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JPH07297118A - 基板および基板保持方法ならびにその装置 - Google Patents

基板および基板保持方法ならびにその装置

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Publication number
JPH07297118A
JPH07297118A JP11199194A JP11199194A JPH07297118A JP H07297118 A JPH07297118 A JP H07297118A JP 11199194 A JP11199194 A JP 11199194A JP 11199194 A JP11199194 A JP 11199194A JP H07297118 A JPH07297118 A JP H07297118A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding
substrate
mask
members
clamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11199194A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobushige Korenaga
伸茂 是永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP11199194A priority Critical patent/JPH07297118A/ja
Priority to US08/430,803 priority patent/US5681638A/en
Publication of JPH07297118A publication Critical patent/JPH07297118A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁石や真空吸着力を用いることなくマスク等
基板を保持する。 【構成】 マスク１０はマスクフレーム１とその中央に
設けられたマスク基板２を有し、マスクフレーム１の外
周部には、切欠１ｃによって形成された薄肉部からなる
３個のＺクランプ部３と、外方へ突出する突出部材から
なる３個のＸＹθクランプ４が設けられている。図示し
ない基板保持装置の台盤上において、各Ｚクランプ部３
を垂直方向に開閉する一対の垂直挟持部材（垂直挟持力
Ｆ1 で示す）によって挟持し、各ＸＹθクランプ部４を
水平方向に開閉する一対の水平挟持部材（水平挟持力Ｆ
2 で示す）によって挟持することでマスク１０を位置決
めし、これを安定保持する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置やＥＢ
描画装置あるいはパターン寸法測定機等において磁石や
真空チャック等を用いることなく安定保持できるマスク
等基板および基板保持方法ならびにその装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】半導体露光装置のマスクは、一般的に、
図１０の（ａ）〜（ｆ）に示す工程によって製作され
る。すなわち、（ａ）に示すようにシリコン等からなる
基板Ｓの少なくとも片面にＳｉＣ膜Ｍを蒸着したうえ
で、（ｂ）に示すようにバックエッチによって基板Ｓの
中央部分を除去してＳｉＣ膜Ｍで覆われた開口部Ｒを形
成したのち、（ｃ）に示すように基板Ｓの底面をマスク
フレームＨに接着し、（ｄ）に示すように開口部ＲのＳ
ｉＣ膜Ｍ上に公知のＥＢ描画法やメッキ等によって重金
属のパターンＰを形成し、（ｅ）に示すようにマスクフ
レームＨの底面に磁性リングＧを装着する。このように
して製作されたマスクを半導体露光装置のマスクステー
ジＴに固定するときは、（ｆ）に示すようにマスクステ
ージＴの永久磁石または電磁石ＥにマスクフレームＨの
底面の磁性リングＧを吸着させる。
【０００３】なお、マスクのパターンＰを形成する工程
あるいはマスクの製作を完了した後にパターン寸法を測
定する工程等においては、電子ビームを使用するために
永久磁石や電磁石を用いたマスクチャックを使用するこ
とができず、公知の真空吸着装置やバネクランプ等を用
いマスクを固定する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、ＥＢ描画装置やパター
ン寸法測定機等においては永久磁石や電磁石を用いたマ
スクチャックを使用することができず、真空吸着装置や
バネクランプを用いなければならず、これらによってマ
スクに発生する歪は、半導体露光装置の永久磁石等を用
いたマスクチャックによって発生する歪と同じではな
い。その結果、半導体露光装置に装着されたときのマス
クのパターンがＥＢ描画装置によって作成されたものに
比べて大きく変形し、高精度の転写焼付けができないと
いう未解決の課題がある。
【０００５】本発明は、上記従来の技術の有する未解決
の課題に鑑みてなされたものであり、露光装置やＥＢ描
画装置等において、磁石や真空吸着装置を必要とせず、
しかも主要部を不必要に拘束することなく安定保持でき
る基板および基板保持方法ならびにその装置を提供する
ことを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明の基板は、平板状の主要部の外側に少なくとも
３個の第１の保持部と少なくとも３個の第２の保持部を
備えており、前記第１の保持部のそれぞれが前記主要部
の表面に対してそれぞれ平行で互に逆向きの一対の水平
当接面を有し、前記第２の保持部のそれぞれが前記主要
部の表面に対してそれぞれ垂直で互に逆向きの一対の垂
直当接面を有することを特徴とする。
【０００７】本発明の方法は、平板状の主要部を有する
基板の前記主要部の外側に少なくとも３個の第１の保持
部と少なくとも３個の第２の保持部を設けておき、基板
保持装置の台盤上において、前記基板の第１の保持部の
それぞれを前記台盤の表面に対して垂直である方向に閉
じる第１の挟持手段によって挟持し、前記基板の第２の
保持部のそれぞれを前記台盤の表面に対して平行である
方向に閉じる第２の挟持手段によって挟持することを特
徴とする。
【０００８】第１および第２の挟持手段がそれぞれ基板
の保持部に弾力的かつ転動自在に当接される一対の球状
部材を有するとよい。
【０００９】本発明の装置は、台盤に支持された少なく
とも３個の第１の挟持手段と少なくとも３個の第２の挟
持手段を有し、前記第１の挟持手段のそれぞれが前記台
盤の表面に対して垂直である方向に開閉自在な一対の垂
直挟持部材とこれらを開閉する第１の開閉手段からな
り、前記第２の挟持手段のそれぞれが前記台盤の表面に
対して平行である方向に開閉自在な一対の水平挟持部材
とこれらを開閉する第２の開閉手段からなることを特徴
とする。
【００１０】各垂直挟持部材と各水平挟持部材のそれぞ
れが、支持部材と、これによって所定の軸に垂直な任意
の方向に微小量だけ弾力的に移動自在に支持された球状
部材を備えているとよい。
【００１１】
【作用】露光装置やＥＢ描画装置にマスク等の基板を搭
載するに際して、基板の主要部の外側に設けられた少な
くとも３個の第１の保持部をそれぞれ第１の挟持手段に
よって挟持することで基板全体を台盤の表面に垂直な方
向（Ｚ軸方向）に位置決めし、少なくとも３個の第２の
保持部をそれぞれ第２の挟持手段によって挟持すること
で台盤の表面に沿った一平面（ＸＹ平面）内の基板の位
置決めと前記平面に垂直な一軸のまわりの基板の回転角
度の調節（θ軸方向の位置決め）を行う。このようにし
て基板の主要部を不必要に拘束することなく高精度で位
置決めし、かつ、位置決めされた状態で安定保持する。
【００１２】第１および第２の挟持手段がそれぞれ基板
の保持部に弾力的かつ転動自在に当接される一対の球状
部材を有するものであれば、位置決めされた基板に熱膨
張等による変形応力が発生したとき、球状部材の転動に
よって前記変形応力を逃すことで、基板の主要部が歪む
のを防ぐことができる。加えて、第１の挟持手段による
挟持力と第２の挟持手段による挟持力が互に干渉するの
を防ぎ、高精度の位置決めを円滑に行うことができる。
【００１３】
【実施例】本発明の実施例を図面に基いて説明する。
【００１４】図１は一実施例による基板であるマスク１
０を示すもので、これは、本体１ａを有するマスクフレ
ーム１と、本体１ａに設けられた図示しない開口部に重
なるように取付けられた主要部であるマスク基板２を有
し、マスクフレーム１の本体１ａは、その外周縁に周方
向に所定の間隔で配設された３個の第１の保持部である
Ｚクランプ部３と、これらの間に配設された３個の第２
の保持部であるＸＹθクランプ部４を有し、各Ｚクラン
プ部３はマスクフレーム１の本体１ａの外周縁の切欠１
ｃによって形成された薄肉部であり、これは、マスク基
板２の表面に平行で互に逆向きの一対の水平当接面３
ａ，３ｂを有し、各ＸＹθクランプ部４は、マスクフレ
ーム１の本体１ａの外周縁から径方向外方へ突出する突
出部材であり、その側面にマスク基板２の表面に垂直で
互に逆向きの一対の垂直当接面４ａ，４ｂを有する。
【００１５】マスク１０を半導体露光装置に装着すると
きあるいはマスク１０の製造中にＥＢ描画装置やパター
ン寸法測定機等に取付けるときは、後述する基板保持装
置２０において、その台盤であるベース２１（図３に示
す）の表面に垂直な軸（以下、「Ｚ軸」という。）の方
向に作用する垂直挟持力Ｆ1 によって３個のＺクランプ
部３をそれぞれ挟持することでマスク基板２全体のＺ軸
方向の位置決めを行い、各ＸＹθクランプ部４をベース
２１の表面に平行に作用する水平挟持力Ｆ2 によって挟
持することで、Ｚ軸に垂直な２軸（以下、それぞれ「Ｘ
軸」、「Ｙ軸」という。）の方向の位置決めと、マスク
基板２の中心を通るＺ軸のまわりの回転角度の調節（以
下、「θ軸方向の位置決め」という。）を行う。
【００１６】図２は基板保持装置２０とこれに保持され
たマスク１０を示す模式平面図であり、図３は図２のＡ
−Ａ線に沿った断面図である。基板保持装置２０は、マ
スク１０のＺクランプ部３を垂直挟持力Ｆ1 によってそ
れぞれ挟持する３個の第１の挟持手段であるＺクランプ
ユニット２３と、マスク１０のＸＹθクランプ部４を水
平挟持力Ｆ2 によってそれぞれ挟持する３個の第２の挟
持手段であるＸＹθクランプユニット２４を有し、各Ｚ
クランプユニット２３および各ＸＹθクランプユニット
２４は前記ベース２１に支持されている。
【００１７】各Ｚクランプユニット２３は、ベース２１
と一体的に設けられた第１の基準部材である基準ブロッ
ク２３ａと、これに固定された垂直挟持部材である固定
クランプ２３ｂと、一端を基準ブロック２３ａに枢動自
在に支持された第１のアーム２３ｃと、これに保持され
た垂直挟持部材である可動クランプ２３ｄと、アーム２
３ｃを基準ブロック２３ａに対して回転させるとともに
基準ブロック２３ａに対してＺ軸方向に往復移動させる
第１の開閉手段である回転並進駆動部２３ｅ（図４に示
す）を備えており、各固定クランプ２３ｂにマスク１０
のＺクランプ部３を載置したうえで前記回転並進駆動部
２３ｅを駆動し、アーム２３ｃを枢動させて可動クラン
プ２３ｄをＺクランプ部３の図示上方へ位置させ、続い
てアーム２３ｃをＺ軸方向に移動させて可動クランプ２
３ｄを固定クランプ２３ｂ上に閉じることで（垂直挟持
力Ｆ1 ）各Ｚクランプ部３を挟持するように構成されて
いる。
【００１８】また、各ＸＹθクランプユニット２４は、
ベース２１と一体的に設けられた第２の基準部材である
基準ブロック２４ａと、これに固定された水平挟持部材
である固定クランプ２４ｂと、一端を基準ブロック２４
ａに枢着された第２のアーム２４ｃと、これに保持され
た水平挟持部材である可動クランプ２４ｄと、アーム２
４ｃを基準ブロック２４ａに対して回転させる第２の開
閉手段である回転駆動部２４ｅ（図５に示す）を備えて
おり、各固定クランプ２４ｂをマスク１０のＸＹθクラ
ンプ部４に当接したうえで前記回転駆動部２４ｅを駆動
し、アーム２４ｃを回転させてベース２１の表面に対し
て平行に固定クランプ２４ｂと可動クランプ２４ｄを閉
じることで（水平挟持力Ｆ2 ）各ＸＹθクランプ部４を
挟持するように構成されている。
【００１９】各ＸＹθクランプユニット２４の回転駆動
部２４ｅは、図５に示すように、アーム２４ｃと一体で
ある回転ロッド２４ｇと、回転ロッド２４ｇをＺ軸の回
りに回転させる回転型エアシリンダ２４ｆを有し、回転
型エアシリンダ２４ｆの駆動によって回転ロッド２４ｇ
が所定の角度だけ回転し、アーム２４ｃを実線で示す位
置から破線で示す位置へあるいはその逆に枢動させる。
また、Ｚクランプユニット２３の回転並進駆動部２３ｅ
は、図４に示すように、アーム２３ｃと一体である並進
ロッド２３ｊと、これを所定距離だけ上下動させる直動
エアシリンダ２３ｉと、直動エアシリンダ２３ｉと一体
である回転ロッド２３ｇと、回転ロッド２３ｇをＺ軸の
まわりに所定の角度だけ回転させる回転型エアシリンダ
２３ｆを有し、Ｚクランプユニット２３が閉じるときに
は、まず、直動エアシリンダ２３ｉの駆動によって並進
ロッド２３ｊが破線で示す状態まで上昇し、続いて回転
型エアシリンダ２３ｆの駆動によって回転ロッド２３ｇ
が回転するように構成されている。なお、回転型エアシ
リンダ２３ｆ，２４ｆの替わりに電動モータを用いるこ
ともできることはいうまでもない。
【００２０】各Ｚクランプユニット２３の固定クランプ
２３ｂ、可動クランプ２３ｄおよび各ＸＹθクランプユ
ニット２４の固定クランプ２４ｂ、可動クランプ２４ｄ
はそれぞれ図６に示すように、円筒状の支持部材である
リテーナ２０１とこれに保持されてマスク１０のＺクラ
ンプ部３またはＸＹθクランプ部４に当接される球状部
材であるボール２０２からなり、リテーナ２０１は、ボ
ール２０２を転動自在に保持する内筒２０１ａと、その
外側にこれと同軸上に配設された外筒２０１ｂと、内筒
２０１ａと外筒２０１ｂの間に配設された円筒バネ２０
１ｃからなり、外筒２０１ｂは各Ｚクランプユニット２
３および各ＸＹθクランプユニット２４の基準ブロック
２３ａ，２４ａおよびアーム２３ｃ，２４ｃのそれぞれ
に設けられた基準面２０３と一体的に結合され、内筒２
０１ａと円筒バネ２０１ｃは前記基準面２０３上を摺動
自在であり、また、内筒２０１ａの基準面２０３上を摺
動する端面と反対側の自由端には径方向内方へ突出する
突起２０１ｄが設けられ、これによってボール２０２が
内筒２０１ａから脱落するのを防ぐ。
【００２１】円筒バネ２０１ｃは軸方向にのびるスリッ
ト部２０１ｅを有し、該スリット部２０１ｅの一端にお
いて内筒２０１ａと、他端において外筒２０１ｂとそれ
ぞれ一体的に結合されており、ボール２０２の転動とと
もに内筒２０１ａと円筒バネ２０１ｃが前記基準面２０
３に沿って任意の方向に微小量だけ弾力的に移動できる
ように構成されている。すなわち、各Ｚクランプユニッ
ト２３、各ＸＹθクランプユニット２４がマスク１０の
Ｚクランプ部３、ＸＹθクランプ部４を垂直挟持力Ｆ
1 、水平挟持力Ｆ2 によって挟持したとき、水平当接面
３ａ，３ｂ，垂直当接面４ａ，４ｂに当接されたボール
２０２は内筒２０１ａ内において基準面２０３に沿って
任意の方向に転動自在であり、ボール２０２の転動によ
って各Ｚクランプ部３およびＸＹθクランプ部４がそれ
ぞれの挟持力に垂直な平面内で任意の方向に微小量だけ
弾力的に変位できるように構成されている。従って、垂
直挟持力Ｆ1 と水平挟持力Ｆ2 が互に干渉するのを防い
でマスク１０の位置決めを高精度で円滑に行うととも
に、位置決めされた状態のマスク１０を安定保持でき
る。加えて、露光光等によってマスク１０が熱膨張し、
これによって曲げモーメントや張力、圧縮力等の応力が
発生した場合でも、各Ｚクランプユニット２３および各
ＸＹθクランプユニット２４がそれぞれの挟持力に垂直
な方向の熱歪を微小量ずつ吸収するため、マスク基板２
が大きく変形してパターンの転写ずれを発生するおそれ
がない。すなわち、露光中やＥＢ描画中あるいはパター
ン寸法測定中のマスク１０を極めて安定して保持し、し
かも熱歪等によってマスク１０が大きく変形するのを防
ぐことができる。
【００２２】なお、リテーナ２０１の円筒バネ２０１ｃ
の替わりに、図７に示すように、内筒２０１ａと外筒２
０１ｂの間にシリコンゴム２０４を充填してもよい。
【００２３】また、Ｚクランプ部３およびＸＹθクラン
プ部４はそれぞれ最低３個は必要であり、これより多く
すればマスク１０を基板保持装置２０に保持させたとき
の安定性を増す等の利点があるがその反面コスト高とな
る。
【００２４】基板保持装置２０によってマスク１０を位
置決めする手順は以下の通りである。まず、各Ｚクラン
プユニット２３のアーム２３ｃと各ＸＹθクランプユニ
ット２４のアーム２４ｃを図２の破線で示す位置に回転
させたうえで図示しない搬送ハンド等によってマスク１
０を基板保持装置２０に搬入し、各Ｚクランプ部３をＺ
クランプユニット２３の固定クランプ２３ｂに当接させ
たうえで前記搬送ハンドの吸着力を解放し、各Ｚクラン
プユニット２３上にマスク１０を支持させる。このとき
各ＸＹθクランプユニット２４の固定クランプ２４ｂは
マスク１０のＸＹθクランプ部４の垂直当接面４ａ，４
ｂの一方に近接して対向する。続いて、各Ｚクランプユ
ニット２３のアーム２３ｃを実線で示す位置へ回転させ
たうえでＺ軸方向へ移動させ、可動クランプ２３ｄを固
定クランプ２３ｂに向かって閉じることで両者の間にマ
スク１０のＺクランプ部３を挟持し、マスク１０全体を
Ｚ軸方向に位置決めする。次いで、各ＸＹθクランプユ
ニット２４のアーム２４ｃを実線で示す位置に回転さ
せ、可動クランプ２４ｄと固定クランプ２４ｂを閉じて
両者の間にマスク１０のＸＹθクランプ部４を挟持し、
ＸＹ平面内の位置決めとθ軸方向の位置決めを行う。な
お、Ｚ軸方向の位置決めとＸＹ平面内およびθ軸方向の
位置決めは、上記と逆の手順で行ってもよいし、ほとん
ど同時でもかまわない。
【００２５】本実施例によれば、半導体露光装置等にお
いてマスク等基板を高精度で位置決めし、かつ安定して
保持することができるうえに、磁石を用いることのでき
ないＥＢ描画装置にもそのまま適用できるため、半導体
露光装置とＥＢ描画装置とパターン寸法測定機の基板保
持装置をすべて同じ構成にすれば、各基板保持装置の挟
持力によってマスク等基板に発生する歪が同じであるか
ら、各基板保持装置の間でマスク等基板を移しかえるこ
とによってパターンが歪むのを防ぐことができる。
【００２６】図８は一変形例によるマスク３０を示すも
ので、これは、本実施例のマスクフレーム１と同様のマ
スクフレーム３１の外周縁と一体的に、周方向に所定の
間隔で３個の突出部材３１ａを設け、各突出部材３１ａ
に切欠３１ｃを設けてここに水平当接面３３ａ，３３ｂ
を有する薄肉部からなるＺクランプ部３３を配設し、各
突出部材３１ａの両側面に垂直当接面３４ａ，３４ｂを
設けて突出部材３１ａ全体によってＸＹθクランプ部３
４を構成させたものである。
【００２７】マスク３０を保持する基板保持装置４０
は、図９に示すように、それぞれＺクランプ部３３を挟
持する３個のＺクランプユニット４３とそれぞれ突出部
材３１ａの両側面を挟持する３個のＸＹθクランプユニ
ット４４からなり、各Ｚクランプユニット４３と各ＸＹ
θクランプユニット４４は図２および図３に示したＺク
ランプユニット２３とＸＹθクランプユニット２４とそ
れぞれ同様に構成されている。本変形例は、マスクの外
周縁に曲線部分が少ないためにマスクの加工が簡単であ
るという利点を有する。
【００２８】なお、本実施例は基板がマスクである場合
についてのみ説明したが、マスクのパターンを転写する
ウエハ等にも適用できることは言うまでもない。
【００２９】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００３０】半導体露光装置やＥＢ描画装置等におい
て、磁石や真空吸着装置を用いることなくマスク等基板
を安定保持できるうえに、前記基板を不必要に拘束する
おそれもない。加えて、基板の熱膨張等による変形を防
ぎ高精度で円滑な位置決めを促進できる。
【００３１】また、磁石や真空吸着力を必要としないた
め、磁石を用いることのできないＥＢ描画装置等や、台
盤等に広い吸着面を確保することが難しい露光装置等に
好適であり、特に、ＥＢ描画装置、パターン寸法測定機
および半導体露光装置のそれぞれにおいてマスクを保持
する保持装置を同一の構成にすることで、保持装置が変
わることによるマスクのパターンの変形を防ぎ、該パタ
ーンの転写、焼付けの精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施例によるマスクを示す斜視図である。
【図２】図１のマスクとこれを保持する基板保持装置を
示す模式平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線に沿ってとった断面図である。
【図４】図２の装置の回転並進駆動部を説明する図であ
る。
【図５】図２の装置の回転駆動部を説明する図である。
【図６】リテーナとボールの構成を示すもので、（ａ）
はその軸方向の断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線から
みた断面図である。
【図７】リテーナの変形例を示す断面図である。
【図８】一変形例によるマスクを示す斜視図である。
【図９】図８のマスクとこれを保持する基板保持装置を
示す模式平面図である。
【図１０】マスクの各製造工程を（ａ）〜（ｆ）に示す
説明図である。
【符号の説明】
１ マスクフレーム ２ マスク基板 ３，３３ Ｚクランプ部 ３ａ，３ｂ，３３ａ，３３ｂ 水平当接面 ４，３４ ＸＹθクランプ部 ４ａ，４ｂ，３４ａ，３４ｂ 垂直当接面 ２３，４３ Ｚクランプユニット ２３ａ，２４ａ 基準ブロック ２３ｂ，２４ｂ 固定クランプ ２３ｃ，２４ｃ アーム ２３ｄ，２４ｄ 可動クランプ ２４，４４ ＸＹθクランプユニット ２０１ リテーナ ２０１ｃ 円筒バネ ２０２ ボール
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｎ Ｂ２３Ｑ 1/02 Ｔ

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 平板状の主要部の外側に少なくとも３個
    の第１の保持部と少なくとも３個の第２の保持部を備え
    ており、前記第１の保持部のそれぞれが前記主要部の表
    面に対してそれぞれ平行で互に逆向きの一対の水平当接
    面を有し、前記第２の保持部のそれぞれが前記主要部の
    表面に対してそれぞれ垂直で互に逆向きの一対の垂直当
    接面を有することを特徴とする基板。
  2. 【請求項２】 第１の保持部がそれぞれ基板の外周縁に
    設けられた薄肉部であり、第２の保持部がそれぞれ前記
    基板の外周縁から外方へ突出する突出部材であることを
    特徴とする請求項１記載の基板。
  3. 【請求項３】 第２の保持部がそれぞれ基板の外周縁か
    ら外方へ突出する突出部材であり、第１の保持部が前記
    突出部材に設けられた薄肉部であることを特徴とする請
    求項１記載の基板。
  4. 【請求項４】 平板状の主要部を有する基板の前記主要
    部の外側に少なくとも３個の第１の保持部と少なくとも
    ３個の第２の保持部を設けておき、基板保持装置の台盤
    上において、前記基板の第１の保持部のそれぞれを前記
    台盤の表面に対して垂直である方向に閉じる第１の挟持
    手段によって挟持し、前記基板の第２の保持部のそれぞ
    れを前記台盤の表面に対して平行である方向に閉じる第
    ２の挟持手段によって挟持することを特徴とする基板保
    持方法。
  5. 【請求項５】 第１および第２の挟持手段がそれぞれ基
    板の保持部に弾力的かつ転動自在に当接される一対の球
    状部材を有することを特徴とする請求項４記載の基板保
    持方法。
  6. 【請求項６】 台盤に支持された少なくとも３個の第１
    の挟持手段と少なくとも３個の第２の挟持手段を有し、
    前記第１の挟持手段のそれぞれが前記台盤の表面に対し
    て垂直である方向に開閉自在な一対の垂直挟持部材とこ
    れらを開閉する第１の開閉手段からなり、前記第２の挟
    持手段のそれぞれが前記台盤の表面に対して平行である
    方向に開閉自在な一対の水平挟持部材とこれらを開閉す
    る第２の開閉手段からなることを特徴とする基板保持装
    置。
  7. 【請求項７】 各垂直挟持部材と各水平挟持部材のそれ
    ぞれが、支持部材と、これによって所定の軸に垂直な任
    意の方向に微小量だけ弾力的に移動自在に支持された球
    状部材を備えていることを特徴とする請求項６記載の基
    板保持装置。
  8. 【請求項８】 支持部材が円筒バネを介して球状部材を
    支持していることを特徴とする請求項７記載の基板保持
    装置。
  9. 【請求項９】 支持部材がシリコンゴムを介して球状部
    材を支持していることを特徴とする請求項７記載の基板
    保持装置。
  10. 【請求項１０】 一対の垂直挟持部材のうちの一方が台
    盤と一体である第１の基準部材に支持され他方が前記台
    盤の表面に対して垂直な方向の往復移動と該表面に対し
    て垂直な軸のまわりの回動が自在である第１のアームに
    支持されており、一対の水平挟持部材のうちの一方が前
    記台盤と一体である第２の基準部材に支持され他方が前
    記台盤の表面に対して垂直な軸のまわりに回動自在であ
    る第２のアームに支持されていることを特徴とする請求
    項６ないし９いずれか１項記載の基板保持装置。
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