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JPH07283289A - Wafer cassette transferring robot in semiconductor manufacturing device - Google Patents

Wafer cassette transferring robot in semiconductor manufacturing device

Info

Publication number
JPH07283289A
JPH07283289A JP9913594A JP9913594A JPH07283289A JP H07283289 A JPH07283289 A JP H07283289A JP 9913594 A JP9913594 A JP 9913594A JP 9913594 A JP9913594 A JP 9913594A JP H07283289 A JPH07283289 A JP H07283289A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arm
wafer
cassette
wafer cassette
transfer robot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9913594A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Nagashima
洋 永島
Hitoshi Kono
等 河野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinko Electric Co Ltd
Original Assignee
Shinko Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinko Electric Co Ltd filed Critical Shinko Electric Co Ltd
Priority to JP9913594A priority Critical patent/JPH07283289A/en
Publication of JPH07283289A publication Critical patent/JPH07283289A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent generation of fine particles which adversely affect surface processing of a wafer and to enable a change of supply/receive position in relation to a cassette loader to a certain extent, by rotating first and second arms and plate receiving sections in a predetermined direction at a predetermined angle. CONSTITUTION:Since a rotational drive mechanism 33', a second rotation shaft 40' of an arm section 22 and a rotation shaft 23A of a plate receiving section 23 rotate under a rotating condition of 1:2:1+alpha, a wafer cassette 26 carried out by a cassette loader 25 and set on l the plate receiving section 23 can be linearly moved on a carrier line. Also, immediately before the wafer cassette 26 is set on a setting section 20D of a carrier stocker 20, the wafer cassette 26 can be rotationally moved by a predetermined angle beta and set on each shelf 20C of the carrier stocker 20.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェ−ハを加熱
処理する表面処理装置において、カセットロ−ダ上のウ
ェ−ハカセットを反応炉の手前のキャリアストッカまで
搬送し、またその逆に、反応炉内で処理が終わり炉外に
出され、ウェ−ハ移載ロボットにより戻されたウェ−ハ
を収容したウェ−ハカセットを、カセットロ−ダまで戻
すために使用されるウェ−ハカセット移載ロボットに関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment apparatus for heat-treating a semiconductor wafer, in which a wafer cassette on a cassette loader is conveyed to a carrier stocker in front of a reaction furnace, and vice versa. The present invention relates to a wafer cassette transfer robot used for returning a wafer cassette containing a wafer returned by a wafer transfer robot after being processed in the furnace to the outside of the furnace to a cassette loader. .

【0002】[0002]

【従来の技術】図9は、従来技術の半導体ウェ−ハ表面
処理装置を示す概略斜視図であり、符号10は縦型反応
炉、11は炉の真下に配置されるシャッタ、12はボ−
トエレベ−タである。縦型反応炉10は、図10に示す
ように、側壁と炉頂が一体にされた炉体13、側壁内周
に配置されたヒ−タ14、石英管15および支持フラン
ジ16を備え、この石英管15に処理流体(水素ガスと
窒素ガスの混合気体)が供給され処理が行われる。17
は、表面処理される半導体ウェ−ハ(以下、単にウェ−
ハと称す)Wの多数枚を一定間隔で下から上に積層し収
納する棚を有するボ−トで、移載装置18によりボ−ト
エレベ−タ12の昇降台12A上のボ−ト支持台12B
に移される。半導体ウェ−ハW(以下、単にウェ−ハと
称す)は、図11と図12に示すように一定間隔を隔て
多段にされた複数の棚26Bを備えたウェ−ハカセット
26内の棚の各々に1枚ずつ収納され、ウェ−ハカセッ
ト26はカセットロ−ダ25上の所定位置に搬送され、
後述するカセット移載ロボットにより前記キャリアスト
ッカ20の所定の棚へ載置される。
2. Description of the Related Art FIG. 9 is a schematic perspective view showing a conventional semiconductor wafer surface treatment apparatus. Reference numeral 10 is a vertical reactor, 11 is a shutter arranged directly below the furnace, and 12 is a ball.
It is a toelevator. As shown in FIG. 10, the vertical reactor 10 includes a furnace body 13 in which a side wall and a furnace top are integrated, a heater 14 arranged inside the side wall, a quartz tube 15 and a support flange 16. A processing fluid (a mixed gas of hydrogen gas and nitrogen gas) is supplied to the quartz tube 15 for processing. 17
Is a semiconductor wafer to be surface-treated (hereinafter, simply referred to as a wafer
A boat having a shelf for stacking and accommodating a large number of Ws (hereinafter referred to as “C”) at regular intervals, and a boat support on the lift table 12A of the boat elevator 12 by the transfer device 18. 12B
Moved to. Each of the semiconductor wafers W (hereinafter, simply referred to as a wafer) is a shelf in the wafer cassette 26 having a plurality of shelves 26B arranged in multiple stages at regular intervals as shown in FIGS. The wafer cassette 26 is conveyed to a predetermined position on the cassette loader 25,
It is placed on a predetermined shelf of the carrier stocker 20 by a cassette transfer robot described later.

【0003】キャリアストッカ20は、詳細を図13に
示すように、天板20Aと下台20Bの間に設けられた
4本の棚柱28〜31に支持され、各棚板20C上に
は、ウェ−ハカセット26が不本意に移動するのを制限
するための2個の載置部20Dが並んで設けられ、載置
部20Dの長手方向両端には突起32が設けられ両突起
間の開口はカセットが搬入、搬出される通路になってい
る。図9において、21はウェ−ハカセット移載ロボッ
ト(カセット移載ロボットと略称する)で、左右1対の
ア−ム部22と、ア−ム部22を回転移動させる1対の
回転駆動機構33を備えた基体34と、この基体34を
キャリアストッカ20の棚列に沿って昇降可能な昇降駆
動機構35を備えた本体36とから成り、ア−ム部22
のそれぞれは、第1のア−ム22Aと、第2のア−ム2
2Bとが関節連結され、第1のア−ム22Aと第2のア
−ム22Bは、それぞれ人間の上腕、下腕に相当する。
前記の第2のア−ム22Bの先端には、ウェ−ハカセッ
ト26を載せて搬送する受板部23が、第3の回転軸2
3Aにより第2のア−ム22Bに対し回転可能に取り付
けられている。このカセット移載ロボット21は、シス
テム全体を制御する図示しないシ−ケンス制御装置の指
令を受け作動するカセット制御装置24により制御され
る。
As shown in FIG. 13 in detail, the carrier stocker 20 is supported by four shelf posts 28 to 31 provided between the top plate 20A and the lower table 20B, and each shelf plate 20C is provided with a wafer. (C) Two mounting portions 20D for limiting the unintentional movement of the cassette 26 are provided side by side, the projections 32 are provided at both ends in the longitudinal direction of the mounting portion 20D, and the opening between both projections is a cassette. Is a passage for loading and unloading. In FIG. 9, reference numeral 21 denotes a wafer cassette transfer robot (abbreviated as a cassette transfer robot), which is a pair of left and right arm portions 22 and a pair of rotary drive mechanisms 33 for rotationally moving the arm portions 22. And a main body 36 having a lifting drive mechanism 35 capable of moving the base 34 up and down along the shelves of the carrier stocker 20.
Each of the first arm 22A and the second arm 2
2B is articulated, and the first arm 22A and the second arm 22B correspond to the human upper arm and lower arm, respectively.
At the tip of the second arm 22B, there is provided a receiving plate portion 23 on which the wafer cassette 26 is placed and conveyed, and the third rotating shaft 2
It is rotatably attached to the second arm 22B by 3A. The cassette transfer robot 21 is controlled by a cassette controller 24 that operates by receiving a command from a sequence controller (not shown) that controls the entire system.

【0004】19はウェ−ハ移載ロボットであり、ア−
ム19Aと、このア−ム19Aを回転移動させるウェ−
ハ移載ロボットの回転駆動機構37を備えた基体と、こ
の基体をキャリアストッカ20の棚列方向に昇降移動さ
せる上下駆動機構38を備えた本体とを含み、ア−ム1
9Aの先端部にはウェ−ハWを真空吸着するためのロボ
ットフィンガ(ヘラ状のペンシルとも呼ぶ)19Bが片
持ち支持される。ウェ−ハ移載ロボット19は、システ
ム全体を制御する前記のシ−ケンス制御装置からの指令
信号を受け作動するウェ−ハ制御装置27により制御さ
れる。カセットロ−ダ25上に並置された2個のウェ−
ハカセット26は、カセット移載ロボット21の受板部
23により同時に持ち上げられ、カセット移載ロボット
21の昇降駆動機構35および回転駆動機構33により
所定経路を回転移動されて、キャリアストッカ20側に
搬送され、図9と図13に示すキャリアストッカ20の
所定の棚板20C上の載置部20Dにそれぞれ載置され
る。
Reference numeral 19 denotes a wafer transfer robot,
19A and a way to rotate and move this arm 19A
(C) A base including a rotation drive mechanism 37 of the transfer robot and a main body including a vertical drive mechanism 38 for moving the base up and down in the rack row direction of the carrier stocker 20.
A robot finger (also referred to as a spatula pencil) 19B for vacuum-adsorbing the wafer W is cantilever-supported at the tip of 9A. The wafer transfer robot 19 is controlled by a wafer controller 27 which operates by receiving a command signal from the sequence controller which controls the entire system. Two wafers juxtaposed on the cassette loader 25
The cassette 26 is simultaneously lifted by the receiving plate portion 23 of the cassette transfer robot 21, is rotationally moved along a predetermined path by the lifting drive mechanism 35 and the rotation drive mechanism 33 of the cassette transfer robot 21, and is conveyed to the carrier stocker 20 side. The carrier stocker 20 shown in FIGS. 9 and 13 is mounted on a mounting portion 20D on a predetermined shelf plate 20C.

【0005】キャリアストッカ20の載置部20Dに載
置されたウェ−ハカセット26内に収容されているウェ
−ハWをボ−ト17に移載するには、ウェ−ハ移載ロボ
ット19を、そのスライド駆動機構39により、図13
に示すキャリアストッカ20のウェ−ハ搬入・搬出方
向、つまりウェ−ハカセットに対向する位置まで、図9
の矢印aの方向に往復移動させる。次に、ウェ−ハ移載
ロボット19の上下駆動機構38により、キャリアスト
ッカ20に載置された複数のウェ−ハカセット26中、
ロボットフィンガ19Bにより移載される順番になって
いるウェ−ハカセット26の、図11と図12に示され
ている側面の開口面26Aに対応する位置まで昇降移動
させ、さらにウェ−ハ移載ロボットのフィンガを使用し
て、ウェ−ハカセット26からウェ−ハWを1枚ずつ水
平に取り出し、ウェ−ハ移載ロボットの回転駆動機構3
7を使用しボ−ト17に移載する。上記の移載方法に代
え、キャリアストッカ20をスライド駆動機構で移動さ
せてウェ−ハ移載ロボット19をキャリアストッカ20
のウェ−ハ搬入・搬出方向に一致させてもよい。ウェ−
ハWが移載されたボ−ト17は、移載装置18により図
10に示されている昇降台12A上のボ−ト支持台12
B上にセットされ、ボ−トエレベ−タ12により持ち上
げられ、直立された炉体13の底部の開口内に、炉体1
3内に同軸に配置された石英管15の底の開口から石英
管15内の所定位置まで送り込まれる。次に、ウェ−ハ
Wはシャッタ11により大気から遮断され炉体13内に
密閉され高温の処理雰囲気中で処理される。
In order to transfer the wafer W housed in the wafer cassette 26 mounted on the mounting portion 20D of the carrier stocker 20 to the boat 17, the wafer transfer robot 19 is used. , By its slide drive mechanism 39,
9 to the wafer loading / unloading direction of the carrier stocker 20 shown in FIG.
It is reciprocated in the direction of arrow a. Next, by the vertical drive mechanism 38 of the wafer transfer robot 19, among the plurality of wafer cassettes 26 placed on the carrier stocker 20,
The wafer cassette 26 in the order of transfer by the robot finger 19B is moved up and down to a position corresponding to the side opening surface 26A shown in FIGS. 11 and 12, and further the wafer transfer robot. The wafer W is horizontally taken out one by one from the wafer cassette 26 by using the fingers of FIG.
7 is used and transferred to the boat 17. Instead of the transfer method described above, the carrier transfer stocker 20 is moved by a slide drive mechanism so that the wafer transfer robot 19 is moved to the carrier transfer stocker 20.
The wafer loading / unloading direction may be matched. Way
The boat 17 on which the wafer W is transferred is mounted on the boat support base 12 on the lift base 12A shown in FIG.
The furnace body 1 is set on B, is lifted by the boat elevator 12, and is placed upright in the bottom opening of the furnace body 13.
A quartz tube 15 coaxially arranged in the quartz tube 3 is fed to a predetermined position in the quartz tube 15 through an opening at the bottom. Next, the wafer W is shielded from the atmosphere by the shutter 11 and sealed in the furnace body 13 to be processed in a high-temperature processing atmosphere.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前述した従来のカセッ
ト移載ロボット21では、キャリアストッカ20の、そ
れぞれの棚に載置されたウェ−ハカセット26から、ウ
ェ−ハ移載ロボットフィンガ19Bを使用しウェ−ハを
取り出すには、上下駆動機構38を使用しウェ−ハ移載
ロボット19を、またはキャリアストッカ20を移動さ
せ、ウェ−ハカセットの開口面にロボットフィンガ19
Bの高さを一致させ、さらにウェ−ハ移載ロボットの回
転駆動機構37によりロボットフィンガ19Bの方向
を、それぞれの棚板上のウェ−ハカセット26の開口面
26Aに一致させた上、半導体ウェ−ハを移載するよう
にしているので、キャリアストッカ上のウェ−ハカセッ
ト26の近傍では、回転駆動機構や上下駆動機構の摩擦
部などで微粒子が発生し、またカセット移載ロボットの
受板部とウェ−ハカセットの底との間、又はウェ−ハカ
セットの底とキャリアストッカ20の棚板20Cとの間
でも、摩擦による微粒子が発生するため半導体ウェ−ハ
の表面処理に悪影響を与えるという問題があった。
In the conventional cassette transfer robot 21 described above, the wafer transfer robot fingers 19B are used from the wafer cassettes 26 mounted on the respective shelves of the carrier stocker 20. In order to take out the wafer, the wafer transfer robot 19 or the carrier stocker 20 is moved by using the vertical drive mechanism 38, and the robot finger 19 is attached to the opening surface of the wafer cassette.
The height of B is made to coincide with each other, and the direction of the robot fingers 19B is made to coincide with the opening surface 26A of the wafer cassette 26 on each shelf plate by the rotation driving mechanism 37 of the wafer transfer robot. Since the wafer is transferred, fine particles are generated in the vicinity of the wafer cassette 26 on the carrier stocker at the friction parts of the rotary drive mechanism and the vertical drive mechanism, and the receiving plate of the cassette transfer robot. Between the bottom of the wafer cassette and the bottom of the wafer cassette, or between the bottom of the wafer cassette and the shelf 20C of the carrier stocker 20, fine particles are generated by friction, which adversely affects the surface treatment of the semiconductor wafer. there were.

【0007】このような問題点に対処するため、本願の
出願人はウェ−ハ移載ロボット19のフィンガの旋回角
が2βで、この搬送線に対称な両側(図で上、下)に1
個ずつそれぞれのカセット移載ロボット21Aが配置さ
れ、授受位置でのウェ−ハ移載ロボット19のフィンガ
の搬送線に対する傾斜角がβとされる場合、カセット移
載ロボットのア−ム部をカセット移載ロボットの回転軸
の周りを回転する第1のア−ムと、この第1のア−ムの
先端に回転可能に装着され長さが等しい第2のア−ムの
2本のア−ムで構成し、第1のア−ムをある角度、例え
ばθだけ時計回り方向に回転させると、第2のア−ムは
反対方向に2θだけ回転し、第2のア−ムの先端は常に
搬送路上を直線移動して、搬送の終点において第2のア
−ムは搬送線に対しウェ−ハ移載ロボット19のフィン
ガ19Bと同一の傾斜角βとなり、その先端の受板部上
に載せられたカセットの開口面は搬送路に対し直角に対
面するようにされたカセット移載システムを発明し特許
出願(特願平4−91035号)した。図6は、この先
願のカセット移載システムのア−ム部22の構造を示す
平面図であり、ア−ム部22は、第1のア−ム22Aと
第2のア−ム22Bとから成り、第1のア−ム22Aの
一方端はモ−タなどにより駆動される第1の回転軸33
Aの周りに旋回され、旋回されるこの第1のア−ム22
Aの他方端に第2のア−ム22Bが旋回自在に連結さ
れ、第2のア−ム22Bの先端にはウェ−ハカセットを
載置する受板部23が設けられている点は、図9の従来
技術ウェ−ハカセット移載ロボットと同一であるが、こ
の先願発明では、図7と図8に示されるように、第1の
ア−ム22Aと第2のア−ム22Bとの長さを等しく
し、第1のア−ム22Aが第1の回転軸33Aの周りに
回転されると、第2のア−ム22Bは第1のア−ム22
Aの先端の回転軸の周りに2倍の角度だけ反対方向に回
転されるようにし、受板部を載せて移動する第2のア−
ム22Bの先端は常に搬送線上を直進するようにした。
またウェ−ハ移載ロボット19のフィンガの搬送路に対
する傾斜角が前記のようにβである場合には、図8に示
されるように、第1のア−ム22Aは第1の回転軸33
Aの周りに所定の角度θ2だけ回転され、カセットスト
ッカとの授受位置での第1と第2のア−ムの搬送路に対
する傾斜角はともにβとなり、第2のア−ム上の受板部
に載せられたウェ−ハカセットの開口面もウェ−ハ移載
ロボット19のフィンガの先端に対し直角に対面するよ
うにした。
In order to cope with such a problem, the applicant of the present application has found that the fingers of the wafer transfer robot 19 have a turning angle of 2β, and the fingers 1 on both sides (upper and lower in the figure) symmetrical to the carrier line.
When the cassette transfer robots 21A are arranged one by one and the inclination angle of the fingers of the wafer transfer robot 19 at the transfer position with respect to the carrier line is β, the arm portion of the cassette transfer robot is set to the cassette. Two arms, a first arm rotating about the rotation axis of the transfer robot and a second arm rotatably attached to the tip of the first arm and having the same length. When the first arm is rotated clockwise by an angle, for example, θ, the second arm rotates 2θ in the opposite direction, and the tip of the second arm is The second arm always moves linearly on the transfer path, and at the end of the transfer, the second arm has the same inclination angle β with respect to the transfer line as the finger 19B of the wafer transfer robot 19, and the tip of the second arm is on the receiving plate portion. The opening surface of the placed cassette was made to face the conveyance path at a right angle. Invented set transfer system and patent application (Japanese Patent Application No. 4-91035). FIG. 6 is a plan view showing the structure of the arm section 22 of the cassette transfer system of this prior application. The arm section 22 includes a first arm 22A and a second arm 22B. And the one end of the first arm 22A has a first rotating shaft 33 driven by a motor or the like.
This first arm 22 is swiveled around A and is swung
A second arm 22B is rotatably connected to the other end of A, and a receiving plate portion 23 for mounting a wafer cassette is provided at the tip of the second arm 22B. 9 is the same as the conventional wafer cassette transfer robot, but in the invention of this prior application, as shown in FIGS. 7 and 8, the lengths of the first arm 22A and the second arm 22B are long. When the first arm 22A is rotated about the first rotation axis 33A and the second arm 22B is made equal, the second arm 22B is rotated by the first arm 22A.
A second arm which is rotated about the rotation axis of the tip of A in the opposite direction by a double angle and moves with the backing plate portion mounted thereon.
The leading end of the frame 22B is designed to always go straight on the conveying line.
Further, when the inclination angle of the wafer transfer robot 19 with respect to the conveyance path of the fingers is β as described above, as shown in FIG. 8, the first arm 22A has the first rotation shaft 33.
It is rotated by a predetermined angle θ 2 around A, and the inclination angles of the first and second arms with respect to the conveying path at the transfer position with the cassette stocker are both β, and the receiving position on the second arm is The opening surface of the wafer cassette placed on the plate portion is also made to face the tip of the finger of the wafer transfer robot 19 at a right angle.

【0008】しかしながら、前述した先願のカセット移
載システムでは次のような問題が残された。 1)図6から明らかなように、ア−ム部22では、モ−
タなどにより駆動される第1のア−ム22Aの第1の回
転軸33Aと、第1のア−ム22Aの先端で第1のア−
ム22Aと第2のア−ム22Bとを連結する第2の回転
軸40Aとの間は多数の歯車41aによる歯車列41に
より連結されている。また第2の回転軸40Aから、第
2のア−ム22Bの先端の受板部の第3の回転軸23A
までの間も同様に、多数の歯車42aによる歯車列42
で連結されているので、ア−ム部22全体には極めて多
数枚の歯車を必要とし、さらにこれら多数の歯車の各々
の回転軸の位置と歯を精密に加工しないと、歯車全体が
円滑に作動しないという工作上の問題点があった。 2)また、第2のア−ム22Bの、カセットロ−ダとの
授受位置を、第2のア−ム22Bと搬送線との傾斜角が
前記βと同じになる一点に限られるのか、又はある程度
可変に選択できるか否かも出願当時では開示されるに至
らず、また可変であるとしても、可変位置に応じ、第1
と第2のア−ムおよび第2のア−ムに対する受板部の相
対的回転角度をどのように具体的に設定するかも開示さ
れていなかった。 このような点から、上記の問題に対処する解決策が要望
されていた。本発明は、この問題を解決することを目的
とする。
However, the aforementioned cassette transfer system of the prior application has the following problems. 1) As is clear from FIG. 6, the arm section 22 has a mode
The first rotating shaft 33A of the first arm 22A driven by a motor and the like, and the first arm 22A at the tip of the first arm 22A.
A gear train 41 including a large number of gears 41a is connected between the second rotary shaft 40A that connects the second arm 22B and the second arm 22B. Further, from the second rotary shaft 40A to the third rotary shaft 23A of the receiving plate portion at the tip of the second arm 22B.
Similarly, the gear train 42 including a large number of gears 42a
Since a large number of gears are required for the entire arm portion 22 and the positions of the rotary shafts and teeth of each of these gears must be precisely machined, the entire gear will be smooth. There was a problem in construction that it did not work. 2) Further, the transfer position of the second arm 22B with respect to the cassette loader is limited to one point at which the inclination angle between the second arm 22B and the conveying line becomes the same as β, or Whether or not it can be variably selected to some extent has not been disclosed at the time of application, and even if it is variable, the first
It was also not disclosed how to specifically set the second arm and the relative rotation angle of the receiving plate portion with respect to the second arm. From this point of view, a solution that addresses the above problems has been desired. The present invention aims to solve this problem.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のカセット移載ロボットでは、以下に述べる
次の2つの運動機構を採用して解決した。説明の便宜上
カセット移載ロボットはカセットロ−ダに向かって右
(図1で上側の)のア−ムを選んで説明する。本発明で
は、以下に述べる次の2つの運動機構を採用して解決し
た。 1)カセット移載ロボットの2本のア−ムについては、
先願と同様二等辺三角形の特性を利用するとともに、回
転駆動機構に駆動される第1のア−ムの回転軸と第1の
ア−ムの先端と第2のア−ムを連結する回転軸との間
を、先願発明での多数の歯車列の代わりに、ギヤとタイ
ミングベルトを介して回転可能に連結し、第1のア−ム
を所定の角度だけ回転すると、第1のア−ムの先端の第
2のア−ムは、ギヤとタイミングベルトにより第1のア
−ムの回転運動と反対の方向に引き戻すように2倍の角
度だけ回転されるようにし、第2のア−ムの先端は常に
搬送路の始点と終点を結ぶ線上を直線移動する。そこ
で、カセットロ−ダに対する第2のア−ムの授受位置
を、運動に支障を来さない範囲で、カセットロ−ダとカ
セット移載ロボット上の第1のア−ムの回転軸の中間に
選択可能に設定し、その時の搬送路に対する第2のア−
ムの可変の傾斜角をαとする。この状態で、二等辺三角
形の他辺である第1のア−ムも搬送路に対し反対向きに
角αだけ傾斜しているから、この位置を始点として第1
のア−ムを時計回りに2R−(α+β)だけ回転させ、
これに連動して第2のア−ムを第1のア−ムと反対に反
時計回りに2倍の角度回転させれば、第1のア−ムは固
定軸を回転軸として回転して搬送線に対しβだけ反時計
回り方向に傾斜し、第2のア−ムは搬送線上を直線移動
して搬送線に対しβだけ時計回り方向に傾斜した位置に
達し、ウェ−ハ移載ロボットのフィンガの傾斜角βに対
応する。 2)第2のア−ムの、第1のア−ムとの連結点と反対の
先端部には、第3の回転軸を設け、第3の回転軸にウェ
−ハカセットを授受する受板部を固着し、第2のア−ム
に対し回転可能に支持し、ギヤとタイミングベルトを介
し第2のア−ムに対し回転可能に支持し、第2のア−ム
に対し反対方向に、つまり第1のア−ムと同方向に、さ
らに所定の角度だけ余分に回転させ、移載の終点では受
板部上に載せられたウェ−ハの開口面が、ウェ−ハ受取
り位置で搬送線に対し角度βだけ傾斜しているウェ−ハ
移載ロボットのフィンガに直角になるようにした。 3)具体的には、第2のア−ムの回転に連動して第2の
ア−ムの先端の受板部を第3の回転軸の周りに2R−α
だけ回転させればよいが、この場合の第1のア−ムの回
転角度は2R−(α+β)であり回転角度の比として
は、 2R−(α+β):2R−α=1:1+δ とし、第1のア−ムの回転角度を1とした場合これと同
方向に受板部の回転角度を1+δだけ回転させるように
して課題を解決した。
In order to achieve the above object, the cassette transfer robot of the present invention has been solved by employing the following two motion mechanisms. For convenience of explanation, the cassette transfer robot will be described by selecting the right arm (upper side in FIG. 1) toward the cassette loader. The present invention has been solved by adopting the following two movement mechanisms described below. 1) Regarding the two arms of the cassette transfer robot,
As in the previous application, the characteristic of the isosceles triangle is utilized, and the rotation connecting the rotary shaft of the first arm driven by the rotary drive mechanism, the tip of the first arm and the second arm. Instead of the many gear trains in the invention of the prior application, the shaft and the shaft are rotatably connected via a gear and a timing belt, and when the first arm is rotated by a predetermined angle, the first arm is rotated. The second arm at the tip of the arm is rotated by a double angle so as to be pulled back in the direction opposite to the rotational movement of the first arm by the gear and the timing belt, and the second arm is rotated. -The tip of the frame always moves linearly on the line connecting the start point and the end point of the transport path. Therefore, the transfer position of the second arm with respect to the cassette loader is selected as an intermediate position between the rotation axis of the first arm on the cassette loader and the first arm on the cassette transfer robot within a range that does not hinder the movement. Set to enable the second route to the transport path at that time.
The variable tilt angle of the frame is α. In this state, the first arm, which is the other side of the isosceles triangle, is also inclined by the angle α in the opposite direction with respect to the transport path.
Rotate the arm of 2R- (α + β) clockwise,
In conjunction with this, if the second arm is rotated counterclockwise by a double angle in the opposite direction to the first arm, the first arm will rotate with the fixed shaft as the rotation shaft. The wafer transfer robot is tilted counterclockwise by β with respect to the carrier line, and the second arm linearly moves on the carrier line to reach a position tilted clockwise by β with respect to the carrier line. Corresponds to the finger tilt angle β. 2) A third rotating shaft is provided at the tip of the second arm opposite to the connecting point with the first arm, and a receiving plate for transferring the wafer cassette to and from the third rotating shaft. The part is fixed and is rotatably supported by the second arm, and is rotatably supported by the second arm via a gear and a timing belt, and is rotatably supported in the opposite direction to the second arm. That is, in the same direction as the first arm, it is further rotated by a predetermined angle, and at the end of the transfer, the opening surface of the wafer placed on the receiving plate is at the wafer receiving position. The fingers of the wafer transfer robot are inclined at an angle β with respect to the transfer line so that they are perpendicular to each other. 3) Specifically, in conjunction with the rotation of the second arm, the receiving plate portion at the tip of the second arm is rotated by 2R-α around the third rotation axis.
The rotation angle of the first arm in this case is 2R- (α + β), and the ratio of the rotation angles is 2R- (α + β): 2R-α = 1: 1 + δ, When the rotation angle of the first arm is 1, the problem is solved by rotating the rotation angle of the receiving plate by 1 + δ in the same direction.

【0010】[0010]

【作用】理解を容易にするため、図3を参照し搬送の始
点での第1のア−ム22Aを線分AC1で第2のア−ム
22Bを線分B11で示すと、3つの線分AC1、C1
1およびB1Aが二等辺三角形AC11(以下△AC11
と示す)を形成し、∠C11A=∠C1AB1となる。搬
送の始点で第2のア−ムB11が、底辺すなわち搬送経
路に対する傾きをαとすると、∠C11A=∠C1AB1
=αとなり、AC1の延長線をCXとすると、△AC1
1の頂点C1での外角B11Xは2αである。次に、辺A
1(22A)が時計回りに角θだけ回転し頂点C1が頂
点C2まで移動すると、第2のア−ム(22B)もC1
中心として反時計回りに角度2θだけ回転するが、第2
のア−ムが回転しなかったものと仮定すると、△AC1
1は一点鎖線で示す△AC22まで移動する。実際に
は、第2ア−ムに相当する辺B22は、C2を中心とし
て∠2θだけ反時計回りに回転されるので、AC2の延
長線をC2Yとし、B22が回転されてAB1と交差する
点をB2′とすると、∠B2′C2Y=2α+2θとな
る。AC1で示された第1のア−ム22Aは、AC2まで
θだけ回転し、∠C2AB2′=∠(α+θ)=∠α3
なっているので、∠C22′A=∠(α+θ)=∠α3
となり△AC22′は二等辺三角形となるので、AC2
=B2′C2となり、移動した第2のア−ムB2′C2の点
2′は辺B2′C2の先端になる。
To facilitate understanding, referring to FIG. 3, the first arm 22A and the second arm 22B at the starting point of conveyance are indicated by the line segment AC 1 and the line segment B 1 C 1 , respectively. Three line segments AC 1 and C 1 B
1 and B 1 A are isosceles triangles AC 1 B 1 (hereinafter ΔAC 1 B 1
), And ∠C 1 B 1 A = ∠C 1 AB 1 . Assuming that the second arm B 1 C 1 at the starting point of the conveyance has a bottom angle, that is, an inclination with respect to the conveyance path, ∠C 1 B 1 A = ∠C 1 AB 1
= Α and the extension of AC 1 is CX, △ AC 1 B
External angle B 1 C 1 X at the apex C 1 1 is 2.alpha. Next, side A
When C 1 (22A) rotates clockwise by an angle θ and vertex C 1 moves to vertex C 2 , the second arm (22B) also rotates counterclockwise about C 1 by an angle 2θ. , Second
Assuming that the arm has not rotated, ΔAC 1
B 1 moves to ΔAC 2 B 2 indicated by the one-dot chain line. Actually, the side B 2 C 2 corresponding to the second arm is rotated counterclockwise by ∠2θ around C 2 , so the extension line of AC 2 is C 2 Y and B 2 C If the point where 2 is rotated and intersects AB 1 is B 2 ′, then ∠B 2 ′ C 2 Y = 2α + 2θ. The first arm 22A indicated by AC 1 rotates by θ to AC 2 and ∠C 2 AB 2 ′ = ∠ (α + θ) = ∠α 3 , so ∠C 2 B 2 ′ A = ∠ (α + θ) = ∠α 3
Since ΔAC 2 B 2 ′ is an isosceles triangle, AC 2
= B 2 'C 2, and the second A has moved - arm B 2' point B 2 of C 2 'is the side B 2' becomes the tip of C 2.

【0011】このように第1のア−ム22AであるAC
1の回転に伴い、第2のア−ム22Bは反対方向に2倍
の角度回転し、その先端Bは常に線分BA上をBからA
に向かって直線移動することになる。線分AC1(第1
のア−ム22A)が、さらに底辺BAに対し直角な位置
まで回転してACになると第2のア−ムである線分B1
1はACに重なる。線分AC(第1のア−ム)が、さ
らに角γだけ回転してAC3になった時、線分B2′C2
(第2のア−ム)は、C3を中心として角度2γだけ回
転して、C33となるので∠C3AB3=∠C33Aとな
り点B3も線BAの延長線上になる。このように第1の
ア−ム22Aが時計方向に角度θだけ回転すると同時
に、第2のア−ムを反時計方向に角度2θだけ回転させ
れば、第2のア−ムの先端はカセット移載ロボットの第
2のア−ムの搬送始点であるB点と第1のア−ムの固定
回転軸の中心Aとを結ぶAB線の延長線上を直線移動す
る。以上の説明では、搬送の始点をB1とし第2のア−
ム22Bを線分B11として示したが、カセットロ−ダ
の配置などの関係上、カセット移載ロボットの第2のア
−ム22Bを図で搬送路の左側に延ばす必要が生ずる場
合もある。その場合は搬送の始点をB0とし、第2のア
−ム22Bを線分B00とすれば、ア−ム22A、22
Bおよび搬送路により△AC00が形成され、∠C00
A=α1となる。この場合、前述の関係式ならびに次に
述べる受板部の回転角度については、αをα1と置き換
えるだけでよい。
As described above, the AC which is the first arm 22A.
With the rotation of 1 , the second arm 22B rotates twice in the opposite direction, and its tip B is always on the line segment BA from B to A.
It will move in a straight line toward. Line segment AC 1 (first
Arm 22A) of the second arm further rotates to a position perpendicular to the base BA to become AC, and the second arm is the line segment B 1
C 1 overlaps AC. When the line segment AC (first arm) is further rotated by an angle γ to become AC 3 , the line segment B 2 ′ C 2
(Second A - arm) is rotated by an angle 2γ about the C 3, C 3 B 3 and since ∠C 3 AB 3 = ∠C 3 B 3 A next point B 3 also extended line BA Be on the line. In this way, if the first arm 22A rotates clockwise by the angle .theta. And at the same time the second arm rotates counterclockwise by the angle 2.theta., The tip of the second arm will be the cassette. The transfer robot linearly moves on an extension line of the line AB connecting the point B, which is the transfer start point of the second arm, and the center A of the fixed rotation axis of the first arm. In the above description, the start point of conveyance is B 1 and the second
Showed arm 22B as a line segment B 1 C 1, Kasettoro - on the relationship between such arrangement Da, cassette transfer robot of the second A - even when the arm 22B is necessary to extend the left side of the conveying path in FIG occur is there. In that case, if the starting point of conveyance is B 0 and the second arm 22B is a line segment B 0 C 0 , the arms 22A and 22A are
The B and the conveyance path △ AC 0 B 0 is formed, ∠C 0 B 0
A = α 1 . In this case, with respect to the above-mentioned relational expression and the rotation angle of the receiving plate portion described below, it is sufficient to replace α with α 1 .

【0012】次に、図4を参照し第2のア−ム22Bの
先端部の第3の回転軸23Aに装着された受板部23
が、ウェ−ハカセット26を開口面を手前にして受け取
り、第2のア−ム22Bの回転に伴い相対的に回転し
て、カセットストッカに達した時点ではウェ−ハカセッ
ト26の開口面26Aがウェ−ハ移載ロボット19のロ
ボットフィンガ19Bに直角に対面する角度まで回転さ
れるための角度関係について説明する。便宜上、受板部
23全体を正方形EFGHとして考え、第3の回転軸2
3AをOで示し、この受板部23に載置されているウェ
−ハカセットを一点鎖線で示す開口面(欠円)26Aと
し、第2のア−ム22Bは線分BCで示す。搬送の当初
に受板部上に載置されたウェ−ハカセット26の開口面
26Aが、受板部である正方形EFGHの辺EFに平行
に置かれた状態で、EFは搬送線を示すOKに垂直であ
るが、第2のア−ムである辺BCに対しては角γで斜交
し、ア−ムBCは搬送線に対し角γの余角である∠αだ
け傾斜している。搬送の当初に第2のア−ムBCに対し
て角度γで斜交していた受板部の辺EFが、搬送の終点
では第2のア−ムBCに対し直角となり、カセット移載
ロボットのア−ム部に直角に正対するためには、受板部
の辺EFを第2のア−ムBCに対しある所定の角度回転
させる必要があるが、この回転角度は前述した第2のア
−ムBCの第1のア−ムACに対する回転角度とは切り
離し、第1のア−ムACの回転軸Aに対する回転角を基
準とし、それに対する受板部の回転角の比として取り扱
うことができる。
Next, referring to FIG. 4, the receiving plate portion 23 mounted on the third rotating shaft 23A at the tip portion of the second arm 22B.
However, when the wafer cassette 26 is received with the opening surface facing forward, the wafer cassette 26 relatively rotates as the second arm 22B rotates and reaches the cassette stocker, the opening surface 26A of the wafer cassette 26 is opened. C. The angular relationship for rotating the transfer robot 19 to an angle facing the robot finger 19B at a right angle will be described. For the sake of convenience, the entire receiving plate portion 23 is considered as a square EFGH, and the third rotating shaft 2
3A is indicated by O, the wafer cassette placed on the receiving plate portion 23 is defined as an opening surface (open circle) 26A indicated by a chain line, and the second arm 22B is indicated by a line segment BC. When the opening surface 26A of the wafer cassette 26 placed on the receiving plate portion at the beginning of conveyance is placed parallel to the side EF of the square EFGH which is the receiving plate portion, EF indicates OK indicating the conveying line. Although perpendicular, it intersects with the side BC which is the second arm at an angle γ, and the arm BC is inclined by ∠α which is the complement of the angle γ with respect to the carrier line. The edge EF of the receiving plate portion, which was obliquely intersected with the second arm BC at an angle γ at the beginning of conveyance, becomes a right angle with respect to the second arm BC at the end point of conveyance, and the cassette transfer robot. In order to face the arm part of the armature at a right angle, it is necessary to rotate the side EF of the receiving plate part with respect to the second arm BC by a certain predetermined angle. Separated from the rotation angle of the arm BC with respect to the first arm AC, treat as a ratio of the rotation angle of the first arm AC with respect to the rotation axis A to the rotation angle of the receiving plate portion. You can

【0013】この回転状態を理解しやすくするため、受
板部全体の8分の1である△EOKの一部としての△F
OKを直角三角形の回転体として考えると、△FOKの
辺OFは第2のア−ムである線BCに対し角α(∠α)
だけ傾く。第2のア−ム22Bがカセットロ−ダに対す
る最終位置に達した時点、即ち、図3のB00になった
時、辺FKが第2のア−ム22B(BC)に直角になる
ためには、図4で△OF11まで時計回りに回転させる
必要がある。この回転は、△FOKが180゜回転し△
OF22に達した状態では∠αだけ回転し過ぎた状態と
なるので、∠αだけ逆に戻し、即ち2R−αだけ回転さ
せればよいことになる。第2のア−ムが搬送線に対し∠
αだけ傾斜した最初の位置から最終搬送位置に達するの
に必要な第1のア−ムの回転角度が、図3から2R−
(α+β)の場合に、これに対応する受板部の回転角は
2R−αでありβだけ大きいことになるが、第1のア−
ムの回転軸と受板部の回転軸のギヤレシオとしては、2
R−(α+β):2R−α=1:1+δに設定すること
で解決できる。ここに、角βはウェ−ハ移載ロボットの
フィンガの旋回角によって決められる固定の値であり、
一方αは、カセットロ−ダとの間の授受位置をある範位
内で選択した場合の授受位置によって決まる可変の角度
である。
In order to make it easier to understand this rotating state, ΔF as a part of ΔEOK, which is 1/8 of the whole receiving plate portion.
Considering OK as a rotating body of a right triangle, the side OF of ΔFOK is an angle α (∠α) with respect to the second arm line BC.
Just lean. When the second arm 22B reaches the final position with respect to the cassette loader, that is, when it reaches B 0 C 0 in FIG. 3, the side FK is perpendicular to the second arm 22B (BC). In order to do so, it is necessary to rotate clockwise up to ΔOF 1 K 1 in FIG. In this rotation, △ FOK rotates 180 ° and △
In the state of reaching OF 2 K 2 , the state has been over-rotated by ∠α, so it is necessary to return ∠α in reverse, that is, rotate by 2R−α. The second arm is ∠ to the carrier line
The rotation angle of the first arm required to reach the final transport position from the initial position inclined by α is 2R- from FIG.
In the case of (α + β), the rotation angle of the receiving plate corresponding to this is 2R−α, which is larger by β.
The gear ratio between the rotary shaft of the drum and the rotary shaft of the receiving plate is 2
The problem can be solved by setting R- (α + β): 2R-α = 1: 1 + δ. Here, the angle β is a fixed value determined by the turning angle of the fingers of the wafer transfer robot,
On the other hand, α is a variable angle determined by the transfer position when the transfer position with the cassette loader is selected within a certain range.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の一実施例を図1、図2、およ
び図5を参照して説明する。図1は、本発明によるカセ
ット移載ロボット21′が配置された表面処理システム
の周辺機器を示す要部上面図で、図2の(A)と同図の
(B)は、本発明によるカセット移載ロボット21′中
の1対のア−ム部22中の図1の上側のア−ム部の拡大
上面図とこれに対応する側断面図である。ア−ム部22
は、同じ長さの第1のア−ム22Aと第2のア−ム22
Bとから成り、第1のア−ム22Aの図で右方の端部は
回転駆動機構33′の回転軸33′Aに固着され、第1
のア−ム22Aの他方(遠方)端には第2の回転軸4
0′Aを介して第2のア−ム22Bが相対回転可能に連
結されている。図1において、回転駆動機構33′はカ
セット制御装置24に接続され、この制御装置からの指
令信号により第1のア−ム22Aが回転される。図2の
(A)はア−ム部22の平面図であり、同図の(B)は
側面図である。この実施例では、回転駆動機構33′は
歯車駆動であり、モ−タ駆動の駆動軸Sの周りに重ねて
固定された固定歯車G1とG2中の下側の歯車G1は、第
1の回転軸33′Aに固定された歯車G3と噛み合い第
1の回転軸33′Aを2分の1だけ回転させ、一方上側
の歯車G2は管状回転軸33Bの外周に固定され同歯数
の歯車G4と噛み合い、駆動軸Sの回転に対し管状回転
軸33Bは第1の回転軸33′Aと同方向に2倍の角度
回転される。従って、駆動軸により第1の回転軸33′
Aおよび第1のア−ム22Aが図3に示すように一体に
角度θだけ回転すると、歯車33′aは同じ方向に2θ
回転するから、歯車33′aはθだけ回転する第1の回
転軸33′Aと第1のア−ム22Aに対しさらにθ回転
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1, 2 and 5. FIG. 1 is a top view of essential parts showing peripheral equipment of a surface treatment system in which a cassette transfer robot 21 'according to the present invention is arranged. FIGS. 2A and 2B are cassettes according to the present invention. FIG. 2 is an enlarged top view of an upper arm part of FIG. 1 in a pair of arm parts 22 in a transfer robot 21 ′ and a side sectional view corresponding thereto. Arm part 22
Is a first arm 22A and a second arm 22 having the same length.
B, and the right end of the first arm 22A in the drawing is fixed to the rotary shaft 33'A of the rotary drive mechanism 33 '.
The second rotary shaft 4 is provided at the other (far) end of the arm 22A.
The second arm 22B is rotatably connected to the second arm 22B via 0'A. In FIG. 1, the rotary drive mechanism 33 'is connected to the cassette controller 24, and the first arm 22A is rotated by a command signal from this controller. 2A is a plan view of the arm portion 22, and FIG. 2B is a side view. In this embodiment, the rotary drive mechanism 33 'is a gear drive, motor - lower gear G 1 fixed in the gear G 1 and G 2 which is fixed on top around the drive shaft S of the motor drive, the first The first rotation shaft 33′A meshes with the gear G 3 fixed to the first rotation shaft 33′A to rotate the first rotation shaft 33′A by half, while the upper gear G 2 is fixed to the outer circumference of the tubular rotation shaft 33B. meshing with the gear G 4 of the number of teeth, the tubular rotary shaft 33B to the rotation of the drive shaft S is the angle rotated twice in the same direction as the first rotational shaft 33'a. Therefore, the drive shaft causes the first rotary shaft 33 'to rotate.
When A and the first arm 22A rotate integrally by an angle θ as shown in FIG. 3, the gear 33'a moves in the same direction by 2θ.
Since it rotates, the gear 33'a further rotates .theta. With respect to the first rotating shaft 33'A and the first arm 22A which rotate by .theta ..

【0015】図2の(B)において符号51は第1のタ
イミングベルトであり、回転駆動機構33′の管状回転
軸33Bの回転を、歯車33′a、中間歯車34c、3
4bを介して第2の回転軸40′Aに伝達して第2のア
−ム22Bを回転させる。第1の回転軸33′Aと第2
の回転軸40′Aとの中間には、中間軸34Bが第1の
ア−ム22Aに対し相対回転可能に装着され、タイミン
グベルト51は管状回転軸33Bに固定された歯車3
3′aと、これと歯数が同じで同軸に重ねられ回転方向
が反対の2枚の中間歯車34b、34c中の中間歯車3
4bの回転を歯車40aに伝達し、歯車40aは第2の
ア−ム22Bと第1のア−ム22Aを連結する第2の回
転軸40′Aに固定される。このようにされているの
で、第2のア−ム22Bの回転軸40′Aに関する回転
角度は第1の回転軸33′Aに関する回転角度に対し2
倍、即ち第1のア−ム22Aの回転軸33′Aと第2の
ア−ム22Bの回転軸40′Aの回転比が、1対2の比
率で互いに反対方向に回転する。
In FIG. 2B, reference numeral 51 is a first timing belt, which rotates the tubular rotary shaft 33B of the rotary drive mechanism 33 'by rotating the gear 33'a, the intermediate gears 34c, 3 and 3.
It transmits to the 2nd rotating shaft 40'A via 4b, and rotates the 2nd arm 22B. The first rotating shaft 33'A and the second
The intermediate shaft 34B is mounted between the rotary shaft 40'A and the rotary shaft 40'A so as to be rotatable relative to the first arm 22A, and the timing belt 51 is fixed to the tubular rotary shaft 33B.
3'a and the intermediate gear 3 in the two intermediate gears 34b and 34c which have the same number of teeth and are coaxially overlapped with each other and whose rotation directions are opposite to each other.
The rotation of 4b is transmitted to the gear 40a, and the gear 40a is fixed to the second rotating shaft 40'A connecting the second arm 22B and the first arm 22A. Since this is done, the rotation angle of the second arm 22B with respect to the rotation axis 40'A is 2 relative to the rotation angle with respect to the first rotation axis 33'A.
That is, the rotation ratio of the rotation shaft 33'A of the first arm 22A and the rotation shaft 40'A of the second arm 22B rotates in the opposite directions at a ratio of 1: 2.

【0016】図2の(A)と同図の(B)において、符
号52は第2のタイミングベルトであり、第2の回転軸
40′Aに装着された歯車40bの回転を第3の回転軸
23Aに装着された歯車52aに伝達し、第2のア−ム
22Bの先端に相対回転可能に軸支された受板部23を
回転させ、このようにして各種の歯車と第1と第2のタ
イミングベルトにより回転駆動機構33′の管状回転軸
33Bの回転を第2のア−ム22Bの回転軸23Aに伝
達する。前述した第1のタイミングベルト51、歯車4
0a、 40′a、40′b、40bと歯車52aのギ
ヤレシオは、第3の回転軸23Aに固着される受板部2
3を、第1の回転軸33′Aの1回転に対し(1+δ)
回転するように設定される。図1、図2および図5を参
照すると、1対のア−ム部22の、それぞれの回転駆動
機構33′は、前記のカセット制御装置24に接続され
て、このカセット制御装置24から、回転方向、回転角
度の条件を含む回転指令信号が入力されると、この入力
した回転指令信号に基づいて回転運動し、第1のア−ム
22Aを第1の回転軸33′Aと一体に同じ方向に旋回
させる。ウェ−ハカセット26を載せる受板部23とこ
れを支持する第2のア−ム22Bとを一体にキャリアス
トッカ側に移動させ、ウェ−ハカセット26を搬送する
には、まず第1の回転軸33′Aを第1のア−ム22A
と一体に時計回り方向に回転させる。
In FIG. 2A and FIG. 2B, reference numeral 52 is a second timing belt, which rotates the gear 40b mounted on the second rotary shaft 40'A to the third rotation. It transmits to the gear 52a mounted on the shaft 23A and rotates the receiving plate portion 23 rotatably supported by the tip of the second arm 22B so as to rotate. The rotation of the tubular rotary shaft 33B of the rotary drive mechanism 33 'is transmitted to the rotary shaft 23A of the second arm 22B by the second timing belt. The above-mentioned first timing belt 51 and gear 4
0a, 40'a, 40'b, 40b and the gear ratio of the gear 52a are the receiving plate 2 fixed to the third rotating shaft 23A.
3 is (1 + δ) for one rotation of the first rotating shaft 33′A.
Set to rotate. With reference to FIGS. 1, 2 and 5, the rotary drive mechanism 33 ′ of each of the pair of arm portions 22 is connected to the cassette control device 24, from which the rotation control mechanism 33 ′ rotates. When the rotation command signal including the conditions of the direction and the rotation angle is input, the first arm 22A and the first rotation shaft 33'A are integrated with each other by rotating based on the input rotation command signal. Turn in the direction. To transfer the wafer cassette 26 by moving the receiving plate portion 23 on which the wafer cassette 26 is placed and the second arm 22B supporting the same to the carrier stocker side, first, the first rotating shaft 33 ′ A is the first arm 22A
And rotate it in the clockwise direction.

【0017】これにより、第1のタイミングベルト51
を介して、回転駆動機構33′の管状回転軸33Bの2
倍の回転角度になるように第2の回転軸40′Aに伝達
された第1の回転軸33′Aの回転運動を、さらに第2
のア−ム22Bの先端の受板部23の回転軸23Aの回
転角度を、所定の回転角度に変換して伝達し、ウェ−ハ
カセット26の受板部23を所定の角度だけ追加回転さ
せる。受板部23に授受されたウェ−ハカセット26
が、上記の直線移動によりキャリアストッカ20の所定
の載置部20Dに達した状態では、それぞれのカセット
移載ロボット21Aの第2のア−ム22Bはウェ−ハカ
セットの直線移動経路に対し角度βだけ傾けられて、受
板部23上のウェ−ハカセット26の開口面26Aは第
2のア−ム22Bに直角にされ、同時に第1のア−ム2
2Aも搬送経路に対し角度βだけ傾けられている。この
第2のア−ム22Bの延長線上に、ウェ−ハ移載ロボッ
ト19のペンシル19Bが直線移動経路に対し同じく角
度βだけ傾き、ウェ−ハカセット26の開口面26Aに
垂直に臨んだ状態で、キャリアストッカ20上に載置さ
れているウェ−ハカセット26からウェ−ハWが取り出
される。本発明のウェ−ハカセット移載ロボットによれ
ば、回転駆動機構33′の管状回転軸33Bを回転させ
るだけで、第1のア−ム22Aと第2のア−ム22Bが
常に二等辺三角形の2辺を形成して、その形状を変えな
がら第2のア−ム22Bが、その先端の受板部23上に
ウェ−ハカセット26を載せて、搬送の開始位置から終
了位置まで一直線上を移動するので、その搬送速度はウ
ェ−ハを1枚ずつ搬送するウェ−ハ移載ロボットに比較
しはるかに高速になるので、従来技術に関連して図9と
図13を参照して述べたような複数の棚を有するキャリ
アストッカを配置する必要はなく、ウェ−ハカセット2
6を載せて置くだけの簡単な台でもよい。その他は、従
来技術に示す構成と同一である。
As a result, the first timing belt 51
Through the tubular rotary shaft 33B of the rotary drive mechanism 33 '.
The rotary motion of the first rotary shaft 33′A transmitted to the second rotary shaft 40′A so that the rotation angle is doubled,
The rotation angle of the rotation shaft 23A of the receiving plate portion 23 at the tip of the arm 22B is converted into a predetermined rotation angle and transmitted, and the receiving plate portion 23 of the wafer cassette 26 is additionally rotated by a predetermined angle. Wafer cassette 26 transferred to receiving plate 23
However, the second arm 22B of each cassette transfer robot 21A has an angle .beta. With respect to the linear movement path of the wafer cassette in the state where it reaches the predetermined mounting portion 20D of the carrier stocker 20 by the above linear movement. The opening surface 26A of the wafer cassette 26 on the receiving plate 23 is inclined at right angles to the second arm 22B, and at the same time the first arm 2 is tilted.
2A is also inclined by an angle β with respect to the transport path. In a state in which the pencil 19B of the wafer transfer robot 19 is also inclined by the angle β with respect to the linear movement path on the extension line of the second arm 22B and vertically faces the opening surface 26A of the wafer cassette 26. The wafer W is taken out from the wafer cassette 26 placed on the carrier stocker 20. According to the wafer cassette transfer robot of the present invention, the first arm 22A and the second arm 22B are always formed into an isosceles triangle by simply rotating the tubular rotary shaft 33B of the rotary drive mechanism 33 '. By forming two sides and changing the shape, the second arm 22B puts the wafer cassette 26 on the receiving plate portion 23 at the tip thereof and moves in a straight line from the start position to the end position of the conveyance. Therefore, the transfer speed is much higher than that of a wafer transfer robot that transfers wafers one by one. Therefore, as described with reference to FIGS. It is not necessary to arrange a carrier stocker having a plurality of different shelves, and the wafer cassette 2
It may be as simple as placing 6 on it. Others are the same as the configuration shown in the related art.

【0018】このような構成において、カセット移載ロ
ボット21′により、カセットロ−ダ25からキャリア
ストッカ20の各棚板20Cにウェ−ハカセット26を
載置する作動の手順は、従来技術と同一なので説明を省
略する。
In such a structure, the operation procedure for placing the wafer cassette 26 from the cassette loader 25 to each shelf plate 20C of the carrier stocker 20 by the cassette transfer robot 21 'is the same as that of the prior art, so that it will be described. Is omitted.

【0019】このように、本実施例のカセット移載ロボ
ットによれば、カセットロ−ダ25で搬送されるウェ−
ハカセット26を回転駆動機構33′、ア−ム部22の
第2の回転軸40′A、及び受板部23の回転軸23A
は、1:2:1+δの回転条件で各々が回転しているの
で、受板部23に載置されているウェ−ハカセット26
を搬送線上を直線移動させることができるとともに、ウ
ェ−ハカセット26をキャリアストッカ20の載置部2
0Dに載置する直前の状態では、所定角度βだけ回転移
動されキャリアストッカ20の各棚板20Cに載置する
ことができる。
As described above, according to the cassette transfer robot of this embodiment, the wafer transferred by the cassette loader 25 is used.
The cassette 26 is used as a rotary drive mechanism 33 ', a second rotary shaft 40'A of the arm portion 22, and a rotary shaft 23A of the receiving plate portion 23.
Are rotated under the rotation condition of 1: 2: 1 + δ, the wafer cassette 26 mounted on the receiving plate portion 23 is rotated.
Can be linearly moved on the carrier line, and the wafer cassette 26 can be mounted on the mounting portion 2 of the carrier stocker 20.
In a state immediately before being placed on 0D, it can be rotationally moved by a predetermined angle β and placed on each shelf plate 20C of the carrier stocker 20.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明のカセット
移載ロボットによれば、回転駆動機構、ア−ム部の回転
軸、及び受板部の回転軸を1:2:1+δの回転条件
で、各々を回転させるので、次のような効果が達成され
る。 1)カセットロ−ダに対するカセット移載ロボットの授
受位置を、搬送線上のある範囲内で変更して設定でき、
その設定位置で第2のア−ムの搬送線に対する傾斜角を
αとし、ウェ−ハ移載ロボットの搬送線に対する傾斜角
がβとして指定されれば、前記のαとβとを既知の値と
する関係式から、第1のア−ムの回転角度と、この回転
角度に対する第2のア−ム先端の受板部の回転角度を算
出して対応することができる。 2)本願出願人の先願発明で採用した歯車列による回転
伝達方式に代り、ギヤとタイミングベルトによる伝達方
式を採用したので、多数の歯車と歯車を支持する回転軸
の精密を要する加工を低減できる。
As described in detail above, according to the cassette transfer robot of the present invention, the rotation drive mechanism, the rotation shaft of the arm portion, and the rotation shaft of the receiving plate portion are rotated by 1: 2: 1 + δ. Since each is rotated under the conditions, the following effects are achieved. 1) The transfer position of the cassette transfer robot with respect to the cassette loader can be changed and set within a certain range on the transfer line,
If the tilt angle of the second arm with respect to the carrier line is designated as α and the tilt angle of the wafer transfer robot with respect to the carrier line is designated as β at the set position, the above α and β are known values. From the relational expression, the rotation angle of the first arm and the rotation angle of the receiving plate at the tip of the second arm with respect to this rotation angle can be calculated and dealt with. 2) Instead of the rotation transmission system by the gear train adopted in the applicant's prior invention, the transmission system by gears and timing belts is adopted, so that the machining that requires precision of a large number of gears and a rotary shaft supporting the gears is reduced. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のカセット移載ロボットが配置された半
導体表面処理システムを示す上面図である。
FIG. 1 is a top view showing a semiconductor surface treatment system in which a cassette transfer robot of the present invention is arranged.

【図2】本図の(A)は本発明のカセット移載ロボット
のア−ム部の上面拡大図で、本図の(B)は本図の
(A)の側面図である。
FIG. 2A is an enlarged top view of an arm portion of the cassette transfer robot of the present invention, and FIG. 2B is a side view of FIG. 2A.

【図3】図1および図2におけるカセット移載ロボット
のア−ム部の移動動作を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a movement operation of an arm portion of the cassette transfer robot in FIGS. 1 and 2.

【図4】図1および図2におけるカセット移載ロボット
の受板部の第2のア−ムに対する所要回転角度を示す説
明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a required rotation angle of a receiving plate portion of the cassette transfer robot in FIGS. 1 and 2 with respect to a second arm.

【図5】本発明の一実施例を使用したカセット移載シス
テムの概略側面図である。
FIG. 5 is a schematic side view of a cassette transfer system using an embodiment of the present invention.

【図6】先願発明の表面処理装置でのア−ム部の上面拡
大図である。
FIG. 6 is an enlarged top view of an arm portion in the surface treatment apparatus of the prior invention.

【図7】先願発明の表面処理装置でのア−ム部の運動の
一部を示す上面図である。
FIG. 7 is a top view showing a part of the movement of the arm part in the surface treatment apparatus of the prior invention.

【図8】先願発明の表面処理装置でのア−ム部の運動を
示す上面図である。
FIG. 8 is a top view showing the movement of the arm portion in the surface treatment apparatus of the prior invention.

【図9】従来技術によるウェ−ハ表面処理装置の全体を
示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing an entire wafer surface treatment apparatus according to a conventional technique.

【図10】表面処理炉の縦断面図である。FIG. 10 is a vertical sectional view of a surface treatment furnace.

【図11】ウェ−ハカセットの構成を示す縦断面図であ
る。
FIG. 11 is a vertical sectional view showing the structure of a wafer cassette.

【図12】ウェ−ハカセットの構成を示す上面図であ
る。
FIG. 12 is a top view showing the structure of the wafer cassette.

【図13】図9におけるキャリアストッカの細部を示す
斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing details of the carrier stocker in FIG. 9.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

19 ウェ−ハ移載ロボット 20 キャリアストッカ 21A それぞれのウェ−ハカセット移載ロボット(カ
セット移載ロボット) 21′ ウェ−ハカセット移載ロボット(カセット移載
ロボット) 22 ア−ム部 22A 第1のア−ム 22B 第2のア−ム 23 受板部 23A 第3の回転軸 25 カセットロ−ダ 26 ウェ−ハカセット 26A ウェ−ハカセットの開口面 33B 管状回転軸 33′A 第1の回転軸 34B、40B 中間軸 35 昇降駆動機構 40′A 第2の回転軸 51 第1のタイミングベルト 52 第2のタイミングベルト
19 wafer transfer robot 20 carrier stocker 21A respective wafer cassette transfer robot (cassette transfer robot) 21 'wafer cassette transfer robot (cassette transfer robot) 22 arm section 22A first arm Mu 22B 2nd arm 23 Support plate part 23A 3rd rotating shaft 25 Cassette loader 26 Wafer cassette 26A Wafer cassette opening surface 33B Tubular rotating shaft 33'A 1st rotating shaft 34B, 40B Intermediate shaft 35 Lifting / lowering drive mechanism 40'A Second rotating shaft 51 First timing belt 52 Second timing belt

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体製造装置におけるウェ−ハカセッ
トを載せるカセットロ−ダと、表面処理炉の手前に配置
されたウェ−ハ移載ロボットに対する授受のための中継
置場として配置されたキャリアストッカと、このキャリ
アストッカと前記カセットロ−ダとを結ぶ搬送線の中間
に配置され、処理前の所定枚数のウェ−ハを載せたウェ
−ハカセットをカセットロ−ダから受けてキャリアスト
ッカに置き、又はその逆に処理済みのウェ−ハを収納し
たウェ−ハカセットをカセットロ−ダまで戻すため前記
搬送線に対し対称に配置された1対のウェ−ハカセット
移載ロボットと、を含んで成るウェ−ハカセット移載シ
ステムにおけるウェ−ハカセット移載ロボットであっ
て、 前記1対のウェ−ハカセット移載ロボットの各々は、本
体と、一方端が前記本体に装着された第1のア−ムと、
この第1のア−ムの他方端部に一方の端部が関節接続さ
れ前記第1のア−ムと長さが等しい第2のア−ムとを有
するア−ム部と、前記第2のア−ムの先端の旋回軸の周
りに旋回可能に装着されてウェ−ハカセットを載せる受
板部とを有し;前記第1のア−ムを回転させ、この回転
に連動して前記第2のア−ムと前記の受板部のそれぞれ
を所定の角度だけ回転させる回転連動機構と、この回転
連動機構と前記ア−ム部とを昇降させる昇降機構とを有
し;前記第1のア−ムが回転軸の周りに所定の角度回転
されると、前記第2のア−ムは前記第1のア−ムの先端
の回転軸の周りに前記第1のア−ムの回転角度の2倍の
角度だけ反対方向に回転され、その先端は前記第1のア
−ムの旋回による運動から引き戻されて、前記カセット
ロ−ダとの授受位置からキャリアストッカ部との授受位
置までの間を搬送軌道に沿って直線移動され、授受位置
で搬送線に対し所定の角度にされた前記ウェ−ハ移載ロ
ボットのフィンガの延長線上に整列され、 前記第2のア−ムの先端の前記受板部は、前記第1のア
−ムの回転と同方向に所定の角度だけ回転され、前記受
板部上に載置されたウェ−ハカセットの開口面が前記ウ
ェ−ハカセット移載ロボットの第2のア−ムと直角に対
面されることを特徴とする半導体製造装置におけるウェ
−ハカセット移載ロボット。
1. A cassette loader for mounting a wafer cassette in a semiconductor manufacturing apparatus, a carrier stocker arranged as a relay storage area for transferring wafers to and from a wafer transfer robot arranged in front of a surface treatment furnace, A wafer cassette, which is arranged in the middle of the carrier line connecting the carrier stocker and the cassette loader and has a predetermined number of wafers before processing, is received from the cassette loader and placed in the carrier stocker, or vice versa. A wafer cassette transfer system comprising: a pair of wafer cassette transfer robots symmetrically arranged with respect to the transfer line for returning a wafer cassette containing a completed wafer to the cassette loader. A wafer cassette transfer robot, wherein each of the pair of wafer cassette transfer robots has a main body and one end. Serial first of A, which is attached to the body - and no,
One end is articulated to the other end of the first arm, and an arm portion having a second arm having a length equal to that of the first arm, and the second arm. And a receiving plate portion mounted so as to be pivotable around the pivot axis of the arm of the arm for mounting the wafer cassette; rotating the first arm, and interlocking with this rotation, the first arm is rotated. A rotation interlocking mechanism for rotating each of the two arms and the receiving plate portion by a predetermined angle, and an elevating mechanism for elevating the rotation interlocking mechanism and the arm portion; When the arm is rotated about the rotation axis by a predetermined angle, the second arm rotates the rotation angle of the first arm about the rotation axis of the tip of the first arm. Is rotated in the opposite direction by an angle twice as large as that of the first arm, and the tip end thereof is pulled back from the movement of the first arm by the rotation, so that the transfer position with respect to the cassette loader is changed. From the to the transfer position with the carrier stocker section is linearly moved along the transfer trajectory, and is aligned on the extension line of the finger of the wafer transfer robot at a predetermined angle with respect to the transfer line at the transfer position, The receiving plate portion at the tip of the second arm is rotated by a predetermined angle in the same direction as the rotation of the first arm, so that the wafer cassette mounted on the receiving plate portion is rotated. A wafer cassette transfer robot in a semiconductor manufacturing apparatus, the opening surface of which faces the second arm of the wafer cassette transfer robot at a right angle.
【請求項2】 請求項1記載のウェ−ハカセット移載ロ
ボットにおいて、所定の範囲内で選択可能にされたカセ
ットロ−ダの設定位置に対し、前記第2のア−ムが授受
位置に置かれた時の搬送線に対する傾斜角をαとし、ウ
ェ−ハ移載ロボットの授受位置におけるフィンガの搬送
線に対する傾斜角がβである場合、前記第1のア−ム
は、2R−(α+β)の角度回転され、前記第2のア−
ムは前記第1のア−ムの先端において反対方向に前記の
角度の2倍の角度だけ回転されるようにされている半導
体製造装置におけるウェ−ハカセット移載ロボット。
2. The wafer cassette transfer robot according to claim 1, wherein the second arm is placed at a transfer position with respect to a set position of a cassette loader that is selectable within a predetermined range. When the tilt angle with respect to the carrier line when the wafer is transferred is α, and the tilt angle of the fingers at the transfer position of the wafer transfer robot with respect to the carrier line is β, the first arm is 2R- (α + β). The second arm is rotated by an angle.
A wafer cassette transfer robot in a semiconductor manufacturing apparatus, wherein the wafer is rotated at an end of the first arm in the opposite direction by an angle twice the above angle.
【請求項3】 請求項1または2記載のウェ−ハカセッ
ト移載ロボットにおいて、前記第2のア−ムの先端の受
板部は前記第1のア−ムを回転させる回転軸の回転角2
R−(α+β)に対し2R−(α)、即ち、1:1+δ
の比で回転されることを特徴とする半導体製造装置にお
けるウェ−ハカセット移載ロボット。
3. The wafer cassette transfer robot according to claim 1 or 2, wherein the receiving plate portion at the tip of the second arm has a rotation angle 2 of a rotary shaft for rotating the first arm.
2R- (α) with respect to R- (α + β), that is, 1: 1 + δ
A wafer cassette transfer robot in a semiconductor manufacturing apparatus, which is rotated at a ratio of
【請求項4】 請求項1から3のいずれかに記載のウェ
−ハカセット移載ロボットにおいて、前記移載ロボット
の本体と第1のア−ムを連結する第1の回転軸と、この
第1の回転軸と前記第1のア−ムの先端と前記第2のア
−ムとを連結する第2の回転軸との間、および前記第2
の回転軸と前記第2のア−ムの先端に前記受板部を連結
する第3の回転軸との間が、それぞれの回転軸に設けら
れたギヤとこれらの回転軸と次の回転軸の中間に設けら
れた、それぞれ1つの中間ギヤとタイミングベルトを介
し所定のギヤレシオで歯車連結され、前記の第1および
第2のア−ムと受板部とが、所定の角度で所定の方向に
回転されることを特徴とする半導体製造装置におけるウ
ェ−ハカセット移載ロボット。
4. The wafer cassette transfer robot according to any one of claims 1 to 3, wherein a first rotating shaft connecting the main body of the transfer robot and a first arm, and the first rotating shaft. Between a second rotation shaft connecting the first rotation shaft and the tip of the first arm and the second arm, and the second rotation shaft.
Between the rotary shaft of the second rotary arm and the third rotary shaft connecting the receiving plate to the tip of the second arm, gears provided on the rotary shafts, these rotary shafts, and the next rotary shaft. , One intermediate gear and a timing belt, respectively, are gear-coupled to each other with a predetermined gear ratio, and the first and second arms and the receiving plate portion have a predetermined angle and a predetermined direction. A wafer cassette transfer robot in a semiconductor manufacturing apparatus, characterized in that the robot is rotated in a horizontal direction.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005159141A (en) * 2003-11-27 2005-06-16 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Substrate transfer device and substrate storage and transfer device
JP2015231007A (en) * 2014-06-06 2015-12-21 トヨタ自動車株式会社 Semiconductor manufacturing apparatus
CN113119152A (en) * 2019-12-30 2021-07-16 因特利格雷特总部有限责任公司 Object grasping mechanism

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005159141A (en) * 2003-11-27 2005-06-16 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Substrate transfer device and substrate storage and transfer device
JP4715088B2 (en) * 2003-11-27 2011-07-06 株式会社Ihi Substrate transfer device and substrate storage transfer device
JP2015231007A (en) * 2014-06-06 2015-12-21 トヨタ自動車株式会社 Semiconductor manufacturing apparatus
CN113119152A (en) * 2019-12-30 2021-07-16 因特利格雷特总部有限责任公司 Object grasping mechanism
US11919151B2 (en) 2019-12-30 2024-03-05 Intelligrated Headquarters, Llc Object gripping mechanism
CN113119152B (en) * 2019-12-30 2024-04-26 因特利格雷特总部有限责任公司 Object gripping mechanism

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