JPH07278886A - 竪型電解処理装置 - Google Patents
竪型電解処理装置Info
- Publication number
- JPH07278886A JPH07278886A JP7720394A JP7720394A JPH07278886A JP H07278886 A JPH07278886 A JP H07278886A JP 7720394 A JP7720394 A JP 7720394A JP 7720394 A JP7720394 A JP 7720394A JP H07278886 A JPH07278886 A JP H07278886A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- supply port
- strip
- roll
- liquid supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 処理液を効果的に電極間に導入可能とすると
同時に、従来のごとき複雑な処理液導入ヘッダーを省略
し、装置の簡素化を図ると共に、製品疵をなくし品質の
向上を図った竪型電解処理装置を提供する。 【構成】 処理槽内に対向して配設した電極間にストリ
ップを走行させて電解処理を行う竪型電解処理装置にお
いて、処理槽内をダウンパス室とアップパス室とに仕切
壁で仕切ると同時に、浸漬ロールの上下面にそれぞれシ
ール板を配設し、かつ、アップパス室上部とダウンパス
室下部に処理液供給口をそれぞれ配設して構成。また、
処理槽の幅方向から浸漬ロールの両端まで延長した外筒
を配設し、かつ外筒の端部に側板を設け、この側板と浸
漬ロール端面に端面シールを形成。また、上・下処理液
供給口と電極との間にそれぞれ上・下整流板を設置。
同時に、従来のごとき複雑な処理液導入ヘッダーを省略
し、装置の簡素化を図ると共に、製品疵をなくし品質の
向上を図った竪型電解処理装置を提供する。 【構成】 処理槽内に対向して配設した電極間にストリ
ップを走行させて電解処理を行う竪型電解処理装置にお
いて、処理槽内をダウンパス室とアップパス室とに仕切
壁で仕切ると同時に、浸漬ロールの上下面にそれぞれシ
ール板を配設し、かつ、アップパス室上部とダウンパス
室下部に処理液供給口をそれぞれ配設して構成。また、
処理槽の幅方向から浸漬ロールの両端まで延長した外筒
を配設し、かつ外筒の端部に側板を設け、この側板と浸
漬ロール端面に端面シールを形成。また、上・下処理液
供給口と電極との間にそれぞれ上・下整流板を設置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属帯の竪型電解処理
装置に関するものである。
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ストリップに電解処理を施す竪型処理装
置は、図５に示すように処理液を処理槽の下部から導入
させ、上部よりオーバーフローさせる構造が一般的であ
り広く用いられている。近年、電解処理装置の高効率化
を目的として、図６に示すように処理液をストリップに
対して、電極入口の直近に、処理液導入ヘッダーを配設
した構造が数多く提供されるようになった。例えば、特
公平３−３５３９５号記載の提案の場合、図６に示す通
り、ストリップと電極間に処理液を供給し、ストリップ
と処理液との間に撹拌効果を与え、高い電流密度を得る
方法が提案されている。この場合、処理液導入ヘッダー
からの液供給を効率的に行うために、処理液導入ヘッダ
ーの下部にダムロールを配設していた。
置は、図５に示すように処理液を処理槽の下部から導入
させ、上部よりオーバーフローさせる構造が一般的であ
り広く用いられている。近年、電解処理装置の高効率化
を目的として、図６に示すように処理液をストリップに
対して、電極入口の直近に、処理液導入ヘッダーを配設
した構造が数多く提供されるようになった。例えば、特
公平３−３５３９５号記載の提案の場合、図６に示す通
り、ストリップと電極間に処理液を供給し、ストリップ
と処理液との間に撹拌効果を与え、高い電流密度を得る
方法が提案されている。この場合、処理液導入ヘッダー
からの液供給を効率的に行うために、処理液導入ヘッダ
ーの下部にダムロールを配設していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図５で提案されている
電解処理装置では、電解液が電極の裏側に廻り込み有効
に生かされていない問題があり、効率的な電解処理がで
きなかった。また、図６で提案されている電解処理装置
では、確かに効率的な電解処理が行えるようになった
が、次のような問題がある。
電解処理装置では、電解液が電極の裏側に廻り込み有効
に生かされていない問題があり、効率的な電解処理がで
きなかった。また、図６で提案されている電解処理装置
では、確かに効率的な電解処理が行えるようになった
が、次のような問題がある。
【０００４】処理液導入ヘッダーからの液供給を効率
的に行うために、処理液導入ヘッダー下部にダムロール
を配設するが、ダムロールは電解処理に伴うスラッジの
噛み込みによって、製品疵の要因となったり、ダムロー
ルの処理槽の側面側液シール構造が複雑で、調整および
保全に手間を要する問題があった。 電解液を導入する処理液導入ヘッダーは電極の直近に
配置しているため、液流れに脈動やバラツキが生じ電解
処理ムラの原因となっていた。また、処理液導入ヘッダ
ー部が動圧のため、ストリップの表裏に圧力差を生じ、
ストリップが電極面に吸い付く現象や、ストリップを振
動させ、製品疵を発生させる原因となっていた。 処理液導入ヘッダーの構造が複雑で、精度確保の点か
ら高価なものとなっていた。 処理液導入ヘッダーの取り付け、取り外しに長時間を
要していた。特に、電極間隔を変更する場合（製品品質
確保上、ストリップの形状や液流れに影響され、電極間
距離の変更を行うことが少なくない）には、表裏の処理
液導入ヘッダーの間隔も変更しなければならず、メッキ
槽の構造も複雑とならざるを得なかった。
的に行うために、処理液導入ヘッダー下部にダムロール
を配設するが、ダムロールは電解処理に伴うスラッジの
噛み込みによって、製品疵の要因となったり、ダムロー
ルの処理槽の側面側液シール構造が複雑で、調整および
保全に手間を要する問題があった。 電解液を導入する処理液導入ヘッダーは電極の直近に
配置しているため、液流れに脈動やバラツキが生じ電解
処理ムラの原因となっていた。また、処理液導入ヘッダ
ー部が動圧のため、ストリップの表裏に圧力差を生じ、
ストリップが電極面に吸い付く現象や、ストリップを振
動させ、製品疵を発生させる原因となっていた。 処理液導入ヘッダーの構造が複雑で、精度確保の点か
ら高価なものとなっていた。 処理液導入ヘッダーの取り付け、取り外しに長時間を
要していた。特に、電極間隔を変更する場合（製品品質
確保上、ストリップの形状や液流れに影響され、電極間
距離の変更を行うことが少なくない）には、表裏の処理
液導入ヘッダーの間隔も変更しなければならず、メッキ
槽の構造も複雑とならざるを得なかった。
【０００５】このような従来技術の問題点に鑑み、本発
明の目的は、アップパス室とダウンパス室を分離し、ア
ップパス側およびダウンパス側とも帯板の進行方向と処
理液の流れ方向を逆勝手とし（相対流速の確保）、同時
に、処理液を効率的に電極間に導入させ、また、従来の
ごとき複雑な処理液導入ヘッダーを省略し、装置の簡素
化を図ると共に、製品疵をなくし、品質の向上を図った
竪型電解処理装置を提供することにある。
明の目的は、アップパス室とダウンパス室を分離し、ア
ップパス側およびダウンパス側とも帯板の進行方向と処
理液の流れ方向を逆勝手とし（相対流速の確保）、同時
に、処理液を効率的に電極間に導入させ、また、従来の
ごとき複雑な処理液導入ヘッダーを省略し、装置の簡素
化を図ると共に、製品疵をなくし、品質の向上を図った
竪型電解処理装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、処理槽内に、所定の間隔を置いて対向して配設した
電極間にストリップを走行させて電解処理を行う竪型電
解処理装置において、処理槽内をダウンパス室とアップ
パス室とに仕切壁で仕切ると同時に、浸漬ロールの上面
に仕切壁に連接した上シール板を配設し、かつ、浸漬ロ
ールの下面には処理槽の下端から連接した下シール板を
配設すると共に、アップパス室の上部に上処理液供給口
を配設し、かつ、ダウンパス室下部に下処理液供給口を
配設することによって解決を図る。
に、処理槽内に、所定の間隔を置いて対向して配設した
電極間にストリップを走行させて電解処理を行う竪型電
解処理装置において、処理槽内をダウンパス室とアップ
パス室とに仕切壁で仕切ると同時に、浸漬ロールの上面
に仕切壁に連接した上シール板を配設し、かつ、浸漬ロ
ールの下面には処理槽の下端から連接した下シール板を
配設すると共に、アップパス室の上部に上処理液供給口
を配設し、かつ、ダウンパス室下部に下処理液供給口を
配設することによって解決を図る。
【０００７】また、前記ダウンパス室とアップパス室と
を仕切る手段に加えて、処理槽の幅方向から浸漬ロール
の両端まで延長した外筒を配設し、かつ、外筒の浸漬ロ
ール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬ロール端面に
端面シールを配設することによって、アップパス室とダ
ウンパス室の仕切りを具体化したものである。
を仕切る手段に加えて、処理槽の幅方向から浸漬ロール
の両端まで延長した外筒を配設し、かつ、外筒の浸漬ロ
ール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬ロール端面に
端面シールを配設することによって、アップパス室とダ
ウンパス室の仕切りを具体化したものである。
【０００８】更に、電極への処理液を供給する方法に関
して、アップパス室では、上処理液供給口と電極上部と
の間に上整流板を配設し、かつ、ダウンパス室では、下
処理液供給口と電極下部との間に下整流板を配設するこ
とによって、従来の如く、複雑な処理液導入ヘッダーを
省略し、かつ、処理液の電極間への液流れを均一とする
ことができる。
して、アップパス室では、上処理液供給口と電極上部と
の間に上整流板を配設し、かつ、ダウンパス室では、下
処理液供給口と電極下部との間に下整流板を配設するこ
とによって、従来の如く、複雑な処理液導入ヘッダーを
省略し、かつ、処理液の電極間への液流れを均一とする
ことができる。
【０００９】
【実施例】図１に示すように、金属帯は入側コンダクタ
ーロールおよび出側コンダクターロールにより陰極（ま
たは陽極）に通電され、金属帯と対向した電極が陽極
（または陰極）に通電され、電極間に処理液が導入され
電解処理が行われる。処理槽は、ダウンパス室とアップ
パス室とに仕切壁によって仕切られている。浸漬ロール
の上面には、仕切壁の下方に連接した上シールを配設し
ている。シール板は弾力性のあるゴム板（厚さ６〜１０
mm）とし、仕切壁とは帯板を介してボルト取り付けと
し、ゴム板と浸漬ロールの上面とはオーバーラップ（約
１０〜２０mm）させるようにする。なお、ゴム板は上下
方向に調整可能とした方が好ましい。
ーロールおよび出側コンダクターロールにより陰極（ま
たは陽極）に通電され、金属帯と対向した電極が陽極
（または陰極）に通電され、電極間に処理液が導入され
電解処理が行われる。処理槽は、ダウンパス室とアップ
パス室とに仕切壁によって仕切られている。浸漬ロール
の上面には、仕切壁の下方に連接した上シールを配設し
ている。シール板は弾力性のあるゴム板（厚さ６〜１０
mm）とし、仕切壁とは帯板を介してボルト取り付けと
し、ゴム板と浸漬ロールの上面とはオーバーラップ（約
１０〜２０mm）させるようにする。なお、ゴム板は上下
方向に調整可能とした方が好ましい。
【００１０】浸漬ロールの下面には、処理槽の下端から
連接した開閉可能な下シール板を配設する。下シール板
は処理槽の下端から延長したブラケットに帯板を介して
ボルト取り付けとし、材料には樹脂性を選定する。浸漬
ロールの下面と下シール板の上面との隙間（Ｓ）は、可
能な限り小さい（０．５〜１mm）方が好ましい。そこ
で、図３のごとく下シール板を開閉する手段として、エ
ヤーシリンダー若しくは電動方式によって行い、金属帯
の板通し（スレッディング）時の開放や上記Ｓ値の設定
（微調）を行えるようにする。この場合は処理槽下部か
らシリンダーロッドを貫通させる必要があるため、ロッ
ドシール構造を提案する。
連接した開閉可能な下シール板を配設する。下シール板
は処理槽の下端から延長したブラケットに帯板を介して
ボルト取り付けとし、材料には樹脂性を選定する。浸漬
ロールの下面と下シール板の上面との隙間（Ｓ）は、可
能な限り小さい（０．５〜１mm）方が好ましい。そこ
で、図３のごとく下シール板を開閉する手段として、エ
ヤーシリンダー若しくは電動方式によって行い、金属帯
の板通し（スレッディング）時の開放や上記Ｓ値の設定
（微調）を行えるようにする。この場合は処理槽下部か
らシリンダーロッドを貫通させる必要があるため、ロッ
ドシール構造を提案する。
【００１１】また、図２に示すように処理槽の幅方向か
ら浸漬ロールの両端まで延長した外筒を配設し、かつ、
外筒の浸漬ロール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬
ロール端面に端面シールを配設する。端面シールは浸漬
ロールが回転するため、メカニカルシールとするのが好
ましい。処理液の供給口は、アップパス室では、上処理
液供給口と電極上部との間に上整流板を配設し、かつ、
ダウンパス室では、下処理液供給口と電極下部との間に
下整流板を配設する。
ら浸漬ロールの両端まで延長した外筒を配設し、かつ、
外筒の浸漬ロール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬
ロール端面に端面シールを配設する。端面シールは浸漬
ロールが回転するため、メカニカルシールとするのが好
ましい。処理液の供給口は、アップパス室では、上処理
液供給口と電極上部との間に上整流板を配設し、かつ、
ダウンパス室では、下処理液供給口と電極下部との間に
下整流板を配設する。
【００１２】整流板は、処理液が電極間へ導入するに際
して、液流れを金属帯の幅方向に均一となるように電極
に向かって傾斜をつける。傾斜角度（θ）は処理液の導
入量によって異なるが、通常３０°〜６０°が適当であ
る。必要によっては整流板の下面にガイド板を幅方向に
設けると効果的である。
して、液流れを金属帯の幅方向に均一となるように電極
に向かって傾斜をつける。傾斜角度（θ）は処理液の導
入量によって異なるが、通常３０°〜６０°が適当であ
る。必要によっては整流板の下面にガイド板を幅方向に
設けると効果的である。
【００１３】整流板は処理槽の幅方向に設けたブラケッ
トにボルト締結されており、ストリップパスに対して左
右に移動できるように、ボルト穴は長穴としている。ま
た、整流板とブラケットとの隙間は整流板下部にゴム状
のスカートを設けている。
トにボルト締結されており、ストリップパスに対して左
右に移動できるように、ボルト穴は長穴としている。ま
た、整流板とブラケットとの隙間は整流板下部にゴム状
のスカートを設けている。
【００１４】処理液の排出は、ダウンパス室では、処理
槽の上部に上部排出口を配設し、また、アップパス室で
は、処理槽の下部に下部排出口をそれぞれ配設する。次
に、電極の幅方向の側面は図４に示すように処理液の幅
方向からの流失を押さえる目的でサイドシールを配設す
ると、より効果的である。また、処理槽下部のドレン口
は処理槽の処理液の排出時に使用する。なお、本発明が
この実施例に限定されないことは言うまでもない。
槽の上部に上部排出口を配設し、また、アップパス室で
は、処理槽の下部に下部排出口をそれぞれ配設する。次
に、電極の幅方向の側面は図４に示すように処理液の幅
方向からの流失を押さえる目的でサイドシールを配設す
ると、より効果的である。また、処理槽下部のドレン口
は処理槽の処理液の排出時に使用する。なお、本発明が
この実施例に限定されないことは言うまでもない。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば次のような効果がある。
処理槽をダウンパス室とアップパス室とに仕切壁によ
って仕切ることによって、金属帯の進行方向と処理液の
流れ方向とが相対方向となり、極めて有効な電解処理が
可能となった。電極間への処理液の液流れは脈動や幅
方向のバラツキがなく、電解処理ムラ等の製品不良を起
こさない。また、ストリップの表裏に圧力差が生じない
ため、電極への吸い付き現象やストリップが振動するこ
とがなく、製品疵を起こす要因がなくなった。構造が
複雑な処理液導入ヘッダーが不要となり、処理槽の構造
がシンプルとなったため、製作費を大幅に削減できるよ
うになった。また、保全が容易となり、電極間距離の選
定も簡単に行うことができるようになった。ダムロー
ルの省略によって、製品疵がなくなり、また、ダムロー
ルの調整の必要がなくなり、保全が容易となった。
処理槽をダウンパス室とアップパス室とに仕切壁によ
って仕切ることによって、金属帯の進行方向と処理液の
流れ方向とが相対方向となり、極めて有効な電解処理が
可能となった。電極間への処理液の液流れは脈動や幅
方向のバラツキがなく、電解処理ムラ等の製品不良を起
こさない。また、ストリップの表裏に圧力差が生じない
ため、電極への吸い付き現象やストリップが振動するこ
とがなく、製品疵を起こす要因がなくなった。構造が
複雑な処理液導入ヘッダーが不要となり、処理槽の構造
がシンプルとなったため、製作費を大幅に削減できるよ
うになった。また、保全が容易となり、電極間距離の選
定も簡単に行うことができるようになった。ダムロー
ルの省略によって、製品疵がなくなり、また、ダムロー
ルの調整の必要がなくなり、保全が容易となった。
【図１】本発明の実施例を示す側部断面図。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図。
【図３】図１のＢ部詳細図。
【図４】図１のＣ−Ｃ断面図。
【図５】従来の電解処理装置の側部断面図。
【図６】従来の電解処理装置の側部断面図。
１ 処理槽 ２ 金属帯 ３，３′ 電極 ４ 入側コンダクタロール ５ 出側コンダクタロール ６ ダウンパス室 ７ アップパス室 ８ 仕切壁 ９ 浸漬ロール １０ 上シール板 １１ 下シール板 １２ 帯板 １３ ボルト １４ 外筒 １５ 端面シール １６ 側板 １７ 上整流板 １８ 下整流板 １９ スカート ２０ エヤーシリンダー ２１ シリンダーロッド ２２ ロッドシール ２３ ブラケット ２４ 上処理液供給口 ２５ 下処理液供給口 ２６ 上部排出口 ２７ 下部排出口 ２８ サイドシール ２９ ドレン口 ３０ ダムロール（図２） ３１ 処理液導入ヘッダー（図２） ３２ 処理液供給口 ３３ 電解槽
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年５月１２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 竪型電解処理装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ストリップの竪型電解
処理装置に関するものである。
処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ストリップに電解処理を施す竪型処理装
置は、図５に示すように処理液を処理槽１の下部から導
入させ、上部よりオーバーフローさせる構造が一般的で
あり広く用いられている。近年、電解処理装置の高効率
化を目的として、図６に示すように処理液をストリップ
２に対して、電極３，３′入口の直近に、処理液導入ヘ
ッダー３１を配設した構造が数多く提供されるようにな
った。例えば、特公平３−３５３９５号公報記載の提案
の場合、図６に示す通り、ストリップ２と電極３，３′
間に処理液を供給し、ストリップ２と処理液との間に攪
拌効果を与え、高い電流密度を得る方法が提案されてい
る。この場合、処理液導入ヘッダー３１からの液供給を
効率的に行うために、処理液導入ヘッダー３１の下部に
ダムロール３０を配設していた。
置は、図５に示すように処理液を処理槽１の下部から導
入させ、上部よりオーバーフローさせる構造が一般的で
あり広く用いられている。近年、電解処理装置の高効率
化を目的として、図６に示すように処理液をストリップ
２に対して、電極３，３′入口の直近に、処理液導入ヘ
ッダー３１を配設した構造が数多く提供されるようにな
った。例えば、特公平３−３５３９５号公報記載の提案
の場合、図６に示す通り、ストリップ２と電極３，３′
間に処理液を供給し、ストリップ２と処理液との間に攪
拌効果を与え、高い電流密度を得る方法が提案されてい
る。この場合、処理液導入ヘッダー３１からの液供給を
効率的に行うために、処理液導入ヘッダー３１の下部に
ダムロール３０を配設していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図５で提案されている
電解処理装置では、電解液が電極の裏側に廻り込み有効
に生かされていない問題があり、効率的な電解処理がで
きなかった。また、図６で提案されている電解処理装置
では、確かに効率的な電解処理が行えるようになった
が、次のような問題がある。
電解処理装置では、電解液が電極の裏側に廻り込み有効
に生かされていない問題があり、効率的な電解処理がで
きなかった。また、図６で提案されている電解処理装置
では、確かに効率的な電解処理が行えるようになった
が、次のような問題がある。
【０００４】処理液導入ヘッダーからの液供給を効率
的に行うために、処理液導入ヘッダー下部にダムロール
を配設するが、ダムロールは電解処理に伴うスラッジの
噛み込みによって、製品疵の要因となったり、ダムロー
ルの処理槽の側面側液シール構造が複雑で、調整および
保全に手間を要する問題があった。 電解液を導入する処理液導入ヘッダーは電極の直近に
配置しているため、液流れに脈動やバラツキが生じ電解
処理ムラの原因となっていた。また、処理液導入ヘッダ
ー部が動圧のため、ストリップの表裏に圧力差を生じ、
ストリップが電極面に吸い付く現象や、ストリップを振
動させ、製品疵を発生させる原因となっていた。 処理液導入ヘッダーの構造が複雑で、精度確保の点か
ら高価なものとなっていた。 処理液導入ヘッダーの取り付け、取り外しに長時間を
要していた。特に、電極間隔を変更する場合（製品品質
確保上、ストリップの形状や液流れに影響され、電極間
距離の変更を行うことが少なくない）には、表裏の処理
液導入ヘッダーの間隔も変更しなければならず、メッキ
槽の構造も複雑とならざるを得なかった。
的に行うために、処理液導入ヘッダー下部にダムロール
を配設するが、ダムロールは電解処理に伴うスラッジの
噛み込みによって、製品疵の要因となったり、ダムロー
ルの処理槽の側面側液シール構造が複雑で、調整および
保全に手間を要する問題があった。 電解液を導入する処理液導入ヘッダーは電極の直近に
配置しているため、液流れに脈動やバラツキが生じ電解
処理ムラの原因となっていた。また、処理液導入ヘッダ
ー部が動圧のため、ストリップの表裏に圧力差を生じ、
ストリップが電極面に吸い付く現象や、ストリップを振
動させ、製品疵を発生させる原因となっていた。 処理液導入ヘッダーの構造が複雑で、精度確保の点か
ら高価なものとなっていた。 処理液導入ヘッダーの取り付け、取り外しに長時間を
要していた。特に、電極間隔を変更する場合（製品品質
確保上、ストリップの形状や液流れに影響され、電極間
距離の変更を行うことが少なくない）には、表裏の処理
液導入ヘッダーの間隔も変更しなければならず、メッキ
槽の構造も複雑とならざるを得なかった。
【０００５】このような従来技術の問題点に鑑み、本発
明の目的は、アップパス室とダウンパス室を分離し、ア
ップパス側およびダウンパス側ともストリップの進行方
向と処理液の流れ方向を逆勝手とし（相対流速の確
保）、同時に、処理液を効率的に電極間に導入させ、ま
た、従来のごとき複雑な処理液導入ヘッダーを省略し、
装置の簡素化を図ると共に、製品疵をなくし、品質の向
上を図った竪型電解処理装置を提供することにある。
明の目的は、アップパス室とダウンパス室を分離し、ア
ップパス側およびダウンパス側ともストリップの進行方
向と処理液の流れ方向を逆勝手とし（相対流速の確
保）、同時に、処理液を効率的に電極間に導入させ、ま
た、従来のごとき複雑な処理液導入ヘッダーを省略し、
装置の簡素化を図ると共に、製品疵をなくし、品質の向
上を図った竪型電解処理装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、処理槽内に、所定の間隔を置いて対向して配設した
電極間にストリップを走行させて電解処理を行う竪型電
解処理装置において、処理槽内をダウンパス室とアップ
パス室とに仕切壁で仕切ると同時に、浸漬ロールの上面
に仕切壁に連接した上シール板を配設し、かつ、浸漬ロ
ールの下面には処理槽の下端から連接した下シール板を
配設すると共に、アップパス室の上部に上処理液供給口
を配設し、かつ、ダウンパス室下部に下処理液供給口を
配設することによって解決を図る。
に、処理槽内に、所定の間隔を置いて対向して配設した
電極間にストリップを走行させて電解処理を行う竪型電
解処理装置において、処理槽内をダウンパス室とアップ
パス室とに仕切壁で仕切ると同時に、浸漬ロールの上面
に仕切壁に連接した上シール板を配設し、かつ、浸漬ロ
ールの下面には処理槽の下端から連接した下シール板を
配設すると共に、アップパス室の上部に上処理液供給口
を配設し、かつ、ダウンパス室下部に下処理液供給口を
配設することによって解決を図る。
【０００７】また、前記ダウンパス室とアップパス室と
を仕切る手段に加えて、処理槽の幅方向から浸漬ロール
の両端まで延長した外筒を配設し、かつ、外筒の浸漬ロ
ール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬ロール端面に
端面シールを配設することによって、アップパス室とダ
ウンパス室の仕切りを具体化したものである。
を仕切る手段に加えて、処理槽の幅方向から浸漬ロール
の両端まで延長した外筒を配設し、かつ、外筒の浸漬ロ
ール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬ロール端面に
端面シールを配設することによって、アップパス室とダ
ウンパス室の仕切りを具体化したものである。
【０００８】更に、電極への処理液を供給する方法に関
して、アップパス室では、上処理液供給口と電極上部と
の間に上整流板を配設し、かつ、ダウンパス室では、下
処理液供給口と電極下部との間に下整流板を配設するこ
とによって、従来の如く、複雑な処理液導入ヘッダーを
省略し、かつ、処理液の電極間への液流れを均一とする
ことができる。
して、アップパス室では、上処理液供給口と電極上部と
の間に上整流板を配設し、かつ、ダウンパス室では、下
処理液供給口と電極下部との間に下整流板を配設するこ
とによって、従来の如く、複雑な処理液導入ヘッダーを
省略し、かつ、処理液の電極間への液流れを均一とする
ことができる。
【０００９】
【実施例】図１に示すように、ストリップ２は入側コン
ダクターロール４および出側コンダクターロール５によ
り陰極（または陽極）に通電され、ストリップ２と対向
した電極３，３′が陽極（または陰極）に通電され、電
極３，３′間に処理液が導入され電解処理が行われる。
処理槽１は、ダウンパス室６とアップパス室７とに仕切
壁８によって仕切られている。浸漬ロール９の上面に
は、仕切壁８の下方に連接した上シール板１０を配設し
ている。シール板は弾力性のあるゴム板（厚さ６〜１０
mm）とし、仕切壁８とは帯板１２を介してボルト取り付
けとし、ゴム板と浸漬ロール９の上面とはオーバーラッ
プ（約１０〜２０mm）させるようにする。なお、ゴム板
は上下方向に調整可能とした方が好ましい。
ダクターロール４および出側コンダクターロール５によ
り陰極（または陽極）に通電され、ストリップ２と対向
した電極３，３′が陽極（または陰極）に通電され、電
極３，３′間に処理液が導入され電解処理が行われる。
処理槽１は、ダウンパス室６とアップパス室７とに仕切
壁８によって仕切られている。浸漬ロール９の上面に
は、仕切壁８の下方に連接した上シール板１０を配設し
ている。シール板は弾力性のあるゴム板（厚さ６〜１０
mm）とし、仕切壁８とは帯板１２を介してボルト取り付
けとし、ゴム板と浸漬ロール９の上面とはオーバーラッ
プ（約１０〜２０mm）させるようにする。なお、ゴム板
は上下方向に調整可能とした方が好ましい。
【００１０】浸漬ロール９の下面には、処理槽１の下端
から連接した開閉可能な下シール板１１を配設する。下
シール板１１は処理槽１の下端から延長したブラケット
に帯板を介してボルト１３取り付けとし、材料には樹脂
性を選定する。浸漬ロール９の下面と下シール板１１の
上面との隙間（Ｓ）は、可能な限り小さい（０．５〜１
mm）方が好ましい。そこで、図３のごとく下シール板１
１を開閉する手段として、エヤーシリンダー２０若しく
は電動方式によって行い、ストリップ２の板通し（スレ
ッディング）時の開放や上記Ｓ値の設定（微調）を行え
るようにする。この場合は処理槽１下部からシリンダー
ロッド２１を貫通させる必要があるため、ロッドシール
２２構造を提案する。
から連接した開閉可能な下シール板１１を配設する。下
シール板１１は処理槽１の下端から延長したブラケット
に帯板を介してボルト１３取り付けとし、材料には樹脂
性を選定する。浸漬ロール９の下面と下シール板１１の
上面との隙間（Ｓ）は、可能な限り小さい（０．５〜１
mm）方が好ましい。そこで、図３のごとく下シール板１
１を開閉する手段として、エヤーシリンダー２０若しく
は電動方式によって行い、ストリップ２の板通し（スレ
ッディング）時の開放や上記Ｓ値の設定（微調）を行え
るようにする。この場合は処理槽１下部からシリンダー
ロッド２１を貫通させる必要があるため、ロッドシール
２２構造を提案する。
【００１１】また、図２に示すように処理槽１の幅方向
から浸漬ロール９の両端まで延長した外筒１４を配設
し、かつ、外筒１４の浸漬ロール９端面方向に側板１６
を連接し、側板１６と浸漬ロール９端面に端面シール１
５を配設する。端面シール１５は浸漬ロール９が回転す
るため、メカニカルシールとするのが好ましい。処理液
の供給口は、アップパス室７では、上処理液供給口２４
と電極３，３′上部との間に上整流板１７を配設し、か
つ、ダウンパス室６では、下処理液供給口２５と電極
３，３′下部との間に下整流板１８を配設する。
から浸漬ロール９の両端まで延長した外筒１４を配設
し、かつ、外筒１４の浸漬ロール９端面方向に側板１６
を連接し、側板１６と浸漬ロール９端面に端面シール１
５を配設する。端面シール１５は浸漬ロール９が回転す
るため、メカニカルシールとするのが好ましい。処理液
の供給口は、アップパス室７では、上処理液供給口２４
と電極３，３′上部との間に上整流板１７を配設し、か
つ、ダウンパス室６では、下処理液供給口２５と電極
３，３′下部との間に下整流板１８を配設する。
【００１２】整流板は、処理液が電極３，３′間へ導入
するに際して、液流れをストリップ２の幅方向に均一と
なるように電極３，３′に向かって傾斜をつける。傾斜
角度（θ）は処理液の導入量によって異なるが、通常３
０°〜６０°が適当である。必要によっては整流板の下
面にガイド板を幅方向に設けると効果的である。
するに際して、液流れをストリップ２の幅方向に均一と
なるように電極３，３′に向かって傾斜をつける。傾斜
角度（θ）は処理液の導入量によって異なるが、通常３
０°〜６０°が適当である。必要によっては整流板の下
面にガイド板を幅方向に設けると効果的である。
【００１３】整流板は処理槽１の幅方向に設けたブラケ
ット２３にボルト締結されており、ストリップパスに対
して左右に移動できるように、ボルト穴は長穴としてい
る。また、整流板とブラケット２３との隙間は整流板下
部にゴム状のスカート１９を設けている。
ット２３にボルト締結されており、ストリップパスに対
して左右に移動できるように、ボルト穴は長穴としてい
る。また、整流板とブラケット２３との隙間は整流板下
部にゴム状のスカート１９を設けている。
【００１４】処理液の排出は、ダウンパス室６では、処
理槽１の上部に上部排出口２６を配設し、また、アップ
パス室７では、処理槽１の下部に下部排出口２７をそれ
ぞれ配設する。次に、電極３，３′の幅方向の側面は図
４に示すように処理液の幅方向からの流失を押さえる目
的でサイドシール２８を配設すると、より効果的であ
る。また、処理槽１下部のドレン口２９は処理槽１の処
理液の排出時に使用する。なお、本発明がこの実施例に
限定されないことは言うまでもない。
理槽１の上部に上部排出口２６を配設し、また、アップ
パス室７では、処理槽１の下部に下部排出口２７をそれ
ぞれ配設する。次に、電極３，３′の幅方向の側面は図
４に示すように処理液の幅方向からの流失を押さえる目
的でサイドシール２８を配設すると、より効果的であ
る。また、処理槽１下部のドレン口２９は処理槽１の処
理液の排出時に使用する。なお、本発明がこの実施例に
限定されないことは言うまでもない。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば次のような効果がある。
処理槽をダウンパス室とアップパス室とに仕切壁によ
って仕切ることによって、ストリップの進行方向と処理
液の流れ方向とが相対方向となり、極めて有効な電解処
理が可能となった。電極間への処理液の液流れは脈動
や幅方向のバラツキがなく、電解処理ムラ等の製品不良
を起こさない。また、ストリップの表裏に圧力差が生じ
ないため、電極への吸い付き現象やストリップが振動す
ることがなく、製品疵を起こす要因がなくなった。構
造が複雑な処理液導入ヘッダーが不要となり、処理槽の
構造がシンプルとなったため、製作費を大幅に削減でき
るようになった。また、保全が容易となり、電極間距離
の選定も簡単に行うことができるようになった。ダム
ロールの省略によって、製品疵がなくなり、また、ダム
ロールの調整の必要がなくなり、保全が容易となった。
処理槽をダウンパス室とアップパス室とに仕切壁によ
って仕切ることによって、ストリップの進行方向と処理
液の流れ方向とが相対方向となり、極めて有効な電解処
理が可能となった。電極間への処理液の液流れは脈動
や幅方向のバラツキがなく、電解処理ムラ等の製品不良
を起こさない。また、ストリップの表裏に圧力差が生じ
ないため、電極への吸い付き現象やストリップが振動す
ることがなく、製品疵を起こす要因がなくなった。構
造が複雑な処理液導入ヘッダーが不要となり、処理槽の
構造がシンプルとなったため、製作費を大幅に削減でき
るようになった。また、保全が容易となり、電極間距離
の選定も簡単に行うことができるようになった。ダム
ロールの省略によって、製品疵がなくなり、また、ダム
ロールの調整の必要がなくなり、保全が容易となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を示す側部断面図。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図。
【図３】図１のＢ部詳細図。
【図４】図１のＣ−Ｃ断面図。
【図５】従来の電解処理装置の側部断面図。
【図６】従来の電解処理装置の側部断面図。
【符号の説明】 １ 処理槽 ２ ストリップ ３，３′ 電極 ４ 入側コンダクタロール ５ 出側コンダクタロール ６ ダウンパス室 ７ アップパス室 ８ 仕切壁 ９ 浸漬ロール １０ 上シール板 １１ 下シール板 １２ 帯板 １３ ボルト １４ 外筒 １５ 端面シール １６ 側板 １７ 上整流板 １８ 下整流板 １９ スカート ２０ エヤーシリンダー ２１ シリンダーロッド ２２ ロッドシール ２３ ブラケット ２４ 上処理液供給口 ２５ 下処理液供給口 ２６ 上部排出口 ２７ 下部排出口 ２８ サイドシール ２９ ドレン口 ３０ ダムロール ３１ 処理液導入ヘッダー ３２ 処理液供給口 ３３ 電解槽
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年５月１５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 竪型電解処理装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ストリップの竪型電解
処理装置に関するものである。
処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ストリップに電解処理を施す竪型処理装
置は、図５に示すように処理液を処理槽１の下部から導
入させ、上部よりオーバーフローさせる構造が一般的で
あり広く用いられている。近年、電解処理装置の高効率
化を目的として、図６に示すように処理液をストリップ
２に対して、電極３，３′入口の直近に、処理液導入ヘ
ッダー３１を配設した構造が数多く提供されるようにな
った。例えば、特公平３−３５３９５号公報記載の提案
の場合、図６に示す通り、ストリップ２と電極３，３′
間に処理液を供給し、ストリップ２と処理液との間に攪
拌効果を与え、高い電流密度を得る方法が提案されてい
る。この場合、処理液導入ヘッダー３１からの液供給を
効率的に行うために、処理液導入ヘッダー３１の下部に
ダムロール３０を配設していた。
置は、図５に示すように処理液を処理槽１の下部から導
入させ、上部よりオーバーフローさせる構造が一般的で
あり広く用いられている。近年、電解処理装置の高効率
化を目的として、図６に示すように処理液をストリップ
２に対して、電極３，３′入口の直近に、処理液導入ヘ
ッダー３１を配設した構造が数多く提供されるようにな
った。例えば、特公平３−３５３９５号公報記載の提案
の場合、図６に示す通り、ストリップ２と電極３，３′
間に処理液を供給し、ストリップ２と処理液との間に攪
拌効果を与え、高い電流密度を得る方法が提案されてい
る。この場合、処理液導入ヘッダー３１からの液供給を
効率的に行うために、処理液導入ヘッダー３１の下部に
ダムロール３０を配設していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図５で提案されている
電解処理装置では、電解液が電極の裏側に廻り込み有効
に生かされていない問題があり、効率的な電解処理がで
きなかった。また、図６で提案されている電解処理装置
では、確かに効率的な電解処理が行えるようになった
が、次のような問題がある。
電解処理装置では、電解液が電極の裏側に廻り込み有効
に生かされていない問題があり、効率的な電解処理がで
きなかった。また、図６で提案されている電解処理装置
では、確かに効率的な電解処理が行えるようになった
が、次のような問題がある。
【０００４】処理液導入ヘッダーからの液供給を効率
的に行うために、処理液導入ヘッダー下部にダムロール
を配設するが、ダムロールは電解処理に伴うスラッジの
噛み込みによって、製品疵の要因となったり、ダムロー
ルの処理槽の側面側液シール構造が複雑で、調整および
保全に手間を要する問題があった。 電解液を導入する処理液導入ヘッダーは電極の直近に
配置しているため、液流れに脈動やバラツキが生じ電解
処理ムラの原因となっていた。また、処理液導入ヘッダ
ー部が動圧のため、ストリップの表裏に圧力差を生じ、
ストリップが電極面に吸い付く現象や、ストリップを振
動させ、製品疵を発生させる原因となっていた。 処理液導入ヘッダーの構造が複雑で、精度確保の点か
ら高価なものとなっていた。 処理液導入ヘッダーの取り付け、取り外しに長時間を
要していた。特に、電極間隔を変更する場合（製品品質
確保上、ストリップの形状や液流れに影響され、電極間
距離の変更を行うことが少なくない）には、表裏の処理
液導入ヘッダーの間隔も変更しなければならず、メッキ
槽の構造も複雑とならざるを得なかった。
的に行うために、処理液導入ヘッダー下部にダムロール
を配設するが、ダムロールは電解処理に伴うスラッジの
噛み込みによって、製品疵の要因となったり、ダムロー
ルの処理槽の側面側液シール構造が複雑で、調整および
保全に手間を要する問題があった。 電解液を導入する処理液導入ヘッダーは電極の直近に
配置しているため、液流れに脈動やバラツキが生じ電解
処理ムラの原因となっていた。また、処理液導入ヘッダ
ー部が動圧のため、ストリップの表裏に圧力差を生じ、
ストリップが電極面に吸い付く現象や、ストリップを振
動させ、製品疵を発生させる原因となっていた。 処理液導入ヘッダーの構造が複雑で、精度確保の点か
ら高価なものとなっていた。 処理液導入ヘッダーの取り付け、取り外しに長時間を
要していた。特に、電極間隔を変更する場合（製品品質
確保上、ストリップの形状や液流れに影響され、電極間
距離の変更を行うことが少なくない）には、表裏の処理
液導入ヘッダーの間隔も変更しなければならず、メッキ
槽の構造も複雑とならざるを得なかった。
【０００５】このような従来技術の問題点に鑑み、本発
明の目的は、アップパス室とダウンパス室を分離し、ア
ップパス側およびダウンパス側ともストリップの進行方
向と処理液の流れ方向を逆勝手とし（相対流速の確
保）、同時に、処理液を効率的に電極間に導入させ、ま
た、従来のごとき複雑な処理液導入ヘッダーを省略し、
装置の簡素化を図ると共に、製品疵をなくし、品質の向
上を図った竪型電解処理装置を提供することにある。
明の目的は、アップパス室とダウンパス室を分離し、ア
ップパス側およびダウンパス側ともストリップの進行方
向と処理液の流れ方向を逆勝手とし（相対流速の確
保）、同時に、処理液を効率的に電極間に導入させ、ま
た、従来のごとき複雑な処理液導入ヘッダーを省略し、
装置の簡素化を図ると共に、製品疵をなくし、品質の向
上を図った竪型電解処理装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、処理槽内に、所定の間隔を置いて対向して配設した
電極間にストリップを走行させて電解処理を行う竪型電
解処理装置において、処理槽内をダウンパス室とアップ
パス室とに仕切壁で仕切ると同時に、浸漬ロールの上面
に仕切壁に連接した上シール板を配設し、かつ、浸漬ロ
ールの下面には処理槽の下端から連接した下シール板を
配設すると共に、アップパス室の上部に上処理液供給口
を配設し、かつ、ダウンパス室下部に下処理液供給口を
配設することによって解決を図る。
に、処理槽内に、所定の間隔を置いて対向して配設した
電極間にストリップを走行させて電解処理を行う竪型電
解処理装置において、処理槽内をダウンパス室とアップ
パス室とに仕切壁で仕切ると同時に、浸漬ロールの上面
に仕切壁に連接した上シール板を配設し、かつ、浸漬ロ
ールの下面には処理槽の下端から連接した下シール板を
配設すると共に、アップパス室の上部に上処理液供給口
を配設し、かつ、ダウンパス室下部に下処理液供給口を
配設することによって解決を図る。
【０００７】また、前記ダウンパス室とアップパス室と
を仕切る手段に加えて、処理槽の幅方向から浸漬ロール
の両端まで延長した外筒を配設し、かつ、外筒の浸漬ロ
ール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬ロール端面に
端面シールを配設することによって、アップパス室とダ
ウンパス室の仕切りを具体化したものである。
を仕切る手段に加えて、処理槽の幅方向から浸漬ロール
の両端まで延長した外筒を配設し、かつ、外筒の浸漬ロ
ール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬ロール端面に
端面シールを配設することによって、アップパス室とダ
ウンパス室の仕切りを具体化したものである。
【０００８】更に、電極への処理液を供給する方法に関
して、アップパス室では、上処理液供給口と電極上部と
の間に上整流板を配設し、かつ、ダウンパス室では、下
処理液供給口と電極下部との間に下整流板を配設するこ
とによって、従来の如く、複雑な処理液導入ヘッダーを
省略し、かつ、処理液の電極間への液流れを均一とする
ことができる。
して、アップパス室では、上処理液供給口と電極上部と
の間に上整流板を配設し、かつ、ダウンパス室では、下
処理液供給口と電極下部との間に下整流板を配設するこ
とによって、従来の如く、複雑な処理液導入ヘッダーを
省略し、かつ、処理液の電極間への液流れを均一とする
ことができる。
【０００９】
【実施例】図１に示すように、ストリップ２は入側コン
ダクターロール４および出側コンダクターロール５によ
り陰極（または陽極）に通電され、ストリップ２と対向
した電極３，３′が陽極（または陰極）に通電され、電
極３，３′間に処理液が導入され電解処理が行われる。
処理槽１は、ダウンパス室６とアップパス室７とに仕切
壁８によって仕切られている。浸漬ロール９の上面に
は、仕切壁８の下方に連接した上シール板１０を配設し
ている。シール板は弾力性のあるゴム板（厚さ６〜１０
mm）とし、仕切壁８とは帯板１２を介してボルト取り付
けとし、ゴム板と浸漬ロール９の上面とはオーバーラッ
プ（約１０〜２０mm）させるようにする。なお、ゴム板
は上下方向に調整可能とした方が好ましい。
ダクターロール４および出側コンダクターロール５によ
り陰極（または陽極）に通電され、ストリップ２と対向
した電極３，３′が陽極（または陰極）に通電され、電
極３，３′間に処理液が導入され電解処理が行われる。
処理槽１は、ダウンパス室６とアップパス室７とに仕切
壁８によって仕切られている。浸漬ロール９の上面に
は、仕切壁８の下方に連接した上シール板１０を配設し
ている。シール板は弾力性のあるゴム板（厚さ６〜１０
mm）とし、仕切壁８とは帯板１２を介してボルト取り付
けとし、ゴム板と浸漬ロール９の上面とはオーバーラッ
プ（約１０〜２０mm）させるようにする。なお、ゴム板
は上下方向に調整可能とした方が好ましい。
【００１０】浸漬ロール９の下面には、処理槽１の下端
から連接した開閉可能な下シール板１１を配設する。下
シール板１１は処理槽１の下端から延長したブラケット
に帯板を介してボルト１３取り付けとし、材料には樹脂
性を選定する。浸漬ロール９の下面と下シール板１１の
上面との隙間（Ｓ）は、可能な限り小さい（０．５〜１
mm）方が好ましい。そこで、図３のごとく下シール板１
１を開閉する手段として、エヤーシリンダー２０若しく
は電動方式によって行い、ストリップ２の板通し（スレ
ッディング）時の開放や上記Ｓ値の設定（微調）を行え
るようにする。この場合は処理槽１下部からシリンダー
ロッド２１を貫通させる必要があるため、ロッドシール
２２構造を提案する。
から連接した開閉可能な下シール板１１を配設する。下
シール板１１は処理槽１の下端から延長したブラケット
に帯板を介してボルト１３取り付けとし、材料には樹脂
性を選定する。浸漬ロール９の下面と下シール板１１の
上面との隙間（Ｓ）は、可能な限り小さい（０．５〜１
mm）方が好ましい。そこで、図３のごとく下シール板１
１を開閉する手段として、エヤーシリンダー２０若しく
は電動方式によって行い、ストリップ２の板通し（スレ
ッディング）時の開放や上記Ｓ値の設定（微調）を行え
るようにする。この場合は処理槽１下部からシリンダー
ロッド２１を貫通させる必要があるため、ロッドシール
２２構造を提案する。
【００１１】また、図２に示すように処理槽１の幅方向
から浸漬ロール９の両端まで延長した外筒１４を配設
し、かつ、外筒１４の浸漬ロール９端面方向に側板１６
を連接し、側板１６と浸漬ロール９端面に端面シール１
５を配設する。端面シール１５は浸漬ロール９が回転す
るため、メカニカルシールとするのが好ましい。処理液
の供給口は、アップパス室７では、上処理液供給口２４
と電極３，３′上部との間に上整流板１７を配設し、か
つ、ダウンパス室６では、下処理液供給口２５と電極
３，３′下部との間に下整流板１８を配設する。
から浸漬ロール９の両端まで延長した外筒１４を配設
し、かつ、外筒１４の浸漬ロール９端面方向に側板１６
を連接し、側板１６と浸漬ロール９端面に端面シール１
５を配設する。端面シール１５は浸漬ロール９が回転す
るため、メカニカルシールとするのが好ましい。処理液
の供給口は、アップパス室７では、上処理液供給口２４
と電極３，３′上部との間に上整流板１７を配設し、か
つ、ダウンパス室６では、下処理液供給口２５と電極
３，３′下部との間に下整流板１８を配設する。
【００１２】整流板は、処理液が電極３，３′間へ導入
するに際して、液流れをストリップ２の幅方向に均一と
なるように電極３，３′に向かって傾斜をつける。傾斜
角度（θ）は処理液の導入量によって異なるが、通常３
０°〜６０°が適当である。必要によっては整流板の下
面にガイド板を幅方向に設けると効果的である。
するに際して、液流れをストリップ２の幅方向に均一と
なるように電極３，３′に向かって傾斜をつける。傾斜
角度（θ）は処理液の導入量によって異なるが、通常３
０°〜６０°が適当である。必要によっては整流板の下
面にガイド板を幅方向に設けると効果的である。
【００１３】整流板は処理槽１の幅方向に設けたブラケ
ット２３にボルト締結されており、ストリップパスに対
して左右に移動できるように、ボルト穴は長穴としてい
る。また、整流板とブラケット２３との隙間は整流板下
部にゴム状のスカート１９を設けている。
ット２３にボルト締結されており、ストリップパスに対
して左右に移動できるように、ボルト穴は長穴としてい
る。また、整流板とブラケット２３との隙間は整流板下
部にゴム状のスカート１９を設けている。
【００１４】処理液の排出は、ダウンパス室６では、処
理槽１の上部に上部排出口２６を配設し、また、アップ
パス室７では、処理槽１の下部に下部排出口２７をそれ
ぞれ配設する。次に、電極３，３′の幅方向の側面は図
４に示すように処理液の幅方向からの流失を押さえる目
的でサイドシール２８を配設すると、より効果的であ
る。また、処理槽１下部のドレン口２９は処理槽１の処
理液の排出時に使用する。なお、本発明がこの実施例に
限定されないことは言うまでもない。
理槽１の上部に上部排出口２６を配設し、また、アップ
パス室７では、処理槽１の下部に下部排出口２７をそれ
ぞれ配設する。次に、電極３，３′の幅方向の側面は図
４に示すように処理液の幅方向からの流失を押さえる目
的でサイドシール２８を配設すると、より効果的であ
る。また、処理槽１下部のドレン口２９は処理槽１の処
理液の排出時に使用する。なお、本発明がこの実施例に
限定されないことは言うまでもない。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば次のような効果がある。
処理槽をダウンパス室とアップパス室とに仕切壁によ
って仕切ることによって、ストリップの進行方向と処理
液の流れ方向とが相対方向となり、極めて有効な電解処
理が可能となった。電極間への処理液の液流れは脈動
や幅方向のバラツキがなく、電解処理ムラ等の製品不良
を起こさない。また、ストリップの表裏に圧力差が生じ
ないため、電極への吸い付き現象やストリップが振動す
ることがなく、製品疵を起こす要因がなくなった。構
造が複雑な処理液導入ヘッダーが不要となり、処理槽の
構造がシンプルとなったため、製作費を大幅に削減でき
るようになった。また、保全が容易となり、電極間距離
の選定も簡単に行うことができるようになった。ダム
ロールの省略によって、製品疵がなくなり、また、ダム
ロールの調整の必要がなくなり、保全が容易となった。
処理槽をダウンパス室とアップパス室とに仕切壁によ
って仕切ることによって、ストリップの進行方向と処理
液の流れ方向とが相対方向となり、極めて有効な電解処
理が可能となった。電極間への処理液の液流れは脈動
や幅方向のバラツキがなく、電解処理ムラ等の製品不良
を起こさない。また、ストリップの表裏に圧力差が生じ
ないため、電極への吸い付き現象やストリップが振動す
ることがなく、製品疵を起こす要因がなくなった。構
造が複雑な処理液導入ヘッダーが不要となり、処理槽の
構造がシンプルとなったため、製作費を大幅に削減でき
るようになった。また、保全が容易となり、電極間距離
の選定も簡単に行うことができるようになった。ダム
ロールの省略によって、製品疵がなくなり、また、ダム
ロールの調整の必要がなくなり、保全が容易となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を示す側部断面図。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図。
【図３】図１のＢ部詳細図。
【図４】図１のＣ−Ｃ断面図。
【図５】従来の電解処理装置の側部断面図。
【図６】従来の電解処理装置の側部断面図。
【符号の説明】 １ 処理槽 ２ ストリップ ３，３′ 電極 ４ 入側コンダクタロール ５ 出側コンダクタロール ６ ダウンパス室 ７ アップパス室 ８ 仕切壁 ９ 浸漬ロール １０ 上シール板 １１ 下シール板 １２ 帯板 １３ ボルト １４ 外筒 １５ 端面シール １６ 側板 １７ 上整流板 １８ 下整流板 １９ スカート ２０ エヤーシリンダー ２１ シリンダーロッド ２２ ロッドシール ２３ ブラケット ２４ 上処理液供給口 ２５ 下処理液供給口 ２６ 上部排出口 ２７ 下部排出口 ２８ サイドシール ２９ ドレン口 ３０ ダムロール ３１ 処理液導入ヘッダー ３２ 処理液供給口 ３３ 電解槽
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 嶋村 美智広 北九州市戸畑区大字中原46−59 新日本製 鐵株式会社機械・プラント事業部内 (72)発明者 増田 修司 北九州市戸畑区大字中原46−59 日鐵プラ ント設計株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 処理槽内に、所定の間隔を置いて対向し
て配設した電極間にストリップを走行させて電解処理を
行う竪型電解処理装置において、処理槽内をダウンパス
室とアップパス室とに仕切壁で仕切ると同時に、浸漬ロ
ールの上面に仕切壁に連接した上シール板を配設し、か
つ、浸漬ロールの下面には処理槽の下端から連接した下
シール板を配設すると共に、アップパス室の上部に上処
理液供給口を配設し、かつ、ダウンパス室下部に下処理
液供給口を配設したことを特徴とする竪型電解処理装
置。 - 【請求項２】 請求項１において、処理槽の幅方向から
浸漬ロールの両端まで延長した外筒を配設し、かつ、外
筒の浸漬ロール端面方向に側板を連接し、側板と浸漬ロ
ール端面に端面シールを設けたことを特徴とする竪型電
解処理装置。 - 【請求項３】 請求項１において、上処理液供給口と電
極上部との間に上整流板を配設し、かつ、下処理液供給
口と電極下部との間に下整流板を配設したことを特徴と
する竪型電解処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07720394A JP3302170B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | 竪型電解処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07720394A JP3302170B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | 竪型電解処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07278886A true JPH07278886A (ja) | 1995-10-24 |
| JP3302170B2 JP3302170B2 (ja) | 2002-07-15 |
Family
ID=13627277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07720394A Expired - Lifetime JP3302170B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | 竪型電解処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3302170B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100418404B1 (ko) * | 2001-07-23 | 2004-02-11 | 주식회사 포스코건설 | 불용성 양극을 사용하는 수직형 전기도금 장치 |
| KR100483310B1 (ko) * | 1997-05-16 | 2005-08-31 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 건조처리방법및그장치 |
| JP2011105964A (ja) * | 2009-11-12 | 2011-06-02 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 鋼帯の電気めっき装置 |
| JP2013194288A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp | 電気めっき鋼板の製造方法及び製造装置 |
-
1994
- 1994-04-15 JP JP07720394A patent/JP3302170B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100483310B1 (ko) * | 1997-05-16 | 2005-08-31 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 건조처리방법및그장치 |
| KR100418404B1 (ko) * | 2001-07-23 | 2004-02-11 | 주식회사 포스코건설 | 불용성 양극을 사용하는 수직형 전기도금 장치 |
| JP2011105964A (ja) * | 2009-11-12 | 2011-06-02 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 鋼帯の電気めっき装置 |
| JP2013194288A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp | 電気めっき鋼板の製造方法及び製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3302170B2 (ja) | 2002-07-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2477808A (en) | Electrolytic apparatus for treatment of moving strip | |
| CA2054374A1 (en) | Method and apparatus for applying surface treatment to metal foil | |
| JPH07278886A (ja) | 竪型電解処理装置 | |
| US4132609A (en) | Method of and apparatus for electrolytic treatment of metal | |
| US6589399B1 (en) | Electrolysis apparatus having liquid squeezer out of contact with strip | |
| US3468783A (en) | Electroplating apparatus | |
| RU2010894C1 (ru) | Горизонтальная ячейка с растворимыми анодами для непрерывной электролитической обработки полосы | |
| KR970074984A (ko) | 알미늄판의 연속 전해에칭, 산화피막 형성방법 및 형성장치 | |
| NL8602055A (nl) | Elektrolytische bekledingsinrichting in de vorm van een radiale cel. | |
| US2326624A (en) | Electroplating apparatus | |
| JPH0762593A (ja) | 竪型噴流電解装置 | |
| RU1702721C (ru) | Устройство для вневанного электроосаждения покрытий | |
| US4326942A (en) | Device for electrolyzing metals | |
| JPH05171495A (ja) | 竪型噴流メッキ装置 | |
| JPS59116398A (ja) | 横型電気めつき法 | |
| JPH02240300A (ja) | 電解処理装置 | |
| JPH07278885A (ja) | 水平型連続電解処理装置のエッジマスク | |
| EP0364013A1 (en) | Method and apparatus for the electrolytic coating of one side of a moving metal strip | |
| JPH0730688Y2 (ja) | 垂直型電気めっき装置 | |
| JPS5996294A (ja) | ストリツプの電解表面処理方法 | |
| JPS6067698A (ja) | ウエブ冷却方法 | |
| US3398070A (en) | Mercury-cathode chlorine cells | |
| JPH036394A (ja) | 水平めっき槽 | |
| KR910004971B1 (ko) | 금속스트립 전기처리 장치 | |
| JPH08277492A (ja) | 水平型電気めっき装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020319 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313122 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090426 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090426 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100426 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100426 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110426 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120426 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130426 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140426 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |