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JPH07281423A - 印刷版の製版方法 - Google Patents

印刷版の製版方法

Info

Publication number
JPH07281423A
JPH07281423A JP6069722A JP6972294A JPH07281423A JP H07281423 A JPH07281423 A JP H07281423A JP 6069722 A JP6069722 A JP 6069722A JP 6972294 A JP6972294 A JP 6972294A JP H07281423 A JPH07281423 A JP H07281423A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
resin layer
aluminum support
thickness
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6069722A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuo Kojima
康生 児島
Nobumasa Sasa
信正 左々
Takeo Akiyama
健夫 秋山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP6069722A priority Critical patent/JPH07281423A/ja
Priority to US08/415,326 priority patent/US5550002A/en
Publication of JPH07281423A publication Critical patent/JPH07281423A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0384—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the main chain of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/34—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
    • G03F7/346—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away using photosensitive materials other than non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 乾式転写方式による印刷版の製版方法におい
て、画質、耐刷力、印刷適性、及び／又は地汚れが改善
される製版方法を提供する。 【構成】 光硬化性の感光性樹脂層と50μm以下の薄
膜シートとの積層物の感光性樹脂層側を、硝酸浴中で電
解研磨を行い表面粗さＲａが0.1〜0.6μmに粗面化した
アルミ支持体に重ねた後、画像露光を行い、加熱及び／
又は加圧の後か同時に薄膜シートを露光部の感光性樹脂
層と共にアルミ支持体から剥離し、アルミ支持体上に残
された未露光の感光性樹脂層を後露光し硬化させる。
画像露光をアルミ支持体と重ねる前に行う上記の方
法。感光性樹脂層の上にカバーシートを設け、薄膜シ
ート側から画像露光した後アルミ支持体と重ねる前にカ
バーシートを剥離し、薄膜シート上に残った露光部感光
性樹脂を加熱及び／又は加圧して転写する上記の方
法。硝酸浴の代わりにリン酸浴を用いる上記〜の
方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、印刷版の製造方法に関
し、さらに詳しくは、乾式処理によって印刷版を製造す
る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】砂目支持体上に転写によりレリーフ像を
形成し、印刷版を形成する方法は知られている。例え
ば、特開昭52-9501号公報には、砂目立てされたアルミ
板上に感光性樹脂層及びカバーシートを設け、画像露光
後、未露光部の感光性樹脂層をカバーシートとともに取
り除くことによりネガ型の印刷版を作成する方法、特開
平3-184049号公報及び特開平4-172351号公報には、画像
露光した感光性樹脂層を砂目立てされたアルミ板にラミ
ネートし、未露光部のみを転写し、印刷版を作成する方
法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、砂目支
持体として良好なものが見いだせていないため商品化が
困難であった。従来用いられてきた機械研磨方式では砂
目の形状が不均一になるため、転写を均一に行うことが
困難で、転写型の画像形成には不適であった。また、電
解研磨方式を採用すれば均一な砂目形状が得られるが、
塩酸浴又は硫酸浴中の電解研磨では砂目がクレーター状
になるため、転写時に砂目の最深部までレジストが延展
せず、部分的に接着力が悪く耐刷力が不良であった。ま
た、硫酸浴中の陽極酸化では転写されたレリーフ像と砂
目との接着力が不充分で、不充分な耐刷力しか得られな
かった。
【０００４】本発明の目的は、第１に、画質が向上し、
耐刷力及び印刷適性に優れた印刷版が得られる印刷版の
製造方法を提供することであり、第２に、耐刷力及び地
汚れが改善された印刷版が得られる印刷版の製造方法を
提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を達成
する本発明の構成は下記〜である。
【０００６】光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
μm以下の薄膜シートの該感光性樹脂層側を、硝酸浴中
で電解研磨を行い、表面粗さがＲａで0.1〜0.6μmに粗
面化されたアルミ支持体にラミネートし、画像露光を行
い、加熱及び／又は加圧処理を行った後又は加熱及び／
又は加圧処理と同時に該薄膜シート及び露光部の感光性
樹脂層を該アルミ支持体から除去し、該アルミ支持体上
に残された未露光の感光性樹脂を後露光し硬化させるこ
とを特徴とする印刷版の製版方法。
【０００７】光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
μm以下の薄膜シートに画像露光を行い、該薄膜シート
の感光性樹脂層側を、硝酸浴中で電解研磨を行い、表面
粗さがＲａで0.1〜0.6μmに粗面化されたアルミ支持体
に加熱及び／又は加圧しながらラミネートし未露光部の
感光性樹脂層を該アルミ支持体に転写し、後露光し硬化
させることを特徴とする印刷版の製版方法。
【０００８】光硬化性の感光性樹脂層及びカバーシー
トを有する厚さ50μm以下の薄膜シートに画像露光を行
い、カバーシートを剥離し剥離現像を行い形成したレリ
ーフ像を、硝酸浴中で電解研磨を行い、表面粗さがＲａ
で0.1〜0.6μmに粗面化されたアルミ支持体に加熱及び
／又は加圧しながら転写し、未露光部の感光性樹脂層を
後露光し硬化させることを特徴とする印刷版の製版方
法。
【０００９】光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
μm以下の薄膜シートの該感光性樹脂層側を、機械的研
磨を行った後に電解研磨を行い、粗面化されたアルミ支
持体にラミネートした後、画像露光を行い加熱及び／又
は加圧処理を行った後又は加熱及び／又は加圧処理と同
時に該薄膜シート及び露光部の感光性樹脂層を該アルミ
支持体から除去し、該アルミ支持体上に残された未露光
の感光性樹脂層を後露光し硬化させることを特徴とする
印刷版の製版方法。
【００１０】光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
μm以下の薄膜シートに画像露光を行い、該薄膜シート
の該感光性樹脂層側を、機械的研磨を行った後に電解研
磨を行い、粗面化されたアルミ支持体に加熱及び／又は
加圧処理しながらラミネートし、未露光部の感光性樹脂
層をアルミ支持体に転写し、後露光し硬化させることを
特徴とする印刷版の製版方法。
【００１１】光硬化性の感光性樹脂層及びカバーシー
トを有する厚さ50μm以下の薄膜シートに画像露光を行
い、該カバーシートを剥離し剥離現像を行い形成したレ
リーフ像を、機械的研磨を行った後に電解研磨を行い粗
面化されたアルミ支持体に加熱及び／又は加圧しながら
転写し、転写された未露光部の感光性樹脂層を後露光し
硬化させることを特徴とする印刷版の製版方法。
【００１２】光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
μm以下の薄膜シートの感光性樹脂層側を、燐酸浴中で
陽極酸化を行い、陽極酸化皮膜量が５〜40mg／dm2のア
ルミ支持体にラミネートした後、画像露光を行い、加熱
及び／又は加圧処理を行った後あるいは同時に該薄膜シ
ートを露光部の感光性樹脂層と共にアルミ支持体から除
去し、さらにアルミ支持体上に残された未露光の感光性
樹脂を後露光し、硬化させることを特徴とする印刷版の
製版方法。
【００１３】光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
μm以下の薄膜シートに画像露光を行い、該薄膜シート
の感光性樹脂層側を、燐酸浴中で陽極酸化を行い、陽極
酸化皮膜量が５〜40mg／dm2のアルミ支持体に加熱及び
／又は加圧しながらラミネートし、未露光部の感光性樹
脂層を該アルミ支持体に転写し、後露光を行い硬化させ
ることを特徴とする印刷版の製版方法。
【００１４】光硬化性の感光性樹脂層及びカバーシー
トを有する厚さ50μm以下の薄膜シートに画像露光を行
い、該カバーシートを剥離し剥離現像を行い形成したレ
リーフ像を、燐酸浴中で陽極酸化処理を行い、陽極酸化
皮膜量が５〜40mg／dm2のアルミ支持体に加熱及び／又
は加圧しながら転写し、転写像を後露光し硬化させるこ
とを特徴とする印刷版の製版方法。
【００１５】以下、本発明について詳述する。
【００１６】本発明に用いられる薄膜シートとしては、
それが写真的性質に影響を与えず、寸度的に安定であれ
ば任意の材料を用いることができる。代表的な支持体と
してはニトロセルロースフィルム，トリアセチルセルロ
ースフィルム，ポリビニルアセタールフィルム，ポリス
チレンフィルム，ポリエチレンテレフタレートフィル
ム，ポリカーボネートフィルム，ポリα-オレフィン、
例えばポリエチレン，ポリプロピレンフィルム及びその
他の樹脂フィルムが挙げられる。好ましくはポリエステ
ルフィルムである。さらに薄手の金属支持体あるいは金
属で被覆されたプラスチックあるいは紙支持体等の複合
支持体も使用可能である。この中ではアルミニウム板あ
るいはアルミニウムで被覆されたプラスチック支持体が
寸度安定性及び軽量性のため好ましい。これらの支持体
の表面には感光層の塗布性向上や感光層の接着性向上の
ため適当な下びき処理を施すことが好ましい。さらにこ
れらの支持体の表面または裏面にはハレーション防止等
の目的で染料や顔料を含むハレーション防止層を設けて
もよい。またこの薄膜シートの感光性樹脂層を設ける側
と反対側の面は記録材料のすべり性向上や露光時の原稿
との密着性向上等の目的により表面が表面粗さＲａが1.
0〜3.0μmにマット化していることが好ましい。
【００１７】薄膜シートの厚さは50μm以下である必要
がある。好ましくは４〜20μmである。４μmより薄いシ
ートを用いた場合は支持体の寸度が不安定となる。20μ
mより厚い場合はアルミ支持体との密着性が低下し良好
な転写画像が得られない。
【００１８】本発明に用いられる光硬化性の感光性樹脂
層を形成する組成物としては光重合性組成物，光架橋性
組成物，ジアゾ化合物等が挙げられる。このうち光重合
性組成物及び光架橋性組成物が好ましく用いられる。
【００１９】好ましく用いられる光重合性組成物として
は以下のようなものが挙げられる。バインダー成分とし
ては熱可塑性で光重合成分との相溶性に優れたポリマー
が用いられる。例えばポリ塩化ビニル，塩素化ポリオレ
フィン，ポリ(メタ)アクリル酸エステル，エポキシ樹
脂，ポリウレタン樹脂，セルロース誘導体，ポリアミド
樹脂，ポリビニル-ブチラール樹脂，ポリビニルアセタ
ール樹脂，ポリビニルピロリドン，ゼラチン，ジアリル
フタレート樹脂，ブタジエン-アクリロニトリル共重合
体，ポリ酢酸ビニル，バーサチック酸ビニル等が挙げら
れる。
【００２０】光重合性成分としては以下のようなエチレ
ン性不飽和化合物が用いられる。代表的な化合物として
は、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート，エチレン
グリコールジアクリレート，ジエチレングリコールジア
クリレート，1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト，トリメチロールプロパントリクリレート，ペンタエ
リスリトールトリアクリレート，ジペンタエリスリトー
ルトリアクリレート，ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート等であり、これらのエチレン性不飽和化合物
を一種または二種以上用いることができる。
【００２１】このような光重合成分バインダー成分100
重量部に対し、10〜500重量部、好ましくは30〜200重量
部の範囲で用いられる。
【００２２】また光重合開始剤としては、例えばJ.コー
サー（J.Koser）著「ライトセンシティブシステムズ」
第５章に記載されているようなカルボニル化合物、有機
硫黄化合物、過硫化物、過酸化物、レドックス系化合
物、アゾ並びにジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元
性色素等が挙げられる。更に具体的な化合物は英国特許
第1,459,563号に開示されている。
【００２３】即ち光増感剤としては、次のようなものを
使用することができる。例えばベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α,α-ジメトキ
シ-α-フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体；
ベンゾフェノン、2,4-ジクロロベンゾフェノン、o-ベン
ゾイル安息香酸メチル、4,4′-ビス(ジメチルアミン)ベ
ンゾフェノン、4,4′-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン等のベンゾフェノン誘導体；2-クロロチオキサント
ン、2-イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン
誘導体；2-クロロアントラキノン、2-メチルアントラキ
ノン等のアントラキノン誘導体；N-メチルアクリドン、
N-ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体；α,α-ジエ
トキシアセトフェノン；フルオレノン；キサントン；ウ
ラニル化合物；ハロゲン化合物等である。
【００２４】また、可視光域に吸収を有する以下のピロ
ピロール化合物、キナクリドン化合物、アゾ化合物、ク
マリン化合物を光増感剤として使用することにより、低
出力の可視光レーザーに高感度で感応しうる光重合性組
成物が得られる。
【００２５】上記増感剤として好ましくは下記一般式
〔１〕で示されるピロピロール化合物、下記一般式
〔２〕で示されるキナクリドン化合物、下記一般式
〔３〕又は〔４〕で示されるアゾ化合物、下記一般式
〔５〕で示されるクマリン化合物が挙げられる。
【００２６】
【化１】
【００２７】一般式〔１〕において、Ａ及びＢは各々ア
ルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、又は炭素
環若しくは複素環基の芳香族基を表し、Ｒ1及びＲ2は各
々水素原子又は水溶性を付与しない置換基を表し、Ｅは
硫黄原子又は酸素原子を表す。
【００２８】
【化２】
【００２９】一般式〔２〕において、Ｒ1は水素原子又
はアルキル基を表し、Ｒ2はアルキル基又はパーハロゲ
ン化アルキル基を表す。
【００３０】
【化３】
【００３１】一般式〔３〕及び〔４〕において、Ｒ1は
アルキル基を表し、Ｒ2及びＲ3は各々水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、カルボ
キシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アルキル
メルカプト基又はアルコキシカルボニル基を表す。
【００３２】
【化４】
【００３３】一般式〔５〕において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3
は各々水素原子、塩素原子、低級アルコキシ基、低級ジ
アルキルアミノ基、低級ジアルケニルアミノ基若しくは
脂環式アミノ基、又は炭素原子及びヘテロ原子の総数が
５〜９個の複素環基を表し、Ｚは水素原子又はシアノ基
を表す。
【００３４】さらに近赤外に吸収を有するカチオン染料
のボレート錯体を光重合開始剤に含有させることによ
り、近赤外の固体レーザー等に高感度で感応しうる光重
合性組成物が得られる。このカチオン型色素部とボレー
トアニオンから形成される色素塩のボレートアニオンと
しては下記一般式〔６〕で示されるものが好ましい。
【００３５】
【化５】
【００３６】一般式〔６〕において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及
びＲ4は各々アルキル基（例えばエチル、ブチル）、ア
リール基（例えばフェニル、ナフチル）、アラルキル基
（例えばベンジル、フェネチル）、アルケニル基（例え
ばビニル、アリル）、アルキニル基（例えばプロピニ
ル）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル、シク
ロヘキシル）又は複素環基（例えばチエニル、ピリジ
ル）を表し、これらの各基は更に置換基を有していても
よい。特に好ましくは、Ｒ1〜Ｒ4の少なくとも一つがア
リール基であり、少なくとも一つがアルキル基である。
【００３７】アリール基としてはフェニル又はナフチル
基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基で置換されて
もよい。アルキル基としては炭素原子１〜12のアルキル
基が好ましく、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル等の各基が
挙げられる。これらのアルキル基はハロゲン原子、アル
コキシ基、ヒドロキシル基、シアノ基、フェニル基等で
置換されてもよい。カチオン型色素部としては、近赤外
領域に吸収を有するカチオン性のシアニン、メロシアニ
ン、カルボシアニン、ローダミン、アゾメチン、インド
アニリン、アズレニウム、ポリメチン、トリアリールメ
タン、インドリン、チアジン、キサンテイン、アクリジ
ン及びオキサジン色素が挙げられる。
【００３８】カチオン染料としてはシアニン系、アズレ
ニウム系及びインドアニリン系色素が好ましい。これら
の色素としては例えば色材61(4)215〜216頁に記載され
ているが、以下に代表的具体例を挙げる。
【００３９】
【化６】
【００４０】
【化７】
【００４１】
【化８】
【００４２】
【化９】
【００４３】光重合性組成物には必要に応じて感度を高
めるために増感助剤として例えば、ミヒラーズケトン，
4,4′-ビスジエチルアミノベンゾフェノンのようなアミ
ン化合物を使用できる。
【００４４】感光層の膜厚は特に限定はなく、例えば0.
5μm程度あればよい。適正な塗布量は含有される色剤
（染料や顔料）によって異なるが、例えば0.5〜30ｇ／m
2が適当である。塗布に際しては、バーコーター等を用
いることができ、その他例えばスピンコーターやこれに
類似のコーターでもよく、任意である。
【００４５】光架橋性組成物に用いられる好ましい光架
橋性化合物として下記一般式〔７〕で表されるジカルボ
ン酸単位と下記一般式〔８〕で表されるグリコール単位
及び下記一般式
〔９〕で表されるグリコール単位とから
なるポリエステルが挙げられる。
【００４６】
【化１０】
【００４７】一般式〔７〕において、ｍは０又は１を表
し、ｍが０のときｌ及びｎは各々０又は１で、ｌとｎの
少なくとも一方は１であり、ｍが１のときｌ及びｎは各
々０であり、ｐは２又は３を表す。
【００４８】
【化１１】
【００４９】一般式〔８〕において、Ｒは炭素数２〜４
のアルキレン基を表し、ｒは２、３又は４を表す。
【００５０】
【化１２】
【００５１】一般式
〔９〕において、Ｒ1及びＲ2は各々
水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ3は
水素添加されたベンゼン環を表す。
【００５２】前記一般式〔７〕で示されるジカルボン酸
単位としては、フェニレンジアクリル酸，p-カルボキシ
桂皮酸，ビス(p-カルボキシベンザル)シクロヘキサノ
ン，ビス(p-カルボキシベンザル)シクロペンタノン等よ
り誘導されるものが挙げられる。これらの中ではフェニ
レンジアクリル酸より誘導される単位がとくに好まし
い。
【００５３】また、一般式〔８〕で示されるグリコール
単位としてはジエチレングリコール，トリエチレングリ
コール，テトラエチレングリコール，ジプロピレングリ
コール，トリプロピレングリコール等から誘導されるも
のが挙げられる。
【００５４】一般式
〔９〕で示されるグリコール単位と
しては水素添加されたビスフェノールＦ、水素添加され
たビスフェノールＡ等から誘導されるものが挙げられ
る。水素添加の程度は高い方が好ましく、前記一般式
〔９〕においてＲ3がシクロヘキサン環であるものがと
くに好ましい。
【００５５】グリコール単位中に占める一般式〔８〕で
示されるグリコール単位の割合は好ましくは10〜90モル
％、より好ましくは30〜70モル％である。前記範囲より
多くなると耐薬品性が低下するし、逆に少なくなると感
度が低下する。
【００５６】感光性ポリエステルの平均分子量は特に制
限されないが、5,000〜50,000が好ましく、特に9,000〜
20,000のものが好ましい。本発明でいう「平均分子量」
とは「重量平均分子量」を意味する。
【００５７】このような感光性ポリエステルは周知の方
法、例えば米国特許第3,622,320号に記載される方法に
従って容易に製造できる。即ち、前記一般式〔７〕で示
されるジカルボン酸単位を形成させるジカルボン酸のエ
ステルと前記一般式〔８〕及び
〔９〕で示されるグリコ
ール単位を形成させるグリコール混合物とを加熱溶解さ
せ、チタン系，ゲルマニウム系触媒を添加してエステル
交換を行った後、徐々に減圧、昇温を行い過剰のグリコ
ールを留出させることにより製造する。反応時間は一般
に４時間程度であり、重合末期の温度は230〜240℃、減
圧は３mmHg程度になる。
【００５８】光架橋性組成物は、一般に前記感光性ポリ
マーを溶媒に溶解することによって製造される。好適な
溶媒はポリマーの分子量及び組成により異なるが、普
通、塩化メチレン，クロロホルム，トリクロロエタン，
トリクロロエチレン，クロルベンゼン，ジクロルベンゼ
ン，四塩化炭素等の塩素系溶剤；フルフリルアルコー
ル，テトラヒドロフルフリルアルコール，ベンジルアル
コール等のアルコール系溶剤；ジオキサン，テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノ
メチルエーテル，エチレングリコールモノエチルエーテ
ル，エチレングリコールモノプロピルエーテル，エチレ
ングリコールモノブチルエーテル，ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル，ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル，ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル，ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエチ
レングリコールモノアルキルエーテル，ジエチレングリ
コールモノアルキルエーテル系溶剤；エチレングリコー
ルエチルエーテルアセテート，ジエチレングリコールエ
チルエーテルアセテート，酢酸エチル等のエステル系溶
剤；ジメチルフォルムアミド，メチルピロリドン，ニト
ロエタン，ニトロベンゼン等の含窒素化合物；メチルエ
チルケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノ
ン，メチルシクロヘキサノン，4-メチル-4-メトキシ-2-
ペンタノン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド等
のうちから適宜選択され使用される。
【００５９】光架橋性組成物は必要に応じ前記成分以外
に種々の成分を含んでいてもよく、例えば増感剤あるい
はフタロシアニン、酸化亜鉛等の顔料、ビクトリア・ピ
ュア・ブルーBOH，エチルバイオレット等の染料を含有
する。
【００６０】増感剤としてはこの分野で使用されている
ものが何れも使用でき、例えばベンゾフェノン誘導体，
ベンズアンスロン誘導体，ナフトチアゾリン誘導体，キ
ノン類等の芳香族カルボニル化合物あるいは芳香族ニト
ロ化合物等が使用される。
【００６１】ベンゾフェノン誘導体としてはミヒラーケ
トン，ジエチルアミノエチルベンゾフェノン等；ベンズ
アンスロン誘導体としてはベンズアンスロン，6,11-ジ
クロロベンズアンスロン，11-クロロ-6-ヒドロキシベン
ズアンスロン，1-カルボエトキシ-2-ケト-3-メチル-3-
アザ-1,9-ベンズアンスロン等；キノン類としては1,8-
ジメトキシアントラキノン，1,8-ジクロロアントラキノ
ン，1,2-ベンズアントラキノン等；芳香族ニトロ化合物
としては、5-ニトロアセナフテン，2-ニトロフルオレ
ン，2,7-ジニトロフルオレン，1-ニトロナフタレン，1,
5-ジニトロナフタレン等のモノあるいはポリニトロ化合
物等；ナフトチアゾリン誘導体としては2-ジベンゾイル
メチレン-3-メチルナフトチアゾリン，2-ベンゾイルメ
チレン-3-メチルナフトチアゾリン等が挙げられる。
【００６２】光架橋性組成物を常法に従って薄膜シート
上に、ディップコート，コーティングロッド，スピナー
コート，スプレーコート等の周知の塗布方法で塗布すれ
ば積層物を製造することができる。
【００６３】本発明の感光性樹脂層には上記の他に特開
平4-172351号公報に記載の着色剤を含有させることがで
きる。
【００６４】請求項１〜９に係る発明において、薄膜シ
ートと感光性樹脂層との間にはアルミ支持体への転写性
向上等の目的で必要に応じ、熱軟化層を設けることがで
きる。この熱軟化層は熱可塑性樹脂からなり、加熱時に
軟化する性質を有するものである。該熱軟化層として、
特開平4-172351号公報に記載の熱軟化層を適用すること
ができる。熱軟化層は、ポリオレフィン化合物からなる
層であることが好ましく、また、軟化点が−30℃〜150
℃である樹脂からなることが好ましい。
【００６５】請求項３、６及び９に係る発明に使用する
カバーシートとしては、カバーシート側から露光を行う
場合は光の透過性が良好であること及び表面が均一であ
ることが必要である。光の透過性に関しては、近紫外線
及び可視光線（波長約290nmから約650nmの範囲）におい
て、透過率が50％以上、好ましくは65％以上である必要
がある。
【００６６】具体的にはポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二
酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコー
ル、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポ
リ塩化ビニリデン共重合物、ポリアミド、ポリイミド、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合物、ポリテトラフルオロエ
チレン、ポリトリフルオロエチレン等の多種のプラスチ
ックフィルムが使用できる。更にこれ等の二種以上から
なる複合材料も使用することができる。
【００６７】カバーフィルムは、一般的には５〜100μm
の範囲の厚さのもの、好ましくは10〜40μmの範囲の厚
さのものが使用される。
【００６８】請求項１〜３に係る発明に用いられるアル
ミ支持体について説明する。アルミ支持体の基板として
は純アルミニウム板、アルミニウム合金あるいは表面が
アルミニウムまたはアルミニウム合金で被覆された他の
金属板、フィルム、紙等も用いることができる。
【００６９】上記アルミ支持体の表面は電解研磨により
砂目立てされる。この電解粗面化にあたり、電解浴とし
て硝酸または硝酸を含む混酸液が用いられる。この電解
エッチングに先だってボール研磨、ブラシ研磨、液体ホ
ーニング、バフ研磨のような機械的な研磨を行ってもよ
い。粗面化は、粗面化した面の表面粗さがＲａで0.1〜
0.6μmの範囲となるように粗面化する。
【００７０】電解粗面化条件としては、0.1〜0.5mol／
ｌ、好ましくは0.2〜0.4mol／ｌの硝酸を含有する浴中
にアルミ支持体を浸漬し、20〜50℃、好ましくは25〜45
℃の温度、電流密度20〜200Ａ／dm2で10秒〜３分程度電
解研磨することが好ましい。
【００７１】電荷研磨されたアルミ支持体は化学的に清
浄化処理することが望ましい。これは表面残存物である
いわゆるスマットを表面から除去する作用を有するから
である。このような処理としては例えば特公昭48-28123
号公報に記載されているアルカリエッチング法や特開昭
53-12739号公報記載の硫酸デスマット法等の処理方法が
挙げられる。
【００７２】この電解研磨後、さらに陽極酸化処理を行
いアルミ支持体上に陽極酸化皮膜を形成することが好ま
しい。
【００７３】陽極酸化処理は、電解液として硫酸、クロ
ム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等の一種または二種
以上を合計濃度10〜50％で含む水溶液を用い、これを電
解液としてアルミ支持体を陽極にして電流密度１〜10Ａ
／dm2で10秒〜２分電解することにより行うことができ
る。また他に米国特許1,412,768号明細書に記載されて
いる硫酸中で高電流密度で電解する方法もある。形成さ
れた陽極酸化量は１〜50mg／dm2が適当であり、好まし
くは５〜30mg／dm2である。
【００７４】この中で電解浴として燐酸を用いることが
転写画像との接着性が良好で好ましい。
【００７５】陽極酸化されたアルミ支持体は、更に米国
特許2,714,066号及び米国特許3,181,461号明細書に記載
されているようなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸
ナトリウムの水溶液に浸漬することにより処理したり、
米国特許3,860,426号明細書記載のように水溶性金属塩
（例えば酢酸亜鉛等）を含む親水性セルロース（例えば
カルボキシメチルセルロース等）の下塗層を設けたり、
米国特許4,153,461号明細書に記載されているようにポ
リビニルホスホン酸で処理してもよい。
【００７６】次に、請求項４〜６に係る発明に用いられ
るアルミ支持体について説明する。アルミ支持体の基板
としては純アルミニウム板、アルミニウム合金あるいは
表面がアルミニウムまたはアルミニウム合金で被覆され
た他の金属板、フィルム、紙等も用いることができる。
上記アルミ支持体の表面は機械的研磨を行った後電解研
磨が行われる。
【００７７】機械的研磨としてはサンドブラスト、ボー
ルグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロンブラシと研磨
剤／水スラリーによるブラシグレイン、研磨剤／水スラ
リーを表面に高圧で吹き付けるホーニング法等が挙げら
れる。
【００７８】電解研磨は、電解浴として塩酸、硫酸、硝
酸あるいはこれらの混酸液中で行われる。電解粗面化条
件としては、0.1〜0.5mol／ｌ、好ましくは0.2〜0.4mol
／ｌの酸を含有する水溶液中にアルミ支持体を浸漬し、
20〜50℃、好ましくは25〜45℃の温度、電解密度20〜20
0Ａ／dm2で10秒〜３分程度電解研磨することが好まし
い。
【００７９】得られたアルミ支持体の表面粗さは、Ｒma
xは５μm以下であり、ピークカウントが実質的に０であ
ることが画像再現上好ましい。
【００８０】研磨されたアルミ支持体は化学的に清浄化
処理することが望ましい。これは表面残存物であるいわ
ゆるスマットを表面から除去する作用を有するからであ
る。このような処理としては例えば特公昭48-28123号公
報に記載されているアルカリエッチリング法や特開昭53
-12739号公報記載の硫酸デスマット法等の処理方法が挙
げられる。
【００８１】この研磨後、さらに陽極酸化処理を行いア
ルミ支持体上に陽極酸化皮膜を形成することが好まし
い。陽極酸化処理は、電解液として硫酸、クロム酸、シ
ュウ酸、リン酸、マロン酸等の一種または二種以上を合
計濃度10〜50％で含む水溶液を用い、これを電解液とし
アルミ支持体を陽極にして電流密度１〜10Ａ／dm2で10
秒〜２分電解することにより行うことができる。また他
に米国特許1,412,768号明細書に記載されている硫酸中
で高電流密度で電解する方法もある。形成された陽極酸
化量は１〜50mg／dm2が適当であり、好ましくは５〜30m
g／dm2である。この中で電解浴として燐酸を用いること
が転写画像との接着性が良好で、好ましい。
【００８２】陽極酸化されたアルミ支持体は、更に米国
特許2,714,066号及び米国特許3,181,461号明細書等に記
載されているようにアルカリ金属シリケート、例えば珪
酸ナトリウムの水溶液に浸漬することにより処理した
り、米国特許3,860,426号明細書記載のように水溶性金
属塩（例えば酢酸亜鉛等）を含む親水性セルロース（例
えばカルボキシメチルセルロース等）の下塗層を設けた
り、米国特許4,153,461号明細書に記載されているよう
にポリビニルホスホン酸で処理してもよい。
【００８３】次に請求項７〜９に係る発明に用いられる
アルミ支持体について説明する。アルミ支持体の基板と
しては純アルミニウム板、アルミニウム合金あるいは表
面がアルミニウムまたはアルミニウム合金で被覆された
他の金属板、フィルム、紙等も用いることができる。上
記アルミ支持体の表面はブラシ研磨法やボール研磨法の
ような機械的方法や電解研磨ような電気化学的方法ある
いは両者を組合わせた方法により砂目立てされる。
【００８４】電解研磨の場合は電解液として硝酸、塩
酸、硫酸あるいはこれらの混酸を用い、電解粗面化条件
としては0.1〜0.5mol／ｌ、好ましくは0.2〜0.4mol／ｌ
の硝酸を含有する浴中にアルミ支持体を浸漬し、20〜50
℃、好ましくは25〜45℃の温度、電流密度20〜200Ａ／d
m2で10秒〜３分程度であることが好ましい。
【００８５】この電解エッチングに先だってボール研
磨、ブラシ研磨、液体ホーニング、バフ研磨ような機械
的な研磨を行うことも好ましい。
【００８６】研磨されたアルミ支持体は化学的に清浄化
処理することが望ましい。これは表面残存物であるいわ
ゆるスマットを表面から除去する作用を有するからであ
る。このような処理としては例えば特公昭48-28123号公
報に記載されているアルカリエッチング法や特開昭53-1
2739号公報記載の硫酸デスマット法等の処理方法が挙げ
られる。
【００８７】この研磨後、さらに陽極酸化処理を行いア
ルミ支持体上に陽極酸化皮膜を形成することが好まし
い。陽極酸化処理は、電解液としてリン酸を濃度10〜50
％で含む水溶液を用い、これを電解液としてアルミ支持
体を陽極にして電流密度１〜10Ａ／dm2で10秒〜２分電
解することにより行う。形成された陽極酸化量は５〜40
mg／dm2であり、好ましくは10〜30mg／dm2である。
【００８８】陽極酸化されたアルミ支持体は、更に米国
特許2,714,066号及び米国特許3,181,461号明細書に記載
されているようなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸
ナトリウムの水溶液に浸漬することにより処理したり、
米国特許3,860,426号明細書記載のように水溶性金属塩
（例えば酢酸亜鉛等）を含む親水性セルロース（例えば
カルボキシメチルセルロース等）の下塗層を設けたり、
米国特許4,153,461号明細書に記載されているようにポ
リビニルホスホン酸で処理してもよい。
【００８９】請求項１〜９に係る発明の好ましい実施態
様によれば、アルミ支持体の表面粗さはＲmaxで１〜５
μm、Ｒａで0.1〜0.5μmであり、中心線から上方２μm
のところに中心線に平行に設けた切断線を越えるピーク
カウントが実質的に０である。
【００９０】表面粗さＲmaxおよびＲａとは、表面粗さ
を例えば触針式表面粗さ測定機で測定した際のドイツ規
格DIN3768に示される値である。
【００９１】又ピークカウントとは上記ドイツ規格で規
定されるものであって、表面粗さプロファイルＲにおい
て中心線から上方に平行に設定された切断線を越えたピ
ークの数である。
【００９２】本発明において上記ピークカウントが実質
的に０とは、支持体表面の無作為に選んだ10点以上にお
ける前記測定方法で測定されたピークカウントの平均値
が0.49／mm以下であることをいう。
【００９３】このような砂目形状を採用することによ
り、特に転写性が向上し、解像性の向上も見られた。
【００９４】次に、本発明の製版方法について説明す
る。なお、本明細書において「ラミネートし」とは「重
ねて密着させる」ことを意味する。
【００９５】請求項１に係る発明は、光硬化性の感光性
樹脂層を有する薄膜シートの該感光性樹脂層側を、アル
ミ支持体にラミネートして画像露光を行い、加熱及び／
又は加圧処理を行った後又は加熱及び／又は加圧処理と
同時に薄膜シート及び露光部の感光性樹脂層を該アルミ
支持体から除去し、該アルミ支持体上に残された未露光
の感光性樹脂を後露光し硬化させて印刷版を作成するの
であるが、画像露光は、感光性組成物に対して硬化反応
を生じる光であれば特に制限はない。透過原稿を介して
密着露光を行ってもよいし、レーザー光のような変調可
能な光源により線順次あるいは点順次走査露光を行って
もよい。
【００９６】画像露光の後、未露光部の感光性樹脂をア
ルミ支持体に転写させるために加熱及び／又は加圧処理
を行うが、この加熱処理は80℃以上の温度を付与し１kg
／m2以上の圧力のもとで行うことが好ましい。この加熱
及び／又は加圧処理と同時に又は後に薄膜シートを剥離
する。好ましくは加熱及び加圧と平行して剥離を行う。
具体的には、加熱及び加圧されたローラ間に、薄膜シー
トの感光性樹脂層側をアルミ支持体にラミネートしたも
のを通過させながら薄膜シートを出口側で剥離する。こ
の剥離の際に感光性樹脂層の露光部は薄膜シートと共に
除去されるが、感光性樹脂層の未露光部はアルミ支持体
側に転写される。さらに、アルミ支持体側に転写された
未硬化の感光性樹脂を活性光により再度露光して硬化さ
せて印刷版が得られる。
【００９７】請求項２に係る発明は、画像露光を、薄膜
シートと感光性樹脂層との積層物とアルミ支持体とをラ
ミネートする前に、該積層物の薄膜シート側又は感光性
樹脂層側から行い、その後に、該積層物の未露光部の感
光性樹脂層をアルミ支持体に転写する。画像露光、転
写、後露光等の条件は請求項１に係る発明と同様でよ
い。
【００９８】請求項３に係る発明は、画像露光を、感光
性樹脂層とアルミ支持体とのラミネート前に、薄膜シー
ト、光硬化性の感光性樹脂層、カバーシートの順に積層
された積層物に対して薄膜シート側又はカバーシート側
から行い、カバーシートを剥離し剥離現像を行い薄膜シ
ート上に形成されたレリーフ像をアルミ支持体に転写す
る。画像露光、転写、後露光等の条件は請求項１に係る
発明と同様でよい。
【００９９】請求項４に係る発明は、アルミ支持体の粗
面化の方法が異なるだけでその他は請求項１に係る発明
と同様である。請求項５に係る発明は、画像露光を、感
光性樹脂層とアルミ支持体とのラミネート前に行うほか
は請求項４と同じである。請求項６に係る発明は、アル
ミ支持体の粗面化の方法が異なるほかは請求項３に係る
発明と同様である。請求項７に係る発明は、アルミ支持
体の粗面化の方法が異なるほかは請求項１に係る発明と
同様である。請求項８に係る発明は、アルミ支持体の粗
面化の方法が異なるほかは請求項２に係る発明と同様で
ある。請求項９に係る発明は、アルミ支持体の粗面化の
方法が異なるほかは請求項３に係る発明と同様である。
【０１００】
【実施例】以下、本発明を実施例でより具体的に説明す
る。以下の実施例で「部」とあるのは「重量部」を意味
する。
【０１０１】実施例１（請求項１） 厚さ10μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。
【０１０２】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 これを以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てされた
アルミ板に１kg／cm2の圧力をかけながらラミネートし
た。次にこのアルミ板のポリエチレンテレフタレートフ
ィルム側にポジの透過原稿を密着させ、紫外光で原稿側
より露光した。次にこのアルミ板を80℃に加熱され、３
kg／cm2に加圧されたローラ間を通過させた。このアル
ミ板からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し
たところ、露光された部分がフィルムと同時に剥離さ
れ、未露光部分がアルミ板上に残った。アルミ板に対し
紫外光で全面露光を行い、残った未露光部を硬化させ
た。こうして得られた印刷版をハイデルベルグＧＴＯ印
刷機にかけ印刷したところ良好な印刷物が10万枚以上得
られた。
【０１０３】電解研磨条件 厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液中で100クロー
ン／dm2の陽極時電気量で電解研磨を行った。この表面
粗さを測定したところ、Ｒａで0.3μmであった。引き続
き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で２分間デスマッ
ト処理を施した後、20％硫酸水溶液中、電流密度2.5Ａ
／dm2において厚さが30mg／dm2になるように陽極酸化処
理した。得られたアルミ支持体を0.001％のカルボキシ
メチルセルロース水溶液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗
及び乾燥した。
【０１０４】実施例２（請求項２） 厚さ25μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。
【０１０５】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 さらに上に厚さ６μmのポリプロピレンフィルムをラミ
ネートしカバーシートとした。
【０１０６】この感材の支持体側にポジの透過原稿を密
着し、紫外光で原稿側から露光した。次にカバーシート
を剥離し、以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てさ
れたアルミ板に100℃の温度と１kg／cm2の圧力をかけな
がらラミネートした。露光された部分がフィルムと同時
に剥離され、未露光部分がアルミ板上に転写された。ア
ルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残った未露光光
部を硬化させた。こうして得られた印刷版をハイデルベ
ルグＧＴＯ印刷機にかけ印刷したところ良好な印刷物が
10万枚以上得られた。
【０１０７】電解研磨条件 厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液中で100クロー
ン／dm2の陽極時電気量で電解研磨を行った。この表面
粗さを測定したところ、Ｒａで0.3μmであった。引き続
き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で２分間デスマッ
ト処理を施した後、20％硫酸水溶液中、電流密度2.5Ａ
／dm2において厚さが30mg／dm2になるように陽極酸化処
理した。得られたアルミ支持体を0.01％のカルボキシメ
チルセルロース水溶液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及
び乾燥した。
【０１０８】実施例３（請求項３） 厚さ25μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。
【０１０９】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 さらにこの上に厚さ６μmのポリプロピレンフィルムを
ラミネートしカバーシートとした。
【０１１０】この感材の支持体側にポジの透過原稿を密
着し、紫外光で原稿側から露光した。次にカバーシート
を剥離したところ、支持体側に露光部が残りレリーフ像
が形成された。
【０１１１】次に以下のような条件で硝酸電解研磨砂目
立てされたアルミ板に100℃の温度と１kg／cm2の圧力を
かけながらラミネートした。露光された部分がフィルム
と同時に剥離され、未露光部分がアルミ板上に転写され
た。アルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残った未
露光部を硬化させた。こうして得られた印刷版をハイデ
ルベルグＧＴＯ印刷機にかけ印刷したところ良好な印刷
物が10万枚以上得られた。
【０１１２】電解研磨条件 厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液中で100クロー
ン／dm2の陽極時電気量で電解研磨を行った。この表面
粗さを測定したところ、Ｒａで0.3μmであった。引き続
き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で２分間デスマッ
ト処理を施した後、20％硫酸水溶液中、電流密度2.5Ａ
／dm2において厚さが30mg／dm2になるように陽極酸化処
理した。得られたアルミ支持体を0.01％のカルボキシメ
チルセルロース水溶液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及
び乾燥した。
【０１１３】実施例４（請求項４） 厚さ10μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。
【０１１４】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 これを以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てされた
アルミ板に１kg／m2の圧力をかけながらラミネートし
た。次にこのアルミ板のポリエチレンテレフタレートフ
ィルム側にポジの透過原稿を密着させ、紫外光で原稿側
より露光した。次にこのアルミ板を80℃に加熱され、３
kg／cm2に加圧されたローラ間を通過させた。このアル
ミ板からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し
たところ、露光された部分がフィルムと同時に剥離さ
れ、未露光部分がアルミ板上に残った。アルミ板に対し
紫外光で全面露光を行い、残った未露光部を硬化させ
た。こうして得られた印刷版をハイデルベルグＧＴＯ印
刷機にかけ印刷したところ良好な印刷物が10万枚以上得
られた。
【０１１５】電解研磨条件 厚さ0.3mmのアルミ板をステンレス製ワイヤーブラシを
用いて砂目立てした。水洗後、10％水酸化ナトリウム水
溶液に30℃で10秒間浸漬し、表面をエッチングした。
【０１１６】次に１％の硝酸水溶液中で80クーロン／dm
2の陽極時電気量の電解研磨を行った。この表面粗さを
測定したところＲａで0.3μmであった。
【０１１７】引き続き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55
℃で２分間デスマット処理を施した後、20％硫酸水溶液
中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが30mg／dm2にな
るように陽極酸化処理した。得られたアルミ支持体を0.
01％のカルボキシメチルセルロース水溶液中に90℃で10
秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１１８】実施例５（請求項５） 厚さ25μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。
【０１１９】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 さらにこの上に厚さ６μmのポリプロピレンフィルムを
ラミネートしカバーシートとした。
【０１２０】この感材の支持体側にポジの透過原稿を密
着し、紫外光で原稿側から露光した。次にカバーシート
を剥離し、以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てさ
れたアルミ板に100℃の温度と１kg／cm2の圧力をかけな
がらラミネートした。露光された部分がフィルムと同時
に剥離され、未露光部分がアルミ板上に転写された。ア
ルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残った未露光部
を硬化させた。こうして得られた印刷版をハイデルベル
グＧＴＯ印刷機にかけ印刷したところ良好な印刷物が10
万枚以上得られた。
【０１２１】電解研磨条件 厚さ0.3mmのアルミ板をステンレス製ワイヤーブラシを
用いて砂目立てした。水洗後、10％水酸化ナトリウム水
溶液に30℃で10秒間浸漬し、表面をエッチングした。
【０１２２】次に１％の硝酸水溶液中で80クーロン／dm
2の陽極時電気量の電解研磨を行った。この表面粗さを
測定したところＲａで0.3μmであった。
【０１２３】引き続き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55
℃で２分間デスマット処理を施した後、20％硫酸水溶液
中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが30mg／dm2にな
るように陽極酸化処理した。得られたアルミ支持体を0.
01％のカルボキシメチルセルロース水溶液中に90℃で10
秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１２４】実施例６（請求項６） 厚さ25μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。
【０１２５】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 さらにこの上に厚さ６μmのポリプロピレンフィルムを
ラミネートしカバーシートした。
【０１２６】この感材の支持体側にポジの透過原稿を密
着し、紫外光で原稿側から露光した。次にカバーシート
を剥離し、以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てさ
れたアルミ板に100℃の温度と１kg／cm2の圧力をかけな
がらラミネートした。露光された部分がフィルムと同時
に剥離され、未露光部分がアルミ板上に転写された。ア
ルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残った未露光部
分を硬化させた。こうして得られた印刷版をハイデルベ
ルグＧＴＯ印刷機にかけ印刷したところ良好な印刷物が
10万枚以上得られた。
【０１２７】電解研磨条件 厚さ0.3mmのアルミ板をステンレス製ワイヤーブラシを
用いて砂目立てした。水洗後、10％水酸化ナトリウム水
溶液に30℃で10秒間浸漬し、表面をエッチングした。
【０１２８】次に１％の硝酸水溶液中で80クーロン／dm
2の陽極時電気量の電解研磨を行った。この表面粗さを
測定したところＲａで0.3μmであった。
【０１２９】引き続き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55
℃で２分間デスマット処理を施した後、20％硫酸水溶液
中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが30mg／dm2にな
るように陽極酸化処理した。得られたアルミ支持体を0.
01％のカルボキシメチルセルロース水溶液中に90℃で10
秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１３０】実施例７（請求項７） 厚さ10μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。
【０１３１】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 これを以下のような条件で砂目立てされたアルミ板に１
kg／m2の圧力をかけながらラミネートした。次にこのア
ルミ板のポリエチレンテレフタレートフィルム側にポジ
の透過原稿を密着させ、紫外光で原稿側より露光した。
次にこのアルミ板を80℃に加熱され、３kg／cm2に加圧
されたローラ間を通過させた。このアルミ板からポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離したところ、露光
された部分がフィルムと同時に剥離され、未露光部分が
アルミ板上に残った。アルミ板に対し紫外光で全面露光
を行い、残った未露光部を硬化させた。こうして得られ
た印刷版をハイデルベヘルグＧＴＯ印刷機にかけ印刷し
たところ良好な印刷物が10万枚得られた。
【０１３２】砂目立て条件 厚さ0.3mmのアルミ板をステンレス製ワイヤーブラシを
用いて砂目立てした。水洗後、10％水酸化ナトリウム水
溶液に30℃で10秒間浸漬し、表面をエッチングした。
【０１３３】次に１％の硝酸水溶液中で80クーロン／dm
2の陽極時電気量の電解研磨を行った。この表面粗さを
測定したところＲａで0.3μmであった。
【０１３４】引き続き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55
℃で２分間デスマット処理を施した後、20％燐酸水溶液
中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが20mg／dm2にな
るように陽極酸化処理した。得られたアルミ支持体を0.
01％のカルボキシメチルセルロース水溶液中に90℃で10
秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１３５】実施例８（請求項８） 厚さ10μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。
【０１３６】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 さらにこの上に厚さ６μmのポリプロプレンフィルムを
ラミネートしカバーシートとした。
【０１３７】この感材の支持体側にポジの透過原稿を密
着し、紫外光で原稿側から露光した。次にカバーシート
を剥離し、以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てさ
れたアルミ板に100℃の温度と１kg／cm2の圧力をかけな
がらラミネートした。露光された部分がフィルムと同時
に剥離され、未露光部分がアルミ板上に転写された。ア
ルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残った未露光部
を硬化させた。こうして得られた印刷版をハイデルベル
グＧＴＯ印刷機にかけ印刷したところ良好な印刷物が10
万枚以上得られた。
【０１３８】砂目立て条件 厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液中で100クロー
ン／dm2の陽極時電気量で電解研磨を行った。この表面
粗さを測定したところ、Ｒａで0.3μmであった。引き続
き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で２分間デスマッ
ト処理を施した後、20％燐酸水溶液中、電流密度2.5Ａ
／dm2において厚さが20mg／dm2になるように陽極酸化処
理した。得られたアルミ支持体を0.01％のカルボキシメ
チルセルロース水溶液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及
び乾燥した。
【０１３９】実施例９（請求項９） 厚さ10μmの下塗りされたポリエリタレンテレフタレー
トフィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜圧が
２μmとなるよう塗設した。
【０１４０】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 さらにこの上に厚さ６μmのポリプロピレンフィルムを
ラミネートしカバーシートとした。
【０１４１】この感材の支持体側にポジの透過原稿を密
着し、紫外光で原稿側から露光した。次にカバーシート
を剥離し、以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てさ
れたアルミ板に100℃の温度と１kg／cm2の圧力をかけな
がらラミネートした。露光された部分がフィルムと同時
に剥離され、未露光部分がアルミ板上に転写された。ア
ルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残った未露光部
を硬化させた。こうして得られた印刷版をハイデルベル
グＧＴＯ印刷機にかけ印刷したところ良好な印刷物が10
万枚以上得られた。
【０１４２】砂目立て条件 厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液中で100クロー
ン／dm2の陽極時電気量で電解研磨を行った。この表面
粗さを測定したところ、Ｒａで0.3μmであった。引き続
き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で２分間デスマッ
ト処理を施した後、20％燐酸水溶液中、電流密度2.5Ａ
／dm2において厚さが20mg／dm2になるように陽極酸化処
理した。得られたアルミ支持体を0.01％のカルボキシメ
チルセルロース水溶液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及
び乾燥した。
【０１４３】実施例10 10μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレートフィ
ルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２μm
となるよう塗設した。
【０１４４】 スーパークロンCPE907LTA （塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製） 100部 ＴＭＰＴＡ （トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学製） 100部 3-(2′-ベンズイミダゾイル)-7-ジメチルアミノクマリン 5部 3,3′,4,4′-テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン 5部 メチルセロソルブ 1000部 これを以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てされた
アルミ板に３kg／m2の圧力をかけながらラミネートし
た。次にこのアルミ板をポリエチレンテレフタレートフ
ィルム側から488nmのアルゴンレーザー光で露光した。
次にこのアルミ板を80℃に加熱され、３kg／m2に加圧さ
れたローラー間を通過させた。このアルミ板からポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離したところ、露光
された部分がフィルムと同時に剥離され、未露光部分が
アルミ板上に残った。アルミ板に対し紫外光で全面露光
を行い、残った未露光部分を硬化させた。こうして得ら
れた印刷版をハイデルヘルグＧＴＯ印刷機に掛け印刷し
たところ良好な印刷物が10万枚以上得られた。
【０１４５】電解研磨条件 厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液中で100クロー
ン／dm2の陽極時電気量で電解研磨を行った。この表面
粗さを測定したところ、Ｒａで0.3μmであった。引き続
き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で２分間デスマッ
ト処理を施した後、20％燐酸水溶液中、電流密度2.5Ａ
／dm2において厚さが20mg／dm2になるように陽極酸化処
理した。得られたアルミ支持体を0.01％のポリビニルホ
スホン酸水溶液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及び乾燥
した。
【０１４６】実施例11 ブチルアクリレート・エチルアクリレート・無水マレイン酸共重合体 80部 スーパークロンCPE907LTA （塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製） 20部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 60部 ペンタエリスリトール・テレフタル酸・アクリレート（２：１：７） 60部 カチオン染料のボレート錯体（化合物ＩＲ−１） 1部 ブチルトリフェニルほう素のテトラブチルアンモニウム塩 3部 メチルセロソルブ 1800部 これを以下のような条件で硝酸電解研磨砂目立てされた
アルミ板に３kg／m2の圧力をかけながらラミネートし
た。次にこのアルミ板をポリエチレンフタレートフィル
ム側から830nmの半導体レーザー光で露光した。次にこ
のアルミ板を80℃に加熱され、３kg／m2に加圧されたロ
ーラー間を通過させた。このアルミ板からポリエチレン
フタレートフィルムを剥離したところ、露光された部分
がフィルムと同時に剥離され、未露光部分がアルミ板上
に残った。アルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残
った未露光部分を硬化させた。こうして得られた印刷版
をハイデルベルグＧＴＯ印刷機に掛け印刷したところ良
好な印刷物が10万枚以上得られた。
【０１４７】電解研磨条件 厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液中で100クロー
ン／dm2の陽極時電気量で電解研磨を行った。この表面
粗さを測定したところ、Ｒａで0.3μmであった。引き続
き30％の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃で２分間デスマッ
ト処理を施した後、20％燐酸水溶液中、電流密度2.5Ａ
／dm2において厚さが20mg／dm2になるように陽極酸化処
理した。得られたアルミ支持体を0.01％のカルボキシメ
チルセルロース水溶液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及
び乾燥した。
【０１４８】実施例12 実施例１の感光層を用い以下のような条件で作成された
アルミ支持体上に、実施例１と同様の方法で画像を形成
した。
【０１４９】厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液
中で電解研磨を行った。この表面粗さを測定したとこ
ろ，Ｒａで0.3μmであった。引き続き30％の硫酸水溶液
中に浸漬し、55℃で２分間デスマット処理を施した後、
20％硫酸水溶液中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが
25mg／dm2になるように陽極酸化処理した。得られたア
ルミ支持体を0.01％のカルボキシメチルセルロース水溶
液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１５０】実施例13 実施例１の感光層を用い以下のような条件で作成された
アルミ支持体上に、実施例１と同様の方法で画像を形成
した。
【０１５１】厚さ0.3mmのアルミ板をステンレス製ワイ
ヤーブラシを用いて砂目立てした。水洗後、10％水酸化
ナトリウム水溶液に30℃で10秒間浸漬し、表面をエッチ
ングした。次に１％の硝酸水溶液中で80クローン／dm2
の陽極時電気量の電解研磨を行った。この表面粗さを測
定したところＲａで0.4μmであった。
【０１５２】実施例14 実施例１の感光層を用い以下のような条件で作成された
アルミ支持体上に、実施例１と同様の方法で画像を形成
した。
【０１５３】厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液
中で電解研磨を行った。この表面粗さを測定したとこ
ろ、Ｒａで0.3μmであった。引き続き30％の硫酸水溶液
中に浸漬し、55℃で２分間デスマット処理を施した後、
20％燐酸水溶液中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが
25mg／dm2になるように陽極酸化処理した。得られたア
ルミ支持体を0.01％のカルボキシメチルセルロース水溶
液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１５４】実施例15 実施例１の感光層を用い以下のような条件で作成された
アルミ支持体上に、実施例１と同様の方法で画像を形成
した。
【０１５５】厚さ0.3mmのアルミ板をステンレス製ワイ
ヤーブラシを用いて砂目立てした。水洗後、10％水酸化
ナトリウム水溶液に30℃で10秒間浸漬し、表面をエッチ
ングした。次に１％の硝酸水溶液中で80クローン／dm2
の陽極時電気量で電解研磨を行った。この表面粗さを測
定したところＲａで0.4μmであった。
【０１５６】比較例１ 実施例１の感光層を用い以下のような条件で作成された
アルミ支持体上に、実施例１と同様の方法で画像を形成
した。
【０１５７】厚さ0.3mmのアルミ板を１％の塩酸水溶液
中で電解研磨を行った。この表面粗さを測定したとこ
ろ、Ｒａで0.4μmであった。引き続き30％の硫酸水溶液
中に浸漬し、55℃で２分間デスマット処理を施した後、
20％硫酸水溶液中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが
25mg／dm2になるように陽極酸化処理した。得られたア
ルミ支持体を0.01％のポリビニルホスホン酸水溶液中に
90℃で10秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１５８】比較例２ 実施例１の感光層を用い以下のような条件で作成された
アルミ支持体上に、実施例１と同様の方法で画像を形成
した。
【０１５９】厚さ0.3mmのアルミ板をステンレス製のワ
イヤーブラシを用いて砂目立てした。水洗後、10％水酸
化ナトリウム水溶液に30℃で10秒間浸漬し、表面をエッ
チングした。このアルミ板を表面粗さを測定したところ
Ｒａで0.4μmであった。
【０１６０】比較例３ 実施例１の感光層を用い以下のような条件で作成された
アルミ支持体上に、実施例１と同様の方法で画像を形成
した。
【０１６１】厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液
中で電解研磨を行った。この表面粗さを測定したとこ
ろ、Ｒａで0.8μmであった。引き続き30％の硫酸水溶液
中に浸漬し、55℃で２分間デスマット処理を施した後、
20％燐酸水溶液中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが
25mg／dm2になるように陽極酸化処理した。得られたア
ルミ支持体と0.01％のカルボキシメチルセルロース水溶
液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１６２】比較例４ 実施例１の感光層を用い以下のような条件で作成された
アルミ支持体上に、実施例１と同様の方法で画像を形成
した。
【０１６３】厚さ0.3mmのアルミ板を１％の硝酸水溶液
中で電解研磨を行った。この表面粗さを測定したとこ
ろ、Ｒａで0.4μmであった。引き続き30％の硫酸水溶液
中に浸漬し、55℃で２分間デスマット処理を施した後、
20％燐酸水溶液中、電流密度2.5Ａ／dm2において厚さが
３mg／dm2になるように陽極酸化処理した。得られたア
ルミ支持体を0.01％のカルボキシメチルセルロース水溶
液中に90℃で10秒間浸漬し、水洗及び乾燥した。
【０１６４】上記実施例12〜15及び比較例１〜４で得ら
れた支持体の物性測定値を表１に、画像形成の評価結果
を表２に示す。
【０１６５】
【表１】
【０１６６】
【表２】
【０１６７】表２中の評価基準は下記のとおりである。
【０１６８】耐刷力：ハイデルベルグ印刷機で上質紙に
印刷を行い、ベタ部で濃度低下が観察されはじめた枚数 網点再現性：175線／インチの網点原稿を用いて露光を
行いアルミ板上に得られた画像の再現性 転写の均一性：Ａ２サイズの150線／インチの50％の平
網原稿を用いて露光を行いアルミ板上に得られた画像の
最小濃度と最大濃度の差 ピンホール：25倍のルーペを用い、１mm2の視野中のピ
ンホールの数 このように本発明方法で得られた印刷版は高解像度で画
像均一性、耐刷性に優れ、ピンホールが少ないことがわ
かる。
【０１６９】
【発明の効果】乾式転写方式による印刷版の製版方法に
おいて、請求項１〜６に係る発明によれば、下記〜
、請求項７に係る発明によれば下記及び、請求項
８及び９に係る発明によれば下記の効果が得られる。
【０１７０】画質が向上する 耐刷力に優れる 印刷適性に優れる 地汚れが少ない

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
    μm以下の薄膜シートの該感光性樹脂層側を、硝酸浴中
    で電解研磨を行い、表面粗さがＲａで0.1〜0.6μmに粗
    面化されたアルミ支持体にラミネートし、画像露光を行
    い、加熱及び／又は加圧処理を行った後又は加熱及び／
    又は加圧処理と同時に該薄膜シート及び露光部の感光性
    樹脂層を該アルミ支持体から除去し、該アルミ支持体上
    に残された未露光の感光性樹脂を後露光し硬化させるこ
    とを特徴とする印刷版の製版方法。
  2. 【請求項２】 光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
    μm以下の薄膜シートに画像露光を行い、該薄膜シート
    の感光性樹脂層側を、硝酸浴中で電解研磨を行い、表面
    粗さがＲａで0.1〜0.6μmに粗面化されたアルミ支持体
    に加熱及び／又は加圧しながらラミネートし未露光部の
    感光性樹脂層を該アルミ支持体に転写し、後露光し硬化
    させることを特徴とする印刷版の製版方法。
  3. 【請求項３】 光硬化性の感光性樹脂層及びカバーシー
    トを有する厚さ50μm以下の薄膜シートに画像露光を行
    い、カバーシートを剥離し剥離現像を行い形成したレリ
    ーフ像を、硝酸浴中で電解研磨を行い、表面粗さがＲａ
    で0.1〜0.6μmに粗面化されたアルミ支持体に加熱及び
    ／又は加圧しながら転写し、未露光部の感光性樹脂層を
    後露光し硬化させることを特徴とする印刷版の製版方
    法。
  4. 【請求項４】 光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
    μm以下の薄膜シートの該感光性樹脂層側を、機械的研
    磨を行った後に電解研磨を行い、粗面化されたアルミ支
    持体にラミネートした後、画像露光を行い加熱及び／又
    は加圧処理を行った後又は加熱及び／又は加圧処理と同
    時に該薄膜シート及び露光部の感光性樹脂層を該アルミ
    支持体から除去し、該アルミ支持体上に残された未露光
    の感光性樹脂層を後露光し硬化させることを特徴とする
    印刷版の製版方法。
  5. 【請求項５】 光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
    μm以下の薄膜シートに画像露光を行い、該薄膜シート
    の該感光性樹脂層側を、機械的研磨を行った後に電解研
    磨を行い、粗面化されたアルミ支持体に加熱及び／又は
    加圧処理しながらラミネートし、未露光部の感光性樹脂
    層をアルミ支持体に転写し、後露光し硬化させることを
    特徴とする印刷版の製版方法。
  6. 【請求項６】 光硬化性の感光性樹脂層及びカバーシー
    トを有する厚さ50μm以下の薄膜シートに画像露光を行
    い、該カバーシートを剥離し剥離現像を行い形成したレ
    リーフ像を、機械的研磨を行った後に電解研磨を行い粗
    面化されたアルミ支持体に加熱及び／又は加圧しながら
    転写し、転写された未露光部の感光性樹脂層を後露光し
    硬化させることを特徴とする印刷版の製版方法。
  7. 【請求項７】 光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
    μm以下の薄膜シートの感光性樹脂層側を、燐酸浴中で
    陽極酸化を行い、陽極酸化皮膜量が５〜40mg／dm2のア
    ルミ支持体にラミネートした後、画像露光を行い、加熱
    及び／又は加圧処理を行った後あるいは同時に該薄膜シ
    ートを露光部の感光性樹脂層と共にアルミ支持体から除
    去し、さらにアルミ支持体上に残された未露光の感光性
    樹脂を後露光し、硬化させることを特徴とする印刷版の
    製版方法。
  8. 【請求項８】 光硬化性の感光性樹脂層を有する厚さ50
    μm以下の薄膜シートに画像露光を行い、該薄膜シート
    の感光性樹脂層側を、燐酸浴中で陽極酸化を行い、陽極
    酸化皮膜量が５〜40mg／dm2のアルミ支持体に加熱及び
    ／又は加圧しながらラミネートし、未露光部の感光性樹
    脂層を該アルミ支持体に転写し、後露光を行い硬化させ
    ることを特徴とする印刷版の製版方法。
  9. 【請求項９】 光硬化性の感光性樹脂層及びカバーシー
    トを有する厚さ50μm以下の薄膜シートに画像露光を行
    い、該カバーシートを剥離し剥離現像を行い形成したレ
    リーフ像を、燐酸浴中で陽極酸化処理を行い、陽極酸化
    皮膜量が５〜40mg／dm2のアルミ支持体に加熱及び／又
    は加圧しながら転写し、転写像を後露光し硬化させるこ
    とを特徴とする印刷版の製版方法。
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