JPH07238279A - オーバーコート膜形成用コーティング液 - Google Patents
オーバーコート膜形成用コーティング液Info
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- JPH07238279A JPH07238279A JP5139178A JP13917893A JPH07238279A JP H07238279 A JPH07238279 A JP H07238279A JP 5139178 A JP5139178 A JP 5139178A JP 13917893 A JP13917893 A JP 13917893A JP H07238279 A JPH07238279 A JP H07238279A
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- JP
- Japan
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- film
- coating liquid
- forming
- alkyl silicate
- water
- Prior art date
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- Pending
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 導電性酸化物被膜上に、防眩効果を有し、か
つ耐水性に優れたオーバーコート膜形成用のコーティン
グ液を提供する。 【構成】 1〜25重量%のアルキルシリケートと、ト
リアルキルアルコキシシランと、エタノールが少なくと
も60重量%以上含有する有機溶媒とからなることを特
徴とする。
つ耐水性に優れたオーバーコート膜形成用のコーティン
グ液を提供する。 【構成】 1〜25重量%のアルキルシリケートと、ト
リアルキルアルコキシシランと、エタノールが少なくと
も60重量%以上含有する有機溶媒とからなることを特
徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、OA機器のディスプレ
イやブラウン管などのパネル表面からの入射光の正反射
を低減させるために、ノングレア処理によって入射光を
拡散反射させる防眩効果を有し、かつ耐水性に優れたオ
ーバーコート膜を形成させるためのコーティング液に関
する。
イやブラウン管などのパネル表面からの入射光の正反射
を低減させるために、ノングレア処理によって入射光を
拡散反射させる防眩効果を有し、かつ耐水性に優れたオ
ーバーコート膜を形成させるためのコーティング液に関
する。
【0002】
【従来の技術】ブラウン管の表面には、静電気の帯電に
よるホコリが付着し易く、また、人体が接触したときに
放電して電気ショックを受けるため、電界シールド対策
を施すことは古くから知られている。ことに、近年のO
A化の進展により、オフィスに多くのOA機器のディス
プレイが導入され、陰極線管(CRT)に接して作業を
行うという環境は珍しい事ではない。コンピューターの
CRTに接して仕事を行う場合には、単に静電気による
CRT表面へのホコリの付着や電撃ショックだけでな
く、表示画面が見易く、画像の読取りが容易であり、視
覚疲労を感じさせない安全基準をクリアするものでなけ
ればならない。
よるホコリが付着し易く、また、人体が接触したときに
放電して電気ショックを受けるため、電界シールド対策
を施すことは古くから知られている。ことに、近年のO
A化の進展により、オフィスに多くのOA機器のディス
プレイが導入され、陰極線管(CRT)に接して作業を
行うという環境は珍しい事ではない。コンピューターの
CRTに接して仕事を行う場合には、単に静電気による
CRT表面へのホコリの付着や電撃ショックだけでな
く、表示画面が見易く、画像の読取りが容易であり、視
覚疲労を感じさせない安全基準をクリアするものでなけ
ればならない。
【0003】静電気帯電に伴う問題は、CRT表面に導
電膜を被着してアースをとることにより解決されるが、
CRTは透過画像の表面にあるため導電膜は透明性に優
れたものであることが好ましい。また、画面を見易くす
るには、防眩処理や多層膜化処理を施して、画像の反射
を抑えることによって達成される。
電膜を被着してアースをとることにより解決されるが、
CRTは透過画像の表面にあるため導電膜は透明性に優
れたものであることが好ましい。また、画面を見易くす
るには、防眩処理や多層膜化処理を施して、画像の反射
を抑えることによって達成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】防眩処理方法について
は、例えば、パネル外表面にアルキルシリケートのアル
コール溶液を吹き付け塗布した後、80〜150℃の温
度で焼成することによって微細な凹凸を有する被膜を形
成して防眩効果を有するブラウン管を製造する方法が開
示されている(特開昭61−118932号公報)。し
かし、この方法で得られた膜は、表面に多量のシラノー
ル基が残存するので強度が弱く、かつ耐水性に乏しいと
いう欠点がある。また、パネル外表面にアルキルシリケ
ートのアルコール溶液を吹き付け塗布した後、焼成によ
って微細な凹凸被膜を形成し、さらにSiO2 凹凸被膜
最表面層に、シラノール基を含む帯電防止膜を形成する
方法が開示されている(特開昭61−118946号公
報)。しかし、残存するシラノール基は、空気中の水分
や隣接するシラノール基同志と脱水縮合するので、前記
同様に耐水性に乏しいという欠点がある。
は、例えば、パネル外表面にアルキルシリケートのアル
コール溶液を吹き付け塗布した後、80〜150℃の温
度で焼成することによって微細な凹凸を有する被膜を形
成して防眩効果を有するブラウン管を製造する方法が開
示されている(特開昭61−118932号公報)。し
かし、この方法で得られた膜は、表面に多量のシラノー
ル基が残存するので強度が弱く、かつ耐水性に乏しいと
いう欠点がある。また、パネル外表面にアルキルシリケ
ートのアルコール溶液を吹き付け塗布した後、焼成によ
って微細な凹凸被膜を形成し、さらにSiO2 凹凸被膜
最表面層に、シラノール基を含む帯電防止膜を形成する
方法が開示されている(特開昭61−118946号公
報)。しかし、残存するシラノール基は、空気中の水分
や隣接するシラノール基同志と脱水縮合するので、前記
同様に耐水性に乏しいという欠点がある。
【0005】本発明の目的は、上記問題点の課題を解消
し、導電性酸化物被膜上に、防眩効果を有し、かつ耐水
性に優れたオーバーコート膜形成用のコーティング液を
提供することにある。
し、導電性酸化物被膜上に、防眩効果を有し、かつ耐水
性に優れたオーバーコート膜形成用のコーティング液を
提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、導電性酸
化物被膜上に、防眩効果を有する耐水性に優れたオーバ
ーコート膜形成用コーティング液について鋭意研究を重
ねた結果、シリカゾル溶液にトリアルキルアルコキシシ
ランを含有させたコーティング液を用いることによって
前記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明は、導電性酸化物被膜上に、
防眩効果を有するオーバーコート膜を形成するコーティ
ング液であって、1〜25重量%のアルキルシリケート
と、トリアルキルアルコキシシラン、水、触媒及びエタ
ノールが少なくとも60重量%以上含有する有機溶媒と
からなるオーバーコート膜形成用コーティング液を特徴
とするものである。
化物被膜上に、防眩効果を有する耐水性に優れたオーバ
ーコート膜形成用コーティング液について鋭意研究を重
ねた結果、シリカゾル溶液にトリアルキルアルコキシシ
ランを含有させたコーティング液を用いることによって
前記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明は、導電性酸化物被膜上に、
防眩効果を有するオーバーコート膜を形成するコーティ
ング液であって、1〜25重量%のアルキルシリケート
と、トリアルキルアルコキシシラン、水、触媒及びエタ
ノールが少なくとも60重量%以上含有する有機溶媒と
からなるオーバーコート膜形成用コーティング液を特徴
とするものである。
【0007】
【作用】本発明のオーバーコート膜形成用コーティング
液は、基板にアンダーコートされた導電性酸化物被膜上
の塗布されると、アルキルシリケートを主成分とするア
ルコール溶液に、トリアルキルアルコキシシラン、水、
触媒が添加されているので、120〜250℃の温度範
囲で焼成することにより、ただちに加水分解、縮重合が
促進される。このためSiO2 からなる微細な凹凸を有
し、且つ耐水性に優れたオーバーコート被膜を形成でき
る。
液は、基板にアンダーコートされた導電性酸化物被膜上
の塗布されると、アルキルシリケートを主成分とするア
ルコール溶液に、トリアルキルアルコキシシラン、水、
触媒が添加されているので、120〜250℃の温度範
囲で焼成することにより、ただちに加水分解、縮重合が
促進される。このためSiO2 からなる微細な凹凸を有
し、且つ耐水性に優れたオーバーコート被膜を形成でき
る。
【0008】本発明で用いるアルキルシリケートをバイ
ンダーとする導電性酸化物被膜は、導電性物質として、
酸化インジウム、酸化錫及び酸化アンチモンから選ばれ
る少なくとも一種を含有する。とくに抵抗が低いインジ
ウム錫酸化物(ITO)が好ましい。導電性酸化物被膜
を形成した基板上へのコーティング液の塗布は、スプレ
ーコート、スピンコート及びディップコートのいずれの
塗布方法でもよく、30〜60℃の基板温度範囲で行う
ことが好ましい。基板温度が低すぎると塗膜形成に時間
がかかり、ゴミの付着や塗布後のコーティング液流れが
生じ、結果的に膜ムラとなるからであり、高すぎるとレ
ベリングが悪くなり膜ムラとなるからである。
ンダーとする導電性酸化物被膜は、導電性物質として、
酸化インジウム、酸化錫及び酸化アンチモンから選ばれ
る少なくとも一種を含有する。とくに抵抗が低いインジ
ウム錫酸化物(ITO)が好ましい。導電性酸化物被膜
を形成した基板上へのコーティング液の塗布は、スプレ
ーコート、スピンコート及びディップコートのいずれの
塗布方法でもよく、30〜60℃の基板温度範囲で行う
ことが好ましい。基板温度が低すぎると塗膜形成に時間
がかかり、ゴミの付着や塗布後のコーティング液流れが
生じ、結果的に膜ムラとなるからであり、高すぎるとレ
ベリングが悪くなり膜ムラとなるからである。
【0009】本発明で言うアルキルシリケートとは、例
えばオルトアルキルシリケート又はこれらが加水分解さ
れてある程度縮重合反応が進行した液状のものであっ
て、特に限定されないが、導電性酸化物被膜形成に用い
るアルキルシリケートの種類によって適宜選択すればよ
く、メチルシリケート、エチルシリケート、プロピルシ
リケート、ブチルシリケート等のオルトアルキルシリケ
ート、又はこれらを加水分解して得られる液状縮重合体
から選ばれた1種であることが好ましい。また、2種以
上の混合物として用いることもできる。アルキルシリケ
ート量は、1%未満では耐水性を満足する膜が得られ
ず、また25%を越えると膜が厚くなりすぎて、焼成後
に膜が割れてしまうので1〜25%とすることが好まし
い。アルキルシリケートの加水分解、縮重合を促進させ
るための触媒は、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸及び
アンモニアから選ばれた1種である。触媒量及び水は特
に限定されず、アルキルシリケートの加水分解、縮重合
が十分に進行し、耐水性を満足する膜が得られるように
添加すればよい。
えばオルトアルキルシリケート又はこれらが加水分解さ
れてある程度縮重合反応が進行した液状のものであっ
て、特に限定されないが、導電性酸化物被膜形成に用い
るアルキルシリケートの種類によって適宜選択すればよ
く、メチルシリケート、エチルシリケート、プロピルシ
リケート、ブチルシリケート等のオルトアルキルシリケ
ート、又はこれらを加水分解して得られる液状縮重合体
から選ばれた1種であることが好ましい。また、2種以
上の混合物として用いることもできる。アルキルシリケ
ート量は、1%未満では耐水性を満足する膜が得られ
ず、また25%を越えると膜が厚くなりすぎて、焼成後
に膜が割れてしまうので1〜25%とすることが好まし
い。アルキルシリケートの加水分解、縮重合を促進させ
るための触媒は、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸及び
アンモニアから選ばれた1種である。触媒量及び水は特
に限定されず、アルキルシリケートの加水分解、縮重合
が十分に進行し、耐水性を満足する膜が得られるように
添加すればよい。
【0010】トリアルキルアルコキシシランR3 SiO
Rを添加することにより、SiO2からなる微細な凹凸
を有し、かつ耐水性に優れたオーバーコート被膜が形成
できるが、とくに耐水性の向上は、オーバーコート被膜
の表面に存在する水酸(OH)基あるいは未反応アルコ
キシル(OR)基がトリアルキルアルコキシシラン中の
トリアルキルシリル(OSiR3 )基でキャンピングさ
れることにより表面の疎水化によって生じると考えられ
る。トリアルキルアルコキシシランは、少なすぎるとS
iO2 からなる微細な凹凸が形成されないため反射率が
不十分で、また多すぎると膜中に多量に残存することに
よって、膜強度が弱くなり、かつ不均一な膜となる。ア
ルキル基としてはエチルが最も好ましくトリエチルアル
コキシシランはトリアルキルクロロシランとエタノール
との反応によって得られるのでトリアルキルクロロシラ
ンの形で加えることができる。
Rを添加することにより、SiO2からなる微細な凹凸
を有し、かつ耐水性に優れたオーバーコート被膜が形成
できるが、とくに耐水性の向上は、オーバーコート被膜
の表面に存在する水酸(OH)基あるいは未反応アルコ
キシル(OR)基がトリアルキルアルコキシシラン中の
トリアルキルシリル(OSiR3 )基でキャンピングさ
れることにより表面の疎水化によって生じると考えられ
る。トリアルキルアルコキシシランは、少なすぎるとS
iO2 からなる微細な凹凸が形成されないため反射率が
不十分で、また多すぎると膜中に多量に残存することに
よって、膜強度が弱くなり、かつ不均一な膜となる。ア
ルキル基としてはエチルが最も好ましくトリエチルアル
コキシシランはトリアルキルクロロシランとエタノール
との反応によって得られるのでトリアルキルクロロシラ
ンの形で加えることができる。
【0011】有機溶媒は、アルキルシリケート及び水と
の相溶性や製膜状態を考慮した場合、エタノール単独ま
たはエタノールとジアセトンアルコール、アセトン、ジ
メチルフォルムアミドから選ばれた少なくとも1種以上
の溶媒を添加した混合溶媒が好ましく、エタノールを少
なくとも60%以上含有させるのは、60%未満では塗
膜形成後の膜が不均一となり、光透過率やヘーズ値など
の満足できる光学特性が得られないためである。
の相溶性や製膜状態を考慮した場合、エタノール単独ま
たはエタノールとジアセトンアルコール、アセトン、ジ
メチルフォルムアミドから選ばれた少なくとも1種以上
の溶媒を添加した混合溶媒が好ましく、エタノールを少
なくとも60%以上含有させるのは、60%未満では塗
膜形成後の膜が不均一となり、光透過率やヘーズ値など
の満足できる光学特性が得られないためである。
【0012】上記のようなアルキルシリケート、触媒、
水、トリアルキルアルコキシシラン及び有機溶媒から調
製した溶液を、アルキルシリケートをバインダーとする
導電性酸化物被膜を形成した基板上に、30〜60℃の
基板温度で塗布する。形成したオーバーコート乾燥塗膜
は、シロキサン結合を形成させ、耐水性に優れた膜形成
を行うために120〜250℃で焼成されることが好ま
しい。焼成時間は、コーティング液組成や焼成温度によ
って適宜選択すればよいが、通常は10〜60分で十分
である。以上のようにして、防眩効果を有する耐水性に
優れたオーバーコート膜を形成することができる。
水、トリアルキルアルコキシシラン及び有機溶媒から調
製した溶液を、アルキルシリケートをバインダーとする
導電性酸化物被膜を形成した基板上に、30〜60℃の
基板温度で塗布する。形成したオーバーコート乾燥塗膜
は、シロキサン結合を形成させ、耐水性に優れた膜形成
を行うために120〜250℃で焼成されることが好ま
しい。焼成時間は、コーティング液組成や焼成温度によ
って適宜選択すればよいが、通常は10〜60分で十分
である。以上のようにして、防眩効果を有する耐水性に
優れたオーバーコート膜を形成することができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例の一例について具体的
に説明する。ガラス基板(20×15cm,厚さ3m
m)をアセトン洗浄後、30〜60℃に加熱する。加熱
した基板をスピンコーターにセット後、回転数100〜
180rpmでSn含有量4.3%のITO粉末1.5
重量%、エチルシリケート400.5重量%、水0.1
重量%、5重量%HCl溶液0.1重量%、エタノール
86.3重量%、ジアセトンアルコール6.0重量%、
ジメチルホルムアミド(DMF)4.3重量%およびN
−メチル−2−ピロリジノン(NMP)1.2重量%か
らなる帯電防止液を、中央部から端部に移動させながら
コーティングし、この状態で120sec保持すること
によってITO透明導電性酸化物膜を製膜した。以降の
実施例及び比較例は、上記の様に製膜したITO透明導
電性酸化物膜を被着した基板を用いて行った。単位は重
量%である。 (実施例1) エチルシリケート40 5.0%(多摩化学工業
(株)製 3〜4量体主成分分子量611〜745) 水 1.2% 6%HCl 0.3% エタノール 61.5% アセトン 16.8% ジアセトンアルコール 6.8% クロロトリメチルシラン 8.4% 製膜条件は、基板温度48℃、回転数180rpm、焼
成温度190℃−30分である。
に説明する。ガラス基板(20×15cm,厚さ3m
m)をアセトン洗浄後、30〜60℃に加熱する。加熱
した基板をスピンコーターにセット後、回転数100〜
180rpmでSn含有量4.3%のITO粉末1.5
重量%、エチルシリケート400.5重量%、水0.1
重量%、5重量%HCl溶液0.1重量%、エタノール
86.3重量%、ジアセトンアルコール6.0重量%、
ジメチルホルムアミド(DMF)4.3重量%およびN
−メチル−2−ピロリジノン(NMP)1.2重量%か
らなる帯電防止液を、中央部から端部に移動させながら
コーティングし、この状態で120sec保持すること
によってITO透明導電性酸化物膜を製膜した。以降の
実施例及び比較例は、上記の様に製膜したITO透明導
電性酸化物膜を被着した基板を用いて行った。単位は重
量%である。 (実施例1) エチルシリケート40 5.0%(多摩化学工業
(株)製 3〜4量体主成分分子量611〜745) 水 1.2% 6%HCl 0.3% エタノール 61.5% アセトン 16.8% ジアセトンアルコール 6.8% クロロトリメチルシラン 8.4% 製膜条件は、基板温度48℃、回転数180rpm、焼
成温度190℃−30分である。
【0014】(実施例2) メチルシリケート51 10.0%(多摩化学工業
(株)製 3〜4量体、分子量357〜470) 水 2.4% 6%HCl 0.6% エタノール 70.2% クロロトリメチルシラン 16.8% 製膜条件は、基板温度46℃、回転数180rpm、焼
成温度180℃−30分である。 (実施例3) エチルシリケート40 3.0% 水 0.9% 6%HNO3 0.2% エタノール 94.5% クロロトリエチルシラン 1.4% 製膜条件は、基板温度50℃、回転数180rpm、焼
成温度160℃−30分である。 (実施例4) エチルシリケート40 20.0% 水 4.8% 6%HCl 1.2% エタノール 65.6% トリメチルエトキシシラン 8.4% 製膜条件は、基板温度50℃、回転数180rpm、焼
成温度170℃−30分である。
(株)製 3〜4量体、分子量357〜470) 水 2.4% 6%HCl 0.6% エタノール 70.2% クロロトリメチルシラン 16.8% 製膜条件は、基板温度46℃、回転数180rpm、焼
成温度180℃−30分である。 (実施例3) エチルシリケート40 3.0% 水 0.9% 6%HNO3 0.2% エタノール 94.5% クロロトリエチルシラン 1.4% 製膜条件は、基板温度50℃、回転数180rpm、焼
成温度160℃−30分である。 (実施例4) エチルシリケート40 20.0% 水 4.8% 6%HCl 1.2% エタノール 65.6% トリメチルエトキシシラン 8.4% 製膜条件は、基板温度50℃、回転数180rpm、焼
成温度170℃−30分である。
【0015】(比較例1)エチルシリケート40 0.
5%、クロロトリメチルシラン0.6%、エタノール7
3.8%とした以外は実施例1と同様のコーティング液
を調製し、製膜した。 (比較例2) エチルシリケート40 30.0% 水 7.1% 6%HCl 1.8% エタノール 57.6% クロロトリメチルシラン 3.5% 製膜条件は、基板温度45℃、回転数180rpm、焼
成温度190℃−30分である。
5%、クロロトリメチルシラン0.6%、エタノール7
3.8%とした以外は実施例1と同様のコーティング液
を調製し、製膜した。 (比較例2) エチルシリケート40 30.0% 水 7.1% 6%HCl 1.8% エタノール 57.6% クロロトリメチルシラン 3.5% 製膜条件は、基板温度45℃、回転数180rpm、焼
成温度190℃−30分である。
【0016】(比較例3) メチルシリケート51 5.0% 水 0.6% 6%HCl 0.7% エタノール 48.7% アセトン 29.0% ジアセトンアルコール 15.2% クロロトリメチルシラン 0.8% 製膜条件は、基板温度47℃、回転数180rpm、焼
成温度160℃−30分である。 (比較例4) エチルシリケート40 3.0% 水 1.4% 6%HCl 0.2% エタノール 95.4% 製膜条件は、基板温度35℃、回転数170rpm、焼
成温度160℃−30分である。 (比較例5)水及び6%HClを添加せずにエタノール
63.0%とした以外は実施例1と同様にコーティング
液を調整し、製膜した。
成温度160℃−30分である。 (比較例4) エチルシリケート40 3.0% 水 1.4% 6%HCl 0.2% エタノール 95.4% 製膜条件は、基板温度35℃、回転数170rpm、焼
成温度160℃−30分である。 (比較例5)水及び6%HClを添加せずにエタノール
63.0%とした以外は実施例1と同様にコーティング
液を調整し、製膜した。
【0017】実施例1〜4及び比較例1〜5の様に調製
したコーティング液は、ITO透明導電性酸化物膜を被
着した基板上に前記のように塗布した後、60sec間
保持した。この後、所定の温度で焼成することによって
オーバーコート膜を形成した。得られたオーバーコート
膜の評価結果を表1に示した。尚、耐沸騰水性は、沸騰
水中に30分間浸漬した後、膜ハガレの有無を調べた。
そして、変化のない膜は○、若干剥離した膜は△、完全
に剥離した膜は×として表した。また製膜状態は、目視
による外観テストを行い、クリアな膜はA、若干不均一
な膜はB、不均一な膜はCとランクづけした。
したコーティング液は、ITO透明導電性酸化物膜を被
着した基板上に前記のように塗布した後、60sec間
保持した。この後、所定の温度で焼成することによって
オーバーコート膜を形成した。得られたオーバーコート
膜の評価結果を表1に示した。尚、耐沸騰水性は、沸騰
水中に30分間浸漬した後、膜ハガレの有無を調べた。
そして、変化のない膜は○、若干剥離した膜は△、完全
に剥離した膜は×として表した。また製膜状態は、目視
による外観テストを行い、クリアな膜はA、若干不均一
な膜はB、不均一な膜はCとランクづけした。
【0018】
【表1】
【0019】表1に示す結果より、本発明のコーティン
グ液組成では、膜の耐水性、均一性及び反射率を十分満
足するオーバーコート膜が形成できる。アルキルシリケ
ート量が少なかったり(比較例1)あるいは多すぎる
(比較例2)と、耐水性を満足する膜強度が得られな
く、また、未反応アルキルシリケートが多量に残存し、
抵抗の経時劣化の原因や、膜割れとなったりする。ま
た、エタノール量が少ないと膜ムラにより均一膜が得ら
れなく(比較例3)また、トリアルキルアルコシランが
含有しないと低反射率が得られず(比較例4)さらに、
水や触媒が存在しないと、加水分解、縮重合が不充分で
耐水性を満足する膜が得られない(比較例5)ことが分
かる。
グ液組成では、膜の耐水性、均一性及び反射率を十分満
足するオーバーコート膜が形成できる。アルキルシリケ
ート量が少なかったり(比較例1)あるいは多すぎる
(比較例2)と、耐水性を満足する膜強度が得られな
く、また、未反応アルキルシリケートが多量に残存し、
抵抗の経時劣化の原因や、膜割れとなったりする。ま
た、エタノール量が少ないと膜ムラにより均一膜が得ら
れなく(比較例3)また、トリアルキルアルコシランが
含有しないと低反射率が得られず(比較例4)さらに、
水や触媒が存在しないと、加水分解、縮重合が不充分で
耐水性を満足する膜が得られない(比較例5)ことが分
かる。
【0020】
【発明の効果】以上の様に、本発明によるオーバーコー
ト膜形成用コーティング液によれば、アルキルシリケー
トをバインダーとする導電性酸化物膜の表面保護、反射
防止及び耐水性を著しく向上せしめることが可能にな
る。
ト膜形成用コーティング液によれば、アルキルシリケー
トをバインダーとする導電性酸化物膜の表面保護、反射
防止及び耐水性を著しく向上せしめることが可能にな
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 導電性酸化物被膜上に、防眩効果を有す
るオーバーコート膜を形成するコーティング液であって
1〜25重量%のアルキルシリケートと、トリアルキル
アルコキシシラン、水、触媒及びエタノールが少なくと
も60重量%以上含有する有機溶媒とからなることを特
徴とするオーバーコート膜形成用コーティング液。 - 【請求項2】 導電性酸化物被膜は、インジウム錫酸化
物と、アルキルシリケートと、極性溶媒とからなる帯電
防止液を塗布して形成せしめられることを特徴とする請
求項1に記載のオーバーコート膜形成用コーティング
液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5139178A JPH07238279A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | オーバーコート膜形成用コーティング液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5139178A JPH07238279A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | オーバーコート膜形成用コーティング液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07238279A true JPH07238279A (ja) | 1995-09-12 |
Family
ID=15239390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5139178A Pending JPH07238279A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | オーバーコート膜形成用コーティング液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07238279A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003052466A1 (fr) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Procédé de formation d'un film projeté |
KR100777606B1 (ko) * | 2007-02-27 | 2007-11-28 | 시게키 이이다 | 코팅 필름 |
JPWO2006046431A1 (ja) * | 2004-10-26 | 2008-05-22 | 旭硝子株式会社 | 無機塗料組成物、導電性塗膜及び導電性塗膜の形成方法 |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP5139178A patent/JPH07238279A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003052466A1 (fr) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Procédé de formation d'un film projeté |
CN100392435C (zh) * | 2001-12-14 | 2008-06-04 | 日本板硝子株式会社 | 形成突起膜的方法 |
JPWO2006046431A1 (ja) * | 2004-10-26 | 2008-05-22 | 旭硝子株式会社 | 無機塗料組成物、導電性塗膜及び導電性塗膜の形成方法 |
KR100777606B1 (ko) * | 2007-02-27 | 2007-11-28 | 시게키 이이다 | 코팅 필름 |
KR100777607B1 (ko) * | 2007-02-27 | 2007-11-28 | 시게키 이이다 | 코팅 조성물 |
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