JPH07290011A - Work washing method and washing device - Google Patents
Work washing method and washing deviceInfo
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- JPH07290011A JPH07290011A JP5017995A JP5017995A JPH07290011A JP H07290011 A JPH07290011 A JP H07290011A JP 5017995 A JP5017995 A JP 5017995A JP 5017995 A JP5017995 A JP 5017995A JP H07290011 A JPH07290011 A JP H07290011A
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- cleaning
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はブリント基板、液晶パネ
ル、半導体ウエハ等のワークを洗浄するためのワーク洗
浄方法および洗浄装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a work cleaning method and a cleaning device for cleaning a work such as a blind substrate, a liquid crystal panel, a semiconductor wafer.
【0002】[0002]
【従来の技術】このようなワークの洗浄方法として従来
から知られているものは、吊り下げたワークに対して洗
浄液を吹きつけることにより、ワーク表面の付着物を除
去する方法である。しかし、この方法では、ワーク表面
に対してむら無く洗浄液を吹きっけるためには、ワーク
に対する洗浄液吹きっけ方向を変更するなどの機構が必
要である。また、ノズルから噴射された洗浄液はワーク
以外の部分にも飛散するので、洗浄液の使用量の割りに
は洗浄効率が低い。さらには、飛散した洗浄液が引火性
のものであったり、臭気の強いものである場合には、飛
散した洗浄液を回収するための機構が必要となる。2. Description of the Related Art Conventionally known as such a method for cleaning a work is a method of spraying a cleaning liquid onto a suspended work to remove the deposits on the surface of the work. However, in this method, in order to spray the cleaning liquid evenly on the surface of the work, a mechanism such as changing the direction of spraying the cleaning liquid on the work is required. Further, since the cleaning liquid sprayed from the nozzles is scattered on the part other than the work, the cleaning efficiency is low relative to the amount of the cleaning liquid used. Furthermore, when the scattered cleaning liquid is flammable or has a strong odor, a mechanism for collecting the scattered cleaning liquid is required.
【0003】このような点に鑑みて、本件出願人は、ワ
ーク洗浄方法として、洗浄液を貯留した洗浄液槽中にワ
ークを浸漬し、浸漬状態にあるワークに対して、洗浄液
の噴流を吹きつける方法を提案している。この洗浄方法
によれば、貯留された洗浄液中において洗浄液の噴流が
形成されるので、洗浄液か外部に飛散することがなく、
洗浄液の回収効率か良い。また、噴流によって貯留され
た洗浄液内に渦流が形成され、かかる渦流か、噴流か直
接には当たらないワーク表面の部分に当たるので、洗浄
効率が高まるといった利点がある。In view of the above points, the applicant of the present invention, as a method for cleaning a work, is a method of immersing a work in a cleaning liquid tank in which the cleaning liquid is stored, and spraying a jet of the cleaning liquid on the immersed work. Is proposed. According to this cleaning method, since the jet of the cleaning liquid is formed in the stored cleaning liquid, the cleaning liquid does not scatter to the outside,
Good cleaning liquid recovery efficiency. Further, since a vortex is formed in the cleaning liquid stored by the jet flow and hits the vortex flow or a part of the work surface that does not directly contact the jet flow, there is an advantage that cleaning efficiency is increased.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、この
新規なワーク洗浄方法を利用してワーク洗浄を効率良く
行うと共に、洗浄後のワークに付着した洗浄液を効率良
く洗い落とすことの可能なワーク洗浄方法および洗浄装
置を実現することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to efficiently wash a work using this novel work washing method and to efficiently wash off a washing liquid adhering to the washed work. It is to realize a cleaning method and a cleaning device.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明のワーク洗浄方法では、まず、洗浄液中に
ワークを浸漬させた状態で、このワークに対して洗浄液
を噴射することによってワークを洗浄するようにしてい
る。この洗浄工程の次に、ワークを純水中に浸潰し、こ
の浸漬状態にあるワークに対して今度は純水を噴射する
ことによってワークに付着した洗浄液を洗い落とすよう
にしている。さらに、このリンス工程の後に、純水中に
ワークを浸漬し、あるいは大気中においてワークに純水
を噴射することにより、再度ワークを洗うようにしてい
る。このように、本発明の方法では、ワークに対して、
洗浄工程、第1のリンス工糧および第2のリンス工程を
施すことにより、ワークを洗浄するようにしている。In order to solve the above problems, in the work cleaning method of the present invention, first, the work is immersed in the cleaning liquid, and the cleaning liquid is sprayed onto the work. I try to wash the work. Subsequent to this cleaning step, the work is immersed in pure water, and pure water is sprayed to the work in this immersed state to wash away the cleaning liquid adhering to the work. Further, after the rinsing step, the work is washed again by immersing the work in pure water or by spraying pure water on the work in the atmosphere. Thus, according to the method of the present invention,
The work is cleaned by performing the cleaning process, the first rinse process, and the second rinse process.
【0006】ここに、洗浄効率を高めると共に、第1の
リンス工程において使用する純水の汚染を抑えるために
は、洗浄工程の後に、ワークを純水中に浸漬させる(予
備リンス工程)ことが好ましい。また、洗浄工程におい
て、洗浄後にワークを引き上げる際に、ワークに付着し
ている洗浄液を効率良く払い落とすために、洗浄液から
引上げられるワークに対して空気などの気体を吹きつけ
て、洗浄液を払い落とす(液切り工程)ようにすること
か好ましい。同様に、第2のリンス工程を経た後に純水
中から引上げられるワークに対しても同様に空気などの
気体を吹きつけることにより、ワークに付着している純
水を払い落とすこと(水切り工程)か好ましい。なお、
上記の各工程を経て洗浄されたワークは、乾燥工程を経
て乾燥される。Here, in order to improve the cleaning efficiency and suppress the contamination of the pure water used in the first rinse step, the work should be immersed in the pure water after the cleaning step (preliminary rinse step). preferable. Further, in the cleaning process, when the work is pulled up after cleaning, in order to efficiently remove the cleaning liquid adhering to the work, a gas such as air is blown to the work pulled up from the cleaning liquid to remove the cleaning liquid. (Draining step) is preferable. Similarly, the pure water adhering to the work is wiped off by blowing a gas such as air to the work that is pulled up from the pure water after the second rinse step (draining step). Or preferable. In addition,
The work washed through the above steps is dried through a drying step.
【0007】次に、本発明のワーク洗浄装置は、ワーク
洗浄部と、第1のリンス部と、第2のリンス部を有する
ことを基本的な特微としている。ワーク洗浄部は、ワー
ク洗浄液を貯留した洗浄槽と、洗浄槽にワークを出し入
れするためのワーク搬送手段と、洗浄槽内に浸漬された
ワークに対して洗浄液を噴射するノズルなどの噴流形成
手段とを備えた構成となっている。第1のリンス部も同
様な構成であり、純水を貯留した純水槽と、純水槽にワ
ークを出し入れするためのワーク搬送手段と、純水槽内
に浸漬されたワークに対して縄水を噴射するノルズなど
の噴流形成手段とを備えた構成となっている。一方、第
2のリンス部は、純水を貯留した純水槽と、純水に対し
てワークを出し入れするためのワーク搬送手段とを備え
た構成となっている。Next, the work cleaning apparatus of the present invention is basically characterized by having a work cleaning section, a first rinse section, and a second rinse section. The work cleaning unit includes a cleaning tank in which the work cleaning liquid is stored, a work transfer means for loading and unloading the work into and from the cleaning tank, and a jet forming means such as a nozzle for injecting the cleaning liquid onto the work immersed in the cleaning tank. It is configured with. The first rinse unit has the same structure, and a pure water tank storing pure water, a work transfer means for loading and unloading the work into and from the pure water tank, and spraying rope water on the work immersed in the pure water tank. And a jet forming means such as a nozzle. On the other hand, the second rinsing section is configured to include a pure water tank that stores pure water, and a work transfer means for taking a work in and out of the pure water.
【0008】ここに、洗浄効率を高めると共に、第1の
リンス槽における純水槽が洗浄液で汚染される度合いを
抑えるためには、ワーク洗浄部と第1のリンス部との間
に、予備リンス部を配置し、この予備リンス部におい
て、ワークに付着した洗浄液を予備洗浄することか好ま
しい。この予備リンス部の構成は、上記の第2のリンス
部と同様な構成とすることかできる。また、ワーク洗浄
部において洗浄槽から引き合げられるワークに付着して
いる洗浄液を払い落とすために、ワークに対して空気な
どの気体を吹きつける液切り手段を有していることが好
ましい。同様に、第2のリンス部においても、純水槽か
ら引上げられるワークに付着している純水を払い落とす
ために、ワークに対して空気などを吹きつける水切り手
段を有することが好ましい。Here, in order to improve the cleaning efficiency and suppress the degree of contamination of the deionized water tank in the first rinse tank with the cleaning liquid, a preliminary rinse section is provided between the work cleaning section and the first rinse section. It is preferable that the cleaning liquid adhering to the work be preliminarily cleaned in this preliminary rinsing section. The structure of the preliminary rinse portion may be the same as that of the second rinse portion described above. Further, it is preferable that the work cleaning unit has a liquid draining unit for blowing a gas such as air to the work in order to brush off the cleaning liquid adhering to the work drawn from the cleaning tank. Similarly, it is preferable that the second rinse section also has a water draining means for blowing air or the like to the work in order to remove the pure water attached to the work pulled up from the pure water tank.
【0009】上記の第1のリンス部および第2のリンス
部において、それぞれの純水槽から溢れ出た純水を回収
する共用の回収槽を配置し、この回収槽で回収した純水
を濾過した後に、第1のリンス部における噴流形成手段
および第2のリンス部における純水槽に運流させる構成
を採用することかできる。In the first rinse section and the second rinse section, a common recovery tank for recovering the pure water overflowing from each pure water tank is arranged, and the pure water recovered in this recovery tank is filtered. After that, it is possible to adopt a configuration in which the jet flow forming means in the first rinse portion and the pure water tank in the second rinse portion are carried.
【0010】上記のワーク洗浄部および第lのリンス部
におけるそれぞれの噴流形成手段は、例えば、ポンプ
と、このポンプから圧送される洗浄液あるいは気体をワ
ークに向けて吹き出すノズルから構成することができ
る。同様に、上記の洗浄液除去手段および水切り手段
は、ポンプと、このポンブから圧送される空気をワーク
に向けて吹き出すノズルから構成することができる。Each of the jet forming means in the work cleaning section and the first rinsing section can be composed of, for example, a pump and a nozzle that blows out the cleaning liquid or gas pumped from the pump toward the work. Similarly, the cleaning liquid removing means and the water draining means can be composed of a pump and a nozzle that blows out the air pressure-fed from the pump toward the work.
【0011】上記のワーク搬送手段は、ワークを昇降さ
せるワーク昇降機構と、ワークを次段側に向けて搬送す
る横搬送機構から構成することができる。この代わり
に、例えば、搬送べルトを用いて搬送手段を構成するこ
とができる。この場合には、搬送べルトによるワーク搬
送経路が洗浄液槽内および純水槽内を通過するように、
その搬送経路を設定すれはよい。The work transfer means can be composed of a work elevating mechanism for elevating the work and a lateral transfer mechanism for transferring the work toward the next stage. Instead of this, for example, a transport belt can be used to configure the transport means. In this case, the work transfer path by the transfer belt passes through the cleaning liquid tank and the pure water tank,
It suffices to set the transport route.
【0012】一方、本発明の装置により洗浄されるワー
クとしては、プリント基板、液晶パネルなどの板状ワー
クが代表的なものである。このようなワークを洗浄する
場合には、多数枚のワークを整列状態に保持するキャリ
アを用いて、所謂バッチ式にワークの洗浄を行うように
することができる。On the other hand, as a work to be cleaned by the apparatus of the present invention, a plate-like work such as a printed board and a liquid crystal panel is typical. In the case of cleaning such works, the works can be cleaned in a so-called batch manner by using a carrier that holds a large number of works in an aligned state.
【0013】[0013]
【作用】本発明においては、洗浄工程あるいはワーク洗
浄部において、洗浄液中においてワークに対して洗浄液
の噴流が吹きつけられる。洗浄液の噴流が洗浄液中に形
成されると、この噴流により、洗浄液中に各方向に向か
う渦流が形成される。この結果、洗浄液の噴流が直接当
たるワークの部分は、洗浄液の化学的作用およびその吹
きつけ力により、付着物が効率よく除去される。また、
洗浄液噴流が直接に当たらないワークの部分には、洗浄
液の渦流が当たり、やはり同様に、洗浄液の化学的作用
およびその物理的作用により、付着物が効率良く除去さ
れる。また、洗浄中において洗浄液噴流が形成されるの
で、大気中において洗浄液をワークに対して吹きつける
場合のように吹きつけた洗浄液が大気中に飛散するとい
うことがない。In the present invention, in the cleaning process or the work cleaning section, the jet of the cleaning liquid is sprayed onto the work in the cleaning liquid. When a jet flow of the cleaning liquid is formed in the cleaning liquid, the jet flow forms a vortex flow in each direction in the cleaning liquid. As a result, in the portion of the work directly hit by the jet of the cleaning liquid, the deposit is efficiently removed by the chemical action of the cleaning liquid and its spraying force. Also,
The vortex of the cleaning liquid hits the part of the work which is not directly contacted by the cleaning liquid jet, and similarly, the chemical action of the cleaning liquid and the physical action thereof remove the adhering substances efficiently. Further, since the cleaning liquid jet is formed during the cleaning, the cleaning liquid sprayed does not scatter into the atmosphere as in the case of spraying the cleaning liquid onto the work in the atmosphere.
【0014】このようにして、洗浄液中において付着物
が除去されたワークは、次に、第1のリンス行程あるい
は第1のリンス部において、純水中に浸漬され、この状
態で純水噴流が吹きつけられる。この場合にも、上記の
洗浄液噴流を吹きつける場合と同様に、ワークに対して
純水噴流が吹きつけられると共に、純水噴流が直接には
当たらないワークの部分には、純水噴流により形成され
た渦流が当たる。この結果、ワークに付着した洗浄液が
確実に洗い落とされる。この後は、第2のリンス行程あ
るいは第2のリンス部において、ワークは再び純水中に
浸漬され、あるいは純水が吹きつけられる。この結果、
ワークに付着している洗浄液が完全に洗い落とされる。The work from which the deposits have been removed in the cleaning liquid as described above is then immersed in pure water in the first rinsing step or the first rinsing section, and in this state, the pure water jet flow is generated. Be blown. Also in this case, as in the case of spraying the cleaning liquid jet described above, the pure water jet is sprayed onto the work, and the pure water jet is formed on the portion of the work not directly hit by the pure water jet. The eddy current is hit. As a result, the cleaning liquid attached to the work is surely washed off. After that, in the second rinsing step or the second rinsing section, the work is again immersed in pure water or sprayed with pure water. As a result,
The cleaning liquid adhering to the work is completely washed off.
【0015】[0015]
【実施例】以下に、図面を参照して本発明の実施例を説
明する。 (全体構成)第1図には、本例のワーク洗浄装置の全体
構成を模式的に示してある。本例の装置は電子回路用の
プリント基板を洗浄するために適したものであり、キヤ
リヤ2を用いてワーク(プリント基板)Wを複数枚づつ
洗浄する構成となっている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Overall Configuration) FIG. 1 schematically shows the overall configuration of the workpiece cleaning apparatus of this example. The apparatus of this example is suitable for cleaning a printed circuit board for an electronic circuit, and is configured to clean a plurality of works (printed circuit boards) W by using the carrier 2.
【0016】この第1図に示すように、本例の装置1
は、ワーク搬送経路の上流側から順に、洗浄部3、第1
の予備リンス部4、第2の予備リンス部5、第1のリン
ス部6、第2のリンス部7および乾燥部8が配列された
構成となっている。洗浄部3においては、プリント基板
用洗浄剤を合む洗浄液を、洗浄液中においてワークに対
して噴射することにより、ワークの洗浄を行う。第1お
よび第2の予備リンス部4、5においては、洗浄剤など
の不純物を含まない水、すなわち純水の中にワークを浸
漬して上下に揺動させることにより、ワークに付着して
いる洗浄液等を洗い落とす。第lのリンス部6において
は、純水中においてワークに対して純水を噴射すること
によリワークから洗浄水等を洗い落とす。第2のリンス
部7においては、上記の第1あるいは第2の予備リンス
部と同様に、純水中にワークを浸漬して上下に揺動させ
ることのより、ワークに付着している洗浄水等を洗い落
とす。As shown in FIG. 1, the device 1 of the present example.
Is a cleaning unit 3 and a first unit in order from the upstream side of the work transfer path.
The preliminary rinse section 4, the second preliminary rinse section 5, the first rinse section 6, the second rinse section 7, and the drying section 8 are arranged. The cleaning unit 3 cleans the work by spraying a cleaning liquid containing a cleaning agent for the printed circuit board onto the work in the cleaning liquid. In the first and second preliminary rinse portions 4 and 5, the work is immersed in water containing no impurities such as a cleaning agent, that is, pure water, and is shaken up and down to adhere to the work. Wash off the cleaning solution. In the 1st rinse section 6, the cleaning water and the like is washed off from the rework by injecting pure water onto the work in pure water. In the second rinse section 7, as in the case of the first or second preliminary rinse section, the work is immersed in pure water and rocked up and down, so that the cleaning water adhering to the work is washed. Wash off etc.
【0017】最後に、乾燥部8においては、ワークを商
温雰囲気中に晒して、そこに残っている純水を除去す
る。一方、本例の装置においては、洗浄部3、第1の予
備リンス部4および第2のリンス部7において、それぞ
れ洗浄液中あるいは純水中から引上げられたワークに対
して空気を噴射することによリワークから洗浄液あるい
は純水を吹き落とすための空気吹きつけ部9が配置され
ている。Finally, in the drying section 8, the work is exposed to a commercial temperature atmosphere to remove the pure water remaining therein. On the other hand, in the apparatus of the present example, in the cleaning unit 3, the first preliminary rinse unit 4 and the second rinse unit 7, air is jetted to the workpiece pulled from the cleaning liquid or pure water, respectively. An air blowing section 9 is provided to blow off the cleaning liquid or pure water from the rework.
【0018】本例の装置で使用するワークWを担持する
キヤリア2の構造を説明する。第5図に示すように、キ
ヤリア2は、両端に配置した矩形枠21、22を、底面
を規定する4本のワーク支持棒23、24、25、26
とワーク取付け用の切り欠きが形成された2本の切り欠
き付き棒27、28とによって連結した構造となってい
る。切り欠き付き棒27、28の内側面には、その材軸
方向に沿って等間隔で切り欠き27l、28lか形成さ
れており、対応する切り欠き271、281の間に、一
枚づつのワークWが上側から差し込み可能となってい
る。また、これらの切り欠き付き棒27、28は、その
間隔を変更可能となっており、これにより幅の異なるワ
ークWを担持可能となっている。さらには、矩形枠2
l、22の上面側には取っ手29、29(図において一
方のみを示してある。)が取付けられており、キヤリヤ
の取扱いが容易となっている。The structure of the carrier 2 carrying the work W used in the apparatus of this embodiment will be described. As shown in FIG. 5, the carrier 2 has four frame support rods 23, 24, 25, 26 that define the bottom surfaces of the rectangular frames 21, 22 arranged at both ends.
And two rods with notches 27 and 28 each having a notch for attaching a workpiece are connected to each other. Notches 27l and 28l are formed on the inner side surfaces of the notched rods 27 and 28 at equal intervals along the material axis direction, and one work piece is provided between the corresponding notches 271 and 281. W can be inserted from the upper side. Further, the notched rods 27 and 28 can change the interval thereof, so that the works W having different widths can be carried. Furthermore, the rectangular frame 2
Handles 29, 29 (only one of which is shown in the figure) are attached to the upper surfaces of the l, 22 to facilitate handling of the carrier.
【0019】(各部の構造) キャリア搬送系 第2図ないし第5図を参照して、本例の装置1の構造を
キャリア搬送系を中心に説明する。(Structure of Each Part) Carrier Conveying System With reference to FIGS. 2 to 5, the structure of the apparatus 1 of this example will be described focusing on the carrier conveying system.
【0020】本例の装置1は、第2図および第3図に示
すように、その本体部12におけるワークWの搬送方向
の上流側にローダ11が接続され、ワーク搬送方向の下
流側にアンローダ13か接続された構成となっている。
本体部12には、上述した洗浄部、第1および第2の予
備リンス部、第1および第2のリンス部が配置されてい
る。この本体部12のケース121における前面側には
開閉蓋122が形成されている。第4図に想像線で示す
ように開閉蓋122を開けることにより、ケース内部に
アクセスすることが可能である。ケース内部には、ワー
ク搬送方向の上流側から順に、洗浄部の洗浄液槽31、
第1の予備リンス部の純水槽41、第2の予備リンス部
の純水槽51、第1のリンス部の純水槽61、第2のリ
ンス部の純水槽71が一列に配置されている。In the apparatus 1 of this embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, a loader 11 is connected to an upstream side of the main body 12 in the carrying direction of the work W, and an unloader is provided downstream of the work carrying direction. 13 are connected.
The cleaning unit, the first and second preliminary rinse units, and the first and second rinse units described above are arranged in the main body unit 12. An opening / closing lid 122 is formed on the front side of the case 121 of the main body 12. The inside of the case can be accessed by opening the opening / closing lid 122 as shown by the imaginary line in FIG. Inside the case, in order from the upstream side in the work transfer direction, the cleaning liquid tank 31 of the cleaning unit,
A pure water tank 41 for the first preliminary rinse section, a pure water tank 51 for the second preliminary rinse section, a pure water tank 61 for the first rinse section, and a pure water tank 71 for the second rinse section are arranged in a line.
【0021】これらの各槽の上方位置には、隣接する各
槽に跨かる状態に、ローラスライダ32、42、52、
62が一定の間隔をもって一列に配置されている。ロー
ラスライダ32の上流側、ローラスライダ62の下流
側、および各ローラスライダの間には、同じくローラス
ライダからなるワーク支持部33、43、53、63、
73が配置されている。これらのワーク支持部は、ケー
ス内において各槽の裏面側に配置した昇降機構34、4
4、54、64、74によって昇降可能となっている。Above the respective tanks, the roller sliders 32, 42, 52, and 52 are arranged so as to straddle the adjacent tanks.
62 are arranged in a line at regular intervals. Between the roller slider 32 on the upstream side, the roller slider 62 on the downstream side, and between the roller sliders, work supporting portions 33, 43, 53, 63, which are also roller sliders, are provided.
73 are arranged. These work supporting portions are provided by the elevating mechanisms 34, 4 arranged on the back side of each tank in the case.
It is possible to move up and down by 4, 54, 64 and 74.
【0022】第4図から分かるように、洗浄部の昇降機
構34は、洗浄液槽31の裏面側において垂直となるよ
うにケースに取りつけた昇降案内ロッド341と、この
ロッド341の外周に摺動可能に取りつけた摺動部34
2と、この摺動部342を昇降させるためのチェーン3
43と艇動モーター344と、摺動部に取りつけたL型
アーム345とから構成され、このアームの先端に上記
のワーク支持部33か支持されている。この構成の昇降
機構34によって、ワーク支持部33は、少なくとも、
ローラスライダ32、42、52、62と同一高さの上
限位置(第2図参照)から、ワーク支持部によって支持
されているワークWが完全に洗浄液槽31内に浸漬した
状態となる高さの下限位置(第4図参照)まで昇降可能
となっている。その他の昇降機構44、54、64、7
4の構成も、この昇降機構34と同様であるので、その
説明は省略する。As can be seen from FIG. 4, the elevating mechanism 34 of the cleaning section is slidable on the elevating guide rod 341 mounted on the case so as to be vertical on the back side of the cleaning liquid tank 31 and the outer periphery of this rod 341. Sliding part 34 attached to
2 and a chain 3 for moving up and down the sliding portion 342.
43, a boat motion motor 344, and an L-shaped arm 345 attached to the sliding portion, and the work support portion 33 is supported at the tip of this arm. By the elevating mechanism 34 having this configuration, the work supporting portion 33 is at least
From the upper limit position (see FIG. 2) which is at the same height as the roller sliders 32, 42, 52 and 62, the work W supported by the work supporting part is completely immersed in the cleaning liquid tank 31. It is possible to move up and down to the lower limit position (see Fig. 4). Other lifting mechanisms 44, 54, 64, 7
The configuration of No. 4 is also the same as that of the elevating mechanism 34, and therefore its description is omitted.
【0023】次に、本体ケース121の搬送方向上流側
の端面には、キャリア導入口123か形成されており、
ここを貫通した状態に、ローダ11を構成する搬送べル
ト111が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一
列となるように配置されてる。この搬送べルト111は
支持脚112によって電装ボックス202上支持されて
いる。また、この搬送べルト111は不図示の駆動機構
によって駆動可能である。Next, a carrier introduction port 123 is formed on the end surface of the main body case 121 on the upstream side in the carrying direction.
In a state of penetrating therethrough, the conveyor belts 111 that constitute the loader 11 are arranged in a line at the same height position as the internal roller slider. The transport belt 111 is supported on the electrical equipment box 202 by support legs 112. The transport belt 111 can be driven by a drive mechanism (not shown).
【0024】本例においては、搬送バルト111を構成
するチェーンに、一定のピッチでキヤリア係合用の爪
(図示せず)か取付けられ、駆動機構によりこの一定の
ピッチずつ駆動されるようになっている。本例における
搬送べルト111は、一定のピッチで3個のキヤリア2
を同時に搭載可能であり、そのうちの先頭のキャリア2
を搭載した部分が、第2図から分かるように、本体ケー
ス内に位置するように配置されている。In the present example, a carrier engaging pawl (not shown) is attached to the chain which constitutes the conveyor belt 111 at a constant pitch, and is driven by the drive mechanism at a constant pitch. There is. The conveyor belt 111 in this example has three carriers 2 at a constant pitch.
Can be installed at the same time, of which the first carrier 2
As can be seen from FIG. 2, the part on which is mounted is arranged so as to be located inside the main body case.
【0025】本体ケース121の下流側端面には、キャ
リア搬出口124が形成されており、ここを貫通した状
態に、アンローダ13を構成するローラスライダ131
が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一列となる
ように配置されている。このスライダも支持脚132に
よって床F上に支持されている。本例においては、この
アンローダ13に3個のキヤリア2を搭載可能となって
いる。そして、ここの3個のキヤリアが集積された場合
には、その旨が自動的に表示可能となっている。かかる
表示機構は簡単に構成することかできるので、ここでは
これ以上の説明は省略する。A carrier outlet 124 is formed on the downstream end surface of the main body case 121, and a roller slider 131 constituting the unloader 13 is formed in a state of penetrating therethrough.
Are arranged so as to form a line at the same height position as the inner roller slider. This slider is also supported on the floor F by the support legs 132. In this example, three carriers 2 can be mounted on this unloader 13. And, when these three carriers are accumulated, the fact can be automatically displayed. Since such a display mechanism can be simply constructed, no further explanation will be given here.
【0026】一方、各処理部3〜7において、キヤリア
支持部33、43、53、63、73の上方における上
流側の位置には、キャリア横搬送経路に直交する状態
に、プッシャー35、45、55、65、75が配置さ
れている。また、キャリア搬入口124の内側にもプッ
シヤー115が配置されている。これらのプッシヤー
は、各槽の前面側においてキヤリア横搬送経路と平行に
配置したプッシャー駆動機構36によって支持されてい
る。この腿動機構36により、各ブッシャーは、第2図
に示す初期動作位置から、下流側の隣接するプッシャの
位置までの間を往復移動可能となっている。さらに、こ
のプッシヤー駆動機構36は、各プッシャーを、第4図
に示すように、実線で示す位置から想像線で示す退避位
置まで旋回可能に支持している。後述するように、これ
らのプッシヤーにより、キャリア2は順次に次段側の処
理部に向けて横搬送される。On the other hand, in each of the processing sections 3 to 7, pushers 35, 45, and 45 are provided at positions upstream of the carrier support sections 33, 43, 53, 63, 73 in a state orthogonal to the transverse carrier transport path. 55, 65, and 75 are arranged. A pusher 115 is also arranged inside the carrier carry-in port 124. These pushers are supported by a pusher drive mechanism 36 arranged in parallel with the carrier lateral transport path on the front side of each tank. By this thigh movement mechanism 36, each busher can reciprocate between the initial operation position shown in FIG. 2 and the position of the adjacent pusher on the downstream side. Further, the pusher drive mechanism 36 supports each pusher so as to be rotatable from a position shown by a solid line to a retracted position shown by an imaginary line as shown in FIG. As will be described later, the carrier 2 sequentially laterally conveys to the processing unit on the next stage by these pushers.
【0027】洗浄液および純水の供給系 次に、第6図に示す本例の装置の配管系を主に参照し
て、各処理部3、4、5、6、7の構造を説明する。Supply System of Cleaning Liquid and Pure Water Next, the structure of each processing section 3, 4, 5, 6, 7 will be described mainly with reference to the piping system of the apparatus of this example shown in FIG.
【0028】洗浄部3の洗浄液槽31は、上方が開放し
たほぼ立方体形状の洗浄液本体槽311と、この外周を
囲む状態に形成したオーバーフロー槽312とから構成
されている。本体槽311内には、アルカリけん化剤を
合むワーク洗浄液313が貯留されている。ここに貯留
されている洗浄液313は、槽内に配置した棒状ヒータ
ー3l5によりー定の温度、例えば60℃に保持される
ようになっている。The cleaning liquid tank 31 of the cleaning unit 3 is composed of a cleaning liquid main body tank 311 having a substantially cubic shape with an open upper side, and an overflow tank 312 formed so as to surround the outer periphery thereof. A work cleaning liquid 313 containing an alkali saponifying agent is stored in the main body tank 311. The cleaning liquid 313 stored here is kept at a constant temperature, for example, 60 ° C. by a rod-shaped heater 315 arranged in the tank.
【0029】本体槽311内には、洗浄液を噴射可能な
複数のノズルが配置されている。本例においては、第6
図および第7図に示すように、一方の側において水平に
2列のノズル群316a、316bが配置され、他方の
側においては、これらのノズル群とは異なる高さ位置に
おいて水平に2列のノズル群316c、316dが配置
されている。これらのノズルとしては、噴角60度の充
円錐タイプものを使用することかできる。これらのノズ
ル群は、洗浄液循環経路317を介して、オーバーフロ
ー槽312の底面に連通している。Inside the main body tank 311, a plurality of nozzles capable of spraying the cleaning liquid are arranged. In this example, the sixth
As shown in the drawings and FIG. 7, two rows of nozzle groups 316a and 316b are arranged horizontally on one side, and on the other side, two rows of nozzle groups 316a and 316b are horizontally arranged at a height position different from those of these nozzle groups. Nozzle groups 316c and 316d are arranged. As these nozzles, full cone type nozzles having an injection angle of 60 degrees can be used. These nozzle groups communicate with the bottom surface of the overflow tank 312 via the cleaning liquid circulation path 317.
【0030】この循環経路317には、ポンプ318が
配置され、このポンプとオーバーフロー槽との間にはス
トレーナ319が配置されている。ストレーナ319よ
りも上流側の循環経路には自動開閉弁321を介してア
ルカリけん化剤補充タンク322が接続されている。自
動開閉弁321は、オーバーフロー槽312に取りつけ
た三本足液面計323により開閉制御され、これによっ
て、自動的にアルカリけん化剤が循環経路内に補給され
る。ノズル群と洗浄液循環経路317とは、自動開閉弁
324、325を介して接続されており、これらの開閉
弁はキヤリア2が検出されると自動的に開き、それ以外
の場合は閉じている。これらの自動開閉弁が閉じている
状態では、ポンプ318から吐出される洗浄液は、上記
の自動開閉弁とは逆の開閉動作を行う自動開閉弁326
が介挿されたバイバス通路327を介して、洗浄液本体
槽311内に還流される。また、ポンプ吐出側には開閉
弁328が介挿されており、汚れた洗浄液は産業廃液と
してこの開閉弁328を介して所定の処理部に向けて排
出される。A pump 318 is arranged in the circulation path 317, and a strainer 319 is arranged between the pump and the overflow tank. An alkaline saponifying agent replenishment tank 322 is connected to the circulation path upstream of the strainer 319 via an automatic opening / closing valve 321. The automatic on-off valve 321 is controlled to be opened and closed by a three-legged liquid level gauge 323 attached to the overflow tank 312, whereby the alkaline saponifying agent is automatically replenished in the circulation path. The nozzle group and the cleaning liquid circulation path 317 are connected via automatic opening / closing valves 324 and 325, and these opening / closing valves are automatically opened when the carrier 2 is detected, and are otherwise closed. In the state where these automatic opening / closing valves are closed, the cleaning liquid discharged from the pump 318 is automatically opened / closed by the automatic opening / closing valve 326 which performs the opening / closing operation opposite to the above-mentioned automatic opening / closing valve.
It is recirculated into the cleaning liquid main body tank 311 through the bypass passage 327 in which is inserted. An opening / closing valve 328 is inserted on the pump discharge side, and the dirty cleaning liquid is discharged as industrial waste liquid toward a predetermined processing section via the opening / closing valve 328.
【0031】この洗浄液本体槽311は、開閉弁を介し
て、純水供給系33。および純水回収系329に接続さ
れている。純水供給系330には、イオン交換器および
フィルタを備えた純水器331が介挿されている。The cleaning liquid main body tank 311 is provided with a pure water supply system 33 via an opening / closing valve. And a pure water recovery system 329. A pure water device 331 including an ion exchanger and a filter is inserted in the pure water supply system 330.
【0032】次に、第1および第2の予備リンス部4、
5は同様の構造となっている。すなわち、純水を貯留し
た純水槽41、51を備えており、これらに貯留された
純水は、循環経路411、511を介して循環される。
これらの循環経路411、511には、ポンプ412、
512およびストレーナ413、513が介挿されてい
る。各ポンプの吐出側には開閉弁414、514が接続
されている。第1の予備リンス部の開閉弁414を開く
と、ここを介して汚れた洗浄水が産業廃液として所定の
処理部に向けて排出される。これに対して、第2の予備
リンス部の開閉弁を開くと、この第2の予備リンス部の
側の循環水が第lの予備リンス部の純水槽4l内に供給
される。ここに、第2の予備リンス部の純水槽5l内に
は棒状ヒーター5l5が配置されており、このヒーター
により純水槽41、51内の純水の温度を所定の温度、
例えぱ60℃に保持するようになっている。一方、これ
ら第1および第2のリンス部における純水槽41、51
は、自動開閉弁416、516を介して、純水供給系3
30に接続されている。これらの自動開閉弁416、5
16の開閉は、純水槽41、51に取りつけたフロート
スイッチ417、517により制御されるようになって
いる。また、純水槽41、51は、開閉弁を介して純水
回収系329に接続されている。Next, the first and second preliminary rinse sections 4,
5 has the same structure. That is, the deionized water tanks 41 and 51 that store deionized water are provided, and the deionized water stored in these is circulated through the circulation paths 411 and 511.
Pumps 412, are provided in these circulation paths 411, 511.
512 and strainers 413 and 513 are inserted. On-off valves 414 and 514 are connected to the discharge side of each pump. When the opening / closing valve 414 of the first preliminary rinse section is opened, the dirty cleaning water is discharged via this as a waste industrial solution toward a predetermined processing section. On the other hand, when the opening / closing valve of the second preliminary rinse section is opened, the circulating water on the side of the second preliminary rinse section is supplied into the deionized water tank 41 of the first preliminary rinse section. Here, a rod-shaped heater 5l5 is arranged in the deionized water tank 5l of the second preliminary rinse section, and the temperature of deionized water in the deionized water tanks 41 and 51 is set to a predetermined temperature by this heater.
For example, the temperature is kept at 60 ° C. On the other hand, the pure water tanks 41, 51 in the first and second rinse parts
Is connected to the pure water supply system 3 via the automatic open / close valves 416 and 516.
It is connected to 30. These automatic open / close valves 416, 5
Opening and closing of 16 is controlled by float switches 417 and 517 attached to pure water tanks 41 and 51. Further, the pure water tanks 41 and 51 are connected to a pure water recovery system 329 via an open / close valve.
【0033】次に、第1および第2のリンス部6、7の
構造を説明する。これらのリンス部の純水槽61、71
は、上方が開いた直方体形状の共通ケース611内を仕
切ることにより区画形成されている。すなわち、第8図
に示すように、共通ケース611内を仕切り板612に
よって完全に二分割し、狭い方の側の区画室613を第
2のリンス部の純水槽71としてある。これに対して、
広い方の側の区画室614内に、一回り小さな角形円筒
形状の仕切り板615を配置することにより、第1のリ
ンス部の純水槽61と、これを取り囲む純水回収槽61
6を形成してある。ここに、純水槽61と純水槽71の
間に位置する純水回収槽616の部分616aには、更
に別個の仕切り板617が配置され、この仕切り板61
7により、この部分616aの上半部分が第1のリンス
部の側と第2のリンス部の側に分けられ、下半部分は連
通状態のままとされている。この純水回収槽616に
は、棒状ヒーター618が配置されており、純水槽6
1、71内の温度を所定の温度、例えぱ60℃に保持す
るようになっている。Next, the structure of the first and second rinse portions 6 and 7 will be described. Pure water tanks 61 and 71 for these rinse parts
Are partitioned and formed by partitioning the inside of a common case 611 having a rectangular parallelepiped shape whose upper side is open. That is, as shown in FIG. 8, the inside of the common case 611 is completely divided into two by the partition plate 612, and the compartment 613 on the narrower side serves as the deionized water tank 71 of the second rinse section. On the contrary,
By arranging a partition plate 615, which is a little smaller in the shape of a rectangular cylinder, in the compartment 614 on the wide side, the pure water tank 61 of the first rinse section and the pure water recovery tank 61 surrounding the pure water tank 61.
6 is formed. Here, a separate partition plate 617 is further arranged at the portion 616a of the pure water recovery tank 616 located between the pure water tank 61 and the pure water tank 71.
7, the upper half of this portion 616a is divided into the first rinse portion side and the second rinse portion side, and the lower half portion remains in the communicating state. A rod-shaped heater 618 is arranged in the pure water recovery tank 616, and
The temperature inside 1 and 71 is maintained at a predetermined temperature, for example, 60 ° C.
【0034】第1のリンス部6の純水槽61内には、複
数のノズルが配置されている。本例においては、一方の
側において水平に2列に配列したノズル群621a、6
21bと、これらと対峠する側において水平に2列に配
列したノズル群621c、621dとを有している。ノ
ズルの配置形状は前述した洗浄部3の洗浄液槽における
ものと同様である。これらの双方の側のノズル群は、そ
れぞれ自動開閉弁622、623を介してポンプ624
の吐出側に接続され、ポンプの吸込み側はストレーナ6
25を介して純水回収槽616に接続されている。自動
開閉弁622、623は、キヤリア2が検知されると自
動的に開き、それ以外の場合には閉じた状態に保持され
る。これらが閉じた状態にある場合には、ポンプから吐
き出される純水は、上記の自動開閉弁とは逆の開閉動作
を行う自動開閉弁626が介挿されたバイバス通路62
7を介して純水槽61内に還流される。A plurality of nozzles are arranged in the pure water tank 61 of the first rinse section 6. In this example, the nozzle groups 621a and 6 arranged horizontally in two rows on one side.
21b and nozzle groups 621c and 621d horizontally arranged in two rows on the side facing them. The arrangement shape of the nozzles is the same as that in the cleaning liquid tank of the cleaning unit 3 described above. The nozzle groups on both sides of these pumps are respectively connected to the pump 624 via automatic opening / closing valves 622 and 623.
Is connected to the discharge side of the pump and the suction side of the pump is strainer 6
It is connected to a pure water recovery tank 616 via 25. The automatic opening / closing valves 622 and 623 are automatically opened when the carrier 2 is detected, and are otherwise held in the closed state. When these are in the closed state, the pure water discharged from the pump has a bypass passage 62 in which an automatic opening / closing valve 626 performing an opening / closing operation opposite to the above automatic opening / closing valve is inserted.
It is refluxed into the pure water tank 61 via 7.
【0035】ここに、純水回収槽616は、純水再生器
627を介して、第2のリンス部7の純水槽71に連通
している。純水再生器627は、純水回収槽に吸い込み
側が接続されたポンプ627aと、ポンプの吐出側に順
に接続された活性炭による濾過器627b、イオン交換
器627C、イオン交換器627dおよびフィルタ62
7eとから構成されており、この純水再生器により再生
された純水が純水槽71に戻されるようになっている。Here, the pure water recovery tank 616 communicates with the pure water tank 71 of the second rinse section 7 via the pure water regenerator 627. The pure water regenerator 627 includes a pump 627a whose suction side is connected to the pure water recovery tank, a filter 627b made of activated carbon which is sequentially connected to the discharge side of the pump, an ion exchanger 627C, an ion exchanger 627d and a filter 62.
7e, and the pure water regenerated by the pure water regenerator is returned to the pure water tank 71.
【0036】次に、第2のリンス部の純水槽71は、自
動開閉弁711を介して純水供給系330に接続されて
いる。この自動開閉弁711は、純水回収槽に取りつけ
たフロートスイツチ628により開閉動作が制御され
る。一方、双方の純水槽61、71はそれぞれ開閉弁を
介して、純水回収系329に接統されている。Next, the deionized water tank 71 of the second rinse section is connected to the deionized water supply system 330 via the automatic opening / closing valve 711. The opening / closing operation of this automatic opening / closing valve 711 is controlled by a float switch 628 attached to the pure water recovery tank. On the other hand, both deionized water tanks 61 and 71 are connected to a deionized water recovery system 329 via open / close valves.
【0037】空気吹き付け部 次に、第1図および第9図を主に参照して、空気吹きつ
け部9の構造を説明する。この空気吹きつけ部9は、圧
縮空気供給源91を有し、ここから供給される圧縮空気
は、フィルタおよびレギュレータ部92を介して、洗浄
部3、第1の予備リンス部4および第2のリンス部7に
それぞれ配置した空気吹き出し部93、94、95に供
給される。洗浄部3の空気吹き出し部93は、洗浄液本
体槽311における一対の対向側面の上方位置におい
て、平行に配置した2本の空気吹き出し部から形成され
ている。第2のリンス部7における空気吹き出し部95
も同様の構成である。これに対して、第1の予備リンス
部4における空気吹き出し部94は一本の空気吹き出し
部からなっている。各空気吹き出し部93、94、95
は、それぞれ手動開閉弁931、941、951および
自動開閉弁932、942、952を介して圧縮空気供
給源91の側に接続されている。各自動開閉弁は、キヤ
リアが槽内から引上げられるときに開かれるようになっ
ている。手動開閉弁は流量調整のために使用される。Air Blowing Section Next, the structure of the air blowing section 9 will be described mainly with reference to FIGS. 1 and 9. The air blowing unit 9 has a compressed air supply source 91, and the compressed air supplied from the compressed air supply source 91 passes through a filter and a regulator unit 92, the cleaning unit 3, the first preliminary rinse unit 4, and the second rinse unit 4. Air is supplied to the air blowing units 93, 94, and 95 arranged in the rinse unit 7, respectively. The air blowing part 93 of the cleaning part 3 is formed of two air blowing parts arranged in parallel above the pair of opposed side surfaces of the cleaning liquid body tank 311. Air blowing section 95 in the second rinse section 7
Has the same configuration. On the other hand, the air blowing portion 94 in the first preliminary rinse portion 4 is composed of one air blowing portion. Each air blowing section 93, 94, 95
Are connected to the compressed air supply source 91 side via manual on-off valves 931, 941, 951 and automatic on-off valves 932, 942, 952, respectively. Each automatic opening / closing valve is designed to be opened when the carrier is pulled up from the tank. A manual on-off valve is used for flow adjustment.
【0038】制御系 第10図には、本例の装置における制御系の主要部を示
してある。図において、201は装置1の全体を制御す
るためのコントーラであり、ローダ近傍に配置した電装
ポツクス202内に装着されている。203はコンソー
ルパネルであり、このパネル上には、各種の入力スイッ
チ群からなる入力部203aと、各部の作動状態等を表
示するための表示部203bが配置されている。コント
ローラ201の入力側には、プツシヤー駆動用の隙間検
知用センサ204が接続され、昇降機構駆動用の上限セ
ンサ205、上限接近検知用センサ206、下限センサ
207、下限接近検知用センサ208が接続されてい
る。また、洗浄部3における洗浄液の噴射時期および空
気噴射時期を制御するために使用するキャリア検知用セ
ンサ209、第1の予備リンス部4における空気噴射時
期を制御するための使用するキヤリア検知用センサ21
1、第1のリンス部6における純水の噴射時期を制御す
るために使用するキヤリア検知用センサ212、および
第2のリンス部7における空気噴射時期を制御するため
に使用するキヤリア検知用センサ213などか接続され
ている。Control System FIG. 10 shows the main part of the control system in the apparatus of this example. In the figure, 201 is a controller for controlling the entire apparatus 1, and is mounted in an electric equipment box 202 arranged near the loader. Reference numeral 203 denotes a console panel, on which an input unit 203a including various input switch groups and a display unit 203b for displaying an operating state of each unit are arranged. On the input side of the controller 201, a pusher driving gap detection sensor 204 is connected, and an elevating mechanism driving upper limit sensor 205, an upper limit approach detection sensor 206, a lower limit sensor 207, and a lower limit approach detection sensor 208 are connected. ing. Further, a carrier detection sensor 209 used to control the cleaning liquid injection timing and the air injection timing in the cleaning unit 3, and a carrier detection sensor 21 used to control the air injection timing in the first preliminary rinse unit 4.
1, a carrier detecting sensor 212 used to control the injection timing of pure water in the first rinse section 6, and a carrier detecting sensor 213 used to control the air injection timing in the second rinse section 7. Etc. are connected.
【0039】コントローラ201の出力側は、キヤリア
搬送系を構成する各駆動部分に接統されている。すなわ
ち、プッシヤー駆動部36、昇降機構34、44、5
4、64、74、ローダ駆動機構113、キヤリアがキ
ヤリア支持部からオーバーランするのを防止するストッ
パー37、47、57、67、77に接続されている。The output side of the controller 201 is connected to each drive portion which constitutes the carrier transport system. That is, the pusher drive unit 36, the lifting mechanisms 34, 44, 5
4, 64, 74, the loader drive mechanism 113, and stoppers 37, 47, 57, 67, 77 for preventing the carrier from overrunning the carrier support portion.
【0040】また、コントローラ出力側は、洗浄槽にお
ける洗浄液噴射を制御する自動開閉弁324、325、
326第1のリンス部における純水噴射を制御する自動
開閉弁622、623、626に接続されている。さら
には、洗浄部3、第1の予備リンス部4、第2のリンス
部7における空気噴射を制御する自動開閉弁932、9
42、952に接続されている。On the output side of the controller, automatic opening / closing valves 324, 325 for controlling the injection of the cleaning liquid in the cleaning tank,
326 It is connected to automatic opening / closing valves 622, 623, 626 that control the pure water injection in the first rinse section. Furthermore, automatic opening / closing valves 932, 9 that control the air injection in the cleaning unit 3, the first preliminary rinse unit 4, and the second rinse unit 7.
42 and 952.
【0041】洗浄動作 次に、コントローラの制御の下に行われる本例の洗浄装
置における洗浄動作を説明する。Washing Operation Next, the washing operation in the washing apparatus of this example performed under the control of the controller will be described.
【0042】第11図には1サイクルの洗浄動作のタイ
ミングチヤートを示してあり、第12図〜第16図には
各洗浄勤作時における状態を順次に示してある。駆動に
先立って、ローダ11の搬送べルト111の上に、ワー
クであるプリント基板Wを多数枚設置したキヤリア2を
乗せる。いま、第2図に示す状態から洗浄サイクルが開
始するものとする。この状態では、ローダ11に3個の
キャリア2(n)、2(n+l)、2(n+Z)か搭載
されており、各昇降機構にもそれぞれキャリアが搭載さ
れている。FIG. 11 shows the timing chart of the cleaning operation of one cycle, and FIGS. 12 to 16 show the states at the time of each cleaning operation in sequence. Prior to driving, the carrier 2 having a large number of printed circuit boards W, which are works, is placed on the conveyor belt 111 of the loader 11. Now, it is assumed that the cleaning cycle starts from the state shown in FIG. In this state, three carriers 2 (n), 2 (n + 1), and 2 (n + Z) are mounted on the loader 11, and each lifting mechanism is also equipped with a carrier.
【0043】まず、この状態から搬送動作が開始される
(第11図の時刻T1)。すなわち、プッシヤー11
5、35、45、55、65、75がそれらの搬送機構
36によって一定の距離だけ横移動し、これら横移動す
るプッシヤーによって各キヤリアは、ローラスライダ3
2、42、52、62の上を移動して、次段側の昇降機
構のキヤリア支持部33、43、53、63、73の上
に乗った状態となるまで前進する(第ll図の時刻Tl
〜T2)。第l2図にはこのようにして、ローダ11上
のキヤリア2(n)が洗浄部3のキヤリア支持部33上
まで横搬送された後の状態を示してある。キヤリア2が
所定の位置まで前進すると、各処理部に取りつけたキヤ
リア検知用センサ209〜213によってキヤリアか検
知される。First, the carrying operation is started from this state (time T1 in FIG. 11). That is, pusher 11
5, 35, 45, 55, 65, and 75 are laterally moved by a certain distance by their transport mechanism 36, and the carriers that move laterally move the rollers to the roller slider 3.
2, 42, 52, 62, and moves forward until the vehicle is placed on the carrier support portions 33, 43, 53, 63, 73 of the next-stage lifting mechanism (time in FIG. 11). Tl
~ T2). FIG. 12 shows a state after the carrier 2 (n) on the loader 11 has been laterally conveyed to the carrier support part 33 of the cleaning part 3 in this way. When the carrier 2 advances to a predetermined position, the carriers detecting sensors 209 to 213 attached to the respective processing units detect the carrier.
【0044】この後は、各昇降機構34、44、54、
64、74が駆動し、キヤリア2か槽内に向けて降下す
る。降下するキヤリアが下限近傍位置に到ると、これが
下限接近検知用センサ208により検知される(第11
図の時刻T3)。この後は、低速でキヤリアが降下す
る。キヤリアが下限位置に到ると、このことが下限セン
サ207により検知され、昇降機構によるキャリアの降
下が停止する(第11図の時刻T4)。After that, the lifting mechanisms 34, 44, 54,
64 and 74 are driven and descend toward the carrier 2 or the tank. When the descending carrier reaches a position near the lower limit, this is detected by the lower limit approach detection sensor 208 (No. 11).
Time T3 in the figure). After this, the carrier descends at a low speed. When the carrier reaches the lower limit position, this is detected by the lower limit sensor 207, and the lowering of the carrier by the elevating mechanism is stopped (time T4 in FIG. 11).
【0045】ここで、上記のキヤリア横搬送動作中にお
いては、キャリア2が各昇降機構の支持部33、43、
53、63、73をオーバランしないように、各ローラ
スライダ入ロに設置されているストッパー37、47、
57、67、77をオンさせる。また、キヤリア2の昇
降時及び槽内での浸漬時、キャリアがキャリア支持部か
ら動かないよう各槽内にキヤリアガイド38(第12図
にのみ図示)を設けている。また、搬送動作の間は、洗
浄部3および第1のリンス部6における洗浄液および純
水のバイバス通路326、626か開状態に保持され
る。Here, during the above-mentioned carrier lateral transfer operation, the carrier 2 is supported by the supporting portions 33, 43, 43 of each elevating mechanism.
Stoppers 37, 47 installed in the roller slider insertion slots so as not to overrun 53, 63, 73.
Turn on 57, 67 and 77. In addition, a carrier guide 38 (shown only in FIG. 12) is provided in each tank so that the carrier does not move from the carrier supporting portion when the carrier 2 is moved up and down and immersed in the tank. Further, during the carrying operation, the by-pass passages 326 and 626 for the cleaning liquid and pure water in the cleaning unit 3 and the first rinse unit 6 are held in the open state.
【0046】搬送動作の終了後、ストツパー37、4
7、57、.67、77がオフにされる。また、洗浄部
3および第1のリンス部6においては、キヤリア検知用
センサ209、212がオン状態にあり、下限センサ2
07がオンしたとき(第11図の時刻T4)には、バイ
バス通路326、626が閉じて、自動開閉弁324、
325および622、623が開き、洗浄液の噴射およ
び純水の噴射動作が開始する。第13図には洗浄部3に
おいて洗浄液かキャリア2(n)に噴射されている状態
を示してある。本例においては、一方の側のノズル群3
16a、316bと他方の側のノズル群316C、31
6dから交互に洗浄液が噴射される。After the carrying operation is completed, the stoppers 37, 4 are
7, 57 ,. 67 and 77 are turned off. In the cleaning unit 3 and the first rinse unit 6, the carrier detection sensors 209 and 212 are in the ON state, and the lower limit sensor 2
When 07 is turned on (time T4 in FIG. 11), the bypass passages 326 and 626 are closed and the automatic opening / closing valve 324,
325, 622, and 623 are opened, and the cleaning liquid injection and the pure water injection operations are started. FIG. 13 shows a state in which the cleaning liquid is sprayed onto the carrier 2 (n) in the cleaning unit 3. In this example, the nozzle group 3 on one side
16a, 316b and the nozzle groups 316C, 31 on the other side
The cleaning liquid is alternately jetted from 6d.
【0047】第13図に示すように、洗浄液中におい
て、キヤリア2(n)に搭載されているプリント基板W
に対して洗浄液が噴射される。よって、洗浄液が大気中
に飛散することがない。また、洗浄液を噴射することに
より洗浄液中には渦流が形成される。従って、洗浄液の
噴流が直接に当たらないプリント基板の部分も、形成さ
れた渦流によって洗われる。よって、この洗浄部3にお
いてプリント基板の洗浄が効率良く行われる。また、第
lのリンス部6においても、同様にして純水がプリント
基板Wに対して噴射されて、効率良く、プリント基板が
純水中で洗浄される。一方、第1および第2の予備リン
ス部4、5、並びに第2のリンス部7においては、単に
純水槽内にキヤリア2が浸漬された状態に保持される。As shown in FIG. 13, the printed circuit board W mounted on the carrier 2 (n) in the cleaning liquid.
The cleaning liquid is sprayed on. Therefore, the cleaning liquid does not scatter into the atmosphere. Further, the jet of the cleaning liquid forms a vortex in the cleaning liquid. Therefore, the part of the printed circuit board which is not directly hit by the jet of the cleaning liquid is also washed by the vortex formed. Therefore, the cleaning unit 3 efficiently cleans the printed circuit board. Also in the l-th rinsing unit 6, pure water is similarly sprayed onto the printed circuit board W, so that the printed circuit board is efficiently cleaned in the pure water. On the other hand, in the first and second preliminary rinse parts 4, 5 and the second rinse part 7, the carrier 2 is simply kept in a state of being immersed in the pure water tank.
【0048】洗浄動作が開始するのに同期して、プッシ
ャー115、35、45、55、65、75は上方に向
けて旋回し(第11図の時刻T4〜T5)、しかる後
に、元の位置まで横移動して初期の退避位置に戻る(第
11図の時刻T5〜T6)。第14図にはこの状態を示
してある。この後は、ローダ11が駆動して、そこに乗
せられているキヤリア2(n+1)、2(n+2)は1
ピッチ分だけ前進する(第11図の時刻T6〜T7)。
第15図にはこのようにして前進した後の状態を示して
ある。ローダ上のキヤリアか前進した後は、隙間検知用
センサ204によって、ローダ上の先頭のキヤリア2
(n+1)とその次のキャリア2(n+2)との間に所
定の隙間が存在することが確認されると、各プッシヤが
下方に向けて旋回し、それらが初期の動作位置に復帰す
る(第11図の時刻T7〜T8)。第15図にはブッシ
ヤー115が初期の動作位置まで復帰した状態を示して
ある。In synchronism with the start of the cleaning operation, the pushers 115, 35, 45, 55, 65, 75 turn upward (time T4 to T5 in FIG. 11), and then return to their original positions. To the initial retracted position (time T5 to T6 in FIG. 11). This state is shown in FIG. After that, the loader 11 is driven and the carriers 2 (n + 1) and 2 (n + 2) placed on the loader 11 are set to 1
It moves forward by the pitch (time T6 to T7 in FIG. 11).
FIG. 15 shows the state after the forward movement in this way. After the carrier on the loader has moved forward, the gap detection sensor 204 is used to detect the front carrier 2 on the loader.
When it is confirmed that a predetermined gap exists between (n + 1) and the next carrier 2 (n + 2), each pusher turns downward and returns to the initial operating position (first 11 times T7 to T8). FIG. 15 shows a state in which the busher 115 has returned to the initial operating position.
【0049】プッシヤーが元の位置に戻った後は、各昇
降機構34、44、54、64、74が駆動して、各槽
内のキヤリア2は一定期間にわたって上下に揺動する
(第11図の時刻T8〜T9)。この揺動運動により、
各槽内において、キャリアに搭載されているプリント基
板Wの洗浄が効率良く行われる。After the pusher returns to its original position, the elevating mechanisms 34, 44, 54, 64, 74 are driven to cause the carrier 2 in each tank to oscillate up and down for a certain period (FIG. 11). T8 to T9). By this swinging motion,
In each tank, the printed circuit board W mounted on the carrier is efficiently cleaned.
【0050】昇降機構の揺動運動は一定時間経過後に停
止する。そして、洗浄部3および第1のリンス部6にお
けるバイパス通路327、627が開き、自動開閉弁3
24、325、622、623か閉じて、洗浄液および
純水の噴射が停止する(第11図の時刻T9)。次に、
各昇降機構が駆動して、キヤリア2は各槽内から上昇す
る。上限接近検知用センサ206により、キャリアが上
限位置に接近したことが検知された後は、上昇速度が低
下し(第11図の時刻T10)、キヤリアが上限位置に
到ると、それが上限センサ205により検知されて、各
昇降機構の駆動が停止する。The swinging motion of the elevating mechanism stops after a certain period of time. Then, the bypass passages 327 and 627 in the cleaning unit 3 and the first rinse unit 6 are opened, and the automatic opening / closing valve 3
24, 325, 622, 623 are closed, and the injection of cleaning liquid and pure water is stopped (time T9 in FIG. 11). next,
Each elevating mechanism is driven to raise the carrier 2 from within each tank. After the upper-limit approach detection sensor 206 detects that the carrier has approached the upper-limit position, the ascending speed decreases (time T10 in FIG. 11), and when the carrier reaches the upper-limit position, it is detected by the upper-limit sensor. Detected by 205, driving of each lifting mechanism is stopped.
【0051】ここに、かかるキヤリアの昇降に同期し
て、空気吹きつけ部9の自動開閉弁932、942、9
52(第9図参照)が開く。この結果、圧縮空気が、洗
浄槽3の空気吹き出し部93、第1の予備リンス部4の
空気吹き出し部94および第1のリンス部6の空気吹き
出し部95に供給され、これらから吹き出される。従っ
て、これらの各部3、4、6において槽内から引き出さ
れるキヤリア2に対して空気が吹きつけられる。かかる
空気吹きつけ動作により、キャリアに搭載されているプ
リント基板Wに付着している洗浄液あるいは純水が効率
良く吹き落とされる。Here, in synchronization with the raising and lowering of the carrier, the automatic opening / closing valves 932, 942, 9 of the air blowing unit 9 are synchronized.
52 (see FIG. 9) opens. As a result, the compressed air is supplied to the air blowing portion 93 of the cleaning tank 3, the air blowing portion 94 of the first preliminary rinse portion 4, and the air blowing portion 95 of the first rinse portion 6, and is blown out from these. Therefore, air is blown to the carrier 2 drawn out from the tank in each of these parts 3, 4, and 6. By such an air blowing operation, the cleaning liquid or pure water attached to the printed circuit board W mounted on the carrier is efficiently blown off.
【0052】すなわち、引上げられたキヤリアおよびプ
リント基板に付着している洗浄液あるいは水を自然落下
させる場合には、これらの各部分の凹凸部分に溜まって
いる液あるいは水が落ちにくい。かかる部分に液あるい
は水が残ったまま、次段側に送られると、各槽内に貯留
されている純水の汚れる度合いが早くなり、純水の交換
頻度を高める必要がある。また、多くの水が付着したま
ま乾燥部8に搬入された場合には、乾燥に時間がかかる
ので好ましくない。しかし、本例においては、空気を吹
きつけることにより、キヤリア、プリント基板などの凹
凸部分に溜まっている液あるいは水が吹き飛ぱされて、
これらから除去される。従って、純水の汚れ度合いが少
なくなり、水の交換頻度を下げることかできる。また、
乾燥部における乾燥を短時間にすることができる。第1
6図には、空気を吹きつけられながら引上げられた状態
のキヤリアを示してある。That is, when the cleaning liquid or water attached to the pulled up carrier and the printed circuit board is naturally dropped, the liquid or water accumulated in the uneven portions of these portions is unlikely to drop. If the liquid or water remains in such a portion and is sent to the next stage, the degree of contamination of the pure water stored in each tank is increased, and it is necessary to increase the frequency of exchanging the pure water. Further, if a large amount of water adheres to the drying section 8 and is carried in, it takes a long time to dry, which is not preferable. However, in this example, by blowing air, the liquid or water accumulated in the uneven portions of the carrier, the printed circuit board, etc. is blown off,
Removed from these. Therefore, the degree of contamination of pure water is reduced, and the frequency of water replacement can be reduced. Also,
The drying in the drying section can be shortened. First
FIG. 6 shows the carrier being pulled up while being blown with air.
【0053】以後、上記の動作が繰り返されて、各キヤ
リア2は、洗浄部3から第2のリンス部7を経て、アン
ローダ13に搬出される。このアンローダ上に搬出され
た洗浄済みのキヤリアは、ロボットハンドあるいは人手
により、次段の乾燥部8に搬送され、ここにおいて付着
している純水が乾燥除去される。Thereafter, the above operation is repeated, and each carrier 2 is carried out from the cleaning unit 3 through the second rinse unit 7 to the unloader 13. The cleaned carrier carried out onto the unloader is carried to the next drying section 8 by a robot hand or a human hand, and the pure water adhering thereto is dried and removed.
【0054】(別の実施形態)上記の例は本発明の一実
施例を示すものであり、上記の構成に本発明を限定する
ことを意図したものではない。(Another Embodiment) The above example shows one example of the present invention, and is not intended to limit the present invention to the above configuration.
【0055】例えぱ、第17図および第18図には、本
発明を適用した別のワーク洗浄装置を示してある。本例
の装置300は、洗浄部301と予備リンス部302と
第1のリンス部303と第2のリンス部304と乾燥部
305から構成されている。For example, FIGS. 17 and 18 show another work cleaning apparatus to which the present invention is applied. The apparatus 300 of this example includes a cleaning unit 301, a preliminary rinse unit 302, a first rinse unit 303, a second rinse unit 304, and a drying unit 305.
【0056】洗浄部301は、上記の例における洗浄部
3と同じく、ワーク洗浄剤を合む洗浄液中において、ノ
ズル301aから洗浄液をワークに対して噴射すること
により、ワークの洗浄を行うものである。予備リンス部
302は上記の例における第1の予備リンス部4と同一
の構成である。第1のリンス部304は、上記の例にお
ける第1のリンス部6と同じく、純水中においてワーク
に対して純水を噴射することにより、ワークの洗浄を行
うものである。第2のリンス部304は、大気中におい
てワークに対してノズル群304aから純水を噴射する
ことにより、ワークの洗浄を行うものである。一方、乾
燥部305は上記の例における乾燥部8と同一の構成と
なっている。Like the cleaning unit 3 in the above example, the cleaning unit 301 cleans the work by spraying the cleaning liquid onto the work from the nozzle 301a in the cleaning liquid containing the work cleaning agent. . The preliminary rinse section 302 has the same configuration as the first preliminary rinse section 4 in the above example. Like the first rinse unit 6 in the above example, the first rinse unit 304 cleans the work by spraying pure water on the work in pure water. The second rinse section 304 cleans the work by injecting pure water from the nozzle group 304a onto the work in the atmosphere. On the other hand, the drying unit 305 has the same configuration as the drying unit 8 in the above example.
【0057】本例のワーク洗浄装置300を利用する場
合には、例えぱ、第18図に示すように、取っ手401
の付いた筒状の網かご402をワークのキヤリアとして
用いることができる。網かご402の搬送機構403と
しては、網かご402の取っ手を吊り下げるフック部4
04と、このフック部404を支持した腕部405と、
この腕部405を水平方向および垂直方向に移動させる
移動部406から構成したものを用いることができる。
この網かご402内に入れて洗浄可能なワークとして
は、各種のプラスチック製品、金属製品を挙げることが
できる。When the work cleaning apparatus 300 of this example is used, for example, as shown in FIG.
A cylindrical net cage 402 with a mark can be used as a carrier for the work. As the transport mechanism 403 for the net basket 402, the hook portion 4 for suspending the handle of the net basket 402 is used.
04 and an arm portion 405 supporting the hook portion 404,
It is possible to use the one composed of the moving portion 406 that moves the arm portion 405 in the horizontal direction and the vertical direction.
Various plastic products and metal products can be cited as the works that can be put into the net basket 402 and washed.
【0058】次に、第19図には、搬送べルトを用い
て、ワークの搬送系を構成した例を示してある。この図
において第17図の各部と対応する部分には対応する番
号を付してある。本例の装置は、板状のワークWを連続
して搬送しなからそれを洗浄できるように構成されてい
る。Next, FIG. 19 shows an example in which a work transfer system is constructed using a transfer belt. In this figure, the parts corresponding to the parts in FIG. 17 are assigned corresponding numbers. The apparatus of this example is configured so that the plate-shaped works W can be cleaned without being continuously conveyed.
【0059】[0059]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のワーク洗
浄方法および洗浄装置は、洗浄剤を含む洗浄液中におい
てワークに対して洗浄液を噴射して洗浄を行い、次に、
純水中においてワークに対して純水を噴射して洗浄を行
い、しかる後に、ワークを純水中に浸漬し、あるいはワ
ークに対して純水を吹きっけることにより洗浄を行うよ
うに構成されている。従って、本発明によれぱ、ワーク
に付着している油、塵などの付着物の除去か洗浄液中に
おいて効率良く行われ、また、かかる付着物を除去する
ために使用した洗浄液の除去が、純水中において効率良
く行われる。よって、本発明によれば、効率良くワーク
を洗浄することの可能なワーク洗浄方法および洗浄装置
を実現することができる。As described above, the work cleaning method and the cleaning apparatus of the present invention perform the cleaning by spraying the cleaning liquid on the work in the cleaning liquid containing the cleaning agent.
Cleaning is performed by injecting pure water onto a work in pure water, and then immersing the work in pure water or blowing pure water onto the work to perform cleaning. ing. Therefore, according to the present invention, the deposits such as oil and dust adhering to the work can be efficiently removed in the cleaning liquid, and the cleaning liquid used for removing the deposits can be removed completely. Efficiently performed in water. Therefore, according to the present invention, it is possible to realize a work cleaning method and a cleaning device capable of efficiently cleaning a work.
【0060】また、本発明においては、洗浄液中あるい
は純水中から引上げられるワークに対して気体を吹きつ
けることにより、ワークに付着している洗浄液あるいは
純水を吹き落とすようにしている。このようにすること
により、単にワークに付着した液あるいは水を自然落下
させる場合に比ぺて、液あるいは水を確実に除去でき
る。よって、次段側の槽内に、ワークに付着した液ある
いは水を持ち込んでしまうことを大幅に回避できるの
で、各槽の液あるいは水の汚れ度合いを低く抑えること
ができ、液あるいは水の交換頻度を抑制することができ
る。Further, in the present invention, the cleaning liquid or pure water adhering to the work is blown off by blowing a gas onto the work pulled up from the cleaning liquid or pure water. By doing so, it is possible to reliably remove the liquid or water as compared with the case where the liquid or water attached to the work is naturally dropped. Therefore, it is possible to largely avoid bringing the liquid or water adhering to the work into the tank on the next stage side, so that the degree of contamination of the liquid or water in each tank can be suppressed to a low level, and the liquid or water can be replaced. The frequency can be suppressed.
【図l】本発明の一実施例にかかるワーク洗浄装置の全
体構成を模式的に示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram schematically showing an overall configuration of a work cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】第l図に示す装置の具体的な構成を示す概略立
面図である。FIG. 2 is a schematic elevational view showing a specific configuration of the device shown in FIG.
【図3】第l図に示す装置の具体的な構成を示す概略平
面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing a specific configuration of the device shown in FIG.
【図4】第2図のIV〜IV線で切断した部分を示す概
略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a portion taken along line IV-IV in FIG.
【図5】第l図のキヤリアを示す斜視図である。5 is a perspective view showing the carrier of FIG.
【図6】第l図に示す装置における洗浄液および純水の
配管系を示す配管図である。.FIG. 6 is a piping diagram showing a piping system for a cleaning liquid and pure water in the apparatus shown in FIG. .
【図7】第l図に示す洗浄液槽を上方から見た状態を示
す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a state where the cleaning liquid tank shown in FIG. 1 is viewed from above.
【図8】第l図に示す第lおよび第2のリンス部におけ
る純水槽を上から見た状態を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing the state of the pure water tank in the first and second rinse parts shown in FIG.
【図9】第l図に示す空気吹きつけ部の構成を示す構成
図である。9 is a configuration diagram showing a configuration of an air blowing section shown in FIG.
【図l。】第l図の装置の制御系の主要部分を示す概略
ブロック図である。Figure l. FIG. 10 is a schematic block diagram showing a main part of a control system of the apparatus shown in FIG.
【図ll】第l図の装置の洗浄動作を示すタイミングチ
ャートである。FIG. 11 is a timing chart showing the cleaning operation of the apparatus of FIG.
【図l2】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus of FIG.
【図l3】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus of FIG.
【図l4】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus shown in FIG.
【図l5】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus of FIG.
【図l6】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus of FIG.
【図l7】本発明の別の実施例を示す全体構成図であ
る。FIG. 17 is an overall configuration diagram showing another embodiment of the present invention.
【図l8】第l7図に示す例において使用するワークキ
ャリアおよびその搬送系を示す概略図である。FIG. 18 is a schematic diagram showing a work carrier and its transport system used in the example shown in FIG. 17;
【図l9】第l7図に示す実施例の変形例であり、搬送
べルトを用いてワークの搬送系を構成した例を示す全体
構成図である。FIG. 19 is an overall configuration diagram showing a modified example of the embodiment shown in FIG. 17 and showing an example in which a work transfer system is configured using a transfer belt.
lワーク洗浄装置 2キヤリア 3洗浄部 4第lの予備リンス部 5第2の予備リンス部 6第lのリンス部 7第2のリンス部 8乾燥部 9空気吹きっけ部 l Work cleaning device 2 Carrier 3 Cleaning part 4 1st preliminary rinse part 5 2nd preliminary rinse part 6 1st rinse part 7 2nd rinse part 8 Drying part 9 Air blowing part
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成7年6月15日[Submission date] June 15, 1995
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Name of item to be corrected] Brief description of the drawing
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図l】本発明の一実施例にかかるワーク洗浄装置の全
体構成を模式的に示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram schematically showing an overall configuration of a work cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】第l図に示す装置の具体的な構成を示す概略立
面図である。FIG. 2 is a schematic elevational view showing a specific configuration of the device shown in FIG.
【図3】第l図に示す装置の具体的な構成を示す概略平
面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing a specific configuration of the device shown in FIG.
【図4】第2図のIV〜IV線で切断した部分を示す概
略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a portion taken along line IV-IV in FIG.
【図5】第l図のキヤリアを示す斜視図である。5 is a perspective view showing the carrier of FIG.
【図6】第l図に示す装置における洗浄液および純水の
配管系を示す配管図である。.FIG. 6 is a piping diagram showing a piping system for a cleaning liquid and pure water in the apparatus shown in FIG. .
【図7】第l図に示す洗浄液槽を上方から見た状態を示
す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a state where the cleaning liquid tank shown in FIG. 1 is viewed from above.
【図8】第l図に示す第lおよび第2のリンス部におけ
る純水槽を上から見た状態を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing the state of the pure water tank in the first and second rinse parts shown in FIG.
【図9】第l図に示す空気吹きつけ部の構成を示す構成
図である。9 is a configuration diagram showing a configuration of an air blowing section shown in FIG.
【図l0】第l図の装置の制御系の主要部分を示す概略
ブロック図である。FIG. 10 is a schematic block diagram showing a main part of a control system of the apparatus shown in FIG.
【図ll】第l図の装置の洗浄動作を示すタイミングチ
ャートである。FIG. 11 is a timing chart showing the cleaning operation of the apparatus of FIG.
【図l2】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus of FIG.
【図l3】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus of FIG.
【図l4】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus shown in FIG.
【図l5】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus of FIG.
【図l6】第l図の装置の動作を示す説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram showing the operation of the apparatus of FIG.
【図l7】本発明の別の実施例を示す全体構成図であ
る。FIG. 17 is an overall configuration diagram showing another embodiment of the present invention.
【図l8】第l7図に示す例において使用するワークキ
ャリアおよびその搬送系を示す概略図である。FIG. 18 is a schematic diagram showing a work carrier and its transport system used in the example shown in FIG. 17;
【図l9】第l7図に示す実施例の変形例であり、搬送
べルトを用いてワークの搬送系を構成した例を示す全体
構成図である。FIG. 19 is an overall configuration diagram showing a modified example of the embodiment shown in FIG. 17 and showing an example in which a work transfer system is configured using a transfer belt.
【符号の説明】 lワーク洗浄装置 2キヤリア 3洗浄部 4第lの予備リンス部 5第2の予備リンス部 6第lのリンス部 7第2のリンス部 8乾燥部 9空気吹きっけ部[Explanation of Codes] l Work cleaning device 2 Carrier 3 Cleaning part 4 1st preliminary rinse part 5 2nd preliminary rinse part 6 1st rinse part 7 2nd rinse part 8 Drying part 9 Air blowing part
Claims (17)
クを浸漬し、この浸漬状態にあるワークに対して洗浄液
の噴流を吹きつけることにより、前記ワークから付着物
などを洗い落とす洗浄工程と、この洗浄工程を経たワー
クを純水中に浸漬し、この浸漬状態にあるワークに対し
て純水の噴流を吹きつけることにより、このワークに付
着している前記洗浄液を洗い落とす第1のリンス工程
と、この第lのリンス工程を経たワークに対して純水を
供給して、ワークに付着している前記洗浄液を洗い落と
す第2のリンス工程とを含むワーク洗浄方法。1. A cleaning step of immersing a work to be cleaned in a cleaning liquid containing a cleaning agent, and spraying a jet of the cleaning liquid onto the immersed work to remove adhered substances from the work. A first rinse step of immersing the work that has undergone this cleaning step in pure water and spraying a jet of pure water onto the immersed work to wash off the cleaning liquid adhering to the work. And a second rinse step of supplying pure water to the workpiece that has passed through the first rinse step to wash off the cleaning liquid adhering to the workpiece.
1のリンス工程との間に、少なくとも一回の予備リンス
工程を有し、この予備リンス工程は、貯留した純水内に
ワークを浸漬することにより、このワークに付着してい
る洗浄液を洗い落とす工程であることを特微とするワー
ク洗浄方法。2. The method according to claim 1, wherein at least one preliminary rinsing step is provided between the cleaning food and the first rinsing step, and the preliminary rinsing step includes the work in the stored pure water. A method for cleaning a work, which is characterized in that the cleaning liquid adhering to the work is washed off by immersing.
を経たワークに付着している純水を除去する水切り工程
を有し、この水切り工程は、前記第2のリンス工程にお
いて純水中から引き上げられるワークに対して気体を吹
きつけて、このワークに付着している純水を払い落とす
工糧であることを特徴とするワーク洗浄方法。3. The method according to claim 1, further comprising a draining step of removing pure water adhering to the work that has been subjected to the second rinse step, the draining step being performed in pure water in the second rinse step. A work cleaning method characterized in that it is a work that blows a gas onto a work that is pulled up from the work to remove the pure water adhering to the work.
ワークに付着している純水を乾燥除去する乾燥工程を有
していることを特徴とするワーク洗浄方法。4. The work cleaning method according to claim 3, further comprising a drying step of drying and removing pure water adhering to the work that has undergone the draining step.
洗浄液から引き上げられるワークに対して気体を吹きつ
けて、このワークに付着している洗浄液を払い落とす液
切り工程を有していることを特徴とするワーク洗浄方
法。5. The method according to claim 1, further comprising a draining step of blowing a gas onto a work to be lifted from the cleaning liquid in the cleaning step to remove the cleaning liquid adhering to the work. How to clean the work.
液槽、この洗浄液槽に対してワークを出し入れするワー
ク搬送手段、および、このワーク搬送手段によって前記
洗浄液槽内に入れられた状態にあるワークに対して洗浄
液の噴流を吹きっける噴流形成手段を備えたワーク洗浄
部と、 純水を貯留した純水槽、前記ワーク洗浄部から洗浄済み
ワークを受け取り、前記純水槽に対してこのワークを出
し入れするワーク搬送手段、および、このワーク搬送手
段によって前記純水槽内に入れられた状態にあるワーク
に対して純水の噴流を吹きつける噴流形成手段を備えた
第1のリンス部と、純水を貯留した純水槽、および、前
記第1のリンス部から純水による洗浄済みのワークを受
け取り、前記純水槽に対してこのワークを出し入れする
ワーク搬送手段を備えた第2のリンス部とを有すること
を特徴とするワーク洗浄装置。6. A cleaning liquid tank in which a cleaning liquid containing a work cleaning agent is stored, a work transfer means for loading and unloading a work to and from the cleaning liquid tank, and a work being put in the cleaning liquid tank by the work transfer means. To the work cleaning section, which has a jet forming means for blowing a jet of cleaning liquid, a pure water tank storing pure water, and a cleaned work received from the work cleaning section, and the work is put in and out of the pure water tank. And a first rinse portion having a jet forming means for spraying a jet of pure water onto the workpiece placed in the pure water tank by the work conveying means, Work transfer that receives a stored pure water tank and a workpiece that has been cleaned with pure water from the first rinse section, and takes the workpiece in and out of the pure water tank And a second rinse portion provided with a means.
槽、および前記ワーク洗浄部から洗浄済みワークを受け
取り、前記純水槽に対してこのワークを出し入れするワ
ーク搬送手段を備えた予備リンス部を少なくとも一つ有
し、前記第1のリンス部は、この予備リンス部において
洗浄された後のワークを受け取るようになっていること
を特微とするワーク洗浄装置。7. The preliminary rinse section according to claim 6, comprising: a pure water tank storing pure water; and a work transfer means for receiving a cleaned work from the work cleaning section and for putting the work in and out of the pure water tank. A work cleaning apparatus having at least one of the above, and the first rinse section is adapted to receive the work after being cleaned by the preliminary rinse section.
前記純水槽から引上げられるワークに対して気体を吹き
つけて、このワークに付着している純水を払い落とす水
切り手段を有していることを特徴とするワーク洗浄装
置。8. The draining means according to claim 6, wherein a gas is blown to the work pulled up from the pure water tank of the second rinse portion to remove the pure water adhering to the work. A work cleaning device characterized in that
て水切りか行われたワークに付着している純水を乾燥除
去する乾燥手段を有していることを特徴とするワーク洗
浄装置。9. The work cleaning apparatus according to claim 8, further comprising a drying unit for drying and removing pure water attached to the work drained by the draining unit.
浄槽から引き上げられるワークに対して気体を吹きつけ
て、このワークに付着している洗浄液を払い落とす液切
り手段を有していることを特徴とするワーク洗浄装置。10. The liquid removing means according to claim 6, further comprising: a liquid draining unit for blowing a gas to a work to be pulled up from the cleaning tank of the cleaning unit to remove a cleaning liquid adhering to the work. Work cleaning device.
ス部の前記純水槽のそれぞれから溢れ出た純水を回収す
る純水回収槽を有し、 前記第1のリンス部における前記噴流形成手段は、ワー
クに向けて配列された少なくとも一個の純水噴射ノズル
と、前記純水回収槽に回収された純水を前記ノズルのそ
れぞれに向けて圧送するボンプとを備えており、 前記第2のリンス部は、前記純水回収槽に回収された純
水をこの第2のリンス部の純水槽に運流させるポンプ
と、還流する純水に合まれている不純物を除去する濾過
手段とを備えていることを特微とするワーク洗浄装置。11. The pure water collecting tank according to claim 6, further comprising: a pure water collecting tank for collecting pure water overflowing from each of the pure water tank of the first rinse portion and the pure water tank of the second rinse portion, The jet flow forming means in the first rinse section pressure-feeds at least one pure water jet nozzle arranged toward the workpiece and the pure water collected in the pure water collecting tank toward each of the nozzles. And a pump for transporting the pure water collected in the pure water collecting tank to the pure water tank in the second rinse unit, and the second rinse unit is combined with the pure water to be refluxed. And a filtering means for removing impurities contained therein.
前記噴流形成手段、ワークに向けて配列された少なくと
も一個の洗浄液噴射ノズルと、この洗浄部における前記
洗浄液槽に貯留されている洗浄液を前記洗浄液噴射ノズ
ルに向けて圧送するポンプとを備えていることを特徴と
するワーク洗浄装置。12. The cleaning liquid stored in the cleaning liquid tank of the cleaning unit, and at least one cleaning liquid injection nozzle arranged toward the work in the cleaning unit, and the cleaning liquid stored in the cleaning liquid tank in the cleaning unit. A work cleaning device, comprising: a pump that sends a pressure toward an injection nozzle.
おける前記液切り手段および前記第2のリンス部におけ
る前記水切り手段は、洗浄槽に貯留した洗浄液の液面あ
るいは純水槽に貯留した純水の水面の上方位置に配置さ
れた少なくとも一個の空気噴射ノズルと、この空気噴射
ノズルに対して圧縮空気を供給する空気ポンプとを備え
ていることを特徴とするワーク洗浄装置。13. The liquid draining means in the cleaning section and the water draining means in the second rinse section according to claim 8 or 10, wherein the liquid surface of the cleaning liquid stored in the cleaning tank or the pure water stored in the pure water tank. A work cleaning device, comprising: at least one air injection nozzle disposed above the water surface of the device, and an air pump that supplies compressed air to the air injection nozzle.
備リンス部、第1および第2のリンス部における各ワー
ク搬送手段は、ワークを次段側に向けて横方向に搬送す
るワーク横搬送機構と、このワーク横搬送機構から受け
取ったワークを、洗浄液槽あるいは純水槽に対して出し
入れするワーク昇降機構とを備えていることを特徴とす
るワーク洗浄装置。14. The work transfer means in each of the cleaning part, the preliminary rinse part, and the first and second rinse parts according to claim 6, wherein the work is laterally transferred toward the next stage. A work cleaning device comprising: a transfer mechanism; and a work elevating mechanism for moving a work received from the horizontal work transfer mechanism into and out of a cleaning liquid tank or a pure water tank.
クを複数枚保持可能なワークキヤリアを有し、このワー
クキヤリアは、複数枚のワークを所定の間隔で立った状
態に盤列保持可能となっており、このワークキャリアが
前記の各ワーク搬送手段によって搬送されるようになっ
ていることを特徴とするワーク洗浄装置。15. The work carrier according to claim 14, wherein the work carrier is capable of holding a plurality of plate-shaped works, and the work carrier is capable of holding a plurality of works in a row in a standing state at predetermined intervals. The work cleaning device is characterized in that the work carrier is carried by each of the work carrying means.
送手段におけるワーク昇降機構は、ワークキヤリアを一
定のストロークで上下に揺動可能となっていることを特
徴とするワーク洗浄装置。16. The work cleaning apparatus according to claim 15, wherein the work lifting mechanism in each of the work transfer means is capable of swinging the work carrier up and down with a constant stroke.
送手段は、搬送経路が部分的に前記洗浄槽および純水槽
内に浸漬している搬送ベルト手段によって構成されてい
ることを特徴とするワーク洗浄装置。17. A work according to claim 14, wherein each of the work transfer means is composed of a transfer belt means whose transfer path is partially immersed in the cleaning tank and the pure water tank. Cleaning device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5017995A JPH07290011A (en) | 1995-03-09 | 1995-03-09 | Work washing method and washing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5017995A JPH07290011A (en) | 1995-03-09 | 1995-03-09 | Work washing method and washing device |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1029591A Division JPH04215879A (en) | 1990-11-26 | 1991-01-31 | Method and apparatus for washing work |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07290011A true JPH07290011A (en) | 1995-11-07 |
Family
ID=12851979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5017995A Pending JPH07290011A (en) | 1995-03-09 | 1995-03-09 | Work washing method and washing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07290011A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102764741A (en) * | 2012-07-26 | 2012-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | Cleaning equipment for transfer-printing plates |
CN105593971A (en) * | 2013-09-25 | 2016-05-18 | 芝浦机械电子株式会社 | Substrate treatment device, method for separating bonded substrate, and method for removing adhseive |
-
1995
- 1995-03-09 JP JP5017995A patent/JPH07290011A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102764741A (en) * | 2012-07-26 | 2012-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | Cleaning equipment for transfer-printing plates |
CN105593971A (en) * | 2013-09-25 | 2016-05-18 | 芝浦机械电子株式会社 | Substrate treatment device, method for separating bonded substrate, and method for removing adhseive |
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