JPH072797A - コラゲナーゼ阻害剤 - Google Patents
コラゲナーゼ阻害剤Info
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- JPH072797A JPH072797A JP6074748A JP7474894A JPH072797A JP H072797 A JPH072797 A JP H072797A JP 6074748 A JP6074748 A JP 6074748A JP 7474894 A JP7474894 A JP 7474894A JP H072797 A JPH072797 A JP H072797A
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- JP
- Japan
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- acid
- reference example
- complex
- solvent
- reaction
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 優れたコラゲナーゼ阻害活性を有する新規な
ピペラジン酸誘導体を提供する。 【構成】 一般式を有する化合物、ならびに当該化合物
を有効成分とする血管新生、癌浸潤又は癌転移の抑制
剤。 ［式中、Ｒ1 は−ＮＲ4 Ｒ5 （Ｒ4 及びＲ5 はＨ、アル
キル）：Ｒ2 はアルキル］
ピペラジン酸誘導体を提供する。 【構成】 一般式を有する化合物、ならびに当該化合物
を有効成分とする血管新生、癌浸潤又は癌転移の抑制
剤。 ［式中、Ｒ1 は−ＮＲ4 Ｒ5 （Ｒ4 及びＲ5 はＨ、アル
キル）：Ｒ2 はアルキル］
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、優れたコラゲナーゼ阻
害活性を有する新規なピペラジン酸誘導体に関する。
害活性を有する新規なピペラジン酸誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】コラゲナーゼは結合組織などの主要構成
成分の１つであるコラーゲンを分解する酵素であり、こ
のうち、IV型コラゲナーゼは基底膜の主要成分であるIV
型コラーゲンを分解する。そして、癌が生育する際の血
管新生、癌の浸潤及び転移においてはIV型コラゲナーゼ
活性が上昇し、基底膜の破壊に主要な役割を果たしてい
ることが知られている（William G.Stetler-Stevenson
; Cancer andMetastasis Reviews, vol.9, 289-30
3,(1990))。従って、コラゲナーゼ阻害剤はこれら疾患
の予防・治療に有用である。
成分の１つであるコラーゲンを分解する酵素であり、こ
のうち、IV型コラゲナーゼは基底膜の主要成分であるIV
型コラーゲンを分解する。そして、癌が生育する際の血
管新生、癌の浸潤及び転移においてはIV型コラゲナーゼ
活性が上昇し、基底膜の破壊に主要な役割を果たしてい
ることが知られている（William G.Stetler-Stevenson
; Cancer andMetastasis Reviews, vol.9, 289-30
3,(1990))。従って、コラゲナーゼ阻害剤はこれら疾患
の予防・治療に有用である。
【０００３】従来、コラゲナーゼ阻害作用を示す低分子
物質としてはメルカプト基を含むペプチド性化合物(Rob
ert D. Gray, Hossain H. Saneii and Arno F. Spatola
;Biochemical and Biophysical Research Communicati
ons, Vol. 101, No. 4 ,1251-1258, (1981) ／Charles
F. Vencill, David Rasnick, Katherine V.Crumley, No
rikazu Nishino and James C. Powers ; Biochemistry
Vol. 24,3149-3157, (1985))、カルボキシル基を含むペ
プチド性化合物（Jean-MarieDelaisse, Yves Eeckhout,
Christopher Sear, Alan Galloway, KeithMcCullagh a
nd Gilbert Vaes ; Biochemical and Biophysical Rese
archCommunications, Vol.133, 483-490,(1985))、ベン
ジルオキシカルボニル−プロリル−ロイシル−グリシル
ヒドロキサム酸（William M. Moore and Curtis A.Spil
burg ; Biochemical and Biophysical Research Commun
ications, Vol.136,390-395,(1986)), ヒドロキシルア
ミン誘導体（特開平第1-160997号）などが報告されてい
る。またIV型コラゲナーゼに対して比較的特異性の強い
ものとしてSC44463 (Reuven Reich,Erik W. Thompson,
Yukihide Iwamoto, George R.Martin, James R. Deaso
n, George C. Fuller, and Ruth Miskin ; CancerResea
rch, Vol.48, 3307-3312, (1988))が報告されている。
このSC44463 は、癌転移抑制活性を示すことが動物実験
により確認されている。しかしこれらはいずれも合成品
であり、また未だ実用に供されていない。
物質としてはメルカプト基を含むペプチド性化合物(Rob
ert D. Gray, Hossain H. Saneii and Arno F. Spatola
;Biochemical and Biophysical Research Communicati
ons, Vol. 101, No. 4 ,1251-1258, (1981) ／Charles
F. Vencill, David Rasnick, Katherine V.Crumley, No
rikazu Nishino and James C. Powers ; Biochemistry
Vol. 24,3149-3157, (1985))、カルボキシル基を含むペ
プチド性化合物（Jean-MarieDelaisse, Yves Eeckhout,
Christopher Sear, Alan Galloway, KeithMcCullagh a
nd Gilbert Vaes ; Biochemical and Biophysical Rese
archCommunications, Vol.133, 483-490,(1985))、ベン
ジルオキシカルボニル−プロリル−ロイシル−グリシル
ヒドロキサム酸（William M. Moore and Curtis A.Spil
burg ; Biochemical and Biophysical Research Commun
ications, Vol.136,390-395,(1986)), ヒドロキシルア
ミン誘導体（特開平第1-160997号）などが報告されてい
る。またIV型コラゲナーゼに対して比較的特異性の強い
ものとしてSC44463 (Reuven Reich,Erik W. Thompson,
Yukihide Iwamoto, George R.Martin, James R. Deaso
n, George C. Fuller, and Ruth Miskin ; CancerResea
rch, Vol.48, 3307-3312, (1988))が報告されている。
このSC44463 は、癌転移抑制活性を示すことが動物実験
により確認されている。しかしこれらはいずれも合成品
であり、また未だ実用に供されていない。
【０００４】一方、蛋白性のコラゲナーゼ阻害物質とし
てはTissue Inhibitor ofMetalloproteinase (TIMP)及
びその類縁物質が知られている。TIMPは組み換えＤＮＡ
技術により量産が可能になっているが、未だ実用に供さ
れていない（Docherty. A.J. P, Lyons A, Smith B.J,
Wright E.M, Stephens P.E, HarrisT. J. R, Murphy G,
and Reynolds J.J ; Sequence of human tissueinhibi
tor of metalloproteinases and its identity to eryt
hroid-potentiating activity. Nature,vol.318, 66-6
9, (1985)) 。
てはTissue Inhibitor ofMetalloproteinase (TIMP)及
びその類縁物質が知られている。TIMPは組み換えＤＮＡ
技術により量産が可能になっているが、未だ実用に供さ
れていない（Docherty. A.J. P, Lyons A, Smith B.J,
Wright E.M, Stephens P.E, HarrisT. J. R, Murphy G,
and Reynolds J.J ; Sequence of human tissueinhibi
tor of metalloproteinases and its identity to eryt
hroid-potentiating activity. Nature,vol.318, 66-6
9, (1985)) 。
【０００５】またヒドロキシアミノ化された２−ペンチ
ルコハク酸の構造を有している化合物として、放線菌の
培養濾液から単離されたアクチノニン（actinonin)があ
る。本化合物は、アミノペプチダーゼＭを低濃度で阻害
することが報告されている（Umezawa, H., Aoyagi, T.,
Tanaka, T., Suda, T.,Okuyama, A., Naganawa, H.,Ha
mada, M. and Takeuchi, T. : J. Antibiot.,vol.38, 1
629-30, (1985) ) がIV型コラゲナーゼを阻害するかど
うかは検討されていない。
ルコハク酸の構造を有している化合物として、放線菌の
培養濾液から単離されたアクチノニン（actinonin)があ
る。本化合物は、アミノペプチダーゼＭを低濃度で阻害
することが報告されている（Umezawa, H., Aoyagi, T.,
Tanaka, T., Suda, T.,Okuyama, A., Naganawa, H.,Ha
mada, M. and Takeuchi, T. : J. Antibiot.,vol.38, 1
629-30, (1985) ) がIV型コラゲナーゼを阻害するかど
うかは検討されていない。
【０００６】さらに、下記の式で示される天然物がスト
レプトミセス属に属する菌株から単離され、この天然物
が抗菌作用及びコラゲナ−ゼ阻害作用を有することが知
られている（特開平３−１５７３７２号公報）。
レプトミセス属に属する菌株から単離され、この天然物
が抗菌作用及びコラゲナ−ゼ阻害作用を有することが知
られている（特開平３−１５７３７２号公報）。
【０００７】
【化２】
【０００８】さらにまた、特開平３−５３８９１号公報
に式
に式
【０００９】
【化３】
【００１０】の化合物の構造が記載され、その化合物が
抗菌活性を有することが記載されているが、IV型コラゲ
ナーゼ阻害活性を有する記載はない。
抗菌活性を有することが記載されているが、IV型コラゲ
ナーゼ阻害活性を有する記載はない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、さらに
優れたIV型コラゲナーゼ阻害活性を有する誘導体の合成
とその薬理活性について、鋭意研究を行なった結果、新
規なマトリスタチン誘導体が優れたIV型コラゲナーゼ阻
害活性を有し、有用な血管新生抑制剤、癌浸潤抑制剤又
は癌転移抑制剤となり得ることを見出し、本発明を完成
した。
優れたIV型コラゲナーゼ阻害活性を有する誘導体の合成
とその薬理活性について、鋭意研究を行なった結果、新
規なマトリスタチン誘導体が優れたIV型コラゲナーゼ阻
害活性を有し、有用な血管新生抑制剤、癌浸潤抑制剤又
は癌転移抑制剤となり得ることを見出し、本発明を完成
した。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の化合物（１）
は、一般式
は、一般式
【００１３】
【化４】
【００１４】を有する。
【００１５】上記式中、Ｒ1 は−ＮＲ4 Ｒ5 基（式中、
Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異なって水素原子又は炭素数１
乃至４個のアルキル基を示す）を示し、Ｒ2 は炭素数６
乃至１２個のアルキル基を示す。
Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異なって水素原子又は炭素数１
乃至４個のアルキル基を示す）を示し、Ｒ2 は炭素数６
乃至１２個のアルキル基を示す。
【００１６】上記式（１）中、Ｒ1 におけるＲ4 及びＲ
5 の炭素数１乃至４個のアルキル基としては、メチル、
エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブ
チル、s-ブチル、t-ブチルのような炭素数１乃至４個の
直鎖又は分枝鎖アルキル基があげられ、好適には炭素数
１乃至２個のものであり、さらに好適にはメチル基であ
る。
5 の炭素数１乃至４個のアルキル基としては、メチル、
エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブ
チル、s-ブチル、t-ブチルのような炭素数１乃至４個の
直鎖又は分枝鎖アルキル基があげられ、好適には炭素数
１乃至２個のものであり、さらに好適にはメチル基であ
る。
【００１７】上記一般式（１）中、Ｒ2 における炭素数
６乃至１２個のアルキル基としてはn-ヘキシル、4-メチ
ルペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-
メチルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブ
チル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-
ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチ
ル、n-ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキシ
ル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチルヘ
キシル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、n-
オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メ
チルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、
6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキ
シル、5,5-ジメチルヘキシル、n-ノニル、3-メチルオク
チル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチル、6-メチル
オクチル、1-プロピルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,
6-ジメチルヘプチル、n-デシル、1-メチルノニル、3-メ
チルノニル、8-メチルノニル、3-エチルオクチル、3,7-
ジメチルオクチル、7,7-ジメチルオクチル、ウンデシ
ル、4,8-ジメチルノニル、ドデシルのような直鎖又は分
枝鎖アルキル基があげられ、好適には炭素数６乃至１０
個のものであり、さらに好適には８乃至１０個のもので
ある。
６乃至１２個のアルキル基としてはn-ヘキシル、4-メチ
ルペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-
メチルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブ
チル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-
ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチ
ル、n-ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキシ
ル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチルヘ
キシル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、n-
オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メ
チルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、
6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキ
シル、5,5-ジメチルヘキシル、n-ノニル、3-メチルオク
チル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチル、6-メチル
オクチル、1-プロピルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,
6-ジメチルヘプチル、n-デシル、1-メチルノニル、3-メ
チルノニル、8-メチルノニル、3-エチルオクチル、3,7-
ジメチルオクチル、7,7-ジメチルオクチル、ウンデシ
ル、4,8-ジメチルノニル、ドデシルのような直鎖又は分
枝鎖アルキル基があげられ、好適には炭素数６乃至１０
個のものであり、さらに好適には８乃至１０個のもので
ある。
【００１８】本発明の化合物のうち好適なものとして
は、 ２）Ｒ1 が−ＮＲ4 Ｒ5 基 （式中、Ｒ4 が水素原子で、Ｒ5 がメチル基であるか、
または、Ｒ4 及びＲ5 がメチル基である）であり、Ｒ2
が炭素数８乃至１０個のアルキル基である化合物があげ
られる。
は、 ２）Ｒ1 が−ＮＲ4 Ｒ5 基 （式中、Ｒ4 が水素原子で、Ｒ5 がメチル基であるか、
または、Ｒ4 及びＲ5 がメチル基である）であり、Ｒ2
が炭素数８乃至１０個のアルキル基である化合物があげ
られる。
【００１９】本発明の化合物（１）は、不斉炭素を有
し、各々がＲ配置、Ｓ配置である立体異性体が存在する
が、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明
に包含される。
し、各々がＲ配置、Ｓ配置である立体異性体が存在する
が、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明
に包含される。
【００２０】本発明の化合物としては、表１に記載した
化合物をあげることができるが、本発明はこれらの化合
物に限定されるものではない。
化合物をあげることができるが、本発明はこれらの化合
物に限定されるものではない。
【００２１】表１中、Ｈｅｘはヘキシル基、Ｈｅｐはヘ
プチル基、Ｏｃｔはオクチル基、Ｎｏｎはノニル基、Ｄ
ｅｃはデシル基、Ｕｎｄはウンデシル基、Ｄｄｃはドデ
シル基を示す。
プチル基、Ｏｃｔはオクチル基、Ｎｏｎはノニル基、Ｄ
ｅｃはデシル基、Ｕｎｄはウンデシル基、Ｄｄｃはドデ
シル基を示す。
【００２２】
【化５】
【００２３】
【表１】 上記表中の例示化合物のうち、好適な化合物としては、
３、４、５、１０、１１及び１２があげられる。
３、４、５、１０、１１及び１２があげられる。
【００２４】本発明の化合物は、以下に記載する方法に
よって製造することができる。
よって製造することができる。
【００２５】
【化６】
【００２６】
【化７】
【００２７】
【化８】
【００２８】
【化９】
【００２９】
【化１０】
【００３０】前記工程表においてＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及び
Ｒ5 は前述のものと同意義を示し、Ａはアミノ基の保護
基（好適にはベンジルオキシカルボニル基）を示し、Ｂ
1 はカルボキシル基の保護基（好適にはｔ−ブチル基又
はベンジル基）を示し、Ｂ2はカルボキシル基の保護基
（好適にはメチル、エチル基）を示し、Ｂ3 はトリ置換
シリル基（好適にはトリメチルシリル基）を示し、Ｂ4
はカルボキシル基の保護基（好適にはベンジル、tert−
ブチル、トリクロロエチル、トリブロモエチル基）を示
し、Ｂ6 は水酸基の保護基（好適にはベンジル基）を示
し、Ｚは光学活性な２−オキソ−オキサゾリジル基を示
す。
Ｒ5 は前述のものと同意義を示し、Ａはアミノ基の保護
基（好適にはベンジルオキシカルボニル基）を示し、Ｂ
1 はカルボキシル基の保護基（好適にはｔ−ブチル基又
はベンジル基）を示し、Ｂ2はカルボキシル基の保護基
（好適にはメチル、エチル基）を示し、Ｂ3 はトリ置換
シリル基（好適にはトリメチルシリル基）を示し、Ｂ4
はカルボキシル基の保護基（好適にはベンジル、tert−
ブチル、トリクロロエチル、トリブロモエチル基）を示
し、Ｂ6 は水酸基の保護基（好適にはベンジル基）を示
し、Ｚは光学活性な２−オキソ−オキサゾリジル基を示
す。
【００３１】化合物（４）は、既知の化合物（Massall,
C.M.,Johnson M.,and Theobald C.J.,J.Chem.Soc.Perki
n I,1971年,1451 頁）であるが、以下に示す第１ａ、１
ｂ及び２工程によって得られることもできる。
C.M.,Johnson M.,and Theobald C.J.,J.Chem.Soc.Perki
n I,1971年,1451 頁）であるが、以下に示す第１ａ、１
ｂ及び２工程によって得られることもできる。
【００３２】（第１ａ工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、文献公知（文献名 Synthetic communic
ation 1988年,2225 頁）である化合物（２）を加水分解
する工程である。
塩基の存在下、文献公知（文献名 Synthetic communic
ation 1988年,2225 頁）である化合物（２）を加水分解
する工程である。
【００３３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタ
ノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコー
ル、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、
メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類などがあげられ、好適には、アルコール類であ
る。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタ
ノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコー
ル、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、
メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類などがあげられ、好適には、アルコール類であ
る。
【００３４】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類をあげられ、好適には、アルカリ金属水酸化物類で
ある。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類をあげられ、好適には、アルカリ金属水酸化物類で
ある。
【００３５】反応温度は通常２０乃至２００℃であり、
好適には５０乃至１３０℃である。反応時間は使用され
る原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常２乃
至７２時間であり、好適には、５乃至２４時間である。
反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注
ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しな
い溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなど
で抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得ら
れるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望に
より、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製
することもできる。
好適には５０乃至１３０℃である。反応時間は使用され
る原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常２乃
至７２時間であり、好適には、５乃至２４時間である。
反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注
ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しな
い溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなど
で抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得ら
れるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望に
より、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製
することもできる。
【００３６】（第１ｂ工程）本工程は、不活性溶剤中、
第１ａ工程により得られるピペラジンカルボン酸の１位
のアミノ基を保護して、化合物（３）を製造する工程で
ある。
第１ａ工程により得られるピペラジンカルボン酸の１位
のアミノ基を保護して、化合物（３）を製造する工程で
ある。
【００３７】アミノ基の保護基Ａとしては、好適には、
ベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシカ
ルボニル基である。
ベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシカ
ルボニル基である。
【００３８】すなわち、不活性溶剤中、塩基の存在下、
対応する市販または容易に調製されるカルバミン酸エス
テル合成試剤（好適には、ベンジルオキシカルボニルク
ロリド）を反応させることにより行なうことができる。
対応する市販または容易に調製されるカルバミン酸エス
テル合成試剤（好適には、ベンジルオキシカルボニルク
ロリド）を反応させることにより行なうことができる。
【００３９】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類、メタノ−ル、エタ
ノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ
−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアル
コ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のよう
なアルコ−ル類、水、又は前述の有機溶剤と水との混合
溶剤などがあげられ、好適には、対応するアルコ−ルと
水との混合溶剤である。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類、メタノ−ル、エタ
ノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ
−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアル
コ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のよう
なアルコ−ル類、水、又は前述の有機溶剤と水との混合
溶剤などがあげられ、好適には、対応するアルコ−ルと
水との混合溶剤である。
【００４０】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウン
デク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられる
が、好適にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類であ
る。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウン
デク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられる
が、好適にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類であ
る。
【００４１】反応温度は通常０乃至５０℃であり、好適
には０乃至２０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至２４時
間であり、好適には、１乃至３時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。る。
には０乃至２０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至２４時
間であり、好適には、１乃至３時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。る。
【００４２】（第２工程）本工程は、不活性溶剤中、
縮合剤の存在下、化合物（３）に、アルコ−ルＢ1 ＯＨ
（特にベンジルアルコール、ｔ−ブチルアルコール）を
反応させるか、又は、不活性溶剤中、化合物（３）に
エステル化する試薬を反応させて、化合物（４）を製造
する工程である。
縮合剤の存在下、化合物（３）に、アルコ−ルＢ1 ＯＨ
（特にベンジルアルコール、ｔ−ブチルアルコール）を
反応させるか、又は、不活性溶剤中、化合物（３）に
エステル化する試薬を反応させて、化合物（４）を製造
する工程である。
【００４３】において、使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエス
テル類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケト
ン類、ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化
合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのような
ニトリル類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン
のようなスルホキシド類があげられるが、好適には芳香
族炭化水素類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、ニ
トリル類、アミド類である。
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエス
テル類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケト
ン類、ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化
合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのような
ニトリル類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン
のようなスルホキシド類があげられるが、好適には芳香
族炭化水素類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、ニ
トリル類、アミド類である。
【００４４】使用される縮合剤としては、例えば、アゾ
ジカルボン酸ジエチル−トリフェニルホスフィンのよう
なアゾジカルボン酸ジ低級アルキル−トリフェニルホス
フィン類、N-エチル-5- フェニルイソオキサゾリウム-
3'-スルホナ−トのようなN-低級アルキル-5- アリール
イソオキサゾリウム-3'-スルホナ−ト類、N',N'-ジシク
ロヘキシルカルボジイミド(DCC) のようなN',N'-ジシク
ロアルキルカルボジイミド類、ジ-2- ピリジルジセレニ
ドのようなジヘテロアリールジセレニド類、ジエチルホ
スホリルシアニド(DEPC)のようなホスフィン類、p-ニト
ロベンゼンスルホニルトリアゾリドのようなアリールス
ルホニルトリアゾリド類、2-クロル-1- メチルピリジニ
ウム ヨーダイドのような2-ハロ-1- 低級アルキルピリ
ジニウムハライド及びジフェニルホスホリルアジド(DPP
A)のようなジアリールホスホリルアジド類、N,N'- カル
ボニルジイミダゾール(CDI) のようなイミダゾール誘導
体、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)のようなベ
ンゾトリアゾール誘導体、N-ヒドロキシ-5- ノルボルネ
ン-2,3- ジカルボキシイミド(HONB)のようなジカルボキ
シイミド誘導体、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド(EDAPC) のようなカルボジイミド誘
導体があげられるが、好適には、カルボジイミド類（特
にDCC 、DEPC）である。
ジカルボン酸ジエチル−トリフェニルホスフィンのよう
なアゾジカルボン酸ジ低級アルキル−トリフェニルホス
フィン類、N-エチル-5- フェニルイソオキサゾリウム-
3'-スルホナ−トのようなN-低級アルキル-5- アリール
イソオキサゾリウム-3'-スルホナ−ト類、N',N'-ジシク
ロヘキシルカルボジイミド(DCC) のようなN',N'-ジシク
ロアルキルカルボジイミド類、ジ-2- ピリジルジセレニ
ドのようなジヘテロアリールジセレニド類、ジエチルホ
スホリルシアニド(DEPC)のようなホスフィン類、p-ニト
ロベンゼンスルホニルトリアゾリドのようなアリールス
ルホニルトリアゾリド類、2-クロル-1- メチルピリジニ
ウム ヨーダイドのような2-ハロ-1- 低級アルキルピリ
ジニウムハライド及びジフェニルホスホリルアジド(DPP
A)のようなジアリールホスホリルアジド類、N,N'- カル
ボニルジイミダゾール(CDI) のようなイミダゾール誘導
体、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)のようなベ
ンゾトリアゾール誘導体、N-ヒドロキシ-5- ノルボルネ
ン-2,3- ジカルボキシイミド(HONB)のようなジカルボキ
シイミド誘導体、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド(EDAPC) のようなカルボジイミド誘
導体があげられるが、好適には、カルボジイミド類（特
にDCC 、DEPC）である。
【００４５】反応温度は通常０乃至１００℃であり、好
適には１０乃至５０℃である。反応時間は使用される原
料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４
８時間であり、好適には、１乃至１２時間である。反応
終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩
酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、不溶物を濾去し、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。において、エステル
化試薬としては、好適には、イソブテンであり、不活性
溶剤中、酸触媒の存在下に、反応させることにより達成
される。
適には１０乃至５０℃である。反応時間は使用される原
料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４
８時間であり、好適には、１乃至１２時間である。反応
終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩
酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、不溶物を濾去し、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。において、エステル
化試薬としては、好適には、イソブテンであり、不活性
溶剤中、酸触媒の存在下に、反応させることにより達成
される。
【００４６】使用される溶剤としては、ヘキサン、ヘプ
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類などがあげられ、好適に
は、エーテル類（特に、ジオキサン）である。
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類などがあげられ、好適に
は、エーテル類（特に、ジオキサン）である。
【００４７】使用される酸触媒としては、通常の反応に
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレ
ンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリ
クロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミド
のようなルイス酸をあげることができ、好適には有機酸
であり、更に好適には有機強酸（特に塩酸）である。
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレ
ンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリ
クロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミド
のようなルイス酸をあげることができ、好適には有機酸
であり、更に好適には有機強酸（特に塩酸）である。
【００４８】反応温度は通常０乃至５０℃であり、好適
には０乃至２５℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４８時
間であり、好適には、１乃至２４時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、水と混
和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチ
ルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによっ
て得られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。
所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単
離精製することもできる。
には０乃至２５℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４８時
間であり、好適には、１乃至２４時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、水と混
和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチ
ルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによっ
て得られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。
所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単
離精製することもできる。
【００４９】（第３工程）本工程は、不活性溶剤中、
対応するアルコールＢ2 ＯＨ（特にメタノール、エタノ
ール）とマロン酸（５）の反応性誘導体すなわち酸ハラ
イド又は酸無水物を塩基の存在下に反応させるか、また
は、対応するアルコールＢ2 ＯＨアルコールとマロン
酸（５）を縮合剤の存在下に反応させることにより、化
合物（６）エステルを製造する工程である。
対応するアルコールＢ2 ＯＨ（特にメタノール、エタノ
ール）とマロン酸（５）の反応性誘導体すなわち酸ハラ
イド又は酸無水物を塩基の存在下に反応させるか、また
は、対応するアルコールＢ2 ＯＨアルコールとマロン
酸（５）を縮合剤の存在下に反応させることにより、化
合物（６）エステルを製造する工程である。
【００５０】において、使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類などがあげられ、好適には、アル
コール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類で
ある。
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類などがあげられ、好適には、アル
コール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類で
ある。
【００５１】使用される酸ハライドのハライド部分とし
ては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好適には塩素、
臭素である。
ては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好適には塩素、
臭素である。
【００５２】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウン
デク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられる
が、好適にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類であ
る。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウン
デク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられる
が、好適にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類であ
る。
【００５３】反応温度は通常０乃至６０℃であり、好適
には０乃至３０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至２４時
間であり、好適には、１乃至６時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。る。
には０乃至３０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至２４時
間であり、好適には、１乃至６時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。る。
【００５４】において、使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類などがあげられ、好適には、ハロゲン化
炭化水素類（特にメチレンクロリド）、エーテル類（特
にテトラヒドロフラン）、芳香族炭化水素類（特にベン
ゼン）である。
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類などがあげられ、好適には、ハロゲン化
炭化水素類（特にメチレンクロリド）、エーテル類（特
にテトラヒドロフラン）、芳香族炭化水素類（特にベン
ゼン）である。
【００５５】使用される縮合剤としては、好適にはＤＣ
Ｃ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）、ＣＤＩ（Ｎ，
Ｎ’−カルボニルジイミダゾール）、ＤＰＰＡ（ジフェ
ニルホスホリルアジド）、ＨＯＢＴ（１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール）、ＨＯＮＢ（Ｎ−ヒドロキシ−５−
ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）またはＥ
ＤＡＰＣ（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロ
ピル）カルボジイミド）などをあげることができる。
Ｃ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）、ＣＤＩ（Ｎ，
Ｎ’−カルボニルジイミダゾール）、ＤＰＰＡ（ジフェ
ニルホスホリルアジド）、ＨＯＢＴ（１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール）、ＨＯＮＢ（Ｎ−ヒドロキシ−５−
ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）またはＥ
ＤＡＰＣ（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロ
ピル）カルボジイミド）などをあげることができる。
【００５６】縮合剤を使用する場合には、脱酸剤を併用
することで、さらに効率よく、反応を行うことができ
る。
することで、さらに効率よく、反応を行うことができ
る。
【００５７】使用される脱酸剤としては、好適にはピリ
ジン、ジメチルアミノピリジン、ピロリジノピリジンの
ような有機アミンをあげることができる。また、上述の
縮合剤を用いる場合、このアミンを使用すると反応はよ
り早く進行する。
ジン、ジメチルアミノピリジン、ピロリジノピリジンの
ような有機アミンをあげることができる。また、上述の
縮合剤を用いる場合、このアミンを使用すると反応はよ
り早く進行する。
【００５８】反応温度は通常０乃至６０℃であり、好適
には０乃至３０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４８時
間であり、好適には、１乃至１２時間である。目的化合
物は種々の方法を適宜組合わせることによって採取、分
離、精製することができる。例えば反応液を水に注ぎ、
水と混和しない溶剤、例えばベンゼン、エーテル、酢酸
エチルなどを加え、不溶物があれば、適宜、ろ去し、抽
出液を分離後、希塩酸および炭酸水素ナトリウム等で洗
浄し、溶剤を留去することによって得られる。このよう
にして得られた目的化合物は必要ならば更に、例えば活
性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる吸着またはイオ
ン交換クロマト、あるいはセファデックスカラムによる
ゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロロホルムなどの
有機溶剤を用いての再結晶などにより行なわれる。 （第４工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、
アルキルハライドＲ2 Ｘ（Ｘはハロゲノ基を示し、好適
にはクロロ、ブロモである）を化合物（６）に反応させ
て、化合物（７）を製造する工程である。
には０乃至３０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４８時
間であり、好適には、１乃至１２時間である。目的化合
物は種々の方法を適宜組合わせることによって採取、分
離、精製することができる。例えば反応液を水に注ぎ、
水と混和しない溶剤、例えばベンゼン、エーテル、酢酸
エチルなどを加え、不溶物があれば、適宜、ろ去し、抽
出液を分離後、希塩酸および炭酸水素ナトリウム等で洗
浄し、溶剤を留去することによって得られる。このよう
にして得られた目的化合物は必要ならば更に、例えば活
性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる吸着またはイオ
ン交換クロマト、あるいはセファデックスカラムによる
ゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロロホルムなどの
有機溶剤を用いての再結晶などにより行なわれる。 （第４工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、
アルキルハライドＲ2 Ｘ（Ｘはハロゲノ基を示し、好適
にはクロロ、ブロモである）を化合物（６）に反応させ
て、化合物（７）を製造する工程である。
【００５９】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、
n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベン
ゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類があげら
れ、好適には、エーテル類（特に、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン）、アミド類（特にジメチルホルム
アミド）である。使用される塩基としては、通常の反応
において塩基として使用されるものであれば、特に限定
はないが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアル
カリ金属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、
水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無
機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジ
ン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチル
アニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ
[4.3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.
2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]
ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられ
るが、好適にはアルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属
アルコキシド、有機塩基類である。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、
n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベン
ゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類があげら
れ、好適には、エーテル類（特に、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン）、アミド類（特にジメチルホルム
アミド）である。使用される塩基としては、通常の反応
において塩基として使用されるものであれば、特に限定
はないが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアル
カリ金属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、
水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無
機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジ
ン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチル
アニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ
[4.3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.
2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]
ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられ
るが、好適にはアルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属
アルコキシド、有機塩基類である。
【００６０】使用されるアルキルハライドのハライド部
分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好適には
塩素、臭素である。
分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好適には
塩素、臭素である。
【００６１】反応温度は通常−２０乃至１００℃であ
り、好適には−１０乃至５０℃である。反応時間は使用
される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常
１乃至４８時間であり、好適には、１乃至１５時間であ
る。目的化合物は種々の方法を適宜組合わせることによ
って採取、分離、精製することができる。例えば反応液
を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、例えばベンゼン、エ
ーテル、酢酸エチルなどを加え、不溶物があれば、適
宜、ろ去し、抽出液を分離後、希塩酸および炭酸水素ナ
トリウム等で洗浄し、溶剤を留去することによって得ら
れる。このようにして得られた目的化合物は必要ならば
更に、例えば活性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる
吸着またはイオン交換クロマト、あるいはセファデック
スカラムによるゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロ
ロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶などにより行
なわれる。
り、好適には−１０乃至５０℃である。反応時間は使用
される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常
１乃至４８時間であり、好適には、１乃至１５時間であ
る。目的化合物は種々の方法を適宜組合わせることによ
って採取、分離、精製することができる。例えば反応液
を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、例えばベンゼン、エ
ーテル、酢酸エチルなどを加え、不溶物があれば、適
宜、ろ去し、抽出液を分離後、希塩酸および炭酸水素ナ
トリウム等で洗浄し、溶剤を留去することによって得ら
れる。このようにして得られた目的化合物は必要ならば
更に、例えば活性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる
吸着またはイオン交換クロマト、あるいはセファデック
スカラムによるゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロ
ロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶などにより行
なわれる。
【００６２】（第５工程）本工程は、不活性溶剤中、化
合物（７）に、塩基を反応させて、加水分解後、脱炭酸
し、化合物（８）を製造する方法である。使用される溶
剤としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、
イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロ
エタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセ
トニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類及びこれら有機溶剤と水との混合溶剤などが
あげられ、好適には、アルコール類と水との混合溶剤で
ある。
合物（７）に、塩基を反応させて、加水分解後、脱炭酸
し、化合物（８）を製造する方法である。使用される溶
剤としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、
イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロ
エタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセ
トニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類及びこれら有機溶剤と水との混合溶剤などが
あげられ、好適には、アルコール類と水との混合溶剤で
ある。
【００６３】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類ビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられるが、好適
にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類である。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類ビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられるが、好適
にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類である。
【００６４】反応温度は通常０乃至１２０℃であり、好
適には２０乃至１２０℃である。反応時間は使用される
原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至
４８時間であり、好適には、１乃至１６時間である。こ
の工程において、加水分解のみが進行し、脱炭酸反応が
十分に進行していない場合には、コリジン、ルチジンな
どを加え、１００乃至１２０℃で加熱することにより達
成される。
適には２０乃至１２０℃である。反応時間は使用される
原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至
４８時間であり、好適には、１乃至１６時間である。こ
の工程において、加水分解のみが進行し、脱炭酸反応が
十分に進行していない場合には、コリジン、ルチジンな
どを加え、１００乃至１２０℃で加熱することにより達
成される。
【００６５】目的化合物は種々の方法を適宜組合わせる
ことによって採取、分離、精製することができる。例え
ば反応液を水に注ぎ、塩酸などで酸性とし、水と混和し
ない溶剤、例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなど
を加え、不溶物があれば、適宜、ろ去し、抽出液を分離
後、希塩酸で洗浄し、溶剤を留去することによって得ら
れる。このようにして得られた目的化合物は必要ならば
更に、例えば活性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる
吸着またはイオン交換クロマト、あるいはセファデック
スカラムによるゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロ
ロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶などにより行
なわれる。
ことによって採取、分離、精製することができる。例え
ば反応液を水に注ぎ、塩酸などで酸性とし、水と混和し
ない溶剤、例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなど
を加え、不溶物があれば、適宜、ろ去し、抽出液を分離
後、希塩酸で洗浄し、溶剤を留去することによって得ら
れる。このようにして得られた目的化合物は必要ならば
更に、例えば活性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる
吸着またはイオン交換クロマト、あるいはセファデック
スカラムによるゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロ
ロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶などにより行
なわれる。
【００６６】（第６工程）本工程は、第５工程で得られ
たカルボン酸（８）又は市販のカルボン酸（８）を用い
て、化合物（９）を製造する工程であり、本工程は第３
工程と同様にして行なうことができる。
たカルボン酸（８）又は市販のカルボン酸（８）を用い
て、化合物（９）を製造する工程であり、本工程は第３
工程と同様にして行なうことができる。
【００６７】（第７工程）本工程は、不活性溶剤中、化
合物（８）に、カルボン酸のハロゲン化試薬を反応させ
て得られる酸ハライドに、ｎ−ブチルリチムの存在下、
光学活性なオキサゾリジン−２−オンＺＨを反応させ、
化合物（１０）を得る工程である。
合物（８）に、カルボン酸のハロゲン化試薬を反応させ
て得られる酸ハライドに、ｎ−ブチルリチムの存在下、
光学活性なオキサゾリジン−２−オンＺＨを反応させ、
化合物（１０）を得る工程である。
【００６８】ハロゲン化に使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類を挙げることができる。
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類を挙げることができる。
【００６９】ハロゲン化に使用される試薬としては、チ
オニルクロリド、チオニルブロミドのようなチオニルハ
ライド類、三塩化りん、三臭化りん、五塩化りん、オキ
シ塩化りんのようなりん化合物類が挙げられる。
オニルクロリド、チオニルブロミドのようなチオニルハ
ライド類、三塩化りん、三臭化りん、五塩化りん、オキ
シ塩化りんのようなりん化合物類が挙げられる。
【００７０】反応温度は通常０乃至５０℃である。
【００７１】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常０．２乃至５時間であり、
好適には、０．２乃至１時間である。
度などにより異なるが、通常０．２乃至５時間であり、
好適には、０．２乃至１時間である。
【００７２】反応終了後、溶剤を留去するだけで、次の
反応に使用する。
反応に使用する。
【００７３】オキサゾリジン−２−オンを反応させる工
程に使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
特に好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類を挙げることができる。
程に使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
特に好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類を挙げることができる。
【００７４】使用される光学活性なオキサゾリジン−２
−オンとしては、（４Ｓ）−イソプロピルオキサゾリジ
ン−２−オン、（４Ｒ）−イソプロピルオキサゾリジン
−２−オン、（４Ｓ）−ベンジルオキサゾリジン−２−
オン、（４Ｒ）−ベンジルオキサゾリジン−２−オンが
あげられる。
−オンとしては、（４Ｓ）−イソプロピルオキサゾリジ
ン−２−オン、（４Ｒ）−イソプロピルオキサゾリジン
−２−オン、（４Ｓ）−ベンジルオキサゾリジン−２−
オン、（４Ｒ）−ベンジルオキサゾリジン−２−オンが
あげられる。
【００７５】反応温度は通常−７８乃至２０℃である。
【００７６】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常０．２乃至５時間であり、
好適には、０．２乃至２時間である。反応終了後、たと
えば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸など
の無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベ
ンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液よ
り溶剤を留去することによって得られるものを、通常、
そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマト
あるいは再結晶法により、単離精製することもできる。
度などにより異なるが、通常０．２乃至５時間であり、
好適には、０．２乃至２時間である。反応終了後、たと
えば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸など
の無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベ
ンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液よ
り溶剤を留去することによって得られるものを、通常、
そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマト
あるいは再結晶法により、単離精製することもできる。
【００７７】（第８工程）本工程は、不活性溶剤中、塩
基の存在下、化合物（９）にトリ置換シリルハライドＢ
3 Ｘ（Ｘは前述のものと同意義を示す）を反応させて、
化合物（１１）を製造する工程である。
基の存在下、化合物（９）にトリ置換シリルハライドＢ
3 Ｘ（Ｘは前述のものと同意義を示す）を反応させて、
化合物（１１）を製造する工程である。
【００７８】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類を挙げることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類を挙げることができる。
【００７９】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類又はブチルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類
を挙げることができる。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類又はブチルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類
を挙げることができる。
【００８０】使用されるトリアルキルシリルハライドと
しては、トリメチルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリドなどがあげられ、好適にはトリメチル
シリルクロリドである。
しては、トリメチルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリドなどがあげられ、好適にはトリメチル
シリルクロリドである。
【００８１】反応温度は通常−７８乃至２０℃である。
【００８２】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１０時間である。
度などにより異なるが、通常１乃至１０時間である。
【００８３】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【００８４】（第９工程）本工程は、不活性溶剤中、塩
基の存在下、化合物（１０）にα−ハロ酢酸エステルＸ
ＣＨ2-ＣＯＯＢ4 （Ｘは前述のものと同意義を示す）を
反応させて、化合物（１２）を製造する工程である。
基の存在下、化合物（１０）にα−ハロ酢酸エステルＸ
ＣＨ2-ＣＯＯＢ4 （Ｘは前述のものと同意義を示す）を
反応させて、化合物（１２）を製造する工程である。
【００８５】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパ
ノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類を挙げることができ、好適には、エーテル類
である。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパ
ノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類を挙げることができ、好適には、エーテル類
である。
【００８６】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、
カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのような
アルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナト
リウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカ
プタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホ
リン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、
N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジ
アザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシク
ロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.
4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を挙げることができ、好適には、リチ
ウムジイソプロピルアミド（溶剤としてテトラヒドロフ
ラン）である。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、
カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのような
アルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナト
リウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカ
プタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホ
リン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、
N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジ
アザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシク
ロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.
4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を挙げることができ、好適には、リチ
ウムジイソプロピルアミド（溶剤としてテトラヒドロフ
ラン）である。
【００８７】使用されるα−ハロ酢酸エステルのハロ部
分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげらる。
分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげらる。
【００８８】使用されるα−ハロカルボン酸エステルの
エステルのアルキル部分としては、メチル、エチル、べ
ンジル、tert−ブチルがあげられる。
エステルのアルキル部分としては、メチル、エチル、べ
ンジル、tert−ブチルがあげられる。
【００８９】反応温度は通常−７８乃至１０℃である。
【００９０】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１０時間である。
度などにより異なるが、通常１乃至１０時間である。
【００９１】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【００９２】（第１０工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、化合物（１２）を加水分解して、光学活
性なオキサゾリジン−２−オンを除去し、化合物（１
３）を製造する工程である。
塩基の存在下、化合物（１２）を加水分解して、光学活
性なオキサゾリジン−２−オンを除去し、化合物（１
３）を製造する工程である。
【００９３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジ
エチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イ
ソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソ
ルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベ
ンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソ
ブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルス
ルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げ
ることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジ
エチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イ
ソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソ
ルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベ
ンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソ
ブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルス
ルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げ
ることができる。
【００９４】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類
等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカ
プタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよ
うなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メ
チルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ)
ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類を挙げることができる。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類
等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカ
プタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよ
うなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メ
チルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ)
ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類を挙げることができる。
【００９５】最も好適な方法としては、テトラヒドロフ
ラン及び水の混合溶剤中、過酸化水素存在下、水酸化リ
チウムを用いる方法があげられる。
ラン及び水の混合溶剤中、過酸化水素存在下、水酸化リ
チウムを用いる方法があげられる。
【００９６】反応温度は通常０乃至１００℃である。
【００９７】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至２４時間である。
度などにより異なるが、通常１乃至２４時間である。
【００９８】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【００９９】（第１１工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（１１）にα−ハロカルボン酸エステルＸＣＨ2-
ＣＯＯＢ4 （Ｘは前述のものと同意義を示す）を反応さ
せて、化合物（１４）を製造する工程である。
化合物（１１）にα−ハロカルボン酸エステルＸＣＨ2-
ＣＯＯＢ4 （Ｘは前述のものと同意義を示す）を反応さ
せて、化合物（１４）を製造する工程である。
【０１００】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのよ
うなスルホキシド類を挙げることができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのよ
うなスルホキシド類を挙げることができる。
【０１０１】使用されるα−ハロカルボン酸エステルの
ハロ部分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好
適には塩素、臭素である。 使用されるα−ハロカルボ
ン酸エステルのエステルのアルキル部分としては、メチ
ル、エチル、tert−ブチル、ベンジルがあげられる。
ハロ部分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好
適には塩素、臭素である。 使用されるα−ハロカルボ
ン酸エステルのエステルのアルキル部分としては、メチ
ル、エチル、tert−ブチル、ベンジルがあげられる。
【０１０２】反応温度は通常−７８乃至３０℃である。
反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより
異なるが、通常０．５乃至１０時間である。 反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。
反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより
異なるが、通常０．５乃至１０時間である。 反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。
【０１０３】（第１２工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、化合物（１４）の一方のカルボン酸を加
水分解して、化合物（１３）を製造する工程である。
塩基の存在下、化合物（１４）の一方のカルボン酸を加
水分解して、化合物（１３）を製造する工程である。
【０１０４】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジ
エチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イ
ソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソ
ルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げる
ことができる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジ
エチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イ
ソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソ
ルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げる
ことができる。
【０１０５】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類
等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類を挙げることが
できる。
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類
等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類を挙げることが
できる。
【０１０６】反応温度は通常０乃至１００℃である。
【０１０７】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至２４時間である。
度などにより異なるが、通常１乃至２４時間である。
【０１０８】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【０１０９】所望により、化合物（１３）のＢ4 は別の
保護基に交換する場合もある。交換反応は常法に従っ
て、通常のエステル交換反応を行うか、また、遊離のカ
ルボン酸を保護して、Ｂ4 を後述する第１４工程の方法
に従って除去し、所望の保護基を導入した後、カルボン
酸を再生することにより行うことができる。
保護基に交換する場合もある。交換反応は常法に従っ
て、通常のエステル交換反応を行うか、また、遊離のカ
ルボン酸を保護して、Ｂ4 を後述する第１４工程の方法
に従って除去し、所望の保護基を導入した後、カルボン
酸を再生することにより行うことができる。
【０１１０】（第１３工程）本工程は、不活性溶剤
中、酸ハライド化試薬を反応させることにより得られる
化合物（１３）の酸ハライドと化合物（４）を反応させ
るか、不活性溶剤中、縮合剤の存在下、化合物（４）
と化合物（１３）とを反応させて、化合物（２２）を製
造する工程である。
中、酸ハライド化試薬を反応させることにより得られる
化合物（１３）の酸ハライドと化合物（４）を反応させ
るか、不活性溶剤中、縮合剤の存在下、化合物（４）
と化合物（１３）とを反応させて、化合物（２２）を製
造する工程である。
【０１１１】酸ハライド法 酸ハライド化は、オキザリルクロリドやチオニルクロリ
ド等通常使用されるハロゲン化試薬を用いて、不活性溶
剤中（例えば、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化
水素類）、化合物（１３）と０乃至１００℃（好適に
は、１０乃至５０℃）で、１乃至２４時間（好適には２
乃至５時間）反応する。反応終了後、減圧下、未反応の
ハロゲン化試薬及び溶剤を留去する。そこへ、不活性溶
剤（例えば、テトラヒドロフラン、エチルエーテルのよ
うなエーテル類）を加え、化合物（４）及び３級有機ア
ミン（例えば、Ｎ−エチルアミン、Ｎ−メチルアミン、
トリエチルアミン等）を加え、０乃至１００℃（好適に
は、０乃至４０℃）で、１乃至２４時間（好適には２乃
至５時間）反応する。
ド等通常使用されるハロゲン化試薬を用いて、不活性溶
剤中（例えば、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化
水素類）、化合物（１３）と０乃至１００℃（好適に
は、１０乃至５０℃）で、１乃至２４時間（好適には２
乃至５時間）反応する。反応終了後、減圧下、未反応の
ハロゲン化試薬及び溶剤を留去する。そこへ、不活性溶
剤（例えば、テトラヒドロフラン、エチルエーテルのよ
うなエーテル類）を加え、化合物（４）及び３級有機ア
ミン（例えば、Ｎ−エチルアミン、Ｎ−メチルアミン、
トリエチルアミン等）を加え、０乃至１００℃（好適に
は、０乃至４０℃）で、１乃至２４時間（好適には２乃
至５時間）反応する。
【０１１２】反応終了後、目的物は、例えば、反応混合
物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。 縮合法 使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル
のような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類を挙げることができる。使用される縮合剤としては、
例えば、アゾジカルボン酸ジエチル−トリフェニルホス
フィンのようなアゾジカルボン酸ジ低級アルキル−トリ
フェニルホスフィン類、N-エチル-5- フェニルイソオキ
サゾリウム-3'-スルホナ−トのようなN-低級アルキル-5
- アリールイソオキサゾリウム-3'-スルホナ−ト類、
N',N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC) のような
N',N'-ジシクロアルキルカルボジイミド類、ジ-2- ピリ
ジルジセレニドのようなジヘテロアリールジセレニド
類、ジエチルホスホリルシアニド(DFPC)のようなホスフ
ィン類、p-ニトロベンゼンスルホニルトリアゾリドのよ
うなアリールスルホニルトリアゾリド類、2-クロル-1-
メチルピリジニウム ヨーダイドのような2-ハロ-1- 低
級アルキルピリジニウム ハライド及びジフェニルホス
ホリルアジド(DPPA)のようなジアリールホスホリルアジ
ド類、N,N'- カルボジイミダゾール(CDI) のようなイミ
ダゾール誘導体、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOB
T)のようなベンゾトリアゾール誘導体、N-ヒドロキシ-5
- ノルボルネン-2,3- ジカルボキシイミド(HONB)のよう
なジカルボキシイミド誘導体、1-エチル-3-(3-ジメチル
アミノプロピル）カルボジイミド(EDAPC) のようなカル
ボジイミド誘導体を挙げることができるが、好適には、
ジアリールホスホリルアジド類である。反応温度は使用
される原料、試薬、溶剤などにより通常０乃至１５０℃
であり、好適には２０乃至１００℃である。反応時間は
使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、
通常１乃至１００時間であり、好適には、２乃至２４時
間である。反応終了後、目的物は、例えば、反応混合物
を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過によ
り除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機
溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。 （第１４工程）本工程は、不活性溶剤中、化合物（２
２）の保護基Ｂ4 を脱保護して、化合物（２３）を製造
する工程である。
物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。 縮合法 使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル
のような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類を挙げることができる。使用される縮合剤としては、
例えば、アゾジカルボン酸ジエチル−トリフェニルホス
フィンのようなアゾジカルボン酸ジ低級アルキル−トリ
フェニルホスフィン類、N-エチル-5- フェニルイソオキ
サゾリウム-3'-スルホナ−トのようなN-低級アルキル-5
- アリールイソオキサゾリウム-3'-スルホナ−ト類、
N',N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC) のような
N',N'-ジシクロアルキルカルボジイミド類、ジ-2- ピリ
ジルジセレニドのようなジヘテロアリールジセレニド
類、ジエチルホスホリルシアニド(DFPC)のようなホスフ
ィン類、p-ニトロベンゼンスルホニルトリアゾリドのよ
うなアリールスルホニルトリアゾリド類、2-クロル-1-
メチルピリジニウム ヨーダイドのような2-ハロ-1- 低
級アルキルピリジニウム ハライド及びジフェニルホス
ホリルアジド(DPPA)のようなジアリールホスホリルアジ
ド類、N,N'- カルボジイミダゾール(CDI) のようなイミ
ダゾール誘導体、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOB
T)のようなベンゾトリアゾール誘導体、N-ヒドロキシ-5
- ノルボルネン-2,3- ジカルボキシイミド(HONB)のよう
なジカルボキシイミド誘導体、1-エチル-3-(3-ジメチル
アミノプロピル）カルボジイミド(EDAPC) のようなカル
ボジイミド誘導体を挙げることができるが、好適には、
ジアリールホスホリルアジド類である。反応温度は使用
される原料、試薬、溶剤などにより通常０乃至１５０℃
であり、好適には２０乃至１００℃である。反応時間は
使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、
通常１乃至１００時間であり、好適には、２乃至２４時
間である。反応終了後、目的物は、例えば、反応混合物
を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過によ
り除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機
溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。 （第１４工程）本工程は、不活性溶剤中、化合物（２
２）の保護基Ｂ4 を脱保護して、化合物（２３）を製造
する工程である。
【０１１３】保護基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下のように実施される。
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下のように実施される。
【０１１４】カルボキシ基の保護基がｔ−ブチル基、ベ
ンツヒドリル基のように、酸で除去できるものであれ
ば、トリフルオロ酢酸又は酢酸中臭化水素、ジオキサン
−塩酸など酸性条件下で達成される。
ンツヒドリル基のように、酸で除去できるものであれ
ば、トリフルオロ酢酸又は酢酸中臭化水素、ジオキサン
−塩酸など酸性条件下で達成される。
【０１１５】カルボキシ基の保護基がトリクロロエチル
基やトリクロロブロモ基の場合には、酢酸あるいは燐酸
緩衝液（ｐＨ＝４．２−７．２）とテトラヒドロフラン
のようなエーテル類の溶剤を用い、亜鉛末を反応させ
て、除去することができる。
基やトリクロロブロモ基の場合には、酢酸あるいは燐酸
緩衝液（ｐＨ＝４．２−７．２）とテトラヒドロフラン
のようなエーテル類の溶剤を用い、亜鉛末を反応させ
て、除去することができる。
【０１１６】カルボキシ基の保護基が、ベンジル基のよ
うなアラルキル基の場合には、通常、溶媒中で、還元剤
と接触させることにより（好適には、触媒下に常温にて
接触還元）除去する方法で行われる。
うなアラルキル基の場合には、通常、溶媒中で、還元剤
と接触させることにより（好適には、触媒下に常温にて
接触還元）除去する方法で行われる。
【０１１７】（第１５工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２３）に保護されたヒドロキシルアミンＢ6 Ｏ
ＮＨ2 を反応させて、化合物（２４）を製造する工程で
あり、第１３工程に準じて行われる。
化合物（２３）に保護されたヒドロキシルアミンＢ6 Ｏ
ＮＨ2 を反応させて、化合物（２４）を製造する工程で
あり、第１３工程に準じて行われる。
【０１１８】（第１６工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２４）に保護基Ｂ1 を脱保護して、化合物（２
５）を製造する工程である。
化合物（２４）に保護基Ｂ1 を脱保護して、化合物（２
５）を製造する工程である。
【０１１９】保護基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下のように実施される。
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下のように実施される。
【０１２０】カルボキシ基の保護基がｔ−ブチル基、ベ
ンツヒドリル基のように、酸で除去できるものであれ
ば、トリフルオロ酢酸又は酢酸中臭化水素、ジオキサン
−塩酸など酸性条件下で達成される。
ンツヒドリル基のように、酸で除去できるものであれ
ば、トリフルオロ酢酸又は酢酸中臭化水素、ジオキサン
−塩酸など酸性条件下で達成される。
【０１２１】カルボキシ基の保護基がトリクロロエチル
基やトリブロモエチル基の場合には、酢酸あるいは燐酸
緩衝液（ｐＨ＝４．２−７．２）とテトラヒドロフラン
のようなエーテル類の溶剤を用い、亜鉛末を反応させ
て、除去することができる。
基やトリブロモエチル基の場合には、酢酸あるいは燐酸
緩衝液（ｐＨ＝４．２−７．２）とテトラヒドロフラン
のようなエーテル類の溶剤を用い、亜鉛末を反応させ
て、除去することができる。
【０１２２】カルボキシ基の保護基が、ベンジル基のよ
うなアラルキル基の場合には、通常、溶媒中で、還元剤
と接触させることにより（好適には、触媒下に常温にて
接触還元）除去する方法で行われる。
うなアラルキル基の場合には、通常、溶媒中で、還元剤
と接触させることにより（好適には、触媒下に常温にて
接触還元）除去する方法で行われる。
【０１２３】（第１７工程）本工程は、不活性溶剤中、
縮合剤の存在下、化合物（２５）にアミンＲ4 Ｒ5ＮＨ
を反応させ、化合物（２７）を製造する工程であり、第
１３工程と同様にして行なうことができる。
縮合剤の存在下、化合物（２５）にアミンＲ4 Ｒ5ＮＨ
を反応させ、化合物（２７）を製造する工程であり、第
１３工程と同様にして行なうことができる。
【０１２４】（第１８工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２７）の保護基Ａ及びＢ6 を脱保護して、化合
物（１Ｃ）を製造する工程である。
化合物（２７）の保護基Ａ及びＢ6 を脱保護して、化合
物（１Ｃ）を製造する工程である。
【０１２５】この工程は保護基の種類により異なる。
【０１２６】たとえば、Ｂ6 がベンジル、Ａがベンジル
オキシカルボニルのような接触還元により除去できる保
護基の場合はアルコール、エーテル、酢酸などの適当な
溶媒中、パラジウム炭素、白金などの触媒を用いて水素
気流下接触還元することにより達成される。又、Ａ及び
Ｂ6 がｔ−ブトキシカルボニル基などの場合はトリフル
オロ酢酸又は酢酸中臭化水素、ジオキサン−塩酸など酸
性条件下で達成される。いずれにしろ、通常知られたア
ミノ基、水酸基の保護基を脱離条件により達成される。
オキシカルボニルのような接触還元により除去できる保
護基の場合はアルコール、エーテル、酢酸などの適当な
溶媒中、パラジウム炭素、白金などの触媒を用いて水素
気流下接触還元することにより達成される。又、Ａ及び
Ｂ6 がｔ−ブトキシカルボニル基などの場合はトリフル
オロ酢酸又は酢酸中臭化水素、ジオキサン−塩酸など酸
性条件下で達成される。いずれにしろ、通常知られたア
ミノ基、水酸基の保護基を脱離条件により達成される。
【０１２７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、
n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベン
ゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類などがあ
げられる。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、
n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベン
ゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類などがあ
げられる。
【０１２８】反応温度は通常−２０乃至１００℃であ
り、好適には０乃至４０℃である。
り、好適には０乃至４０℃である。
【０１２９】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常０．５乃至４８時間であ
り、好適には、１乃至５時間である。反応終了後、たと
えば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸など
の無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベ
ンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液よ
り溶剤を留去することによって得られるものを、通常、
そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマト
あるいは再結晶法により、単離精製することもできる。
度などにより異なるが、通常０．５乃至４８時間であ
り、好適には、１乃至５時間である。反応終了後、たと
えば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸など
の無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベ
ンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液よ
り溶剤を留去することによって得られるものを、通常、
そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマト
あるいは再結晶法により、単離精製することもできる。
【０１３０】
【発明の効果】本発明の化合物は、優れたIV型コラゲナ
ーゼの阻害活性を有しており、血管新生抑制剤、癌浸潤
抑制剤又は癌転移抑制剤として有用である。
ーゼの阻害活性を有しており、血管新生抑制剤、癌浸潤
抑制剤又は癌転移抑制剤として有用である。
【０１３１】本発明の化合物を、血管新生抑制剤、癌浸
潤抑制剤又は癌転移抑制剤として用いる場合、種々の形
態で投与される。その投与形態としては例えば錠剤、カ
プセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤等による経口投与
または注射剤（静脈内、筋肉内、皮下）、点眼剤、座剤
等による非経口投与を挙げることができる。これらの各
種製剤は、常法にしたがって主薬に賦形剤、結合剤、崩
壊剤、潤沢剤、矯味矯臭剤、溶解補助剤、懸濁剤、コー
ティング剤等既知の医薬製剤技術分野において通常使用
しうる既知の補助剤を用いて製剤化することができる。
その使用量は症状、年齢、体重、投与方法および剤形等
によって異なるが通常は成人に対して１日50 mg 乃至10
00 mg を投与することができる。
潤抑制剤又は癌転移抑制剤として用いる場合、種々の形
態で投与される。その投与形態としては例えば錠剤、カ
プセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤等による経口投与
または注射剤（静脈内、筋肉内、皮下）、点眼剤、座剤
等による非経口投与を挙げることができる。これらの各
種製剤は、常法にしたがって主薬に賦形剤、結合剤、崩
壊剤、潤沢剤、矯味矯臭剤、溶解補助剤、懸濁剤、コー
ティング剤等既知の医薬製剤技術分野において通常使用
しうる既知の補助剤を用いて製剤化することができる。
その使用量は症状、年齢、体重、投与方法および剤形等
によって異なるが通常は成人に対して１日50 mg 乃至10
00 mg を投与することができる。
【０１３２】以下に具体的に製剤例を示す。
【０１３３】（製剤例１）（ハ−ドカプセル剤） 標準二分式ハ−ドゼラチンカプセルの各々に、100 mgの
粉末状の実施例１の化合物、150 mgのラクト−ス、50 m
g のセルロ−ス及び6 mgのステアリン酸マグネシウムを
充填することにより、単位カプセルを製造し、洗浄後、
乾燥した。
粉末状の実施例１の化合物、150 mgのラクト−ス、50 m
g のセルロ−ス及び6 mgのステアリン酸マグネシウムを
充填することにより、単位カプセルを製造し、洗浄後、
乾燥した。
【０１３４】（製剤例２）（錠剤） 常法に従って、100 mgの実施例１の化合物、0.2 mgのコ
ロイド性二酸化珪素、5 mgのステアリン酸マグネシウ
ム、275 mgの微結晶性セルロ−ス、11 mg のデンプン及
び98.8 mg のラクト−スを用いて製造した。
ロイド性二酸化珪素、5 mgのステアリン酸マグネシウ
ム、275 mgの微結晶性セルロ−ス、11 mg のデンプン及
び98.8 mg のラクト−スを用いて製造した。
【０１３５】尚、所望により、剤皮を塗布した。
【０１３６】（製剤例３）（注射剤） 1.5 重量% の実施例１の化合物を、10容量% のプロピレ
ングリコ−ル中で撹拌し、次いで、注射用水で一定容量
にした後、滅菌して製造した。
ングリコ−ル中で撹拌し、次いで、注射用水で一定容量
にした後、滅菌して製造した。
【０１３７】（製剤例４）（懸濁剤） 5 ml中に、100 mgの微粉化した実施例１の化合物、100
mgのナトリウムカルボキシメチルセルロ−ス、5 mgの安
息香酸ナトリウム、1.0 g のソルビト−ル溶液(日本薬
局方) 及び0.025 mlのバニリンを含有するように製造し
た。
mgのナトリウムカルボキシメチルセルロ−ス、5 mgの安
息香酸ナトリウム、1.0 g のソルビト−ル溶液(日本薬
局方) 及び0.025 mlのバニリンを含有するように製造し
た。
【０１３８】
（実施例１）N2−［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）メ
チル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−
メチルアミド 参考例２４で得られたN1−ベンジルオキシカルボニル−
N2−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン
酸（４４ｍｇ）のテトラヒドロフラン：ジメチルホルム
アミド（３：１）混合溶液（３．６ｍｌ）に窒素雰囲気
下、メチルアミン塩酸塩（１０ｍｇ）、トリエチルアミ
ン（０．０２５ｍｌ）、ＤＥＰＣ（０．０４ｍｌ）を順
次加え徐々に室温まで昇温しながら一晩攪拌した。反応
終了後、反応液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ酢
酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去
し、得られた残留物をシリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，０．５mm厚，クロロホルム：
メタノール＝１５：１）を用いて分取し、Ｎ−アミド体
（１５mg）を得た。
チル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−
メチルアミド 参考例２４で得られたN1−ベンジルオキシカルボニル−
N2−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン
酸（４４ｍｇ）のテトラヒドロフラン：ジメチルホルム
アミド（３：１）混合溶液（３．６ｍｌ）に窒素雰囲気
下、メチルアミン塩酸塩（１０ｍｇ）、トリエチルアミ
ン（０．０２５ｍｌ）、ＤＥＰＣ（０．０４ｍｌ）を順
次加え徐々に室温まで昇温しながら一晩攪拌した。反応
終了後、反応液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ酢
酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去
し、得られた残留物をシリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，０．５mm厚，クロロホルム：
メタノール＝１５：１）を用いて分取し、Ｎ−アミド体
（１５mg）を得た。
【０１３９】核磁気共鳴スペクトル（２７０MHz ，CDCl
3 ）δ：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.98-2.59(20H,comple
x),2.70(3H,d,J=4.6 Hz),3.08(1H,m),3.67(1H,m),4.11
(1H,m),4.83(1H,d,J=11.2 Hz),4.88(1H,d,J=11.2 Hz),
5.13(1H,t,J=5.3 Hz),5.21(2H,s),7.25-7.49(10H,compl
ex),7.71(1H,m),8.18(1H,m) 赤外線吸収スペクトル film (cm-)：３３４５(m) ，３
２２５(m) ，２９４５(s) ，１６９５(s) ，１６７０
(s) 質量スペクトル m/z［M-H2O]+ ＝５７６ このようにして得られたN1−ベンジルオキシカルボニル
−N2−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン
酸 Ｎ−メチルアミド（１４mg）の保護基を接触還元に
より除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
（２０cm×１０cm，０．５mm厚，クロロホルム：メタノ
ール＝１０：１二重展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（９mg）が得
られた。
3 ）δ：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.98-2.59(20H,comple
x),2.70(3H,d,J=4.6 Hz),3.08(1H,m),3.67(1H,m),4.11
(1H,m),4.83(1H,d,J=11.2 Hz),4.88(1H,d,J=11.2 Hz),
5.13(1H,t,J=5.3 Hz),5.21(2H,s),7.25-7.49(10H,compl
ex),7.71(1H,m),8.18(1H,m) 赤外線吸収スペクトル film (cm-)：３３４５(m) ，３
２２５(m) ，２９４５(s) ，１６９５(s) ，１６７０
(s) 質量スペクトル m/z［M-H2O]+ ＝５７６ このようにして得られたN1−ベンジルオキシカルボニル
−N2−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン
酸 Ｎ−メチルアミド（１４mg）の保護基を接触還元に
より除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
（２０cm×１０cm，０．５mm厚，クロロホルム：メタノ
ール＝１０：１二重展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（９mg）が得
られた。
【０１４０】核磁気共鳴スペクトル（２７０MHz ，CDCl
3 ）δ：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.05-2.15(18H,comple
x),2.30(1H,m),2.53(1H,m),2.80(3H,d,J=4.6 Hz),2.83
(1H,m),3.03(1H,br.d,J=11.9 Hz),3.84(1H,m),4.64(1H,
d,J=9.9 Hz),5.05(1H,br.s),6.55(br.s),9.2-9.8(1H,b
r.s) 赤外線吸収スペクトル film (cm-1) ：3260(s)、2930
(s)、1650(s)、1625(s) 高分解能質量スペクトル [M]+ ＝352.2466（C18H32O
3N4) 計算値 352.2466 比旋光度 ［α]D 26＝−3.4 °（C=0.82，EtOH） （実施例２）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例２４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４９mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたジメチルアミド体の保護基を接
触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メ
タノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（２５mg）が
得られた。
3 ）δ：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.05-2.15(18H,comple
x),2.30(1H,m),2.53(1H,m),2.80(3H,d,J=4.6 Hz),2.83
(1H,m),3.03(1H,br.d,J=11.9 Hz),3.84(1H,m),4.64(1H,
d,J=9.9 Hz),5.05(1H,br.s),6.55(br.s),9.2-9.8(1H,b
r.s) 赤外線吸収スペクトル film (cm-1) ：3260(s)、2930
(s)、1650(s)、1625(s) 高分解能質量スペクトル [M]+ ＝352.2466（C18H32O
3N4) 計算値 352.2466 比旋光度 ［α]D 26＝−3.4 °（C=0.82，EtOH） （実施例２）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例２４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４９mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたジメチルアミド体の保護基を接
触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メ
タノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（２５mg）が
得られた。
【０１４１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.02-1.78(16H,complex),1.8
1-2.04(2H,complex),2.29(1H,dd,J=14.5 and 4.0 Hz),
2.52(1H,dd,J=14.5 and 10.9 Hz),2.70-3.11(2H,comple
x),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.93(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.2 Hz),5.51(1H,br.s),8.09-8.62(1H,br.s),9.50-9.72
(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3250(w),2910(s),
1635(s),1625(s) マススペクトル[M]+=384 高分解能マススペクトル[M]+=384.2738(C19H36N4O4) 計算値：384.2737 （実施例３）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソオクチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例３４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソオク
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４５mg）をメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１０mg）
が得られた。
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.02-1.78(16H,complex),1.8
1-2.04(2H,complex),2.29(1H,dd,J=14.5 and 4.0 Hz),
2.52(1H,dd,J=14.5 and 10.9 Hz),2.70-3.11(2H,comple
x),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.93(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.2 Hz),5.51(1H,br.s),8.09-8.62(1H,br.s),9.50-9.72
(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3250(w),2910(s),
1635(s),1625(s) マススペクトル[M]+=384 高分解能マススペクトル[M]+=384.2738(C19H36N4O4) 計算値：384.2737 （実施例３）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソオクチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例３４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソオク
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４５mg）をメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１０mg）
が得られた。
【０１４２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.5 Hz),0.99-1.95(13H,complex),2.0
5(1H,br.d,J=10.6 Hz),2.29(1H,dd,J=13.9 and 3.3 H
z),2.52(1H,br.t,J=13.9 Hz),2.79(3H,d,J=4.6 Hz),2.8
1(1H,2.79ppm ト overlap),3.02(1H,d,J=13.2 Hz),3.88
(1H,m),4.67(1H,d,J=11.9 Hz),5.06(1H,s),6.75(1H,d,J
=4.6 Hz),9.52-9.91(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3271(m),2929(s),
1648(s),1626(s) マススペクトル[M-H2O]+=324 高分解能マススペクトル[M]+=342.2256(C16H30N4O4) 計算値： 342.2267 比旋光度［α］D 26=-9.3°(C=0.90,EtOH) （実施例４）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソオクチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い参考例３４で得られたＮ1 −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベンジ
ルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソオクチ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４１mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の保
護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホ
ルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノ
ール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（２
１mg）が得られた。
m)：0.87(3H,t,J=6.5 Hz),0.99-1.95(13H,complex),2.0
5(1H,br.d,J=10.6 Hz),2.29(1H,dd,J=13.9 and 3.3 H
z),2.52(1H,br.t,J=13.9 Hz),2.79(3H,d,J=4.6 Hz),2.8
1(1H,2.79ppm ト overlap),3.02(1H,d,J=13.2 Hz),3.88
(1H,m),4.67(1H,d,J=11.9 Hz),5.06(1H,s),6.75(1H,d,J
=4.6 Hz),9.52-9.91(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3271(m),2929(s),
1648(s),1626(s) マススペクトル[M-H2O]+=324 高分解能マススペクトル[M]+=342.2256(C16H30N4O4) 計算値： 342.2267 比旋光度［α］D 26=-9.3°(C=0.90,EtOH) （実施例４）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソオクチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い参考例３４で得られたＮ1 −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベンジ
ルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソオクチ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４１mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の保
護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホ
ルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノ
ール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（２
１mg）が得られた。
【０１４３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m)：0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-2.07(14H,complex),2.2
9(1H,dd,J=13.9 and 4.0 Hz),2.53(1H,dd,J=13.9 and 1
2.2Hz),2.70-3.19(2H,3.06ppm 及び2.94ppm と overla
p),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.92(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.51(1H,br.s),8.01-8.5.(1H,br.s),9.41-9.70
(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3249(m),2929(s),
1645(s),1625(s) マススペクトル[M]+=356 高分解能マススペクトル[M+H]+=357.2511(C17H33N4O4) 計算値：357.2502 比旋光度［α］D 26=+5.9°(C=1.0,EtOH) （実施例５）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソノニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ
−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例４４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソノニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４６mg）をメチルアミン
と縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を接
触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メ
タノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（２０mg）が
得られた。
m)：0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-2.07(14H,complex),2.2
9(1H,dd,J=13.9 and 4.0 Hz),2.53(1H,dd,J=13.9 and 1
2.2Hz),2.70-3.19(2H,3.06ppm 及び2.94ppm と overla
p),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.92(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.51(1H,br.s),8.01-8.5.(1H,br.s),9.41-9.70
(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3249(m),2929(s),
1645(s),1625(s) マススペクトル[M]+=356 高分解能マススペクトル[M+H]+=357.2511(C17H33N4O4) 計算値：357.2502 比旋光度［α］D 26=+5.9°(C=1.0,EtOH) （実施例５）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソノニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ
−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例４４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソノニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４６mg）をメチルアミン
と縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を接
触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メ
タノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（２０mg）が
得られた。
【０１４４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.00-1.95(15H,complex),2.0
5(1H,br.d,J=3.3 Hz),2.28(1H,br.d,J=3.3 Hz),2.51(1
H,dd,J=13.9 and 11.2 Hz),2.78(3H,d,J=4.6 Hz),2.82
(1H,m),3.02(1H,br.d,J=12.5 Hz),3.87(1H,m),4.73(1H,
d,J=11.9 Hz),5.06(1H,br.s),6.93(1H,m),9.91-10.12(1
H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3268(m),2928(s),
1652(s),1626(s) マススペクトル[M+H]+=357 高分解能マススペクトル[M+H]+=357.2493(C17H33N4O4) 計算値：357.2502 比旋光度［α］D 26=-9.5°(C=1.0,EtOH) （実施例６）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソノニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例４４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソノニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４９mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の保
護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホ
ルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノ
ール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１
０mg）が得られた。
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.00-1.95(15H,complex),2.0
5(1H,br.d,J=3.3 Hz),2.28(1H,br.d,J=3.3 Hz),2.51(1
H,dd,J=13.9 and 11.2 Hz),2.78(3H,d,J=4.6 Hz),2.82
(1H,m),3.02(1H,br.d,J=12.5 Hz),3.87(1H,m),4.73(1H,
d,J=11.9 Hz),5.06(1H,br.s),6.93(1H,m),9.91-10.12(1
H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3268(m),2928(s),
1652(s),1626(s) マススペクトル[M+H]+=357 高分解能マススペクトル[M+H]+=357.2493(C17H33N4O4) 計算値：357.2502 比旋光度［α］D 26=-9.5°(C=1.0,EtOH) （実施例６）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソノニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例４４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソノニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４９mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の保
護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホ
ルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノ
ール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１
０mg）が得られた。
【０１４５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m)：0.83(3H,t,J=6.6 Hz),1.05-1.78(14H,complex),1.8
0-2.04(2H,complex),2.26(1H,br.d,J=12.5 Hz),2.50(1
H,br.t,J=12.5 Hz),2.72-3.12(2H,complex),2.93(3H,
s),3.05(3H,s),3.90(1H,m),5.24(1H,d,J=11.9 Hz),5.53
(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3260(m),2940(s),
1625(s) マススペクトル[M+H]+=371 高分解能マススペクトル[M+H]+=371.2677(C18H35N4O4) 計算値：371.2658 比旋光度［α］D 26=+7.2°(C=0.81,EtOH) （実施例７）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソドデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例５４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソドデ
シル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５２mg）をメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（７mg）が
得られた。
m)：0.83(3H,t,J=6.6 Hz),1.05-1.78(14H,complex),1.8
0-2.04(2H,complex),2.26(1H,br.d,J=12.5 Hz),2.50(1
H,br.t,J=12.5 Hz),2.72-3.12(2H,complex),2.93(3H,
s),3.05(3H,s),3.90(1H,m),5.24(1H,d,J=11.9 Hz),5.53
(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3260(m),2940(s),
1625(s) マススペクトル[M+H]+=371 高分解能マススペクトル[M+H]+=371.2677(C18H35N4O4) 計算値：371.2658 比旋光度［α］D 26=+7.2°(C=0.81,EtOH) （実施例７）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソドデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例５４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソドデ
シル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５２mg）をメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（７mg）が
得られた。
【０１４６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.04-2.12(22H,complex),2.1
9-2.63(2H,complex),2.79(3H,d,J=3.3 Hz),2.80(1H,m),
3.03(1H,br.d,J=13.2 Hz),3.85(1H,m),4.64(1H,br.d,J=
11.9 Hz),5.05(1H,br.s),6.68(1H,m),9.48-9.76(1H,br.
s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3267(m),2855(s),
1652(s),1625(s) マススペクトル[M]+=398 高分解能マススペクトル[M-H2O]+=380.2809(C20H36N
4O3) 計算値：380.2787 比旋光度［α］D 26=-8.9°(C=0.61,EtOH) （実施例８）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソドデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例５４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソドデ
シル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５０mg）をジメチルア
ミンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の
保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロ
ホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタ
ノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物
（２７mg）が得られた。
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.04-2.12(22H,complex),2.1
9-2.63(2H,complex),2.79(3H,d,J=3.3 Hz),2.80(1H,m),
3.03(1H,br.d,J=13.2 Hz),3.85(1H,m),4.64(1H,br.d,J=
11.9 Hz),5.05(1H,br.s),6.68(1H,m),9.48-9.76(1H,br.
s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3267(m),2855(s),
1652(s),1625(s) マススペクトル[M]+=398 高分解能マススペクトル[M-H2O]+=380.2809(C20H36N
4O3) 計算値：380.2787 比旋光度［α］D 26=-8.9°(C=0.61,EtOH) （実施例８）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソドデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例５４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソドデ
シル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５０mg）をジメチルア
ミンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の
保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロ
ホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタ
ノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物
（２７mg）が得られた。
【０１４７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.06-1.78(20H,complex),1.8
0-2.02(2H,complex),2.29(1H,dd,J=14.5 and 4.0 Hz),
2.52(1H,dd,J=14.5 and 10.9 Hz),2.70-3.12(2H,comple
x),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.92(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.50(1H,br.s),7.92-8.77(1H,br.m),9.59(1H,
m) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3262(m),2926(s),
1649(s),1627(s) マススペクトル[M]+=412 高分解能マススペクトル[M]+=412.3036(C21H40N4O4) 計算値：412.3049 比旋光度［α］D 26=+6.8°(C=1.0,EtOH) （実施例９）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニルメ
チル）−１−オキソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸Ｎ−メチルアミド 参考例６５で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボ
ニル）メチル−１−オキソウンデカニル］−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸Ｎ−メチルアミド（５２ｍｇ）のメタノール
（2.5 ｍｌ）溶液に１０％パラジウム炭素（８ｍｇ）を
加えた後水素雰囲気下２時間室温で撹伴し接触還元し
た。反応終了後触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮して得ら
れた残留物を、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
（２０ｃｍ×２０ｃｍ，0.5 ｍｍ厚，クロロホルム：メ
タノール＝１０：１で展開酢酸エチル：メタノール＝１
０：１で溶出）により精製し目的化合物２８ｍｇを得
た。
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.06-1.78(20H,complex),1.8
0-2.02(2H,complex),2.29(1H,dd,J=14.5 and 4.0 Hz),
2.52(1H,dd,J=14.5 and 10.9 Hz),2.70-3.12(2H,comple
x),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.92(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.50(1H,br.s),7.92-8.77(1H,br.m),9.59(1H,
m) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1) ：3262(m),2926(s),
1649(s),1627(s) マススペクトル[M]+=412 高分解能マススペクトル[M]+=412.3036(C21H40N4O4) 計算値：412.3049 比旋光度［α］D 26=+6.8°(C=1.0,EtOH) （実施例９）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニルメ
チル）−１−オキソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸Ｎ−メチルアミド 参考例６５で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボ
ニル）メチル−１−オキソウンデカニル］−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸Ｎ−メチルアミド（５２ｍｇ）のメタノール
（2.5 ｍｌ）溶液に１０％パラジウム炭素（８ｍｇ）を
加えた後水素雰囲気下２時間室温で撹伴し接触還元し
た。反応終了後触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮して得ら
れた残留物を、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
（２０ｃｍ×２０ｃｍ，0.5 ｍｍ厚，クロロホルム：メ
タノール＝１０：１で展開酢酸エチル：メタノール＝１
０：１で溶出）により精製し目的化合物２８ｍｇを得
た。
【０１４８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6Hz),1.05-1.93(19H,complex),2.04
(1H,br.d,J=11.9Hz),2.28(1H,dd,J=13.9 and 3.3Hz),2.
51(1H,dd,J=13.9 and 11.2Hz),2.78(3H,d,J=4.6Hz),2.8
2(1H,m),3.01(1H,br.d,J=12.5Hz),3.87(1H,m),4.74(1H,
d,J=11.9Hz),5.06(1H,s),6.96(1H,m),9.81-10.19(1H,b
r) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3270,2927,1
653,1626 高分解能マススペクトル[M+H]+=385.2802(C19H37O4N4) 計算値:385.2837 比旋光度:[α]D 26=-7.6 °(C=1.0,EtOH) （実施例１０）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニルメ
チル）−１−オキソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例６６で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソウン
デカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−ジメチルアミド
（５８ｍｇ）の保護基を接触還元反応により除去し同様
の処理により目的化合物（２３ｍｇ）を得た。
m):0.87(3H,t,J=6.6Hz),1.05-1.93(19H,complex),2.04
(1H,br.d,J=11.9Hz),2.28(1H,dd,J=13.9 and 3.3Hz),2.
51(1H,dd,J=13.9 and 11.2Hz),2.78(3H,d,J=4.6Hz),2.8
2(1H,m),3.01(1H,br.d,J=12.5Hz),3.87(1H,m),4.74(1H,
d,J=11.9Hz),5.06(1H,s),6.96(1H,m),9.81-10.19(1H,b
r) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3270,2927,1
653,1626 高分解能マススペクトル[M+H]+=385.2802(C19H37O4N4) 計算値:385.2837 比旋光度:[α]D 26=-7.6 °(C=1.0,EtOH) （実施例１０）Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニルメ
チル）−１−オキソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例６６で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソウン
デカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−ジメチルアミド
（５８ｍｇ）の保護基を接触還元反応により除去し同様
の処理により目的化合物（２３ｍｇ）を得た。
【０１４９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.9Hz),1.10-2.02(20H,complex),2.28
(1H,dd,J=14.2 and 4.3Hz),2.52(1H,dd,J=14.2 and 10.
9Hz),2.70-3.13(2H,complex),2.94(3H,s),3.06(3H,s),
3.94(1H,m),5.26(1H,d,J=11.9Hz),5.51(1H,m),9.65(1H,
br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3263,2856,1
645,1622 元素分析 計算値 C20H38N4O4・1/2H2O:C,58.94 ％;H,9.64 ％;N,1
3.75％ 測定値:C,58.69％;H,9.32 ％;N,13.60％ 比旋光度:[α]D 26=+9.6 °(C=1.0,EtOH) （参考例１）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−（Ｌ）−イソロイシン
（Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ）アミド ０℃に冷却したＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−イ
ソロイシン（１５ｇ）の塩化メチレン（２００ml）溶液
に、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（5.8
ｇ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC,11.7
ｇ）、ジイソプロピルエチルアミン（１０ml）、４−ジ
メチルアミノピリジン（７０ml）を順次加え、０℃で2.
3 時間撹拌した。結晶を濾去した後、反応混合物を塩酸
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝５：２で溶出）で精製し、目
的化合物16.9ｇを無色結晶性物質として得た。メタノー
ル−水より再結晶すると融点６４−６６℃の無色結晶と
なった。
m):0.87(3H,t,J=6.9Hz),1.10-2.02(20H,complex),2.28
(1H,dd,J=14.2 and 4.3Hz),2.52(1H,dd,J=14.2 and 10.
9Hz),2.70-3.13(2H,complex),2.94(3H,s),3.06(3H,s),
3.94(1H,m),5.26(1H,d,J=11.9Hz),5.51(1H,m),9.65(1H,
br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3263,2856,1
645,1622 元素分析 計算値 C20H38N4O4・1/2H2O:C,58.94 ％;H,9.64 ％;N,1
3.75％ 測定値:C,58.69％;H,9.32 ％;N,13.60％ 比旋光度:[α]D 26=+9.6 °(C=1.0,EtOH) （参考例１）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−（Ｌ）−イソロイシン
（Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ）アミド ０℃に冷却したＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−イ
ソロイシン（１５ｇ）の塩化メチレン（２００ml）溶液
に、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（5.8
ｇ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC,11.7
ｇ）、ジイソプロピルエチルアミン（１０ml）、４−ジ
メチルアミノピリジン（７０ml）を順次加え、０℃で2.
3 時間撹拌した。結晶を濾去した後、反応混合物を塩酸
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝５：２で溶出）で精製し、目
的化合物16.9ｇを無色結晶性物質として得た。メタノー
ル−水より再結晶すると融点６４−６６℃の無色結晶と
なった。
【０１５０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.93(3H,d,J=6.8 Hz),1.12(1
H,m),1.57(1H,m),1.73(1H,m),3.22(3H,s),3.79(3H,s),
4.67(1H,br,t,J=8.1 Hz),5.06(1H,d,J=12.5 Hz),5.13(1
H,d,J=12.5 Hz),5.35(1H,br.d,J=9.8 Hz),7.23-7.41(5
H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3306(m),171
9(s),1654(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=309.1804(C16H25N2O4) 計算値：309.1813 比旋光度［α］D 26 =-4.68°(C=2.01,CHCl3) （参考例２）（４Ｓ，５Ｓ）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−５−メチル−３−オキソヘプタン 窒素雰囲気下、−１５℃に冷却したＮ−ベンジルオキシ
カルボニル−（Ｌ）−イソロイシル（Ｎ−メチル−Ｎ−
メトキシ）アミド（1.71ｇ）のテトラヒドロフラン（４
０ml）溶液にエチルマグネシウムブロマイド(0.99 Ｍテ
トラヒドロフラン溶液）（１６ml）を滴下し、0.6 時間
撹拌した。室温に昇温し、更に0.6 時間撹拌の後、反応
液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１及び２：１）で精製し、目的化
合物８６１mg（56.2％）を得た。又、出発物質Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−（Ｌ）−イソロイシル（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メトキシ）アミン（５０８mg）を回収した。
目的化合物はメタノール−水より再結晶し融点５７−５
８℃の無色結晶となった。
m):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.93(3H,d,J=6.8 Hz),1.12(1
H,m),1.57(1H,m),1.73(1H,m),3.22(3H,s),3.79(3H,s),
4.67(1H,br,t,J=8.1 Hz),5.06(1H,d,J=12.5 Hz),5.13(1
H,d,J=12.5 Hz),5.35(1H,br.d,J=9.8 Hz),7.23-7.41(5
H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3306(m),171
9(s),1654(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=309.1804(C16H25N2O4) 計算値：309.1813 比旋光度［α］D 26 =-4.68°(C=2.01,CHCl3) （参考例２）（４Ｓ，５Ｓ）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−５−メチル−３−オキソヘプタン 窒素雰囲気下、−１５℃に冷却したＮ−ベンジルオキシ
カルボニル−（Ｌ）−イソロイシル（Ｎ−メチル−Ｎ−
メトキシ）アミド（1.71ｇ）のテトラヒドロフラン（４
０ml）溶液にエチルマグネシウムブロマイド(0.99 Ｍテ
トラヒドロフラン溶液）（１６ml）を滴下し、0.6 時間
撹拌した。室温に昇温し、更に0.6 時間撹拌の後、反応
液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１及び２：１）で精製し、目的化
合物８６１mg（56.2％）を得た。又、出発物質Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−（Ｌ）−イソロイシル（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メトキシ）アミン（５０８mg）を回収した。
目的化合物はメタノール−水より再結晶し融点５７−５
８℃の無色結晶となった。
【０１５１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.98(3H,d,J=6.8 Hz),1.08(3
H,t,J=7.3 Hz),1.27(1H,m),1.90(1H,m),2.52(1H,dd,J=
7.3 and 3.9 Hz),4.36(1H,dd,J=8.5 and 4.6 Hz),5.09
(2H,s),5.36(1H,br.d,J=8.3 Hz),7.24-7.40(5H,comple
x) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3270(w),171
0(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=278.1750(C16H24NO3) 計算値：278.1756 （参考例３）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソヘプチ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
04ｇ）を窒素雰囲気下テトラヒドロフラン（１２５ml）
に溶解させ、−７８℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム
（1.65Ｍヘキサン溶液）（２５ml）を滴下し、１０分間
撹拌した。ついでヘプタノイルクロライド（6.4 ml）を
加え、−７８℃で1.5 時間撹拌した。反応液を５％塩化
アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出、有機層
を水、飽和食塩水で洗浄の後、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去後、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）により精
製し、目的化合物（9.69ｇ）を無色油状物として得た。
m):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.98(3H,d,J=6.8 Hz),1.08(3
H,t,J=7.3 Hz),1.27(1H,m),1.90(1H,m),2.52(1H,dd,J=
7.3 and 3.9 Hz),4.36(1H,dd,J=8.5 and 4.6 Hz),5.09
(2H,s),5.36(1H,br.d,J=8.3 Hz),7.24-7.40(5H,comple
x) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3270(w),171
0(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=278.1750(C16H24NO3) 計算値：278.1756 （参考例３）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソヘプチ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
04ｇ）を窒素雰囲気下テトラヒドロフラン（１２５ml）
に溶解させ、−７８℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム
（1.65Ｍヘキサン溶液）（２５ml）を滴下し、１０分間
撹拌した。ついでヘプタノイルクロライド（6.4 ml）を
加え、−７８℃で1.5 時間撹拌した。反応液を５％塩化
アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出、有機層
を水、飽和食塩水で洗浄の後、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去後、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）により精
製し、目的化合物（9.69ｇ）を無色油状物として得た。
【０１５２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.82-0.97(3H,t,0.87ppm and 0.92ppm と overlappe
d),0.87(3H,d,J=6.8 Hz),0.92(3H,d,J=6.8 Hz),1.22-1.
45(6H,complex),1.58-1.75(2H,complex),2.38(1H,d,he
p,J=3.4 and 6.8 Hz),2.77-3.06(2H,complex),4.19(1H,
dd,J=8.3 and 3.4 Hz),4.26(1H,t,J=8.3 Hz),4.43(1H,d
t,J=8.3 and 3.4 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1784(s),170
3(s) 高分解能マススペクトル[M]+=241.1675(C13H23NO3) 計算値：241.1677 （参考例４）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソヘプチル）−２−
オキサゾリジノン 窒素雰囲気下、−１５℃に冷却した４−（Ｓ）−イソプ
ロピル−３−（１−オキソヘプチル）−２−オキサゾリ
ジノン（５１９mg）のテトラヒドロフラン（１５ml）溶
液にリチウムジイソプロピルアミド(0.58 Ｍテトラヒド
ロフラン溶液）（３９ml）を加え、−７８℃で１０分間
撹拌した。次いで、ブロモ酢酸ｔ−ブチル(1.7ml) のテ
トラヒドロフラン溶液（５ml）を加え、5.5 時間撹拌を
続けながら、−５５℃迄徐々に昇温した。反応液を５％
塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、
有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１で溶出）で精製することにより目的化合物６９７mg
（91.2％）を得た。メタノール−水より再結晶し、融点
５１−５３℃。
m):0.82-0.97(3H,t,0.87ppm and 0.92ppm と overlappe
d),0.87(3H,d,J=6.8 Hz),0.92(3H,d,J=6.8 Hz),1.22-1.
45(6H,complex),1.58-1.75(2H,complex),2.38(1H,d,he
p,J=3.4 and 6.8 Hz),2.77-3.06(2H,complex),4.19(1H,
dd,J=8.3 and 3.4 Hz),4.26(1H,t,J=8.3 Hz),4.43(1H,d
t,J=8.3 and 3.4 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1784(s),170
3(s) 高分解能マススペクトル[M]+=241.1675(C13H23NO3) 計算値：241.1677 （参考例４）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソヘプチル）−２−
オキサゾリジノン 窒素雰囲気下、−１５℃に冷却した４−（Ｓ）−イソプ
ロピル−３−（１−オキソヘプチル）−２−オキサゾリ
ジノン（５１９mg）のテトラヒドロフラン（１５ml）溶
液にリチウムジイソプロピルアミド(0.58 Ｍテトラヒド
ロフラン溶液）（３９ml）を加え、−７８℃で１０分間
撹拌した。次いで、ブロモ酢酸ｔ−ブチル(1.7ml) のテ
トラヒドロフラン溶液（５ml）を加え、5.5 時間撹拌を
続けながら、−５５℃迄徐々に昇温した。反応液を５％
塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、
有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１で溶出）で精製することにより目的化合物６９７mg
（91.2％）を得た。メタノール−水より再結晶し、融点
５１−５３℃。
【０１５３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.86(3H,t,J=6.4 Hz),0.91(3H,d,J=6.3 Hz),0.93(3
H,d,J=6.3 Hz),1.14-1.51(7H,complex),1.41(9H,s),1.6
2(1H,m),2.38(1H,d,hep,J=3.4 and 6.3 Hz),2.43(1H,d
d,J=16.6 and 4.9 Hz),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 H
z),4.15(1H,m),4.20(1H,dd,J=7.9 and 3.4 Hz),4.25(1
H,t,J=7.9 Hz),4.43(1H,dt,J=7.9 and 3.4 Hz) 赤外線吸収スペクトル(KBr pellet,cm-1):1763(s),1730
(s),1702(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=356.2449(C19H34NO5) 計算値：356.2437 比旋光度［α］D 26 =+50.8°(C=1.03,CHCl3) （参考例５）２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−ヘプ
タン酸 参考例４で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
［２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１
−オキソヘプチル］−２−オキサゾリジノン（６９１m
g）をテトラヒドロフラン−水（３：１，４０ml）の混
合溶媒に溶解し、０℃に冷却した。次いで水酸化リチウ
ム水和物（１６５mg）、３１％過酸化水素水溶液（１m
l）を順次加え、０℃で1.5 時間撹拌した。1.5 Ｎ亜硫
酸ナトリウム水溶液（7.3ml ）を加え数分間撹拌の後、
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液中へ注ぎ、塩化メチレンで
洗浄した。水層を１Ｎ塩酸でpH１〜２とした後、酢酸エ
チルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル＝８：１で溶出）で精製することに
より目的化合物４５２mg（95.1％）を無色油状物として
得た。
m):0.86(3H,t,J=6.4 Hz),0.91(3H,d,J=6.3 Hz),0.93(3
H,d,J=6.3 Hz),1.14-1.51(7H,complex),1.41(9H,s),1.6
2(1H,m),2.38(1H,d,hep,J=3.4 and 6.3 Hz),2.43(1H,d
d,J=16.6 and 4.9 Hz),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 H
z),4.15(1H,m),4.20(1H,dd,J=7.9 and 3.4 Hz),4.25(1
H,t,J=7.9 Hz),4.43(1H,dt,J=7.9 and 3.4 Hz) 赤外線吸収スペクトル(KBr pellet,cm-1):1763(s),1730
(s),1702(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=356.2449(C19H34NO5) 計算値：356.2437 比旋光度［α］D 26 =+50.8°(C=1.03,CHCl3) （参考例５）２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−ヘプ
タン酸 参考例４で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
［２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１
−オキソヘプチル］−２−オキサゾリジノン（６９１m
g）をテトラヒドロフラン−水（３：１，４０ml）の混
合溶媒に溶解し、０℃に冷却した。次いで水酸化リチウ
ム水和物（１６５mg）、３１％過酸化水素水溶液（１m
l）を順次加え、０℃で1.5 時間撹拌した。1.5 Ｎ亜硫
酸ナトリウム水溶液（7.3ml ）を加え数分間撹拌の後、
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液中へ注ぎ、塩化メチレンで
洗浄した。水層を１Ｎ塩酸でpH１〜２とした後、酢酸エ
チルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル＝８：１で溶出）で精製することに
より目的化合物４５２mg（95.1％）を無色油状物として
得た。
【０１５４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=7.4 Hz),1.21-1.41(6H,complex),1.43
(9H,s),1.52(1H,m),1.65(1H,m),2.38(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.62(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.80(1H,m) 赤外線吸収スペクトル (liquid film,cm-1):1734(s),17
09(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=245.1752(C13H25O4) 計算値：245.1752 比旋光度［α］D 26 =+14.5°(C=1.97,EtOH) （参考例６）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例５で得られた２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）ヘプタン酸（４４０mg）のジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ、１８ml）溶液に炭酸水素ナトリウム
（３０５mg）、ベンジルブロマイド（1.0ml ）を順次加
え、室温下一夜撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：
酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより、目的物
４７６mgを無色油状物として得た。
m):0.88(3H,t,J=7.4 Hz),1.21-1.41(6H,complex),1.43
(9H,s),1.52(1H,m),1.65(1H,m),2.38(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.62(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.80(1H,m) 赤外線吸収スペクトル (liquid film,cm-1):1734(s),17
09(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=245.1752(C13H25O4) 計算値：245.1752 比旋光度［α］D 26 =+14.5°(C=1.97,EtOH) （参考例６）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例５で得られた２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）ヘプタン酸（４４０mg）のジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ、１８ml）溶液に炭酸水素ナトリウム
（３０５mg）、ベンジルブロマイド（1.0ml ）を順次加
え、室温下一夜撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：
酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより、目的物
４７６mgを無色油状物として得た。
【０１５５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.6 Hz),1.17-1.32(6H,complex),1.41
(9H,s),1.50(1H,m),1.61(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.65(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),
5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.18(1H,d,J=12.5 Hz),7.24-7.4
2(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1731(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=335.2230(C20H31O4) 計算値：335.2223 比旋光度［α］D 26 =+0.22°(C=7.9,CHCl3) （参考例７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸 参考例６で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボ
ニルオクタン酸ｔ−ブチルエステル（９８３mg）に４Ｍ
−塩酸−ジオキサン溶液（１５ml）を加え、一夜撹拌し
た。反応液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出し、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホル
ム：メタノール＝３０：１で溶出）で精製することによ
り、目的化合物８３８mgを無色油状物として得た。
m):0.85(3H,t,J=6.6 Hz),1.17-1.32(6H,complex),1.41
(9H,s),1.50(1H,m),1.61(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.65(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),
5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.18(1H,d,J=12.5 Hz),7.24-7.4
2(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1731(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=335.2230(C20H31O4) 計算値：335.2223 比旋光度［α］D 26 =+0.22°(C=7.9,CHCl3) （参考例７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸 参考例６で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボ
ニルオクタン酸ｔ−ブチルエステル（９８３mg）に４Ｍ
−塩酸−ジオキサン溶液（１５ml）を加え、一夜撹拌し
た。反応液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出し、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホル
ム：メタノール＝３０：１で溶出）で精製することによ
り、目的化合物８３８mgを無色油状物として得た。
【０１５６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.6Hz),1.10-1.38(6H,complex),1.42-
1.77(2H,complex),2.48(1H,dd,J=16.5 and 4.6Hz),2.78
(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.88(1H,m),5.14(2H,s),7.
23-7.48(5H,complex),7.60-9.50(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1735(s),171
2(s) 高分解能マススペクトル[M]+=278.1527(C16H22O4) 計算値：278.1518 比旋光度［α］D 26 =+2.4 °(C=0.99,EtOH) （参考例８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 窒素雰囲気下、参考例７で得られた３−（Ｒ）−ベンジ
ルオキシカルボニルオクタン酸（６７１mg）のベンゼン
（１０ml）溶液に蓚酸クロライド（２ml）を加え、６０
℃で２時間撹拌した。反応液にベンゼンを加え、減圧留
去し未反応の蓚酸クロライドを除いた後、残留物を窒素
雰囲気下テトラヒドロフラン（１３ml）に溶解し、−１
５℃に冷却した後トリクロロエタノール（1.7ml ）、ピ
リジン（0.23ml）を順次加えた。−１５℃で3.3 時間撹
拌した後、反応液を0.5 Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル抽出溶液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１
５：１で溶出）により精製し、目的化合物（７９３mg）
を無色油状物として得た。
m):0.85(3H,t,J=6.6Hz),1.10-1.38(6H,complex),1.42-
1.77(2H,complex),2.48(1H,dd,J=16.5 and 4.6Hz),2.78
(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.88(1H,m),5.14(2H,s),7.
23-7.48(5H,complex),7.60-9.50(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1735(s),171
2(s) 高分解能マススペクトル[M]+=278.1527(C16H22O4) 計算値：278.1518 比旋光度［α］D 26 =+2.4 °(C=0.99,EtOH) （参考例８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 窒素雰囲気下、参考例７で得られた３−（Ｒ）−ベンジ
ルオキシカルボニルオクタン酸（６７１mg）のベンゼン
（１０ml）溶液に蓚酸クロライド（２ml）を加え、６０
℃で２時間撹拌した。反応液にベンゼンを加え、減圧留
去し未反応の蓚酸クロライドを除いた後、残留物を窒素
雰囲気下テトラヒドロフラン（１３ml）に溶解し、−１
５℃に冷却した後トリクロロエタノール（1.7ml ）、ピ
リジン（0.23ml）を順次加えた。−１５℃で3.3 時間撹
拌した後、反応液を0.5 Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル抽出溶液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１
５：１で溶出）により精製し、目的化合物（７９３mg）
を無色油状物として得た。
【０１５７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-1.39(6H,complex),1.47-
1.79(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.5 and 3.3 Hz),2.8
9(1H,dd,J=15.5 and 9.2 Hz),4.64(1H,d,J=11.9 Hz),4.
72(1H,d,J=11.9 Hz),5.10(1H,d,J=11.9 Hz),5.18(1H,d,
J=11.9 Hz),7.23-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1757(s),173
6(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=409.0734(C18H24O4Cl3) 計算値：409.0740 比旋光度［α］D 26 =-1.0 °(C=6.0,CHCl3) （参考例９）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルヘプタン酸 参考例８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボ
ニルオクタン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（９２４mg）のメタノール（８ml）溶液に１０％パラジ
ウム炭素（５２mg）を加え、水素雰囲気下２時間撹拌し
接触還元した。反応終了後セライト濾過により触媒を濾
去し、濾液を減圧下濃縮、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール
＝３０：１）で精製し目的化合物（６７８mg）を無色油
状物として得た。
m):0.85(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-1.39(6H,complex),1.47-
1.79(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.5 and 3.3 Hz),2.8
9(1H,dd,J=15.5 and 9.2 Hz),4.64(1H,d,J=11.9 Hz),4.
72(1H,d,J=11.9 Hz),5.10(1H,d,J=11.9 Hz),5.18(1H,d,
J=11.9 Hz),7.23-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1757(s),173
6(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=409.0734(C18H24O4Cl3) 計算値：409.0740 比旋光度［α］D 26 =-1.0 °(C=6.0,CHCl3) （参考例９）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルヘプタン酸 参考例８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボ
ニルオクタン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（９２４mg）のメタノール（８ml）溶液に１０％パラジ
ウム炭素（５２mg）を加え、水素雰囲気下２時間撹拌し
接触還元した。反応終了後セライト濾過により触媒を濾
去し、濾液を減圧下濃縮、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール
＝３０：１）で精製し目的化合物（６７８mg）を無色油
状物として得た。
【０１５８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.89(3H,t,J=6.5 Hz),1.18-1.47(6H,complex),1.47-
1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.2 and 2.9 Hz),2.8
8(1H,dd,J=15.2 and 9.3 Hz),2.94(1H,m),4.72(1H,d,J=
12.0 Hz),4.79(1H,d,J=12.0Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1758(s),170
9(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=319.0261(C11H18O4Cl3) 計算値：319.0271 比旋光度［α］D 26 =+11.1°(C=3.96,EtOH) （参考例１０）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 窒素雰囲気下参考例９で得られた２−（Ｒ）−（２，
２，２−トリクロロエトキシカルボニル）メチルヘプタ
ン酸（５７３mg）のベンゼン（１０ml）溶液に蓚酸クロ
ライド（0.6ml ）を加え、５０℃で２時間撹拌した後、
反応液に無水ベンゼンを加え減圧濃縮し、過剰の蓚酸ク
ロライドを除去した。減圧濃縮により得られた残留物
（酸クロライド）をテトラヒドロフラン（４ml）に溶解
した。窒素雰囲気下−１５℃に冷却した（Ｓ）−Ｎ1 −
ベンジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエス
テル（５８４mg）とＮ−エチルモルホリン（0.37ml）の
テトラヒドロフラン（７ml）溶液に、先に調製した酸ク
ロライド溶液を滴下した後、一夜撹拌を続け徐々に室温
迄昇温した。反応液を0.2 Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで
抽出、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝６：１）により精製し目的化合物（10
04mg）を無色油状物として得た。
m):0.89(3H,t,J=6.5 Hz),1.18-1.47(6H,complex),1.47-
1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.2 and 2.9 Hz),2.8
8(1H,dd,J=15.2 and 9.3 Hz),2.94(1H,m),4.72(1H,d,J=
12.0 Hz),4.79(1H,d,J=12.0Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1758(s),170
9(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=319.0261(C11H18O4Cl3) 計算値：319.0271 比旋光度［α］D 26 =+11.1°(C=3.96,EtOH) （参考例１０）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 窒素雰囲気下参考例９で得られた２−（Ｒ）−（２，
２，２−トリクロロエトキシカルボニル）メチルヘプタ
ン酸（５７３mg）のベンゼン（１０ml）溶液に蓚酸クロ
ライド（0.6ml ）を加え、５０℃で２時間撹拌した後、
反応液に無水ベンゼンを加え減圧濃縮し、過剰の蓚酸ク
ロライドを除去した。減圧濃縮により得られた残留物
（酸クロライド）をテトラヒドロフラン（４ml）に溶解
した。窒素雰囲気下−１５℃に冷却した（Ｓ）−Ｎ1 −
ベンジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエス
テル（５８４mg）とＮ−エチルモルホリン（0.37ml）の
テトラヒドロフラン（７ml）溶液に、先に調製した酸ク
ロライド溶液を滴下した後、一夜撹拌を続け徐々に室温
迄昇温した。反応液を0.2 Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで
抽出、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝６：１）により精製し目的化合物（10
04mg）を無色油状物として得た。
【０１５９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.80(3H,t,J=6.6Hz),0.85-2.12(12H,complex),1.43
(9H,s),2.61(1H,dd,J=17.2 and 3.3Hz),2.94(1H,dd,J=1
7.2 and 10.0Hz),3.13(1H,m),3.42(1H,m),4.28(1H,br.
d,J=11.3Hz),4.61(1H,d,J=11.9Hz),4.77(1H,d,J=11.9H
z),5.13(1H,d,J=11.9Hz),5.21(1H,d,J=11.9Hz),5.27(1
H,dd,J=4.6 and 3.9Hz),7.22-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1739(s),167
6(s) 高分解能マススペクトル[M]+=620.1799(C28H39N2O7Cl3) 計算値：620.1822 比旋光度［α］D 26 =-7.5 °(C=2.04,CHCl3) （参考例１１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１０で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルヘプチル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（９２０mg）
のテトラヒドロフラン溶液に１Ｎ−酢酸アンモニウム水
溶液（2.5ml ）、亜鉛（1.93ｇ）を加え、室温下４時間
激しく撹拌した。反応終了後亜鉛を濾去し、反応液を５
％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥、溶媒を減圧下留去し、得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メ
タノール＝２０：１）により精製し、目的化合物（６３
２mg）を無色油状物として得た。
m):0.80(3H,t,J=6.6Hz),0.85-2.12(12H,complex),1.43
(9H,s),2.61(1H,dd,J=17.2 and 3.3Hz),2.94(1H,dd,J=1
7.2 and 10.0Hz),3.13(1H,m),3.42(1H,m),4.28(1H,br.
d,J=11.3Hz),4.61(1H,d,J=11.9Hz),4.77(1H,d,J=11.9H
z),5.13(1H,d,J=11.9Hz),5.21(1H,d,J=11.9Hz),5.27(1
H,dd,J=4.6 and 3.9Hz),7.22-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1739(s),167
6(s) 高分解能マススペクトル[M]+=620.1799(C28H39N2O7Cl3) 計算値：620.1822 比旋光度［α］D 26 =-7.5 °(C=2.04,CHCl3) （参考例１１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１０で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルヘプチル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（９２０mg）
のテトラヒドロフラン溶液に１Ｎ−酢酸アンモニウム水
溶液（2.5ml ）、亜鉛（1.93ｇ）を加え、室温下４時間
激しく撹拌した。反応終了後亜鉛を濾去し、反応液を５
％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥、溶媒を減圧下留去し、得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メ
タノール＝２０：１）により精製し、目的化合物（６３
２mg）を無色油状物として得た。
【０１６０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.80(3H,t,J=6.3 Hz),0.85-2.12(12H,complex),1.43
(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 4.0 Hz),2.82(1H,dd,J=
17.2and 11.1 Hz),3.09(1H,m),3.42(1H,m),4.25(1H,m),
5.12(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,
dd,J=4.6 and 4.0 Hz),7.19-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1737(s),171
4(s),1675(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=491.2724(C26H39N2O7) 計算値：491.2756 比旋光度［α］D 26 =-23.1°(C=1.03,EtOH) （参考例１２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル 参考例１１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（５９８mg）を混合溶媒（テトラヒドロフラン：ＤＭＦ
＝３：１，２０ml））に溶解し、−１５℃に冷却した。
Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン（２０２mg）、ジエチ
ルシアノフォスフォネート(DEPC,0.28ml) 、トリエチル
アミン(0.34ml)を順次加え、2.1 時間撹拌した。反応液
を１Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝６０：
１で溶出）により精製し、目的化合物（４５２mg）を得
た。又、出発原料（ピペラジン酸エステル，１６４mg）
を回収した。
m):0.80(3H,t,J=6.3 Hz),0.85-2.12(12H,complex),1.43
(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 4.0 Hz),2.82(1H,dd,J=
17.2and 11.1 Hz),3.09(1H,m),3.42(1H,m),4.25(1H,m),
5.12(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,
dd,J=4.6 and 4.0 Hz),7.19-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):1737(s),171
4(s),1675(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=491.2724(C26H39N2O7) 計算値：491.2756 比旋光度［α］D 26 =-23.1°(C=1.03,EtOH) （参考例１２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル 参考例１１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（５９８mg）を混合溶媒（テトラヒドロフラン：ＤＭＦ
＝３：１，２０ml））に溶解し、−１５℃に冷却した。
Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン（２０２mg）、ジエチ
ルシアノフォスフォネート(DEPC,0.28ml) 、トリエチル
アミン(0.34ml)を順次加え、2.1 時間撹拌した。反応液
を１Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝６０：
１で溶出）により精製し、目的化合物（４５２mg）を得
た。又、出発原料（ピペラジン酸エステル，１６４mg）
を回収した。
【０１６１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.79(3H,t,J=6.8 Hz),0.82-2.10(12H,complex),1.42
(9H,s),2.10-2.46(2H,complex),3.19(1H,m),3.42(1H,
m),4.24(1H,br.d,J=11.7 Hz),4.82(1H,d,J=11.2 Hz),4.
89(1H,d,J=11.2 Hz),5.12(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,
J=12.2 Hz),5.26(1H,t,J=3.9 Hz),7.20-7.48(10H,compl
ex),7.99(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3426(m),173
4(s),1674(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=596.3328(C33H46N3O7) 計算値：596.3335 比旋光度［α］D 26 =-30.7°(C=1.03,CHCl3) （参考例１３）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例１２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４２１mg）の塩化メチレン溶
液にトリフルオロ酢酸（1.5 ml）を加え、室温で2.6 時
間撹拌した。反応終了後トルエンを加え減圧濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホ
ルム：メタノール＝１５：１で溶出）により精製し、目
的化合物（３５１mg）を無色油状物として得た。
m):0.79(3H,t,J=6.8 Hz),0.82-2.10(12H,complex),1.42
(9H,s),2.10-2.46(2H,complex),3.19(1H,m),3.42(1H,
m),4.24(1H,br.d,J=11.7 Hz),4.82(1H,d,J=11.2 Hz),4.
89(1H,d,J=11.2 Hz),5.12(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,
J=12.2 Hz),5.26(1H,t,J=3.9 Hz),7.20-7.48(10H,compl
ex),7.99(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3426(m),173
4(s),1674(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=596.3328(C33H46N3O7) 計算値：596.3335 比旋光度［α］D 26 =-30.7°(C=1.03,CHCl3) （参考例１３）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例１２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４２１mg）の塩化メチレン溶
液にトリフルオロ酢酸（1.5 ml）を加え、室温で2.6 時
間撹拌した。反応終了後トルエンを加え減圧濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホ
ルム：メタノール＝１５：１で溶出）により精製し、目
的化合物（３５１mg）を無色油状物として得た。
【０１６２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.50-3.40(17H,complex),4.11(1H,m),4.81(1H,d,J=1
1.2 Hz),4.88(1H,d,J=11.2 Hz),4.99-5.38(3H,comple
x),7.05-7.55(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3224(m),171
9(s),1672(s) （参考例１４）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソデシル）
−２−オキサゾリジノン 参考例３の方法に従い４−（Ｓ）−イソプロピル−２−
オキサゾリジノン（4.74ｇ）とデカノイルクロライド
（7.35ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目的化
合物（9.85ｇ）を得た。
m):0.50-3.40(17H,complex),4.11(1H,m),4.81(1H,d,J=1
1.2 Hz),4.88(1H,d,J=11.2 Hz),4.99-5.38(3H,comple
x),7.05-7.55(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3224(m),171
9(s),1672(s) （参考例１４）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソデシル）
−２−オキサゾリジノン 参考例３の方法に従い４−（Ｓ）−イソプロピル−２−
オキサゾリジノン（4.74ｇ）とデカノイルクロライド
（7.35ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目的化
合物（9.85ｇ）を得た。
【０１６３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),0.87(3H,d,J=6.6 Hz),0.92(3
H,d,J=6.6 Hz),1.17-1.43(12H,complex),1.59-1.73(2H,
complex),2.37(1H,d.hep,J=3.3 and 6.6 Hz),2.78-3.05
(2H,complex),4.20(1H,dd,J=9.2 and 3.3 Hz),4.26(1H,
dd,J=9.2 and 7.9 Hz),4.44(1H,d,t,J=7.9 and 3.3 Hz)
赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927(s),
1785(s),1703(s) 高分解能マススペクトル[M]+=283.2144(C16H29NO3) 計算値：283.2147 比旋光度［α］D 26 =+61.4°(C=1.00,CHCl3) （参考例１５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−［２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソデシル］−２−オ
キサゾリジノン 参考例４の方法に従い参考例１４で得られた４−（Ｓ）
−イソプロピル−３−（１−オキソデシル）−２−オキ
サゾリジノン（9.85ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチル（25.4
ml）を出発原料として同様の反応処理により目的化合物
（9.17ｇ）を得た。（融点５８〜５９℃） 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δppm):0.87(3H,
t,J=6.8 Hz),0.88(3H,d,J=6.6 Hz),0.93(3H,d,J=6.6 H
z),1.13-1.37(12H,complex),1.41(9H,s),1.53-1.70(2H,
complex),2.38(1H,d.hep,J=3.3 and 6.6 Hz),2.43(1H,d
d,J=16.6 and 4.7Hz),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.6 H
z),4.08-4.30(3H,complex),4.44(1H,dt,J=7.3 and 3.3H
z) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2925(m),176
4(s),1730(s),1702(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=398.2910(C22H40NO5) 計算値：398.2907 比旋光度［α］D 26 =+46.6°(C=1.00,CHCl3) （参考例１６）２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）デカン
酸 参考例５の方法に従い参考例１５で得られた４−（Ｓ）
−イソプロピル−３−［２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカル
ボニルメチル−１−オキソデシル］−２−オキサゾリジ
ノン（9.08ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目
的化合物（6.14ｇ）を得た。
m):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),0.87(3H,d,J=6.6 Hz),0.92(3
H,d,J=6.6 Hz),1.17-1.43(12H,complex),1.59-1.73(2H,
complex),2.37(1H,d.hep,J=3.3 and 6.6 Hz),2.78-3.05
(2H,complex),4.20(1H,dd,J=9.2 and 3.3 Hz),4.26(1H,
dd,J=9.2 and 7.9 Hz),4.44(1H,d,t,J=7.9 and 3.3 Hz)
赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927(s),
1785(s),1703(s) 高分解能マススペクトル[M]+=283.2144(C16H29NO3) 計算値：283.2147 比旋光度［α］D 26 =+61.4°(C=1.00,CHCl3) （参考例１５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−［２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソデシル］−２−オ
キサゾリジノン 参考例４の方法に従い参考例１４で得られた４−（Ｓ）
−イソプロピル−３−（１−オキソデシル）−２−オキ
サゾリジノン（9.85ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチル（25.4
ml）を出発原料として同様の反応処理により目的化合物
（9.17ｇ）を得た。（融点５８〜５９℃） 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δppm):0.87(3H,
t,J=6.8 Hz),0.88(3H,d,J=6.6 Hz),0.93(3H,d,J=6.6 H
z),1.13-1.37(12H,complex),1.41(9H,s),1.53-1.70(2H,
complex),2.38(1H,d.hep,J=3.3 and 6.6 Hz),2.43(1H,d
d,J=16.6 and 4.7Hz),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.6 H
z),4.08-4.30(3H,complex),4.44(1H,dt,J=7.3 and 3.3H
z) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2925(m),176
4(s),1730(s),1702(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=398.2910(C22H40NO5) 計算値：398.2907 比旋光度［α］D 26 =+46.6°(C=1.00,CHCl3) （参考例１６）２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）デカン
酸 参考例５の方法に従い参考例１５で得られた４−（Ｓ）
−イソプロピル−３−［２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカル
ボニルメチル−１−オキソデシル］−２−オキサゾリジ
ノン（9.08ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目
的化合物（6.14ｇ）を得た。
【０１６４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.18-1.40(12H,complex),1.43
(9H,s),1.51(1H,m),1.67(1H,m),2.38(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.61(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.80(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2858(s),173
3(s),1709(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=287.2213(C16H31O4) 計算値：287.2223 比旋光度［α］D 26 =+14.2°(C=1.00,EtOH) （参考例１７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例６の方法に従い参考例１６で得られた２−（Ｒ）
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）デカン酸（4.64
ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目的化合物
（5.69ｇ）を得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.18-1.40(12H,complex),1.43
(9H,s),1.51(1H,m),1.67(1H,m),2.38(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.61(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.80(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2858(s),173
3(s),1709(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=287.2213(C16H31O4) 計算値：287.2223 比旋光度［α］D 26 =+14.2°(C=1.00,EtOH) （参考例１７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例６の方法に従い参考例１６で得られた２−（Ｒ）
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）デカン酸（4.64
ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目的化合物
（5.69ｇ）を得た。
【０１６５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.34(12H,complex),1.41
(9H,s),1.50(1H,m),1.61(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.2 and
5.3Hz),2.64(1H,dd,J=16.2 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),
5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.28-7.4
4(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2956(m),173
3(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=377.2658(C23H37O4) 計算値：377.2692 比旋光度［α］D 26=+1.1°(C=1.00,CHCl3) （参考例１８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸 参考例７の方法に従い参考例１７で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸ｔ−ブチルエ
ステル（5.62ｇ）を出発原料として同様の反応処理によ
り目的化合物（4.07ｇ）を得た。
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.34(12H,complex),1.41
(9H,s),1.50(1H,m),1.61(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.2 and
5.3Hz),2.64(1H,dd,J=16.2 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),
5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.28-7.4
4(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2956(m),173
3(s) 高分解能マススペクトル[M+H]+=377.2658(C23H37O4) 計算値：377.2692 比旋光度［α］D 26=+1.1°(C=1.00,CHCl3) （参考例１８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸 参考例７の方法に従い参考例１７で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸ｔ−ブチルエ
ステル（5.62ｇ）を出発原料として同様の反応処理によ
り目的化合物（4.07ｇ）を得た。
【０１６６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.38(12H,complex),1.44
-1.73(2H,complex),2.49(1H,dd,J=16.2 and 4.3 Hz),2.
79(1H,dd,J= 16.2 and 9.6 Hz),2.87(1H,m),5.12(1H,d,
J=13.2 Hz),5.17(1H,d,J=13.2 Hz),7.13-7.43(5H,compl
ex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927(s),173
7(s),1713(s) 高分解能マススペクトル [M]+=320.1989(C19H28O4) 計算値：320.1987 比旋光度[ α ]D 26= +3.3 °(C=1.00,EtOH) （参考例１９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸
２，２，２−トリクロロエチルエステル 参考例８の方法に従い参考例１８で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸（3.65ｇ）を
出発原料として同様の反応処理により目的化合物（3.18
ｇ）を得た。
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.38(12H,complex),1.44
-1.73(2H,complex),2.49(1H,dd,J=16.2 and 4.3 Hz),2.
79(1H,dd,J= 16.2 and 9.6 Hz),2.87(1H,m),5.12(1H,d,
J=13.2 Hz),5.17(1H,d,J=13.2 Hz),7.13-7.43(5H,compl
ex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927(s),173
7(s),1713(s) 高分解能マススペクトル [M]+=320.1989(C19H28O4) 計算値：320.1987 比旋光度[ α ]D 26= +3.3 °(C=1.00,EtOH) （参考例１９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸
２，２，２−トリクロロエチルエステル 参考例８の方法に従い参考例１８で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸（3.65ｇ）を
出発原料として同様の反応処理により目的化合物（3.18
ｇ）を得た。
【０１６７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.14-1.38(12H,complex),1.48
-1.79(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.2 and 4.0 Hz),2.
90(1H,dd,J=15.2 and 9.2 Hz),2.96(1H,m),4.65(1H,d,J
=12.9 Hz),4.73(1H,d,J=12.9Hz),5.10(1H,d,J=12.2 H
z),5.18(1H,d,J=12.2 Hz),7.28-7.43(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1):2927(s),1737(s),17
13(s) 高分解能マススペクトル [M]+=452.1099(C21H29O4 35Cl2
37Cl) 計算値：452.1102 比旋光度[ α ]D 26 =-0.44° (C:5.00,CHCl3) （参考例２０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルデカン酸 参考例９の方法に従い参考例１９で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸２，２，２−
トリクロロエチルエステル（3.08ｇ）を出発原料として
同様の反応処理により目的化合物（1.87ｇ）を得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.14-1.38(12H,complex),1.48
-1.79(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.2 and 4.0 Hz),2.
90(1H,dd,J=15.2 and 9.2 Hz),2.96(1H,m),4.65(1H,d,J
=12.9 Hz),4.73(1H,d,J=12.9Hz),5.10(1H,d,J=12.2 H
z),5.18(1H,d,J=12.2 Hz),7.28-7.43(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(film,cm-1):2927(s),1737(s),17
13(s) 高分解能マススペクトル [M]+=452.1099(C21H29O4 35Cl2
37Cl) 計算値：452.1102 比旋光度[ α ]D 26 =-0.44° (C:5.00,CHCl3) （参考例２０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルデカン酸 参考例９の方法に従い参考例１９で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸２，２，２−
トリクロロエチルエステル（3.08ｇ）を出発原料として
同様の反応処理により目的化合物（1.87ｇ）を得た。
【０１６８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.17-1.46(12H,complex),1.51
-1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 3.0 Hz),2.
81-3.10(2H,complex),4.72(1H,d,J=12.2 Hz),4.79(1H,
d,J=12.2 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2928(s),175
9(s),1710(s) 高分解能マススペクトル [M+H]+=361.0736(C14H24O4 35C
l3) 計算値：361.0740 比旋光度[ α ]D 26 =+11.5° (C=1.00,EtOH) （参考例２１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例１０の方法に従い参考例２０で得られた２−
（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル）メチルデカン酸（５８３ｍｇ）と（Ｓ）−Ｎ1 −ベ
ンジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル（４９０mg）を出発原料として同様の反応処理により
目的化合物（７０４mg）を得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.17-1.46(12H,complex),1.51
-1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 3.0 Hz),2.
81-3.10(2H,complex),4.72(1H,d,J=12.2 Hz),4.79(1H,
d,J=12.2 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2928(s),175
9(s),1710(s) 高分解能マススペクトル [M+H]+=361.0736(C14H24O4 35C
l3) 計算値：361.0740 比旋光度[ α ]D 26 =+11.5° (C=1.00,EtOH) （参考例２１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例１０の方法に従い参考例２０で得られた２−
（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル）メチルデカン酸（５８３ｍｇ）と（Ｓ）−Ｎ1 −ベ
ンジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル（４９０mg）を出発原料として同様の反応処理により
目的化合物（７０４mg）を得た。
【０１６９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.93-2.14(18H,complex),1.43
(9H,s),2.60(1H,dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.95(1H,dd,J=
17.5 and 10.9 Hz),3.14(1H,m),3.42(1H,br.t,J=11.3
Hz),4.27(1H,br.d,J=12.5 Hz),4.61(1H,d,J=12.2 Hz),
4.78(1H,d,J=12.2 Hz),5.14(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,
d,J=11.9 Hz),5.27(1H,t,J=4.3 Hz),7.23-7.40(5H,comp
lex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2929(m),174
0(s),1677(s) 高分解能マススペクトル [M+2H]+=664.2264(C31H45O7 35
Cl3) 計算値：664.2263 比旋光度[ α ]D 26 =-6.8 ° (C=1.00,CHCl3) （参考例２２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１１の方法に従い参考例２１で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［１−オキソ−２−
（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル）メチルデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチル
エステル（６４５mg）を出発原料として同様の反応処理
により目的化合物（４５５mg）を得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.93-2.14(18H,complex),1.43
(9H,s),2.60(1H,dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.95(1H,dd,J=
17.5 and 10.9 Hz),3.14(1H,m),3.42(1H,br.t,J=11.3
Hz),4.27(1H,br.d,J=12.5 Hz),4.61(1H,d,J=12.2 Hz),
4.78(1H,d,J=12.2 Hz),5.14(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,
d,J=11.9 Hz),5.27(1H,t,J=4.3 Hz),7.23-7.40(5H,comp
lex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2929(m),174
0(s),1677(s) 高分解能マススペクトル [M+2H]+=664.2264(C31H45O7 35
Cl3) 計算値：664.2263 比旋光度[ α ]D 26 =-6.8 ° (C=1.00,CHCl3) （参考例２２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１１の方法に従い参考例２１で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［１−オキソ−２−
（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル）メチルデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチル
エステル（６４５mg）を出発原料として同様の反応処理
により目的化合物（４５５mg）を得た。
【０１７０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.93-2.11(18H,complex),1.43
(9H,s),2.49(1H,dd,J=17.2 and 3.3 Hz),2.82(1H,dd,J=
17.2and 11.2 Hz),3.09(1H,m),3.32(1H,dd,J=14.2 and
10.7 Hz),4.25(1H,br.d,J=8.5 Hz),5.13(1H,d,J=12.5 H
z),5.20(1H,d,J=12.5 Hz),5.27(1H,d,J=4.3 Hz),7.20-
7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3189(w),292
9(m),1736(s),1678(s) 高分解能マススペクトル [M+H]+=533.3249(C29H45N2O7) 計算値：533.3227 比旋光度[ α ]D 26 =-21.3° （Ｃ＝１．００，ＥｔＯ
Ｈ） （参考例２３）Ｎ１ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−
（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−
１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチル
エステル 参考例１２の方法に従い参考例２２で得られた Ｎ1 −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−カル
ボキシメチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４３７mg）を出発原料として
同様の反応処理により目的化合物（４９０mg）を得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.93-2.11(18H,complex),1.43
(9H,s),2.49(1H,dd,J=17.2 and 3.3 Hz),2.82(1H,dd,J=
17.2and 11.2 Hz),3.09(1H,m),3.32(1H,dd,J=14.2 and
10.7 Hz),4.25(1H,br.d,J=8.5 Hz),5.13(1H,d,J=12.5 H
z),5.20(1H,d,J=12.5 Hz),5.27(1H,d,J=4.3 Hz),7.20-
7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3189(w),292
9(m),1736(s),1678(s) 高分解能マススペクトル [M+H]+=533.3249(C29H45N2O7) 計算値：533.3227 比旋光度[ α ]D 26 =-21.3° （Ｃ＝１．００，ＥｔＯ
Ｈ） （参考例２３）Ｎ１ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−
（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−
１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチル
エステル 参考例１２の方法に従い参考例２２で得られた Ｎ1 −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−カル
ボキシメチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４３７mg）を出発原料として
同様の反応処理により目的化合物（４９０mg）を得た。
【０１７１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.52(18H,complex),1.43
(9H,s),2.10-2.46(2H,complex),3.20(1H,m),3.41(1H,
m),4.24(1H,m),4.82(1H,d,J=11.6 Hz),4.89(1H,d,J=11.
6 Hz),5.12(1H,d,J=12.5 Hz),5.20(1H,d,J=12.5 Hz),5.
27(1H,t,J=2.4 Hz),7.22-7.48(10H,complex),8.12(1H,
m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3255(w),292
8(s),1733(s),1675(s) 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]+=581.3104(C32H43N
3O7) 計算値：581.3101 比旋光度[ α ]D 26 =-34.30 °(C=1.00,CHCl3) （参考例２４）N1−ベンジルオキシカルボニル−N2−［２−（Ｒ）−
（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例１３の方法に従い参考例２３で得られたN1−ベン
ジルオキシカルボニル−N2−［２−（Ｒ）−（ベンジル
オキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシル］
−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（４３３m
g）を出発原料として同様の反応処理により目的化合物
（３７９mg）を得た。
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.52(18H,complex),1.43
(9H,s),2.10-2.46(2H,complex),3.20(1H,m),3.41(1H,
m),4.24(1H,m),4.82(1H,d,J=11.6 Hz),4.89(1H,d,J=11.
6 Hz),5.12(1H,d,J=12.5 Hz),5.20(1H,d,J=12.5 Hz),5.
27(1H,t,J=2.4 Hz),7.22-7.48(10H,complex),8.12(1H,
m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3255(w),292
8(s),1733(s),1675(s) 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]+=581.3104(C32H43N
3O7) 計算値：581.3101 比旋光度[ α ]D 26 =-34.30 °(C=1.00,CHCl3) （参考例２４）N1−ベンジルオキシカルボニル−N2−［２−（Ｒ）−
（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例１３の方法に従い参考例２３で得られたN1−ベン
ジルオキシカルボニル−N2−［２−（Ｒ）−（ベンジル
オキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシル］
−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（４３３m
g）を出発原料として同様の反応処理により目的化合物
（３７９mg）を得た。
【０１７２】核磁気共鳴スペクトル（２７０MHz ，CDCl
3 ）δ：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.59(20H,comple
x),2.51-3.18(2H,complex),4.10(1H,br.d,J=12.5 Hz),
4.83(1H,t,J=4.5 Hz),4.93(1H,d,J=11.2 Hz),5.00(1H,
d,J=11.2 Hz),5.01(1H,d,J=11.9 Hz),5.18(1H,d,J=11.9
Hz),7.14(1H,br.s),7.20-7.51(10H,complex),12.3(1H,
br.s) 赤外線吸収スペクトル FT film (cm-1)：３２２８(w)
，２９２７(s) ，１７０５(s) ，１６７２(s) ，１６
０４(s) 比旋光度 ［α]D 26＝−２９．０°（ｃ＝１．００，Et
OH） （参考例２５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソオクチ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
06ｇ）とオクタノイルクロライド（6.67ｇ）より参考例
３と同様の反応処理により目的化合物（9.39ｇ）を無色
油状物として得た。
3 ）δ：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.59(20H,comple
x),2.51-3.18(2H,complex),4.10(1H,br.d,J=12.5 Hz),
4.83(1H,t,J=4.5 Hz),4.93(1H,d,J=11.2 Hz),5.00(1H,
d,J=11.2 Hz),5.01(1H,d,J=11.9 Hz),5.18(1H,d,J=11.9
Hz),7.14(1H,br.s),7.20-7.51(10H,complex),12.3(1H,
br.s) 赤外線吸収スペクトル FT film (cm-1)：３２２８(w)
，２９２７(s) ，１７０５(s) ，１６７２(s) ，１６
０４(s) 比旋光度 ［α]D 26＝−２９．０°（ｃ＝１．００，Et
OH） （参考例２５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソオクチ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
06ｇ）とオクタノイルクロライド（6.67ｇ）より参考例
３と同様の反応処理により目的化合物（9.39ｇ）を無色
油状物として得た。
【０１７３】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,d,J=6.6 Hz),0.88(3H,t,0.87ppm 及び0.
92ppm とoverlapped),0.92(3H,d,J=6.6 Hz),1.09-1.42
(8H,complex),1.50-1.73(2H,complex),2.38(1H,m),2.70
-3.06(2H,complex),4.20(H,dd,J=9.2 and 3.3 Hz),4.26
(1H,t,J=9.2 Hz),4.44(1H,dt,J=9.2 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2929(m),17
84(s),1702(s) マススペクトル [M]+ =255 高分解能マススペクトル [M]+ =255.1832(C14H25O3N) 計算値：255.1835 比旋光度〔α〕D 26=+74.9°（C=1.0,CHCl3) （参考例２６）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソオクチル）−２−
オキサゾリジノン 参考例２５で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソオクチル）−２−オキサゾリジノン（5.51
ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（１７ml）より参
考例４と同様の反応処理により目的化合物（4.13ｇ）を
得た。
ppm):0.87(3H,d,J=6.6 Hz),0.88(3H,t,0.87ppm 及び0.
92ppm とoverlapped),0.92(3H,d,J=6.6 Hz),1.09-1.42
(8H,complex),1.50-1.73(2H,complex),2.38(1H,m),2.70
-3.06(2H,complex),4.20(H,dd,J=9.2 and 3.3 Hz),4.26
(1H,t,J=9.2 Hz),4.44(1H,dt,J=9.2 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2929(m),17
84(s),1702(s) マススペクトル [M]+ =255 高分解能マススペクトル [M]+ =255.1832(C14H25O3N) 計算値：255.1835 比旋光度〔α〕D 26=+74.9°（C=1.0,CHCl3) （参考例２６）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソオクチル）−２−
オキサゾリジノン 参考例２５で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソオクチル）−２−オキサゾリジノン（5.51
ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（１７ml）より参
考例４と同様の反応処理により目的化合物（4.13ｇ）を
得た。
【０１７４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,t,J=7.3 Hz),0.91(3H,d,J=6.3 Hz),0.93
(3H,d,J=6.3 Hz),1.15-1.50(9H,complex),1.41(9H,s),
1.62(1H,m),2.36(1H,m),2.42(1H,dd,J=16.6 and 4.4 H
z),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 Hz),4.08-4.30(3H,com
plex),4.43(1H,dt,J=7.6 and 3.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,KBr pellet):2931
(m),1764(s),1730(s),1703(s) マススペクトル [M+H]+ =370 高分解能マススペクトル [M+H]+ =370.2587(C20H36NO5) 計算値：370.2593 m.p.50-51 ℃ H2O-MeOH 比旋光度〔α〕D 26=+51.9°(C=1.0,CHCl3) （参考例２７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例２６で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソオクチル）−２−オキサゾリジノン（3.98ｇ）のテ
トラヒドロフラン溶液を０℃に冷却し、これにテトラヒ
ドロフラン（３０ml) 、ベンジルアルコール(2.4ml) 、
ｎ−ブチルリチウム（1.66Ｍヘキサン溶液9.8ml ) より
水冷下調整したリチウムベンジルオキシド溶液（４２m
l）を加え、０℃で４０分間撹拌した。反応液を５％硫
酸水素カリウム水溶液に注ぎ酢酸エチルで抽出し、有機
層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去した後シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１で溶
出）することにより目的化合物（3.86ｇ）を無色油状物
質として得た。
ppm):0.87(3H,t,J=7.3 Hz),0.91(3H,d,J=6.3 Hz),0.93
(3H,d,J=6.3 Hz),1.15-1.50(9H,complex),1.41(9H,s),
1.62(1H,m),2.36(1H,m),2.42(1H,dd,J=16.6 and 4.4 H
z),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 Hz),4.08-4.30(3H,com
plex),4.43(1H,dt,J=7.6 and 3.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,KBr pellet):2931
(m),1764(s),1730(s),1703(s) マススペクトル [M+H]+ =370 高分解能マススペクトル [M+H]+ =370.2587(C20H36NO5) 計算値：370.2593 m.p.50-51 ℃ H2O-MeOH 比旋光度〔α〕D 26=+51.9°(C=1.0,CHCl3) （参考例２７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例２６で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソオクチル）−２−オキサゾリジノン（3.98ｇ）のテ
トラヒドロフラン溶液を０℃に冷却し、これにテトラヒ
ドロフラン（３０ml) 、ベンジルアルコール(2.4ml) 、
ｎ−ブチルリチウム（1.66Ｍヘキサン溶液9.8ml ) より
水冷下調整したリチウムベンジルオキシド溶液（４２m
l）を加え、０℃で４０分間撹拌した。反応液を５％硫
酸水素カリウム水溶液に注ぎ酢酸エチルで抽出し、有機
層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去した後シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１で溶
出）することにより目的化合物（3.86ｇ）を無色油状物
質として得た。
【０１７５】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.72(10H,complex),
1.41(9H,s),2.36(1H,dd,J=16.2 and 5.3 Hz),2.64(1H,d
d,J=16.2 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),5.09(1H,d,J=12.5 H
z),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.26-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2931(m),17
32(s) マススペクトル ［Ｍ＋Ｈ−ｔＢｕ］＋ ＝２９２ 高分解能マススペクトル ［Ｍ＋Ｈ−ｔＢｕ］＋ ＝２
９２．１６７７（Ｃ１７Ｈ２４Ｏ４） 計算値：292.1675 比旋光度〔α〕D 26=+0.38°(C=6.9,CHCl3) （参考例２８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸 参考例２７で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸ｔ−ブチルエステル（3.86ｇ）を参考例
７と同様に反応処理し、目的化合物（2.73ｇ）を得た。
ppm):0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.72(10H,complex),
1.41(9H,s),2.36(1H,dd,J=16.2 and 5.3 Hz),2.64(1H,d
d,J=16.2 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),5.09(1H,d,J=12.5 H
z),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.26-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2931(m),17
32(s) マススペクトル ［Ｍ＋Ｈ−ｔＢｕ］＋ ＝２９２ 高分解能マススペクトル ［Ｍ＋Ｈ−ｔＢｕ］＋ ＝２
９２．１６７７（Ｃ１７Ｈ２４Ｏ４） 計算値：292.1675 比旋光度〔α〕D 26=+0.38°(C=6.9,CHCl3) （参考例２８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸 参考例２７で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸ｔ−ブチルエステル（3.86ｇ）を参考例
７と同様に反応処理し、目的化合物（2.73ｇ）を得た。
【０１７６】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.09-1.37(8H,complex),1.
41-1.78(2H,complex),2.49(1H,dd,J=16.3 and 4.4Hz),
2.79(1H,dd,J=16.3 and 9.3 Hz),2.88(1H,m),5.12(1H,
d,J=12.2 Hz),5.17(1H,d,J=12.2 Hz),7.23-7.42(5H,com
plex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2930(m),17
36(s),1712(s) マススペクトル [M]+ =292 高分解能マススペクトル [M]+ =292.1679(C17H24O4) 計算値：292.1675 比旋光度〔α〕D 26=+2.0 °(C=2.0,EtOH) （参考例２９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 参考例２８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸（2.7ｇ）とトリクロロエタノール（1.7
ml)より参考例８と同様に反応処理し、目的化合物（3.1
7ｇ）を得た。
ppm):0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.09-1.37(8H,complex),1.
41-1.78(2H,complex),2.49(1H,dd,J=16.3 and 4.4Hz),
2.79(1H,dd,J=16.3 and 9.3 Hz),2.88(1H,m),5.12(1H,
d,J=12.2 Hz),5.17(1H,d,J=12.2 Hz),7.23-7.42(5H,com
plex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2930(m),17
36(s),1712(s) マススペクトル [M]+ =292 高分解能マススペクトル [M]+ =292.1679(C17H24O4) 計算値：292.1675 比旋光度〔α〕D 26=+2.0 °(C=2.0,EtOH) （参考例２９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 参考例２８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸（2.7ｇ）とトリクロロエタノール（1.7
ml)より参考例８と同様に反応処理し、目的化合物（3.1
7ｇ）を得た。
【０１７７】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ｐｐｍ）：０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８ Ｈ
ｚ），１．１１−１．３７（８Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），
１．４８−１．７８（２Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），２．６
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９ ａｎｄ ３．７ Ｈ
ｚ），２．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９ ａｎｄ
９．０ Ｈｚ），２．９６（１Ｈ，ｍ），４．６５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０ Ｈｚ），４．７２（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１２．０ Ｈｚ），５．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
２．４ Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４
Ｈｚ），７．２５−７．４２（５Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ） 赤外線吸収スペクトル（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ，ｃｍ
−１）：２９３０（ｍ），１７５８（ｓ），１７３６
（ｓ） マススペクトル [M]+ =422 高分解能マススペクトル [M]+ =422.0826(C19H25O4(35C
l)3) 計算値：422.0819 比旋光度〔α〕D 26=-0.99°(C=5.9,EtoH) （参考例３０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルオクタン酸 参考例２９で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（3.12ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的化合物
（2.39ｇ）を得た。
ｐｐｍ）：０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８ Ｈ
ｚ），１．１１−１．３７（８Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），
１．４８−１．７８（２Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），２．６
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９ ａｎｄ ３．７ Ｈ
ｚ），２．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９ ａｎｄ
９．０ Ｈｚ），２．９６（１Ｈ，ｍ），４．６５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０ Ｈｚ），４．７２（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１２．０ Ｈｚ），５．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
２．４ Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４
Ｈｚ），７．２５−７．４２（５Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ） 赤外線吸収スペクトル（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ，ｃｍ
−１）：２９３０（ｍ），１７５８（ｓ），１７３６
（ｓ） マススペクトル [M]+ =422 高分解能マススペクトル [M]+ =422.0826(C19H25O4(35C
l)3) 計算値：422.0819 比旋光度〔α〕D 26=-0.99°(C=5.9,EtoH) （参考例３０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルオクタン酸 参考例２９で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（3.12ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的化合物
（2.39ｇ）を得た。
【０１７８】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),1.18-1.45(8H,complex),1.
49-1.81(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 2.9 Hz),
2.88(1H,dd,J=15.1 and 9.3 Hz),2.94(1H,m),4.72(1H,
d,J=12.2 Hz),4.79(1H,d,J=12.2 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2930(m),17
59(s),1710(s) マススペクトル [M+H]+ =333 高分解能マススペクトル [M+H]+ =333.0453 (C12H20O
4(35Cl)3) 計算値：333.0428 比旋光度〔α〕D 26=+11.7°(C=4.0,EtOH) （参考例３１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例３０で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルオクタン酸（４６４
mg）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ1−ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステルを
参考例１０に示した方法に従い反応処理し、目的化合物
（７７２mg) を得た。
ppm):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),1.18-1.45(8H,complex),1.
49-1.81(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 2.9 Hz),
2.88(1H,dd,J=15.1 and 9.3 Hz),2.94(1H,m),4.72(1H,
d,J=12.2 Hz),4.79(1H,d,J=12.2 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2930(m),17
59(s),1710(s) マススペクトル [M+H]+ =333 高分解能マススペクトル [M+H]+ =333.0453 (C12H20O
4(35Cl)3) 計算値：333.0428 比旋光度〔α〕D 26=+11.7°(C=4.0,EtOH) （参考例３１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例３０で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルオクタン酸（４６４
mg）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ1−ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステルを
参考例１０に示した方法に従い反応処理し、目的化合物
（７７２mg) を得た。
【０１７９】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.84(3H,t,J=6.6 Hz),0.90-2.12(14H,complex),
1.43(9H,s),2.60(1H,dd,J=17.2 and 4.0 Hz),2.97(1H,d
d,J=17.2 and 9.2 Hz),3.13(1H,m),3.43(1H,m),4.28(1
H,m),4.61(1H,d,J=11.9 Hz),4.78(1H,d,J=11.9 Hz),5.1
3(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,dd,
J=4.6 and 4.0 Hz),7.24-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2931(m),17
36(s),1677(s), マススペクトル [M]+ =634 高分解能マススペクトル [M]+ =636.1935 (C29H41O7N
2(35Cl)2(37Cl)) 計算値：636.1950 比旋光度〔α〕D 26＝-6.9° (C=2.0,CHCl3) （参考例３２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソオクチル〕−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例３１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルオクチル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（７６５mg)
を参考例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合
物（４９５mg) を得た。
ppm):0.84(3H,t,J=6.6 Hz),0.90-2.12(14H,complex),
1.43(9H,s),2.60(1H,dd,J=17.2 and 4.0 Hz),2.97(1H,d
d,J=17.2 and 9.2 Hz),3.13(1H,m),3.43(1H,m),4.28(1
H,m),4.61(1H,d,J=11.9 Hz),4.78(1H,d,J=11.9 Hz),5.1
3(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,dd,
J=4.6 and 4.0 Hz),7.24-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2931(m),17
36(s),1677(s), マススペクトル [M]+ =634 高分解能マススペクトル [M]+ =636.1935 (C29H41O7N
2(35Cl)2(37Cl)) 計算値：636.1950 比旋光度〔α〕D 26＝-6.9° (C=2.0,CHCl3) （参考例３２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソオクチル〕−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例３１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルオクチル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（７６５mg)
を参考例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合
物（４９５mg) を得た。
【０１８０】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.83(3H,t,J=6.6 Hz),0.96-2.12(14H,complex),
1.43(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 3.6 Hz),2.82(1H,d
d,J=17.2 and 10.6 Hz),3.08(1H,m),3.12(1H,m),4.25(1
H,m),5.13(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,J=12.2 Hz),5.2
7(1H,dd,J=4.6 and 4.0 Hz),7.22-7.48(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3186(w),29
31(m),1736(s),1678(s) マススペクトル [M+H]+ =505 高分解能マススペクトル [M+H]+ =505.2913(C27H41O
7N2) 計算値：505.2914 比旋光度〔α〕D 26=-23.5°（Ｃ＝１．０，ＥｔＯＨ） （参考例３３）Ｎ１ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−
（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１
−オキソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチル
エステル 参考例３２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
オクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（４８５mg) とＯ−ベンジルヒドロキシルアミンを参考
例１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（５
７７ mg)を得た。
ppm):0.83(3H,t,J=6.6 Hz),0.96-2.12(14H,complex),
1.43(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 3.6 Hz),2.82(1H,d
d,J=17.2 and 10.6 Hz),3.08(1H,m),3.12(1H,m),4.25(1
H,m),5.13(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,J=12.2 Hz),5.2
7(1H,dd,J=4.6 and 4.0 Hz),7.22-7.48(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3186(w),29
31(m),1736(s),1678(s) マススペクトル [M+H]+ =505 高分解能マススペクトル [M+H]+ =505.2913(C27H41O
7N2) 計算値：505.2914 比旋光度〔α〕D 26=-23.5°（Ｃ＝１．０，ＥｔＯＨ） （参考例３３）Ｎ１ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−
（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１
−オキソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチル
エステル 参考例３２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
オクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（４８５mg) とＯ−ベンジルヒドロキシルアミンを参考
例１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（５
７７ mg)を得た。
【０１８１】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.83(3H,t,J=6.6 Hz),0.88-2.08(15H,complex),
1.42(9H,s),2.30(1H,m),3.20(1H,m),3.43(1H,m),4.24(1
H,m),4.82(1H,d,J=11.6 Hz),4.88(1H,d,J=11.6 Hz),5.1
3(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,J=12.2Hz),5.25(1H,br.
t,J=4.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3251(w),29
31(m),1735(s),1675(s) マススペクトル [M]+ =609 高分解能マススペクトル [M]+ =609.3395(C34H47O7N3) 計算値：609.3414 比旋光度〔α〕D 26＝-37.8 °(C=1.0,CHCl3) （参考例３４）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例３３で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（５６５mg) を参考例１３と同
様の反応処理により目的化合物（４５８mg) を得た。
ppm):0.83(3H,t,J=6.6 Hz),0.88-2.08(15H,complex),
1.42(9H,s),2.30(1H,m),3.20(1H,m),3.43(1H,m),4.24(1
H,m),4.82(1H,d,J=11.6 Hz),4.88(1H,d,J=11.6 Hz),5.1
3(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,J=12.2Hz),5.25(1H,br.
t,J=4.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3251(w),29
31(m),1735(s),1675(s) マススペクトル [M]+ =609 高分解能マススペクトル [M]+ =609.3395(C34H47O7N3) 計算値：609.3414 比旋光度〔α〕D 26＝-37.8 °(C=1.0,CHCl3) （参考例３４）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例３３で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（５６５mg) を参考例１３と同
様の反応処理により目的化合物（４５８mg) を得た。
【０１８２】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.62(16H,complex),
2.82-3.29(2H,complex),4.10(1H,m),4.71-5.40(5H,comp
lex),7.00-7.58(10H,complex),8.02(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3227(m),29
30(s),1718(s),1672(s),1608(s) マススペクトル[M-C6H5]+ =476 比旋光度〔α〕D 26＝-17.3 °(C=1.0,EtOH) （参考例３５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソノニル）
−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（4.
99ｇ）とノナノイルクロライド（7.16ｇ）より参考例３
と同様の反応処理により目的化合物（10.12 ｇ）を無色
油状物として得た。
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.62(16H,complex),
2.82-3.29(2H,complex),4.10(1H,m),4.71-5.40(5H,comp
lex),7.00-7.58(10H,complex),8.02(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3227(m),29
30(s),1718(s),1672(s),1608(s) マススペクトル[M-C6H5]+ =476 比旋光度〔α〕D 26＝-17.3 °(C=1.0,EtOH) （参考例３５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソノニル）
−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（4.
99ｇ）とノナノイルクロライド（7.16ｇ）より参考例３
と同様の反応処理により目的化合物（10.12 ｇ）を無色
油状物として得た。
【０１８３】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,d,J=7.3 Hz),0.88(3H,t,J=6.8 Hz),0.92
(3H,d,J=7.3 Hz),1.18-1.45(12H,complex),1.56-1.75(2
H,complex),2.38(1H,d,hep,J=3.3 and 7.3 Hz),2.78-3.
07(2H,complex),4.20(1H,dd,J=9.2 and 3.3Hz),4.26(1
H,t,J=9.2 Hz),4.44(1H,dt,J=7.9 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2928(m),17
85(s),1703(s), マススペクトル [M]+ =269 高分解能マススペクトル [M]+ =269.2001(C15H27O3N) 計算値：269.1991 比旋光度〔α〕D 26=+67.4°(C=1.0,CHCl3) （参考例３６）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソノニル）−２−オ
キサゾリジノン 参考例３５で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソノニル）−２−オキサゾリジノン（10.09
ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（３０ml）より参
考例４と同様の反応処理により目的化合物（12.62 ｇ）
を得た。
ppm):0.87(3H,d,J=7.3 Hz),0.88(3H,t,J=6.8 Hz),0.92
(3H,d,J=7.3 Hz),1.18-1.45(12H,complex),1.56-1.75(2
H,complex),2.38(1H,d,hep,J=3.3 and 7.3 Hz),2.78-3.
07(2H,complex),4.20(1H,dd,J=9.2 and 3.3Hz),4.26(1
H,t,J=9.2 Hz),4.44(1H,dt,J=7.9 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2928(m),17
85(s),1703(s), マススペクトル [M]+ =269 高分解能マススペクトル [M]+ =269.2001(C15H27O3N) 計算値：269.1991 比旋光度〔α〕D 26=+67.4°(C=1.0,CHCl3) （参考例３６）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソノニル）−２−オ
キサゾリジノン 参考例３５で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソノニル）−２−オキサゾリジノン（10.09
ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（３０ml）より参
考例４と同様の反応処理により目的化合物（12.62 ｇ）
を得た。
【０１８４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.9 Hz),0.91(3H,d,J=6.6 Hz),0.93
(3H,d,J=6.6 Hz),1.17-1.50(11H,complex),1.41(9H,s),
1.60(1H,m),2.37(1H,m),2.43(1H,dd,J=16.5 and 4.0 H
z),2.74(1H,dd,J=16.5 and 9.9 Hz),4.09-4.31(3H,comp
lex),4.43(1H,dt,J=7.9 and 4.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,kBr pellet):2925
(m),1763(s),1731(s),1704(s) マススペクトル [M+H]+ =384 高分解能マススペクトル [M+H]+ =384.2752(C21H38O5N) 計算値：384.2750 m.p. 49-51°(H2O-MeOH) 比旋光度〔α〕D 26＝+48.5 °(C=1.0,CHCl3) （参考例３７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例３６で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソノニル）−２−オキサゾリジノン（12.44ｇ）より
参考例６３と同様に反応処理し目的化合物（10.88 ｇ）
を得た。
ppm):0.87(3H,t,J=6.9 Hz),0.91(3H,d,J=6.6 Hz),0.93
(3H,d,J=6.6 Hz),1.17-1.50(11H,complex),1.41(9H,s),
1.60(1H,m),2.37(1H,m),2.43(1H,dd,J=16.5 and 4.0 H
z),2.74(1H,dd,J=16.5 and 9.9 Hz),4.09-4.31(3H,comp
lex),4.43(1H,dt,J=7.9 and 4.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,kBr pellet):2925
(m),1763(s),1731(s),1704(s) マススペクトル [M+H]+ =384 高分解能マススペクトル [M+H]+ =384.2752(C21H38O5N) 計算値：384.2750 m.p. 49-51°(H2O-MeOH) 比旋光度〔α〕D 26＝+48.5 °(C=1.0,CHCl3) （参考例３７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例３６で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソノニル）−２−オキサゾリジノン（12.44ｇ）より
参考例６３と同様に反応処理し目的化合物（10.88 ｇ）
を得た。
【０１８５】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.14-1.33(10H,complex),
1.40(9H,s),1.49(1H,m),1.62(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.5
and6.5 Hz),2.64(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.84(1H,
m),5.09(1H,d,J=12.2 Hz),5.17(1H,d,J=12.2 Hz),7.29-
7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2929(s),17
36(s), マススペクトル [M+H]+ =363 高分解能マススペクトル [M+H]+ =363.2525(C22H35O4) 計算値：363.2535 （参考例３８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸 参考例３７で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸ｔ−ブチルエステル（10.50 ｇ）を参考
例７と同様に反応処理し目的化合物（8.29ｇ）を得た。
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.14-1.33(10H,complex),
1.40(9H,s),1.49(1H,m),1.62(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.5
and6.5 Hz),2.64(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.84(1H,
m),5.09(1H,d,J=12.2 Hz),5.17(1H,d,J=12.2 Hz),7.29-
7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2929(s),17
36(s), マススペクトル [M+H]+ =363 高分解能マススペクトル [M+H]+ =363.2525(C22H35O4) 計算値：363.2535 （参考例３８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸 参考例３７で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸ｔ−ブチルエステル（10.50 ｇ）を参考
例７と同様に反応処理し目的化合物（8.29ｇ）を得た。
【０１８６】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.38(10H,complex),
1.42-1.77(2H,complex),2.48(1H,dd,J=16.2 and 4.6 H
z),2.79(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.88(1H,m),5.12(1
H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.25-7.42(5H,c
omplex) 比旋光度〔α〕D 26=+3.0 °(C=1.0,EtOH) （参考例３９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 参考例３８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸（8.26ｇ）とトリクロロエタノール（1
1.5ml）より参考例８と同様に反応処理し、目的化合物
（11.44 ｇ）を得た。
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.38(10H,complex),
1.42-1.77(2H,complex),2.48(1H,dd,J=16.2 and 4.6 H
z),2.79(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.88(1H,m),5.12(1
H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.25-7.42(5H,c
omplex) 比旋光度〔α〕D 26=+3.0 °(C=1.0,EtOH) （参考例３９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 参考例３８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸（8.26ｇ）とトリクロロエタノール（1
1.5ml）より参考例８と同様に反応処理し、目的化合物
（11.44 ｇ）を得た。
【０１８７】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.39(10H,complex),
1.46-1.82(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.2 and 4.0 H
z),2.89(1H,dd,J=15.2 and 9.2 Hz),2.96(1H,m),4.65(1
H,d,J=12.2 Hz),4.72(1H,d,J=12.2 Hz),5.10(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.18(1H,d,J=11.9 Hz),7.25-7.45(5H,complex) マススペクトル [M]+ =436 高分解能マススペクトル [M]+ =436.0992(C20H27O4(35C
l)3) 計算値：436.0974 比旋光度〔α〕D 26=-0.69°(C=4.1,CHCl3) （参考例４０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルノナン酸 参考例３９で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（11.39 ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的化合
物（7.66ｇ）を得た。
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.39(10H,complex),
1.46-1.82(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.2 and 4.0 H
z),2.89(1H,dd,J=15.2 and 9.2 Hz),2.96(1H,m),4.65(1
H,d,J=12.2 Hz),4.72(1H,d,J=12.2 Hz),5.10(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.18(1H,d,J=11.9 Hz),7.25-7.45(5H,complex) マススペクトル [M]+ =436 高分解能マススペクトル [M]+ =436.0992(C20H27O4(35C
l)3) 計算値：436.0974 比旋光度〔α〕D 26=-0.69°(C=4.1,CHCl3) （参考例４０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルノナン酸 参考例３９で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（11.39 ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的化合
物（7.66ｇ）を得た。
【０１８８】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),1.15-1.45(10H,complex),
1.50-1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 3.4 H
z),2.80-3.01(2H,complex),4.72(1H,d,J=11.7 Hz),4.79
(1H,d,J=11.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2929(s),17
59(s),1710(s) マススペクトル [M+H]+ =347 高分解能マススペクトル [M+H]+ =347.0604(C13H22O4(3
5Cl)3) 計算値：347.0584 比旋光度〔α〕D 26=+11.8°(C=1.0,EtOH) （参考例４１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例４０で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルノナン酸（３７６m
g）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ1 −ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（３４９mg）を参考例１０に示した方法に従い反応処理
し、目的化合物（５４２mg）を得た。
ppm):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),1.15-1.45(10H,complex),
1.50-1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 3.4 H
z),2.80-3.01(2H,complex),4.72(1H,d,J=11.7 Hz),4.79
(1H,d,J=11.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2929(s),17
59(s),1710(s) マススペクトル [M+H]+ =347 高分解能マススペクトル [M+H]+ =347.0604(C13H22O4(3
5Cl)3) 計算値：347.0584 比旋光度〔α〕D 26=+11.8°(C=1.0,EtOH) （参考例４１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例４０で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルノナン酸（３７６m
g）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ1 −ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（３４９mg）を参考例１０に示した方法に従い反応処理
し、目的化合物（５４２mg）を得た。
【０１８９】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.95-1.68(13H,complex),
1.43(9H,s),1.73-2.16(3H,complex),2.60(1H,dd,J=17.2
and3.6 Hz),2.94(1H,dd,J=17.2 and 10.6 Hz),3.12(1
H,m),3.43(1H,m),4.28(1H,m),4.61(1H,d,J=12.0 Hz),4.
77(1H,d,J=12.0 Hz),5.14(1H,d,J=12.5 Hz),5.21(1H,d,
J=12.5 Hz),5.27(1H,t,J=4.3 Hz),7.24-7.41(5H,comple
x) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2930(s),17
33(s),1678(s) マススペクトル [M]+ =648 高分解能マススペクトル [M]+ =648.2146(C30H43O7N2(3
5Cl)3) 計算値：648.2136 比旋光度〔α〕D 26=-7.3 °(C=1.0,CHCl3) （参考例４２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソノニル〕−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例４１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルノニル〕−（Ｓ）
−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（５４１mg）を参考
例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合物（３
０４ mg ）を得た。
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.95-1.68(13H,complex),
1.43(9H,s),1.73-2.16(3H,complex),2.60(1H,dd,J=17.2
and3.6 Hz),2.94(1H,dd,J=17.2 and 10.6 Hz),3.12(1
H,m),3.43(1H,m),4.28(1H,m),4.61(1H,d,J=12.0 Hz),4.
77(1H,d,J=12.0 Hz),5.14(1H,d,J=12.5 Hz),5.21(1H,d,
J=12.5 Hz),5.27(1H,t,J=4.3 Hz),7.24-7.41(5H,comple
x) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2930(s),17
33(s),1678(s) マススペクトル [M]+ =648 高分解能マススペクトル [M]+ =648.2146(C30H43O7N2(3
5Cl)3) 計算値：648.2136 比旋光度〔α〕D 26=-7.3 °(C=1.0,CHCl3) （参考例４２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソノニル〕−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例４１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルノニル〕−（Ｓ）
−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（５４１mg）を参考
例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合物（３
０４ mg ）を得た。
【０１９０】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.86(3H,t,J=7.0 Hz),0.91-2.11(16H,complex),
1.43(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 3.3 Hz),2.81(1H,d
d,J=17.2 and 10.6 Hz),3.06(1H,m),3.32(1H,br.t,J=1
1.2 Hz),4.24(1H,m),5.13(1H,d,J=11.9 Hz),5.20(1H,d,
J=11.9 Hz),5.27(1H,br.t,J=4.0 Hz),7.23-7.41(5H,com
plex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3184(m),29
29(s),1733(s),1640(s) マススペクトル [M+H]+ =519 高分解能マススペクトル [M+H]+ =519.3064(C28H43O
7N2) 計算値：519.3070 （参考例４３）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例４２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（３００mg）とＯ−ベンジルヒドロキシアミンを参考例
１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（３４
７ mg ）を得た。
ppm):0.86(3H,t,J=7.0 Hz),0.91-2.11(16H,complex),
1.43(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 3.3 Hz),2.81(1H,d
d,J=17.2 and 10.6 Hz),3.06(1H,m),3.32(1H,br.t,J=1
1.2 Hz),4.24(1H,m),5.13(1H,d,J=11.9 Hz),5.20(1H,d,
J=11.9 Hz),5.27(1H,br.t,J=4.0 Hz),7.23-7.41(5H,com
plex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3184(m),29
29(s),1733(s),1640(s) マススペクトル [M+H]+ =519 高分解能マススペクトル [M+H]+ =519.3064(C28H43O
7N2) 計算値：519.3070 （参考例４３）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例４２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（３００mg）とＯ−ベンジルヒドロキシアミンを参考例
１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（３４
７ mg ）を得た。
【０１９１】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.86(3H,t,J=7.1 Hz),0.90-2.08(16H,complex),
1.43(9H,s),2.10-2.50(2H,complex),3.20(1H,m),3.42(1
H,m),4.25(1H,m),4.82(1H,d,J=11.2 Hz),4.89(1H,d,J=1
1.2 Hz),5.13(1H,d,J=12.4 Hz),5.20(1H,d,J=12.4 Hz),
5.26(1H,dd,J=4.4 and 3.4 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3252(m),29
29(s),1735(s),1675(s)マススペクトル [M+H]+ =624 高分解能マススペクトル [M+H]+ =624.3658(C35H50O
7N3) 計算値：624.3648 比旋光度〔α〕D 26=-41.8°(C=1.0,CHCl3) （参考例４４）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例４３で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン
酸ｔ−ブチルエステル（３３９mg）を参考例１３と同様
の反応処理により目的化合物（２４９mg）を得た。
ppm):0.86(3H,t,J=7.1 Hz),0.90-2.08(16H,complex),
1.43(9H,s),2.10-2.50(2H,complex),3.20(1H,m),3.42(1
H,m),4.25(1H,m),4.82(1H,d,J=11.2 Hz),4.89(1H,d,J=1
1.2 Hz),5.13(1H,d,J=12.4 Hz),5.20(1H,d,J=12.4 Hz),
5.26(1H,dd,J=4.4 and 3.4 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3252(m),29
29(s),1735(s),1675(s)マススペクトル [M+H]+ =624 高分解能マススペクトル [M+H]+ =624.3658(C35H50O
7N3) 計算値：624.3648 比旋光度〔α〕D 26=-41.8°(C=1.0,CHCl3) （参考例４４）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例４３で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン
酸ｔ−ブチルエステル（３３９mg）を参考例１３と同様
の反応処理により目的化合物（２４９mg）を得た。
【０１９２】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.89(3H,t,J=6.7 Hz),0.92-2.07(16H,complex),
2.10-2.52(2H,complex),2.88-3.22(2H,complex),4.10(1
H,m),4.68-5.33(5H,complex),7.00-7.50(10H,complex),
12.30(1H,m), 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3220(m),29
28(s),1713(s),1672(s),1601(s) マススペクトル [M-NHOBn]+ =445 比旋光度〔α〕D 26=-23.1°(C=1.0,EtOH) （参考例４５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソドデシ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
39ｇ）とドデカノイルクロライド（9.46ｇ）より参考例
３と同様の反応処理により目的化合物（11.31ｇ）を無
色油状物として得た。
ppm):0.89(3H,t,J=6.7 Hz),0.92-2.07(16H,complex),
2.10-2.52(2H,complex),2.88-3.22(2H,complex),4.10(1
H,m),4.68-5.33(5H,complex),7.00-7.50(10H,complex),
12.30(1H,m), 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3220(m),29
28(s),1713(s),1672(s),1601(s) マススペクトル [M-NHOBn]+ =445 比旋光度〔α〕D 26=-23.1°(C=1.0,EtOH) （参考例４５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソドデシ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
39ｇ）とドデカノイルクロライド（9.46ｇ）より参考例
３と同様の反応処理により目的化合物（11.31ｇ）を無
色油状物として得た。
【０１９３】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.87(3H,d,J=6.9 Hz),0.88(3H,t, 0.87ppm及び0.
92ppm とoverlapped),0.92(3H,d,J=6.9 Hz),1.17-1.43
(16H,complex),1.53-1.78(2H,complex),2.38(1H,d,hep,
J=3.3 and 6.9 Hz),2.77-3.07(2H,complex),4.20(1H,d
d,J=8.6 and 3.3 Hz),4.26(1H,t,J=8.6 Hz),4.44(1H,d
t,J=8.6 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2925(s),17
85(s),1704(s) マススペクトル [M+H]+ =312 高分解能マススペクトル [M+H]+ =312.2532(C18H34O3N) 計算値：312.2539 比旋光度〔α〕D 26=+54.1°(C=1.0,CHCl3) （参考例４６）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソドデシル）−２−
オキサゾリジノン 参考例４５で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソドデシル）−２−オキサゾリジノン（11.2
7 ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（３０ml）より
参考例４と同様の反応処理により目的化合物（14.10
ｇ）を得た。
ppm):0.87(3H,d,J=6.9 Hz),0.88(3H,t, 0.87ppm及び0.
92ppm とoverlapped),0.92(3H,d,J=6.9 Hz),1.17-1.43
(16H,complex),1.53-1.78(2H,complex),2.38(1H,d,hep,
J=3.3 and 6.9 Hz),2.77-3.07(2H,complex),4.20(1H,d
d,J=8.6 and 3.3 Hz),4.26(1H,t,J=8.6 Hz),4.44(1H,d
t,J=8.6 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2925(s),17
85(s),1704(s) マススペクトル [M+H]+ =312 高分解能マススペクトル [M+H]+ =312.2532(C18H34O3N) 計算値：312.2539 比旋光度〔α〕D 26=+54.1°(C=1.0,CHCl3) （参考例４６）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソドデシル）−２−
オキサゾリジノン 参考例４５で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソドデシル）−２−オキサゾリジノン（11.2
7 ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（３０ml）より
参考例４と同様の反応処理により目的化合物（14.10
ｇ）を得た。
【０１９４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ
ppm):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.91(3H,d,J=6.6 Hz),0.93
(3H,d,J=6.6 Hz),1.11-1.51(17H,complex),1.41(9H,s),
1.61(1H,m),2.37(1H,m),2.42(1H,dd,J=16.6 and 4.4 H
z),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 Hz),4.09-4.30(3H,com
plex),4.43(1H,dt,J=7.8 and 3.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid kBr pellet cm -1):2922
(s),1764(s),1730(s),1700(s) マススペクトル [M+H-tBu]+ =369 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]+ =369.2505(C20H35
O5N) 計算値：369.2515 m.p 42-43 °(H2O-MeOH) 比旋光度〔α〕D 26=+45.0°(C=1.0,CHCl3) （参考例４７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例４６で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソドデシル）−２−オキサゾリジノン（13.67 ｇ）よ
り参考例２７と同様に反応処理し目的化合物（11.92
ｇ）を得た。
ppm):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.91(3H,d,J=6.6 Hz),0.93
(3H,d,J=6.6 Hz),1.11-1.51(17H,complex),1.41(9H,s),
1.61(1H,m),2.37(1H,m),2.42(1H,dd,J=16.6 and 4.4 H
z),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 Hz),4.09-4.30(3H,com
plex),4.43(1H,dt,J=7.8 and 3.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid kBr pellet cm -1):2922
(s),1764(s),1730(s),1700(s) マススペクトル [M+H-tBu]+ =369 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]+ =369.2505(C20H35
O5N) 計算値：369.2515 m.p 42-43 °(H2O-MeOH) 比旋光度〔α〕D 26=+45.0°(C=1.0,CHCl3) （参考例４７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例４６で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソドデシル）−２−オキサゾリジノン（13.67 ｇ）よ
り参考例２７と同様に反応処理し目的化合物（11.92
ｇ）を得た。
【０１９５】C25H40O4(FW=404) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),1.15-1.71(18H,complex),1.40(9H,s),2.
36(1H,dd,J=16.2 and 5.3 Hz),2.64(1H,dd,J=16.2 and
9.2 Hz),2.83(1H,m),5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,
J=12.5 Hz),7.27-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2927(s),17
34(s) マススペクトル [M+H-tBu]+ =348 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]+ =348.2318(C21H32
O4) 計算値：348.2301 比旋光度〔α〕D 26=+0.76°(C=5.0,CHCl3) （参考例４８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸 参考例４７で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸ｔ−ブチルエステル（11.62 ｇ）を
参考例７と同様に反応処理し目的化合物（9.41ｇ）を得
た。
H,t,J=6.6 Hz),1.15-1.71(18H,complex),1.40(9H,s),2.
36(1H,dd,J=16.2 and 5.3 Hz),2.64(1H,dd,J=16.2 and
9.2 Hz),2.83(1H,m),5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,
J=12.5 Hz),7.27-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2927(s),17
34(s) マススペクトル [M+H-tBu]+ =348 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]+ =348.2318(C21H32
O4) 計算値：348.2301 比旋光度〔α〕D 26=+0.76°(C=5.0,CHCl3) （参考例４８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸 参考例４７で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸ｔ−ブチルエステル（11.62 ｇ）を
参考例７と同様に反応処理し目的化合物（9.41ｇ）を得
た。
【０１９６】C21H32O4(FW=348) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),1.12-1.35(16H,complex),1.40-1.75(2H,
complex),2.49(1H,dd,J=16.1 and 4.4 Hz),2.79(1H,dd,
J=16.1 and 9.3 Hz),2.88(1H,m),5.12(1H,d,J=12.7 H
z),5.17(1H,d,J=12.7 Hz),7.25-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2926(s),17
37(s),1713(s) マススペクトル [M]+ =348 高分解能マススペクトル [M]+ =348.2308(C21H32O4) 計算値：348.2300 比旋光度〔α〕D 26=+2.8 °(C=1.0,EtOH) （参考例４９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸
２，２，２−トリクロロエチルエステル 参考例４８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸（9.35ｇ）とトリクロロエタノール
（11.0ml）より参考例８と同様に反応処理し、目的化合
物（10.86 ｇ）を得た。
H,t,J=6.6 Hz),1.12-1.35(16H,complex),1.40-1.75(2H,
complex),2.49(1H,dd,J=16.1 and 4.4 Hz),2.79(1H,dd,
J=16.1 and 9.3 Hz),2.88(1H,m),5.12(1H,d,J=12.7 H
z),5.17(1H,d,J=12.7 Hz),7.25-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2926(s),17
37(s),1713(s) マススペクトル [M]+ =348 高分解能マススペクトル [M]+ =348.2308(C21H32O4) 計算値：348.2300 比旋光度〔α〕D 26=+2.8 °(C=1.0,EtOH) （参考例４９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸
２，２，２−トリクロロエチルエステル 参考例４８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸（9.35ｇ）とトリクロロエタノール
（11.0ml）より参考例８と同様に反応処理し、目的化合
物（10.86 ｇ）を得た。
【０１９７】C23H33O4Cl3(FW=478,Cl=35) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),1.13-1.39(16H,complex),1.48-1.79(2H,
complex),2.60(1H,dd,J=15.1 and 3.4 Hz),2.81-3.02(2
H,complex),4.65(1H,d,J=12.0 Hz),4.72(1H,d,J=12.0 H
z),5.10(1H,d,J=12.4 Hz),5.18(1H,d,J=12.4 Hz),7.28-
7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2926(s),17
59(s),1737(s) マススペクトル [M]+ =478 高分解能マススペクトル [M]+ =478.1428(C23H33O4(35C
l)3) 計算値：478.1445 比旋光度〔α〕D 26=-0.57°(C=3.0,CHCl3) （参考例５０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル) メチルドデカン酸 参考例２９で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸２，２，２−トリクロロエチルエス
テル（10.78 ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的
化合物（7.01ｇ）を得た。
H,t,J=6.6 Hz),1.13-1.39(16H,complex),1.48-1.79(2H,
complex),2.60(1H,dd,J=15.1 and 3.4 Hz),2.81-3.02(2
H,complex),4.65(1H,d,J=12.0 Hz),4.72(1H,d,J=12.0 H
z),5.10(1H,d,J=12.4 Hz),5.18(1H,d,J=12.4 Hz),7.28-
7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2926(s),17
59(s),1737(s) マススペクトル [M]+ =478 高分解能マススペクトル [M]+ =478.1428(C23H33O4(35C
l)3) 計算値：478.1445 比旋光度〔α〕D 26=-0.57°(C=3.0,CHCl3) （参考例５０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル) メチルドデカン酸 参考例２９で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸２，２，２−トリクロロエチルエス
テル（10.78 ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的
化合物（7.01ｇ）を得た。
【０１９８】C16H27O4Cl3(FW=388,Cl=35) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.5 Hz),1.15-1.45(16H,complex),1.50-1.82(2H,
complex),2.61(1H,dd,J=15.2 and 3.2 Hz),2.80-3.01(2
H,complex),4.72(1H,d,J=11.9 Hz),4.79(1H,d,J=11.9 H
z) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2927(s),17
59(s),1710(s) マススペクトル ［Ｍ＋Ｈ］＋ ＝３８９ 高分解能マススペクトル ［Ｍ＋Ｈ］＋ ＝３８９．１
０３６（Ｃ１６Ｈ２８Ｏ４（３５Ｃｌ）３） 計算値：389.1053 比旋光度〔α〕D 26=+11.7°(C=1.0,EtOH) （参考例５１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例３０で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルドデカン酸（３２９
mg）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ1−ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（２５８mg）を参考例１０に示した方法に従い反応処理
し、目的化合物（４９２mg）を得た。
H,t,J=6.5 Hz),1.15-1.45(16H,complex),1.50-1.82(2H,
complex),2.61(1H,dd,J=15.2 and 3.2 Hz),2.80-3.01(2
H,complex),4.72(1H,d,J=11.9 Hz),4.79(1H,d,J=11.9 H
z) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2927(s),17
59(s),1710(s) マススペクトル ［Ｍ＋Ｈ］＋ ＝３８９ 高分解能マススペクトル ［Ｍ＋Ｈ］＋ ＝３８９．１
０３６（Ｃ１６Ｈ２８Ｏ４（３５Ｃｌ）３） 計算値：389.1053 比旋光度〔α〕D 26=+11.7°(C=1.0,EtOH) （参考例５１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例３０で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルドデカン酸（３２９
mg）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ1−ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（２５８mg）を参考例１０に示した方法に従い反応処理
し、目的化合物（４９２mg）を得た。
【０１９９】C33H49O7N2Cl3 (FW=690,Cl=35) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),0.94-1.39(18H,complex),1.43(9H,s),1.
49-1.71(2H,complex),1.78-2.13(2H,complex),2.60(1H,
dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.94(1H,dd,J=17.5 and 10.9 H
z),3.14(1H,m),3.43(1H,m),4.27(1H,m),4.61(1H,d,J=1
1.9 Hz),4.77(1H,d,J=11.9 Hz),5.14(1H,d,J=11.9 Hz),
5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,t,J=4.0 Hz),7.23-7.41
(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2927(s),17
40(s),1677(s) マススペクトル [M]+ =690 高分解能マススペクトル [M]+ =690.2598(C33H49O7N2(3
5Cl)3) 計算値：690.2606 比旋光度〔α〕D 26=-7.0 °(C=2.0,CHCl3) （参考例５２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソドデシル〕−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例５１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルドデシル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（４８９mg）
を参考例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合
物（４０７mg）を得た。
H,t,J=6.6 Hz),0.94-1.39(18H,complex),1.43(9H,s),1.
49-1.71(2H,complex),1.78-2.13(2H,complex),2.60(1H,
dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.94(1H,dd,J=17.5 and 10.9 H
z),3.14(1H,m),3.43(1H,m),4.27(1H,m),4.61(1H,d,J=1
1.9 Hz),4.77(1H,d,J=11.9 Hz),5.14(1H,d,J=11.9 Hz),
5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,t,J=4.0 Hz),7.23-7.41
(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):2927(s),17
40(s),1677(s) マススペクトル [M]+ =690 高分解能マススペクトル [M]+ =690.2598(C33H49O7N2(3
5Cl)3) 計算値：690.2606 比旋光度〔α〕D 26=-7.0 °(C=2.0,CHCl3) （参考例５２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソドデシル〕−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例５１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルドデシル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（４８９mg）
を参考例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合
物（４０７mg）を得た。
【０２００】C31H48O7N2(FW=560) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),0.94-2.11(22H,complex),1.43(9H,s),2.
48(1H,dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.82(1H,dd,J=17.5 and
10.9 Hz),3.07(1H,m),3.31(1H,br.t,J=10.1 Hz),4.25(1
H,m),5.13(1H,d,J=11.8 Hz),5.20(1H,d,J=11.8 Hz),5.2
7(1H,dd,J=5.3 and 3.3 Hz),7.23-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3185(w),29
27(s),1736(s),1678(s) マススペクトル[M-tBuO]+ =487 高分解能マススペクトル[M-tBuO]+ =487.2820(C27H39O6
N2) 計算値：487.2808 比旋光度〔α〕D 26=-20.5°(C=1.0,EtOH) （参考例５３）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル 参考例５２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（４０３mg) とＯ−ベンジルヒドロキシルアミンを参考
例１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（４
６３mg）を得た。
H,t,J=6.6 Hz),0.94-2.11(22H,complex),1.43(9H,s),2.
48(1H,dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.82(1H,dd,J=17.5 and
10.9 Hz),3.07(1H,m),3.31(1H,br.t,J=10.1 Hz),4.25(1
H,m),5.13(1H,d,J=11.8 Hz),5.20(1H,d,J=11.8 Hz),5.2
7(1H,dd,J=5.3 and 3.3 Hz),7.23-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3185(w),29
27(s),1736(s),1678(s) マススペクトル[M-tBuO]+ =487 高分解能マススペクトル[M-tBuO]+ =487.2820(C27H39O6
N2) 計算値：487.2808 比旋光度〔α〕D 26=-20.5°(C=1.0,EtOH) （参考例５３）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル 参考例５２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（４０３mg) とＯ−ベンジルヒドロキシルアミンを参考
例１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（４
６３mg）を得た。
【０２０１】C38H55O7N3(FW=665) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),0.94-2.45(24H,complex),1.42(9H,s),3.
21(1H,m),3.46(1H,m),4.23(1H,m),4.82(1H,d,J=11.2 H
z),4.87(1H,d,J=11.2 Hz),5.13(1H,d,J=12.5 Hz),5.20
(1H,d,J=12.5 Hz),5.24(1H,m),7.20-7.49(10H,comple
x),8.41(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3252(w),29
27(s),1733(s),1675(s) マススペクトル [M+H]+ =666 高分解能マススペクトル [M+H]+ =666.4136(C38H56O
7N3) 計算値：666.4118 比旋光度〔α〕D 26=-36.2°(C=1.0,CHCl3) （参考例５４）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例５３で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４５７mg）を参考例１３と同
様の反応処理により目的化合物（３７０mg）を得た。
H,t,J=6.6 Hz),0.94-2.45(24H,complex),1.42(9H,s),3.
21(1H,m),3.46(1H,m),4.23(1H,m),4.82(1H,d,J=11.2 H
z),4.87(1H,d,J=11.2 Hz),5.13(1H,d,J=12.5 Hz),5.20
(1H,d,J=12.5 Hz),5.24(1H,m),7.20-7.49(10H,comple
x),8.41(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm -1):3252(w),29
27(s),1733(s),1675(s) マススペクトル [M+H]+ =666 高分解能マススペクトル [M+H]+ =666.4136(C38H56O
7N3) 計算値：666.4118 比旋光度〔α〕D 26=-36.2°(C=1.0,CHCl3) （参考例５４）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例５３で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４５７mg）を参考例１３と同
様の反応処理により目的化合物（３７０mg）を得た。
【０２０２】C34H47O7N3(FW=609) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3, δ ppm):0.88(3
H,t),0.96-1.38(16H,complex),1.38-1.69(3H,complex),
1.82-2.06(2H,complex),2.21-2.59(2H,complex),2.90-
3.18(3H,complex),4.11(1H,br.d,J=12.5 Hz),4.85(1H,b
r.s),4.89-5.08(3H,complex),5.17(1H,d,J=11.9 Hz),7.
02-7.51(11H,complex),12.32(1H,s) 赤外線吸収スペクトル(liquid kBr pellet):3231(w),29
26(s),1710(s),1672(s),1604(s) 比旋光度〔α〕D 26=-28.1°(C=1.0,EtOH) （参考例５５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソウンデカ
ニル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（3.
06ｇ）を窒素雰囲気下テトラヒドロフラン（８５ｍｌ）
に溶解させ、−７８℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム
（1.68Ｍヘキサン溶液）（１５ｍｌ）を滴下し、２５分
間撹伴した。ついでウンデカノイルクロライド（5.5 ｍ
ｌ）を加え、−７８℃で1.5 時間撹伴した。反応液を５
％塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出、
有機層を水、飽和食塩水で洗浄の後、硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を留去後、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に
より精製し、目的化合物（6.77ｇ）を無色油状物として
得た。
H,t),0.96-1.38(16H,complex),1.38-1.69(3H,complex),
1.82-2.06(2H,complex),2.21-2.59(2H,complex),2.90-
3.18(3H,complex),4.11(1H,br.d,J=12.5 Hz),4.85(1H,b
r.s),4.89-5.08(3H,complex),5.17(1H,d,J=11.9 Hz),7.
02-7.51(11H,complex),12.32(1H,s) 赤外線吸収スペクトル(liquid kBr pellet):3231(w),29
26(s),1710(s),1672(s),1604(s) 比旋光度〔α〕D 26=-28.1°(C=1.0,EtOH) （参考例５５）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソウンデカ
ニル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（3.
06ｇ）を窒素雰囲気下テトラヒドロフラン（８５ｍｌ）
に溶解させ、−７８℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム
（1.68Ｍヘキサン溶液）（１５ｍｌ）を滴下し、２５分
間撹伴した。ついでウンデカノイルクロライド（5.5 ｍ
ｌ）を加え、−７８℃で1.5 時間撹伴した。反応液を５
％塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出、
有機層を水、飽和食塩水で洗浄の後、硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を留去後、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に
より精製し、目的化合物（6.77ｇ）を無色油状物として
得た。
【０２０３】核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3,δpp
m):0.87(3H,d,J=6.6Hz),0.88(3H,t,J=6.8Hz),0.92(3H,
d,J=6.6Hz),1.18-1.42(14H,complex),1.54-1.74(2H,com
plex),2.38(1H,m),2.85(1H,ddd,J=16.4,8.4 and 6.8H
z),2.98(1H,ddd,J=16.4,8.5 and6.7Hz),4.20(1H,dd,J=
9.1 and 3.2Hz),4.26(1H,t,J=9.1Hz),4.43(1H,dt,J=9.1
and 3.2Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2959,1784,1
704 高分解能マススペクトル[M]+=297.2296(C17H31O3N) 計算値:297.2304 比旋光度:[α]D 26=+61.2°(C=1.0,CHCl3) （参考例５６）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソウンデカニル）−
２−オキサゾリジノン 窒素雰囲気下、−１５℃に冷却した参考例５５で得られ
た４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソウンデ
カニル）−２−オキサゾリジノン（6.77ｇ）のテトラヒ
ドロフラン（１５ｍｌ）溶液にリチウムジイソプロピル
アミド（0.62Ｍテトラヒドロフラン溶液）（３９ｍｌ）
を加え、−７８℃で１０分間撹伴した。次いで、ブロモ
酢酸ｔ−ブチル（１８ｍｌ）を加え、2.5 時間撹伴を続
けながら、−５５℃迄徐々に昇温した。反応液を５％塩
化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出、有機
層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１で
溶出）で精製することにより目的化合物5.86（62.5％）
を得た。メタノール−水より再結晶し、融点５７−５８
℃。
m):0.87(3H,d,J=6.6Hz),0.88(3H,t,J=6.8Hz),0.92(3H,
d,J=6.6Hz),1.18-1.42(14H,complex),1.54-1.74(2H,com
plex),2.38(1H,m),2.85(1H,ddd,J=16.4,8.4 and 6.8H
z),2.98(1H,ddd,J=16.4,8.5 and6.7Hz),4.20(1H,dd,J=
9.1 and 3.2Hz),4.26(1H,t,J=9.1Hz),4.43(1H,dt,J=9.1
and 3.2Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2959,1784,1
704 高分解能マススペクトル[M]+=297.2296(C17H31O3N) 計算値:297.2304 比旋光度:[α]D 26=+61.2°(C=1.0,CHCl3) （参考例５６）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソウンデカニル）−
２−オキサゾリジノン 窒素雰囲気下、−１５℃に冷却した参考例５５で得られ
た４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソウンデ
カニル）−２−オキサゾリジノン（6.77ｇ）のテトラヒ
ドロフラン（１５ｍｌ）溶液にリチウムジイソプロピル
アミド（0.62Ｍテトラヒドロフラン溶液）（３９ｍｌ）
を加え、−７８℃で１０分間撹伴した。次いで、ブロモ
酢酸ｔ−ブチル（１８ｍｌ）を加え、2.5 時間撹伴を続
けながら、−５５℃迄徐々に昇温した。反応液を５％塩
化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出、有機
層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１で
溶出）で精製することにより目的化合物5.86（62.5％）
を得た。メタノール−水より再結晶し、融点５７−５８
℃。
【０２０４】核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.9Hz),0.88(3H,d,J=7.0Hz),0.91(3H,
d,J=7.0Hz),1.17-1.48(15H,complex),1.41(9H,s),1.60
(1H,m),2.37(1H,m),2.43(1H,dd,J=16.7 and 4.6Hz),2.7
4(1H,dd,J=16.7 and 10.3Hz),4.10-4.29(3H,complex),
4.43(1H,dt,J=7.0 and 3.7Hz) 赤外線吸収スペクトル(KBr pellet,cm-1):2923,1764,17
31,1699 高分解能マススペクトル[M+H]+=412.3047(C23H42O5N) 計算値:412.3063 比旋光度:[α]D 26=+49.4°(C=0.99,CHCl3) （参考例５７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルドデカン酸ｔ−
ブチルエステル 窒素雰囲気下、ベンジルアルコール（2.8 ｍｌ）のテト
ラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液にｎ−ブチルリチウム
（1.68Ｍヘキサン溶液）（１２ｍｌ）を加え室温で１０
分間撹伴し調製したリチウムベンジルオキシド−ベンジ
ルアルコール（テトラヒドロフラン溶液）を参考例５６
で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−
（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オキソウ
ンデカニル）−２−オキサゾリジノン（5.51ｇ）のテト
ラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液へ加え、室温で１時間
撹伴した。反応液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注
ぎ、酢酸エチルで抽出し有機層を、水、飽和食塩水で順
次洗浄の後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することに
より、目的物4.74ｇを無色油状物として得た。
m):0.87(3H,t,J=6.9Hz),0.88(3H,d,J=7.0Hz),0.91(3H,
d,J=7.0Hz),1.17-1.48(15H,complex),1.41(9H,s),1.60
(1H,m),2.37(1H,m),2.43(1H,dd,J=16.7 and 4.6Hz),2.7
4(1H,dd,J=16.7 and 10.3Hz),4.10-4.29(3H,complex),
4.43(1H,dt,J=7.0 and 3.7Hz) 赤外線吸収スペクトル(KBr pellet,cm-1):2923,1764,17
31,1699 高分解能マススペクトル[M+H]+=412.3047(C23H42O5N) 計算値:412.3063 比旋光度:[α]D 26=+49.4°(C=0.99,CHCl3) （参考例５７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルドデカン酸ｔ−
ブチルエステル 窒素雰囲気下、ベンジルアルコール（2.8 ｍｌ）のテト
ラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液にｎ−ブチルリチウム
（1.68Ｍヘキサン溶液）（１２ｍｌ）を加え室温で１０
分間撹伴し調製したリチウムベンジルオキシド−ベンジ
ルアルコール（テトラヒドロフラン溶液）を参考例５６
で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−
（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オキソウ
ンデカニル）−２−オキサゾリジノン（5.51ｇ）のテト
ラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液へ加え、室温で１時間
撹伴した。反応液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注
ぎ、酢酸エチルで抽出し有機層を、水、飽和食塩水で順
次洗浄の後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することに
より、目的物4.74ｇを無色油状物として得た。
【０２０５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),1.16-1.33(14H,complex),1.40
(9H,s),1.42-1.71(2H,complex),2.36(1H,dd,J=16.5 and
5.6Hz),2.64(1H,dd,J=16.5 and 9.2Hz),2.83(1H,m),5.
09(1H,d,J=12.2Hz),5.17(1H,d,J=12.2Hz),7.25-7.39(5
H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2928,1732 高分解能マススペクトル[M+H]+=391.2837(C24H39O4) 計算値:391.2848 比旋光度:[α]D 26=+1.0 °（Ｃ＝６．０，ＣＨＣｌ３） （参考例５８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルドデカン酸 参考例５７で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルドデカン酸ｔ−ブチルエステル（２．８５ｇ）の
ジオキサン（１０ｍｌ）溶液に４Ｍ−塩酸−ジオキサン
溶液（３５ｍｌ）を加え、一夜撹伴した。反応液を水に
注ぎ酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去後、残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝
４０：１で溶出）で精製することにより、目的化合物2.
43ｇを無色油状物として得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),1.16-1.33(14H,complex),1.40
(9H,s),1.42-1.71(2H,complex),2.36(1H,dd,J=16.5 and
5.6Hz),2.64(1H,dd,J=16.5 and 9.2Hz),2.83(1H,m),5.
09(1H,d,J=12.2Hz),5.17(1H,d,J=12.2Hz),7.25-7.39(5
H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2928,1732 高分解能マススペクトル[M+H]+=391.2837(C24H39O4) 計算値:391.2848 比旋光度:[α]D 26=+1.0 °（Ｃ＝６．０，ＣＨＣｌ３） （参考例５８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルドデカン酸 参考例５７で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルドデカン酸ｔ−ブチルエステル（２．８５ｇ）の
ジオキサン（１０ｍｌ）溶液に４Ｍ−塩酸−ジオキサン
溶液（３５ｍｌ）を加え、一夜撹伴した。反応液を水に
注ぎ酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去後、残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝
４０：１で溶出）で精製することにより、目的化合物2.
43ｇを無色油状物として得た。
【０２０６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),1.13-1.39(14H,complex),1.42-
1.76(2H,complex),2.48(1H,dd,J=16.2 and 4.0Hz),2.78
(1H,dd,J=16.2 and 9.2Hz),2.88(1H,m),5.12(1H,d,J=1
2.5Hz),5.17(1H,d,J=12.5Hz),7.25-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927,1736,1
713 高分解能マススペクトル[M]+=334.2152(C20H30O4) 計算値:334.2144 比旋光度:[α]D 26=+3.6 °(C=1.0,EtOH) （参考例５９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルドデカン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 窒素雰囲気下、参考例５８で得られた３−（Ｒ）−ベン
ジルオキシカルボニルドデカン酸(2.43 ｇ）のトルエン
（５０ｍｌ）溶液に蓚酸クロライド（2.5 ｍｌ）を加
え、６０℃で２時間撹伴した。反応液にベンゼンを加
え、減圧留去し未反応の蓚酸クロライドを除いた後、残
留物を窒素雰囲気下テトラヒドロフラン（４０ｍｌ）に
溶解し、−１５℃に冷却した後トリクロロエタノール
（3.2 ｍｌ）、ピリジン（0.70ｍｌ）を順次加えた。−
１５℃で2.5 時間撹伴した後、反応液を水に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル抽出溶液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸
エチル＝３０：１で溶出）により精製し、目的化合物
（2.53ｇ）を無色油状物として得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),1.13-1.39(14H,complex),1.42-
1.76(2H,complex),2.48(1H,dd,J=16.2 and 4.0Hz),2.78
(1H,dd,J=16.2 and 9.2Hz),2.88(1H,m),5.12(1H,d,J=1
2.5Hz),5.17(1H,d,J=12.5Hz),7.25-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927,1736,1
713 高分解能マススペクトル[M]+=334.2152(C20H30O4) 計算値:334.2144 比旋光度:[α]D 26=+3.6 °(C=1.0,EtOH) （参考例５９）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルドデカン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 窒素雰囲気下、参考例５８で得られた３−（Ｒ）−ベン
ジルオキシカルボニルドデカン酸(2.43 ｇ）のトルエン
（５０ｍｌ）溶液に蓚酸クロライド（2.5 ｍｌ）を加
え、６０℃で２時間撹伴した。反応液にベンゼンを加
え、減圧留去し未反応の蓚酸クロライドを除いた後、残
留物を窒素雰囲気下テトラヒドロフラン（４０ｍｌ）に
溶解し、−１５℃に冷却した後トリクロロエタノール
（3.2 ｍｌ）、ピリジン（0.70ｍｌ）を順次加えた。−
１５℃で2.5 時間撹伴した後、反応液を水に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル抽出溶液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸
エチル＝３０：１で溶出）により精製し、目的化合物
（2.53ｇ）を無色油状物として得た。
【０２０７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.91(3H,t,J=6.9Hz),1.11-1.36(14H,complex),1.43-
1.81(2H,complex),2.63(1H,dd,J=15.2 and 3.3Hz),2.92
(1H,dd,J=15.2 and 9.2Hz),2.95(1H,m),4.68(1H,d,J=1
1.9Hz),4.75(1H,d,J=11.9Hz),5.14(1H,d,J=12.5Hz),5.2
1(1H,d,J=12.5Hz),7.26-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927,1759,1
736 高分解能マススペクトル[M+H]+=465.1351(C22H32O4(35C
l)3) 計算値:465.1366 比旋光度:[α]D 26=-0.35°(C=6.0,CHCl3) （参考例６０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルウンデカン酸 参考例５９で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルドデカン酸２，２，２−トリクロロエチルエステ
ル(2.53 ｇ）のメタノール（３０ｍｌ）溶液に１０％パ
ラジウム炭素（１３０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下1.3
時間撹伴し接触還元した。反応終了後セライト濾過によ
り触媒を濾去し、濾液を減圧下濃縮、得られた残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：
メタノール＝４０：１）で精製し目的化合物（1.65ｇ）
を無色油状物として得た。
m):0.91(3H,t,J=6.9Hz),1.11-1.36(14H,complex),1.43-
1.81(2H,complex),2.63(1H,dd,J=15.2 and 3.3Hz),2.92
(1H,dd,J=15.2 and 9.2Hz),2.95(1H,m),4.68(1H,d,J=1
1.9Hz),4.75(1H,d,J=11.9Hz),5.14(1H,d,J=12.5Hz),5.2
1(1H,d,J=12.5Hz),7.26-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927,1759,1
736 高分解能マススペクトル[M+H]+=465.1351(C22H32O4(35C
l)3) 計算値:465.1366 比旋光度:[α]D 26=-0.35°(C=6.0,CHCl3) （参考例６０）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルウンデカン酸 参考例５９で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルドデカン酸２，２，２−トリクロロエチルエステ
ル(2.53 ｇ）のメタノール（３０ｍｌ）溶液に１０％パ
ラジウム炭素（１３０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下1.3
時間撹伴し接触還元した。反応終了後セライト濾過によ
り触媒を濾去し、濾液を減圧下濃縮、得られた残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：
メタノール＝４０：１）で精製し目的化合物（1.65ｇ）
を無色油状物として得た。
【０２０８】核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.9Hz),1.15-1.46(14H,complex),1.60
(1H,m),1.72(1H,m),2.61(1H,dd,J=16.0and4.2Hz),2.87
(1H,dd,J=16.0and9.2Hz),2.93(1H,m),4.72(1H,d,J=12.0
Hz),4.78(1H,d,J=12.0Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927,1759,1
710 高分解能マススペクトル[M+H]+=375.0909(C15H26O4(35C
l)3) 計算値:375.0897 比旋光度:[α]D 26=+11.0°(C=6.4,EtOH) （参考例６１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
ｔ−ブチルエステル 窒素雰囲気下、参考例６０で得られた２−（Ｒ）−
（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）メチル
ウンデカン酸（４７０ｍｇ）のトルエン（6.0 ｍｌ）溶
液に蓚酸クロライド（0.44ｍｌ）を加え、６０℃で2.5
時間撹伴した後、反応液に無水ベンゼンを加え減圧濃縮
し、過剰の蓚酸クロライドを除去した。減圧濃縮により
得られた残留物（酸クロライド）をテトラヒドロフラン
（４ｍｌ）に溶解した。窒素雰囲気下−１５℃に冷却し
た（Ｓ）−Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニルピペラジン
酸ｔ−ブチルエステル（３９９ｍｇ）とＮ−エチルモル
ホリン（0.24ｍｌ）のテトラヒドロフラン（４ｍｌ）溶
液に、先に調整した酸クロライド溶液を滴下した後、一
夜撹伴を続け徐々に室温迄昇温した。反応液を0.2 Ｎ塩
酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出、有機層を水、飽和食塩水
で順次洗浄の後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７：１）により
精製し目的化合物（７４０ｍｇ）を無色油状物として得
た。
m):0.88(3H,t,J=6.9Hz),1.15-1.46(14H,complex),1.60
(1H,m),1.72(1H,m),2.61(1H,dd,J=16.0and4.2Hz),2.87
(1H,dd,J=16.0and9.2Hz),2.93(1H,m),4.72(1H,d,J=12.0
Hz),4.78(1H,d,J=12.0Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2927,1759,1
710 高分解能マススペクトル[M+H]+=375.0909(C15H26O4(35C
l)3) 計算値:375.0897 比旋光度:[α]D 26=+11.0°(C=6.4,EtOH) （参考例６１）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
ｔ−ブチルエステル 窒素雰囲気下、参考例６０で得られた２−（Ｒ）−
（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル）メチル
ウンデカン酸（４７０ｍｇ）のトルエン（6.0 ｍｌ）溶
液に蓚酸クロライド（0.44ｍｌ）を加え、６０℃で2.5
時間撹伴した後、反応液に無水ベンゼンを加え減圧濃縮
し、過剰の蓚酸クロライドを除去した。減圧濃縮により
得られた残留物（酸クロライド）をテトラヒドロフラン
（４ｍｌ）に溶解した。窒素雰囲気下−１５℃に冷却し
た（Ｓ）−Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニルピペラジン
酸ｔ−ブチルエステル（３９９ｍｇ）とＮ−エチルモル
ホリン（0.24ｍｌ）のテトラヒドロフラン（４ｍｌ）溶
液に、先に調整した酸クロライド溶液を滴下した後、一
夜撹伴を続け徐々に室温迄昇温した。反応液を0.2 Ｎ塩
酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出、有機層を水、飽和食塩水
で順次洗浄の後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去し得られた残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝７：１）により
精製し目的化合物（７４０ｍｇ）を無色油状物として得
た。
【０２０９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),0.93-1.70(18H,complex),1.43
(9H,s),1.78-2.12(2H,complex),2.60(1H,dd,J=17.2 and
3.3Hz),2.94(1H,dd,J=17.2 and 10.6Hz),3.12(1H,m),
3.42(1H,m),4.27(1H,m),4.61(1H,d,J=11.9Hz),4.77(1H,
d,J=11.9Hz),5.14(1H,d,J=12.5Hz),5.21(1H,d,J=12.5H
z),5.27(1H,t,J=4.0Hz),7.23-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2928,1740,1
678 高分解能マススペクトル[M]+=676.2451(C32H47O7N2(35C
l)3) 計算値:676.2449 比旋光度:[α]D 26=-7.0 °(C=1.0,CHCl3) （参考例６２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソウンデカニル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例６１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルウンデカニル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（７３５ｍ
ｇ）のテトラヒドロフラン溶液に１Ｎ−酢酸アンモニウ
ム水溶液（1.6 ｍｌ）、亜鉛（1.43ｇ）を加え、室温下
2.7 時間激しく撹伴した。反応終了後亜鉛を濾去し、反
応液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧下留去し、得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホ
ルム：メタノール＝４０：１）により精製し、目的化合
物（５０４ｍｇ）を無色油状物として得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),0.93-1.70(18H,complex),1.43
(9H,s),1.78-2.12(2H,complex),2.60(1H,dd,J=17.2 and
3.3Hz),2.94(1H,dd,J=17.2 and 10.6Hz),3.12(1H,m),
3.42(1H,m),4.27(1H,m),4.61(1H,d,J=11.9Hz),4.77(1H,
d,J=11.9Hz),5.14(1H,d,J=12.5Hz),5.21(1H,d,J=12.5H
z),5.27(1H,t,J=4.0Hz),7.23-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):2928,1740,1
678 高分解能マススペクトル[M]+=676.2451(C32H47O7N2(35C
l)3) 計算値:676.2449 比旋光度:[α]D 26=-7.0 °(C=1.0,CHCl3) （参考例６２）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソウンデカニル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例６１で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルウンデカニル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（７３５ｍ
ｇ）のテトラヒドロフラン溶液に１Ｎ−酢酸アンモニウ
ム水溶液（1.6 ｍｌ）、亜鉛（1.43ｇ）を加え、室温下
2.7 時間激しく撹伴した。反応終了後亜鉛を濾去し、反
応液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧下留去し、得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホ
ルム：メタノール＝４０：１）により精製し、目的化合
物（５０４ｍｇ）を無色油状物として得た。
【０２１０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),0.93-1.58(18H,complex),1.43
(9H,s),1.69-2.12(2H,complex),2.48(1H,dd,J=17.2 and
3.3Hz),2.81(1H,dd,J=17.2 and 10.6Hz),3.07(1H,m),
3.31(1H,m),4.25(1H,m),5.13(1H,d,J=11.9Hz),5.20(1H,
d,J=11.9Hz),5.26(1H,br.t,J=4.7Hz),7.23-7.42(5H,com
plex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3193,2928,1
733,1679,1651 高分解能マススペクトル[M+H]+=547.3361(C30H47O7N2) 計算値:547.3383 比旋光度:[α]D 26=-22.0°(C=1.0,EtOH) （参考例６３）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエ
ステル 参考例６２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエス
テル（４８４ｍｇ）を混合溶媒（テトラヒドロフラン：
ＤＭＦ＝３：１，（１５ｍｌ））に溶解し、０℃に冷却
した。Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩（２４１
ｍｇ）、ジエチルシアノフォスフォネート（ＤＥＰＣ，
0.17ｍｌ）、トリエチルアミン（0.31ｍｌ）を順次加
え、2.1 時間撹伴した。反応液を１Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホル
ム：メタノール＝８０：１で溶出）により精製し、目的
化合物（４９３ｍｇ）を得た。
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),0.93-1.58(18H,complex),1.43
(9H,s),1.69-2.12(2H,complex),2.48(1H,dd,J=17.2 and
3.3Hz),2.81(1H,dd,J=17.2 and 10.6Hz),3.07(1H,m),
3.31(1H,m),4.25(1H,m),5.13(1H,d,J=11.9Hz),5.20(1H,
d,J=11.9Hz),5.26(1H,br.t,J=4.7Hz),7.23-7.42(5H,com
plex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3193,2928,1
733,1679,1651 高分解能マススペクトル[M+H]+=547.3361(C30H47O7N2) 計算値:547.3383 比旋光度:[α]D 26=-22.0°(C=1.0,EtOH) （参考例６３）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエ
ステル 参考例６２で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエス
テル（４８４ｍｇ）を混合溶媒（テトラヒドロフラン：
ＤＭＦ＝３：１，（１５ｍｌ））に溶解し、０℃に冷却
した。Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩（２４１
ｍｇ）、ジエチルシアノフォスフォネート（ＤＥＰＣ，
0.17ｍｌ）、トリエチルアミン（0.31ｍｌ）を順次加
え、2.1 時間撹伴した。反応液を１Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホル
ム：メタノール＝８０：１で溶出）により精製し、目的
化合物（４９３ｍｇ）を得た。
【０２１１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.9Hz),0.90-2.50(22H,complex),1.42
(9H,s),3.21(1H,m),3.46(1H,m),4.25(1H,m),4.82(1H,d,
J=11.9Hz),4.88(1H,d,J=11.9Hz),5.13(1H,d,J=12.5Hz),
5.20(1H,d,J=12.5Hz),5.25(1H,m),7.21-7.48(10H,compl
ex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3249,2928,1
733,1675 高分解能マススペクトル[M+H]+=652.3945(C37H54O7N3) 計算値:652.3970 比旋光度:[α]D 26=-38.2°(C=1.0,CHCl3) （参考例６４）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例６３で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペ
ラジン酸ｔ−ブチルエステル（４７８ｍｇ）の塩化メチ
レン溶液にトリフルオロ酢酸（1.8 ｍｌ）を加え、室温
で７時間撹伴した。反応終了後トルエンを加え減圧濃縮
し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ク
ロロホルム：メタノール＝３０：１で溶出）により精製
し、目的化合物（３８２ｍｇ）を無色油状物として得
た。
m):0.88(3H,t,J=6.9Hz),0.90-2.50(22H,complex),1.42
(9H,s),3.21(1H,m),3.46(1H,m),4.25(1H,m),4.82(1H,d,
J=11.9Hz),4.88(1H,d,J=11.9Hz),5.13(1H,d,J=12.5Hz),
5.20(1H,d,J=12.5Hz),5.25(1H,m),7.21-7.48(10H,compl
ex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3249,2928,1
733,1675 高分解能マススペクトル[M+H]+=652.3945(C37H54O7N3) 計算値:652.3970 比旋光度:[α]D 26=-38.2°(C=1.0,CHCl3) （参考例６４）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例６３で得られたＮ1 −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペ
ラジン酸ｔ−ブチルエステル（４７８ｍｇ）の塩化メチ
レン溶液にトリフルオロ酢酸（1.8 ｍｌ）を加え、室温
で７時間撹伴した。反応終了後トルエンを加え減圧濃縮
し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ク
ロロホルム：メタノール＝３０：１で溶出）により精製
し、目的化合物（３８２ｍｇ）を無色油状物として得
た。
【０２１２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),0.87-2.59(22H,complex),2.88-
3.27(2H,complex),4.10(1H,br.d,J=11.2Hz),4.69-5.39
(5H,complex),7.13(1H,br.s), 7.24-7.51(10H,comple
x),12.3(1H,s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3223,1714,1
671,1602 元素分析 計算値 C33H45N3O7・H2O:C,64.58％;H,7.71 ％;N,6.85
％ 測定値:C,64.77％;H,7.31 ％;N,6.96 ％ 比旋光度:[α]D 26=-24.3°(C=1.0,EtOH) （参考例６５）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−メチル
アミド ０℃に冷却した参考例６４で得られたＮ1 −ベンジルオ
キシカルボニル−Ｎ2−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキ
シアミノカルボニル）メチル−１−オキソウンデカニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５２ｍｇ）のテトラヒド
ロフラン：ジメチルホルムアミド（１：１）混合溶液
（4.0 ｍｌ）に窒素雰囲気下メチルアミン塩酸塩（２７
ｍｇ），トリエチルアミン（0.035 ｍｌ）、ＤＥＰＣ
（0.03ｍｌ）を順次加え、徐々に室温まで昇温しながら
3.3 時間撹拌した。反応終了後反応液を５％硫酸水素カ
リウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー（２０ｃｍ×２０ｃｍ，0.5
ｍｍ厚，クロロホルム：メタノール＝３０：１で展開）
を用いて分取し目的化合物（５２ｍｇ）を得た。少量の
不純物を含有していたが更に精製することなく次の工程
（実施例９）に使用した。
m):0.88(3H,t,J=6.6Hz),0.87-2.59(22H,complex),2.88-
3.27(2H,complex),4.10(1H,br.d,J=11.2Hz),4.69-5.39
(5H,complex),7.13(1H,br.s), 7.24-7.51(10H,comple
x),12.3(1H,s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm-1):3223,1714,1
671,1602 元素分析 計算値 C33H45N3O7・H2O:C,64.58％;H,7.71 ％;N,6.85
％ 測定値:C,64.77％;H,7.31 ％;N,6.96 ％ 比旋光度:[α]D 26=-24.3°(C=1.0,EtOH) （参考例６５）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−メチル
アミド ０℃に冷却した参考例６４で得られたＮ1 −ベンジルオ
キシカルボニル−Ｎ2−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキ
シアミノカルボニル）メチル−１−オキソウンデカニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５２ｍｇ）のテトラヒド
ロフラン：ジメチルホルムアミド（１：１）混合溶液
（4.0 ｍｌ）に窒素雰囲気下メチルアミン塩酸塩（２７
ｍｇ），トリエチルアミン（0.035 ｍｌ）、ＤＥＰＣ
（0.03ｍｌ）を順次加え、徐々に室温まで昇温しながら
3.3 時間撹拌した。反応終了後反応液を５％硫酸水素カ
リウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー（２０ｃｍ×２０ｃｍ，0.5
ｍｍ厚，クロロホルム：メタノール＝３０：１で展開）
を用いて分取し目的化合物（５２ｍｇ）を得た。少量の
不純物を含有していたが更に精製することなく次の工程
（実施例９）に使用した。
【０２１３】（参考例６６）Ｎ1 −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−ジメチ
ルアミド 参考例６５の方法に従い参考例６４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソウン
デカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５５ｍｇ）とジメ
チルアミン塩酸塩（３２ｍｇ）を出発原料として同様の
反応処理により目的化合物（５８ｍｇ）を得た。少量の
不純物を含有していたが更に精製することなく次の工程
（実施例１０）に使用した。
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソウンデカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−ジメチ
ルアミド 参考例６５の方法に従い参考例６４で得られたＮ1 −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ2 −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソウン
デカニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５５ｍｇ）とジメ
チルアミン塩酸塩（３２ｍｇ）を出発原料として同様の
反応処理により目的化合物（５８ｍｇ）を得た。少量の
不純物を含有していたが更に精製することなく次の工程
（実施例１０）に使用した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 知雄 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1 は−ＮＲ4 Ｒ5 基（式中、Ｒ4 及びＲ5 は
同一又は異なって水素原子又は炭素数１乃至４個のアル
キル基）を示し、Ｒ2 は炭素数６乃至１２個のアルキル
基を示す］を有する化合物。 - 【請求項２】請求項１に記載の化合物を有効成分とする
血管新生抑制剤、癌浸潤抑制剤又は癌転移抑制剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6074748A JPH072797A (ja) | 1993-04-19 | 1994-04-13 | コラゲナーゼ阻害剤 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-90322 | 1993-04-19 | ||
| JP9032293 | 1993-04-19 | ||
| JP6074748A JPH072797A (ja) | 1993-04-19 | 1994-04-13 | コラゲナーゼ阻害剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH072797A true JPH072797A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=26415935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6074748A Pending JPH072797A (ja) | 1993-04-19 | 1994-04-13 | コラゲナーゼ阻害剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH072797A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995033731A1 (en) * | 1994-06-09 | 1995-12-14 | F.Hoffmann-La Roche Ag | Hydroxamic acid derivatives |
| US6838466B2 (en) | 2001-12-20 | 2005-01-04 | Schering Corporation | Compounds for the treatment of inflammatory disorders |
-
1994
- 1994-04-13 JP JP6074748A patent/JPH072797A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995033731A1 (en) * | 1994-06-09 | 1995-12-14 | F.Hoffmann-La Roche Ag | Hydroxamic acid derivatives |
| US6838466B2 (en) | 2001-12-20 | 2005-01-04 | Schering Corporation | Compounds for the treatment of inflammatory disorders |
| US7034057B2 (en) | 2001-12-20 | 2006-04-25 | Schering Corporation | Compounds for the treatment of inflammatory disorders |
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