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JPH07240554A - 半導体レーザ駆動装置 - Google Patents

半導体レーザ駆動装置

Info

Publication number
JPH07240554A
JPH07240554A JP6029356A JP2935694A JPH07240554A JP H07240554 A JPH07240554 A JP H07240554A JP 6029356 A JP6029356 A JP 6029356A JP 2935694 A JP2935694 A JP 2935694A JP H07240554 A JPH07240554 A JP H07240554A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
resistor
current
voltage
drive current
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP6029356A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Ikeuchi
公 池内
Hisako Watabe
弥子 渡部
Kazuyuki Mori
和行 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP6029356A priority Critical patent/JPH07240554A/ja
Priority to US08/374,048 priority patent/US5563898A/en
Publication of JPH07240554A publication Critical patent/JPH07240554A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/06804Stabilisation of laser output parameters by monitoring an external parameter, e.g. temperature
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/04Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
    • H01S5/042Electrical excitation ; Circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/04Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
    • H01S5/042Electrical excitation ; Circuits therefor
    • H01S5/0427Electrical excitation ; Circuits therefor for applying modulation to the laser

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  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 安定した光出力波形及び光出力パワーを発生
する。 【構成】 リファレンス電圧発生部16は温度に応じて
リファレンス電圧Vrefのレベルを制御し、駆動電流供
給部12は入力データ信号DTの電圧がリファレンス電
圧より大きいとき(あるいは小さいとき)、半導体レー
ザ11に駆動電流IPを流す。このため、周囲温度の上
昇により半導体レーザのしきい値電流Ithが大きくなっ
て光出力波形の遅延時間tdが大きくなっても、温度上
昇に応じてリファレンス電圧が低下して半導体レーザ1
1に駆動電流が流れ始める時間が早まり、遅延時間を相
殺して安定な光出力波形及び光出力パワーを発生でき
る。又、駆動電流制御部14は温度の上昇に応じて駆動
電流IPの値を増加する。これにより、温度上昇に応じ
て半導体レーザ11を流れる駆動電流が増加するから、
安定した光出力パワーを得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体レーザ駆動装置に
係わり、特に光通信用に使われる光送信機の半導体レー
ザ駆動装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、通信機器やコンピュータの高速化
に伴い、光による装置間通信が要求されている。このた
め、光通信装置には、小型、低消費電力で調整個所の少
ない装置が必要とされている。図20は従来の光送信装
置における半導体レーザ駆動装置のブロック図であり、
1はしきい値以上の電流が流れると発光する半導体レー
ザ、2はデータの"1","0"に応じてレベルが交番する入
力データ信号DTがリファレンス電圧Vrefより小さい
とき(大きいときでもよい)、半導体レーザ1に駆動電
流IPを流す駆動電流供給部、3は半導体レーザに所定
のバイアス電流IBを流すバイアス電流供給部、4は駆
動電流IPの大きさを制御する駆動電流制御部、5はバ
イアス電流IBの大きさを制御するバイアス電流制御部
である。駆動電流制御部4やバイアス電流制御部5は、
それぞれ駆動電流IP、バイアス電流IBを調整する可変
抵抗器を備えている。
【0003】半導体レーザ1の光出力と電流値の関係は
図21に示すようになっており、しきい値電流Ithまで
光は出力せず、しきい値電流Ith以上になれば以後電流
の増加に応じて光出力が増加する特性を有している。従
って、バイアス電流制御部5でIB≒Ithとなるように
バイアス電流を制御し、駆動電流制御部4で所定の光出
力P0が得られるように駆動電流IPを制御する。又、半
導体レーザの特性が素子のバラツキによって図21の点
線のように変化すると、光出力はP0′に低下する。こ
のため、IB≒Ith′となるようにバイアス電流を制御
し、駆動電流制御部4で所定の光出力P0が得られるよ
うに駆動電流IPを制御する。
【0004】図22は従来の半導体レーザ駆動装置の回
路構成図であり、図20と同一部分には同一符号を付し
ている。駆動電流供給部2は、データの”1”,”0”
に応じてレベルが交番する入力データ信号DTと基準電
圧Vrefが入力される電界効果トランジスタ(FETと
いう)Q1,Q2構成の差動回路DFAI、差動出力の
レベルを調整するためのFETQ3,Q4構成のソース
フォロワー回路SFL、FETQ5,Q6構成の出力側
差動回路DFAOを備えている。入力側の差動回路DF
AIを構成する第1のFETQ1のゲート端子にはデー
タ信号DTが入力され、第2のFETQ2のゲート端子
には一定のリファレンス電圧(固定)Vrefが入力さ
れ、又、各FETQ1,Q2のソース端子は定電流源I
0を介して電源電圧VSS(負極性)に接続され、ドレイ
ン端子は抵抗R1,R2,R3を介して電源電圧V
DD(グランド)に接続されている。入力データ信号DT
がリファレンス電圧Vrefより大きいとき、FETQ1
がオンし、FETQ2がオフする。又、入力データ信号
がリファレンス電圧Vrefより小さいとき、FETQ1
がオフし、FETQ2がオンする。
【0005】ソースフォロワー回路SFLを構成する各
FETQ3,Q4のソース端子にはレベルを調整するた
めにいくつかのダイオードD1〜D4が挿入されてい
る。各FETQ3,Q4のゲート端子には入力側差動回
路DFAIを構成するFETQ1,Q2のドレイン端子
が接続され、ドレイン端子は電源電圧VDD(グランド)
に接続され、ソース端子はレベル調整用ダイオード及び
定電流源I1,I2を介して電源電圧VSS(負極性)に接
続されている。出力側差動回路DFAOを構成する第1
のFETQ5のドレイン端子は電源電圧VDD(グラン
ド)に接続され、第2のFETQ6のドレイン端子は半
導体レーザ1に接続されている。各FETQ5,Q6の
ゲート端子にはソースフォロワー回路SFLの各FET
Q3,Q4のソース端子が接続され、ソース端子は第3
のFETQ7、ダイオードD5を介して電源電圧VSS
接続されている。第3のFETQ7のゲート端子は駆動
電流制御部4に接続され、ゲート・ソース間電圧Vgsに
より駆動電流IPを制御するようになっている。
【0006】バイアス電流供給部3はFETQ8とダイ
オードD6を備え、FETQ8のドレイン端子は半導体
レーザ1に接続され、ゲート端子はバイアス電流制御部
5に接続され、ゲート・ソース間電圧Vgsによりバイア
ス電流IBを制御するようになっている。駆動電流制御
部4はグランドと電源電圧VSS間に接続された可変抵抗
VR1を備え、駆動電流供給部2のFETQ7のゲート
・ソース間電圧を調整して駆動電流IPを制御するよう
になっている。バイアス電流制御部5はグランドと電源
電圧VSS間に接続された可変抵抗VR2を備え、バイア
ス電流供給部3のFETQ8のゲート・ソース間電圧を
調整してバイアス電流IBを制御するようになってい
る。
【0007】入力データ信号DTのレベルがリファレン
ス電圧Vrefより大きいとき(データ=”1”)、差動
回路DFAIのFETQ1がオン、FETQ2がオフす
る。この結果、出力側差動回路のFETQ5がオン、F
ETQ6がオフし、半導体レーザ1に駆動電流IPは流
れず、光は出力されない。一方、データ信号DTのレベ
ルがリファレンス電圧Vrefより小さいとき(データ
=”0”)、差動回路DFAIのFETQ1がオフ、F
ETQ2がオンする。この結果、出力側差動回路のFE
TQ5がオフ、FETQ6がオンし、半導体レーザ1に
駆動電流IPが流れて光が出力される。この場合、駆動
電流制御部4の可変抵抗VR1及びバイアス電流制御部
5の可変抵抗VR2を調整しておくことにより、所望の
光出力P0が得られる。
【0008】ところで、光パワー・電流特性は図23に
示すように温度によって変化する。このため、温度に関
係なく一定の光出力P0を発生するためには、温度変動
に応じてバイアス電流、駆動電流の少なくと一方を制御
する必要がある。すなわち、常温でバイアス電流が
B、駆動電流がIPで光出力P0が得られている場合に
おいて、高温において同一の光出力P0を発生するため
には、例えば、バイアス電流をIB´、駆動電流をIP´
にする必要がある。このため、従来の半導体レーザ駆動
装置では、駆動電流供給部2のFETQ7に温度に対し
て負の特性を有するダイオードD5が直列に接続され、
バイアス電流供給部3のFETQ8に温度に対して負の
特性を有するダイオードD6が直列に接続されている。
温度に対して負の特性とは、温度上昇によりダイオード
の端子間電圧が減少する特性である。温度が上昇すると
ダイオードD5,D6の電圧降下が減少するから、FE
TQ7,Q8のゲート・ソース電圧Vgsが大きくなり、
各FETのドレイン電流、すなわち、駆動電流IB,バ
イアス電流IPが増加し、半導体レーザ1に流れる電流
が増大する。この結果、温度上昇に伴う光パワーの減少
が補償され、光パワーが略一定になる。逆に、温度が減
少するとダイオードD5,D6の電圧降下が増大するか
ら、FETQ7,Q8のゲート・ソース電圧Vgsが小さ
くなり、駆動電流IB,バイアス電流IPが減少し、半導
体レーザ1に流れる電流が減少する。この結果、温度減
少に伴う光パワーの増加が補償され、光パワーが略一定
になる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
半導体レーザ駆動装置では、駆動電流制御部4やバイア
ス電流制御部5において半導体レーザの特性のバラツキ
を補正し、かつ、駆動電流やバイアス電流に温度補償特
性を持たせることによって光出力の安定化を図ってい
る。ところで、良好な伝送特性を得るためには、消光比
(”1”と”0”の光出力の比)が大きく、良好なアイ
開口特性を有する光出力波形が要求される。このため、
従来の半導体レーザ駆動方式ではIB≒Ithになるよう
にバイアス電流を制御する。しかし、各半導体レーザの
しきい値電流Ithや温度特性の違い、バイアス電流の調
整等によっては、バイアス電流IB≒しきい値電流Ith
とできず、光出力の消光比が劣化し、又、光出力波形の
位相方向がつぶれてしまい安定な光出力が得られない問
題が生じている。すなわち、半導体レーザはバイアス電
流IB<しきい値電流Ithの時、光出力の発振遅れ時間
tdが存在し、一般に次式で表される。 td=τs・log(IP/(IP+IB−Ith)) ・・・(1) τs:キャリア寿命、IP:駆動電流 バイアス電流の調整や温度補償がうまくいっていない
と、Ith>IBとなり、図24に示すように光出力の発
振遅れ時間tdが発生し、IthとIBの差が大きくなる程
発振遅れ時間tdが大きくなり、光出力波形の位相方向
がつぶれてしまい安定な光出力が得られなくなる。
【0010】又、従来の半導体レーザ駆動装置では、調
整箇所としてバイアス電流、駆動電流、リファレンス電
圧の3箇所が必要であり、しかも、素子のバラツキや温
度特性の両方を考慮した調整が必要であり、調整が非常
に複雑となる問題が生じている。更に、従来の駆動電流
制御、バイアス電流制御及び温度特性制御は図25に示
す定電流回路によって行っている。図25において、Q
はFET、Dは温度補償用のダイオード、VRは可変抵
抗である。この定電流回路によれば、前述のように可変
抵抗VRを調整することにより、ドレイン電流ID(駆
動電流IPあるいはバイアス電流IBとなる)を調整し、
かつ、ダイオードにより温度変化に伴う光パワーの変動
を補償している。しかし、この定電流回路では電源変動
によりFETのゲート・ソース間電圧Vgsが変化し、ド
レイン電流ID(駆動電流IPあるいはバイアス電流IB
となる)が変化する。図26は電源電圧Vssの変動(0
〜±10%)に対するドレイン電流IDの変化の様子を
示す図であり、電源電圧変動=0のときにドレイン電流
を20mA、10mA、5mAとした場合である。このように、
電源電圧変動によりドレイン電流、すなわち駆動電流I
Pが変化すると光出力パワーが変化する問題が生じ、
又、バイアス電流IBが変化すると光出力波形が変化す
る問題が生じる。
【0011】以上から本発明の目的は、リファレンス電
圧に温度特性を持たせることにより、バイアス電流の調
整の簡単化を可能にし、又、バイアス電流の無調整化、
あるいは、バイアス電流供給回路の削減を可能にできる
半導体レーザ駆動装置を提供することである。本発明の
別の目的は、小型で調整箇所の少ない半導体レーザ駆動
装置を提供することである。本発明の更に別の目的は、
温度が変動しても、あるいは素子にバラツキがあって
も、安定した光出力パワー及び光出力波形が得られる半
導体レーザ駆動装置を提供することである。本発明の他
の目的は、電源電圧が変動しても駆動電流IPやバイア
ス電流IBを略一定にでき、安定した光出力パワー及び
光出力波形が得られる半導体レーザ駆動装置を提供する
ことである。
【0012】
【課題を解決するための手段】第1図は本発明の半導体
レーザ駆動装置の原理説明図である。10は半導体レー
ザ駆動部、11は半導体レーザ、12は入力データ信号
DT(データの”1”,”0”に応じてレベルが交番す
る信号)がリファレンス電圧Vrefより大きいとき、あ
るいは小さいとき、半導体レーザ11に駆動電流IP
流す駆動電流供給部、13は半導体レーザ11に所定の
バイアス電流IBを流すバイアス電流供給部、14は駆
動電流IPの大きさを制御する駆動電流制御部、15は
バイアス電流IBの大きさを制御するバイアス電流制御
部、16は温度上昇に応じてリファレンス電圧Vrefの
レベルを低下すると共に、該リファレンス電圧を発生す
るリファレンス電圧発生部である。
【0013】
【作用】リファレンス電圧発生部16は温度上昇に応じ
てリファレンス電圧Vrefのレベルを低下し、駆動電流
供給部12は入力データ信号DTの電圧がリファレンス
電圧より大きいとき(あるいは小さいとき)、半導体レ
ーザ11に駆動電流IPを流す。このようにすれば、温
度の上昇により半導体レーザのしきい値電流Ithが大き
くなって遅延時間tdが大きくなっても、その分、リフ
ァレンス電圧Vrefが低下して駆動電流出力のデューテ
ィを増加でき、また、半導体レーザ11に電流が流れ始
める時間を早めることができる。この結果、安定した光
出力パワーが得られ、しかも、早目に駆動電流が流れる
ことにより遅延時間を相殺でき安定した光出力波形が得
られる。又、温度の上昇に応じて駆動電流IPが増加す
るように駆動電流制御部14を構成すれば、温度上昇に
応じて半導体レーザ11を流れる電流値を増加でき、ま
すます安定した光出力パワーを得ることができる。更
に、リファレンス電圧Vrefあるいは駆動電流IPを温度
変動により制御するため、必ずしもバイアス電流を調整
する必要がなくなりバイアス電流制御部15を削減で
き、あるいはバイアス電流供給部13を削減することが
でき、調整を容易に、あるいは、調整箇所を少なくする
ことができる。
【0014】又、半導体レーザ駆動部10が複数設けら
れている場合において、各半導体レーザ駆動部に対して
共通に、リファレンス電圧発生部16と、駆動電流制御
部14と、バイアス電流制御部15を設けるようにすれ
ば、調整箇所を大幅に少なくできる。更に、電源電圧が
変動しても一定の電流が流れるようにした定電流回路を
バイアス電流供給部13や駆動電流供給部12に使用す
る。このようにすれば、電源電圧が変動しても、駆動電
流IPやバイアス電流IBを略一定にでき、安定した光出
力パワー及び光出力波形を得ることができる。
【0015】
【実施例】
(a) 本発明の第1の実施例 (a-1) 構成 図2は本発明の第1の実施例である半導体レーザ駆動装
置の構成図であり、11は半導体レーザ、12は入力デ
ータ信号DT(データの”1”,”0”に応じてレベル
が交番する信号)がリファレンス電圧Vrefより小さい
とき(大きくてもよい)、半導体レーザ11に駆動電流
Pを流す駆動電流供給部、13は半導体レーザ11に
所定のバイアス電流IBを流すバイアス電流供給部、1
4は駆動電流IPの大きさを制御する駆動電流制御部、
15はバイアス電流IBの大きさを制御するバイアス電
流制御部、16は温度に応じてリファレンス電圧Vref
のレベルを制御すると共に、該リファレンス電圧を発生
するリファレンス電圧発生部である。駆動電流供給部1
2、バイアス電流供給部13、駆動電流制御部14、バ
イアス電流制御部15は図22に示すものと同一構成を
備えている。リファレンス電圧発生部16は、抵抗16
a,16bと感温可変抵抗素子(サーミスタ)16cと
の分圧回路で構成されている。すなわち、抵抗16bと
サーミスタ16cを並列接続し、該並列回路に抵抗16
aを直列に接続し、全体を電源電圧VDD(グランド)と
Vss(負極性)間に挿入した構成を備えている。サーミ
ス16cは温度が上昇すると抵抗値が減少する特性を備
えているから、温度が上昇するとリファレンス電圧Vre
fのレベルが低下する。
【0016】(a-2) 動作 低温時(=T0)に半導体レーザ11の特性に基づいて
駆動電流制御部14及びバイアス電流制御部15の可変
抵抗VR1,VR2を調整し、所望の光出力パワーP0
が得られるように、かつ、バイアス電流IBがしきい値
電流値と等しくなるように調整する。かかる状態で、温
度が上昇すると半導体レーザ11のしきい値電流Ithが
大きくなって(1)式より遅延時間tdが大きくなる。しか
し、図3に示すようにリファレンス電圧Vrefのレベル
が温度上昇に応じて低下するため、駆動電流のデューテ
ィが点線で示すように増加し、半導体レーザ11に駆動
電流が流れ始める時間が早まる。この駆動電流の立上り
が早まったことにより前記遅延時間tdを相殺でき安定
した光出力波形が得られる。又、温度が上昇すると駆動
電流IPの振幅が減少するが、その分駆動電流出力のデ
ューティが増大し、半導体レーザ11に駆動電流が流れ
ている時間が長くなり、安定した光出力パワーが得られ
る。
【0017】(a-3) リファレンス電圧発生部の別の構成 図4はリファレンス電圧発生部16の別の構成図であ
り、抵抗16d,16eで分圧回路を構成し、抵抗16
eに温度に対して負の特性を備えたダイオード16fを
直列に接続した構成を備えている。リファレンス電圧発
生部16は、電源電圧VDD(グランド)とVss(負極
性)間に挿入されており、温度が上昇すると、ダイオー
ド16fの端子間電圧が小さくなり、リファレンス電圧
Vrefのレベルが下がり、温度が低下するとレベルが上
昇するようになっている。尚、半導体レーザ駆動装置の
前段に論理回路を設ける必要のある構成において、該論
理回路から出力されるデータ信号DTの波形(位相)が
温度により変動する場合には、該位相変動も補償するよ
うにリファレンス電圧Vrefを発生して光出力波形の安
定化を図るようにする。
【0018】(b) 本発明の第2の実施例 (b-1) バイアス電流の無調整化 低温での調整時に、リファレンス電圧Vrefをデューテ
ィ50%の電圧V50以下にずらして調整することによっ
て(図5参照)、バイアス電流の無調整化、バイアス電
流の削除が可能となる。この原理について説明する。良
好な伝送特性を得るために、光送信波形には、消光
比(”1”と”0”の光出力の比)が大きく、良好なア
イ開口特性を持つ光出力波形が要求される。通常の半導
体レーザ駆動方式では、消光比とアイ開口の劣化を防ぐ
ためにIB≒Ithになるようにバイアス電流IBを制御す
る。そのため、半導体レーザのバラツキに応じてバイア
ス電流IBの初期設定を行う必要がある。ところで、リ
ファレンス電圧Vrefを所定電圧(デューティ50%の
電圧V50以下の電圧)に初期調整すれば、Ith(T0)>I
B(調整温度:T0)であってもそのときに生じる発振遅
延によるアイ開口劣化を補正することができる。換言す
れば、Ith(T0)>IBの場合、リファレンス電圧Vrefを
50以下の電圧に初期調整することにより、バイアス電
流の調整を不要にできる。又、リファレンス電圧に温度
特性を持たせれば、全温度で良好な光出力特性を得るこ
とができる。
【0019】以上より、しきい値電流Ithの素子特性バ
ラツキまで考慮してIth(T0)>IB(≧0mA)になるよ
うに回路を設計し、かつ、リファレンス電圧VrefをV
50以下の電圧に初期調整し、更に、リファレンス電圧に
温度特性を持たせることにより、素子のバラツキに関係
なくバイアス電流の無調整化ができ、しかも全温度で良
好な光出力が得られる。特にIB=0の場合には、バイ
アス電流供給部を削除することもできる。図5(a)はIt
h(T0)>IBのときに、Vref=V50となるように初期設
定した場合の駆動電流、光出力の説明図、図5(b)はIt
h(T0)>IBのときにVref<V50となるように初期設定
した場合の駆動電流、光出力の説明図である。図5(a)
の場合には、光出力波形は位相方向に潰れてしまい消光
比が小さくなり安定な光出力が得られない。しかし、図
5(b)の場合には光出力波形のデューティは50%とな
り、消光比が大きく安定な光出力が得られる。
【0020】(b-2) 第2実施例の構成 図6はバイアス電流を無調整化する場合の本発明の実施
例構成図であり、図2の第1実施例と同一部分には同一
符号を付している。第1実施例と異なる点は、バイア
ス電流制御部15を除去した点、バイアス電流IB
一定値に固定するゲートバイアス回路15´を設けた
点、リファレンス電圧VrefをVref<V 50となるよう
に初期設定する点である。ゲートバイアス回路15´は
抵抗15a,15bにより分圧した一定の電圧をバイア
ス電流供給部13のFETQ8のゲート端子に入力する
構成になっている。かかる半導体レーザ駆動装置によれ
ば、素子のバラツキまで考慮してIth(T0)>IB(≧0m
A)になるようにゲートバイアス回路15´の抵抗15
a,15bを決定し、かつ、リファレンス電圧Vrefを
50以下の所定電圧に初期調整し、更に、リファレンス
電圧Vrefに温度特性を持たせることにより、素子のバ
ラツキに関係なく光出力波形のデューティを略50%に
でき、しかも、消光比を大きく、安定な光出力を得るこ
とができる。又、バイアス電流の調整は不要のため、調
整を容易に行うことができる。
【0021】(c) 本発明の第3の実施例 図7は本発明の第3の実施例構成図であり、図2の第1
実施例と同一部分には同一符号を付している。第1実施
例と異なる点は、温度の上昇に応じて駆動電流IPの値
が増加するように駆動電流制御部14を構成した点であ
る。駆動電流制御部14は、抵抗14a,14bと感温
可変抵抗素子(サーミスタ)14cとの分圧回路で構成
されている。すなわち、抵抗14aとサーミスタ14c
を並列接続し、該並列回路に抵抗14bを直列に接続
し、全体を電源電圧VDD(グランド)とVss(負極性)
間に挿入した構成を備えている。サーミス14cは温度
が上昇すると抵抗値が減少する特性を備えているから、
温度が上昇すると駆動電流供給部12のFETQ7のゲ
ート電圧(制御電圧Vcp)が上昇し、該FETのゲート
・ソース間電圧Vgsが大きくなり、駆動電流IPが増加
する。逆に、温度が下降するとFETQ7のゲート・ソ
ース間電圧Vgsが小さくなり、駆動電流IPが減少す
る。
【0022】この第3の実施例によれば、温度上昇によ
る半導体レーザ11の光出力の減少を駆動電流IPを増
加することにより補償することができ、光出力を略一定
にでき、安定した光出力が得られる。この第3実施例に
おいても、しきい値電流Ithの素子特性バラツキまで考
慮してIth(T0)>IB(≧0mA)になるようにバイアス
電流IBを設定し、かつ、リファレンス電圧VrefをV50
以下の電圧に初期調整し、更に、リファレンス電圧Vre
f及び駆動電流IPに温度特性を持たせれば、素子のバラ
ツキに関係なくバイアス電流の無調整化ができ、しかも
全温度で良好な光出力が得られる。この場合、第2実施
例と同様にバイアス電流制御部15を削除し、代わり
に、ゲートバイアス回路15´を設ける。又、特にIB
=0の場合には、バイアス電流供給部を削除することが
できる。
【0023】(d) 本発明の第4の実施例 図8は本発明の第4の実施例構成図であり、複数の半導
体レーザ駆動部に共通にリファレンス電圧発生部と、駆
動電流制御部と、バイアス電流制御部を設けた例であ
る。101,102,・・・10nは半導体レーザを駆動
する半導体レーザ駆動部、111,112,・・・11n
は半導体レーザ、14は温度の上昇に応じて駆動電流I
Pを増加する駆動電流制御部、15はバイアス電流IB
制御するバイアス電流制御部、16は温度に応じてレベ
ルが変化するリファレンス電圧Vrefを発生するリファ
レンス電圧発生部である。各半導体レーザ駆動部1
1,102,・・・10nは駆動電流供給部121,12
2,・・・12nとバイアス電流供給部13 1,132,・
・・13nを有し、それぞれ入力データ信号DT1,D
T2,・・・DTnが入力されている。各駆動電流供給
部12i(i=1〜n)、バイアス電流供給部13i、
駆動電流制御部14、バイアス電流制御部15、リファ
レンス電圧発生部16は、それぞれ図7に示す駆動電流
供給部、バイアス電流供給部、駆動電流制御部、バイア
ス電流制御部、リファレンス電圧発生部と同一の構成を
備えている。
【0024】駆動電流制御部14、バイアス電流制御部
15、リファレンス電圧発生部16は各半導体レーザ駆
動部101,102,・・・10nに対して共通に1つ設
けられ、それぞれの出力は半導体レーザ駆動部101
102,・・・10nの所要の部分(FETQ7,Q8,
Q2のゲート端子)に並列的に接続されている。低温T
0における調整時、バイアス電流IBがすべての半導体レ
ーザ111〜11nのしきい値電流Ith(T0)より小さくな
るように調整し、又、リファレンス電圧Vrefがデュー
ティ50%の電圧V50より小さな所定の値になるように
調整し、更に、所望の光出力P0に応じた駆動電流IP
流れるように調整する。このように構成すれば、各半導
体レーザ111,112,・・・11nより安定した光出
力を得ることができ、しかも、複数個の半導体レーザを
使用した多チャンネルの光送信機に対して、全部のチャ
ンネルで一括して駆動電流、バイアス電流、リファレン
ス電圧の調整ができる。
【0025】(e) 本発明の第5の実施例 図9は本発明の第5の実施例構成図であり、共通の感温
可変抵抗素子(サーミスタ)を用いて、温度に応じたリ
ファレンス電圧Vref及び駆動電流制御電圧Vcpを発生
する例である。図7の第3実施例では、駆動電流制御部
14及びリファレンス電圧発生部16はそれぞれ独自に
サーミスタ14c,16cを用いて温度に応じた駆動電
流制御電圧Vcp、リファレンス電圧Vrefを出力してい
る。しかし、サーミスタの数は少ない方が好ましい。そ
こで、第5実施例では、温度に応じた電圧Vtを発生す
る電圧発生部17を設け、該電圧Vtに基づいて駆動電
流制御部14より温度上昇に応じて増加する駆動電流制
御電圧Vcpを発生し、又、電圧Vtに基づいてリファレ
ンス電圧発生部16より温度上昇に応じて低下するリフ
ァレンス電圧Vrefを発生する。電圧発生部17はサー
ミスタ17aと抵抗17bを直列に接続した分圧回路で
構成され、サーミスタ17aと抵抗17bの接続点の電
圧がVtとして駆動電流制御部14とリファレンス電圧
発生部16に入力される。駆動電流供給部12とバイア
ス電流供給部13は図7の第3実施例と同一構成を備え
ている。
【0026】(f) 本発明の第6実施例 以上では、リファレンス電圧発生部16は感温可変抵抗
素子(サーミスタ)を用いて温度に応じたリファレンス
電圧Vrefを発生したが、光出力を検出し、該光出力に
基づいてリファレンス電圧を発生するように構成するこ
ともできる。図10はかかる本発明の第6実施例構成図
であり、図7の第3の実施例と同一部分には同一符号を
付している。第3の実施例と異なる点は、半導体レー
ザ11の光出力の一部を光出力平均パワーとして検出す
る受光素子21を設けた点、受光素子21から出力さ
れる信号を比較増幅器22で設定レベルと比較し、その
差に応じたリファレンス電圧制御信号Vrcを出力する
点、リファレンス電圧発生部16はリファレンス電圧
制御信号Vrcに基づいて所定のレベルを有するリファレ
ンス電圧Vrefを出力する点である。予め比較増幅器2
2の一方に所望の光出力に応じた設定電圧Vsを入力し
ておく。そして、比較増幅器22は実際の光出力平均信
号Vaと設定電圧Vsを比較し、その差に応じたリファレ
ンス電圧制御信号Vrcを出力する。リファレンス電圧発
生部16は、実際の値の方が大きい場合、その差に応じ
てリファレンス電圧Vrefが大きくなるように制御し、
実際の値の方が小さい場合、その差に応じてリファレン
ス電圧Vrefが小さくなるように制御する。これによ
り、安定した光出力が得られる。
【0027】(g) 定電流回路の第1の実施例 以上の半導体レーザ駆動装置においてバイアス電流供給
部13とバイアス電流制御部15は全体で定電流回路を
構成する。換言すれば、半導体レーザにバイアス電流を
供給するバイアス電流供給部12及びバイアス電流制御
部14を定電流回路で置き換えることができる。図11
は電源電圧変動に対してドレイン電流を一定にする定電
流回路の構成図であり、半導体レーザ駆動装置のバイア
ス電流供給部13とバイアス電流制御部15に適用した
例である。図中、31は定電流回路、11は半導体レー
ザ、13はバイアス電流供給部、15はバイアス電流制
御部である。バイアス電流供給部13はFETQ8とダ
イオードD6の直列回路で構成され、FETQ8のドレ
イン端子には半導体レーザ11が接続されている。
【0028】バイアス電流制御部15は第1、第2の電
界効果トランジスタ(FET)Q11,Q12及び抵抗
11,R12,R13,R21,可変抵抗VR11を備えてい
る。第1のFETQ11のドレイン端子は第1の抵抗R11
を介してが第1の電源VDD(グランド)に接続され、ソ
ース端子は第2の電源Vss(負極性)に接続されてい
る。抵抗R12,R13で構成された分圧回路は第1、第2
の電源間の電圧を分圧し、分圧した電圧を第1のFET
11のゲート端子に入力する。第2のFETQ12のドレ
イン端子は第1の電源VDDに接続され、ゲート端子が第
1のFETQ11のドレインに接続され、ソース端子が第
2の抵抗R21と可変抵抗VR11の直列回路を介して第2
の電源Vssに接続されている。第2の抵抗R21と可変抵
抗V11の接続点はバイアス電流供給部13のFETQ8
のゲート端子と接続され、FETQ87にゲート電圧を
供給するようになっている。
【0029】この定電流回路31は電源電圧が変動して
もバイアス電流IBを略一定にできるようになってい
る。一般にFETのドレイン電流IDは次式 ID∝β(Vgs−Vth)2 (2) で表される。従って、図11の定電流回路において、F
ETQ8のドレイン電流であるバイアス電流IBを電源
変動に対して変化しないようにするためには、該FET
Q8のゲート・ソース間電圧Vgsを一定、すなわち、可
変抵抗RV11に流れる電流I2を一定にする必要があ
る。今、電源電圧(VDD−Vss)が大きくなったとする
と、第1のFETQ11のゲート・ソース間電圧Vgsが大
きくなり、電流I1が増大する。この時、(V1−Vss)
がほぼ一定となるように第1の抵抗R11を選べば、第2
のFETQ12のゲートソース間電圧Vgsは変化せず、
(2)式より一定の電流I2が得られる。この結果、バイア
ス電流IBを電源電圧が変動しても一定にできる。
【0030】又、バイアス電流IBを調整したい時に
は、可変抵抗VR11の値を調整することにより行う。可
変抵抗VR11の抵抗値を変化すれば、FETQ8のゲー
ト・ソース間電圧Vgsが変化し、バイアス電流IBが変
化する。従って、可変抵抗VR1 1により半導体レーザ1
1の特性に合わせたバイアス電流IBの初期設定ができ
る。この時、電位V1はFETQ11、抵抗R11〜R13
設定で決まるため、バイアス電流が可変抵抗VR11の調
整で変化しても変わらない。従って、バイアス電流値を
変更した時も、該バイアス電流は電源変動に対して一定
に制御される。図12は電源変動(±10%)に対する
バイアス電流IBの変動を示す測定図であり、電源変動
0%においてバイアス電流IBが20mA,10mA,
5mAの場合であり、実線が図11の定電流回路の特
性、点線が図25の定電流回路の特性である。これよ
り、本発明の定電流回路によれば、いかなるバイアス電
流であっても電源変動に対する電流変化が少ないことが
理解される。
【0031】(h) 定電流回路の第2の実施例 半導体レーザ駆動装置において駆動電流供給部12(図
2参照)の一部回路ととバイアス電流制御部15は全体
で定電流回路を構成する。換言すれば、半導体レーザに
駆動電流を供給する駆動電流供給部12の一部及び駆動
電流制御部14を定電流回路で置き換えることができ
る。図13は電源電圧変動に対してドレイン電流を一定
にする定電流回路の構成図であり、半導体レーザ駆動装
置の駆動電流供給部12の一部と駆動電流制御部14に
適用した例である。図中、32は定電流回路、11は半
導体レーザ、12は駆動電流供給部(一部分のみ示
す)、14は駆動電流制御部である。駆動電流供給部1
2は図2に示す構成を備えており、図13では駆動電流
Pの電流パスに関連する部分のみ示している。駆動電
流制御部14は図11のバイアス電流制御部15と同一
の構成を備え、電圧変動が生じても駆動電流IPが一定
となるように制御する。
【0032】(i) 定電流回路の第3の実施例 半導体レーザ11は図23に示す温度特性を有している
から、劣化のない光出力波形を得るためには、バイアス
電流IBをしきい値電流Ithに等しく設定するのが望ま
しい。そのためには、バイアス電流は正の温度特性をも
つ必要がある。又、安定した光出力パワーを得るために
も、駆動電流IPも正の温度特性をもつ必要がある。図
14及び図15はバイアス電流IBに正の温度特性を付
与する本発明の定電流回路の構成図であり、図11の定
電流回路と同一部分には同一符号を付している。尚、駆
動電流IPに正の温度特性を付与する場合にも同一構成
を取ることができる。図14の定電流回路が図11の定
電流回路と異なる点は、第2の抵抗R21に温度に対して
負の特性を備えたダイオードD21を挿入した点である。
温度が上昇すると、ダイオードD21の端子電圧が減少す
るからFETQ8のゲート電圧が上昇し、ゲート・ソー
ス間電圧Vgsが大きくなり、バイアス電流IBが大きく
なる。この結果、温度上昇により、半導体レーザ11の
しきい値電流Ithが大きくなってもバイアス電流IB
大きくなり、IB≒Ithとなる。図15の定電流回路が
図11の定電流回路と異なる点は、第2の抵抗R21をサ
ーミスタTH21で置き換えた点である。温度が上昇する
と、サーミスタTH21の抵抗が減少するから、FETQ
8のゲート電圧が上昇し、ゲート・ソース間電圧Vgsが
大きくなり、バイアス電流IBが大きくなる。この結
果、温度上昇により、半導体レーザ11のしきい値電流
Ithが大きくなってもバイアス電流IBも大きくなり、
B≒Ithとなる。
【0033】(j) 定電流回路の第4の実施例 図16及び図17はバイアス電流IBに正の温度特性を
付与する本発明の定電流回路の構成図であり、図11の
定電流回路と同一部分には同一符号を付している。尚、
駆動電流IPに正の温度特性を付与する場合にも同一構
成を取ることができる。図16の定電流回路が図11の
定電流回路と異なる点は、第1の抵抗R11に温度に対し
て負の特性を備えたダイオードD11を挿入した点であ
る。温度が上昇すると、ダイオードD21の端子電圧が減
少するからFETQ12のゲート電圧が上昇し、電流I2
が増える。この結果、FETQ8のゲート電圧が上昇
し、ゲート・ソース間電圧Vgsが大きくなり、バイアス
電流IBが大きくなる。従って、温度上昇により、半導
体レーザ11のしきい値電流Ithが大きくなってもバイ
アス電流IBも大きくなり、IB≒Ithとなる。図17の
定電流回路が図11の定電流回路と異なる点は、第1の
抵抗R11をサーミスタTH11で置き換えた点である。温
度が上昇すると、サーミスタTH11の抵抗が減少するか
ら、FETQ12のゲート電圧が上昇し、電流I2が増え
る。この結果、FETQ8のゲート電圧が上昇し、ゲー
ト・ソース間電圧Vgsが大きくなり、バイアス電流IB
が大きくなる。従って、温度上昇により、半導体レーザ
11のしきい値電流Ithが大きくなってもバイアス電流
Bも大きくなり、IB≒Ithとなる。
【0034】(k) 複数チャンネルのデータを伝送する光
送信モジュールへの応用 図18は複数チャンネルのデータを伝送する光送信モジ
ュールの構成図である。101,102,・・・10nは
複数の半導体レーザ駆動部、111,112,・・・11
nは半導体レーザ、121,122,・・・12nは図17
に示す定電流回路で構成された駆動電流供給部、1
1,132,・・・13nは図17に示す定電流回路で
構成されたバイアス電流供給部、VR11は各半導体レー
ザ駆動部に共通に設けられたバイアス電流調整用の可変
抵抗、VR11′は各半導体レーザ駆動部に共通に設けら
れた駆動電流調整用の可変抵抗、TH11は各半導体レー
ザ駆動部に共通に設けられたバイアス電流温度補償用の
サーミスタ、TH11′は半導体レーザ駆動部に共通に設
けられた駆動電流温度補償用のサーミスタである。
【0035】各可変抵抗VR11,VR11′及びサーミス
タTH11、TH11′は各半導体レーザ駆動部101,1
2,・・・10nに共通に設けられ、これら半導体レー
ザ駆動部に外付けされる構成になっている。この図18
の構成によれば、外付け部品(可変抵抗VR11,V
11′及びサーミスタTH11、TH11′)を全チャンネ
ル共通とすることができ、回路規模の小さい、調整箇所
の少ない、複数チャンネルのデータを同時に伝送できる
並列伝送用光送信モジュールを提供できる。図19は複
数チャンネルのデータを伝送する光送信モジュールの構
成図であり、バイアス電流を各半導体レーザ駆動部10
1,102,・・・10nで個別に調整できるようにした
もので、それぞれに対応してバイアス電流調整用の可変
抵抗VR11,VR12,・・・VR1nが設けられている。
半導体レーザの特性のうち温度特性は揃っているが、各
チャンネル毎のしきい値電流値が異なる場合には、サー
ミスタTH11,TH11′及び駆動電流調整用の可変抵抗
VR11′を共通に設け、バイアス電流調整用の可変抵抗
VR11,VR12,・・・VR1nを各半導体レーザ駆動部
毎に設ける。そして、可変抵抗VR11,VR12,・・・
VR1nを個別に調整してバイアス電流をしきい値電流に
等しくなるように調整する。以上、本発明を実施例によ
り説明したが、本発明は請求の範囲に記載した本発明の
主旨に従い種々の変形が可能であり、本発明はこれらを
排除するものではない。
【0036】
【発明の効果】以上本発明によれば、入力電圧がリファ
レンス電圧より大きいとき、あるいは小さいとき、半導
体レーザに駆動電流を流す駆動電流供給部と、駆動電流
値を制御する駆動電流制御部と、リファレンス電圧を出
力すると共に周囲温度に応じて該リファレンス電圧のレ
ベルを制御するリファレンス電圧発生部を設けたから、
温度の上昇により半導体レーザのしきい値電流Ithが大
きくなって遅延時間tdが大きくなっても、その分、リ
ファレンス電圧Vrefが低下して駆動電流出力のデュー
ティを増加でき、また、半導体レーザ11に駆動電流が
流れ始める時間を早めることができる。この結果、安定
した光出力パワーが得られ、しかも、早目に駆動電流が
流れることにより遅延時間を相殺でき安定した光出力波
形が得られる。又、本発明によれば、温度上昇に応じて
駆動電流IPの値が増加するように駆動電流制御部14
を構成したから、温度上昇に応じて半導体レーザ11を
流れる電流値を増加でき、ますます安定した光出力パワ
ーを得ることができる。
【0037】更に、本発明によれば、リファレンス電圧
Vrefあるいは駆動電流IPを温度変動により制御するた
め、Ith(T0)>IBと設定することにより必ずしもバイ
アス電流を調整する必要がなくなり、あるいはバイアス
電流供給部を削減することができ、調整を容易に、ある
いは、調整箇所を少なくできる。又、本発明によれば、
半導体レーザ駆動部が複数設けられている場合におい
て、各半導体レーザ駆動部に対して共通に、リファレン
ス電圧発生部と、駆動電流制御部と、バイアス電流制御
部を設けるように構成したから、調整箇所を大幅に少な
くすることができる。更に、本発明によれば、電源電圧
が変動しても一定のバイアス電流及び駆動電流が流れる
ように構成したから、安定した光出力パワー及び光出力
波形を得ることができる。又、半導体レーザ駆動部が複
数設けられている場合において、それぞれに対して共通
に、バイアス電流調整部、駆動電流調整部、バイアス電
流温度補償部、駆動電流温度補償部を設けるように構成
したから、回路規模を小さく、しかも、調整箇所を少な
くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理説明図である。
【図2】本発明の第1の実施例構成図である。
【図3】第1実施例の動作説明用波形図である。
【図4】リファレンス電圧発生部の別の構成図である。
【図5】リファレンス電圧の初期設定値に応じた駆動電
流・光出力波形説明図である。
【図6】本発明の第2実施例の構成図(バイアス電流無
調整化)である。
【図7】本発明の第3実施例の構成図である。
【図8】本発明の第4実施例の構成図である。
【図9】本発明の第5実施例の構成図である。
【図10】本発明の第6実施例の構成図である。
【図11】定電流回路の第1実施例構成図(バイアス電
流)である。
【図12】本発明の電源変動・バイアス電流特性図であ
る。
【図13】定電流回路の第2実施例構成図(駆動電流)
である。
【図14】定電流回路の第3実施例構成図(ダイオード
使用)である。
【図15】定電流回路の第3実施例構成図(サーミスタ
使用)である。
【図16】定電流回路の第4実施例構成図(ダイオード
使用)である。
【図17】定電流回路の第4実施例構成図(サーミスタ
使用)である。
【図18】複数チャンネルのデータを送信する光送信モ
ジュールの構成図である。
【図19】複数チャンネルのデータを送信する光送信モ
ジュールの構成図(バイアス電流個別調整)である。
【図20】従来の半導体レーザ駆動装置のブロック図で
ある。
【図21】半導体レーザの光パワー・電流特性図であ
る。
【図22】従来の半導体レーザ駆動装置の回路構成図で
ある。
【図23】光パワー・電流の温度特性図である。
【図24】光出力の発振遅れ説明図である。
【図25】従来の定電流回路の構成図である。
【図26】従来の定電流回路における電源電圧変動・ド
レイン電流特性図である。
【符号の説明】
11・・半導体レーザ 12・・駆動電流供給部 13・・バイアス電流供給部 14・・駆動電流制御部 15・・バイアス電流制御部 16・・リファレンス電圧発生部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04B 10/04

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザと、 入力電圧がリファレンス電圧より大きいとき、あるいは
    小さいとき、前記半導体レーザに駆動電流を流す駆動電
    流供給部と、 駆動電流値を制御する駆動電流制御部と、 リファレンス電圧を出力すると共に、温度上昇に応じて
    該リファレンス電圧のレベルを小さくするリファレンス
    電圧発生部を備えた半導体レーザ駆動装置。
  2. 【請求項2】 半導体レーザに所定のバイアス電流を流
    すバイアス電流供給部を備えた請求項1記載の半導体レ
    ーザ駆動装置。
  3. 【請求項3】 バイアス電流値を制御するバイアス電流
    制御部を備えた請求項2記載の半導体レーザ駆動装置。
  4. 【請求項4】 前記リファレンス電圧発生部を抵抗と感
    温可変抵抗素子との分圧回路で構成した請求項1記載の
    半導体レーザ駆動装置。
  5. 【請求項5】 前記リファレンス電圧発生部を抵抗によ
    る分圧回路にダイオードを直列に接続して構成した請求
    項1記載の半導体レーザ駆動装置。
  6. 【請求項6】 前記駆動電流制御部は、温度の上昇に応
    じて駆動電流値を増加する請求項1または請求項2また
    は請求項3記載の半導体レーザ駆動装置。
  7. 【請求項7】 前記駆動電流供給部は駆動電流の通路に
    電界効果トランジスタを備え、 前記駆動電流制御部は抵抗と感温可変抵抗素子との分圧
    回路を備え、該分圧回路により電源電圧を分圧し、温度
    上昇に応じて大きくなる電圧を前記電界効果トランジス
    タのゲート端子に入力する請求項6記載の半導体レーザ
    駆動装置。
  8. 【請求項8】 半導体レーザと、 入力電圧がリファレンス電圧より大きいとき、あるいは
    小さいとき、前記半導体レーザに駆動電流を流す駆動電
    流供給部と、 温度の上昇に応じて駆動電流値を増加する駆動電流制御
    部と、 半導体レーザの光出力を検出するモニタ用受光素子と、 光出力が大きい時、リファレンス電圧を上昇し、光出力
    が小さい場合にはリファレンス電圧を減少するようにリ
    ファレンス電圧を発生するリファレンス電圧発生部とを
    備えた半導体レーザ駆動装置。
  9. 【請求項9】 半導体レーザと、入力電圧がリファレン
    ス電圧より大きいとき、あるいは小さいとき、半導体レ
    ーザに駆動電流を流す駆動電流供給部と、半導体レーザ
    に所定のバイアス電流を流すバイアス電流供給部とを備
    えた半導体レーザ駆動部を複数設け、 各半導体レーザ駆動部に共通に、 温度上昇に応じてレベルが小さくなるリファレンス電圧
    を発生するリファレンス電圧発生部と、温度上昇に応じ
    て駆動電流値を増加する駆動電流制御部と、バイアス電
    流値を制御するバイアス電流制御部を設けた半導体レー
    ザ駆動装置。
  10. 【請求項10】 半導体レーザと、入力データがハイレ
    ベルあるいはローレベルのとき前記半導体レーザに駆動
    電流を流す駆動電流供給部と、半導体レーザに所定のバ
    イアス電流を流すバイアス電流供給部を備えた半導体レ
    ーザ駆動装置において、 バイアス電流供給部は、 第1の抵抗を介してドレイン端子が第1の電源に接続さ
    れ、ソース端子が第2の電源に接続された第1の電界効
    果トランジスタと、 第1、第2の電源間の電圧を分圧し、分圧した電圧を第
    1の電界効果トランジスタのゲート端子に入力する分圧
    回路と、 ドレイン端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第
    1の電界効果トランジスタのドレインに接続され、ソー
    ス端子が第2の抵抗と可変抵抗の直列回路を介して第2
    の電源に接続された第2の電界効果トランジスタと、 ドレイン端子がレーザダイオードに接続され、ゲート端
    子が第2の抵抗と可変抵抗の接続点に接続され、ソース
    端子がダイオードを介して第2の電源に接続された第3
    の電界効果トランジスタを備えた半導体レーザ駆動装
    置。
  11. 【請求項11】 前記第1の抵抗を、ダイオードと抵抗
    の直列回路又は感温可変抵抗素子で置換した請求項10
    記載の半導体レーザ駆動装置。
  12. 【請求項12】 前記ダイオードと抵抗の直列回路又は
    感温可変抵抗素子、前記可変抵抗器をそれぞれ外付けす
    る構成の半導体レーザ駆動ユニットを複数設け、 外付け部品をそれぞれ各半導体レーザ駆動ユニットに共
    通に1つ設け、それぞれの外付け部品を各半導体レーザ
    駆動装置に接続して成る請求項11記載の半導体レーザ
    駆動装置。
  13. 【請求項13】 前記第2の抵抗を、ダイオードと抵抗
    の直列回路又は感温可変抵抗素子で置換した請求項10
    記載の半導体レーザ駆動装置。
  14. 【請求項14】 半導体レーザと、入力データがハイレ
    ベルあるいはローレベルのとき前記半導体レーザに駆動
    電流を流す駆動電流供給部と、半導体レーザに所定のバ
    イアス電流を流すバイアス電流供給部を備えた半導体レ
    ーザ駆動装置において、 駆動電流供給部は、 入力データにより差動的にオン・オフする一対の電界効
    果トランジスタの一方の電界効果トランジスタのドレイ
    ンに半導体レーザが接続される差動回路と、 第1の抵抗を介してドレイン端子が第1の電源に接続さ
    れ、ソース端子が第2の電源に接続された第1の電界効
    果トランジスタと、 第1、第2の電源間の電圧を分圧し、分圧した電圧を第
    1の電界効果トランジスタのゲート端子に入力する分圧
    回路と、 ドレイン端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第
    1の電界効果トランジスタのドレインに接続され、ソー
    ス端子が第2の抵抗と可変抵抗の直列回路を介して第2
    の電源に接続された第2の電界効果トランジスタと、 ドレイン端子が差動回路を構成する電界効果トランジス
    タのソースに接続され、ゲート端子が第2の抵抗と可変
    抵抗の接続点に接続され、ソース端子がダイオードを介
    して第2の電源に接続された第3の電界効果トランジス
    タを、備えた半導体レーザ駆動装置。
  15. 【請求項15】 前記第1の抵抗を、ダイオードと抵抗
    の直列回路又は感温可変抵抗素子で置換した請求項13
    記載の半導体レーザ駆動装置。
  16. 【請求項16】 前記ダイオードと抵抗の直列回路又は
    感温可変抵抗素子、及び前記可変抵抗器をそれぞれ外付
    けする構成の半導体レーザ駆動ユニットを複数設け、 外付け部品をそれぞれ各半導体レーザ駆動ユニットに共
    通に1つ設け、それぞれの外付け部品を各半導体レーザ
    駆動ユニットに接続して成る請求項15記載の半導体レ
    ーザ駆動装置。
  17. 【請求項17】 前記第2の抵抗を、ダイオードと抵抗
    の直列回路又は感温可変抵抗素子で置換した請求項14
    記載の半導体レーザ駆動装置。
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