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JPH07228576A - 2−(2´−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法 - Google Patents

2−(2´−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法

Info

Publication number
JPH07228576A
JPH07228576A JP6019172A JP1917294A JPH07228576A JP H07228576 A JPH07228576 A JP H07228576A JP 6019172 A JP6019172 A JP 6019172A JP 1917294 A JP1917294 A JP 1917294A JP H07228576 A JPH07228576 A JP H07228576A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
hydroxyphenyl
benzotriazoles
carbon atoms
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6019172A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Fujimoto
康二 藤本
Mamoru Ishikawa
守 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP6019172A priority Critical patent/JPH07228576A/ja
Publication of JPH07228576A publication Critical patent/JPH07228576A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】o −ニトロヒドロキシアゾベンゼン類を溶媒
中、塩基性物質存在下、パラジウムを含有する水素添加
触媒と、硫黄化合物存在下に接触水素添加し、2−(2
´−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類を製造
する。 【効果】反応による副生成物が少なく、目的物の収率が
高い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2−ニトロ−2´−ヒ
ドロキシアゾベンゼン類をパラジウム触媒の存在下に水
素により接触還元すると同時に閉環させて2−(2’−
ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類を製造する
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、これらの2−(2´−ヒドロキシ
フェニル)ベンゾトリアゾール類はo−ニトロヒドロキ
シアゾベンゼンを化学的または、電解的に還元して製造
されているが、それぞれ一長一短があって充分満足する
方法ではない。例えば、特公昭37−5934号公報で
はo−ニトロアゾベンゼン類をアルコール性水酸化ナト
リウム溶液中、亜鉛粉末で化学的に還元して相当する2
−(2´−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類
を90%以上の収率で得ている。 また、特公昭60−
9031号公報にはヒドラジンによる還元法が、特公昭
60−36429号公報、特公昭60−36430号公
報あるいは特開平2−134370号には接触水素添加
による還元法が記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特公昭37−
5934号公報のo−ニトロアゾベンゼン類をアルコー
ル性水酸化ナトリウム溶液中、亜鉛粉末で化学的に還元
して相当する2−(2´−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール類を得る方法では、原料のニトロアゾベン
ゼンに対し約4倍モルの亜鉛を使用するために、反応終
了後、多量の亜鉛酸化物がスラッジとして生じる点で、
排水汚染の問題や廃棄物の処理が容易でないことなどの
難点がある。また、特公昭60−9031号公報のヒド
ラジンによる還元法では、ヒドラジンが少なくとも化学
量論量必要であり、また、収率・純度も十分でなく、経
済性の面で問題がある。
【0004】接触水素添加による2−(2´−ヒドロキ
シフェニル)ベンゾトリアゾール類の合成においては、
原料のo−ニトロアゾベンゼン類にクロロ基が含有する
場合、貴金属水素化触媒の中で最も一般的であり、かつ
経済的であるパラジウムを用いると、脱クロロ化反応が
優先的に起こり、クロロ基を有する2−(2´−ヒドロ
キシフェニル)ベンゾトリアゾールが得られないことが
報告されている。このため、特公昭60−36429号
公報や特公昭60−36430号公報では、触媒にロジ
ウムを用いることにより脱クロロ化を抑制しているが、
得られるクロロ基含有2−(2´−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾールは収率60%程度の低い値であ
る。また、特開平2−134370号では、有機アミン
存在下に白金触媒を用いることにより、クロロ基含有ベ
ンゾトリアゾールが90%以上の高収率で得られている
が、使用するアミンの量が多く、また、高価な白金を使
用するために経済性の面で問題がある。
【0005】そこで、本発明は、経済的に有利なパラジ
ウム触媒を用いた接触水素添加により、2−(2´−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類を良好な収率
で得ることにある。
【0006】
【発明を解決するための手段】本発明者らは、これらの
問題点を解決すべく種々検討した結果、パラジウム触媒
存在下に、硫黄化合物を含む有機溶媒混合物中、o−ニ
トロヒドロキシアゾベンゼン類を水素により還元、閉環
させることにより、2−(2’−ヒドロキシフェニル)
ベンゾトリアゾール類が高収率で得られることを見いだ
した。
【0007】すなわち、本発明は、前記一般式(I)で
表わされるアゾ化合物を溶媒中、塩基性物質存在下、パ
ラジウムを含有する水素添加触媒と、硫黄化合物存在下
に接触水素添加することを特徴とする前記一般式(I
I)で表わされる2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール類の製造方法である。
【0008】本発明の方法において原料として用いられ
る一般式(I)で表わされるアゾ化合物の具体例として
は、2−ニトロ−2´−ヒドロキシ−5´−メチルアゾ
ベンゼン、2−ニトロ−2´−ヒドロキシ−5´−t−
オクチルアゾベンゼン、2−ニトロ−2´−ヒドロキシ
−3´−t−ブチル−5´−メチルアゾベンゼン、2−
ニトロ−4−クロロ−2´−ヒドロキシ−3´−t−ブ
チル−5´−メチルアゾベンゼン、2−ニトロ−2´−
ヒドロキシ−3´5´−ジ−t−ブチルアゾベンゼン、
2−ニトロ−4−クロロ−2´−ヒドロキシ−3´5´
−ジ−t−ブチルアゾベンゼン、2−ニトロ−2´−ヒ
ドロキシ−3´5´−ジ−t−アミルアゾベンゼン、2
−ニトロ−2´−ヒドロキシ−4´−メトキシアゾベン
ゼン、2−ニトロ−4−クロロ−2´4´−ジヒドロキ
シアゾベンゼン、2−ニトロ−2´−ヒドロキシ−3´
5´−ビス−α,α−ジメチルベンジルアゾベンゼンな
どが挙げられるが、この中で、特に2−ニトロ−4−ク
ロロ−2´−ヒドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メ
チルアゾベンゼン、2−ニトロ−4−クロロ−2´−ヒ
ドロキシ−3´5´−ジ−t−ブチルアゾベンゼンを用
いた場合、本発明の製造方法が効果的である。
【0009】なお、これらのアゾ化合物は公知の方法に
より、一般式(IV)
【化3】 で表わされるo−ニトロアニリンをジアゾ化し、生成し
たジアゾニウム塩を一般式(V)
【化4】 で表されるフェノール類とのカップリングによって製造
することができる。
【0010】本発明に使用するパラジウム触媒は、水素
添加触媒の技術分野において慣用のものでよいが、好ま
しくは、炭素に担持されたパラジウムが良い。パラジウ
ム触媒の使用量は、パラジウム金属基準で、原料のo−
ニトロヒドロキシアゾベンゼンの重量に対して、0.0
5wt%以上使用するのが好ましい。
【0011】本発明においては、硫黄化合物の存在下に
接触水素添加を行うことが重要である。本発明で用いる
硫黄化合物は、スルフィド系化合物、スルホキシド系化
合物などが使用できる。これら硫黄化合物の具体例とし
ては、チオフェン、チオジエチレングリコール、ジメチ
ルスルフィド、ジメチルスルホキシド、ベンゾチアゾー
ル、チオジプロピオン酸などがあるが、好ましくは、チ
オフェンあるいはチオジエチレングリコールである。硫
黄化合物の使用量は、使用する触媒中のパラジウム金属
に対し1.0重量倍以上が好ましく、さらに好ましくは
10重量倍以上である。
【0012】本発明において、使用する塩基性物質とし
ては、アルカリ金属類の水酸化物あるいは炭酸塩、アル
カリ金属アルコラートなどがあるが、好ましくはアルカ
リ金属類の水酸化物であり、その中でも特に好ましくは
水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムである。塩基
性物質の使用量は、原料のo−ニトロヒドロキシアゾベ
ンゼンに対し0.1モル以上が好ましく、特に好ましく
は0.8から2.0モルである。
【0013】本発明における反応溶媒としては、アルコ
ール、アルコールと芳香族炭化水素の混合物あるいはア
ルコールと水との混合物であるが、メタノールを単独溶
媒として用いることが好ましい。溶媒の使用量は、特に
制限はないが、o−ニトロヒドロキシアゾベンゼンに対
し、2から5重量倍程度が好ましい。
【0014】反応温度は、20から100℃付近が好ま
しい。
【0015】水素添加中の水素圧は、好ましくは、1か
ら30kg/cm2 、さらに好ましくは4から20kg
/cm2 の範囲にとることができる。
【0016】本発明によって得られるベンゾトリアゾー
ル類は、一般式(II)で示される化合物であり、例え
ば、2−(2´−ヒドロキシ−5´−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−5´−
t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
´−ヒドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、5−クロロ−2−(2´−
ヒドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3
´5´−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、5−クロロ−2−(2´−ヒドロキシ−3´5´−
ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2´−ヒドロキシ−3´5´−ジ−t−アミルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−4
´−メトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、5−クロ
ロ−2−(2´4´−ジヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´5´−ビス
−α,α−ジメチルベンジルフェニル)ベンゾトリアゾ
ールなどが例示できる。特に、5−クロロ−2−(2´
−ヒドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、5−クロロ−2−(2´−ヒ
ドロキシ−3´5´−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾ
トリアゾールなどを得る場合に、本発明の製造方法を好
適に用いることができる。
【0017】本発明により、製造することができる2−
(2´−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類
は、価値ある紫外線吸収剤として、実用化されている。
【0018】
【実施例】以下に本発明を比較例および実施例によって
説明する。なお、本発明は、これら実施例に限定される
ものではない。
【0019】実施例1 2−ニトロ−4−クロロ−2´−ヒドロキシ−3´−t
−ブチル−5´−メチルアゾベンゼン(純度99.5
%)6.14g、水酸化ナトリウム0.75g、チオフ
ェン0.58g、メタノール20g、5%パラジウム炭
素0.20gを室温の100ml水素添加反応器中に仕
込み、反応器中の空気を水素で置換した。20kg/c
m2 の水素圧をかけ、22から25℃で3時間反応を行
った。次に、45℃まで昇温し、45から48℃で16
時間反応を行った。一段階目の水素圧減少量は6.0k
g/cm2 であり、二段階目は4.5kg/cm2 であ
った。5−クロロ−2−(2´−ヒドロキシ−3´−t
−ブチル−5´−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
の収率は理論値の95.3%であった。
【0020】実施例2 実施例1の方法において溶媒としてメタノール20gの
かわりにメタノール17.5g、水2.6gで行った場
合、5−クロロ−2−(2´−ヒドロキシ−3´−t−
ブチル−5´−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールの
収率は理論値の92.9%であった。
【0021】実施例3 2−ニトロ−4−クロロ−2´−ヒドロキシ−3´5´
−ジ−t−ブチルアゾベンゼン(純度95.0%)7.
19g、水酸化ナトリウム0.75g、チオフェン0.
58g、メタノール20g、5%パラジウム炭素0.2
0gを室温の100ml水素添加反応器中に仕込み、反
応器中の空気を水素で置換した。20kg/cm2 の水
素圧をかけ、26℃で3時間、48から49℃で19時
間反応を行ったところ、水素圧減少量は12.4kg/
cm2 であった。このとき、5−クロロ−2−(2´−
ヒドロキシ−3´5´−ジ−t−ブチルフェニル)ベン
ゾトリアゾールの収率は理論値の95.0%であった。
【0022】実施例4 2−ニトロ−2´−ヒドロキシ−5´−メチルアゾベン
ゼン(純度89.2%)5.11g、水酸化ナトリウム
0.78g、チオフェン0.03g、メタノール20
g、5%パラジウム炭素0.20gを室温の100ml
水素添加反応器中に仕込み、反応器中の空気を水素で置
換した。20kg/cm2 の水素圧をかけ、70℃で3
時間反応を行ったところ、水素圧減少量は13kg/c
2 であった。このとき、2−(2´−ヒドロキシ−5
´−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールの収率は理論
値の89.7%であった。
【0023】実施例5 実施例4の方法において、2−ニトロ−2´−ヒドロキ
シ−5´−メチルアゾベンゼン(純度89.2%)5.
11gのかわりに、2−ニトロ−2´−ヒドロキシ−3
´−t−ブチル−5´−メチルアゾベンゼン(純度9
9.3%)5.53gを使用した場合、2−(2´−ヒ
ドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾールの収率は理論値の87.1%であっ
た。
【0024】実施例6〜11 2−ニトロ−4−クロロ−2´−ヒドロキシ−3´−t
−ブチル−5´−メチルアゾベンゼン(純度99.5
%)6.14g、水酸化ナトリウム0.75g、メタノ
ール20g、5%パラジウム炭素0.20g、表1中に
示す硫黄化合物を原料に対し0.20モルを室温の10
0ml水素添加反応器中に仕込み、反応器中の空気を水
素で置換した。20kg/cm2 の水素圧をかけ、21
から26℃で3時間、44から47℃で17時間反応を
行い、5−クロロ−2−(2´−ヒドロキシ−3´−t
−ブチル−5´−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
を得た。結果を表1に示す。
【0025】
【表1】
【0026】比較例1 2−ニトロ−4−クロロ−2´−ヒドロキシ−3´−t
−ブチル−5´−メチルアゾベンゼン(純度99.3
%)6.14g、水酸化ナトリウム0.75g、メタノ
ール20g、5%パラジウム炭素0.20gを室温の1
00ml水素添加反応器中に仕込み、反応器中の空気を
水素で置換した。20kg/cm2 の水素圧をかけ、2
2から23℃で3時間反応を行った。次に、45℃まで
昇温し、45から46℃で12時間反応を行った。一段
階目の水素圧減少量は11.7kg/cm2 であり、二
段階目は7.8kg/cm2 であった。5−クロロ−2
−(2´−ヒドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾールの収率は理論値の7.
5%であった。
【0027】
【発明の効果】本発明は、パラジウム触媒による接触水
素添加法において、硫黄化合物を存在させることによ
り、副生成物が少なく、目的物である2−(2´−ヒド
ロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類が良好な収率で
得られるものである。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、炭素数原子数
    1から12のアルキル基、炭素原子数1から4のアルコ
    キシ基、カルボキシル基、またはスルホン酸基を表わ
    し、R2 は水素原子、炭素原子数1から12のアルキル
    基、炭素原子数5または6のシクロアルキル基、フェニ
    ル基、またはアルキル部分の炭素原子数1から4のフェ
    ニルアルキル基を表わし、R3 は水素原子、ハロゲン原
    子、ヒドロキシル基、または炭素原子数1から4のアル
    コキシ基を表わし、R4 は水素原子、ハロゲン原子、炭
    素原子数1から12のアルキル基、炭素原子数5または
    6のシクロアルキル基、炭素原子数1から4のアルコキ
    シ基、フェニル基、アルキル部分の炭素原子数1から4
    のフェニルアルキル基、炭素原子数1から8のアルキル
    基で置換されたフェニル基、またはフェノキシ基を表わ
    す。)で表わされるアゾ化合物を溶媒中、塩基性物質存
    在下、パラジウムを含有する水素添加触媒と、硫黄化合
    物存在下に接触水素添加することを特徴とする一般式
    (II) 【化2】 (式中、R1 、R2 、R3 及びR4 は一般式(I)と同
    じものを表わす。)で表わされる2−(2´−ヒドロキ
    シフェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法。
  2. 【請求項2】一般式(I)中、R1 が水素原子またはハ
    ロゲン原子である請求項1記載の2−(2´−ヒドロキ
    シフェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法。
  3. 【請求項3】一般式(I)中、R1 がクロロ原子である
    請求項2記載の2−(2´−ヒドロキシフェニル)ベン
    ゾトリアゾール類の製造方法。
  4. 【請求項4】一般式(I)中、R1 がクロロ原子を表わ
    し、R2 が第三ブチル基を表わし、R3 が水素原子を表
    わし、R4 がメチル基または第三ブチル基を表わす請求
    項3記載の2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
    リアゾール類の製造方法。
  5. 【請求項5】使用される硫黄化合物が、有機スルフィド
    系化合物である請求項1記載の2−(2’−ヒドロキシ
    フェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法。
  6. 【請求項6】使用される有機スルフィド系化合物が、一
    般式(III) R−(CH2 )n −S−(CH2 )n −R’ (III) (式中、nは1から3の整数を表わし、R,R’は水素
    原子,水酸基,またはカルボキシル基を表わす。)で表
    わされる直鎖スルフィド系化合物、チオフェンおよびベ
    ンゾチアゾールから選ばれる少なくとも1種の有機スル
    フィド系化合物である請求項5記載の2−(2´−ヒド
    ロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法。
  7. 【請求項7】使用される硫黄化合物が有機スルホキシド
    系化合物である請求項1記載の2−(2´−ヒドロキシ
    フェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法。
  8. 【請求項8】使用されるスルホキシド系化合物がジメチ
    ルスルホキシドである請求項7記載の2−(2´−ヒド
    ロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法。
  9. 【請求項9】塩基性物質がアルカリ金属水酸化物、アル
    カリ金属炭酸塩、アルカリ金属アルコラートから選ばれ
    る少なくとも1種の塩基性物質である請求項1記載の2
    −(2´−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類
    の製造方法。
  10. 【請求項10】溶媒が、アルコール、アルコールと芳香
    族炭化水素の混合物またはアルコールと水との混合物で
    ある請求項1記載の2−(2´−ヒドロキシフェニル)
    ベンゾトリアゾール類の製造方法。
JP6019172A 1994-02-16 1994-02-16 2−(2´−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類の製造方法 Pending JPH07228576A (ja)

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