/又は反応器内の反応条件の安
定化の前に予備−重合させることもできる。
【0014】本発明は、置換インデニルをジアルキルシ
リルジクロリドと接触させ、その後第2当量の異なる置
換インデニルを接触させ、シリコン架橋二置換インデニ
ルを形成する段階を含む、架橋メタロセン成分の製造法
も含む。
リルジクロリドと接触させ、その後第2当量の異なる置
換インデニルを接触させ、シリコン架橋二置換インデニ
ルを形成する段階を含む、架橋メタロセン成分の製造法
も含む。
【0015】本発明はさらに、インデニル環上に中心部
位置換基を有する置換インデンアニオンを中心部位置換
基を有する置換インデンアニオンと、架橋置換ジインデ
ンの製造に十分な反応条件下で接触させることを含む、
架橋メタロセン触媒成分の製造法も含む。本発明はさら
に架橋ジインデンを上記で定義した式MeQkの金属化
合物と、架橋ジインデンを錯体化して架橋メタロセンを
製造するのに十分な反応条件下で接触させることを含
み、ここでMeは元素の周期表からの第IIIB、IV
B、VB又はVIB族金属であり、各Qは炭素数が1−
20のヒドロカルビル基であるか、あるいはハロゲンで
あり、kはMe引く2の価数である。
位置換基を有する置換インデンアニオンを中心部位置換
基を有する置換インデンアニオンと、架橋置換ジインデ
ンの製造に十分な反応条件下で接触させることを含む、
架橋メタロセン触媒成分の製造法も含む。本発明はさら
に架橋ジインデンを上記で定義した式MeQkの金属化
合物と、架橋ジインデンを錯体化して架橋メタロセンを
製造するのに十分な反応条件下で接触させることを含
み、ここでMeは元素の周期表からの第IIIB、IV
B、VB又はVIB族金属であり、各Qは炭素数が1−
20のヒドロカルビル基であるか、あるいはハロゲンで
あり、kはMe引く2の価数である。
【0016】本発明はメタロセン触媒成分及び触媒成分
の製造ならびに使用、特にアイソタクチックポリオレフ
ィン、特にアイソタクチックポリプロピレンの製造にお
ける使用の方法を示す。
の製造ならびに使用、特にアイソタクチックポリオレフ
ィン、特にアイソタクチックポリプロピレンの製造にお
ける使用の方法を示す。
【0017】プロピレン又は他のアルファ−オレフィン
を遷移金属化合物を含む触媒成分を用いて重合させる場
合、ポリマー生成物は典型的に非晶質アタクチック留分
及び結晶性キシレン不溶性留分の混合物を含む。結晶性
留分はアイソタクチック又はシンジオタクチックポリマ
ーのいずれか、あるいは両者の混合物を含むことができ
る。高度のアイソ特異的メタロセン触媒成分が同時係属
米国特許出願番号317,089及び米国特許第4,7
94,096号ならびに第4,975,403号に記載
されている。
を遷移金属化合物を含む触媒成分を用いて重合させる場
合、ポリマー生成物は典型的に非晶質アタクチック留分
及び結晶性キシレン不溶性留分の混合物を含む。結晶性
留分はアイソタクチック又はシンジオタクチックポリマ
ーのいずれか、あるいは両者の混合物を含むことができ
る。高度のアイソ特異的メタロセン触媒成分が同時係属
米国特許出願番号317,089及び米国特許第4,7
94,096号ならびに第4,975,403号に記載
されている。
【0018】本発明のメタロセン触媒成分は、式
【0019】
【化6】 R”(CpR2C4R4)(CpR’2C4R’4)MeQk 〔式中各(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)は
置換インデニル環であり;R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
中心部位置換基であり、炭素数が1−20のヒドロカル
ビル基であり、好ましくは炭素数が1−4のアルキル基
であり、最も好ましくはメチル基であり、ここで中心部
位とはR”に結合する炭素原子(1位)に関してインデ
ニル環の2位、すなわち橋頭炭素に隣接する位置を言
い、R及びR’中心部位置換基は同一又は異なることが
できるが同一であることが好ましく、残りのR及びR’
置換基は水素であるこが好ましく;R”は触媒成分内の
インデニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環
の間の構造架橋であり、架橋成分としてシリコンを含む
ヒドロカルビル基が好ましく、架橋成分としてシリコン
を含む炭素数が1−8のアルキル基がより好ましく、ジ
メチルシリルが最も好ましく;Meは遷移金属、好まし
くは元素の周期表からの第IVB、VB又はVIB族金
属、より好ましくは第IVB族金属、最も好ましくはジ
ルコニウムであり;各Qは炭素数が1−20のヒドロカ
ルビル基であるか又はハロゲンであり、好ましくはハロ
ゲンであり、最も好ましくは塩素であり;kはMe引く
2の価数である〕により記載することができる。中心部
位置換基以外のすべてのR及びR’は水素であることが
好ましく、(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)
は両方共2−メチルインデニルが最も好ましい。
置換インデニル環であり;R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
中心部位置換基であり、炭素数が1−20のヒドロカル
ビル基であり、好ましくは炭素数が1−4のアルキル基
であり、最も好ましくはメチル基であり、ここで中心部
位とはR”に結合する炭素原子(1位)に関してインデ
ニル環の2位、すなわち橋頭炭素に隣接する位置を言
い、R及びR’中心部位置換基は同一又は異なることが
できるが同一であることが好ましく、残りのR及びR’
置換基は水素であるこが好ましく;R”は触媒成分内の
インデニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環
の間の構造架橋であり、架橋成分としてシリコンを含む
ヒドロカルビル基が好ましく、架橋成分としてシリコン
を含む炭素数が1−8のアルキル基がより好ましく、ジ
メチルシリルが最も好ましく;Meは遷移金属、好まし
くは元素の周期表からの第IVB、VB又はVIB族金
属、より好ましくは第IVB族金属、最も好ましくはジ
ルコニウムであり;各Qは炭素数が1−20のヒドロカ
ルビル基であるか又はハロゲンであり、好ましくはハロ
ゲンであり、最も好ましくは塩素であり;kはMe引く
2の価数である〕により記載することができる。中心部
位置換基以外のすべてのR及びR’は水素であることが
好ましく、(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)
は両方共2−メチルインデニルが最も好ましい。
【0020】本発明のメタロセン触媒成分をさらに表す
式は:
式は:
【0021】
【化7】
【0022】であり、ここでR、R’、R”、Me及び
Qは上記の定義と同様である。
Qは上記の定義と同様である。
【0023】メタロセン触媒成分は担持されていること
も、又は担持されていないこともできる。担体は化学的
に不活性でメタロセン及び他の触媒成分と非反応性のい
ずれの固体であることもできる。担体材料の例はタルク
などの多孔質材料;第IIA、IIIA、IVA又はI
VB金属酸化物などの無機酸化物、特にシリカ、アルミ
ナ、マグネシア、チタニア、ジルコニア及びこれらの混
合物;ならびにポリオレフィンなどの樹脂材料、特にこ
こに参照として挿入する米国特許第4,701,432
号に開示されているような微粉ポリエチレンである。
も、又は担持されていないこともできる。担体は化学的
に不活性でメタロセン及び他の触媒成分と非反応性のい
ずれの固体であることもできる。担体材料の例はタルク
などの多孔質材料;第IIA、IIIA、IVA又はI
VB金属酸化物などの無機酸化物、特にシリカ、アルミ
ナ、マグネシア、チタニア、ジルコニア及びこれらの混
合物;ならびにポリオレフィンなどの樹脂材料、特にこ
こに参照として挿入する米国特許第4,701,432
号に開示されているような微粉ポリエチレンである。
【0024】触媒成分は、当該技術において既知のいず
れの方法によっても製造することができる。触媒成分製
造の2つの方法を下記に開示する。不純な触媒により通
常低分子量の非晶質ポリマーが製造されるので、触媒錯
体は“清浄”であることが重要である。一般に触媒錯体
の製造は、置換インデニルリガンドの形成及び単離を含
み、その後そのアニオンをハロゲン化金属と反応させて
錯体を形成する。
れの方法によっても製造することができる。触媒成分製
造の2つの方法を下記に開示する。不純な触媒により通
常低分子量の非晶質ポリマーが製造されるので、触媒錯
体は“清浄”であることが重要である。一般に触媒錯体
の製造は、置換インデニルリガンドの形成及び単離を含
み、その後そのアニオンをハロゲン化金属と反応させて
錯体を形成する。
【0025】架橋メタロセン触媒成分の製造法は、イン
デニル環上に中心部位置換基を有する置換インデンを中
心部位置換基を有する同一又は異なる置換インデンと、
架橋置換ジインデンの製造に十分な反応条件下で接触さ
せる段階を含む。方法はさらに、架橋ジインデンを錯体
化して架橋メタロセンを製造するのに十分な反応条件下
で架橋置換ジインデンのアニオン形態を式MeQVの金
属化合物と接触させる段階を含み、ここでMeは元素の
周期表からの第IIIB、IVB、VB又はVIB族金
属であり、各Qは炭素数が1−20のヒドロカルビル基
であるか、又はハロゲンであり、vはMeの価数であ
る。架橋置換ジインデンを金属化合物と接触させる段階
は、塩素化溶媒中で行うことができる。
デニル環上に中心部位置換基を有する置換インデンを中
心部位置換基を有する同一又は異なる置換インデンと、
架橋置換ジインデンの製造に十分な反応条件下で接触さ
せる段階を含む。方法はさらに、架橋ジインデンを錯体
化して架橋メタロセンを製造するのに十分な反応条件下
で架橋置換ジインデンのアニオン形態を式MeQVの金
属化合物と接触させる段階を含み、ここでMeは元素の
周期表からの第IIIB、IVB、VB又はVIB族金
属であり、各Qは炭素数が1−20のヒドロカルビル基
であるか、又はハロゲンであり、vはMeの価数であ
る。架橋置換ジインデンを金属化合物と接触させる段階
は、塩素化溶媒中で行うことができる。
【0026】架橋メタロセン触媒成分製造のもう1つの
方法は、インデニル環上に中心部位置換基を有する置換
インデンを式R∧2SiX2のアルキルシリルクロリドと
接触させる段階を含み、ここでR∧は炭素数が1−20
のヒドロカルビル基であり、Xはハロゲンである。第2
当量の同一又は異なる、インデニル環上に中心部位置換
基を有する置換インデンを加えてシリコン架橋二置換イ
ンデンを製造する。その後の段階は、金属に配位した架
橋二置換インデンの製造に関する上記の段階と同様であ
る。
方法は、インデニル環上に中心部位置換基を有する置換
インデンを式R∧2SiX2のアルキルシリルクロリドと
接触させる段階を含み、ここでR∧は炭素数が1−20
のヒドロカルビル基であり、Xはハロゲンである。第2
当量の同一又は異なる、インデニル環上に中心部位置換
基を有する置換インデンを加えてシリコン架橋二置換イ
ンデンを製造する。その後の段階は、金属に配位した架
橋二置換インデンの製造に関する上記の段階と同様であ
る。
【0027】本発明のメタロセン触媒成分は、アイソタ
クチックポリプロピレンの製造のために開示された多く
の方法を含む当該技術で既知の多くの重合法において有
用である。本発明の触媒成分をこれらの種類の方法で使
用すると、方法によりアタクチック又はシンジオタクチ
ックポリマーではなくアイソタクチックポリマーが得ら
れる。本発明の実行において有用な重合法の他の例に
は、米国特許第4,767,735号及び米国特許第
4,975,403号に開示されている方法が含まれ、
その開示をここに参照として挿入する。これらの好まし
い重合法は、反応領域中に導入する前に重合温度より低
い温度で触媒成分を助触媒及びオレフィンモノマーと接
触させることにより触媒成分を予備重合させる段階を含
む。
クチックポリプロピレンの製造のために開示された多く
の方法を含む当該技術で既知の多くの重合法において有
用である。本発明の触媒成分をこれらの種類の方法で使
用すると、方法によりアタクチック又はシンジオタクチ
ックポリマーではなくアイソタクチックポリマーが得ら
れる。本発明の実行において有用な重合法の他の例に
は、米国特許第4,767,735号及び米国特許第
4,975,403号に開示されている方法が含まれ、
その開示をここに参照として挿入する。これらの好まし
い重合法は、反応領域中に導入する前に重合温度より低
い温度で触媒成分を助触媒及びオレフィンモノマーと接
触させることにより触媒成分を予備重合させる段階を含
む。
【0028】アイソタクチックポリマー製造のための以
前のメタロセン触媒成分の開示と一致して、本発明の触
媒成分は助触媒、好ましくはアルモキサン、アルキルア
ルミニウム又は他のルイス酸、あるいはこれらの混合物
と組み合わせて活性触媒を形成すると特に有用である。
さらに本文に記載のメタロセン触媒成分及びアルミニウ
ム助触媒の間の錯体は、米国特許第4,752,597
号及び第4,791,180号の開示に従い、単離する
ことができる。そこに開示されている通り、メタロセン
は適した溶媒の存在下で過剰のアルモキサンと反応す
る。メタロセンとアルモキサンの錯体を単離し、本発明
において触媒として使用することができる。
前のメタロセン触媒成分の開示と一致して、本発明の触
媒成分は助触媒、好ましくはアルモキサン、アルキルア
ルミニウム又は他のルイス酸、あるいはこれらの混合物
と組み合わせて活性触媒を形成すると特に有用である。
さらに本文に記載のメタロセン触媒成分及びアルミニウ
ム助触媒の間の錯体は、米国特許第4,752,597
号及び第4,791,180号の開示に従い、単離する
ことができる。そこに開示されている通り、メタロセン
は適した溶媒の存在下で過剰のアルモキサンと反応す
る。メタロセンとアルモキサンの錯体を単離し、本発明
において触媒として使用することができる。
【0029】重合反応又は米国特許第4,752,59
7号及び第4,791,180号に開示されている錯体
の形成において本発明の触媒成分と組み合わせるのに有
用なアルモキサンは、環状形態で一般式(R−Al−O
−)n、及び直鎖状形態でR(R−Al−O)−n−Al
R2により示すことができ、ここでRは炭素数が1−5
のアルキル基であり、nは1−約20の整数である。R
はメチル基であることが最も好ましい。アルモキサンは
当該技術において既知の種々の方法により製造すること
ができる。これらはベンゼンなどの適した溶媒中で水を
トリアルキルアルミニウム、例えばトリメチルアルミニ
ウムの溶液と接触させることにより製造するのが好まし
い。他の好ましい方法には、その開示をここに参照とし
て挿入する米国特許第4,404,344号に記載の硫
酸銅水和物の存在下におけるアルモキサンの製造が含ま
れる。この方法はトルエン中のトリメチルアルミニウム
の希溶液を硫酸銅で処理する段階を含む。本発明で有用
な他のアルミニウム助触媒の組成物は、当該技術におけ
る熟練者に既知の方法により製造することができる。
7号及び第4,791,180号に開示されている錯体
の形成において本発明の触媒成分と組み合わせるのに有
用なアルモキサンは、環状形態で一般式(R−Al−O
−)n、及び直鎖状形態でR(R−Al−O)−n−Al
R2により示すことができ、ここでRは炭素数が1−5
のアルキル基であり、nは1−約20の整数である。R
はメチル基であることが最も好ましい。アルモキサンは
当該技術において既知の種々の方法により製造すること
ができる。これらはベンゼンなどの適した溶媒中で水を
トリアルキルアルミニウム、例えばトリメチルアルミニ
ウムの溶液と接触させることにより製造するのが好まし
い。他の好ましい方法には、その開示をここに参照とし
て挿入する米国特許第4,404,344号に記載の硫
酸銅水和物の存在下におけるアルモキサンの製造が含ま
れる。この方法はトルエン中のトリメチルアルミニウム
の希溶液を硫酸銅で処理する段階を含む。本発明で有用
な他のアルミニウム助触媒の組成物は、当該技術におけ
る熟練者に既知の方法により製造することができる。
【0030】MAO助触媒の使用の代わりとなるのは、
メタロセン、ルイス酸イオン性イオン化剤及び場合によ
りアルミニウムアルキルの触媒系である。カチオン性メ
タロセン触媒系の製造法は、欧州特許出願番号9087
0174.1、90870175.8及び908701
76.6(それぞれ1991年5月8日、1991年5
月8日及び1991年5月15日公開の公開番号0 4
26 637 A2、0 426 638 A2及び0
427 697 A2)に開示されており、これらを
ここに参照として挿入する。イオン対であるイオン化剤
は、メタロセンをカチオンにイオン化する。メタロセン
カチオンはイオン化剤のアニオン成分とイオン対を形成
する。イオン化により除去されたメタロセン化合物の一
部はアニオンを形成し、それはイオン化剤のカチオン成
分と会合する。メタロセンの一部であるアニオン及びイ
オン化剤のカチオンから形成されたイオン対は、化学的
に不活性であり、メタロセンカチオン及びオレフィンの
重合のための活性触媒であるメタロセンカチオン−イオ
ン化剤アニオンイオン対に関して非−反応性である。
メタロセン、ルイス酸イオン性イオン化剤及び場合によ
りアルミニウムアルキルの触媒系である。カチオン性メ
タロセン触媒系の製造法は、欧州特許出願番号9087
0174.1、90870175.8及び908701
76.6(それぞれ1991年5月8日、1991年5
月8日及び1991年5月15日公開の公開番号0 4
26 637 A2、0 426 638 A2及び0
427 697 A2)に開示されており、これらを
ここに参照として挿入する。イオン対であるイオン化剤
は、メタロセンをカチオンにイオン化する。メタロセン
カチオンはイオン化剤のアニオン成分とイオン対を形成
する。イオン化により除去されたメタロセン化合物の一
部はアニオンを形成し、それはイオン化剤のカチオン成
分と会合する。メタロセンの一部であるアニオン及びイ
オン化剤のカチオンから形成されたイオン対は、化学的
に不活性であり、メタロセンカチオン及びオレフィンの
重合のための活性触媒であるメタロセンカチオン−イオ
ン化剤アニオンイオン対に関して非−反応性である。
【0031】トリエチルアルミニウムなどのアルミニウ
ムアルキルは、そのようなイオン性触媒系において収率
を向上させるために有用である。アルミニウムアルキル
が作用してイオン化過程を促進し、触媒毒を掃去すると
思われる。
ムアルキルは、そのようなイオン性触媒系において収率
を向上させるために有用である。アルミニウムアルキル
が作用してイオン化過程を促進し、触媒毒を掃去すると
思われる。
【0032】アイソ特異的メタロセン触媒の場合に有用
な重合法は当該技術において既知である。一般に重合法
は: a)式
な重合法は当該技術において既知である。一般に重合法
は: a)式
【0033】
【化8】 R”(CpR2C4R4)(CpR’2C4R’4)MeQk 〔式中(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)は置
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
インデニル環の橋頭炭素原子に隣接する中心部位の、炭
素数が1−20のヒドロカルビル基であり;R”はイン
デニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間
の構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒド
ロカルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載
される立体的剛性メタロセンを選択し、 b)メタロセンを助触媒又はルイス酸イオン性イオン化
剤と接触させることにより触媒を形成し、 c)重合条件下で触媒を炭素数が少なくとも3のオレフ
ィンと接触させ、 d)高分子量及び高結晶度のアイソタクチックポリオレ
フィンを抽出する段階を含む。
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
インデニル環の橋頭炭素原子に隣接する中心部位の、炭
素数が1−20のヒドロカルビル基であり;R”はイン
デニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間
の構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒド
ロカルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載
される立体的剛性メタロセンを選択し、 b)メタロセンを助触媒又はルイス酸イオン性イオン化
剤と接触させることにより触媒を形成し、 c)重合条件下で触媒を炭素数が少なくとも3のオレフ
ィンと接触させ、 d)高分子量及び高結晶度のアイソタクチックポリオレ
フィンを抽出する段階を含む。
【0034】以下の実施例は、本発明及びその種々の利
点ならびに利益をさらに詳細に説明するものである。
点ならびに利益をさらに詳細に説明するものである。
【0035】
【実施例】実施例I 2−メチルインデン J.Org.Chem.47,1058(1982)に
おいて2−メチルインデンに関して報告された合成法に
従い、蒸留の後に無色油状の化合物を得た。
おいて2−メチルインデンに関して報告された合成法に
従い、蒸留の後に無色油状の化合物を得た。
【0036】Me2Si(2−MeInd)2 乾燥ジエチルエーテル(150ml)中の2−メチルイ
ンデン(2.58g)の溶液に、エーテル中のメチルリ
チウムの溶液(1.4M、14ml)を室温にてゆっく
り加え、終夜撹拌した。減圧下で溶媒を除去し、得られ
た固体を乾燥ヘキサン(150ml)中でスラリ化し
た。エーテル(30ml)中で希釈したジクロロジメチ
ルシランを−78℃に予備冷却した前記の溶液に移し
た。反応混合物を室温とし、終夜撹拌を続けた。反応混
合物を濾過し、減圧下で濾液から溶媒を除去し、白色固
体を得た。固体を−78℃に予備冷却した少量のヘキサ
ンで洗浄し、より白い粉末(0.75g)を得た。ヘキ
サン洗浄液から、リガンドの第2収穫を得た(0.25
g)。合計収率は32%であった。
ンデン(2.58g)の溶液に、エーテル中のメチルリ
チウムの溶液(1.4M、14ml)を室温にてゆっく
り加え、終夜撹拌した。減圧下で溶媒を除去し、得られ
た固体を乾燥ヘキサン(150ml)中でスラリ化し
た。エーテル(30ml)中で希釈したジクロロジメチ
ルシランを−78℃に予備冷却した前記の溶液に移し
た。反応混合物を室温とし、終夜撹拌を続けた。反応混
合物を濾過し、減圧下で濾液から溶媒を除去し、白色固
体を得た。固体を−78℃に予備冷却した少量のヘキサ
ンで洗浄し、より白い粉末(0.75g)を得た。ヘキ
サン洗浄液から、リガンドの第2収穫を得た(0.25
g)。合計収率は32%であった。
【0037】Me2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2 前記の方法から得たリガンド(1.0g)を無水テトラ
ヒドロフラン(40ml)に溶解し、ヘキサン中のn−
ブチルリチウムの溶液(1.6M、4.4ml)を加
え、3時間撹拌した。真空下で溶媒を除去し、オフホワ
イトの固体を得、それを窒素雰囲気下で乾燥ヘキサンで
洗浄した。固体を−78℃に冷却し、−78℃に予備冷
却したメチレンクロリドを加え、その後やはり−78℃
に予備冷却したメチレンクロリド中のジルコニウムテト
ラクロリドのスラリを加えた。反応混合物を徐々に室温
とし、終夜撹拌した。溶液を濾過し、固体をヘキサンで
洗浄した。ヘキサン洗浄液を濾液に加え、その時点でオ
フホワイトの固体が沈澱した。濾過し、濾液を濃縮し、
数時間−78℃に冷却し、黄色固体を得た。この黄色固
体(0.30g)を濾過により単離し、NMR分光分析
によりラセミ−及びメソ−異性体の混合物(65:3
5)であることが見いだされた。1HNMR(CD2Cl
2)(ppmで)、7.67(2d)、7.45
(d)、7.08(t)、6.99(t)、6.76
(s)、6.74(s)、6.64(s)、2.44
(s)、2.20(s)、1.42(s)、1.29
(s)、1.22(s)。固体はそのまま重合で使用し
た。
ヒドロフラン(40ml)に溶解し、ヘキサン中のn−
ブチルリチウムの溶液(1.6M、4.4ml)を加
え、3時間撹拌した。真空下で溶媒を除去し、オフホワ
イトの固体を得、それを窒素雰囲気下で乾燥ヘキサンで
洗浄した。固体を−78℃に冷却し、−78℃に予備冷
却したメチレンクロリドを加え、その後やはり−78℃
に予備冷却したメチレンクロリド中のジルコニウムテト
ラクロリドのスラリを加えた。反応混合物を徐々に室温
とし、終夜撹拌した。溶液を濾過し、固体をヘキサンで
洗浄した。ヘキサン洗浄液を濾液に加え、その時点でオ
フホワイトの固体が沈澱した。濾過し、濾液を濃縮し、
数時間−78℃に冷却し、黄色固体を得た。この黄色固
体(0.30g)を濾過により単離し、NMR分光分析
によりラセミ−及びメソ−異性体の混合物(65:3
5)であることが見いだされた。1HNMR(CD2Cl
2)(ppmで)、7.67(2d)、7.45
(d)、7.08(t)、6.99(t)、6.76
(s)、6.74(s)、6.64(s)、2.44
(s)、2.20(s)、1.42(s)、1.29
(s)、1.22(s)。固体はそのまま重合で使用し
た。
【0038】実施例2 Et〔Ind〕2ZrCl2 この触媒を、例えばOrganometallics,
10,1501(1991)、J.Organome
t.Chem.288,63(1985)、J.Org
anomet.Chem.342,21(1988)な
どの参照文献に公開されている方法に従って製造した。
10,1501(1991)、J.Organome
t.Chem.288,63(1985)、J.Org
anomet.Chem.342,21(1988)な
どの参照文献に公開されている方法に従って製造した。
【0039】実施例3 Me2Si〔Ind〕2ZrCl2 この触媒は、欧州特許出願番号87870132.5
(1988年10月5日公開の公開番号028470
8)に記載の方法に従って製造した。さらに重合データ
に関し、Springer−Verlag Berli
n,Heidelberg出版による“Transit
ion Metals and Organometa
llics as Catalysts for Ol
efin Polymerization”,p.28
1,1988;Eds.W.Kaminsky and
H.Sinn.を参照せよ。
(1988年10月5日公開の公開番号028470
8)に記載の方法に従って製造した。さらに重合データ
に関し、Springer−Verlag Berli
n,Heidelberg出版による“Transit
ion Metals and Organometa
llics as Catalysts for Ol
efin Polymerization”,p.28
1,1988;Eds.W.Kaminsky and
H.Sinn.を参照せよ。
【0040】重合法 I型 触媒をトルエン中の10%MAO5mlに溶解し、ステ
ンレススチール試料移送シリンダーに移し、室温で撹拌
しながら1000mlのプロピレンを含むオートクレー
ブ反応器中に400mlのプロピレンと共に装填した。
反応器の内容物を60℃に1時間加熱することにより、
触媒をその場で予備重合させ、未反応モノマーを排気す
ることにより重合を急速に停止し、反応器を空気中に解
放した。反応器の内容物を真空炉中で乾燥した。分析前
にポリマー試料を1%キレシン溶液から再結晶すること
によりメソ−異性体により製造されたアタクチックポリ
マーを除去した。
ンレススチール試料移送シリンダーに移し、室温で撹拌
しながら1000mlのプロピレンを含むオートクレー
ブ反応器中に400mlのプロピレンと共に装填した。
反応器の内容物を60℃に1時間加熱することにより、
触媒をその場で予備重合させ、未反応モノマーを排気す
ることにより重合を急速に停止し、反応器を空気中に解
放した。反応器の内容物を真空炉中で乾燥した。分析前
にポリマー試料を1%キレシン溶液から再結晶すること
によりメソ−異性体により製造されたアタクチックポリ
マーを除去した。
【0041】II型 小さな変更を1つ行うだけで上記に従った。重合で用い
るMAOの量を10mlに増加させた。
るMAOの量を10mlに増加させた。
【0042】
【表1】
【0043】表1の重合データは、C2のメチル置換基
が非置換触媒又はC3にメチル置換基を有する触媒と比
較して実質的に異なる性質をポリプロピレンに与えるこ
とを明確に指摘している。C3にメチル置換基を含むシ
リコン架橋触媒は、融点を示さないアタクチックポリマ
ーを与える。類似の条件下でC2メチル置換基を有する
触媒を用い、与えられた重合温度にて得たアイソタクチ
ックポリプロピレンは、表1に挙げる他の類似触媒系を
用いて得たものより結晶度が高い(融点が高い)。C2
メチル置換基を有する触媒を用いて得たポリマーの分子
量も他の触媒系を用いて得たものより高い。ラセミ−M
e2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2を用いて得たア
イソタクチックポリプロピレンの13CNMRスペクトル
(図2及び3を参照)と、エチレンビス(テトラヒドラ
インデニル)ZrCl2に関して文献(Makromo
l.Chem.190,1931(1989))に公開
されているスペクトルを比較すると、ポリマーの微細構
造における立体的不規則性が前者の触媒を用いて得たポ
リマーにおいて劇的に減少することが示されている。2
−メチルインデニル触媒は以前に報告されたアイソ特異
的メタロセンより、立体特異性及びポリマー鎖停止に関
して熱安定性が大きいことも表のデータから明きらかで
ある(重合温度=30℃にてTm=150℃、Mw=3
00000;重合温度60℃にてTm=148℃、Mw
=200000)。触媒中心に近接した位置以外の位置
における芳香環上のさらに別のアルキル置換基も高結晶
度及び高分子量を有するアイソタクチックポリプロピレ
ンの製造に有益であると予想される。
が非置換触媒又はC3にメチル置換基を有する触媒と比
較して実質的に異なる性質をポリプロピレンに与えるこ
とを明確に指摘している。C3にメチル置換基を含むシ
リコン架橋触媒は、融点を示さないアタクチックポリマ
ーを与える。類似の条件下でC2メチル置換基を有する
触媒を用い、与えられた重合温度にて得たアイソタクチ
ックポリプロピレンは、表1に挙げる他の類似触媒系を
用いて得たものより結晶度が高い(融点が高い)。C2
メチル置換基を有する触媒を用いて得たポリマーの分子
量も他の触媒系を用いて得たものより高い。ラセミ−M
e2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2を用いて得たア
イソタクチックポリプロピレンの13CNMRスペクトル
(図2及び3を参照)と、エチレンビス(テトラヒドラ
インデニル)ZrCl2に関して文献(Makromo
l.Chem.190,1931(1989))に公開
されているスペクトルを比較すると、ポリマーの微細構
造における立体的不規則性が前者の触媒を用いて得たポ
リマーにおいて劇的に減少することが示されている。2
−メチルインデニル触媒は以前に報告されたアイソ特異
的メタロセンより、立体特異性及びポリマー鎖停止に関
して熱安定性が大きいことも表のデータから明きらかで
ある(重合温度=30℃にてTm=150℃、Mw=3
00000;重合温度60℃にてTm=148℃、Mw
=200000)。触媒中心に近接した位置以外の位置
における芳香環上のさらに別のアルキル置換基も高結晶
度及び高分子量を有するアイソタクチックポリプロピレ
ンの製造に有益であると予想される。
【0044】ラセミ−Me2Si〔2−MeInd〕2Z
rCl2の場合の重合の結果をラセミ−Me2Si〔In
d〕ZrCl2、ラセミ−Et〔Ind〕2ZrCl2及
びラセミ−Et〔3−MeInd〕2ZrCl2の場合の
結果と比較すると、中心部位メチル置換基の分子量に対
する影響が顕著であることが示されている。ラセミ−M
e2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2触媒系を用いて
製造したポリプロピレンの分子量は少なくとも200,
000である。中心部位メチル置換基は、より立体特異
的な触媒も生ずる。結晶度を反映するポリマー融点は、
メタロセンの構造的剛性の増加と共に上昇する。ラセミ
−Me2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2触媒系を用
いて製造したポリプロピレンの融点は、少なくとも14
8℃である。
rCl2の場合の重合の結果をラセミ−Me2Si〔In
d〕ZrCl2、ラセミ−Et〔Ind〕2ZrCl2及
びラセミ−Et〔3−MeInd〕2ZrCl2の場合の
結果と比較すると、中心部位メチル置換基の分子量に対
する影響が顕著であることが示されている。ラセミ−M
e2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2触媒系を用いて
製造したポリプロピレンの分子量は少なくとも200,
000である。中心部位メチル置換基は、より立体特異
的な触媒も生ずる。結晶度を反映するポリマー融点は、
メタロセンの構造的剛性の増加と共に上昇する。ラセミ
−Me2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2触媒系を用
いて製造したポリプロピレンの融点は、少なくとも14
8℃である。
【0045】ラセミ−Me2Si〔2−MeInd〕2Z
rCl2を用いて製造したポリマーは、下記に示す鏡像
的部位制御機構(enantiomorphic si
tecontrol mechanism)による微細
構造を有する:
rCl2を用いて製造したポリマーは、下記に示す鏡像
的部位制御機構(enantiomorphic si
tecontrol mechanism)による微細
構造を有する:
【0046】
【化9】
【0047】“a”、“b”、“c”及び“d”で標識
したメチル基は、C−13NMRスペクトルで最も強い
信号を与える。近接連続(close success
ion)における“エラー”の可能性を無視し得るとす
れば、“d”により示されるピークの強度はモノマーπ
−面選択性(re対si)における間違い(mrrm)
の数の直接の尺度である。60℃にてラセミ−Me2S
i〔2−MeInd〕2ZrCl2を用いて製造したポリ
マーの場合のC−13NMRペンタド強度を下記に示
す: ラセミ−Me2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2を用
いて製造したポリマーのC−13NMRスペクトルは、
立体的不規則性を示さず、観測されたポリマー融点と完
全に立体規則的アイソタクチックポリプロピレンの融点
の差は主に、立体特異的“サイトエラー(site e
rrors)”の数に起因する。
したメチル基は、C−13NMRスペクトルで最も強い
信号を与える。近接連続(close success
ion)における“エラー”の可能性を無視し得るとす
れば、“d”により示されるピークの強度はモノマーπ
−面選択性(re対si)における間違い(mrrm)
の数の直接の尺度である。60℃にてラセミ−Me2S
i〔2−MeInd〕2ZrCl2を用いて製造したポリ
マーの場合のC−13NMRペンタド強度を下記に示
す: ラセミ−Me2Si〔2−MeInd〕2ZrCl2を用
いて製造したポリマーのC−13NMRスペクトルは、
立体的不規則性を示さず、観測されたポリマー融点と完
全に立体規則的アイソタクチックポリプロピレンの融点
の差は主に、立体特異的“サイトエラー(site e
rrors)”の数に起因する。
【0048】本発明のメタロセン触媒は、従来のZie
gler−Natta触媒を用いて製造された商用銘柄
のホモポリマーと類似の融点を有するアイソタクチック
ポリマーを製造する。純粋な場合メタロセンは単一部位
触媒(single site catalysts)
であり、多分散度が約2.0−2.5のアイソタクチッ
クプロピレンを製造する。
gler−Natta触媒を用いて製造された商用銘柄
のホモポリマーと類似の融点を有するアイソタクチック
ポリマーを製造する。純粋な場合メタロセンは単一部位
触媒(single site catalysts)
であり、多分散度が約2.0−2.5のアイソタクチッ
クプロピレンを製造する。
【0049】上記の記載を見ると、本発明の多数の修正
及び変更が可能である。従って本文に特に記載した以外
の方法で本発明を実行することは、添付クレイムの範囲
内で可能であると理解するべきである。
及び変更が可能である。従って本文に特に記載した以外
の方法で本発明を実行することは、添付クレイムの範囲
内で可能であると理解するべきである。
【0050】本発明の主たる特徴及び態様は以下の通り
である。
である。
【0051】1.炭素数が少なくとも3のオレフィンの
重合のための触媒において、 a)式
重合のための触媒において、 a)式
【0052】
【化10】 R”(CpR2C4R4)(CpR’2C4R’4)MeQk 〔式中(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)は置
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
インデニル環の橋頭炭素原子に隣接する中心部位の、炭
素数が1−20のヒドロカルビル基であり;R”はイン
デニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間
の構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒド
ロカルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載
される立体的剛性メタロセン、及び b)助触媒又はルイス酸イオン性イオン化剤を含むこと
を特徴とする触媒。
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
インデニル環の橋頭炭素原子に隣接する中心部位の、炭
素数が1−20のヒドロカルビル基であり;R”はイン
デニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間
の構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒド
ロカルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載
される立体的剛性メタロセン、及び b)助触媒又はルイス酸イオン性イオン化剤を含むこと
を特徴とする触媒。
【0053】2.第1項に記載の触媒において、メタロ
センが
センが
【0054】
【化11】 R”(CpHR1C4H4)(CpHR’1C4H4)MeQk であることを特徴とする触媒。
【0055】3.第1項に記載の触媒において、R及び
R’が同一であることを特徴とする触媒。
R’が同一であることを特徴とする触媒。
【0056】4.第1項に記載の触媒において、R及び
R’が炭素数が1−4のアルキル基であることを特徴と
する触媒。
R’が炭素数が1−4のアルキル基であることを特徴と
する触媒。
【0057】5.第4項に記載の触媒において、R及び
R’がメチル基であることを特徴とする触媒。
R’がメチル基であることを特徴とする触媒。
【0058】6.第1項に記載の触媒において、R”が
架橋成分としてシリコンを含むヒドロカルビル基である
ことを特徴とする触媒。
架橋成分としてシリコンを含むヒドロカルビル基である
ことを特徴とする触媒。
【0059】7.第6項に記載の触媒において、R”が
架橋成分としてシリコンを含む炭素数が1−8のアルキ
ル基であることを特徴とする触媒。
架橋成分としてシリコンを含む炭素数が1−8のアルキ
ル基であることを特徴とする触媒。
【0060】8.第6項に記載の触媒において、R”が
ジメチルシリルであることを特徴とする触媒。
ジメチルシリルであることを特徴とする触媒。
【0061】9.第1項に記載の触媒において、Meが
第IVB、VB又はVIB族金属であることを特徴とす
る触媒。
第IVB、VB又はVIB族金属であることを特徴とす
る触媒。
【0062】10.第9項に記載の触媒において、Me
が第IVB族金属であることを特徴とする触媒。
が第IVB族金属であることを特徴とする触媒。
【0063】11.第10項に記載の触媒において、M
eがジルコニウムであることを特徴とする触媒。
eがジルコニウムであることを特徴とする触媒。
【0064】12.第1項に記載の触媒において、Qが
ハロゲンであることを特徴とする触媒。
ハロゲンであることを特徴とする触媒。
【0065】13.第12項に記載の触媒において、Q
が塩素であることを特徴とする触媒。 14.第1項に記載の触媒において、(CpR2C4R4)
及び(CpR’2C4R’4)が2−メチルインデニルであ
ることを特徴とする触媒。
が塩素であることを特徴とする触媒。 14.第1項に記載の触媒において、(CpR2C4R4)
及び(CpR’2C4R’4)が2−メチルインデニルであ
ることを特徴とする触媒。
【0066】15.第1項に記載の触媒において、メタ
ロセンがラセミ−ジメチルシリルビス〔2−メチルイン
デニル〕ジルコニウムジクロリドであることを特徴とす
る触媒。
ロセンがラセミ−ジメチルシリルビス〔2−メチルイン
デニル〕ジルコニウムジクロリドであることを特徴とす
る触媒。
【0067】16.第1項に記載の触媒において、助触
媒がアルモキサンであることを特徴とする触媒。
媒がアルモキサンであることを特徴とする触媒。
【0068】17.炭素数が少なくとも3のオレフィン
の重合法において、 a)式
の重合法において、 a)式
【0069】
【化12】 R”(CpR2C4R4)(CpR’2C4R’4)MeQk 〔式中(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)は置
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
インデニル環の橋頭炭素原子に隣接する中心部位の、炭
素数が1−20のヒドロカルビル基であり;R”はイン
デニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間
の構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒド
ロカルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載
される立体的剛性メタロセンを選択し、 b)メタロセンを助触媒又はルイス酸イオン性イオン化
剤と接触させることにより触媒を形成し、 c)重合条件下で触媒を炭素数が少なくとも3のオレフ
ィンと接触させ、 d)高分子量及び高結晶度のアイソタクチックポリオレ
フィンを抽出する段階を含むことを特徴とする方法。
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
インデニル環の橋頭炭素原子に隣接する中心部位の、炭
素数が1−20のヒドロカルビル基であり;R”はイン
デニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間
の構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒド
ロカルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載
される立体的剛性メタロセンを選択し、 b)メタロセンを助触媒又はルイス酸イオン性イオン化
剤と接触させることにより触媒を形成し、 c)重合条件下で触媒を炭素数が少なくとも3のオレフ
ィンと接触させ、 d)高分子量及び高結晶度のアイソタクチックポリオレ
フィンを抽出する段階を含むことを特徴とする方法。
【0070】18.第17項に記載の方法において、メ
タロセンが
タロセンが
【0071】
【化13】 R”(CpHR1C4H4)(CpHR’1C4H4)MeQk であることを特徴とする方法。
【0072】19.第17項に記載の方法において、R
及びR’が同一であることを特徴とする方法。
及びR’が同一であることを特徴とする方法。
【0073】20.第17項に記載の方法において、R
及びR’が炭素数が1−4のアルキル基であることを特
徴とする方法。
及びR’が炭素数が1−4のアルキル基であることを特
徴とする方法。
【0074】21.第17項に記載の方法において、R
及びR’がメチル基であることを特徴とする方法。
及びR’がメチル基であることを特徴とする方法。
【0075】22.第17項に記載の方法において、
R”が架橋成分としてシリコンを含むヒドロカルビル基
であることを特徴とする方法。
R”が架橋成分としてシリコンを含むヒドロカルビル基
であることを特徴とする方法。
【0076】23.第21項に記載の方法において、
R”が架橋成分としてシリコンを含む炭素数が1−8の
アルキル基であることを特徴とする方法。
R”が架橋成分としてシリコンを含む炭素数が1−8の
アルキル基であることを特徴とする方法。
【0077】24.第23項に記載の方法において、
R”がジメチルシリルであることを特徴とする方法。
R”がジメチルシリルであることを特徴とする方法。
【0078】25.第17項に記載の方法において、M
eが第IVB、VB又はVIB族金属であることを特徴
とする方法。
eが第IVB、VB又はVIB族金属であることを特徴
とする方法。
【0079】26.第25項に記載の方法において、M
eが第IVB族金属であることを特徴とする方法。
eが第IVB族金属であることを特徴とする方法。
【0080】27.第26項に記載の方法において、M
eがジルコニウムであることを特徴とする方法。
eがジルコニウムであることを特徴とする方法。
【0081】28.第27項に記載の方法において、Q
がハロゲンであることを特徴とする方法。
がハロゲンであることを特徴とする方法。
【0082】29.第28項に記載の方法において、Q
が塩素であることを特徴とする方法。 30.第17項に記載の方法において、(CpR2C
4R4)及び(CpR’2C4R’4)が2−メチルインデニ
ルであることを特徴とする方法。
が塩素であることを特徴とする方法。 30.第17項に記載の方法において、(CpR2C
4R4)及び(CpR’2C4R’4)が2−メチルインデニ
ルであることを特徴とする方法。
【0083】31.第17項に記載の方法において、メ
タロセンがラセミ−ジメチルシリルビス〔2−メチルイ
ンデニル〕ジルコニウムジクロリドであることを特徴と
する方法。
タロセンがラセミ−ジメチルシリルビス〔2−メチルイ
ンデニル〕ジルコニウムジクロリドであることを特徴と
する方法。
【0084】32.第17項に記載の方法において、助
触媒がアルモキサンであることを特徴とする方法。
触媒がアルモキサンであることを特徴とする方法。
【0085】33.第17項に記載の方法において、オ
レフィンがプロピレンであることを特徴とする方法。
レフィンがプロピレンであることを特徴とする方法。
【0086】34.第33項に記載の方法において、ア
イソタクチックポリプロピレンの分子量が少なくとも2
00,000であることを特徴とする方法。
イソタクチックポリプロピレンの分子量が少なくとも2
00,000であることを特徴とする方法。
【0087】35.第33項に記載の方法において、ア
イソタクチックポリプロピレンの融点が少なくとも14
8℃であることを特徴とする方法。
イソタクチックポリプロピレンの融点が少なくとも14
8℃であることを特徴とする方法。
【図1】本発明の好ましい触媒成分の構造の図であり、
特にラセミ−ジメチルシリルビス〔2−メチルインデニ
ル〕ジルコニウムジクロリドを示す。
特にラセミ−ジメチルシリルビス〔2−メチルインデニ
ル〕ジルコニウムジクロリドを示す。
【図2】ラセミ−ジメチルシリルビス〔2−メチルイン
デニル〕ジルコニウムジクロリドを用いて得たポリマー
のNMRスペクトルである。
デニル〕ジルコニウムジクロリドを用いて得たポリマー
のNMRスペクトルである。
【図3】ラセミ−エチレンビス(テトラヒドロインデニ
ル)ジルコニウムジクロリドを用いて得たポリマーのN
MRスペクトルである。
ル)ジルコニウムジクロリドを用いて得たポリマーのN
MRスペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マイケル・エルダー アメリカ合衆国ノースカロライナ州27609 ラレイ・カントリーコート5316 (72)発明者 ビー・アール・レツデイ アメリカ合衆国テキサス州77520ベイタウ ン・エツジウツド4
Claims (2)
- 【請求項1】 炭素数が少なくとも3のオレフィンの重
合のための触媒において、 a)式 【化1】 R”(CpR2C4R4)(CpR’2C4R’4)MeQk 〔式中(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)は置
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
インデニル環の橋頭炭素原子に隣接する中心部位の、炭
素数が1−20のヒドロカルビル基であり;R”はイン
デニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間
の構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒド
ロカルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載
される立体的剛性メタロセン、及び b)助触媒又はルイス酸イオン性イオン化剤を含むこと
を特徴とする触媒。 - 【請求項2】 炭素数が少なくとも3のオレフィンの重
合法において、 a)式 【化2】 R”(CpR2C4R4)(CpR’2C4R’4)MeQk 〔式中(CpR2C4R4)及び(CpR’2C4R’4)は置
換インデニル環であり;各R及びR’は水素又は炭素数
が1−20のヒドロカルビル基であり、各Rは同一又は
異なり、各R’も同一又は異なり、1個のR及びR’は
インデニル環の橋頭炭素原子に隣接する中心部位の、炭
素数が1−20のヒドロカルビル基であり;R”はイン
デニル環に立体的剛性を与える2個のインデニル環の間
の構造架橋であり;Meは遷移金属であり;各Qはヒド
ロカルビル基であるか又はハロゲンである〕により記載
される立体的剛性メタロセンを選択し、 b)メタロセンを助触媒又はルイス酸イオン性イオン化
剤と接触させることにより触媒を形成し、 c)重合条件下で触媒を炭素数が少なくとも3のオレフ
ィンと接触させ、 d)高分子量及び高結晶度のアイソタクチックポリオレ
フィンを抽出する段階を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US91163492A | 1992-07-10 | 1992-07-10 | |
US911634 | 1992-07-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH072936A true JPH072936A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=25430599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP93192983A Pending JPH072936A (ja) | 1992-07-10 | 1993-07-09 | アイソタクチツクポリオレフイン製造のための方法及び触媒 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6262199B1 (ja) |
EP (1) | EP0581754A1 (ja) |
JP (1) | JPH072936A (ja) |
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WO1997038030A1 (fr) * | 1996-04-04 | 1997-10-16 | Toho Titanium Co., Ltd. | Homopolymere de propylene |
JP2002523575A (ja) * | 1998-08-26 | 2002-07-30 | エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク | 分枝ポリプロピレン組成物 |
KR100398740B1 (ko) * | 1998-04-09 | 2003-12-31 | 주식회사 엘지화학 | 알파위치에만치환체를가지고있는브리지된메탈로센촉매 |
US6729448B2 (en) | 2000-10-18 | 2004-05-04 | Tok Bearing Co., Ltd. | Rotary damper |
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DE69427999T3 (de) * | 1993-06-07 | 2012-09-27 | Mitsui Chemicals, Inc. | Übergangsmetallverbindung, diese enthaltende Olefinpolymerisationskatalysator, Verfahren zur Olefinpolymerisation damit und Homo- und Copolymere des Propylens |
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EP0485821B1 (de) * | 1990-11-12 | 1996-06-12 | Hoechst Aktiengesellschaft | Metallocene mit Liganden aus 2-substituierten Indenylderivaten, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Katalysatoren |
EP0485822B1 (de) * | 1990-11-12 | 1996-07-03 | Hoechst Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung eines hochmolekularen Olefinpolymers |
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-
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- 1993-07-09 JP JP93192983A patent/JPH072936A/ja active Pending
- 1993-07-09 EP EP19930870130 patent/EP0581754A1/en not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-05-29 US US09/087,547 patent/US6262199B1/en not_active Expired - Fee Related
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