JPH07267942A - Bis(3-(4-substituted coumaryl))ketone compound and photosensitizer - Google Patents
Bis(3-(4-substituted coumaryl))ketone compound and photosensitizerInfo
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- JPH07267942A JPH07267942A JP6245894A JP6245894A JPH07267942A JP H07267942 A JPH07267942 A JP H07267942A JP 6245894 A JP6245894 A JP 6245894A JP 6245894 A JP6245894 A JP 6245894A JP H07267942 A JPH07267942 A JP H07267942A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、新規な化合物であるビ
ス〔3−(4−置換クマリル)〕ケトン化合物および光
硬化樹脂に用いる光増感剤に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel compound, a bis [3- (4-substituted coumaryl)] ketone compound and a photosensitizer for use in a photocurable resin.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
光重合反応を用いた情報記録の分野で、従来のフイルム
原稿等を用いた紫外線による記録方法の代わりにコンピ
ューターによって電子編集された原稿をそのまま直接レ
ーザーを用いて出力し記録する方法が検討されている。
しかしながら、現在、一般的に使用されている高出力で
安定なレーザー光源は、例えば、アルゴンレーザーの様
に可視領域にその出力波長を有するものが多く、従来使
用されてきた紫外線用の感光剤では、可視域での感度が
低いため使用できなかった。また、ピリリウム塩、また
はチオピリリウム塩類等の添加で、可視部での感度の向
上は可能であるが、その感光層の保存安定性が低く、使
用するのが困難であった。2. Description of the Related Art In recent years,
In the field of information recording using photopolymerization reaction, a method of directly outputting a document directly electronically edited by a computer and recording it directly using a laser is examined instead of the conventional recording method using ultraviolet rays using a film document or the like. There is.
However, most of the commonly used high-power and stable laser light sources at present have an output wavelength in the visible region, such as an argon laser, and are not used in the conventionally used UV photosensitizers. , It could not be used because of its low sensitivity in the visible range. Further, although the sensitivity in the visible region can be improved by adding a pyrylium salt or a thiopyrylium salt, the storage stability of the photosensitive layer is low and it is difficult to use.
【0003】従来、ビス〔3−(4−置換クマリル)〕
ケトン誘導体は、4−位が無置換の場合、450nm付
近に最大波長を有しているが、一般的に用いられている
レーザー光源波長は、それよりも長波長のものが多く、
その理由で光増感剤として十分な感度が得られない場合
が少なくなかった。Conventionally, bis [3- (4-substituted coumaryl)]
When the 4-position is unsubstituted, the ketone derivative has a maximum wavelength near 450 nm, but generally used laser light source wavelengths are often longer than that.
For that reason, there are many cases where sufficient sensitivity cannot be obtained as a photosensitizer.
【0004】例えば、ビス〔3−(7−ジエチルアミノ
クマリル)〕ケトンは、最大吸収波長は450nm前後
にあるために、アルゴンレーザーの488nmよりは3
0〜40nm短波長であり、感度向上の余地を残してい
る。また、或範囲内では、光増感剤の樹脂中への導入率
と感度の間には正の相関関係が成立するので、その範囲
内ではできるだけ多く樹脂中に安定に溶解している方が
望ましい。しかるに、これについても上記化合物は溶解
性が不良のために、樹脂中への光増感剤の導入率が不足
し、目的の感度が得られていないのが現状である。ま
た、4−位をシアノ化すれば、化合物の極大吸収波長の
より長波長側への移行(以下、単に長波長化という)は
可能であるが、樹脂への溶解性や保存安定性を損なう場
合が多かった。For example, bis [3- (7-diethylaminocoumaryl)] ketone has a maximum absorption wavelength of around 450 nm, so that it is more than 3 nm from 488 nm of an argon laser.
It has a short wavelength of 0 to 40 nm, leaving room for improvement in sensitivity. Further, within a certain range, a positive correlation is established between the rate of introduction of the photosensitizer into the resin and the sensitivity. Therefore, within that range, it is preferable that the photosensitizer is stably dissolved in the resin as much as possible. desirable. However, even in this case, since the above compound has poor solubility, the introduction rate of the photosensitizer into the resin is insufficient, and the target sensitivity is not obtained at present. Further, if the 4-position is cyanated, it is possible to shift the maximum absorption wavelength of the compound to a longer wavelength side (hereinafter, simply referred to as longer wavelength), but the solubility in the resin and the storage stability are impaired. There were many cases.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するため鋭意検討した結果、前記一般式(1)で
表される化合物を見いだし、本発明を完成した。即ち、
本発明は、一般式(1)(化3)Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention found a compound represented by the general formula (1) and completed the present invention. That is,
The present invention is represented by the general formula (1)
【0006】[0006]
【化3】 [Chemical 3]
【0007】[式中、R1,R2はそれぞれ同一または独
立に水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ア
ルケニル基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル基、ア
リール基、アルコキシカルボニルアルキル基を示し、互
いに結合するか、骨格内のアミノ基の置換したベンゼン
核と結合して環を形成していても良く、R3は、水素原
子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシア
ルキル基、ハロゲノアルキル基、水酸基、アルコキシ
基、アルコキシアルコキシ基、スルホン酸基、ハロゲン
原子を示し、R4は、アルコキシ基、シクロアルコキシ
基、水酸基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、
アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコキシ
基、アルキルカルボニルアルコキシ基、或いは次の置換
基(化4)を示す。[Wherein R 1 and R 2 are the same or independently of each other and represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group, a hydroxyalkyl group, an aralkyl group, an aryl group or an alkoxycarbonylalkyl group, which are bonded to each other. Or may be bonded to a benzene nucleus substituted with an amino group in the skeleton to form a ring, and R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyalkyl group, a hydroxyalkyl group, a halogenoalkyl group, a hydroxyl group, Represents an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, a sulfonic acid group, a halogen atom, R 4 represents an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a hydroxyl group, an aryloxy group, an alkenyloxy group,
An aralkyloxy group, an alkoxycarbonylalkoxy group, an alkylcarbonylalkoxy group, or the following substituent (Formula 4) is shown.
【0008】[0008]
【化4】 [Chemical 4]
【0009】(ここで、R5〜R8は、水素原子、アルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシア
ルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基を
示し、n,mは、それぞれ1〜5の整数を示す。)]で
表されるビス〔3−(4−置換クマリル)〕ケトン化合
物および光増感剤を提供するものである。(Wherein R 5 to R 8 represent a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxyalkyl group, a hydroxyalkoxyalkyl group, an alkoxyalkyl group, and a cycloalkyl group, and n and m are integers of 1 to 5, respectively. The present invention provides a bis [3- (4-substituted coumaryl)] ketone compound represented by the formula) and a photosensitizer.
【0010】この本発明の化合物は、光増感剤として有
用な新規のビス(3−クマリル)ケトン化合物である。
即ち、ビス(3−クマリル)ケトン骨格の4−位へ置換
カルボニル基を導入したことにより、極大吸収波長の長
波長化と樹脂中への高溶解性を同時に実現したものであ
り、光硬化樹脂、例えば、エチレン型不飽和結合を分子
中に少なくとも1個以上有する光重合または光架橋可能
な化合物、及び光重合開始剤を用いる光硬化に適用可能
な光増加剤として極めて有用な化合物である。The compound of the present invention is a novel bis (3-coumaryl) ketone compound useful as a photosensitizer.
That is, by introducing a substituted carbonyl group into the 4-position of the bis (3-coumaryl) ketone skeleton, the wavelength of the maximum absorption wavelength and the high solubility in the resin were realized at the same time. For example, a photopolymerizable or photocrosslinkable compound having at least one ethylenic unsaturated bond in the molecule, and a compound extremely useful as a photoincrease applicable to photocuring using a photopolymerization initiator.
【0011】更に、従来の光増感剤は塗布方式の違いに
よって感度が大きく変動していたが、本発明の光増感剤
は、いずれの方式においても安定した感度を示し、市場
の要望を十分に満足させるものである。以下、本発明を
詳細に説明する。本発明の化合物は、一般式(1)(化
5)Further, the sensitivity of conventional photosensitizers fluctuates largely depending on the coating method, but the photosensitizer of the present invention shows stable sensitivity in any of the methods, and the demand of the market is high. It is a very satisfying one. Hereinafter, the present invention will be described in detail. The compound of the present invention has the general formula (1)
【0012】[0012]
【化5】 [Chemical 5]
【0013】で表される構造式で明らかなように、4−
位に置換カルボニル基を有することを特徴とするビス
(3−クマリル)ケトン化合物である。一般式(1)に
おいて、R1及びR2は水素原子、アルキル基、アルコキ
シアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基、
アラルキル基、アリール基、アルコキシカルボニルアル
キル基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよ
い。As is clear from the structural formula represented by
A bis (3-coumaryl) ketone compound having a substituted carbonyl group at the position. In the general formula (1), R 1 and R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group, a hydroxyalkyl group,
It represents an aralkyl group, an aryl group, or an alkoxycarbonylalkyl group, which may be the same or different.
【0014】具体的には、水素原子;メチル、エチル、
n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso
−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、n−ヘキシル基等のアルキル基;メトキシメチル、
メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル、γ
−エトキシプロピル基等のアルコキシアルキル基;アリ
ル、2−ブテニル、2−ペンテニル基等のアルケニル
基;ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、2−ヒドロ
キシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキ
シブチル基等のヒドロキシアルキル基;ベンジル、フェ
ネチル基等のアラルキル基;フェニル、p−メチルフェ
ニル、m−メチルフェニル、o−メチルフェニル、2,
4−ジメチルフェニル基等のアリール基;メトキシカル
ボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカ
ルボニルエチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基
等が挙げられる。また、R1とR2が互いに結合し、また
は骨格内のアミノ基が置換しているベンゼン核と結合し
て、次の様な環を形成してもよい。Specifically, a hydrogen atom; methyl, ethyl,
n-propyl, iso-propyl, n-butyl, iso
-Butyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl, n-hexyl and other alkyl groups; methoxymethyl,
Methoxyethyl, ethoxymethyl, ethoxyethyl, γ
-Alkoxyalkyl groups such as ethoxypropyl group; alkenyl groups such as allyl, 2-butenyl and 2-pentenyl groups; hydroxyalkyl such as hydroxymethyl, hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 3-hydroxypropyl and 2-hydroxybutyl groups. Groups; aralkyl groups such as benzyl and phenethyl groups; phenyl, p-methylphenyl, m-methylphenyl, o-methylphenyl, 2,
An aryl group such as 4-dimethylphenyl group; an alkoxycarbonylalkyl group such as methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylethyl group and the like. Further, R 1 and R 2 may be bonded to each other or to a benzene nucleus substituted by an amino group in the skeleton to form the following ring.
【0015】[0015]
【化6】 [Chemical 6]
【0016】[これらの環において、R2,R3は前記と
同じ意味を示す。] また、一般式(1)において、R3は、水素原子、アル
キル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、ハロゲノアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アル
コキシアルコキシ基、スルホン酸基、ハロゲン原子を示
し、具体的には、水素原子;メチル、エチル、n−プロ
ピル、iso−プロピル、n−ブチル基等のアルキル
基;メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基;ヒド
ロキシメチル、ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロ
ピル、3−ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシアルキ
ル基;クロロメチル、トリフルオロメチル基等のハロゲ
ノアルキル基;水酸基;メトキシ、エトキシ、n−プロ
ポキシ、iso−プロポキシ、n−ブトキシ、iso−
ブトキシ、sec−ブトキシ、t−ブトキシ、n−ペン
チルオキシ、n−ヘキシルオキシ等のアルコキシ基;メ
トキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキシメトキ
シ、エトキシエトキシ、n−プロポキシエトキシ等のア
ルコキシアルコキシ基;スルホン酸基;フッ素、塩素、
臭素等のハロゲン原子等が挙げられる。同様に一般式
(1)において、R4はアルコキシ基、シクロアルコキ
シ基、水酸基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ
基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコ
キシ基、アルキルカルボニルアルコキシ基、あるいは次
の置換基(化7)である。[In these rings, R 2 and R 3 have the same meanings as described above. Further, in the general formula (1), R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyalkyl group, a hydroxyalkyl group, a halogenoalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, a sulfonic acid group or a halogen atom, Specifically, a hydrogen atom; an alkyl group such as methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, and n-butyl group; an alkoxyalkyl group such as methoxymethyl, methoxyethyl, ethoxymethyl, ethoxyethyl group; hydroxymethyl, Hydroxyalkyl groups such as hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl and 3-hydroxypropyl groups; halogenoalkyl groups such as chloromethyl and trifluoromethyl groups; hydroxyl groups; methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy, n-butoxy, iso-
An alkoxy group such as butoxy, sec-butoxy, t-butoxy, n-pentyloxy, n-hexyloxy; an alkoxyalkoxy group such as methoxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxymethoxy, ethoxyethoxy, n-propoxyethoxy; a sulfonic acid group; Fluorine, chlorine,
Examples thereof include halogen atoms such as bromine. Similarly, in the general formula (1), R 4 is an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a hydroxyl group, an aryloxy group, an alkenyloxy group, an aralkyloxy group, an alkoxycarbonylalkoxy group, an alkylcarbonylalkoxy group, or the following substituent 7).
【0017】[0017]
【化7】 [Chemical 7]
【0018】(ここで、R5〜R8およびn,mは、前記
と同じ意味をを示す。)(Here, R 5 to R 8 and n and m have the same meanings as described above.)
【0019】R4の例としては、メトキシ、エトキシ、
n−プロポキシ、iso−プロポキシ、n−ブトキシ、
iso−ブトキシ、sec−ブトキシ、t−ブトキシ、
n−ペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、n−ヘプチ
ルオキシ、n−オクチルオキシ基等のアルコキシ基;シ
クロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ基等のシク
ロアルコキシ基;水酸基;フェノキシ、p−メチルフェ
ノキシ、m−メチルフェノキシ、o−メチルフェノキ
シ、2,4−ジメチルフェノキシ、2,6−ジメチルフ
ェノキシ、2,4,6−トリメチルフェノキシ、4−フ
ェニルフェノキシ基等のアリールオキシ基;プロペノキ
シ、2−ブテノキシ基等のアルケニルオキシ基;ベンジ
ルオキシ、メチルベンジルオキシ、フェネチルオキシ基
等のアラルキルオキシ基;メトキシカルボニルメトキ
シ、エトキシカルボニルメトキシ、n−プロポキシカル
ボニルメトキシ、iso−プロポキシカルボニルメトキ
シ基等のアルコキシカルボニルアルコキシ基;メチルカ
ルボニルメトキシ、エチルカルボニルメトキシ基等のア
ルキルカルボニルアルコキシ基;ヒドロキシメチトキ
シ、ヒドロキシエトキシ、2−ヒドロキシプロポキシ、
3−ヒドロキシプロポキシ基等のヒドロキシアルコキシ
基;メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキシメ
トキシ、エトキシエトキシ、γ−エトキシプロポキシ基
等のアルコキシアルコキシ基;ヒドロキシエトキシ、ヒ
ドロキシエトキシエトキシヒドロキシプロポキシプロポ
キシ、ヒドロキシエトキシエトキシエトキシ基等のポリ
エーテル基;アミノ基;メチルアミノ、エチルアミノ、
n−プロピルアミノ、n−ブチルアミノ、n−ペンチル
アミノ、n−ヘキシルアミノ、n−オクチルアミノ基等
のモノアルキルアミノ基;ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチル
アミノ、ジヘキシルアミノ、ジオクチルアミノ基等のジ
アルキルアミノ基;ヒドロキシエチルアミノ、2−ヒド
ロキシプロピルアミノ、3−ヒドロキシプロピルアミノ
基等のモノ(ヒドロキシアルキル)アミノ基;ジ(ヒド
ロキシエチル)アミノ、ジ(2−ヒドロキシプロピル)
アミノ、ジ(3−ヒドロキシプロピル)アミノ基等のジ
(ヒドロキシアルキル)アミノ基;ヒドロキシエトキシ
エチルアミノ、ヒドロキシプロポキシエチルアミノ、ヒ
ドロキシプロポキシプロピルアミノ基等のモノ(ヒドロ
キシアルコキシアルキル)アミノ基;ジ(ヒドロキシエ
トキシエチル)アミノ、ジ(ヒドロキシプロポキシエチ
ル)アミノ、ジ(ヒドロキシプロポキシプロピル)アミ
ノ基等のジ(ヒドロキシアルコキシアルキル)アミノ
基;メトキシメチルアミノ、メトキシエチルアミノ、エ
トキシメチルアミノ、エトキシエチルアミノ、プロポキ
シエチルアミノ基等のモノ(アルコキシアルキル)アミ
ノ基;ジ(メトキシメチル)アミノ、ジ(メトキシエチ
ル)アミノ、ジ(エトキシメチル)アミノ、ジ(エトキ
シエチル)アミノ、ジ(プロポキシエチル)アミノ基等
のジ(アルコキシアルキル)アミノ基;シクロペンチル
アミノ、シクロヘキシルアミノ基等のシクロアルキルア
ミノ基等が挙げられる。本発明の化合物(光増感剤)
は、例えば、下記に示した反応経路で製造することがで
きる。Examples of R 4 are methoxy, ethoxy,
n-propoxy, iso-propoxy, n-butoxy,
iso-butoxy, sec-butoxy, t-butoxy,
Alkoxy group such as n-pentyloxy, n-hexyloxy, n-heptyloxy, n-octyloxy group; cycloalkoxy group such as cyclopentyloxy, cyclohexyloxy group; hydroxyl group; phenoxy, p-methylphenoxy, m-methylphenoxy , O-methylphenoxy, 2,4-dimethylphenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,4,6-trimethylphenoxy, 4-phenylphenoxy and other aryloxy groups; propenoxy, 2-butenoxy and other alkenyloxy groups Groups; aralkyloxy groups such as benzyloxy, methylbenzyloxy and phenethyloxy groups; alkoxy groups such as methoxycarbonylmethoxy, ethoxycarbonylmethoxy, n-propoxycarbonylmethoxy and iso-propoxycarbonylmethoxy groups Boniruarukokishi group; methylcarbonyl methoxy, ethylcarbonyl alkylcarbonyl alkoxycarbonyl groups such as a methoxy group; hydroxymethyl butoxy, hydroxyethoxy, 2-hydroxypropoxy,
Hydroxyalkoxy group such as 3-hydroxypropoxy group; alkoxyalkoxy group such as methoxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxymethoxy, ethoxyethoxy, γ-ethoxypropoxy group; hydroxyethoxy, hydroxyethoxyethoxy hydroxypropoxypropoxy, hydroxyethoxyethoxyethoxy group, etc. Polyether group; amino group; methylamino, ethylamino,
Monoalkylamino groups such as n-propylamino, n-butylamino, n-pentylamino, n-hexylamino, n-octylamino groups; dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, dibutylamino, dipentylamino, dihexylamino, Dialkylamino groups such as dioctylamino groups; mono (hydroxyalkyl) amino groups such as hydroxyethylamino, 2-hydroxypropylamino, 3-hydroxypropylamino groups; di (hydroxyethyl) amino, di (2-hydroxypropyl)
Di (hydroxyalkyl) amino groups such as amino and di (3-hydroxypropyl) amino groups; mono (hydroxyalkoxyalkyl) amino groups such as hydroxyethoxyethylamino, hydroxypropoxyethylamino, hydroxypropoxypropylamino groups; di (hydroxy Di (hydroxyalkoxy) amino groups such as ethoxyethyl) amino, di (hydroxypropoxyethyl) amino, di (hydroxypropoxypropyl) amino groups; methoxymethylamino, methoxyethylamino, ethoxymethylamino, ethoxyethylamino, propoxyethyl Mono (alkoxyalkyl) amino groups such as amino groups; di (methoxymethyl) amino, di (methoxyethyl) amino, di (ethoxymethyl) amino, di (ethoxyethyl) amino, (Propoxyethyl) amino group, di (alkoxyalkyl) amino group; cyclopentylamino, cycloalkylamino group such as cyclohexylamino group. Compound of the present invention (photosensitizer)
Can be produced, for example, by the reaction route shown below.
【0020】[0020]
【化8】 [Chemical 8]
【0021】原料である4−置換アミノサリチルアルデ
ヒド(2)とアセトンジカルボン酸エチルを、例えば、
メタノール、エタノール、N,N−ジメチルホルムアミ
ド(以下DMFと略する)、ジメチルスルホキシド、
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(以下DMI
と略する)の様な極性溶媒中で1:1で混合したもの
に、10分の1程度の触媒量の弱塩基を加える。弱塩基
としては、例えば、ピペリジン、ピロリジン、ピリジ
ン、アニリンの様なアミン類が好ましい。その混合物を
0〜80℃で1〜12時間反応させ化合物(3)を得
る。The 4-substituted aminosalicylaldehyde (2) and ethyl acetone dicarboxylate, which are the starting materials, are
Methanol, ethanol, N, N-dimethylformamide (hereinafter abbreviated as DMF), dimethyl sulfoxide,
1,3-Dimethyl-2-imidazolidinone (hereinafter DMI
(Abbreviated as)) and a 1: 1 mixture in a polar solvent, a catalytic amount of about 1/10 of a weak base is added. As the weak base, amines such as piperidine, pyrrolidine, pyridine and aniline are preferable. The mixture is reacted at 0 to 80 ° C for 1 to 12 hours to obtain compound (3).
【0022】シアノ化は、得られた化合物(3)を「D
yes and Pigments1巻、3〜15ペー
ジ(1980年)」記載のクマリン化合物のシアノ化方
法を参考に、DMF中でNaCNと反応させた後に臭素
によって酸化することによってシアノ体(4)が得られ
る。Cyanation was carried out by subjecting the resulting compound (3) to "D
With reference to the method for cyanating a coumarin compound described in “yes and Pigments, Vol. 1, pages 3 to 15 (1980)”, the cyano compound (4) is obtained by reacting with NaCN in DMF and then oxidizing with bromine.
【0023】シアノ体(4)から新規化合物(1)を得
る方法は、50〜98重量%の硫酸で70〜100℃に
加熱して、シアノ基を加水分解し、カルボン酸(5)と
した後に、アルコール類、アミノ類、ハロゲン化アルキ
ル類、各種トシレート類、またはフェノール類等と、塩
素化剤で、一旦酸クロライドにした後反応させるか、も
しくは酸触媒、脱水剤存在下、または無触媒で加熱する
方法があるが、シアノ体(4)と等モル程度の水を含ん
だアルコール類等の混合物に、濃硫酸を滴下し、50〜
100℃に加熱しても、化合物(1)を直接得ることが
出来る。The novel compound (1) is obtained from the cyano compound (4) by heating to 70 to 100 ° C. with 50 to 98% by weight of sulfuric acid to hydrolyze the cyano group to obtain a carboxylic acid (5). Later, with alcohols, aminos, alkyl halides, various tosylates, or phenols, a chlorinating agent is used to first convert the acid chloride into an acid chloride and then react, or in the presence of an acid catalyst, a dehydrating agent, or no catalyst. However, concentrated sulfuric acid is added dropwise to a mixture of alcohols or the like containing approximately equimolar water with the cyano compound (4), and
The compound (1) can be directly obtained by heating to 100 ° C.
【0024】[0024]
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳しく説
明する。例中の部は重量部、%は重量%を示す。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. Parts in the examples are parts by weight and% is% by weight.
【0025】実施例1 4−ジエチルアミノサリチルアルデヒド57部と、アセ
トンジカルボン酸エチル25部に、ピペリジン2部を加
え、エタノール溶媒中で、80℃で4時間反応させ、冷
却後、得られた結晶を濾過し、エタノールで洗浄後、乾
燥して、ビス〔3−(7−ジエチルアミノクマリル)〕
ケトン55部を得た。この化合物40部を200部のD
MF中で懸濁させ、そこへ30%NaCN水溶液57部
を室温で滴下し、そのまま1時間反応させた後、臭素3
1部を0〜10℃で滴下し、2時間攪拌し、濾過後良く
水洗し、乾燥後、ビス〔3−(4−シアノ−7−ジエチ
ルアミノクマリル)〕ケトン42部を得た。更に、上記
シアノ体9部を、100部のエタノール中で98%硫酸
21.6部と80℃で、3時間反応させ、放冷後300
部の水に排出して中和した。析出した結晶を濾過後、良
く水洗し、乾燥後、ビス〔3−(4−エトキシカルボニ
ル−7−ジエチルアミノクマリル)〕ケトン9部を得
た。この化合物の電子線スペクトル、及び元素分析の結
果は次のようになった。 電子スペクトル;吸収極大[λmax]495nm
(アセトン中) 元素分析値 C H N 計算値(%) 65.55 6.00 4.63 実測値(%) 65.51 6.10 4.59 また、上記ケトクマリン化合物5部とポリビニルピロリ
ドンをバインダーポリマーとして、100部ペンタエリ
スリトールトリアクリレートを100部、重合開始剤の
3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン4部、メチルセルソルブ10
00部を用いて、感光液を調整し積層銅板上にスピナー
を用いて塗布した。次いで、アルゴンレーザーによっ
て、上記の感光層に光照射したところ、速やかに樹脂が
硬化することが確認された。キセノンランプ照射に於て
も、同等の結果を得た。Example 1 57 parts of 4-diethylaminosalicylaldehyde and 25 parts of ethyl acetonedicarboxylate were added with 2 parts of piperidine, and the mixture was reacted in an ethanol solvent at 80 ° C. for 4 hours and cooled to obtain crystals. After filtration, washing with ethanol, and drying, bis [3- (7-diethylaminocoumaryl)]
55 parts of ketone was obtained. 40 parts of this compound to D of 200 parts
After suspending in MF, 57 parts of 30% NaCN aqueous solution was added dropwise thereto at room temperature, and the reaction was continued for 1 hour as it was.
1 part was added dropwise at 0 to 10 ° C., stirred for 2 hours, filtered, washed well with water, and dried to obtain 42 parts of bis [3- (4-cyano-7-diethylaminocoumaryl)] ketone. Further, 9 parts of the above cyano compound was reacted with 21.6 parts of 98% sulfuric acid in 100 parts of ethanol at 80 ° C. for 3 hours, and after standing to cool to 300
It was neutralized by discharging into some water. The precipitated crystals were filtered, washed well with water, and dried to obtain 9 parts of bis [3- (4-ethoxycarbonyl-7-diethylaminocoumaryl)] ketone. The electron beam spectrum and elemental analysis results of this compound are as follows. Electronic spectrum; absorption maximum [λmax] 495 nm
(In acetone) Elemental analysis value C H N calculated value (%) 65.55 6.00 4.63 Measured value (%) 65.51 6.10 4.59 Also, 5 parts of the above ketocoumarin compound and polyvinylpyrrolidone were used as binders. As a polymer, 100 parts of pentaerythritol triacrylate 100 parts, polymerization initiator 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone 4 parts, methylcellosolve 10
A photosensitive solution was prepared by using 00 parts and was applied onto a laminated copper plate using a spinner. Next, when the photosensitive layer was irradiated with light using an argon laser, it was confirmed that the resin was rapidly cured. Similar results were obtained with the xenon lamp irradiation.
【0026】実施例2 4−ジエチルアミノサリチルアルデヒド54部と、アセ
トンジカルボン酸エチル25部に、ピペリジン2部を加
え、DMF溶媒中で、70℃で6時間反応させ、冷却
後、得られた結晶を濾過し、エタノールで洗浄後、乾燥
して、ビス〔3−(7−ジエチルアミノクマリル)〕ケ
トン56部を得た。この化合物を実施例1と同様の方法
でシアノ化し、このシアノ体9部を70%硫酸中で10
0℃、8時間加水分解すると、ビス〔3−(4−カルボ
キシ−7−ジエチルアミノクマリル)〕ケトンを8.7
部得た。これを100部の脱水テトラヒドロフラン溶媒
中、ジシクロヘキシルカルボイミド8部と室温で1時間
反応させ、その後、イソプロピルアルコール9.6部を
10℃、30分で滴下して、同温度で3時間反応させ、
ビス〔3−(4−イソプロポキシカルボニル−7−ジエ
チルアミノクマリル)〕ケトン9部を得た。この化合物
の電子線スペクトル、及び元素分析の結果は次のように
なった。電子スペクトル;吸収極大[λmax]494
nm (アセトン中) 元素分析値 C H N 計算値(%) 66.44 6.37 4.43 実測値(%) 66.29 6.15 4.58 また、上記ケトクマリン化合物を用い、実施例1に示し
たものと同様の組成の感光液を調整して、感光層を形成
し、アルゴンレーザーによって、上記の感光層に光照射
したところ、速やかに樹脂が硬化することが確認され
た。キセノンランプ照射に於ても、同等の結果を得た。Example 2 54 parts of 4-diethylaminosalicylaldehyde and 25 parts of ethyl acetonedicarboxylate were added with 2 parts of piperidine, and the mixture was reacted in DMF solvent at 70 ° C. for 6 hours, and after cooling, the obtained crystals were obtained. After filtering, washing with ethanol and drying, 56 parts of bis [3- (7-diethylaminocoumaryl)] ketone was obtained. This compound was cyanated by the same method as in Example 1, and 9 parts of this cyano compound was treated with 10% sulfuric acid in 70% sulfuric acid.
When hydrolyzed at 0 ° C. for 8 hours, bis [3- (4-carboxy-7-diethylaminocoumaryl)] ketone was converted to 8.7.
I got a copy. This was reacted with 8 parts of dicyclohexylcarboximide in 100 parts of dehydrated tetrahydrofuran solvent at room temperature for 1 hour, and then 9.6 parts of isopropyl alcohol was added dropwise at 10 ° C. for 30 minutes and reacted at the same temperature for 3 hours.
9 parts of bis [3- (4-isopropoxycarbonyl-7-diethylaminocoumaryl)] ketone was obtained. The electron beam spectrum and elemental analysis results of this compound are as follows. Electronic spectrum; absorption maximum [λmax] 494
nm (in acetone) Elemental analysis value C H N calculated value (%) 66.44 6.37 4.43 Measured value (%) 66.29 6.15 4.58 Further, using the above ketocoumarin compound, Example 1 When a photosensitive solution having the same composition as that shown in 1 was prepared to form a photosensitive layer and the above photosensitive layer was irradiated with light by an argon laser, it was confirmed that the resin was rapidly cured. Similar results were obtained with the xenon lamp irradiation.
【0027】実施例3 実施例1と同様の方法で、エステル合成の際の100部
のエタノールの代わりにジエチレングリコールを用い、
ビス〔3−(4−ヒドロキシエトキシエトキシカルボニ
ル−7−ジエチルアミノクマリル)〕ケトン10部を得
た。この化合物の電子線スペクトル、及び元素分析の結
果は次のようになった。電子スペクトル;吸収極大[λ
max]498nm (アセトン中) 元素分析値 C H N 計算値(%) 61.32 6.12 3.87 実測値(%) 61.51 6.05 3.82 また、上記ケトクマリン化合物を用い、実施例1に示し
たものと同様の組成の感光液を調整して、感光層を形成
し、アルゴンレーザーによって、上記の感光層に光照射
したところ、速やかに樹脂が硬化することが確認され
た。キセノンランプ照射に於ても、同等の結果を得た。Example 3 In the same manner as in Example 1, diethylene glycol was used instead of 100 parts of ethanol in the ester synthesis,
10 parts of bis [3- (4-hydroxyethoxyethoxycarbonyl-7-diethylaminocoumaryl)] ketone was obtained. The electron beam spectrum and elemental analysis results of this compound are as follows. Electronic spectrum; absorption maximum [λ
max] 498 nm (in acetone) Elemental analysis value CHN calculated value (%) 61.32 6.12 3.87 Measured value (%) 61.51 6.05 3.82 Also carried out using the above ketocoumarin compound. When a photosensitive solution having the same composition as that shown in Example 1 was prepared to form a photosensitive layer and the above photosensitive layer was irradiated with light by an argon laser, it was confirmed that the resin was rapidly cured. Similar results were obtained with the xenon lamp irradiation.
【0028】実施例4 9−ホルミル−8−ヒドロキシユーロリジン57部と、
アセトンジカルボン酸エチル25部に、ピペリジン2部
を加え、エタノール溶媒中で、80℃Cで5時間反応さ
せ、冷却後、得られた結晶を濾過し、エタノルで洗浄
後、乾燥して、ビス(10−ユーロリジルクマリル)ケ
トン 57部を得た。この化合物 44部を「Dyes
and Pigments 1巻、3〜15ページ
(1980年)」記載の方法に従い、200部のDMF
中で懸濁させ、そこへ30%NaCN水溶液57部を室
温で滴下し、そのまま1時間反応させた後、臭素31部
を0〜10℃で滴下し、2時間攪拌し、濾過後良く水洗
し、乾燥後、ビス〔10−(11−シアノユーロリジル
クマリル)〕ケトン45部を得た。更に、上記シアノ体
10部を、100部のジエチレングリコールモノメチル
エーテル中で98%硫酸21.6部と80℃で、3時間
反応させ、放冷後 300部の水に排出して中和した。
析出した結晶を濾過後、良く水洗し、乾燥後、ビス〔1
0−(11−メトキシエトキシエトキシカルボニルユー
ロリジルクマリル)〕ケトン11.5部を得た。この化
合物の電子線スペクトル、及び元素分析の結果は次のよ
うになった。電子スペクトル;吸収極大[λmax]5
13nm (アセトン中) 元素分析値 C H N 計算値(%) 64.49 6.04 3.50 実測値(%) 64.38 6.21 3.59 また、上記ケトクマリン化合物を用い、実施例1に示し
たものと同様の組成の感光液を調整して、感光層を形成
し、アルゴンレーザーによって、上記の感光層に光照射
したところ、速やかに樹脂が硬化することが確認され
た。キセノンランプ照射に於ても、同等の結果を得た。Example 4 57 parts of 9-formyl-8-hydroxyeurolidine,
Piperidine (2 parts) was added to ethyl acetate dicarboxylate (25 parts), and the mixture was reacted in an ethanol solvent at 80 ° C for 5 hours. After cooling, the obtained crystals were filtered, washed with ethanol and dried to give bis ( 57 parts of 10-eurolysyl coumaryl) ketone were obtained. 44 parts of this compound
and Pigments, Vol. 1, pages 3 to 15 (1980) ”, 200 parts of DMF.
Suspended in it, and 57 parts of 30% NaCN aqueous solution was added dropwise thereto at room temperature, and the reaction was continued for 1 hour. Then, 31 parts of bromine was added dropwise at 0 to 10 ° C., stirred for 2 hours, washed well with water after filtration. After drying, 45 parts of bis [10- (11-cyanoeurolidylcoumaryl)] ketone was obtained. Further, 10 parts of the above cyano compound was reacted with 21.6 parts of 98% sulfuric acid in 100 parts of diethylene glycol monomethyl ether at 80 ° C. for 3 hours, allowed to cool, and then discharged into 300 parts of water for neutralization.
The precipitated crystals were filtered, washed well with water, dried and then washed with bis [1
11.5 parts of 0- (11-methoxyethoxyethoxycarbonyl eurolysylcoumaryl)] ketone was obtained. The electron beam spectrum and elemental analysis results of this compound are as follows. Electronic spectrum; absorption maximum [λmax] 5
13 nm (in acetone) Elemental analysis value CHN calculated value (%) 64.49 6.04 3.50 Measured value (%) 64.38 6.21 3.59 Further, using the above ketocoumarin compound, Example 1 When a photosensitive solution having the same composition as that shown in 1 was prepared to form a photosensitive layer and the above photosensitive layer was irradiated with light by an argon laser, it was confirmed that the resin was rapidly cured. Similar results were obtained with the xenon lamp irradiation.
【0029】実施例5〜30 実施例1と同様にして合成したビス〔3−(4−置換ク
マリル)〕ケトン化合物を表1にまとめて示す。いずれ
の化合物も実施例1の化合物同等の感光感度を示した。Examples 5 to 30 Table 1 shows the bis [3- (4-substituted coumaryl)] ketone compounds synthesized in the same manner as in Example 1. All the compounds showed the same photosensitivity as the compound of Example 1.
【0030】[0030]
【表1】 [Table 1]
【0031】[0031]
【表2】 [Table 2]
【0032】[0032]
【表3】 [Table 3]
【0033】[0033]
【表4】 [Table 4]
【0034】[0034]
【発明の効果】光重合反応を用いた情報記録の分野で、
コンピューターによって電子編集された原稿をそのまま
直接レーザーを用いて出力し記録する方式では、感光層
の感度、溶解性、保存安定性が低い等の問題があった。
しかし、本発明の光増感剤を含む光硬化樹脂を塗布して
得られる感光層は、感度、溶解性及び保存安定性に優れ
ており、本発明は、実用上極めて有益なものである。INDUSTRIAL APPLICABILITY In the field of information recording using photopolymerization reaction,
The method of directly outputting an original document electronically edited by a computer by using a laser for recording has a problem in that the sensitivity, solubility, and storage stability of the photosensitive layer are low.
However, the photosensitive layer obtained by applying the photocurable resin containing the photosensitizer of the present invention is excellent in sensitivity, solubility and storage stability, and the present invention is extremely useful in practice.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/031 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G03F 7/031
Claims (2)
子、アルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル
基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル基、アリール
基、アルコキシカルボニルアルキル基を示し、互いに結
合するか、骨格内のアミノ基の置換したベンゼン核と結
合して環を形成していても良く、R3は、水素原子、ア
ルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、ハロゲノアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アル
コキシアルコキシ基、スルホン酸基、ハロゲン原子を示
し、R4は、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸
基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ基、アラルキ
ルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコキシ基、アル
キルカルボニルアルコキシ基、或いは次の置換基(化
2)を示す。 【化2】 (ここで、R5〜R8は、水素原子、アルキル基、ヒドロ
キシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、シクロアルキル基を示し、n,m
は、それぞれ1〜5の整数を示す。)]で表されるビス
〔3−(4−置換クマリル)〕ケトン化合物。1. General formula (1) (Chemical formula 1) [In the formula, R 1 and R 2 each independently or independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyalkyl group, an alkenyl group, a hydroxyalkyl group, an aralkyl group, an aryl group or an alkoxycarbonylalkyl group, which may be bonded to each other; It may combine with a benzene nucleus substituted with an amino group in the skeleton to form a ring, and R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxyalkyl group, a hydroxyalkyl group, a halogenoalkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, An alkoxyalkoxy group, a sulfonic acid group, a halogen atom, R 4 represents an alkoxy group, a cycloalkoxy group, a hydroxyl group, an aryloxy group, an alkenyloxy group, an aralkyloxy group, an alkoxycarbonylalkoxy group, an alkylcarbonylalkoxy group, or The substituent (Chemical Formula 2) is shown. [Chemical 2] (Here, R 5 to R 8 represent a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxyalkyl group, a hydroxyalkoxyalkyl group, an alkoxyalkyl group or a cycloalkyl group, and n, m
Represents an integer of 1 to 5, respectively. )] Is a bis [3- (4-substituted coumaryl)] ketone compound.
る光増感剤。2. A photosensitizer represented by the general formula (1) according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6245894A JPH07267942A (en) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | Bis(3-(4-substituted coumaryl))ketone compound and photosensitizer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6245894A JPH07267942A (en) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | Bis(3-(4-substituted coumaryl))ketone compound and photosensitizer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07267942A true JPH07267942A (en) | 1995-10-17 |
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ID=13200789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6245894A Pending JPH07267942A (en) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | Bis(3-(4-substituted coumaryl))ketone compound and photosensitizer |
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---|---|
JP (1) | JPH07267942A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1041074A1 (en) * | 1999-03-09 | 2000-10-04 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Light-sensitive 4-cyanocoumarin derivatives |
JP2015152867A (en) * | 2014-02-18 | 2015-08-24 | 富士フイルム株式会社 | Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank having active light-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, method for manufacturing electronic device, electronic device and new compound |
-
1994
- 1994-03-31 JP JP6245894A patent/JPH07267942A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1041074A1 (en) * | 1999-03-09 | 2000-10-04 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Light-sensitive 4-cyanocoumarin derivatives |
JP2015152867A (en) * | 2014-02-18 | 2015-08-24 | 富士フイルム株式会社 | Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank having active light-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, method for manufacturing electronic device, electronic device and new compound |
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